JPWO2023120250A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2024128017A1 (https=) * 2022-12-15 2024-06-20
US20250076758A1 (en) * 2023-08-31 2025-03-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photo acid generator
WO2025211316A1 (ja) * 2024-04-05 2025-10-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸拡散制御剤、及び酸発生剤
TW202547894A (zh) * 2024-05-31 2025-12-16 日商Jsr股份有限公司 感放射線性組成物及抗蝕劑圖案形成方法
WO2026004682A1 (ja) * 2024-06-24 2026-01-02 サンアプロ株式会社 スルホン酸塩、オキシムスルホネート、イミドスルホネート、アミドスルホネート、前記化合物を含む酸発生剤、前記酸発生剤を含むフォトレジスト
WO2026070715A1 (ja) * 2024-09-27 2026-04-02 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
JP7805544B1 (ja) * 2025-07-31 2026-01-23 信越化学工業株式会社 オニウム塩、光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
JP7813423B1 (ja) * 2025-07-31 2026-02-12 信越化学工業株式会社 オニウム塩、光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7122294B2 (en) * 2003-05-22 2006-10-17 3M Innovative Properties Company Photoacid generators with perfluorinated multifunctional anions
JP2013061648A (ja) 2011-09-09 2013-04-04 Rohm & Haas Electronic Materials Llc フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法
KR102075960B1 (ko) 2012-03-14 2020-02-11 제이에스알 가부시끼가이샤 포토레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 확산 제어제 및 화합물
JP5850873B2 (ja) 2012-07-27 2016-02-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
JP5836299B2 (ja) 2012-08-20 2015-12-24 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法
JP6002705B2 (ja) 2013-03-01 2016-10-05 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法
JP5676021B2 (ja) 2014-01-06 2015-02-25 富士フイルム株式会社 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP6429105B2 (ja) * 2014-08-13 2018-11-28 宇部興産株式会社 ジアリールヨードニウム塩
US9644056B2 (en) 2015-02-18 2017-05-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Compound, resin and photoresist composition
JP6518475B2 (ja) 2015-03-20 2019-05-22 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物
KR102395705B1 (ko) 2017-04-21 2022-05-09 후지필름 가부시키가이샤 Euv광용 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법
JP7117900B2 (ja) * 2018-06-05 2022-08-15 株式会社日本触媒 化学増幅型レジスト用光ルイス酸発生剤、および化学増幅型レジスト組成物
KR102537251B1 (ko) 2018-06-28 2023-05-26 후지필름 가부시키가이샤 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 수지
JP7076570B2 (ja) 2018-09-25 2022-05-27 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
JP7241514B2 (ja) * 2018-11-21 2023-03-17 住友化学株式会社 着色組成物、着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置
WO2020158337A1 (ja) 2019-01-28 2020-08-06 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
JP7579066B2 (ja) 2019-04-25 2024-11-07 住友化学株式会社 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
WO2021106535A1 (ja) * 2019-11-29 2021-06-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
KR20240024053A (ko) * 2021-06-22 2024-02-23 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 화합물

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