JPWO2020096036A1 - Resin composition, prepreg, laminated board, resin film, multi-layer printed wiring board and multi-layer printed wiring board for millimeter-wave radar - Google Patents

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Abstract

(A)エチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体と、(B)N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上と、(C)エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤と、を含有してなる、樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板に関する。 (A) A polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group, (B) one or more selected from the group consisting of a maleimide compound having two or more N-substituted maleimide groups and a derivative thereof, and (C) A resin composition containing a cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds, a prepreg using the resin composition, a laminate, a resin film, a multilayer print wiring plate, and a multilayer print for millimeter-wave radar. Regarding the wiring board.

Description

本発明は、樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板に関する。 The present invention relates to a resin composition, a prepreg, a laminated board, a resin film, a multilayer printed wiring board, and a multilayer printed wiring board for millimeter wave radar.

携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワークインフラ機器、大型コンピュータなどでは、使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板には高周波化対応が必要となり、伝送損失の低減を可能とする高周波数帯における誘電特性(低誘電率及び低誘電正接;以下、高周波特性と称することがある。)に優れる基板材料が求められている。近年、このような高周波信号を扱うアプリケーションとして、上述した電子機器のほかに、ITS分野(自動車、交通システム関連)及び室内の近距離通信分野でも高周波無線信号を扱う新規システムの実用化又は実用計画が進んでおり、今後、これらの機器に搭載するプリント配線板に対しても、低伝送損失基板材料がさらに要求されると予想される。 In mobile communication devices such as mobile phones, their base station devices, servers, network infrastructure devices such as routers, and large computers, the speed and capacity of signals used are increasing year by year. Along with this, the printed wiring boards mounted on these electronic devices need to be compatible with high frequencies, and the dielectric characteristics in the high frequency band (low dielectric constant and low dielectric loss tangent; hereinafter, high frequency) that enable reduction of transmission loss. There is a demand for a substrate material having excellent properties). In recent years, as applications that handle such high-frequency signals, in addition to the above-mentioned electronic devices, practical application or practical planning of new systems that handle high-frequency wireless signals in the ITS field (automobiles, transportation system-related) and indoor short-range communication fields. Is progressing, and it is expected that low transmission loss substrate materials will be further required for printed wiring boards mounted on these devices in the future.

従来、低伝送損失が要求されるプリント配線板には、高周波特性に優れる耐熱性熱可塑性ポリマーとしてポリフェニレンエーテル(PPE)系樹脂が使用されてきた。例えば、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂とを併用する方法が提案されている。具体的には、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂の中でも誘電率が低いシアネート樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献2参照)等が開示されている。
しかしながら、特許文献1及び2に記載の樹脂組成物は、GHz領域における高周波特性、導体との接着性、低熱膨張係数、難燃性が総合的に不十分であったり、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂との相容性が低いことにより耐熱性が低下することがあった。
Conventionally, polyphenylene ether (PPE) -based resin has been used as a heat-resistant thermoplastic polymer having excellent high-frequency characteristics for printed wiring boards that require low transmission loss. For example, a method of using polyphenylene ether and a thermosetting resin in combination has been proposed. Specifically, a resin composition containing a polyphenylene ether and an epoxy resin (see, for example, Patent Document 1), and a resin composition containing a cyanate resin having a low dielectric constant among the polyphenylene ether and a thermosetting resin (for example, a patent). (See Document 2) and the like are disclosed.
However, the resin compositions described in Patent Documents 1 and 2 are generally insufficient in high frequency characteristics in the GHz region, adhesiveness to conductors, low coefficient of thermal expansion, flame retardancy, or thermosetting with polyphenylene ether. Due to the low compatibility with the resin, the heat resistance may decrease.

このような状況下、特に相容性が良好で、且つ高周波数帯における誘電特性、導体との高接着性、優れた耐熱性、高ガラス転移温度、低熱膨張係数及び高難燃性を有する樹脂組成物を提供することを課題として、1分子中にN−置換マレイミド構造含有基及び下記一般式で表される構造単位を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)、エポキシ樹脂、シアネート樹脂及びマレイミド化合物からなる群より選ばれる1種以上の熱硬化性樹脂(B)、及びスチレン系熱可塑性エラストマー(C)を含む樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献3参照)。

Figure 2020096036

(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。xは0〜4の整数である。)Under such circumstances, a resin having particularly good compatibility, dielectric properties in a high frequency band, high adhesion to a conductor, excellent heat resistance, high glass transition temperature, low thermal expansion coefficient, and high flame retardancy. It is an object of the present invention to provide a composition, which comprises a polyphenylene ether derivative (A) having an N-substituted maleimide structure-containing group and a structural unit represented by the following general formula in one molecule, an epoxy resin, a cyanate resin and a maleimide compound. A resin composition containing one or more thermosetting resins (B) selected from the group and a styrene-based thermoplastic elastomer (C) has been proposed (see, for example, Patent Document 3).
Figure 2020096036

(In the formula, R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently. X is an integer of 0 to 4.)

特開昭58−069046号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-069046 特公昭61−018937号公報Tokukousho 61-018937 Gazette 国際公開第2016/175326号International Publication No. 2016/175326

特許文献3に記載の樹脂組成物は、確かに高周波数帯における誘電特性にも優れる結果となっているが、耐熱性については更なる改善の余地がある。更に、近年は、6GHzを超える周波数帯の電波が使用される第五世代移動通信システム(5G)アンテナ及び30〜300GHzの周波数帯の電波が使用されるミリ波レーダーにも利用可能な、10GHz帯以上における誘電特性がさらに改善された樹脂組成物の開発が切望されている。 The resin composition described in Patent Document 3 is certainly excellent in dielectric properties in the high frequency band, but there is room for further improvement in heat resistance. Furthermore, in recent years, the 10 GHz band can also be used for fifth-generation mobile communication system (5G) antennas that use radio waves in the frequency band exceeding 6 GHz and millimeter-wave radars that use radio waves in the frequency band of 30 to 300 GHz. The development of a resin composition having further improved dielectric properties is desired.

本発明は、このような現状に鑑み、耐熱性に優れ、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性を発現し得る樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板を提供することを課題とする。 In view of the current situation, the present invention relates to a resin composition having excellent heat resistance and capable of exhibiting excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, a prepreg using the resin composition, a laminated board, and a resin film. It is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board for millimeter wave radar.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の分子構造を含むポリフェニレンエーテル誘導体と、特定のマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上と、特定の架橋剤と、を含有する樹脂組成物であれば、耐熱性に優れ、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性を発現することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記[1]〜[15]に関するものである。
As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors have found that polyphenylene ether derivatives containing a specific molecular structure, one or more selected from the group consisting of a specific maleimide compound and its derivatives, and one or more. We have found that a resin composition containing a specific cross-linking agent has excellent heat resistance and exhibits excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, and has completed the present invention.
That is, the present invention relates to the following [1] to [15].

[1](A)エチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体と、
(B)N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上と、
(C)エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤と、
を含有してなる、樹脂組成物。
[2]前記(C)成分が、前記2個以上のエチレン性不飽和結合を、ビニル基として有するものである、上記[1]に記載の樹脂組成物。
[3]前記(C)成分が、前記2個以上のエチレン性不飽和結合を、1,2−ビニル基として有するポリブタジエンである、上記[2]に記載の樹脂組成物。
[4]前記ポリブタジエンを構成するブタジエン由来の全構造単位に対して、1,2−ビニル構造を有する構造単位の含有量が、50モル%以上である、上記[3]に記載の樹脂組成物。
[5]前記ポリブタジエンの数平均分子量が、500〜10,000である、上記[3]又は[4]に記載の樹脂組成物。
[6]前記(C)成分の含有量が、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、5〜60質量部である、上記[1]〜[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7]前記(A)成分が、下記一般式(a1−1)で表される構造を含む、上記[1]〜[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。

Figure 2020096036

(式中、Ra1は炭素数2〜10のエチレン性不飽和結合含有基である。n1は1又は2であり、n2は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[8]前記(A)成分が、記一般式(a1−2)で表される構造を含む、上記[1]〜[7]のいずれかに記載の樹脂組成物。
Figure 2020096036

(式中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2〜10のエチレン性不飽和結合含有基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[9]前記(A)成分において、エチレン性不飽和結合含有基の数が、2個以上である、上記[1]〜[8]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[10]前記(B)成分が、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物(b1)由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有する、上記[1]〜[9]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[11]上記[1]〜[10]のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなるプリプレグ。
[12]上記[11]に記載のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板。
[13]上記[1]〜[10]のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルム。
[14]上記[11]に記載のプリプレグ、上記[12]に記載の積層板及び上記[13]に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される1種以上を含有してなる多層プリント配線板。
[15]上記[11]に記載のプリプレグ、上記[12]に記載の積層板及び上記[13]に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される1種以上を含有してなるミリ波レーダー用多層プリント配線板。[1] (A) A polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group and
(B) One or more selected from the group consisting of maleimide compounds having two or more N-substituted maleimide groups and derivatives thereof, and
(C) A cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds,
A resin composition comprising.
[2] The resin composition according to the above [1], wherein the component (C) has the two or more ethylenically unsaturated bonds as a vinyl group.
[3] The resin composition according to the above [2], wherein the component (C) is polybutadiene having the two or more ethylenically unsaturated bonds as a 1,2-vinyl group.
[4] The resin composition according to the above [3], wherein the content of the structural unit having a 1,2-vinyl structure is 50 mol% or more with respect to all the structural units derived from butadiene constituting the polybutadiene. ..
[5] The resin composition according to the above [3] or [4], wherein the polybutadiene has a number average molecular weight of 500 to 10,000.
[6] The above-mentioned [1] to [5], wherein the content of the component (C) is 5 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components in the resin composition. Resin composition.
[7] The resin composition according to any one of the above [1] to [6], wherein the component (A) contains a structure represented by the following general formula (a1-1).
Figure 2020096036

(Wherein, R a1 is .n1 an ethylenically unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms is 1 or 2, n2 is 0 or 1. * Is the point of attachment to other structures show.)
[8] The resin composition according to any one of the above [1] to [7], wherein the component (A) contains a structure represented by the general formula (a1-2).
Figure 2020096036

(In the formula, Ra2 and Ra3 are independently ethylenically unsaturated bond-containing groups having 2 to 10 carbon atoms. * Indicates a bond position to another structure.)
[9] The resin composition according to any one of [1] to [8] above, wherein the number of ethylenically unsaturated bond-containing groups in the component (A) is two or more.
[10] The above-mentioned [1] to [9], wherein the component (B) has a structural unit derived from a maleimide compound (b1) having two or more N-substituted maleimide groups and a structural unit derived from a diamine compound (b2). ] The resin composition according to any one of.
[11] A prepreg containing the resin composition according to any one of the above [1] to [10].
[12] A laminated board containing the prepreg and the metal foil according to the above [11].
[13] A resin film containing the resin composition according to any one of the above [1] to [10].
[14] A multilayer printed wiring board containing at least one selected from the group consisting of the prepreg according to the above [11], the laminated board according to the above [12], and the resin film according to the above [13]. ..
[15] For millimeter-wave radar containing one or more selected from the group consisting of the prepreg according to the above [11], the laminate according to the above [12], and the resin film according to the above [13]. Multi-layer printed wiring board.

本発明によれば、耐熱性に優れ、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性(低誘電率及び低誘電正接)を発現し得る樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、樹脂フィルム、積層板、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板を提供することができる。 According to the present invention, a resin composition having excellent heat resistance and capable of exhibiting excellent dielectric properties (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) in a high frequency band of 10 GHz band or higher, a prepreg using the resin composition, and a resin. A film, a laminated board, a multilayer printed wiring board, and a multilayer printed wiring board for a millimeter wave radar can be provided.

本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値又は上限値と任意に組み合わせられる。
また、本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本発明に含まれる。
In the numerical range described in the present specification, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples. Further, the lower limit value and the upper limit value of the numerical range are arbitrarily combined with the lower limit value or the upper limit value of the other numerical range, respectively.
Further, as for each component and material exemplified in this specification, one kind may be used alone or two or more kinds may be used in combination unless otherwise specified. In the present specification, the content of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition. Means.
The present invention also includes aspects in which the items described in the present specification are arbitrarily combined.

[樹脂組成物]
本実施形態の樹脂組成物は、
(A)エチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体[以下、単にポリフェニレンエーテル誘導体(A)又は(A)成分と略称することがある。]と、
(B)N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上[以下、単にマレイミド化合物(B)又は(B)成分と略称することがある。]と、
(C)エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤[以下、単に架橋剤(C)又は(C)成分と略称することがある。]と、
を含有してなる、樹脂組成物である。
以下、各成分について順に詳述する。
[Resin composition]
The resin composition of this embodiment is
(A) Polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group [Hereinafter, it may be simply abbreviated as the polyphenylene ether derivative (A) or the component (A). ]When,
(B) One or more selected from the group consisting of a maleimide compound having two or more N-substituted maleimide groups and a derivative thereof [hereinafter, may be simply abbreviated as a maleimide compound (B) or a component (B). ]When,
(C) A cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds [hereinafter, may be simply abbreviated as a cross-linking agent (C) or a component (C). ]When,
It is a resin composition containing.
Hereinafter, each component will be described in detail in order.

<ポリフェニレンエーテル誘導体(A)>
ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、エチレン性不飽和結合含有基を有するものである。
なお、本明細書において、「エチレン性不飽和結合含有基」とは、付加反応が可能な炭素−炭素二重結合を含有する置換基を意味し、芳香環の二重結合は含まないものとする。
<Polyphenylene ether derivative (A)>
The polyphenylene ether derivative (A) has an ethylenically unsaturated bond-containing group.
In the present specification, the "ethylenically unsaturated bond-containing group" means a substituent containing a carbon-carbon double bond capable of an addition reaction, and does not include a double bond of an aromatic ring. do.

エチレン性不飽和結合含有基の位置は特に限定されず、例えば、(A)成分の片末端に有していてもよいし、両末端に有していてもよい。(A)成分としては、片末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体と両末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体との混合物であってもよいが、少なくとも、片末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を含有することが好ましく、片末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体そのものであることがより好ましい。
(A)成分が、片末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を含有する場合、(A)成分中、片末端にエチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体の含有量は、30質量%以上であってもよく、45質量%以上であってもよく、55質量%以上であってもよく、70質量%以上であってもよく、90質量%以上であってもよく、実質的に100質量%であってもよい。
The position of the ethylenically unsaturated bond-containing group is not particularly limited, and for example, it may be present at one end of the component (A) or at both ends. The component (A) may be a mixture of a polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group at one end and a polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group at both ends, but at least It is preferable to contain a polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group at one end, and more preferably the polyphenylene ether derivative itself having an ethylenically unsaturated bond-containing group at one end.
When the component (A) contains a polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group at one end, the content of the polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group at one end in the component (A). May be 30% by mass or more, 45% by mass or more, 55% by mass or more, 70% by mass or more, 90% by mass or more. It may be substantially 100% by mass.

(A)成分が有するエチレン性不飽和結合含有基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1−メチルアリル基、3−ブテニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;マレイミド基、(メタ)アクリロイル基等のヘテロ原子を含む置換基などが挙げられる。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、不飽和脂肪族炭化水素基又はマレイミド基が好ましく、アリル基又はマレイミド基がより好ましく、アリル基がさらに好ましい。
なお、本明細書において、マレイミド基、(メタ)アクリロイル基等のように、一部に不飽和脂肪族炭化水素基を有しているが、その基全体として見たときに不飽和脂肪族炭化水素基とは言えない基は、上記「不飽和脂肪族炭化水素基」に含まれないものとする。
Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group contained in the component (A) include unsaturated aliphatic hydrocarbon groups such as vinyl group, isopropenyl group, allyl group, 1-methylallyl group and 3-butenyl group; maleimide group, Examples thereof include a substituent containing a hetero atom such as a (meth) acryloyl group. Among these, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group or a maleimide group is preferable, an allyl group or a maleimide group is more preferable, and an allyl group is further preferable, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or more.
In the present specification, although a part of the group has an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a maleimide group and a (meth) acryloyl group, the unsaturated aliphatic hydrocarbon is viewed as a whole. A group that cannot be said to be a hydrogen group shall not be included in the above-mentioned "unsaturated aliphatic hydrocarbon group".

次に、エチレン性不飽和結合含有基として不飽和脂肪族炭化水素基を有するポリフェニレンエーテル誘導体[以下、単にポリフェニレンエーテル誘導体(A1)又は(A1)成分と略称することがある。]と、エチレン性不飽和結合含有基としてマレイミド基を有するポリフェニレンエーテル誘導体[以下、単にポリフェニレンエーテル誘導体(A2)又は(A2)成分と略称することがある。]について、より詳細に説明する。 Next, a polyphenylene ether derivative having an unsaturated aliphatic hydrocarbon group as an ethylenically unsaturated bond-containing group [hereinafter, may be abbreviated as simply a polyphenylene ether derivative (A1) or a component (A1). ], And a polyphenylene ether derivative having a maleimide group as an ethylenically unsaturated bond-containing group [hereinafter, may be abbreviated as simply a polyphenylene ether derivative (A2) or (A2) component. ] Will be described in more detail.

