JP2001212440A - オゾン水製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体集積回路等の洗浄に用いるオゾン水の
製造装置を提供する。 【解決手段】 イオン伝導性の固体電解質膜を介して酸
素イオンを電気化学的に輸送することによって空気から
高純度の酸素ガスを分離する酸素発生器(6)と、圧力セ
ンサ(11)を有して分離された酸素ガスを蓄える酸素タン
ク(9)と、酸素タンク(9)から開閉弁(13)および流量計(1
5)を経て供給される酸素ガスから高周波放電で高純度の
オゾンガスを生成するオゾンガス発生器(17)と、開閉弁
(19)を経て供給される純水に生成オゾンガスを溶解させ
るオゾンガス溶解部(18)と、水位計(21)と濃度計(22)を
有してオゾン水を蓄えるオゾン水貯留部(20)を設ける。
圧力センサ(11),流量計(15),水位計(21),濃度計(22)の
検出信号に基づいて、制御部(4)により固体電解質膜へ
の印加電圧,開閉弁(13,19)の開度をフィードバック制御
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、空気中から分離し
た酸素を原料として高純度のオゾン水を製造するオゾン
水製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】オゾンは、フッ素に次ぐ酸化力と塩素の
７倍もの殺菌力を持つ気体であり、オゾンを水に溶解さ
せたオゾン水は、従来から殺菌や脱臭に広く用いられて
いる。また、オゾン水は、強力な酸化力を持つこと、自
己分解により無害な酸素に戻る性質から廃液処理が不要
で環境に優しいことから、近年、高度に清浄な洗浄が要
求される半導体集積回路や液晶表示装置の製造工程にお
いて、ＲＣＡ洗浄(ウエハをフッ酸と過酸加水素水の混
合液、アンモニアと過酸化水素水の混合液、強酸で順次洗
浄する方法)やフロン洗浄に代わる洗浄手段として注目
されている。殺菌や脱臭に用いられるオゾン水は、無声
放電法で空気から生成したオゾンガス、またはゼオライ
トを用いた圧力変動吸着(ＰＳＡ)法で空気から分離,濃
縮した酸素ガスを原料とするが、前者はオゾンガス生成
時に生じたＮＯxが水に溶解する際に硝酸に変化し、安
全性に問題がある一方、後者は濃縮酸素ガスの濃度が95
％程度でＡr等の残部不純物を含むため、半導体集積回
路などの高度な洗浄には使用できないうえ、経時劣化す
るゼオライトを定期的に交換しなければならないという
問題もある。

【０００３】高度な洗浄に用いられるオゾン水の製造方
法には、無声放電法により酸素ガスに高周波高電圧を加
えて得たオゾンガス、または電解法により特殊電極を用
いて水を電気分解して酸素および水素とともに得られる
オゾンガスを用いる方法があるが、後者の方が消費電力
は多くなるが高純度のオゾンガスを得ることができるの
で、有望な製造方法として特に注目されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記電解法の１つは、
パーフルオロカーボンスルフォン酸系の陽イオン交換膜
を固体電解質とし、その両側に陽極,陰極を密着させた
ゼロギャップ方式の水電解によって、陽極にオゾンが20
％で残部が飽和水蒸気を含む酸素である混合ガス、陰極
に水素ガスを夫々得るものである。しかし、この電解法
は、陰極から爆発性の水素ガスが発生するため、水素ガ
スの生成が目的でない場合は、廃棄すべき水素ガスを安
全に貯蔵し、処理する装置や設備が必要になり、イニシ
ャルコストが上昇するという問題がある。上記電解法の
もう１つは、純水を電解槽で電解し、陽極で発生したガ
スを直接溶解してオゾン水を得るものである。しかし、
この電解法は、電解に伴って二酸化鉛,イリジウム,白金
などの陽極活物質が溶出し、純水中に300〜1000ppt程度
混入し、電解によって発生するパーティクルも純水中に
多く混入するため、このオゾン水で半導体集積回路等を
洗浄すると、洗浄不良を起こすという問題がある。

