JPWO2021250745A5 - - Google Patents

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上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示にかかるオゾン水製造装置は、酸素ガスを含む第一ガスを供給する第一ガス供給部と、二酸化炭素ガス、窒素ガスおよび窒素酸化物ガスのうち少なくとも1つを含む第二ガスを供給する第二ガス供給部と、を備える。また、オゾン水製造装置は、第一ガス供給部によって供給される第一ガスと第二ガス供給部によって供給される第二ガスとを含む気体に放電処理を行うことによりオゾンガスを含む第三ガスを生成する放電部と、第三ガスを被溶解水に溶解させることによりオゾン水を生成するオゾン水生成部と、オゾン水における溶存オゾンの自己分解が抑制される酸性条件を維持するように、第二ガスに放電処理が施されることにより得られる副生成物の生成量を制御する制御部と、を備える。
オゾンガス生成部32により生成されたオゾンガスは、オゾンガス配管3cを介してオゾン水生成部34へ供給される。また、オゾン水生成部34には、被溶解水配管3eを介して被溶解水が供給される。また、オゾン水生成部34は、供給される被溶解水を貯留する。オゾン水生成部34はオゾン注入部33を備え、オゾン注入部33は、このように、オゾンガス生成部32によって生成された第三ガスを被溶解水に溶解させることによりオゾン水を生成する。オゾンガス配管3cを介して供給されるオゾンガスを、被溶解水に導入する。これにより、オゾンガスが被溶解水に溶解してオゾン水が生成される。オゾン水生成部34によって生成および貯留されたオゾン水は、オゾン水送水ポンプ36および膜洗浄用配管3dを介して洗浄対象である分離膜11へ供給される。すなわち、オゾン水生成部34によって生成されたオゾン水は、分離膜11を洗浄する洗浄剤として用いられる。一方、溶解されなかったオゾンガスは排オゾンガス配管3fを介して排オゾン処理装置38へ導入される。排オゾン処理装置38は、オゾンガスを無害化して大気へ放出する。
1a 被処理水配管、2a ろ過水配管、2b 放流配管、3a 酸素ガス配管、3b 他ガス配管、3c オゾンガス配管、3d 膜洗浄用配管、3e 被溶解水配管、3f 排オゾンガス配管、3g 酸素リサイクル配管、3h,3i,3j,3k 循環配管、3m オゾン水配管、3n 次亜塩素酸ナトリウム溶液配管、10 処理槽、11 分離膜、20 膜状態測定部、21,53 切替弁、22 工程制御部、23 ろ過水ポンプ、25 調整弁、26 被溶解水貯留槽、30 酸素ガス供給部、31 他ガス供給部、32 オゾンガス生成部、33 オゾン注入部、34,34a オゾン水生成部、35 オゾン水状態測定部、36 オゾン水送水ポンプ、37 条件制御部、38 排オゾン処理装置、39 循環ファン、40 オゾンガス濃縮貯蔵部、41 循環ファン、42,44,46,50 循環ポンプ、43 エジェクタ、45 障壁、47 膜モジュール、48,49 ファインバブル発生部、51 次亜塩素酸ナトリウム溶液供給部、52 ポンプ、100,100a,100b,100c,100d,100e,100f,100g,100h,100i オゾン水製造装置。

Claims (17)