(ポリフェニレンエーテル誘導体(A1))
(A1)成分は、エチレン性不飽和結合含有基として不飽和脂肪族炭化水素基を有するポリフェニレンエーテル誘導体である。
(A1)成分が、1分子中に有する不飽和脂肪族炭化水素基の数は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、好ましくは2個以上、より好ましくは4個以上であり、上限値に特に制限はなく、8個以下であってもよいし、6個以下であってもよい。さらには、(A1)成分が片末端に有する不飽和脂肪族炭化水素基の数は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、好ましくは2個以上、より好ましくは4個以上であり、上限値に特に制限はなく、8個以下であってもよいし、6個以下であってもよい。
(A1)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基の数及び(A1)成分が片末端に有する不飽和脂肪族炭化水素基の数は、いずれも4個であることが最も好ましい。
(Polyphenylene ether derivative (A1))
The component (A1) is a polyphenylene ether derivative having an unsaturated aliphatic hydrocarbon group as an ethylenically unsaturated bond-containing group.
The number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups in one molecule of the component (A1) is preferably 2 or more, more preferably 4 or more, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or more. The upper limit value is not particularly limited, and may be 8 or less, or 6 or less. Furthermore, the number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups at one end of the component (A1) is preferably 2 or more, more preferably 4 or more, from the viewpoint of dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or more. There is no particular limitation on the upper limit value, and the number may be 8 or less, or 6 or less.
It is most preferable that the number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups contained in the component (A1) and the number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups contained in the component (A1) at one end are both four.

(A1)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記一般式(a1−1)で表される構造を含むことが好ましい。

Figure 2020096036

(式(a1−1)中、Ra1は、各々独立に、炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基である。n1は1又は2であり、n2は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)The component (A1) preferably contains a structure represented by the following general formula (a1-1) from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher.
Figure 2020096036

(In the formula (a1-1), R a1 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, respectively. N1 is 1 or 2, and n2 is 0 or 1. * Indicates the position of connection to other structures.)

上記一般式(a1−1)中、Ra1が表す炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1−メチルアリル基、3−ブテニル基等が挙げられる。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、炭素数2〜5の不飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、アリル基がより好ましい。In the general formula (a1-1), examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms which R a1 represents, for example, vinyl group, isopropenyl group, allyl group, 1-methylallyl group, 3-butenyl The group etc. can be mentioned. Among these, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 5 carbon atoms is preferable, and an allyl group is more preferable, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or more.

また、(A1)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記一般式(a1−2)で表される構造を含む態様も好ましい。

Figure 2020096036

(式(a1−2)中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)Further, from the viewpoint of the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or higher, the component (A1) preferably includes a structure represented by the following general formula (a1-2).
Figure 2020096036

(In the formula (a1-2), Ra2 and Ra3 are independently unsaturated aliphatic hydrocarbon groups having 2 to 10 carbon atoms. * Indicates the bonding position to another structure.)

上記一般式(a1−2)中、Ra2及びRa3が表す炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基は、上記一般式(a1−1)中のRa1と同じものが挙げられ、同じものが好ましい。In the general formula (a1-2), the unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms represented by Ra 2 and Ra 3 is the same as Ra 1 in the general formula (a1-1). , The same is preferable.

(A1)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記一般式(a1−3)〜(a1−5)のいずれかで表される構造を含むことがより好ましく、下記一般式(a1−5)で表される構造を含むことがさらに好ましい。 The component (A1) more preferably contains a structure represented by any of the following general formulas (a1-3) to (a1-5) from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher, and is described below. It is more preferable to include a structure represented by the general formula (a1-5).

Figure 2020096036

(式(a1−3)中、Ra4は炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 2020096036

(In the formula (a1-3), Ra4 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. * Indicates a bond position to another structure.)

Figure 2020096036

(式(a1−4)中、Ra5及びRa6は、各々独立に、炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基である。Xa1は、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 2020096036

(In the formula (a1-4), R a5 and R a6 are each independently unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. X a1 is a divalent fat having 1 to 6 carbon atoms. It is a group hydrocarbon group. * Indicates the bond position to other structures.)

Figure 2020096036

(式(a1−5)中、Ra7〜Ra10は、各々独立に、炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基である。Xa2は2価の有機基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 2020096036

(In the formula (a1-5), R a7 to R a10 are independently unsaturated aliphatic hydrocarbon groups having 2 to 10 carbon atoms. X a2 is a divalent organic group. * Is a divalent organic group. Indicates the position of connection to other structures.)

上記一般式(a1−3)〜(a1−5)中のRa4〜Ra10が表す炭素数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素基としては、一般式(a1−1)中のRa1の場合と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。
上記一般式(a1−4)中のXa1が表す炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基等の炭素数1〜6のアルキレン基;イソプロピリデン基等の炭素数2〜6のアルキリデン基などが挙げられる。これらの中でも、メチレン基、イソプロピリデン基が好ましく、イソプロピリデン基がより好ましい。
上記一般式(a1−5)中のXa2が表す2価の有機基としては、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂肪族炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい芳香族炭化水素基、並びにこれらの任意の組み合わせからなる基等が挙げられる。上記ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。Xa2が表す2価の有機基としては、ヘテロ原子を含有していない基であることが好ましく、ヘテロ原子を含有していない脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含有していない脂環式炭化水素基がより好ましく、ヘテロ原子を含有していない脂肪族炭化水素基とヘテロ原子を含有していない脂環式炭化水素基との組み合わせからなる基であることがさらに好ましい。
The unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms represented by R a4 to R a10 in the general formulas (a1-3) to (a1-5) is R a1 in the general formula (a1-1). The same as in the case of, and the preferable one is also the same.
Examples of the divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms represented by X a1 in the general formula (a1-4) include alkylene groups having 1 to 6 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group and a trimethylene group. Group: An alkylidene group having 2 to 6 carbon atoms such as an isopropylidene group can be mentioned. Among these, a methylene group and an isopropylidene group are preferable, and an isopropylidene group is more preferable.
The divalent organic group X a2 in the general formula (a1-5) represents, partially aliphatic optionally containing heteroatoms hydrocarbon group, contain some heteroatom Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group which may contain a heteroatom in part, and a group composed of any combination thereof. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and the like. The divalent organic group represented by X a2 is preferably a group that does not contain a hetero atom, an aliphatic hydrocarbon group that does not contain a hetero atom, and an alicyclic hydrocarbon that does not contain a hetero atom. A hydrogen group is more preferable, and a group composed of a combination of an aliphatic hydrocarbon group containing no hetero atom and an alicyclic hydrocarbon group containing no hetero atom is further preferable.

上記一般式(a1−3)、(a1−4)又は(a1−5)で表される構造について、より好ましい態様は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、それぞれ下記式(a1−3’)、(a1−4’)又は(a1−5’)で表される構造である。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記式(a1−4’)又は(a1−5’)で表される構造がより好ましく、下記式(a1−5’)で表される構造がさらに好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Xa2は上記一般式(a1−5)中のXa2と同じである。*は、他の構造への結合位置を示す。)With respect to the structures represented by the general formulas (a1-3), (a1-4) or (a1-5), more preferable embodiments are described in the following formulas from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher. It is a structure represented by a1-3'), (a1-4') or (a1-5'). Among these, from the viewpoint of the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or higher, the structure represented by the following formula (a1-4') or (a1-5') is more preferable, and the following formula (a1-5') is used. The structure represented by is more preferable.
Figure 2020096036

(Wherein, X a2 is the same as X a2 in the above general formula (a1-5). * Indicates the point of attachment to other structures.)

(A1)成分は、ポリフェニレンエーテル誘導体であるため、いうまでもなく、フェニレンエーテル結合も有するものであり、下記一般式(a−1)で表される構造単位を有することが好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Ra11は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。n3は0〜4の整数である。)Since the component (A1) is a polyphenylene ether derivative, it goes without saying that it also has a phenylene ether bond, and it is preferable to have a structural unit represented by the following general formula (a-1).
Figure 2020096036

(Wherein, R a11 are each independently, .N3 an aliphatic hydrocarbon group, or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms is an integer of 0-4.)

上記一般式(a−1)中のRa11は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。該脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチル基がより好ましい。また、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
以上の中でも、Ra11としては、好ましくは炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。
n3は0〜4の整数であり、1又は2の整数であってもよく、2であってもよい。なお、n3が1又は2である場合、Ra11はベンゼン環上のオルト位(但し、酸素原子の置換位置を基準とする。)に置換していてもよい。また、n3が2以上である場合、複数のRa11同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
上記一般式(a−1)で表される構造単位としては、具体的には、下記一般式(a−1’)で表される構造単位であってもよい。

Figure 2020096036
R a11 in the general formula (a-1) is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group and the like. As the aliphatic hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable. Further, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
Among the above, the R a11, it is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
n3 is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 1 or 2, or may be 2. In the case n3 is 1 or 2, R a11 ortho-position on the benzene ring (provided that the basis of the substitution position of an oxygen atom.) May be substituted on. Further, when n3 is 2 or more, the plurality of Ra 11s may be the same or different from each other.
Specifically, the structural unit represented by the general formula (a-1) may be a structural unit represented by the following general formula (a-1').
Figure 2020096036

(A1)成分は、下記一般式(a1−6)〜(a1−8)のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していてもよく、特に下記一般式(a1−7)又は(a1−8)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していることが好ましく、下記一般式(a1−8)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していることがより好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Xa2は上記一般式(a1−5)中のXa2と同じである。n4〜n6は、各々独立に、1〜200の整数である。)The component (A1) may contain a polyphenylene ether derivative represented by any of the following general formulas (a1-6) to (a1-8), and in particular, the following general formula (a1-7) or (a1). It preferably contains the polyphenylene ether derivative represented by −8), and more preferably contains the polyphenylene ether derivative represented by the following general formula (a1-8).
Figure 2020096036

(Wherein, .n4~n6 X a2 is the same as X a2 in the above general formula (a1-5) are each independently an integer of 1 to 200.)

上記一般式(a1−6)〜(a1−8)において、n4〜n6は各々独立に、1〜200の整数であり、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点及び樹脂組成物の相容性の観点から、1以上の整数であってもよく、10以上の整数であってもよく、20以上の整数であってもよく、25以上の整数であってもよい。また、同様の観点から、n4〜n6は各々独立に、150以下の整数であってもよく、120以下の整数であってもよく、100以下の整数であってもよい。
上記一般式(a1−6)〜(a1−8)のいずれにおいても、n4〜n6の値が異なるポリフェニレンエーテル誘導体の混合物であってもよく、通常、混合物となる傾向にある。
In the above general formulas (a1-6) to (a1-8), n4 to n6 are independently integers of 1 to 200, and the viewpoint of dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or higher and the phase of the resin composition. From the viewpoint of compatibility, it may be an integer of 1 or more, an integer of 10 or more, an integer of 20 or more, or an integer of 25 or more. From the same viewpoint, n4 to n6 may be independently an integer of 150 or less, an integer of 120 or less, or an integer of 100 or less.
In any of the above general formulas (a1-6) to (a1-8), a mixture of polyphenylene ether derivatives having different values of n4 to n6 may be used, and usually tends to be a mixture.

〔(A1)成分の数平均分子量(Mn)〕
ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の数平均分子量としては、好ましくは1,000〜25,000である。ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の数平均分子量が1,000以上であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性がより一層良好となる傾向にあり、25,000以下であると、樹脂組成物の相容性が良好となり、長期間放置しておいても分離し難くなる傾向にある。同様の観点から、ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の数平均分子量は、より好ましくは2,000〜20,000、さらに好ましくは3,000〜10,000、特に好ましくは4,000〜6,000である。
なお、本明細書において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した値であり、より詳細には実施例に記載の測定方法により求めた値である。
[Number average molecular weight (Mn) of component (A1)]
The number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A1) is preferably 1,000 to 25,000. When the number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A1) is 1,000 or more, the dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or more tend to be further improved, and when it is 25,000 or less, the resin composition The compatibility with the above becomes good, and it tends to be difficult to separate even if it is left for a long period of time. From the same viewpoint, the number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A1) is more preferably 2,000 to 20,000, further preferably 3,000 to 10,000, and particularly preferably 4,000 to 6,000. be.
In the present specification, the number average molecular weight is a value converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC), and is more specifically obtained by the measurement method described in Examples. The value.

〔(A1)成分の製造方法〕
以下、(A1)成分の製造方法の一態様について説明するが、特に下記説明に限定されるものではない。
例えば、上記一般式(a1−1)〜(a1−5)のいずれかで表される構造を含むフェノール化合物[以下、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と略称することがある。]と、数平均分子量3,000〜30,000のポリフェニレンエーテル[以下、原料ポリフェニレンエーテルと略称することがある。]を有機溶媒中で、再分配反応をさせることによりポリフェニレンエーテルの低分子量化を伴いながら、ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)を製造することができる。
[Method for manufacturing component (A1)]
Hereinafter, one aspect of the method for producing the component (A1) will be described, but the description is not particularly limited to the following description.
For example, a phenol compound containing a structure represented by any of the above general formulas (a1-1) to (a1-5) [hereinafter, may be abbreviated as an unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1). .. ], And a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 3,000 to 30,000 [hereinafter, may be abbreviated as a raw material polyphenylene ether. ] Is redistributed in an organic solvent to produce a polyphenylene ether derivative (A1) while reducing the molecular weight of the polyphenylene ether.

なお、上記再分配反応は、例えば、既に重合して製造された原料ポリフェニレンエーテルに対して不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)を混合し、必要に応じて後述の反応触媒を添加することによって、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)のオキシラジカルが、原料ポリフェニレンエーテル中の酸素原子が結合している炭素原子へ攻撃してそこでO−C結合が切れて低分子量化する反応である。その際、攻撃した不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)のオキシラジカルが、結合が切れた炭素原子と結合し、ポリフェニレンエーテルの構造に取り込まれる。該再分配反応としては、公知の方法を利用及び応用することができる。 In the redistribution reaction, for example, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is mixed with the raw material polyphenylene ether already produced by polymerization, and a reaction catalyst described later is added as necessary. By doing so, the oxy radical of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) attacks the carbon atom to which the oxygen atom in the raw material polyphenylene ether is bonded, and the OC bond is broken there to reduce the molecular weight. It is a reaction that turns into a compound. At that time, the oxyradical of the attacked unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is bonded to the broken carbon atom and incorporated into the structure of the polyphenylene ether. As the redistribution reaction, known methods can be used and applied.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の分子量は、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量によって制御でき、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量が多いほど(A1)成分は低分子量化される。つまり、最終的に製造される(A1)成分の数平均分子量が好適な範囲となるように不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量を適宜調整すればよい。
不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量としては、特に制限されるものではないが、例えば、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と反応させる原料ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が3,000〜30,000であれば、該原料ポリフェニレンエーテル1モルに対する不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の水酸基が1〜10モル、好ましくは2〜6モルとなる量で使用することにより、数平均分子量が上記した好ましい範囲内の(A1)成分が得られる。
The molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A1) can be controlled by the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used, and the larger the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used (1). A1) The component is reduced in molecular weight. That is, the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used may be appropriately adjusted so that the number average molecular weight of the component (A1) finally produced is in a suitable range.
The amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used is not particularly limited, but for example, the raw material polyphenylene ether to be reacted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1). When the number average molecular weight is 3,000 to 30,000, the hydroxyl group of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is 1 to 10 mol, preferably 2 to 6 mol, with respect to 1 mol of the raw material polyphenylene ether. When used in such an amount, the component (A1) having a number average molecular weight within the above-mentioned preferable range can be obtained.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の製造工程で使用される有機溶媒に特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の含窒素化合物などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The organic solvent used in the production process of the polyphenylene ether derivative (A1) is not particularly limited, and for example, alcohols such as methanol, ethanol, butanol, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone and methyl. Ketones such as isobutyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene; esters such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, butoxyethyl acetate and ethyl acetate; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Examples thereof include nitrogen-containing compounds such as acetamide and N-methyl-2-pyrrolidone. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

また、ポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の製造工程においては、前述のとおり、必要に応じて反応触媒を使用することができる。この反応触媒としては、例えば、再現性良く安定した数平均分子量の(A1)成分を得るという観点から、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート等の有機過酸化物とナフテン酸マンガン、オクチル酸マンガン等のカルボン酸金属塩とを併用することが好ましい。また、反応触媒の使用量は特に制限はない。(A1)成分を製造する際の反応速度及びゲル化抑制の観点から、例えば、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と反応させる原料ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、有機過酸化物を0.5〜5質量部、カルボン酸金属塩を0.05〜0.5質量部としてもよい。 Further, in the production process of the polyphenylene ether derivative (A1), as described above, a reaction catalyst can be used if necessary. Examples of this reaction catalyst include organic peroxides such as t-butylperoxyisopropylmonocarbonate and manganese naphthenate, manganese octylate, etc. from the viewpoint of obtaining a component (A1) having a stable number average molecular weight with good reproducibility. It is preferable to use it in combination with a carboxylic acid metal salt. The amount of the reaction catalyst used is not particularly limited. From the viewpoint of reaction rate and suppression of gelation when producing the component (A1), for example, 100 parts by mass of the raw material polyphenylene ether to be reacted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is organically peroxidized. The compound may be 0.5 to 5 parts by mass and the carboxylic acid metal salt may be 0.05 to 0.5 parts by mass.

