JPWO2020169579A5 - - Google Patents

Claims (21)

1. レーザ放射によってタイヤの内面を清浄化するタイヤ清浄化装置であって、前記タイヤ清浄化装置は、
   内面を有し、円周方向とタイヤ回転軸とを規定するタイヤを位置決めするように構成されている位置決め装置と、
   放射経路を位置決めし、前記放射経路に沿って前記タイヤの前記内面にレーザビームを放射するように構成されている清浄化ヘッドと、
   前記放射経路と前記内面とが互いに相対運動するように構成されている制御装置と
   を備え、
   前記放射経路と前記内面との交点の相対運動が、前記タイヤの前記内面上の位置決め経路と、前記位置決め経路に沿った速度とを規定し、
   前記位置決め経路は、各点で、前記位置決め経路に沿った経路方向を規定し、前記経路方向は、前記円周方向の第一の方向成分と、前記タイヤ回転軸に対して平行の第二の方向成分とを有し、
   前記位置決め経路の少なくとも７０％で、前記第一の方向成分は、前記第二の方向成分よりも大きい、
   タイヤ清浄化装置。
2. 相対運動の少なくとも５０％は、少なくとも一つの回転可能な要素の回転により生成されていて、
   前記少なくとも一つの回転可能な要素は、次の要素、つまりタイヤ、放射経路、光学素子の少なくとも一つを含む
   請求項１に記載のタイヤ清浄化装置。
3. 前記位置決め経路に沿った、前記円周方向での前記交点の平均速度は、５ｍ／ｓ超である、
   請求項１または２に記載のタイヤ清浄化装置。
4. 前記レーザビームは、前記位置決め経路上に複数のレーザスポットを生成し、
   前記複数のレーザスポットの各々のレーザスポットは、前記内面上にその都度一つの加工スポットを生成し、
   前記タイヤの前記内面上のいくつかの連続する加工スポットは、加工経路を規定し、前記加工経路に沿って前記内面が清浄化され、前記加工経路は、平行な円軌道で少なくとも一節ずつ延びる、
   および／または
   前記加工経路は、少なくとも一節ずつらせん状に延びる
   請求項１から３のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
5. 前記レーザビームは、前記位置決め経路上に複数のレーザスポットを生成し、隣接するレーザスポットは互いに重なり、特に二つの隣接するレーザスポットは、第一の方向に沿って、前記レーザスポットの一つの、前記第一の方向への拡がりの０％、１０％、５０％、６７％、７５％、８０％または９０％の長さにわたり重なる、請求項１から４のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
6. 前記位置決め装置は、前記タイヤを回転するように構成されていて、前記制御装置は、前記交点の相対運動が、少なくとも部分的に、前記タイヤの回転軸を中心とした前記タイヤの回転によって生じるように構成されている、請求項１から５のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
7. 前記清浄化ヘッドは、前記放射経路を回転するように構成されていて、
   前記制御装置は、前記交点の前記相対運動が、少なくとも部分的に、前記放射経路の回転により、特に前記タイヤ回転軸を中心とした前記放射経路の回転により生じるように構成されている
   請求項１から６のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
8. 前記交点の前記相対運動の９０％より多くが、前記タイヤの回転によりおよび／または前記放射経路の回転によって行われる、請求項２、６または７のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
9. 前記放射経路の回転により生成される、前記レーザビームの中心軸を中心とした前記レーザビームの回転を補償する補償素子をさらに備える、請求項２、７または８のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
10. レーザスポットは、矩形のレーザスポットであり、前記位置決め経路の少なくとも７０％で、前記経路方向は、前記矩形のレーザスポットの一辺と８０°～１００°の角度、特に９０°の角度を形成し、特に前記矩形のレーザスポットは、長辺と短辺とを有し、前記経路方向は、前記矩形のレーザスポットの長辺と８０°～１００°の角度、特に９０°の角度を形成する、請求項４から９のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置。
11. 請求項１から１０のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置と、
    前記レーザビームを生成するためのレーザ源と
    を備えるタイヤ清浄化システム。
12. 請求項１から１０のいずれか一項に記載の別のタイヤ清浄化装置と、
    前記レーザビームを前記タイヤ清浄化装置かまたは前記別のタイヤ清浄化装置のいずれか一方に供給可能な切替装置と
    をさらに備える、請求項１１に記載のタイヤ清浄化システム。
13. 内面を備えるタイヤであって、前記内面は、特に請求項１から１０のいずれか一項に記載のタイヤ清浄化装置によって清浄化されている、タイヤ。
14. 加工経路をさらに備え、前記加工経路に沿って、前記内面が清浄化されていて、
    特に、
    前記加工経路は、各点で、前記加工経路に沿った経路方向を規定し、前記経路方向は、前記円周方向の第一の方向成分と、前記タイヤ回転軸に対して平行の第二の方向成分とを有し、
    前記加工経路の少なくとも７０％で、前記第一の方向成分は、前記第二の方向成分よりも大きい
    請求項１３に記載のタイヤ。
15. 前記加工経路は、複数の加工スポットを有し、隣接する加工スポットは互いに重なるかまたは接していて、特にそれぞれ二つの隣接する加工スポットは、第一の方向に沿って、前記加工スポットの一つの、前記第一の方向への拡がりの０％、５０％、６７％、７５％、８０％または９０％の長さにわたり重なっている、請求項１４に記載のタイヤ。
16. 前記加工経路は、少なくとも一節ずつ平行な円軌道で延びる
    および／または
    前記加工経路は、少なくとも一節ずつらせん状に延びる
    請求項１４または１５に記載のタイヤ。
17. 加工スポットは、矩形の加工スポットであり、前記加工経路の少なくとも９０％で、前記経路方向は、前記矩形の加工スポットの一辺と８０°～１００°、特に９０°の角度を形成し、特に前記矩形の加工スポットは、長辺と短辺とを有し、前記経路方向は、前記矩形の加工スポットの長辺と８０°～１００°、特に９０°の角度を形成する、請求項１５または１６に記載のタイヤ。
18. 前記タイヤ回転軸の方向に隣接する加工スポットは、前記タイヤの前記円周方向で、前記加工スポットの拡がりの１０％を超えて前記円周方向に互いにずれている、請求項１５から１７いずれか一項に記載のタイヤ。
19. タイヤを清浄化する方法であって、前記方法は、
    内面を有し、円周方向とタイヤ回転軸とを規定するタイヤを位置決めするステップと、
    放射経路を位置決めし、前記放射経路に沿って前記タイヤの前記内面にレーザビームを放射するステップと、
    前記放射経路と前記内面とを互いに相対運動させるステップと
    を含み、
    前記放射経路と前記内面との交点の相対運動が、前記タイヤの前記内面上の位置決め経路と、前記位置決め経路に沿った速度とを規定し、
    前記位置決め経路は、各点で、前記位置決め経路に沿った経路方向を規定し、前記経路方向は、前記円周方向の第一の方向成分と、前記タイヤ回転軸に対して平行の第二の方向成分とを有し、
    前記位置決め経路の少なくとも７０％で、前記第一の方向成分は、前記第二の方向成分よりも大きい、
    タイヤを清浄化する方法。
20. 前記位置決め経路に沿った、前記円周方向での前記交点の平均速度は、５ｍ／ｓ超である、請求項１９に記載の方法。
21. コンピュータに請求項２０に記載の方法を実行させるための、プログラム。