  1. 酸素ガスを含む第一ガスを供給する第一ガス供給部と、
    二酸化炭素ガス、窒素ガスおよび窒素酸化物ガスのうち少なくとも1つを含む第二ガスを供給する第二ガス供給部と、
    前記第一ガス供給部によって供給される前記第一ガスと前記第二ガス供給部によって供給される前記第二ガスとを含む気体に放電処理を行うことによりオゾンガスを含む第三ガスを生成する放電部と、
    前記第三ガスを被溶解水に溶解させることによりオゾン水を生成するオゾン水生成部と、
    前記オゾン水における溶存オゾンの自己分解が抑制される酸性条件を維持するように、前記第二ガスに前記放電処理が施されることにより得られる副生成物の生成量を制御する制御部と、
    を備えることを特徴とするオゾン水製造装置。
  2. 前記制御部は、前記第二ガス供給部から供給される前記第二ガスの流量を調整することにより、前記生成量を制御することを特徴とする請求項に記載のオゾン水製造装置。
  3. 前記制御部は、前記放電処理における放電条件を調整することにより、前記生成量を制御することを特徴とする請求項またはに記載のオゾン水製造装置。
  4. 前記放電条件は、前記放電処理におけるガス圧力、温度、電流、電圧および放電電力のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項に記載のオゾン水製造装置。
  5. 前記オゾン水のpHに関する状態を示す量を測定するオゾン水状態測定部、
    を備え、
    前記制御部は、前記オゾン水状態測定部により測定された測定値に基づき、前記生成量を制御することを特徴とする請求項からのいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  6. 前記オゾン水状態測定部は、前記オゾン水のpHを測定することを特徴とする請求項に記載のオゾン水製造装置。
  7. 前記オゾン水状態測定部は、前記オゾン水の溶存オゾン濃度を測定することを特徴とする請求項に記載のオゾン水製造装置。
  8. 前記制御部は、前記測定値が定められた範囲内となるように前記生成量を制御することを特徴とする請求項からのいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  9. 前記オゾン水生成部において前記被溶解水に溶解しなかった前記第三ガスを、前記オゾン水生成部へ導入することを特徴とする請求項1からのいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  10. 前記第三ガス中のオゾンガスと酸素ガスとを分離するオゾンガス分離部、
    を備え、
    前記オゾンガス分離部で分離されたオゾンガスは前記オゾン水生成部へ導入され、
    前記オゾンガス分離部で分離された酸素ガスは、前記放電部へ導入されることを特徴とする請求項1からのいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  11. 前記オゾン水生成部では、前記被溶解水と前記オゾンガスとが向流接触することを特徴とする請求項1から10のいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  12. 前記第三ガスをファインバブルとして前記オゾン水生成部へ導入するファインバブル発生部、
    を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  13. 前記オゾン水生成部は、多孔質膜を備える膜モジュールであることを特徴とする請求項1から10のいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  14. 前記オゾン水は、膜分離活性汚泥法により被処理水を浄化する水処理装置において固液分離を行う分離膜を洗浄する洗浄剤として用いられ、
    前記被溶解水は、前記分離膜によってろ過されたろ過水であることを特徴とする請求項1から13のいずれか1つに記載のオゾン水製造装置。
  15. 次亜塩素酸ナトリウム溶液を供給する次亜塩素酸ナトリウム溶液供給部、
    を備え、
    前記分離膜へ供給する前記洗浄剤を、前記オゾン水と前記次亜塩素酸ナトリウム溶液とで切替え可能であることを特徴とする請求項14に記載のオゾン水製造装置。
  16. 固液分離を行う分離膜を備え膜分離活性汚泥法により被処理水を浄化する水処理装置であって、
    請求項1から13のいずれか1つに記載のオゾン水製造装置を備え、
    前記オゾン水製造装置により生成されたオゾン水を用いて前記分離膜を洗浄することを特徴とする水処理装置。
  17. 酸素ガスを含む第一ガスを供給する第一ガス供給工程と、
    二酸化炭素ガス、窒素ガスおよび窒素酸化物ガスのうち少なくとも1つを含む第二ガスを供給する第二ガス供給工程と、
    前記第一ガス供給工程によって供給される前記第一ガスと前記第二ガス供給工程によって供給される前記第二ガスとを含む気体に放電処理を行うことによりオゾンガスを含む第三ガスを生成する放電工程と、
    前記第三ガスを被溶解水に溶解させることによりオゾン水を生成するオゾン水生成工程と、
    前記オゾン水における溶存オゾンの自己分解が抑制される酸性条件を維持するように、前記第二ガスに前記放電処理が施されることにより得られる副生成物の生成量を制御する制御工程と、
    を含むことを特徴とするオゾン水製造方法。
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