上記不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)、上記数平均分子量3,000〜30,000の原料ポリフェニレンエーテル、有機溶媒及び必要により反応触媒を反応器に所定量仕込み、加熱、保温、撹拌しながら反応させることによりポリフェニレンエーテル誘導体(A1)が得られる。
この工程での反応温度及び反応時間は、公知の再分配反応時における反応条件を適用でき、適宜調整すればよいが、作業性及びゲル化抑制の観点、並びに上記所望の数平均分子量の(A1)成分を得る観点から、例えば、反応温度70〜110℃、反応時間1〜8時間の条件としてもよい。
The unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1), the raw material polyphenylene ether having a number average molecular weight of 3,000 to 30,000, an organic solvent and, if necessary, a reaction catalyst are charged in a predetermined amount in a reactor, and heated and kept warm. The polyphenylene ether derivative (A1) is obtained by reacting with stirring.
The reaction temperature and reaction time in this step can be appropriately adjusted by applying the known reaction conditions at the time of the redistribution reaction, but from the viewpoint of workability and suppression of gelation, and the above-mentioned desired number average molecular weight (A1). ) From the viewpoint of obtaining the components, the conditions may be, for example, a reaction temperature of 70 to 110 ° C. and a reaction time of 1 to 8 hours.

(A1)成分の製造工程における反応中の固形分濃度[以下、反応濃度とも称する。]は、特に制限されるものではないが、例えば、10〜60質量%であってもよく、20〜50質量%であってもよい。反応濃度が10質量%以上であると、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面でより有利な傾向にあり、60質量%以下であると、より良好な溶解性が得られる傾向にあり、さらに、溶液粘度が低くて撹拌効率がよく、ゲル化し難い傾向にある。 Solid content concentration during reaction in the production process of the component (A1) [hereinafter, also referred to as reaction concentration. ] Is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 60% by mass or 20 to 50% by mass. When the reaction concentration is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow and tends to be more advantageous in terms of production cost, and when it is 60% by mass or less, better solubility tends to be obtained. Furthermore, the solution viscosity is low, the stirring efficiency is good, and gelation tends to be difficult.

以上のようにして製造されたポリフェニレンエーテル誘導体(A1)の溶液は、必要に応じて濃縮して有機溶媒の一部を除去してもよいし、有機溶媒を追加して希釈してもよい。 The solution of the polyphenylene ether derivative (A1) produced as described above may be concentrated as necessary to remove a part of the organic solvent, or may be diluted by adding an organic solvent.

本実施形態の樹脂組成物は、(A1)成分の代わりに上記原料ポリフェニレンエーテルを含有させた樹脂組成物よりも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性が優れる傾向にある。 The resin composition of the present embodiment tends to have better dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or higher than the resin composition containing the raw material polyphenylene ether instead of the component (A1).

(ポリフェニレンエーテル誘導体(A2))
(A2)成分は、エチレン性不飽和結合含有基としてマレイミド基を有するポリフェニレンエーテル誘導体であり、1分子中におけるマレイミド基の数は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、好ましくは1個以上であり、5個以下であってもよく、3個以下であってもよく、2個以下であってもよい。
(Polyphenylene ether derivative (A2))
The component (A2) is a polyphenylene ether derivative having a maleimide group as an ethylenically unsaturated bond-containing group, and the number of maleimide groups in one molecule is preferably from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher. It may be 1 or more, 5 or less, 3 or less, or 2 or less.

(A2)成分は、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、2個のマレイミド基の窒素原子同士が有機基を介して結合しているビスマレイミド由来の構造を含有するものが好ましく、下記一般式(a2−1)で表される基を有するものがより好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Ra12は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。m1は0〜4の整数である。Xa3は、下記一般式(a2−2)、(a2−3)、(a2−4)又は(a2−5)で表される2価の基である。)The component (A2) is a nitrogen atom of two maleimide groups from the viewpoints of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy. Those containing a structure derived from bismaleimide in which they are bonded to each other via an organic group are preferable, and those having a group represented by the following general formula (a2-1) are more preferable.
Figure 2020096036

(In the formula, R a12 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently. M1 is an integer of 0 to 4. X a3 is the following general formula (a2-2). ), (A2-3), (a2-4) or (a2-5) is a divalent group.

a12が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基であってもよい。また、Ra12が表すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。以上の中でも、Ra12としては炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基であってもよい。
m1は0〜4の整数であり、0〜2の整数であってもよく、0であってもよい。m1が2以上の整数である場合、複数のRa12同士は同一であっても異なっていてもよい。
a3が表す、一般式(a2−2)、(a2−3)、(a2−4)又は(a2−5)で表される2価の基は、以下のとおりである。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R a12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and an n-pentyl group. Group etc. can be mentioned. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or a methyl group. Further, examples of the halogen atom represented by Ra 12 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like. Among the above, Ra 12 may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
m1 is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 0 to 2 or 0. When m1 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra 12s may be the same or different.
The divalent groups represented by the general formulas (a2-2), (a2-3), (a2-4) or (a2-5) represented by X a3 are as follows.

Figure 2020096036

(式中、Ra13は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。m2は0〜4の整数である。)
a13が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra12の場合と同様に説明される。
m2は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。m2が2以上の整数である場合、複数のRa13同士は同一であっても異なっていてもよい。
Figure 2020096036

(Wherein, R a13 are each independently, .m2 an aliphatic hydrocarbon group, or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms is an integer of 0-4.)
Aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms R a13 represents, as the halogen atom, is described as in the case of R a12.
m2 is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 0 to 2, 0 or 1, or 0 from the viewpoint of availability. When m2 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra 13s may be the same or different.

Figure 2020096036

(式中、Ra14及びRa15は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa4は炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合、又は下記一般式(a2−3−1)で表される2価の基である。m3及びm4は各々独立に0〜4の整数である。)
a14及びRa15が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra12の場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基、エチル基であってもよく、エチル基であってもよい。
a4が表す炭素数1〜5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2−ジメチレン基、1,3−トリメチレン基、1,4−テトラメチレン基、1,5−ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、炭素数1〜3のアルキレン基であってもよく、メチレン基であってもよい。
a4が表す炭素数2〜5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、イソプロピリデン基であってもよい。
a4としては、上記選択肢の中でも、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基であってもよい。
m3及びm4は各々独立に0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は2であってもよい。m3又はm4が2以上の整数である場合、複数のRa14同士又はRa15同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
なお、Xa4が表す一般式(a2−3−1)で表される2価の基は以下のとおりである。
Figure 2020096036

(In the formula, R a14 and R a15 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms. X a4 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and 2 to 5 carbon atoms. Alkylidene group, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group, single bond, or divalent group represented by the following general formula (a2-3-1). M3 and m4 are independent of each other. Is an integer from 0 to 4.)
Aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms R a14 and R a15 are represented, as the halogen atom include the same ones as for R a12. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, or an ethyl group.
As the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which X a4 represents, for example, methylene, 1,2-dimethylene group, a 1,3-trimethylene group, 1,4-tetramethylene group, 1,5-pentamethylene group Can be mentioned. The alkylene group is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoints of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy. It may be a methylene group.
The alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms which X a4 represents, for example, ethylidene group, propylidene group, isopropylidene group, butylidene group, isobutylidene group, pentylidene group, isopentylidene group, and the like. Among these, an isopropylidene group may be used from the viewpoints of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy.
Among the above options, X a4 may be an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms.
m3 and m4 are independently integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both may be integers of 0 to 2 and may be 0 or 2. When m3 or m4 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra 14s or Ra 15s may be the same or different from each other.
The divalent group represented by the general formula (a2-3-1) represented by X a4 is as follows.

Figure 2020096036

(式中、Ra16及びRa17は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa5は炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。m5及びm6は各々独立に0〜4の整数である。)
a16及びRa17が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra14及びRa15の場合と同様に説明される。
a5が表す炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基としては、Xa4が表す炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基と同じものが挙げられる。
a5としては、上記選択肢の中から、炭素数2〜5のアルキリデン基を選択してもよい。
m5及びm6は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。m5又はm6が2以上の整数である場合、複数のRa16同士又はRa17同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, R a16 and R a17 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms. X a5 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, and an ether group. , A sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group or a single bond. M5 and m6 are independently integers of 0 to 4).
Aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms R a16 and R a17 are represented, as the halogen atom, is described as in the case of R a14 and R a15.
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a5 include the same alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a4. Be done.
As X a5 , an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms may be selected from the above options.
m5 and m6 are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, they may be integers of 0 to 2, 0 or 1, and may be 0. When m5 or m6 is an integer of 2 or more, among the plurality of R a16 each other or R a17 may each be the same or different.

Figure 2020096036

(式中、m7は0〜10の整数である。)
m7は、入手容易性の観点から、0〜5の整数であってもよく、0〜3の整数であってもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, m7 is an integer from 0 to 10.)
From the viewpoint of availability, m7 may be an integer of 0 to 5 or an integer of 0 to 3.

Figure 2020096036

(式中、Ra18及びRa19は各々独立に、水素原子又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。m8は1〜8の整数である。)
a18及びRa19が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra12の場合と同様に説明される。
m8は1〜8の整数であり、1〜3の整数であってもよく、1であってもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, R a18 and R a19 are independently hydrogen atoms or aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms. M8 is an integer of 1 to 8.)
Aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms R a18 and R a19 are represented, as the halogen atom, is described as in the case of R a12.
m8 is an integer of 1 to 8, and may be an integer of 1 to 3 or 1.

上記一般式(a2−1)で表される基の中のXa3としては、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、下記式のいずれかで表される基であることが好ましい。

Figure 2020096036
Among the groups represented by the general formula (a2-1), X a3 includes high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and From the viewpoint of flame retardancy, it is preferable that the group is represented by any of the following formulas.
Figure 2020096036

(A2)成分は、下記一般式(a2−6)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Xa3、Ra11、Ra12、n3及びm1は上記定義のとおりである。m9は1以上の整数である。)
m9は、1〜300の整数であってもよく、10〜250の整数であってもよく、30〜200の整数であってもよく、50〜150の整数であってもよい。The component (A2) is preferably a polyphenylene ether derivative represented by the following general formula (a2-6).
Figure 2020096036

(In the equation, X a3 , R a11 , R a12 , n3 and m1 are as defined above. M9 is an integer of 1 or more.)
m9 may be an integer of 1 to 300, an integer of 10 to 250, an integer of 30 to 200, or an integer of 50 to 150.

(A2)成分は、下記一般式のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体であることがより好ましい。

Figure 2020096036

(式中、m9は上記一般式(a2−6)中のm9と同じである。)The component (A2) is more preferably a polyphenylene ether derivative represented by any of the following general formulas.
Figure 2020096036

(In the formula, m9 is the same as m9 in the above general formula (a2-6).)

(A2)成分は、原材料が安価であるという観点から、上記一般式(a2−7)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体が好ましく、誘電特性に優れ、低吸水性であるという観点から、上記一般式(a2−8)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体が好ましく、導体との接着性及び機械特性(伸び、破断強度等)に優れるという観点から、上記一般式(a2−9)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体が好ましい。したがって、目的とする特性に合わせて、上記一般式(a2−7)〜(a2−9)のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体の1種を単独で又は2種以上を併用することができる。 As the component (A2), the polyphenylene ether derivative represented by the general formula (a2-7) is preferable from the viewpoint that the raw material is inexpensive, and the general formula is described from the viewpoint of excellent dielectric properties and low water absorption. The polyphenylene ether derivative represented by (a2-8) is preferable, and the polyphenylene ether represented by the above general formula (a2-9) is excellent from the viewpoint of excellent adhesion to the conductor and mechanical properties (elongation, breaking strength, etc.). Derivatives are preferred. Therefore, one of the polyphenylene ether derivatives represented by any of the above general formulas (a2-7) to (a2-9) can be used alone or in combination of two or more according to the desired characteristics. ..

〔(A2)成分の数平均分子量(Mn)〕
(A2)成分の数平均分子量としては、好ましくは4,000〜12,000、より好ましくは5,000〜10,000、さらに好ましくは6,000〜8,000である。(A2)成分の数平均分子量が4,000以上であると、より良好なガラス転移温度が得られる傾向にあり、12,000以下であると、より良好な成形性が得られる傾向にある。
[Number average molecular weight (Mn) of component (A2)]
The number average molecular weight of the component (A2) is preferably 4,000 to 12,000, more preferably 5,000 to 10,000, and even more preferably 6,000 to 8,000. When the number average molecular weight of the component (A2) is 4,000 or more, a better glass transition temperature tends to be obtained, and when it is 12,000 or less, better moldability tends to be obtained.

〔(A2)成分の製造方法〕
(A2)成分は、例えば、以下の製造方法によって得ることができる。
まず、下記一般式(a2−10)で表されるアミノフェノール化合物[以下、アミノフェノール化合物(AP)と略称することがある。]と、例えば、数平均分子量15,000〜25,000のポリフェニレンエーテルを有機溶媒中で、公知の再分配反応をさせることにより、ポリフェニレンエーテルの低分子量化を伴いながら、1分子中に第一級アミノ基を有するポリフェニレンエーテル化合物(A'')[以下、単に、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')と略称することがある。]を製造し、次いで、前記ポリフェニレンエーテル化合物(A'')と下記一般式(a2−11)で表されるビスマレイミド化合物[以下、ビスマレイミド化合物(BM)と略称することがある。]をマイケル付加反応させることによって、(A2)成分を製造することができる。
[Method for manufacturing component (A2)]
The component (A2) can be obtained, for example, by the following production method.
First, an aminophenol compound represented by the following general formula (a2-10) [hereinafter, may be abbreviated as an aminophenol compound (AP). ], For example, by subjecting a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 15,000 to 25,000 to a known redistribution reaction in an organic solvent, the first in one molecule is accompanied by a reduction in the molecular weight of the polyphenylene ether. Polyphenylene ether compound (A ″) having a secondary amino group [Hereinafter, it may be simply abbreviated as polyphenylene ether compound (A ″). ], Then, the polyphenylene ether compound (A ″) and the bismaleimide compound represented by the following general formula (a2-11) [hereinafter, may be abbreviated as the bismaleimide compound (BM). ] By the Michael addition reaction, the component (A2) can be produced.

Figure 2020096036

(式中、Ra12及びm1は、上記一般式(a2−1)中のものと同じである。)
Figure 2020096036

(In the formula, Ra12 and m1 are the same as those in the above general formula (a2-1).)

Figure 2020096036

(式中、Xa3は、上記一般式(a2−1)中のものと同じである。)
Figure 2020096036

(In the formula, X a3 is the same as that in the above general formula (a2-1).)

アミノフェノール化合物(AP)としては、例えば、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール等が挙げられる。これらの中でも、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')を製造する際の反応収率、並びに樹脂組成物、プリプレグ及び積層板とした際の耐熱性の観点から、m−アミノフェノール、p−アミノフェノールが好ましく、p−アミノフェノールがより好ましい。 Examples of the aminophenol compound (AP) include o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol and the like. Among these, m-aminophenol and p-aminophenol are selected from the viewpoints of the reaction yield when producing the polyphenylene ether compound (A ″) and the heat resistance when the resin composition, prepreg and laminated plate are used. Preferably, p-aminophenol is more preferable.

ポリフェニレンエーテル化合物(A'')の分子量は、アミノフェノール化合物(AP)の使用量によって制御でき、アミノフェノール化合物(AP)の使用量が多いほどポリフェニレンエーテル化合物(A'')は低分子量化される。つまり、最終的に製造される(A2)成分の数平均分子量が好適な範囲となるようにアミノフェノール化合物(AP)の使用量を適宜調整すればよい。
アミノフェノール化合物(AP)の配合量としては、特に制限されるものではないが、例えば、アミノフェノール化合物(AP)と反応させる上記ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が15,000〜25,000であれば、該ポリフェニレンエーテル100質量部に対して0.5〜6質量部の範囲で使用することにより、数平均分子量が4,000〜12,000である(A2)成分が得られる。
The molecular weight of the polyphenylene ether compound (A ″) can be controlled by the amount of the aminophenol compound (AP) used, and the larger the amount of the aminophenol compound (AP) used, the lower the molecular weight of the polyphenylene ether compound (A ″). NS. That is, the amount of the aminophenol compound (AP) used may be appropriately adjusted so that the number average molecular weight of the component (A2) finally produced is in a suitable range.
The blending amount of the aminophenol compound (AP) is not particularly limited, but for example, if the number average molecular weight of the polyphenylene ether to be reacted with the aminophenol compound (AP) is 15,000 to 25,000. By using the polyphenylene ether in the range of 0.5 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass, the component (A2) having a number average molecular weight of 4,000 to 12,000 can be obtained.

アミノフェノール化合物(AP)、上記数平均分子量15,000〜25,000のポリフェニレンエーテル、有機溶媒及び必要により反応触媒を反応器に所定量仕込み、加熱、保温、撹拌しながら反応させることによりポリフェニレンエーテル化合物(A'')が得られる。この工程での反応温度及び反応時間は、公知の再分配反応時における反応条件を適用でき、上記(A1)成分の製造方法における場合と同様である。また、上記製造工程で使用される有機溶媒、反応触媒、及びその使用量の好適な態様は、(A1)成分の製造方法の場合と同じである。 Aminophenol compound (AP), the above-mentioned polyphenylene ether having a number average molecular weight of 15,000 to 25,000, an organic solvent and, if necessary, a reaction catalyst are charged in a predetermined amount into a reactor, and the reaction is carried out while heating, keeping warm and stirring. Compound (A ″) is obtained. The reaction temperature and reaction time in this step can be applied to the known reaction conditions at the time of the redistribution reaction, and are the same as in the above-mentioned method for producing the component (A1). Moreover, the preferred embodiment of the organic solvent, the reaction catalyst, and the amount used thereof used in the above-mentioned production step is the same as in the case of the method for producing the component (A1).

以上のようにして製造されたポリフェニレンエーテル化合物(A'')の溶液は、そのまま連続的に次工程のポリフェニレンエーテル誘導体(A2)の製造工程に供給されてもよい。この際、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')の溶液を冷却してもよく、又は次工程の反応温度に調整してもよい。また、この溶液は必要に応じて濃縮して有機溶媒の一部を除去しても、有機溶媒を追加して希釈してもよい。 The solution of the polyphenylene ether compound (A ″) produced as described above may be continuously supplied as it is to the production step of the polyphenylene ether derivative (A2) in the next step. At this time, the solution of the polyphenylene ether compound (A ″) may be cooled, or the reaction temperature may be adjusted to the reaction temperature in the next step. In addition, this solution may be concentrated to remove a part of the organic solvent, or may be diluted by adding an organic solvent, if necessary.

(A2)成分を製造する際に用いられるビスマレイミド化合物(BM)としては、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ケトン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホン、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビフェニル、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、上記一般式(a2−7)を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、安価であるという観点からは、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンが好ましく、上記一般式(a2−8)を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、誘電特性に優れ、低吸水性であるという観点からは、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミドが好ましく、上記一般式(a2−9)を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、導体との高接着性及び機械特性(伸び、破断強度等)に優れるという観点からは、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましい。
Examples of the bismaleimide compound (BM) used in producing the component (A2) include bis (4-maleimidephenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, bis (4-maleimidephenyl) ether, and bis (4-maleimide). Phenyl) sulfone, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, 2,2-bis [4- (4-Maleimidephenoxy) phenyl] Propane, bis (4-maleimidephenyl) sulfone, bis (4-maleimidephenyl) sulfide, bis (4-maleimidephenyl) ketone, 2,2-bis [4- (4) -Maleimidephenoxy) phenyl] propane, bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] sulfone, 4,4'-bis (3-maleimidephenoxy) biphenyl, 1,6-bismaleimide- (2,2,4- Trimethyl) hexane and the like can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
Among these, bis (4-maleimidephenyl) methane is preferable from the viewpoint that a polyphenylene ether derivative containing the above general formula (a2-7) can be obtained and is inexpensive, and the above general formula (a2-8) is included. From the viewpoint that a polyphenylene ether derivative can be obtained, excellent in dielectric properties, and low water absorption, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide is preferable, and the above general formula is used. A polyphenylene ether derivative containing (a2-9) can be obtained, and from the viewpoint of high adhesion to the conductor and excellent mechanical properties (elongation, breaking strength, etc.), 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) ) Phenyl] Propane is preferred.

ビスマレイミド化合物(BM)の使用量は、アミノフェノール化合物(AP)の使用量によって決定される。アミノフェノール化合物(AP)の−NH基当量(Ta1)と、ビスマレイミド化合物(BM)のマレイミド基当量(Tb1)との当量比(Tb1/Ta1)は2〜6が好ましく、2〜4がより好ましい。上記の当量比の範囲内でビスマレイミド化合物を使用することにより、本実施形態の樹脂組成物、プリプレグ及び積層板において、より優れた耐熱性、高ガラス転移温度及び高難燃性が得られる傾向にある。The amount of the bismaleimide compound (BM) used is determined by the amount of the aminophenol compound (AP) used. The equivalent ratio (Tb1 / Ta1) of the -NH 2 equivalent (Ta1) of the aminophenol compound (AP) to the maleimide group equivalent (Tb1) of the bismaleimide compound (BM) is preferably 2 to 6, preferably 2 to 4. More preferred. By using the bismaleimide compound within the above equivalent ratio range, the resin composition, prepreg and laminated plate of the present embodiment tend to have better heat resistance, high glass transition temperature and high flame retardancy. It is in.

(A2)成分を製造する際のマイケル付加反応には、必要に応じて反応触媒を使用することもできる。反応触媒としては、特に限定されないが、例えば、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系触媒などが挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。また反応触媒の配合量は特に限定されないが、例えば、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')100質量部に対して、0.01〜5質量部である。 If necessary, a reaction catalyst can be used for the Michael addition reaction in producing the component (A2). The reaction catalyst is not particularly limited, but for example, an acidic catalyst such as p-toluenesulfonic acid; an amine such as triethylamine, pyridine or tributylamine; an imidazole compound such as methylimidazole or phenylimidazole; a phosphorus catalyst such as triphenylphosphine. And so on. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the reaction catalyst to be blended is not particularly limited, but is, for example, 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether compound (A ″).

上記ビスマレイミド化合物(BM)及び必要により反応触媒等を、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')溶液中に所定量の仕込み、加熱、保温、撹拌しながらマイケル付加反応させることにより(A2)成分が得られる。この工程での反応条件としては、作業性及びゲル化抑制の観点から、例えば、反応温度は50〜160℃、反応時間は1〜10時間の範囲であってもよい。また、この工程では前述のように有機溶媒を追加、又は濃縮して反応濃度(固形分濃度)、溶液粘度を調整することができる。追加で使用される有機溶媒としては、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')の製造工程で例示した有機溶媒が適用でき、これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、これらの中でも、溶解性の観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドを選択してもよい。 The component (A2) is obtained by adding a predetermined amount of the bismaleimide compound (BM) and, if necessary, a reaction catalyst or the like to a polyphenylene ether compound (A ″) solution, and causing a Michael addition reaction while heating, keeping warm, and stirring. Be done. The reaction conditions in this step may be, for example, a reaction temperature of 50 to 160 ° C. and a reaction time of 1 to 10 hours from the viewpoint of workability and suppression of gelation. Further, in this step, the reaction concentration (solid content concentration) and the solution viscosity can be adjusted by adding or concentrating the organic solvent as described above. As the organic solvent additionally used, the organic solvent exemplified in the production process of the polyphenylene ether compound (A ″) can be applied, and one of these may be used alone or two or more thereof may be used in combination. good. Among these, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide may be selected from the viewpoint of solubility.

(A2)成分及びポリフェニレンエーテル化合物(A'')の製造工程における反応濃度(固形分濃度)は、特に制限はないが、例えば、上記いずれの製造工程も10〜60質量%であってもよく、20〜50質量%であってもよい。反応濃度が10質量%以上であると、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面でより有利な傾向にある。また、反応温度が60質量%以下であると、より良好な溶解性が得られる傾向にある。また、溶液粘度が低く撹拌効率がよく、ゲル化することがより少なくなる傾向にある。
なお、(A2)成分を製造後は、反応器から取り出す際の作業性、(A2)成分に種々の熱硬化性樹脂を加えて、本実施形態の樹脂組成物とする際の使用状況(例えば、プリプレグの製造に適した溶液粘度、溶液濃度)等に合わせて、適宜、溶液中の有機溶媒の一部又は全部を除去して濃縮してもよく、有機溶媒を追加して希釈してもよい。追加する際の有機溶媒は特に制限はなく、上述した1種以上の有機溶媒が適用できる。
The reaction concentration (solid content concentration) in the production process of the component (A2) and the polyphenylene ether compound (A ″) is not particularly limited, but for example, any of the above production processes may be 10 to 60% by mass. It may be 20 to 50% by mass. When the reaction concentration is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow, which tends to be more advantageous in terms of production cost. Further, when the reaction temperature is 60% by mass or less, better solubility tends to be obtained. In addition, the solution viscosity is low, the stirring efficiency is good, and gelation tends to be less.
After the component (A2) is produced, the workability when taking it out from the reactor and the usage situation when various thermosetting resins are added to the component (A2) to prepare the resin composition of the present embodiment (for example). , A part or all of the organic solvent in the solution may be removed and concentrated according to the solution viscosity, solution concentration, etc. suitable for the production of the prepreg, or the organic solvent may be added and diluted. good. The organic solvent for addition is not particularly limited, and one or more of the above-mentioned organic solvents can be applied.

上記の製造工程によって得られたポリフェニレンエーテル化合物(A'')及び(A2)成分の生成は、それぞれの工程終了後に少量の試料を取り出し、GPC測定とIR測定により確認できる。
まず、ポリフェニレンエーテル化合物(A'')は、GPC測定から数平均分子量15,000〜25,000のポリフェニレンエーテルよりも分子量が低下し、且つ原材料のアミノフェノール化合物(AP)のピークが消失していること、またIR測定から3300〜3500cm−1の第一級アミノ基の出現により所望のポリフェニレンエーテル化合物(A'')が製造されていることを確認できる。次いで(A2)成分は、再沈殿により精製後、IR測定から3300〜3500cm−1の第一級アミノ基のピークの消失と、1700〜1730cm−1のマレイミドのカルボニル基のピークの出現を確認することにより、所望の(A2)成分が製造されていることを確認できる。
The formation of the polyphenylene ether compound (A ″) and the component (A2) obtained by the above production steps can be confirmed by taking out a small amount of sample after the completion of each step and measuring by GPC and IR.
First, the polyphenylene ether compound (A ″) has a lower molecular weight than the polyphenylene ether having a number average molecular weight of 15,000 to 25,000 as measured by GPC, and the peak of the raw material aminophenol compound (AP) disappears. It can be confirmed from the IR measurement that the desired polyphenylene ether compound (A ″) is produced by the appearance of the primary amino group of 3300 to 3500 cm -1. Then the component (A2), after purification by reprecipitation, confirming a primary disappearance of the peak of the amino group of 3300~3500Cm -1 from the IR measurement, the appearance of the peak of the carbonyl group of the maleimide 1700~1730Cm -1 This makes it possible to confirm that the desired component (A2) is produced.

<マレイミド化合物(B)>
マレイミド化合物(B)は、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上である。該マレイミド化合物(B)は、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を包含しない。さらに、マレイミド化合物(B)は、上記一般式(a−1)で表される構造単位を含有しないものであり、また、ポリフェニレンエーテル骨格を含有しないものである。
また、上記「その誘導体」としては、上記N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物と、後述するジアミン化合物(b2)等のアミン化合物との付加反応物などが挙げられる。
マレイミド化合物(B)としては、有機溶媒への溶解性、相容性、導体との接着性、及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物の誘導体が好ましく、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物(b1)[以下、単にマレイミド化合物(b1)又は(b1)成分と略称することがある。]由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有するポリアミノビスマレイミド化合物[以下、ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)又は(B1)成分と略称することがある。]であることがより好ましい。
なお、(b1)成分由来の構造単位及び(b2)成分由来の構造単位は、各々について、1種であってもよく、2種以上の組み合わせであってもよい。
<Maleimide compound (B)>
The maleimide compound (B) is one or more selected from the group consisting of a maleimide compound having two or more N-substituted maleimide groups and a derivative thereof. The maleimide compound (B) does not include the polyphenylene ether derivative (A). Further, the maleimide compound (B) does not contain the structural unit represented by the above general formula (a-1), and does not contain a polyphenylene ether skeleton.
In addition, examples of the above-mentioned "derivative" include an addition reaction product of the above-mentioned maleimide compound having two or more N-substituted maleimide groups and an amine compound such as a diamine compound (b2) described later.
The maleimide compound (B) has two or more N-substituted maleimide groups from the viewpoints of solubility in an organic solvent, compatibility, adhesion to a conductor, and dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher. A derivative of the maleimide compound is preferable, and the maleimide compound (b1) having two or more N-substituted maleimide groups [hereinafter, may be simply abbreviated as the maleimide compound (b1) or (b1) component. ] -Derived structural unit and a polyaminobismaleimide compound having a diamine compound (b2) -derived structural unit [hereinafter, may be abbreviated as a polyaminobismaleimide compound (B1) or (B1) component. ] Is more preferable.
The structural unit derived from the component (b1) and the structural unit derived from the component (b2) may be one kind or a combination of two or more kinds for each.

(b1)成分の具体例としては、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物であれば特に限定されないが、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン等の芳香族マレイミド化合物;1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、ピロリロン酸バインダ型長鎖アルキルビスマレイミド等の脂肪族マレイミド化合物などが挙げられる。これらの中でも、導体との接着性及び機械特性の観点から、芳香族マレイミド化合物が好ましく、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミドがより好ましい。 Specific examples of the component (b1) are not particularly limited as long as it is a maleimide compound having two or more N-substituted maleimide groups, and for example, bis (4-maleimidephenyl) methane, polyphenylmethane maleimide, and bis (4-). Maleimidephenyl) ether, bis (4-maleimidephenyl) sulfone, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, m Aromatic maleimide compounds such as −phenylene bismaleimide, 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane; 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, pyrolylic acid binder Examples thereof include aliphatic maleimide compounds such as long-chain alkylbismaleimide. Among these, aromatic maleimide compounds are preferable from the viewpoint of adhesiveness to conductors and mechanical properties, and 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane, 3,3'-dimethyl-5, and so on. 5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide is more preferred.

(b1)成分由来の構造単位としては、下記一般式(b1−1)で表される基及び下記一般式(b1−2)で表される基からなる群から選択される1種以上が挙げられる。

Figure 2020096036

(式中、Xb1は2価の有機基を示し、*は他の構造への結合位置を示す。)Examples of the structural unit derived from the component (b1) include one or more selected from the group consisting of a group represented by the following general formula (b1-1) and a group represented by the following general formula (b1-2). Be done.
Figure 2020096036

(In the formula, X b1 indicates a divalent organic group, and * indicates a bond position to another structure.)

上記一般式(b1−1)及び(b1−2)中のXb1は2価の有機基であり、(b1)成分の残基に相当する。なお、(b1)成分の残基とは、(b1)成分から結合に供された官能基、つまりマレイミド基を除いた部分の構造をいう。
b1が表す2価の有機基としては、下記一般式(b1−3)、(b1−4)、(b1−5)又は(b1−6)で表される基が挙げられる。
X b1 in the above general formulas (b1-1) and (b1-2) is a divalent organic group and corresponds to the residue of the component (b1). The residue of the component (b1) refers to the structure of the portion of the component (b1) excluding the functional group provided for binding, that is, the maleimide group.
Examples of the divalent organic group represented by X b1 include groups represented by the following general formulas (b1-3), (b1-4), (b1-5) or (b1-6).

Figure 2020096036

(式中、Rb1は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。p1は0〜4の整数である。)
b1が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基であってもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
p1は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。p1が2以上の整数である場合、複数のRb1同士は同一であっても異なっていてもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, R b1 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently. P1 is an integer of 0 to 4.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R b1 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and an n-pentyl group. Group etc. can be mentioned. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or a methyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
p1 is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 0 to 2, 0 or 1, or 0 from the viewpoint of availability. When p1 is an integer of 2 or more, the plurality of R b1s may be the same or different.

Figure 2020096036

(式中、Rb2及びRb3は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xb2は炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合、又は下記一般式(b1−4−1)で表される2価の基である。p2及びp3は各々独立に0〜4の整数である。)
b2及びRb3が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rb1の場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基、エチル基であってもよく、エチル基であってもよい。
b2が表す炭素数1〜5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2−ジメチレン基、1,3−トリメチレン基、1,4−テトラメチレン基、1,5−ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、炭素数1〜3のアルキレン基であってもよく、メチレン基であってもよい。
b2が表す炭素数2〜5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、イソプロピリデン基であってもよい。
b2としては、上記選択肢の中でも、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基であってもよい。
p2及びp3は各々独立に0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は2であってもよい。p2又はp3が2以上の整数である場合、複数のRb2同士又はRb3同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
なお、Xb2が表す一般式(b1−4−1)で表される2価の基は以下のとおりである。
Figure 2020096036

(In the formula, R b2 and R b3 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms. X b2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and 2 to 5 carbon atoms. Alkylidene group, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group, single bond, or divalent group represented by the following general formula (b1-4-1). P2 and p3 are independent of each other. Is an integer from 0 to 4.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b2 and R b3 are the same as those in the case of R b1. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, or an ethyl group.
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by X b2 include a methylene group, a 1,2-dimethylene group, a 1,3-trimethylene group, a 1,4-tetramethylene group, a 1,5-pentamethylene group and the like. Can be mentioned. The alkylene group is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoints of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy. It may be a methylene group.
Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X b2 include an ethylidene group, a propylidene group, an isopropylidene group, a butylidene group, an isobutylidene group, a pentylidene group and an isopentylidene group. Among these, an isopropylidene group may be used from the viewpoints of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy.
Among the above options, X b2 may be an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms.
p2 and p3 are independently integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both may be integers of 0 to 2 and may be 0 or 2. When p2 or p3 is an integer of 2 or more, the plurality of R b2s or R b3s may be the same or different from each other.
The divalent group represented by the general formula (b1-4-1) represented by X b2 is as follows.

