JPWO2022249863A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2022249863A5
JPWO2022249863A5 JP2023523386A JP2023523386A JPWO2022249863A5 JP WO2022249863 A5 JPWO2022249863 A5 JP WO2022249863A5 JP 2023523386 A JP2023523386 A JP 2023523386A JP 2023523386 A JP2023523386 A JP 2023523386A JP WO2022249863 A5 JPWO2022249863 A5 JP WO2022249863A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
refractive index
film
light
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2023523386A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2022249863A1 (https=
JP7826305B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/019567 external-priority patent/WO2022249863A1/ja
Publication of JPWO2022249863A1 publication Critical patent/JPWO2022249863A1/ja
Publication of JPWO2022249863A5 publication Critical patent/JPWO2022249863A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7826305B2 publication Critical patent/JP7826305B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2023523386A 2021-05-27 2022-05-06 マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法 Active JP7826305B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021089300 2021-05-27
JP2021089300 2021-05-27
PCT/JP2022/019567 WO2022249863A1 (ja) 2021-05-27 2022-05-06 マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2022249863A1 JPWO2022249863A1 (https=) 2022-12-01
JPWO2022249863A5 true JPWO2022249863A5 (https=) 2025-03-07
JP7826305B2 JP7826305B2 (ja) 2026-03-09

Family

ID=84229845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023523386A Active JP7826305B2 (ja) 2021-05-27 2022-05-06 マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240184193A1 (https=)
JP (1) JP7826305B2 (https=)
KR (1) KR20240011685A (https=)
TW (1) TW202246882A (https=)
WO (1) WO2022249863A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024119143A (ja) * 2023-02-22 2024-09-03 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3806702B2 (ja) 2002-04-11 2006-08-09 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク及びそれらの製造方法並びに半導体の製造方法
JP2006228766A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法
JP4346656B2 (ja) 2007-05-28 2009-10-21 Hoya株式会社 反射型マスクブランク及び反射型マスク
KR101095681B1 (ko) 2008-12-26 2011-12-19 주식회사 하이닉스반도체 극자외선 리소그래피를 위한 포토마스크 및 그 제조방법
US8663878B2 (en) * 2012-07-05 2014-03-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Mask and method for forming the same
JP6287099B2 (ja) * 2013-05-31 2018-03-07 旭硝子株式会社 Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク
WO2018159785A1 (ja) * 2017-03-02 2018-09-07 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JP6861095B2 (ja) 2017-03-03 2021-04-21 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
JP7610346B2 (ja) * 2019-11-01 2025-01-08 テクセンドフォトマスク株式会社 反射型マスク及び反射型マスクの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022069683A5 (https=)
US9864267B2 (en) Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device
JP2018146945A5 (https=)
TWI775442B (zh) 反射型遮罩基底、反射型遮罩及半導體裝置之製造方法
JP5194888B2 (ja) 反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、反射型フォトマスク及びその製造方法並びに半導体素子の製造方法
US20130196255A1 (en) Reflective mask blank for euv lithography and reflective mask for euv lithography
JP3939167B2 (ja) 露光用反射型マスクブランク、その製造方法及び露光用反射型マスク
JP6876737B2 (ja) 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
WO2011004850A1 (ja) Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク
JP2017181571A5 (https=)
JP2015092281A5 (https=)
JP7351864B2 (ja) 極紫外線用反射型ブランクマスク及びフォトマスク
JP2019035947A5 (https=)
JP2002535702A (ja) 減衰性位相シフト多層膜マスク
JP2007335908A5 (https=)
KR20140104375A (ko) Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크 및 그 마스크 블랭크용 반사층 형성 기판
JP2019207361A5 (https=)
JP2019207359A5 (https=)
JPWO2022249863A5 (https=)
TWI830961B (zh) 反射型光罩基底及反射型光罩
JPWO2024029410A5 (https=)
JP2018146760A5 (https=)
JP2025020341A5 (https=)
JPWO2024029409A5 (https=)
JP2019197199A (ja) 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク