JPWO2021215145A5 - - Google Patents
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Description
本開示の一態様は、第1の基板と第2の基板が接合された重合基板を処理する基板処理装置であって、前記重合基板を保持する保持部材と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に挿入されることで、少なくとも前記第1の基板の周縁部を前記第2の基板から剥離する除去部材と、前記保持部材に対する前記除去部材の相対的な高さ位置を調節する昇降機構と、前記昇降機構の動作を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記重合基板の全周において、前記除去部材の目標の挿入位置に対する当該除去部材の相対的な高さ位置を調節するように、前記昇降機構の動作を制御する。
なお、上述のように目標位置である第1のウェハW1と第2のウェハW2の間の高さ位置が重合ウェハTの周方向で安定していない場合、当該重合ウェハTの回転に伴って挿入部材53の挿入高さ位置と目標位置にずれが生じ、適切に周縁部Weを除去できないおそれがある。この点、本実施形態においてはステップS3-2において検知された重合ウェハTの全周における高さ位置に基づいて、重合ウェハTの周方向位置に応じて挿入部材53の高さ位置を調節する。換言すれば、検知された重合ウェハTの全周における高さ位置に基づいて、重合ウェハTの全周における挿入部材53の挿入高さを算出し、算出された挿入高さに追従して昇降機構55により挿入部材53の高さを調整する。これにより、重合ウェハTの全周において周縁部Weを適切に剥離することができる。
プロセス確認検査においてエッジトリムが適切に行われていないと判断されると、エッジトリムが適切に行われていない箇所、すなわち周縁部Weが残存する重合ウェハTの周方向位置と、当該残存する周縁部Weの大きさ等が検知される。そして、周縁部Weが残存する重合ウェハTの周方向位置まで挿入部材53を相対的に移動させた後、再度、挿入部材53の挿入による残存した周縁部Weの除去(図6のステップS3)、及び当該再度の除去処理後におけるプロセス確認検査(図6のステップS4)を行う。
具体的には図12に示すように、チャック51の上方に、チャック51に保持された重合ウェハT(第1のウェハW1)の外周位置、又は内部に形成された周縁改質層M1の偏心量を検知する偏心量検知機構110を更に設ける。なお偏心量検知機構110は、重合ウェハTの外周位置、又は第1のウェハW1の内部に周縁改質層M1の偏心量に加え、重合ウェハT及び挿入部材53の水平方向位置を更に検知可能に構成されてもよい。すなわち偏心量検知機構110は、本開示の技術に係る「水平検知機構」として動作することができる。偏心量検知機構110としては、例えば非接触式のレーザ変位計、CCDカメラ又はIRカメラ等を用いることができる。そして偏心量検知機構110は、例えば全周における重合ウェハT(第1のウェハW1、第2のウェハW2)の端部位置や、周縁改質層M1の形成位置(端部位置からの距離)を検知することで、重合ウェハT(第1のウェハW1)の外周位置、又は第1のウェハW1の内部に形成された周縁改質層M1の偏心量を検知する。検知された外周位置または偏心量は、制御装置100に出力される。そして周縁除去装置50においては、検知された外周位置または周縁改質層M1の偏心量と、予め取得された周縁部Weを剥離可能な挿入部材53の水平方向位置に基づいて、重合ウェハTに対する挿入部材53の相対的な水平方向位置(挿入深さ)を調節する。具体的には、検知された重合ウェハT(第1のウェハW1)の外周位置、すなわちチャック51の回転中心に対して当該チャック51に保持された重合ウェハT(第1のウェハW1)の中心の偏心のみが懸念される場合には、重合ウェハT(第1のウェハW1)の外周位置に追従させて、目標深さに対する挿入部材53の挿入深さを制御できる。また、重合ウェハTの中心に対して周縁改質層M1の形成位置が偏心している場合には、当該形成位置の偏心量に追従させて、目標深さに対する挿入部材53の挿入深さを制御する。
そして本実施形態においては、このように目標位置に形成された切込み部Tcに対して挿入部材53を挿入する。この時、目標位置に形成された切込み部Tcを起点として周縁部Weの剥離が発生するため、周縁部Weの剥離を容易に行うことができる。また、このように切込み部Tcが形成されることにより、挿入部材53の挿入にかかる押圧荷重を小さくすることができ、エッジトリム品質の低下のリスク、及び重合ウェハTの破損のリスクを低減することができる。また更に、挿入部材53の欠損や寿命低下のリスクを低減することができる。
Claims (21)
- 第1の基板と第2の基板が接合された重合基板を処理する基板処理装置であって、
前記重合基板を保持する保持部材と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に挿入されることで、少なくとも前記第1の基板の周縁部を前記第2の基板から剥離する除去部材と、
前記保持部材に対する前記除去部材の相対的な高さ位置を調節する昇降機構と、
前記昇降機構の動作を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記重合基板の全周において、前記除去部材の目標の挿入位置に対する当該除去部材の相対的な高さ位置を調節するように、前記昇降機構の動作を制御する、基板処理装置。 - 前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構を有し、
前記昇降機構は、前記除去部材又は前記水平移動機構を昇降させることにより、前記目標の挿入位置に対する前記除去部材の相対的な高さ位置を調節する、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1の基板の内部に、前記周縁部の剥離の基点となる周縁改質層と、前記周縁部を複数の分割領域に小片化するための基点となる分割改質層と、を形成する改質部を備える、請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記重合基板の全周の高さ位置に基づいて算出される高さ位置で固定するように、前記昇降機構の動作を制御する、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記重合基板の全周の高さ位置に追従して昇降させるように、前記昇降機構の動作を制御する、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記分割領域ごとの高さ位置に基づいて算出される高さ位置で固定するように、前記昇降機構の動作を制御する、請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記分割領域ごとの高さ位置に追従して昇降させるように、前記昇降機構の動作を制御する、請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記第1の基板の外周位置、又は前記第1の基板の内部に形成された前記周縁改質層の偏心量を検知する水平検知機構と、