Figure 2020096036

(式中、Rb4及びRb5は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xb3は炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。p4及びp5は各々独立に0〜4の整数である。)
b4及びRb5が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rb1の場合と同様に説明される。
b3が表す炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基としては、Xb2が表す炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基と同じものが挙げられる。
b3としては、上記選択肢の中から、炭素数2〜5のアルキリデン基を選択してもよい。
p4及びp5は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。p4又はp5が2以上の整数である場合、複数のRb4同士又はRb5同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, R b4 and R b5 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms. X b3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, and an ether group. , A sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group or a single bond. P4 and p5 are independently integers of 0 to 4).
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b4 and R b5 will be described in the same manner as in the case of R b1.
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X b3 include the same alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X b2. Be done.
As X b3 , an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms may be selected from the above options.
p4 and p5 are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, they may be integers of 0 to 2, 0 or 1, and may be 0. When p4 or p5 is an integer of 2 or more, the plurality of R b4s or R b5s may be the same or different from each other.

Figure 2020096036

(式中、p6は0〜10の整数である。)
p6は、入手容易性の観点から、0〜5の整数であってもよく、0〜3の整数であってもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, p6 is an integer from 0 to 10.)
From the viewpoint of availability, p6 may be an integer of 0 to 5 or an integer of 0 to 3.

Figure 2020096036

(式中、Rb6及びRb7は各々独立に、水素原子又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。p7は1〜8の整数である。)
b6及びRb7が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rb1の場合と同様に説明される。
p7は1〜8の整数であり、1〜3の整数であってもよく、1であってもよい。
Figure 2020096036

(In the formula, R b6 and R b7 are independently hydrogen atoms or aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms. P7 is an integer of 1 to 8.)
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b6 and R b7 will be described in the same manner as in the case of R b1.
p7 is an integer of 1 to 8, and may be an integer of 1 to 3 or 1.

上記一般式(b1−1)及び(b1−2)中のXb1としては、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数、難燃性、及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記式(Xb1−1)〜(Xb1−3)のいずれかで表される2価の基であることが好ましく、下記式(Xb1−3)で表される2価の基であることがより好ましい。また、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、Xb1として、下記式(Xb1−1)で表される基と下記式(Xb1−3)で表される基との両方を有していてもよいし、Xb1として、下記式(Xb1−2)で表される基と下記式(Xb1−3)で表される基との両方を有していてもよい。

Figure 2020096036

(波線は、マレイミド基中の窒素原子との結合位置を示す。) X b1 in the above general formulas (b1-1) and (b1-2) includes adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion, flame retardancy, and a high frequency band of 10 GHz band or higher. in terms of dielectric properties, is preferably a divalent group represented by any one of the following formulas (X b1 -1) ~ (X b1 -3), represented by the following formula (X b1 -3) It is more preferable that it is a divalent group. Further, both in terms of dielectric properties at high frequencies above 10GHz band, as X b1, a group represented by the group and the following formula represented by the following formula (X b1 -1) (X b1 -3) may have a, as X b1, may have both a group represented by the group and the following formula represented by the following formula (X b1 -2) (X b1 -3) ..
Figure 2020096036

(The wavy line indicates the bond position with the nitrogen atom in the maleimide group.)

マレイミド化合物(B)中における(b1)成分由来の構造単位の合計含有量は、好ましくは5〜95質量%、より好ましくは30〜93質量%、さらに好ましくは60〜90質量%、特に好ましくは75〜90質量%である。(b1)成分由来の構造単位の含有量が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性がより良好となり、且つ、良好なフィルムハンドリング性が得られる傾向にある。 The total content of the structural units derived from the component (b1) in the maleimide compound (B) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 30 to 93% by mass, still more preferably 60 to 90% by mass, and particularly preferably. It is 75 to 90% by mass. When the content of the structural unit derived from the component (b1) is within the above range, the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or higher tends to be better, and good film handling property tends to be obtained.

(b2)成分は、アミノ基を2個有する化合物であれば、特に制限はない。
(b2)成分としては、例えば、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルケトン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス〔1−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1−メチルエチル〕ベンゼン、1,4−ビス〔1−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1−メチルエチル〕ベンゼン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、3,3’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン等が挙げられる。
The component (b2) is not particularly limited as long as it is a compound having two amino groups.
Examples of the component (b2) include 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, 4,4. '-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4 '-Diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxybenzene, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3'- Dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1, 3-Bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl , 1,3-bis [1- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1-methylethyl] benzene, 1,4-bis [1- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1- Methylethyl] benzene, 4,4'-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 4,4'-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 3,3 '-[1,3-Phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 9,9- Examples thereof include bis (4-aminophenyl) fluorene.

これらの中でも、(b2)成分としては、有機溶媒への溶解性、(b1)成分との反応性、及び耐熱性に優れるという観点から、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、及び4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンが好ましい。また、(b2)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び低吸水性に優れるという観点からは、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタンが好ましい。また、(b2)成分は、導体との高接着性、伸び、破断強度等の機械特性に優れる観点からは、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましい。さらに、上記の有機溶媒への溶解性、合成時の反応性、耐熱性、導体との高接着性に優れることに加えて、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び低吸湿性に優れるという観点からは、(b2)成分は、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンが好ましい。 Among these, as the component (b2), 4,4'-diaminodiphenylmethane and 4,4'-diamino are excellent from the viewpoint of solubility in an organic solvent, reactivity with the component (b1), and heat resistance. -3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4'-[1, 3-Phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline and 4,4'-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline are preferred. Further, the component (b2) is excellent in dielectric properties and low water absorption in a high frequency band of 10 GHz or higher, and is 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane. Is preferable. The component (b2) is preferably 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane from the viewpoint of excellent mechanical properties such as high adhesiveness to a conductor, elongation, and breaking strength. Further, in addition to being excellent in solubility in the above-mentioned organic solvent, reactivity at the time of synthesis, heat resistance, and high adhesion to a conductor, it is said to be excellent in dielectric properties and low hygroscopicity in a high frequency band of 10 GHz band or higher. From the viewpoint, the component (b2) is 4,4'-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 4,4'-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)]. Bisaniline is preferred.

(b2)成分由来の構造単位としては、例えば、下記一般式(b2−1)で表される基及び下記一般式(b2−2)で表される基からなる群から選択される1種以上が挙げられる。 As the structural unit derived from the component (b2), for example, one or more selected from the group consisting of a group represented by the following general formula (b2-1) and a group represented by the following general formula (b2-2). Can be mentioned.

Figure 2020096036

(式中、Xb4は2価の有機基を示し、*は他の構造への結合位置を示す。)
Figure 2020096036

(In the formula, X b4 indicates a divalent organic group, and * indicates a bond position to another structure.)

上記一般式(b2−1)及び(b2−2)中のXb4は2価の有機基であり、(b2)成分の残基に相当する。なお、(b2)成分の残基とは、(b2)成分から結合に供された官能基、つまりアミノ基を除いた部分の構造をいう。 X b4 in the above general formulas (b2-1) and (b2-2) is a divalent organic group and corresponds to the residue of the component (b2). The residue of the component (b2) refers to the structure of the portion of the component (b2) excluding the functional group provided for binding, that is, the amino group.

上記一般式(b2−1)及び上記一般式(b2−2)中のXb4は、下記一般式(b2−3)で表される2価の基であることが好ましい。

Figure 2020096036

(式中、Rb11及びRb12は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜5のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。Xb5は、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、フルオレニレン基、単結合、又は下記一般式(b2−3−1)もしくは(b2−3−2)で表される2価の基である。p8及びp9は各々独立に0〜4の整数である。) It is preferable that X b4 in the general formula (b2-1) and the general formula (b2-2) is a divalent group represented by the following general formula (b2-3).
Figure 2020096036

(In the formula, R b11 and R b12 are independently aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms, hydroxyl groups or halogen atoms. X b5 has 1 carbon atom. An alkylene group of ~ 5, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, a fluorenylene group, a single bond, or the following general formula (b2-3-1) or ( It is a divalent group represented by b2-3-2). P8 and p9 are independently integers of 0 to 4).

Figure 2020096036

(式中、Rb13及びRb14は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xb6は炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、m−フェニレンジイソプロピリデン基、p−フェニレンジイソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。p10及びp11は各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2020096036

(In the formula, R b13 and R b14 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms. X b6 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, m-. A phenylenediisopropylidene group, a p-phenylenediisopropyridene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group or a single bond. P10 and p11 are independently integers of 0 to 4, respectively. )

Figure 2020096036

(式中、Rb15は、各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xb7及びXb8は各々独立に、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。p12は0〜4の整数である。)
Figure 2020096036

(In the formula, R b15 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently. X b7 and X b8 are independently alkylene groups having 1 to 5 carbon atoms, isopropylidene. Group, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group or single bond. P12 is an integer from 0 to 4.)

上記一般式(b2−3)、(b2−3−1)又は(b2−3−2)中のRb11、Rb12、Rb13、Rb14及びRb15が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子としては、上記一般式(b1−3)中のRb1と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基、エチル基であってもよい。
上記一般式(b2−3)、(b2−3−1)又は(b2−3−2)中のXb5及びXb6が表す炭素数1〜5のアルキレン基、並びにXb5が表す炭素数2〜5のアルキリデン基としては、上記一般式(b1−4)中のXb2の場合と同様に説明される。また、上記一般式(b2−3−2)中のXb7及びXb8が表す炭素数1〜5のアルキレン基は、上記一般式(b1−4)中のXb2の場合と同様に説明される。
p8及びp9は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は2であってもよい。p10及びp11は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。p12は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、0〜2の整数であってもよく、0であってもよい。
The general formula (b2-3), (b2-3-1) or (b2-3-2) R b11, R b12 , R b13, R b14 and aliphatic C1-5 represented by R b15 in Examples of the hydrocarbon group or halogen atom include those same as R b1 in the above general formula (b1-3). The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, or may be a methyl group or an ethyl group.
The alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by X b5 and X b6 in the general formula (b2-3), (b2-3-1) or (b2-3-2), and the carbon number 2 represented by X b5. The alkylidene group of ~ 5 will be described in the same manner as in the case of X b2 in the above general formula (b1-4). Further, the alkylene groups having 1 to 5 carbon atoms represented by X b7 and X b8 in the general formula (b2-3-2) are described in the same manner as in the case of X b2 in the general formula (b1-4). NS.
p8 and p9 are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both may be integers of 0 to 2 and may be 0 or 2. p10 and p11 are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, they may be integers of 0 to 2, 0 or 1, and may be 0. p12 is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 0 to 2 or 0 from the viewpoint of availability.

マレイミド化合物(B)中における(b2)成分由来の構造単位の合計含有量は、好ましくは5〜95質量%、より好ましくは7〜70質量%、さらに好ましくは10〜40質量%、特に好ましくは10〜25質量%である。(b2)成分由来の構造単位の合計含有量が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れ、且つより良好な耐熱性、難燃性及びガラス転移温度が得られる傾向にある。 The total content of the structural units derived from the component (b2) in the maleimide compound (B) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 7 to 70% by mass, still more preferably 10 to 40% by mass, and particularly preferably. It is 10 to 25% by mass. (B2) When the total content of the structural units derived from the components is within the above range, excellent dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or higher, and better heat resistance, flame retardancy and glass transition temperature can be obtained. There is a tendency.

マレイミド化合物(B)中における(b1)成分由来の構造単位と、(b2)成分由来の構造単位との含有比率は、マレイミド化合物(B)中における、(b2)成分の−NH基由来の基(−NHも含む)の合計当量(Ta2)と、(b1)成分に由来するマレイミド基由来の基(マレイミド基も含む)の合計当量(Ta1)との当量比(Ta2/Ta1)が、好ましくは0.05〜10、より好ましくは1〜5となる含有比率である。当量比(Ta2/Ta1)が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れ、且つより良好な耐熱性、難燃性及びガラス転移温度が得られる傾向にある。The content ratio of the structural unit derived from the component (b1) in the maleimide compound (B) to the structural unit derived from the component (b2) is derived from the -NH 2 group of the component (b2) in the maleimide compound (B). The equivalent ratio (Ta2 / Ta1) between the total equivalent (Ta2) of the group ( including -NH 2 ) and the total equivalent (Ta1) of the maleimide group-derived group (including the maleimide group) derived from the component (b1) is The content ratio is preferably 0.05 to 10, more preferably 1 to 5. When the equivalent ratio (Ta2 / Ta1) is within the above range, the dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band or higher are excellent, and better heat resistance, flame retardancy and glass transition temperature tend to be obtained.

マレイミド化合物(B)は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点、並びに有機溶媒への溶解性、導体との高接着性及び樹脂フィルムの成形性等の観点から、下記一般式(b2−4)で表されるポリアミノビスマレイミド化合物を含有することが好ましい。 The maleimide compound (B) has the following general formula (b2) from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, solubility in an organic solvent, high adhesiveness to a conductor, moldability of a resin film, and the like. It is preferable to contain the polyaminobismaleimide compound represented by -4).

Figure 2020096036

(式中、Xb1及びXb4は、上記で説明したとおりである。)
Figure 2020096036

(In the equation, X b1 and X b4 are as described above.)

(ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の製造方法)
(B1)成分は、例えば、(b1)成分と(b2)成分とを有機溶媒中で反応させることで製造することができる。
(b1)成分と(b2)成分とを反応させてポリアミノビスマレイミド化合物(B1)を製造する際には、必要に応じて反応触媒を使用することもできる。反応触媒としては、制限されるものではないが、例えば、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類;トリフェニルホスフィン等のリン系触媒などが挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、反応触媒の配合量に特に制限はないが、例えば、(b1)成分及び(b2)成分の合計量100質量部に対して、0.01〜5質量部使用すればよい。
(Method for producing polyaminobismaleimide compound (B1))
The component (B1) can be produced, for example, by reacting the component (b1) and the component (b2) in an organic solvent.
When the component (b1) and the component (b2) are reacted to produce the polyaminobismaleimide compound (B1), a reaction catalyst can be used if necessary. The reaction catalyst is not limited, for example, an acidic catalyst such as p-toluenesulfonic acid; amines such as triethylamine, pyridine and tributylamine; imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole; triphenylphosphine and the like. Phosphorus catalyst and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The amount of the reaction catalyst to be blended is not particularly limited, but for example, 0.01 to 5 parts by mass may be used with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (b1) and the component (b2).

(b1)成分、(b2)成分、必要によりその他の成分を合成釜に所定量仕込み、(b1)成分と(b2)成分とをマイケル付加反応させることにより、上記ポリアミノビスマレイミド化合物が得られる。この工程での反応条件としては、特に限定されないが、例えば、反応速度等の作業性、ゲル化抑制などの観点から、反応温度は50〜160℃が好ましく、反応時間は1〜10時間が好ましい。
また、この工程では有機溶媒を追加又は濃縮して反応原料の固形分濃度及び溶液粘度を調整することができる。反応原料の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば、好ましくは10〜90質量%、より好ましくは20〜80質量%である。反応原料の固形分濃度が10質量%以上であると、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面で有利となる傾向にある。また、反応原料の固形分濃度が90質量%以下であると、より良好な溶解性が得られ、撹拌効率が良くなり、ゲル化し難い傾向にある。
The above polyaminobismaleimide compound is obtained by charging a predetermined amount of the component (b1), the component (b2), and if necessary other components into a synthetic kettle, and carrying out a Michael addition reaction between the component (b1) and the component (b2). The reaction conditions in this step are not particularly limited, but for example, the reaction temperature is preferably 50 to 160 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 10 hours from the viewpoint of workability such as reaction rate and suppression of gelation. ..
Further, in this step, the solid content concentration and the solution viscosity of the reaction raw material can be adjusted by adding or concentrating the organic solvent. The solid content concentration of the reaction raw material is not particularly limited, but is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, for example. When the solid content concentration of the reaction raw material is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow, which tends to be advantageous in terms of production cost. Further, when the solid content concentration of the reaction raw material is 90% by mass or less, better solubility is obtained, stirring efficiency is improved, and gelation tends to be difficult.

こうして得られるポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは400〜10,000、より好ましくは500〜5,000、さらに好ましくは600〜2,000、特に好ましくは700〜1,500である。ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定される。 The number average molecular weight of the polyaminobismaleimide compound (B1) thus obtained is not particularly limited, but is preferably 400 to 10,000, more preferably 500 to 5,000, still more preferably 600 to 2,000, and particularly preferably. It is 700 to 1,500. The weight average molecular weight of the polyaminobismaleimide compound (B1) is measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.

