JPWO2023112488A5 - - Google Patents
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Claims (4)
- 担体にヘテロポリ酸又はその塩が担持された触媒の存在下で、エチレンと酢酸とを反応させて酢酸エチルを製造する方法であって、
前記触媒におけるパラジウム濃度を０．１～１４質量ｐｐｂの範囲とする、酢酸エチルの製造方法。 - 前記ヘテロポリ酸が、ケイタングステン酸又はリンタングステン酸である、請求項１に記載の酢酸エチルの製造方法。
- 前記担体がシリカである、請求項１又は２に記載の酢酸エチルの製造方法。
- 前記反応の前に、前記触媒におけるパラジウム濃度を測定する工程を含む、請求項１又は２に記載の酢酸エチルの製造方法。
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| PCT/JP2022/039570 WO2023112488A1 (ja) | 2021-12-15 | 2022-10-24 | 酢酸エチルの製造方法 |
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|---|---|
| JPWO2023112488A1 JPWO2023112488A1 (ja) | 2023-06-22 |
| JPWO2023112488A5 true JPWO2023112488A5 (ja) | 2024-04-26 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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2022
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