【０００５】そこで、本発明の目的は、新たな手段で空
気から分離した100％という高純度の酸素を用いること
によって、半導体集積回路等の高い清浄度を要求される
洗浄にも使用できるオゾン水の製造装置を提供すること
にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、空気から
高純度の酸素を分離する手段について鋭意検討を重ねた
結果、最近注目を集めている固体電解質膜が最適である
ことを見出し、本発明をなすに至った。なお、固体電解
質膜は、ジルコニア等のセラミックからなるイオン伝導
性を有する膜であり、高温下で膜の両面に被覆した触媒
作用をもつＡgやＰtなどの電極に電圧を印加すると、陰
極側で空気中の酸素分子が酸素イオンに解離し、解離し
た酸素イオンが膜を通って陽極に達し、陽極側で電子を
取り除くことによって酸素分子に再生されるものであ
る。

【０００７】即ち、請求項１のオゾン水製造装置は、イ
オン伝導性の固体電解質膜を介して酸素イオンを電気化
学的に輸送することによって空気から高純度の酸素ガス
を分離する酸素発生器と、この酸素発生器から供給され
る酸素ガスを用いて高純度のオゾンガスを生成するオゾ
ンガス発生部と、このオゾンガス発生部から供給される
オゾンガスを水に溶解させるオゾンガス溶解部を備えた
ことを特徴とする。

【０００８】請求項１のオゾン水製造装置では、酸素発
生器の高温下にある固体電解質膜において、電気化学的
反応により陰極側で空気中の酸素がイオン化し、この酸
素イオンが電解質膜を通って、陽極側で電子を取り除く
ことで酸素分子に再生するので、100％という高純度の
酸素が得られる。この高純度酸素は、オゾンガス発生部
に導かれてオゾンガスとなり、このオゾンガスは、オゾ
ンガス溶解部に入って水に溶解させられてオゾン水とな
る。つまり、このオゾン水製造装置は、酸素発生器で生
成された100％の純度の酸素をオゾンの原料に用いてい
るので、従来の電解法のように貯蔵や処理に装置や設備
を要する水素ガスが発生せず、オゾン水に洗浄不良を起
こす陽極活物質やパーティクルが混入しないので、半導
体集積回路等の極めて高い清浄度を要求される洗浄にも
使用することができる。

【０００９】請求項２のオゾン水製造装置は、上記酸素
発生器の後段に酸素を蓄える酸素タンクを備えたことを
特徴とする。

【００１０】固体電解質膜は、発生する酸素の圧力が固
体電解質膜の材料強度の限度内で上昇するというポンピ
ング機能をもつので、酸素発生器で生成された酸素は、
自然に後段の酸素タンクに蓄えられる。一方、固体電解
質膜を酸素生成温度まで加熱する間は、そのままでは酸
素の供給が停止または不安定になる。このような場合や
短時間故障の場合でも、酸素タンクに蓄えられた酸素を
オゾンガス発生部に安定して供給できるので、安定して
オゾン水を製造することができる。

【００１１】請求項３のオゾン水製造装置は、請求項２
の酸素タンクが、内圧を検出する圧力センサを有し、こ
の圧力センサの検出信号に基づき、上記固体電解質膜の
両面の電極に印加する電圧および電流の少なくともいず
れかを増減して酸素タンクの内圧を所定の設定圧にフィ
ードバック制御する制御部を備えたことを特徴とする。

【００１２】請求項３のオゾン水製造装置では、制御部
が、圧力センサが検出した請求項２の酸素タンクの内圧
に基づいて、固体電解質膜の両電極に印加する電流や電
圧を増減して酸素発生量を増減し、酸素タンク内を設定
圧になるようにフィードバック制御する。従って、酸素
タンクからオゾンガス発生部へ常に一定圧の酸素を供給
でき、均質なオゾンガスひいてはオゾン水を安定して得
ることができる。

【００１３】請求項４のオゾン水製造装置は、請求項１
または２のオゾンガス発生部が、高周波放電によってオ
ゾンガスを生成するオゾンガス発生器と、このオゾンガ
ス発生器と上記酸素発生器の間に設けられた開閉弁およ
び流量計と、この流量計のフィードバック信号に基づい
て酸素流量が所定の設定値になるように上記開閉弁の開
度を制御する制御部を備えたことを特徴とする。

【００１４】請求項４のオゾン水製造装置では、酸素発
生部で生成された100％の高純度酸素は、開閉弁および
流量計を経てオゾンガス発生器に供給され、このオゾン
ガス発生器内で高周波放電によってオゾンガスとなった
後、オゾンガス溶解部に供給される。ここで、制御部
は、上記流量計が検出した供給酸素流量に基づいて、上
記開閉弁の開度を増減してオゾンガス発生器への供給酸
素流量が所定の設定値になるようにフィードバック制御
する。従って、酸素発生器または酸素タンクからオゾン
ガス発生部へ常に一定流量の酸素を供給でき、均質なオ
ゾンガスひいてはオゾン水を安定して得ることができ
る。

【００１５】請求項５のオゾン水製造装置は、請求項１
または２のオゾンガス溶解部が、オゾンガス導入管と開
閉弁を介設した純水導入管とを有し、このオゾンガス溶
解部の後段にオゾン水貯留部が設けられ、このオゾン水
貯留部は、オゾン水の水位を検出する水位計とオゾン水
のオゾン濃度を検出する濃度計有し、上記水位計と濃度
計の検出信号に基づき、上記開閉弁の開度をフィードバ
ック制御する制御部を備えたことを特徴とする。

【００１６】請求項５のオゾン水製造装置では、酸素発
生部で生成された100％の高純度酸素は、オゾンガス発
生器内でオゾンガスとなった後、オゾンガス導入管を経
てオゾンガス溶解部に供給される。オゾンガスは、この
オゾンガス溶解部において開閉弁を介設した純水導入管
から供給される純水に溶解させられた後、オゾン水貯留
部に蓄えられる。ここで、制御部は、オゾン水貯留部の
水位計と濃度計が検出した貯留オゾン水の水位とオゾン
濃度を表わす信号に基づいて、水位が低いとか濃度が高
い場合は上記開閉弁の開度を増し、水位が高いとか濃度
が低い場合は上記開閉弁の開度を減じるようにフィード
バック制御をする。従って、オゾン水貯留部の水位およ
びオゾン水のオゾン濃度を所定値に維持でき、均質なオ
ゾン水を得ることができる。

【００１７】請求項６のオゾン水製造装置は、請求項３
または４のオゾン水製造装置において、上記制御部が、
請求項５の制御部を兼ねていることを特徴とする。

【００１８】請求項６のオゾン水製造装置では、酸素タ
ンクの内圧に基づいて酸素発生器の酸素発生量をフィー
ドバック制御する請求項３の制御部、または酸素発生器
からオゾンガス発生部への酸素供給流量を一定にフィー
ドバック制御する請求項４の制御部が、オゾン水貯留部
の水位およびオゾン水のオゾン濃度を所定値にフィード
バック制御する請求項５の制御部を兼ねている。つま
り、この制御部は、オゾン水貯留部内のオゾン水の水位
と濃度に加えて、酸素タンク内の酸素圧またはオゾンガ
ス発生部への酸素供給流量も所定値に制御するので、よ
り均質なオゾン水をより安定して供給することができ
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示の実施の形態
により詳細に説明する。図１は、本発明のオゾン水製造
装置の一実施形態を示すブロック構成図である。このオ
ゾン水製造装置は、大別して、空気から高純度の酸素ガ
スを電気化学的に分離して蓄える酸素発生部１と、この
酸素発生部１で生成された酸素ガスから高純度のオゾン
を生成するオゾンガス発生部２と、このオゾンガス発生
部２から供給されるオゾンガスを水に溶解させてオゾン
水を作り、これを蓄えるオゾン水発生部３と、これら各
部１〜３を制御する制御部４とで構成される。