((A)成分及び(B)成分の含有量、並びにそれらの含有割合)
本実施形態の樹脂組成物において、(A)成分の含有量に特に制限はないが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは1〜20質量部、さらに好ましくは2〜10質量部、特に好ましくは3〜7質量部である。
ここで、本明細書において、「樹脂成分」とは、(A)成分、(B)成分、(C)成分、さらに、任意に使用する(D)成分のことを指す。つまり、樹脂組成物が(D)成分を含有しない場合には、「樹脂成分」は(A)成分、(B)成分及び(C)成分を指し、樹脂組成物が(D)成分を含有する場合には、「樹脂成分」には、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分が含まれる。
(B)成分の含有量に特に制限はないが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び成形性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは10〜90質量部、より好ましくは20〜80質量部、さらに好ましくは30〜70質量部、特に好ましくは35〜60質量部である。
(A)成分と(B)成分の含有割合[(A)/(B)]に特に制限はないが、質量比で、好ましくは1/99〜80/20、より好ましくは3/97〜75/25、さらに好ましくは5/95〜70/30、よりさらに好ましくは5/95〜50/50、特に好ましくは5/95〜20/80、最も好ましくは5/95〜15/85である。含有割合[(A)/(B)]が1/99以上であると、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性が得られる傾向にあり、80/20以下であると、耐熱性、成形性及び加工性が優れる傾向にある。
(Contents of component (A) and component (B), and their content ratio)
In the resin composition of the present embodiment, the content of the component (A) is not particularly limited, but from the viewpoint of the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or higher, the total of the resin components in the resin composition is 100 parts by mass. On the other hand, it is preferably 1 part by mass or more, more preferably 1 to 20 parts by mass, further preferably 2 to 10 parts by mass, and particularly preferably 3 to 7 parts by mass.
Here, in the present specification, the "resin component" refers to the component (A), the component (B), the component (C), and the component (D) arbitrarily used. That is, when the resin composition does not contain the component (D), the "resin component" refers to the component (A), the component (B) and the component (C), and the resin composition contains the component (D). In the case, the "resin component" includes (A) component, (B) component, (C) component and (D) component.
The content of the component (B) is not particularly limited, but is preferably 10 with respect to 100 parts by mass of the total resin component in the resin composition from the viewpoint of dielectric properties and moldability in a high frequency band of 10 GHz band or higher. It is ~ 90 parts by mass, more preferably 20 to 80 parts by mass, further preferably 30 to 70 parts by mass, and particularly preferably 35 to 60 parts by mass.
The content ratio of the component (A) to the component (B) [(A) / (B)] is not particularly limited, but is preferably 1/99 to 80/20, more preferably 3/97 to 75 in terms of mass ratio. / 25, more preferably 5/95 to 70/30, even more preferably 5/95 to 50/50, particularly preferably 5/95 to 20/80, and most preferably 5/95 to 15/85. When the content ratio [(A) / (B)] is 1/99 or more, excellent dielectric properties tend to be obtained in the high frequency band of 10 GHz band or more, and when it is 80/20 or less, heat resistance, It tends to be excellent in moldability and processability.

<架橋剤(C)>
架橋剤(C)は、エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤である。
本実施形態の樹脂組成物は、架橋剤(C)を含有することにより、特に、耐熱性及び誘電特性に優れたものとなる。その要因は定かではないが、次のように予想される。
本実施形態の樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、反応性基としてエチレン性不飽和結合を有し、(A)成分同士又は(B)成分と反応して硬化物を形成し得るものである。しかしながら、(A)成分は、ポリマーであることに起因して、他成分との混和性が十分に得られなかったり、反応点となるエチレン性不飽和結合は分子鎖の末端等の一部に存在することから、他の反応性基と十分な反応性が得られない場合がある。本実施形態の樹脂組成物においては、架橋剤(C)を適用することによって、(A)成分のエチレン性不飽和結合の近傍に、(架橋剤(C)に由来する)エチレン性不飽和結合が存在する確率が高まり、(A)成分のエチレン性不飽和結合が反応し易い環境が作られていると予想される。これによって、従来よりも(A)成分の反応性が向上し、優れた耐熱性及び誘電特性が得られたものと推測される。更には、架橋剤(C)の適用によって、形成される硬化物の三次元架橋構造をより緻密化することが可能になり、より一層、優れた耐熱性及び誘電特性が得られたものと推測される。
<Crosslinking agent (C)>
The cross-linking agent (C) is a cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds.
By containing the cross-linking agent (C), the resin composition of the present embodiment is particularly excellent in heat resistance and dielectric properties. The cause is not clear, but it is expected as follows.
The polyphenylene ether derivative (A) contained in the resin composition of the present embodiment has an ethylenically unsaturated bond as a reactive group and reacts with the components (A) or with the component (B) to form a cured product. What you get. However, since the component (A) is a polymer, miscibility with other components cannot be sufficiently obtained, and the ethylenically unsaturated bond serving as a reaction point is partly located at the end of the molecular chain or the like. Due to its presence, it may not be sufficiently reactive with other reactive groups. In the resin composition of the present embodiment, by applying the cross-linking agent (C), the ethylenically unsaturated bond (derived from the cross-linking agent (C)) is placed in the vicinity of the ethylenically unsaturated bond of the component (A). It is expected that the probability of existence of the (A) component will increase, and an environment in which the ethylenically unsaturated bond of the component (A) will easily react will be created. As a result, it is presumed that the reactivity of the component (A) was improved as compared with the conventional case, and excellent heat resistance and dielectric properties were obtained. Furthermore, it is presumed that the application of the cross-linking agent (C) made it possible to further refine the three-dimensional cross-linked structure of the formed cured product, and further excellent heat resistance and dielectric properties were obtained. Will be done.

(C)成分が有するエチレン性不飽和結合は、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1−メチルアリル基、3−ブテニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;マレイミド基、(メタ)アクリロイル基等のヘテロ原子を含む置換基などに含まれる不飽和結合である。これらの中でも、(C)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、エチレン性不飽和結合を上記不飽和脂肪族炭化水素基として有するものが好ましく、ビニル基として有するものがより好ましい。 The ethylenically unsaturated bond contained in the component (C) is, for example, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a vinyl group, an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group or a 3-butenyl group; a maleimide group, (meth). It is an unsaturated bond contained in a substituent containing a hetero atom such as an acryloyl group. Among these, the component (C) preferably has an ethylenically unsaturated bond as the unsaturated aliphatic hydrocarbon group, preferably as a vinyl group, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. More preferred.

(C)成分が1分子中に有するエチレン性不飽和結合の数は、優れた耐熱性を得る観点から、好ましくは3個以上、より好ましくは5個以上、さらに好ましくは10個以上である。 The number of ethylenically unsaturated bonds contained in one molecule of the component (C) is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 10 or more, from the viewpoint of obtaining excellent heat resistance.

(C)成分としては、例えば、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロへキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、1,3−ビス(ビニルオキシ)アダマンタン、1,3,5−トリス(ビニルオキシ)アダマンタン、ビニルシクロへキセン、1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエン、1,2−ビニル基を2個以上有するブタジエン−スチレン共重合体等の2個以上のエチレン性不飽和結合をビニル基として有するモノマー又はポリマー;ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノベンジルイソシアヌレート、ビスフェノールSのジアリルエーテル、1,3−ビス(アリルオキシ)アダマンタン、1,3,5−トリス(アリルオキシ)アダマンタン、ジアリルエーテル、ビスフェノールAジアリルエーテル、2,5−ジアリルフェノールアリルエーテル、ノボラックフェノールのアリルエーテル、アリル化ポリフェニレンオキサイド等の2個以上のエチレン性不飽和結合をアリル基として有するモノマー又はポリマー;1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン等の2個以上のエチレン性不飽和結合をジイソプロペニル基として有する化合物;1,5−ヘキサジエン、1,9−デカジエン、ジシクロペンタジエン等の2個以上のエチレン性不飽和結合を有するジエン化合物などが挙げられる。
これらの中でも、他の樹脂との相容性、誘電特性、低熱膨張性及び耐熱性の観点から、2個以上のエチレン性不飽和結合をビニル基として有するポリマーが好ましく、1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエン、1,2−ビニル基を2個以上有するブタジエン−スチレン共重合体がより好ましく、1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエンがさらに好ましい。
なお、本明細書中、単に「ポリブタジエン」と記載する場合は、ブタジエンホモポリマーを意味するものとする。すなわち、(C)成分としては、1,2−ビニル基を2個以上有するブタジエンホモポリマーが好ましい。
(C)成分は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Examples of the component (C) include 1,2,4-trivinylcyclohexane, 1,4-butanediol divinyl ether, nonanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether. , Trimethylolpropantrivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, divinylbenzene, divinylbiphenyl, 1,3-bis (vinyloxy) adamantan, 1,3,5-tris (vinyloxy) adamantan, vinylcyclohexene, 1,2-vinyl group A monomer or polymer having two or more ethylenically unsaturated bonds as a vinyl group, such as polybutadiene having two or more, butadiene-styrene copolymer having two or more 1,2-vinyl groups; diallyl phthalate, triallyl triyl. Meritate, Diethylene Glycolbisallyl Carbonate, Trimethylol Propane Diallyl Ether, Trimethylol Propanetriallyl Ether, Pentaerythritol Triallyl Ether, Pentaerythritol Tetraallyl Ether, Triallyl Cyanurate, Triallyl Isocyanurate, Dialyl Monobenzyl Isocyanurate, Bisphenol S diallyl ether, 1,3-bis (allyloxy) adamantan, 1,3,5-tris (allyloxy) adamantan, diallyl ether, bisphenol A diallyl ether, 2,5-diallylphenol allyl ether, novolakphenol allyl ether, A monomer or polymer having two or more ethylenically unsaturated bonds as an allylic group, such as allylated polyphenylene oxide; Compounds having a saturated bond as a diisopropenyl group; examples thereof include diene compounds having two or more ethylenically unsaturated bonds such as 1,5-hexadiene, 1,9-decadien, and dicyclopentadiene.
Among these, a polymer having two or more ethylenically unsaturated bonds as a vinyl group is preferable from the viewpoint of compatibility with other resins, dielectric properties, low thermal expansion and heat resistance, and 1,2-vinyl groups are preferable. Polybutadiene having two or more, butadiene-styrene copolymer having two or more 1,2-vinyl groups is more preferable, and polybutadiene having two or more 1,2-vinyl groups is further preferable.
In addition, in this specification, when it simply describes as "polybutadiene", it means a butadiene homopolymer. That is, as the component (C), a butadiene homopolymer having two or more 1,2-vinyl groups is preferable.
As the component (C), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

(C)成分が1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエンである場合、ポリブタジエンを構成するブタジエン由来の全構造単位に対して、1,2−ビニル構造を有する構造単位の含有量[以下、ビニル基含有率と略称することがある。]は、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上、特に好ましくは80モル%以上、最も好ましくは85モル%以上である。同様の観点から、1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエンは、1,2−ポリブタジエンホモポリマーであることが好ましい。 When the component (C) is polybutadiene having two or more 1,2-vinyl groups, the content of the structural unit having a 1,2-vinyl structure with respect to all the structural units derived from butadiene constituting the polybutadiene [hereinafter. , Vinyl group content may be abbreviated. ] Is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, further preferably 70 mol% or more, particularly preferably 80 mol% or more, and most preferably 85 mol% or more. From the same viewpoint, the polybutadiene having two or more 1,2-vinyl groups is preferably a 1,2-polybutadiene homopolymer.

エチレン性不飽和結合を2個以上有するポリマー、好ましくは1,2−ビニル基を2個以上有するポリブタジエンの数平均分子量は、他の樹脂との相容性、誘電特性、低熱膨張性及び耐熱性の観点から、好ましくは500〜10,000、より好ましくは800〜5,000、さらに好ましくは1,000〜3,500である。また、相容性の観点からは、3,000以下であってもよく、2,500以下であってもよい。エチレン性不飽和結合を2個以上有するポリマーの数平均分子量は、実施例に記載の方法により測定することができる。 The number average molecular weight of a polymer having two or more ethylenically unsaturated bonds, preferably polybutadiene having two or more 1,2-vinyl groups, has compatibility with other resins, dielectric properties, low thermal expansion and heat resistance. From this point of view, it is preferably 500 to 10,000, more preferably 800 to 5,000, and even more preferably 1,000 to 3,500. Further, from the viewpoint of compatibility, it may be 3,000 or less, or 2,500 or less. The number average molecular weight of a polymer having two or more ethylenically unsaturated bonds can be measured by the method described in Examples.

本実施形態の樹脂組成物において、(C)成分の含有量に特に制限はないが、優れた耐熱性を得る観点、及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは5〜60質量部、より好ましくは7〜40質量部、さらに好ましくは10〜30質量部、特に好ましくは13〜20質量部である。 In the resin composition of the present embodiment, the content of the component (C) is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining excellent heat resistance and the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or higher, the resin composition is contained. It is preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 7 to 40 parts by mass, still more preferably 10 to 30 parts by mass, and particularly preferably 13 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components of.

<その他の成分>
本実施形態の樹脂組成物は、さらにその他の成分を含有してなるものであってもよい。その他の成分としては、例えば、スチレン系熱可塑性エラストマー(D)[以下、(D)成分と略称することがある。]、無機充填材(E)[以下、(E)成分と略称することがある。]、硬化促進剤(F)[以下、(F)成分と略称することがある。]及び難燃剤(G)[以下、(G)成分と略称することがある。]から選択される1種以上が挙げられる。これらを含有させることにより、積層板とした際の諸特性をさらに向上させることができる。但し、本実施形態の樹脂組成物は、所望する性能に応じて、(D)成分、(E)成分、(F)成分及び(G)成分から選択される1種以上を含有しないものであってもよい。
以下、これらの成分について詳述する。
<Other ingredients>
The resin composition of the present embodiment may further contain other components. As other components, for example, the styrene-based thermoplastic elastomer (D) [hereinafter, may be abbreviated as the component (D). ], Inorganic filler (E) [Hereinafter, it may be abbreviated as the component (E). ], Curing Accelerator (F) [Hereinafter, it may be abbreviated as the component (F). ] And the flame retardant (G) [hereinafter, may be abbreviated as the component (G). ], One or more selected from. By containing these, various characteristics when the laminated board is formed can be further improved. However, the resin composition of the present embodiment does not contain one or more selected from the component (D), the component (E), the component (F) and the component (G) according to the desired performance. You may.
Hereinafter, these components will be described in detail.

(スチレン系熱可塑性エラストマー(D))
本実施形態の樹脂組成物にスチレン系熱可塑性エラストマー(D)を含有させることにより、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、成形性、導体との接着性、はんだ耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性において良好となり、これらのバランスが良くなる傾向にある。
(D)成分としては、下記一般式(d−1)で表されるスチレン系化合物由来の構造単位(下記参照)を有する熱可塑性エラストマーであれば特に制限はなく、スチレン由来の構造単位(Rd1=水素原子、k=0)を有する熱可塑性エラストマーであってもよい。

Figure 2020096036

(式中、Rd1は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であり、Rd2は、炭素数1〜5のアルキル基である。kは、0〜5の整数である。)(Styrene-based thermoplastic elastomer (D))
By containing the styrene-based thermoplastic elastomer (D) in the resin composition of the present embodiment, the dielectric properties, moldability, adhesion to the conductor, solder heat resistance, glass transition temperature, etc. in the high frequency band of 10 GHz band or higher can be determined. The coefficient of thermal expansion and flame retardancy are good, and the balance between them tends to be good.
The component (D) is not particularly limited as long as it is a thermoplastic elastomer having a structural unit (see below) derived from a styrene compound represented by the following general formula (d-1), and the structural unit (R) derived from styrene. It may be a thermoplastic elastomer having d1 = hydrogen atom, k = 0).
Figure 2020096036

(In the formula, R d1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R d2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. K is an integer of 0 to 5.)

d1及びRd2が表す炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基等が挙げられ、炭素数1〜3のアルキル基であってもよく、メチル基であってもよい。
kは、0〜2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R d1 and R d2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and the like, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms may be used. It may be a group.
k may be an integer of 0 to 2, 0 or 1, or 0.

(D)成分が有するスチレン系化合物由来の構造単位以外の構造単位としては、ブタジエン由来の構造単位、イソプレン由来の構造単位、マレイン酸由来の構造単位、無水マレイン酸由来の構造単位等が挙げられる。
(D)成分は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記ブタジエン由来の構造単位及び上記イソプレン由来の構造単位は、水素添加されていてもよい。水素添加されている場合、ブタジエン由来の構造単位はエチレン単位とブチレン単位とが混合した構造単位となり、イソプレン由来の構造単位はエチレン単位とプロピレン単位とが混合した構造単位となる。
Examples of the structural unit other than the structural unit derived from the styrene compound (D) include a structural unit derived from butadiene, a structural unit derived from isoprene, a structural unit derived from maleic acid, a structural unit derived from maleic anhydride, and the like. ..
As the component (D), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The structural unit derived from butadiene and the structural unit derived from isoprene may be hydrogenated. When hydrogenated, the structural unit derived from butadiene is a structural unit in which ethylene units and butylene units are mixed, and the structural unit derived from isoprene is a structural unit in which ethylene units and propylene units are mixed.

(D)成分としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS、SBBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEPS)及びスチレン−無水マレイン酸共重合体(SMA)からなる群から選択される1種以上が好ましく、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS)及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEPS)からなる群から選択される1種以上がより好ましく、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS)がさらに好ましい。 As the component (D), hydrogenation of a styrene-butadiene-styrene block copolymer is performed from the viewpoints of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature and thermal expansion coefficient. One or more selected from the group consisting of (SEBS, SBBS), hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS) and styrene-maleic anhydride copolymer (SMA) is preferable, and styrene-. One or more selected from the group consisting of the hydrogenated product of the butadiene-styrene block copolymer (SEBS) and the hydrogenated product of the styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS) is more preferable, and styrene-butadiene-styrene is more preferable. A block copolymer hydrogenated product (SEBS) is more preferred.

