JPWO2021100605A5 - - Google Patents

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まず、SOI基板や支持基板等を用いて、光電変換部PD1,PD2及びそれらに対応する画素回路、配線、貫通電極等を形成した半導体基板400を準備する。半導体基板400は、半導体基板300上に、電極216、光電変換膜212および電極210を半導体基板300側からこの順に含む基板である。半導体基板400は、本開示の「第2の基板」の一具体例に相当する。半導体基板300は、本開示の「第の半導体基板」の一具体例に相当する。半導体基板400の表面には、電極210を封止する封止膜204が形成されている。このようにして、図7の下側に示される、半導体基板400を得る。
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JP2013055252A (ja) * 2011-09-05 2013-03-21 Sony Corp 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器
WO2014027588A1 (ja) * 2012-08-14 2014-02-20 ソニー株式会社 固体撮像装置および電子機器
JP2017098513A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 株式会社ニコン 撮像素子、撮像装置および焦点調節装置
TWI770159B (zh) * 2017-04-21 2022-07-11 日商索尼股份有限公司 攝像元件、積層型攝像元件及固體攝像裝置

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