【００２０】上記酸素発生部１は、ヒータ５で700〜800
℃に加熱される炉内に固体電解質膜で内部が仕切られた
チャンバを収容し、チャンバ内の固体電解質膜の一面を
覆う陰極側を熱交換器７に連なる空気取入口６aと残ガ
ス排出口６bに、固体電解質膜の他面を覆う陽極側を酸
素取出口６cに夫々連通させてなる酸素発生器６と、こ
の酸素発生器６の酸素取出口６cに順方向の逆止弁８を
介して接続された酸素タンク９とからなる。熱交換器７
は、ファン１０によって取り入れられた空気を、酸素発
生器６の残ガス排出口６bおよび酸素取出口６cから排出
されるいずれも高温の残ガスおよび高純度酸素ガスと熱
交換させることにより予熱して、空気取入口６aに供給
する。高純度酸素ガスを蓄える酸素タンク９には、内圧
を検出する圧力センサ１１が設けられ、この圧力センサ
１１の検出信号に基づいて、制御部４が、酸素発生器６
内の固体電解質膜の両電極間に印加する電圧および電流
を増減して酸素発生量を増減し、酸素タンク９内が所定
の設定圧になるようにフィードバック制御するようにな
っている。

【００２１】上記オゾンガス発生部２は、酸素タンク９
からの酸素供給管に順に介設された過剰な高圧を逃がす
リリーフ弁１２、開閉弁１３、減圧弁１４および流量計１
５と、この流量計１５に接続され、制御部４で制御され
る高周波高圧電源１２からの給電で生じる高周波放電に
よって酸素ガスからオゾンガスを生成するオゾンガス発
生器１７とからなる。制御部４は、流量計１５が検出す
る酸素流量に基づいて、開閉弁１３の開度を増減して酸
素流量が所定の設定値になるようにフィードバック制御
を行なう。

【００２２】上記オゾン水発生部３は、オゾン発生器１
７からオゾンガス導入管１８aを経て供給されるオゾン
ガスを、開閉弁１９を介設した純水導入管１８bを経て
導入される純水に溶解させてオゾン水を生成するオゾン
ガス溶解部１８と、このオゾンガス溶解部１８の後段に
連なるオゾン水貯留部２０からなる。オゾン水貯留部２
０には、内部のオゾン水の水位を検出する水位計２１
と、オゾン水のオゾン濃度を検出する濃度計２２が設け
られ、制御部４が、水位計２１が検出した貯留オゾン水
の水位と濃度計２２が検出したオゾン濃度を表わす信号
に基づいて、水位が低いとか濃度が高い場合は、開閉弁
１９の開度を増し、水位が高いとか濃度が低い場合は、
開閉弁１９の開度を減じるようにフィードバック制御し
て、オゾン水貯留部２０内の水位とオゾン水のオゾン濃
度を所定値に維持するようになっている。なお、オゾン
水貯留部２０の頂部には、内部に溜まったオゾンガスを
放出する放出口２０aと、放出されたオゾンガスを充填
した活性炭粒で酸素と二酸化炭素に分解するオゾン分解
器２３が設けられている。

【００２３】上記制御部４は、圧力センサ１１の検出信
号に基づいて酸素発生器６の酸素発生量を、流量計１５
の検出信号に基づいてオゾン発生器１７に供給する酸素
ガスの流量を、水位計２１と濃度計２２の検出信号に基
づいて貯留オゾン水の水位とオゾン濃度を夫々の設定値
にフィードバック制御するが、これらの設定値は、図１
に示すオゾン水製造装置によってシステム全体として最
適のオゾン水が効率よく得られるように互いに関連づけ
られている。