上記SEBSにおいて、スチレン由来の構造単位の含有率[以下、スチレン含有率と略称することがある。]は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは10〜75質量%、さらに好ましくは15〜70質量%、特に好ましくは20〜50質量%である。SEBSのメルトフローレート(MFR)は、特に制限はないが、230℃、荷重2.16kgf(21.2N)の測定条件では、0.1〜20g/10minであってもよく、0.5〜15g/10minであってもよい。
SEBSの市販品としては、例えば、旭化成株式会社製のタフテック(登録商標)Hシリーズ、Mシリーズ、株式会社クラレ製のセプトン(登録商標)シリーズ、クレイトンポリマージャパン株式会社製のクレイトン(登録商標)Gポリマーシリーズ等が挙げられる。
In the above SEBS, the content of structural units derived from styrene [hereinafter, may be abbreviated as styrene content. ] Is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 75% by mass, from the viewpoints of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher, adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature and coefficient of thermal expansion. , More preferably 15 to 70% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass. The melt flow rate (MFR) of SEBS is not particularly limited, but may be 0.1 to 20 g / 10 min under the measurement conditions of 230 ° C. and a load of 2.16 kgf (21.2 N), and is 0.5 to 20 g / 10 min. It may be 15 g / 10 min.
As commercial products of SEBS, for example, Tough Tech (registered trademark) H series and M series manufactured by Asahi Kasei Corporation, Septon (registered trademark) series manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Kraton (registered trademark) G manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd. Examples include the polymer series.

(D)成分の重量平均分子量(Mw)に特に制限はないが、好ましくは12,000〜1,000,000、より好ましくは30,000〜500,000、さらに好ましくは50,000〜120,000、特に好ましくは70,000〜100,000である。重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定される。 The weight average molecular weight (Mw) of the component (D) is not particularly limited, but is preferably 12,000 to 1,000,000, more preferably 30,000 to 500,000, still more preferably 50,000 to 120, 000, particularly preferably 70,000 to 100,000. The weight average molecular weight (Mw) is measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.

本実施形態の樹脂組成物が(D)成分を含有する場合、(D)成分の含有量は特に制限されるものではないが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、(A)〜(D)成分の総和100質量部に対して、好ましくは5〜60質量部、より好ましくは10〜55質量部、さらに好ましくは15〜50質量部、特に好ましくは20〜45質量部、最も好ましくは25〜40質量部である。(D)成分の上記含有量が5質量部以上であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び耐吸湿性がより良好となる傾向にあり、60質量部以下であると、耐熱性、成形性、加工性及び難燃性がより良好となる傾向にある。 When the resin composition of the present embodiment contains the component (D), the content of the component (D) is not particularly limited, but the dielectric property in the high frequency band of 10 GHz band or more and the adhesiveness to the conductor. From the viewpoint of heat resistance, glass transition temperature and coefficient of thermal expansion, preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 55 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total components (A) to (D). It is preferably 15 to 50 parts by mass, particularly preferably 20 to 45 parts by mass, and most preferably 25 to 40 parts by mass. When the content of the component (D) is 5 parts by mass or more, the dielectric properties and moisture absorption resistance in the high frequency band of 10 GHz band or more tend to be better, and when it is 60 parts by mass or less, the heat resistance tends to be better. , Moldability, processability and flame retardancy tend to be better.

(無機充填材(E))
本実施形態の樹脂組成物に無機充填材(E)を含有させることで、低熱膨張係数、高弾性率性、耐熱性及び難燃性を向上させることができる傾向にある。
(E)成分としては、特に制限されるものではないが、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー(焼成クレー等)、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、熱膨張係数、弾性率、耐熱性及び難燃性の観点から、シリカ、アルミナ、マイカ、タルクが好ましく、シリカ、アルミナがより好ましく、シリカがさらに好ましい。シリカとしては、例えば、湿式法で製造され含水率の高い沈降シリカと、乾式法で製造され結合水等をほとんど含まない乾式法シリカが挙げられ、乾式法シリカとしては、さらに、製造法の違いにより破砕シリカ、フュームドシリカ、溶融シリカ(溶融球状シリカ)が挙げられる。
また、無機充填材(E)の形状及び粒径についても特に制限はない。例えば、粒径は、好ましくは0.01〜20μm、より好ましくは0.1〜10μmである。ここで、粒径とは、平均粒子径を指し、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めたとき、体積50%に相当する点の粒子径のことである。無機充填材(E)の粒径は、レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置等で測定することができる。
(Inorganic filler (E))
By containing the inorganic filler (E) in the resin composition of the present embodiment, there is a tendency that low thermal expansion coefficient, high elastic modulus, heat resistance and flame retardancy can be improved.
The component (E) is not particularly limited, but is, for example, silica, alumina, titanium oxide, mica, berylia, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, and hydroxide. Examples thereof include magnesium, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, clay (baked clay, etc.), talc, aluminum borate, silicon carbide and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among these, silica, alumina, mica, and talc are preferable, silica and alumina are more preferable, and silica is further preferable, from the viewpoint of thermal expansion coefficient, elastic modulus, heat resistance, and flame retardancy. Examples of silica include precipitated silica manufactured by a wet method and having a high water content, and dry silica manufactured by a dry method and containing almost no bound water or the like. Further, as dry method silica, there is a difference in manufacturing method. Examples thereof include crushed silica, fumed silica, and fused silica (molten spherical silica).
Further, the shape and particle size of the inorganic filler (E) are not particularly limited. For example, the particle size is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. Here, the particle size refers to the average particle size, and is the particle size of a point corresponding to a volume of 50% when the cumulative frequency distribution curve based on the particle size is obtained with the total volume of the particles as 100%. The particle size of the inorganic filler (E) can be measured by a particle size distribution measuring device or the like using a laser diffraction / scattering method.

本実施形態の樹脂組成物が(E)成分を含有する場合、樹脂組成物中における(E)成分の含有量は特に制限されるものではないが、熱膨張係数、弾性率、耐熱性及び難燃性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは5〜70質量部、より好ましくは15〜65質量部、さらに好ましくは20〜60質量部、特に好ましくは30〜55質量部、最も好ましくは40〜50質量部である。 When the resin composition of the present embodiment contains the component (E), the content of the component (E) in the resin composition is not particularly limited, but the thermal expansion coefficient, elasticity, heat resistance and difficulty. From the viewpoint of flammability, it is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 15 to 65 parts by mass, still more preferably 20 to 60 parts by mass, particularly preferably 20 to 60 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total resin components in the resin composition. Is 30 to 55 parts by mass, most preferably 40 to 50 parts by mass.

また、(E)成分を用いる場合、(E)成分の分散性及び(E)成分と樹脂組成物中の有機成分との密着性を向上させる目的で、必要に応じ、カップリング剤を併用してもよい。該カップリング剤としては特に限定されるものではなく、例えば、シランカップリング剤又はチタネートカップリング剤を適宜選択して用いることができる。カップリング剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、カップリング剤の使用量も特に限定されるものではなく、例えば、(E)成分100質量部に対して0.1〜5質量部としてもよく、0.5〜3質量部としてもよい。この範囲であれば、諸特性の低下が少なく、上記の(E)成分の使用による特長を効果的に発揮できる傾向にある。
なお、カップリング剤を用いる場合、樹脂組成物中に(E)成分を配合した後、カップリング剤を添加する、いわゆるインテグラルブレンド処理方式であってもよいが、予め無機充填材にカップリング剤を乾式又は湿式で表面処理した無機充填材を使用する方式が好ましい。この方法を採用することで、より効果的に(E)成分の特長を発現できる。
When the component (E) is used, a coupling agent is used in combination as necessary for the purpose of improving the dispersibility of the component (E) and the adhesion between the component (E) and the organic component in the resin composition. You may. The coupling agent is not particularly limited, and for example, a silane coupling agent or a titanate coupling agent can be appropriately selected and used. One type of coupling agent may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, the amount of the coupling agent used is not particularly limited, and may be, for example, 0.1 to 5 parts by mass or 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (E). .. Within this range, there is little deterioration in various characteristics, and there is a tendency that the features of the use of the above component (E) can be effectively exhibited.
When a coupling agent is used, a so-called integral blend treatment method may be used in which the component (E) is blended in the resin composition and then the coupling agent is added, but the coupling agent is coupled to the inorganic filler in advance. A method using an inorganic filler in which the agent is surface-treated by a dry method or a wet method is preferable. By adopting this method, the features of the component (E) can be expressed more effectively.

本実施形態において(E)成分を用いる場合、(E)成分の樹脂組成物への分散性を向上させる目的で、必要に応じ、(E)成分を予め有機溶媒中に分散させたスラリーとして用いることができる。(E)成分をスラリー化する際に使用される有機溶媒は特に制限はないが、例えば、上述した(A1)成分の製造工程で例示した有機溶媒が適用できる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。またこれらの中でも、分散性の観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。また、スラリーの固形分(不揮発分)濃度は特に制限はないが、無機充填材(E)の沈降性及び分散性の観点から、例えば、50〜80質量%であり、60〜80質量%であってもよい。 When the component (E) is used in the present embodiment, the component (E) is used as a slurry in which the component (E) is previously dispersed in an organic solvent, if necessary, for the purpose of improving the dispersibility of the component (E) in the resin composition. be able to. The organic solvent used for slurrying the component (E) is not particularly limited, and for example, the organic solvent exemplified in the above-mentioned production step of the component (A1) can be applied. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among these, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are preferable from the viewpoint of dispersibility. The solid content (nonvolatile content) concentration of the slurry is not particularly limited, but is, for example, 50 to 80% by mass and 60 to 80% by mass from the viewpoint of sedimentation and dispersibility of the inorganic filler (E). There may be.

(硬化促進剤(F))
本実施形態の樹脂組成物に硬化促進剤(F)を含有させることで、樹脂組成物の硬化性を向上させ、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、耐熱性、導体との接着性、弾性率及びガラス転移温度を向上させることができる傾向にある。
(F)成分としては、例えば、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン化合物;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、イソシアネートマスクイミダゾール(例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2−エチル−4−メチルイミダゾールの付加反応物等)等のイミダゾール化合物;第3級アミン化合物;第4級アンモニウム化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系化合物;ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン等の有機過酸化物;マンガン、コバルト、亜鉛等のカルボン酸塩などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、耐熱性、ガラス転移温度及び保存安定性の観点から、イミダゾール化合物、有機過酸化物、カルボン酸塩であってもよく、耐熱性、ガラス転移温度、弾性率及び熱膨張係数の観点から、イミダゾール化合物と、有機過酸化物又はカルボン酸塩とを併用してもよい。また、有機過酸化物の中では、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンを選択してもよく、カルボン酸塩の中では、ナフテン酸マンガンを選択してもよい。
(Curing accelerator (F))
By containing the curing accelerator (F) in the resin composition of the present embodiment, the curability of the resin composition is improved, and the dielectric properties, heat resistance, adhesion to the conductor in the high frequency band of 10 GHz band or higher, There is a tendency that the elastic modulus and the glass transition temperature can be improved.
The component (F) includes, for example, an acidic catalyst such as p-toluenesulfonic acid; an amine compound such as triethylamine, pyridine, and tributylamine; methylimidazole, phenylimidazole, isocyanate masked imidazole (for example, hexamethylenediisocyanate resin and 2-ethyl). Imidazole compounds such as -4-methylimidazole addition reaction products); tertiary amine compounds; quaternary ammonium compounds; phosphorus compounds such as triphenylphosphine; dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2, 5-bis (t-butylperoxy) hexin-3,2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, α, α'-bis ( Organic peroxides such as t-butylperoxy) diisopropylbenzene; carboxylates such as manganese, cobalt and zinc can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among these, imidazole compounds, organic peroxides, and carboxylates may be used from the viewpoints of heat resistance, glass transition temperature, and storage stability, and from the viewpoints of heat resistance, glass transition temperature, elasticity, and thermal expansion coefficient. Therefore, the imidazole compound may be used in combination with an organic peroxide or a carboxylate. Further, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene may be selected among the organic peroxides, and manganese naphthenate may be selected among the carboxylates.

本実施形態の樹脂組成物が(F)成分を含有する場合、(F)成分の含有量は特に制限されるものではないが、例えば、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.05〜8質量部、さらに好ましくは0.1〜6質量部、特に好ましくは0.5〜5質量部である。(F)成分の含有量が上記範囲であると、より良好な耐熱性及び保存安定性が得られる傾向にある。 When the resin composition of the present embodiment contains the component (F), the content of the component (F) is not particularly limited, but for example, with respect to a total of 100 parts by mass of the resin components in the resin composition. It is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 8 parts by mass, still more preferably 0.1 to 6 parts by mass, and particularly preferably 0.5 to 5 parts by mass. When the content of the component (F) is in the above range, better heat resistance and storage stability tend to be obtained.

(難燃剤(G))
本実施形態の樹脂組成物に難燃剤(G)を含有させることで、樹脂組成物の難燃性を向上させることができる傾向にある。
(G)成分としては、リン系難燃剤、金属水和物、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。環境問題の観点から、リン系難燃剤及び金属水和物であってもよい。難燃剤(G)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。さらに、必要に応じて難燃助剤を含有させてもよい。
(Flame retardant (G))
By containing the flame retardant (G) in the resin composition of the present embodiment, the flame retardancy of the resin composition tends to be improved.
Examples of the component (G) include phosphorus-based flame retardants, metal hydrates, halogen-based flame retardants and the like. From the viewpoint of environmental problems, phosphorus-based flame retardants and metal hydrates may be used. As the flame retardant (G), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, a flame retardant aid may be contained if necessary.

−リン系難燃剤−
リン系難燃剤としては、一般的に難燃剤として使用されるもののうち、リン原子を含有するものであれば特に制限はなく、無機系のリン系難燃剤であってもよいし、有機系のリン系難燃剤であってもよい。なお、環境問題の観点から、ハロゲン原子を含有しないものが好ましい。10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点からは、有機系のリン系難燃剤であってもよい。
無機系のリン系難燃剤としては、例えば、赤リン;リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム;リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物;リン酸;ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
有機系のリン系難燃剤としては、例えば、芳香族リン酸エステル、1置換ホスホン酸ジエステル、2置換ホスフィン酸エステル、2置換ホスフィン酸の金属塩、有機系含窒素リン化合物、環状有機リン化合物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族リン酸エステル化合物、2置換ホスフィン酸の金属塩が好ましい。ここで、金属塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであってもよく、アルミニウム塩であってもよい。また、有機系のリン系難燃剤の中では、芳香族リン酸エステルが好ましい。
-Phosphorus flame retardant-
The phosphorus-based flame retardant is not particularly limited as long as it contains a phosphorus atom among those generally used as a flame retardant, and may be an inorganic phosphorus-based flame retardant or an organic-based flame retardant. It may be a phosphorus flame retardant. From the viewpoint of environmental problems, those containing no halogen atom are preferable. From the viewpoints of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz band or higher, adhesiveness to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy, an organic phosphorus flame retardant may be used.
Examples of the inorganic phosphorus-based flame retardant include red phosphorus; ammonium phosphate such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate; and inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as phosphate amide. ; Phosphoric acid; phosphine oxide and the like.
Examples of the organic phosphorus-based flame retardant include aromatic phosphoric acid ester, mono-substituted phosphonic acid diester, 2-substituted phosphinic acid ester, metal salt of 2-substituted phosphinic acid, organic nitrogen-containing phosphorus compound, and cyclic organic phosphorus compound. Can be mentioned. Among these, aromatic phosphoric acid ester compounds and metal salts of disubstituted phosphinic acid are preferable. Here, the metal salt may be any of a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, a calcium salt, a magnesium salt, an aluminum salt, a titanium salt, and a zinc salt, and may be an aluminum salt. Among the organic phosphorus-based flame retardants, aromatic phosphoric acid esters are preferable.