前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構と、を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の水平方向位置を、前記水平検知機構により検知された前記偏心量に基づいて算出される深さ位置で固定するように、前記水平移動機構の動作を制御する、請求項6又は7に記載の基板処理装置。 - 前記第1の基板の外周位置、又は前記第1の基板の内部に形成された前記周縁改質層の偏心量を検知する水平検知機構と、
前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構と、を有し、
前記制御部は、前記除去部材の挿入時において、
前記除去部材の水平方向位置を、前記水平検知機構により検知された前記偏心量に追従して水平方向に移動させるように、前記水平移動機構の動作を制御する、請求項6又は7に記載の基板処理装置。 - 前記昇降機構は、前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置の変化に追従して前記除去部材を昇降させるガイド部材を有し、
前記ガイド部材は、
前記重合基板の上面と接触して走行する接触部材と、前記接触部材と前記除去部材とを接続するアーム部材と、を有する、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記周縁部の除去後の前記第2の基板を検査する剥離検査機構を有する、請求項1~10のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 第1の基板と第2の基板が接合された重合基板を処理する基板処理方法であって、
前記重合基板を処理する基板処理装置は、
前記重合基板を保持する保持部材と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に挿入される除去部材と、
前記保持部材に対する前記除去部材の相対的な高さ位置を調節する昇降機構と、を有し、
前記基板処理方法は、
前記重合基板に対する前記除去部材の周方向位置に応じて、前記除去部材の目標の挿入位置に対する前記除去部材の相対的な高さ位置を調節することと、
前記除去部材を前記目標の挿入位置に挿入して、少なくとも前記第1の基板の周縁部を除去することと、を含む、基板処理方法。 - 前記除去部材の挿入は、前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構により行われ、
前記目標の挿入位置に対する前記除去部材の相対的な高さ位置の調節を、前記除去部材又は前記水平移動機構の昇降により行う、請求項12に記載の基板処理方法。 - 前記第1の基板の内部に、前記周縁部の剥離の基点となる周縁改質層と、前記周縁部を複数の分割領域に小片化するための基点となる分割改質層と、を形成することを含む、請求項12又は13に記載の基板処理方法。
- 高さ検知機構により前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知することを含み、
前記高さ検知機構により検知された前記重合基板の全周の高さ位置に基づいて前記除去部材を挿入する高さ位置を算出し、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、挿入された前記除去部材の高さ位置を固定する、請求項12又~14のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 高さ検知機構により前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知することを含み、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記重合基板の全周の高さ位置に追従して昇降させる、請求項12~14のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記基板処理装置は、前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記分割領域ごとの高さ位置に基づいて算出される高さ位置で固定する、請求項14に記載の基板処理方法。 - 前記基板処理装置は、前記保持部材に保持された前記重合基板の高さ位置を検知する高さ検知機構を有し、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、前記除去部材の高さ位置を、前記高さ検知機構により検知された前記分割領域ごとの高さ位置に追従して昇降させる、請求項14に記載の基板処理方法。 - 前記基板処理装置は、
前記第1の基板の内部に形成された前記周縁改質層の偏心量を検知する水平検知機構と、
前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構と、を有し、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、前記除去部材の水平方向位置を、前記水平検知機構により検知された前記偏心量に基づいて算出される深さ位置で固定する、請求項17又は18に記載の基板処理方法。 - 前記基板処理装置は、
前記第1の基板の内部に形成された前記周縁改質層の偏心量を検知する水平検知機構と、
前記除去部材を前記重合基板に対して進退方向に移動させる水平移動機構と、を有し、
前記第1の基板の周縁部の除去に際しては、前記除去部材の水平方向位置を、前記水平検知機構により検知された前記偏心量に追従して水平方向に移動させる、請求項17又は18に記載の基板処理方法。 - 前記周縁部の除去後の前記第2の基板を検査することを含み、
前記検査の結果により前記周縁部の除去が適当に行われていないと判断される場合には、前記周縁部が適当に除去されていない周方向位置を検知し、
検知された周方向位置に基づいて前記周縁部の再除去を行う、請求項12~20のいずれか一項に記載の基板処理方法。
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