【００２４】上記構成のオゾン水製造装置は、次のよう
に動作する。まず、酸素発生部１では、外部からファン
１０によって取り入れられ、熱交換器７で予熱された空
気が、ヒータ５で高温に維持される酸素発生器６の空気
取入口６aに供給される。固体電解質膜の陰極側に供給
された空気中の酸素のみが、電気化学的反応によりイオ
ン化し、固体電解質膜を通って、陽極側で電子を取り除
くことで酸素分子となり、固体電解質膜のポンピング機
能により酸素取出口６cから100％の純粋酸素ガスとし
て、熱交換器７で熱を奪われた後、逆止弁８を経、酸素タ
ンク９へ送られて蓄えられる。なお、空気から酸素を分
離して生じる残ガスは、熱交換器７で同様に熱を奪われ
た後、外部へ排出される。このように、酸素発生器６で
生成された純度100％の酸素をオゾン水の原料に用いる
ので、従来の電解法のように貯蔵や処理に装置や設備を
要する水素ガスが発生せず、オゾン水に洗浄不良を起こ
す陽極活物質やパーティクルが混入しないから、半導体
集積回路等の極めて高い清浄度を要求される洗浄にも使
用できるオゾン水を得ることができる。また、酸素ガス
および残ガスが酸素発生器６のヒータ５から得た熱を、
熱交換器７により取入空気の加熱に有効利用しているの
で、省エネルギが図られる。

【００２５】酸素タンク９内の酸素圧は、圧力センサ１
１で検出され、制御部４は、圧力センサ１１の検出信号
に基づいて、酸素発生器６内の固体電解質膜の陰極,陽
極間に印加する電圧および電流を増減して酸素発生量を
増減し、図１に示すシステム全体としてのオゾン水の製
造効率が最適になるような所定の設定圧に酸素タンク９
の内圧をフィードバック制御する。従って、酸素タンク
９からオゾン発生部２へ常に一定圧の酸素を供給できる
ので、均質なオゾンガスひいてはオゾン水を安定して得
ることができる。

【００２６】次に、酸素タンク９内の酸素ガスは、開閉
弁１３、減圧弁１４および流量計１５を経てオゾンガス
発生器１７に供給され、制御部４で制御される高周波高
圧電源１２からの給電でオゾン発生器１７内に生じる高
周波放電によって、100％の高純度のオゾンガスにな
る。このとき、制御部４は、流量計１５の検出信号に基
づいて、開閉弁１３の開度を増減して、流量計１５を経
て供給される酸素流量が、システム全体としてのオゾン
水の製造効率が最適になるような所定の設定値になるよ
うにフィードバック制御を行なう。従って、酸素タンク
９からオゾンガス発生器１７へ常に一定流量かつ一定圧
力(既述の圧力センサ１１による)の酸素を供給できるの
で、より均質なオゾンガスひいてはオゾン水をより安定
して得ることができる。なお、開閉弁１３と流量計１５
の配置関係は、図１とは逆に流量計１５を上流側、開閉
弁１３を下流側に配置してもよい。

【００２７】さらに、オゾンガス発生器１７で生成され
た100％純度のオゾンガスは、オゾンガス導入管１８aを
経てオゾン水発生部３のオゾンガス溶解部１８に供給さ
れ、このオゾンガス溶解部１８内で開閉弁１９を介設し
た純水導入管１８bから供給される純水に溶解させられ
て高純度のオゾン水となった後、オゾン水貯留部２０に
蓄えられる。ここで、制御部４は、オゾン水貯留部２０
の水位計２１が検出する貯留オゾン水の水位と、濃度計
２２が検出するオゾン水のオゾン濃度を表わす信号に基
づいて、水位が高い場合または濃度が低い場合は、純水
導入管１８bの開閉弁１９の開度を減じ、逆に水位が低
い場合または濃度が高い場合は、開閉弁１９の開度を増
すようにフィードバック制御を行ない、貯留オゾン水の
水位およびオゾン濃度を、システム全体としてのオゾン
水の製造効率が最適になるような所定の各設定値に制御
する。従って、高純度の一層均質なオゾン水を一層安定
して得、安定して供給することができる。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項１
のオゾン水製造装置は、イオン伝導性の固体電解質膜を
介して酸素イオンを電気化学的に輸送することによって
空気から高純度の酸素ガスを分離する酸素発生器と、こ
の酸素発生器から供給される酸素ガスを用いて高純度の
オゾンガスを生成するオゾンガス発生部と、このオゾン
ガス発生部から供給されるオゾンガスを水に溶解させる
オゾンガス溶解部を備えているので、固体電解質膜にお
ける電気化学的反応によって得られた100％という高純
度の酸素をオゾンガスの原料に用いるから、従来の電解
法のように貯蔵や処理に装置や設備を要する水素ガスが
発生せず、オゾン水に洗浄不良を起こす陽極活物質やパ
ーティクルが混入しないので、半導体集積回路等の極め
て高い清浄度を要求される洗浄にも使用できるオゾン水
を製造することができる。

【００２９】請求項２のオゾン水製造装置は、上記酸素
発生器の後段に酸素を蓄える酸素タンクを備えているの
で、酸素発生器で生成された酸素が、固体電解質膜のポ
ンピング機能により酸素タンクに高圧で蓄えられるか
ら、酸素が生成できない装置起動時や短時間の故障時で
も、酸素タンクからオゾンガス発生部に安定して酸素を
供給でき、安定してオゾン水を製造することができる。

【００３０】請求項３のオゾン水製造装置は、請求項２
の酸素タンクが、内圧を検出する圧力センサを有し、こ
の圧力センサの検出信号に基づき、上記固体電解質膜の
両面の電極に印加する電圧および電流の少なくともいず
れかを増減して酸素タンクの内圧を所定の設定圧にフィ
ードバック制御する制御部を備えているので、圧力セン
サの検出信号に基づいて、固体電解質膜の酸素発生量の
増減により酸素タンク内が設定圧にフィードバック制御
されるから、酸素タンクからオゾンガス発生部へ常に一
定圧の酸素を供給でき、均質なオゾンガスひいてはオゾ
ン水を安定して得ることができる。

【００３１】請求項４のオゾン水製造装置は、請求項１
または２のオゾンガス発生部が、高周波放電によってオ
ゾンガスを生成するオゾンガス発生器と、このオゾンガ
ス発生器と上記酸素発生器の間に設けられた開閉弁およ
び流量計と、この流量計のフィードバック信号に基づい
て酸素流量が所定の設定値になるように上記開閉弁の開
度を制御する制御部を備えているので、流量計の検出信
号に基づいて、開閉弁の開度の増減によりオゾン発生器
に供給される酸素流量が設定値にフィードバック制御さ
れるから、酸素発生器または酸素タンクからオゾンガス
発生部へ常に一定流量の酸素を供給でき、均質なオゾン
ガスひいてはオゾン水を安定して得ることができる。

【００３２】請求項５のオゾン水製造装置は、請求項１
または２のオゾンガス溶解部が、オゾンガス導入管と開
閉弁を介設した純水導入管とを有し、このオゾンガス溶
解部の後段にオゾン水貯留部が設けられ、このオゾン水
貯留部は、オゾン水の水位を検出する水位計とオゾン水
のオゾン濃度を検出する濃度計を有し、上記水位計と濃
度計の検出信号に基づき、上記開閉弁の開度をフィード
バック制御する制御部を備えているので、オゾン水貯留
部の水位計と濃度計の検出信号に基づいて、開閉弁の開
度の増減により貯留オゾン水の水位と濃度が所定の設定
値に維持できるから、均質なオゾン水を安定して得るこ
とができる。

【００３３】請求項６のオゾン水製造装置は、請求項３
または４のオゾン水製造装置において、上記制御部が、
請求項５の制御部を兼ねているので、貯留オゾン水の水
位と濃度に加えて、酸素タンク内の酸素圧またはオゾン
ガス発生部への酸素供給流量も所定の設定値に制御され
るから、より均質なオゾン水をより安定して供給するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のオゾン水製造装置の一実施形態を示
すブロック構成図である。

【符号の説明】

１ 酸素発生部 ２ オゾンガス発生部 ３ オゾン水発生部 ４ 制御部 ５ ヒータ ６ 酸素発生器 ６a 空気取入口 ６b 残ガス排出口 ６c 酸素取出口 ７ 熱交換器 ８ 逆止弁 ９ 酸素タンク １０ ファン １１ 圧力センサ １２ リリーフ弁 １３,１９ 開閉弁 １４ 減圧弁 １５ 流量計 １６ 高周波高圧電源 １７ オゾンガス発生器 １８ オゾンガス溶解部 １８a オゾンガス導入管 １８b 純水導入管 ２０ オゾン水貯留部 ２０a 放出口 ２１ 水位計 ２２濃度計 ２３ オゾン分解器

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA41 JA02A JA02C JA42A JA70A KA02 KA31 KB01 KE16Q KE16R MA11 MA40 MB04 MC03 PB17 PB62 PC80 4G035 AA01 AE02 4G042 AA02 AA07 BA09 BB02 BC05 CA01 CB02 CB08 CC11 CE01

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 イオン伝導性の固体電解質膜を介して酸
   素イオンを電気化学的に輸送することによって空気から
   高純度の酸素ガスを分離する酸素発生器(６)と、 この酸素発生器(６)から供給される酸素ガスを用いて高
   純度のオゾンガスを生成するオゾンガス発生部(２)と、 このオゾンガス発生部(２)から供給されるオゾンガスを
   水に溶解させるオゾンガス溶解部(１８)を備えたことを
   特徴とするオゾン水製造装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のオゾン水製造装置にお
   いて、上記酸素発生器(６)の後段に酸素を蓄える酸素タ
   ンク(９)を備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載のオゾン水製造装置にお
   いて、上記酸素タンク(９)は、内圧を検出する圧力セン
   サ(１１)を有し、この圧力センサ(１１)の検出信号に基
   づき、上記固体電解質膜の両面の電極に印加する電圧お
   よび電流の少なくともいずれかを増減して酸素タンク
   (９)の内圧を所定の設定圧にフィードバック制御する制
   御部(４)を備えたことを特徴とするオゾン水製造装置。
4. 【請求項４】 請求項１または２に記載のオゾン水製造
   装置において、上記オゾンガス発生部(２)は、高周波放
   電によってオゾンガスを生成するオゾンガス発生器(１
   ７)と、このオゾンガス発生器(１７)と上記酸素発生器
   (６)の間に設けられた開閉弁(１３)および流量計(１５)
   と、この流量計(１５)のフィードバック信号に基づいて
   酸素流量が所定の設定値になるように上記開閉弁(１３)
   の開度を制御する制御部(４)を備えたことを特徴とする
   オゾン水製造装置。
5. 【請求項５】 請求項１または２に記載のオゾン水製造
   装置において、上記オゾンガス溶解部(１８)は、オゾン
   ガス導入管(１８a)と開閉弁(１９)を介設した純水導入
   管(１８b)とを有し、このオゾンガス溶解部(１８)の後
   段にオゾン水貯留部(２０)が設けられ、このオゾン水貯
   留部(２０)は、オゾン水の水位を検出する水位計(２１)
   とオゾン水のオゾン濃度を検出する濃度計(２２)を有
   し、上記水位計(２１)と濃度計(２２)の検出信号に基づ
   き、上記開閉弁(１９)の開度をフィードバック制御する
   制御部(４)を備えたことを特徴とするオゾン水製造装
   置。
6. 【請求項６】 請求項３または４に記載のオゾン水製造
   装置において、上記制御部(４)は、請求項５の制御部
   (４)を兼ねていることを特徴とするオゾン水製造装置。