芳香族リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジルジ−2,6−キシレニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、1,3−フェニレンビス(ジ−2,6−キシレニルホスフェート)、ビスフェノールA−ビス(ジフェニルホスフェート)、1,3−フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)等が挙げられる。
1置換ホスホン酸ジエステルとしては、例えば、フェニルホスホン酸ジビニル、フェニルホスホン酸ジアリル、フェニルホスホン酸ビス(1−ブテニル)等が挙げられる。
2置換ホスフィン酸エステルとしては、例えば、ジフェニルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル等が挙げられる。
2置換ホスフィン酸の金属塩としては、ジアルキルホスフィン酸の金属塩、ジアリルホスフィン酸の金属塩、ジビニルホスフィン酸の金属塩、ジアリールホスフィン酸の金属塩等が挙げられる。これら金属塩は、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであってもよく、アルミニウム塩を選択してもよい。
有機系含窒素リン化合物としては、例えば、ビス(2−アリルフェノキシ)ホスファゼン、ジクレジルホスファゼン等のホスファゼン化合物;リン酸メラミン;ピロリン酸メラミン;ポリリン酸メラミン;ポリリン酸メラムなどが挙げられる。
環状有機リン化合物としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族リン酸エステル、2置換ホスフィンが好ましく、1,3−フェニレンビス(ジ−2,6−キシレニルホスフェート)及びジアルキルホスフィン酸のアルミニウム塩が好ましい。
Examples of the aromatic phosphate ester include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresildiphenyl phosphate, cresildi-2,6-xylenyl phosphate, resorcinol bis (diphenyl phosphate), 1,3. -Phenylene bis (di-2,6-xylenyl phosphate), bisphenol A-bis (diphenyl phosphate), 1,3-phenylene bis (diphenyl phosphate) and the like can be mentioned.
Examples of the mono-substituted phosphonic acid diester include divinyl phenylphosphonate, diallyl phenylphosphonate, and bis (1-butenyl) phenylphosphonate.
Examples of the disubstituted phosphinic acid ester include phenyl diphenylphosphinate and methyl diphenylphosphinate.
Examples of the metal salt of disubstituted phosphinic acid include a metal salt of dialkylphosphinic acid, a metal salt of diallylphosphinic acid, a metal salt of divinylphosphinic acid, and a metal salt of diarylphosphinic acid. These metal salts may be any of lithium salt, sodium salt, potassium salt, calcium salt, magnesium salt, aluminum salt, titanium salt and zinc salt, and aluminum salt may be selected.
Examples of the organic nitrogen-containing phosphorus compound include phosphazene compounds such as bis (2-allylphenoxy) phosphazene and dicredylphosphazene; melamine phosphate; melamine pyrophosphate; melamine polyphosphate; and melam polyphosphate.
As the cyclic organic phosphorus compound, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10- Examples thereof include phosphaphenanthrene-10-oxide.
Among these, aromatic phosphate ester and disubstituted phosphine are preferable, and aluminum salts of 1,3-phenylenebis (di-2,6-xylenyl phosphate) and dialkylphosphinic acid are preferable.

−金属水和物−
金属水和物としては、例えば、水酸化アルミニウムの水和物、水酸化マグネシウムの水和物等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。該金属水酸化物は無機充填材にも該当し得るが、難燃性を付与し得る材料の場合には難燃剤に分類する。
−ハロゲン系難燃剤−
ハロゲン系難燃剤としては、塩素系難燃剤、臭素系難燃剤等が挙げられる。塩素系難燃剤としては、例えば、塩素化パラフィン等が挙げられる。
-Metal hydrate-
Examples of the metal hydrate include aluminum hydroxide hydrate and magnesium hydroxide hydrate. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The metal hydroxide may also correspond to an inorganic filler, but if it is a material that can impart flame retardancy, it is classified as a flame retardant.
-Halogen flame retardant-
Examples of the halogen-based flame retardant include chlorine-based flame retardants and brominated flame retardants. Examples of the chlorine-based flame retardant include chlorinated paraffin and the like.

本実施形態の樹脂組成物が(G)成分を含有する場合、(G)成分としてリン系難燃剤を用いるときは、樹脂組成物中のリン系難燃剤の含有量は特に制限されるものではないが、例えば、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、リン原子換算で、好ましくは0.2〜5質量部、より好ましくは0.3〜4質量部、さらに好ましくは0.5〜3質量部である。リン原子の含有量が0.2質量部以上であると、より良好な難燃性が得られる傾向にあり、5質量部以下であると、より良好な成形性、導体との高接着性、優れた耐熱性及び高ガラス転移温度が得られる傾向にある。 When the resin composition of the present embodiment contains the component (G), when a phosphorus-based flame retardant is used as the component (G), the content of the phosphorus-based flame retardant in the resin composition is not particularly limited. However, for example, with respect to 100 parts by mass of the total resin components in the resin composition, in terms of phosphorus atoms, it is preferably 0.2 to 5 parts by mass, more preferably 0.3 to 4 parts by mass, and even more preferably. It is 0.5 to 3 parts by mass. When the phosphorus atom content is 0.2 parts by mass or more, better flame retardancy tends to be obtained, and when it is 5 parts by mass or less, better moldability and high adhesion to the conductor are obtained. Excellent heat resistance and high glass transition temperature tend to be obtained.

本実施形態の樹脂組成物には、さらに必要に応じて、上記各成分以外の熱可塑性樹脂、エラストマー等の樹脂材料、並びに、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、顔料、着色剤、難燃助剤、滑剤等を適宜選択して含有させることができる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、これらの使用量は特に限定されるものではなく、本発明の効果を阻害しない範囲で使用すればよい。 If necessary, the resin composition of the present embodiment includes a thermoplastic resin other than the above components, a resin material such as an elastomer, a coupling agent, an antioxidant, a heat stabilizer, an antistatic agent, and ultraviolet rays. Absorbents, pigments, colorants, flame retardant aids, lubricants and the like can be appropriately selected and contained. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The amount of these used is not particularly limited, and may be used within a range that does not impair the effects of the present invention.

(有機溶媒)
本実施形態の樹脂組成物は、希釈することによって取り扱いを容易にするという観点及び後述するプリプレグを製造し易くする観点から、有機溶媒を含有させてもよい。有機溶媒を含有させた樹脂組成物は、一般的に、樹脂ワニス又はワニスと称されることがある。
該有機溶媒としては、特に制限されないが、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶媒;ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶媒;γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒などが挙げられる。
これらの中でも、溶解性の観点から、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、窒素原子含有溶媒が好ましく、ケトン系溶媒がより好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンがさらに好ましく、メチルエチルケトンが特に好ましい。
有機溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Organic solvent)
The resin composition of the present embodiment may contain an organic solvent from the viewpoint of facilitating handling by diluting and from the viewpoint of facilitating the production of a prepreg described later. The resin composition containing an organic solvent may be generally referred to as a resin varnish or a varnish.
The organic solvent is not particularly limited, and is, for example, an alcohol solvent such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether; a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; tetrahydrofuran. Etc. Ether-based solvent; Aromatic solvent such as toluene, xylene, mesityrene; Nitrogen atom-containing solvent such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone; Sulfur atom-containing solvent such as dimethylsulfooxide; Examples include system solvents.
Among these, from the viewpoint of solubility, an alcohol solvent, a ketone solvent, and a nitrogen atom-containing solvent are preferable, a ketone solvent is more preferable, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are further preferable, and methyl ethyl ketone is particularly preferable.
As the organic solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

本実施形態の樹脂組成物が有機溶媒を含有する場合、その固形分濃度は、例えば、30〜90質量%であり、35〜80質量%であってもよく、40〜60質量%であってもよい。固形分濃度が上記の範囲内である樹脂組成物を用いることで、取り扱い性が容易となり、さらに基材への含浸性及び製造されるプリプレグの外観が良好で、後述するプリプレグ中の樹脂の固形分濃度の調整が容易となり、所望の厚みを有するプリプレグの製造がより容易となる傾向にある。 When the resin composition of the present embodiment contains an organic solvent, the solid content concentration thereof is, for example, 30 to 90% by mass, 35 to 80% by mass, or 40 to 60% by mass. May be good. By using a resin composition having a solid content concentration within the above range, the handleability is facilitated, the impregnation property into the base material and the appearance of the produced prepreg are good, and the solid resin in the prepreg described later is used. The component concentration tends to be easily adjusted, and the production of a prepreg having a desired thickness tends to be easier.

本実施形態の樹脂組成物は、(A)成分、(B)成分、(C)成分、必要に応じて併用されるその他の成分を公知の方法で混合し、本実施形態の樹脂組成物を得ることができる。この際、撹拌しながら各成分を溶解又は分散させてもよい。混合順序、温度、時間等の条件は、特に限定されず任意に設定することができる。 In the resin composition of the present embodiment, the component (A), the component (B), the component (C), and other components used in combination as necessary are mixed by a known method to obtain the resin composition of the present embodiment. Obtainable. At this time, each component may be dissolved or dispersed while stirring. Conditions such as mixing order, temperature, and time are not particularly limited and can be set arbitrarily.

本実施形態の樹脂組成物は相容性が良好であり、1日放置しても析出物は生じない傾向にある。また、より相容性が優れた態様においては、1週間放置しても析出物が生じない(但し、相分離することはある。)傾向にあり、さらに相容性が優れた態様においては、1週間放置しても、相分離さえしない傾向にある。 The resin composition of the present embodiment has good compatibility and tends not to form a precipitate even if left for one day. Further, in a mode having better compatibility, there is a tendency that no precipitate is formed even if left for one week (however, phase separation may occur), and in a mode having further excellent compatibility, there is a tendency that no precipitate is formed. Even if left for a week, there is a tendency that even phase separation does not occur.

本実施形態の樹脂組成物の硬化物(ガラスクロス等の繊維基材を含まない積層体及び樹脂フィルムの硬化物)の10GHzにおける誘電率(Dk)は、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.8以下である。上記誘電率(Dk)は小さい程好ましく、その下限値に特に制限はないが、他の物性とのバランスを考慮して、例えば、2.4以上であってもよく、2.6以上であってもよい。
本実施形態の樹脂組成物の硬化物(ガラスクロス等の繊維基材を含まない積層体及び樹脂フィルムの硬化物)の10GHzにおける誘電正接(Df)は、好ましくは0.0055以下、より好ましくは0.0050以下、さらに好ましくは0.0045以下、特に好ましくは0.0035以下、最も好ましくは0.0030以下である。上記誘電正接(Df)は小さい程好ましく、その下限値に特に制限はないが、他の物性とのバランスを考慮して、例えば、0.0015以上であってもよく、0.0020以上であってもよく、0.0023以上であってもよい。
なお、誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)は、空洞共振器摂動法に準拠した値であり、より詳細には、実施例に記載する方法によって測定された値である。また、本明細書において、単に誘電率というとき、比誘電率を意味する。
The dielectric constant (Dk) of the cured product of the resin composition of the present embodiment (a cured product of a laminate and a resin film that does not contain a fiber base material such as glass cloth) at 10 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably. It is 2.8 or less. The smaller the dielectric constant (Dk) is, the more preferable it is, and the lower limit thereof is not particularly limited. However, in consideration of the balance with other physical properties, for example, it may be 2.4 or more, or 2.6 or more. You may.
The dielectric positive contact (Df) of the cured product of the resin composition of the present embodiment (a laminated body not containing a fiber base material such as glass cloth and a cured product of a resin film) at 10 GHz is preferably 0.0055 or less, more preferably 0.0055 or less. It is 0.0050 or less, more preferably 0.0045 or less, particularly preferably 0.0035 or less, and most preferably 0.0030 or less. The smaller the dielectric loss tangent (Df) is, the more preferable it is, and the lower limit value thereof is not particularly limited. However, in consideration of the balance with other physical properties, for example, it may be 0.0015 or more, and 0.0020 or more. It may be 0.0023 or more.
The dielectric constant (Dk) and the dielectric loss tangent (Df) are values based on the cavity resonator perturbation method, and more specifically, they are values measured by the method described in Examples. Further, in the present specification, the term "dielectric constant" means the relative permittivity.

[プリプレグ]
本発明は、本実施形態の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを含有してなるプリプレグも提供する。該プリプレグは、本実施形態の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを用いて形成され、例えば、本実施形態の樹脂組成物を、シート状繊維補強基材に含浸又は塗工し、乾燥させることによって得ることができる。より具体的には、例えば、乾燥炉中で通常、80〜200℃の温度で、1〜30分間加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させることにより本実施形態のプリプレグを製造することができる。樹脂組成物の使用量は、乾燥後のプリプレグ中の樹脂組成物由来の固形分濃度が30〜90質量%となるように決定することができる。固形分濃度を上記範囲とすることで、積層板とした際により良好な成形性が得られる傾向にある。
[Prepreg]
The present invention also provides a prepreg containing the resin composition of the present embodiment and a sheet-like fiber reinforced base material. The prepreg is formed by using the resin composition of the present embodiment and the sheet-shaped fiber reinforced base material. For example, the resin composition of the present embodiment is impregnated or coated on the sheet-shaped fiber reinforced base material and dried. It can be obtained by letting it. More specifically, for example, the prepreg of the present embodiment can be produced by heating and drying in a drying oven at a temperature of 80 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes and semi-curing (B-stage). can. The amount of the resin composition used can be determined so that the solid content concentration derived from the resin composition in the prepreg after drying is 30 to 90% by mass. By setting the solid content concentration in the above range, better moldability tends to be obtained when the laminated board is formed.

プリプレグのシート状繊維補強基材としては、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている公知のものが用いられる。シート状補強基材の材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等の無機物繊維;ポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;これらの混合物などが挙げられる。これらのシート状補強基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有する。また、シート状繊維補強基材の厚みは特に制限されず、例えば、0.02〜0.5mmのものを用いることができる。また、樹脂組成物の含浸性、積層板とした際の耐熱性、耐吸湿性、及び加工性の観点から、カップリング剤等で表面処理したもの、及び機械的に開繊処理を施したものを使用できる。 As the sheet-shaped fiber reinforced base material of the prepreg, known materials used for various laminated boards for electrical insulating materials are used. Examples of the material of the sheet-shaped reinforcing base material include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass and Q glass; organic fibers such as polyimide, polyester and tetrafluoroethylene; and a mixture thereof. These sheet-shaped reinforcing base materials have shapes such as woven fabrics, non-woven fabrics, robinks, chopped strand mats, and surfaced mats. Further, the thickness of the sheet-shaped fiber reinforced base material is not particularly limited, and for example, one having a thickness of 0.02 to 0.5 mm can be used. Further, from the viewpoints of impregnation property of the resin composition, heat resistance when formed into a laminated board, moisture absorption resistance, and processability, those surface-treated with a coupling agent or the like, and those subjected to mechanical opening treatment. Can be used.

樹脂組成物をシート状補強基材に含浸又は塗工させる方法としては、次のホットメルト法又はソルベント法を採用できる。
ホットメルト法は、樹脂組成物に有機溶媒を含有させず、(1)該樹脂組成物との剥離性の良い塗工紙に一旦コーティングし、それをシート状補強基材にラミネートする方法、又は(2)ダイコーターによりシート状補強基材に直接塗工する方法である。
一方、ソルベント法は、樹脂組成物に有機溶媒を含有させ、得られた樹脂組成物にシート状補強基材を浸漬して、樹脂組成物をシート状補強基材に含浸させ、その後、乾燥させる方法である。
The following hot melt method or solvent method can be adopted as a method for impregnating or coating the sheet-shaped reinforcing base material with the resin composition.
The hot melt method is a method in which the resin composition does not contain an organic solvent, and (1) a coating paper having good peelability from the resin composition is once coated and then laminated on a sheet-like reinforcing base material. (2) This is a method of directly coating a sheet-shaped reinforcing base material with a die coater.
On the other hand, in the solvent method, the resin composition is impregnated with an organic solvent, the sheet-shaped reinforcing base material is immersed in the obtained resin composition, the sheet-shaped reinforcing base material is impregnated with the resin composition, and then the sheet-shaped reinforcing base material is dried. The method.

[樹脂フィルム]
本発明は、本実施形態の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルムも提供する。例えば、有機溶媒を含有する樹脂組成物、つまり樹脂ワニスを支持体へ塗布し、加熱乾燥させることによって、該樹脂フィルムを製造することができる。支持体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィンのフィルム;ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」ともいう)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルのフィルム;ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等の各種プラスチックフィルムなどが挙げられる。また、支持体として、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔、離型紙などを使用してもよい。支持体には、マット処理、コロナ処理等の表面処理が施してあってもよい。また、支持体には、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等による離型処理が施してあってもよい。
支持体の厚さは、特に限定されないが、好ましくは10〜150μm、より好ましくは25〜50μmである。
[Resin film]
The present invention also provides a resin film containing the resin composition of the present embodiment. For example, the resin film can be produced by applying a resin composition containing an organic solvent, that is, a resin varnish, to a support and heat-drying the support. Examples of the support include a polyolefin film such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride; a polyester film such as polyethylene terephthalate (hereinafter, also referred to as “PET”) and polyethylene naphthalate; and various plastics such as a polycarbonate film and a polyimide film. Examples include film. Further, as the support, a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil, a paper pattern, or the like may be used. The support may be subjected to surface treatment such as matte treatment or corona treatment. Further, the support may be subjected to a mold release treatment with a silicone resin-based mold release agent, an alkyd resin-based mold release agent, a fluororesin-based mold release agent, or the like.
The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 μm, more preferably 25 to 50 μm.

支持体に樹脂ワニスを塗布する方法に特に制限はなく、例えば、コンマコーター、バーコーター、キスコーター、ロールコーター、グラビアコーター、ダイコーター等の当業者に公知の塗工装置を用いることができる。これらの塗工装置は、膜厚によって、適宜選択すればよい。
乾燥温度及び乾燥時間は、有機溶媒の使用量、及び使用する有機溶媒の沸点等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、40〜60質量%程度の有機溶媒を含有する樹脂ワニスの場合、50〜150℃で3〜10分間程度乾燥させることにより、樹脂フィルムを好適に形成することができる。
The method of applying the resin varnish to the support is not particularly limited, and for example, a coating device known to those skilled in the art such as a comma coater, a bar coater, a kiss coater, a roll coater, a gravure coater, and a die coater can be used. These coating devices may be appropriately selected depending on the film thickness.
The drying temperature and drying time may be appropriately determined according to the amount of the organic solvent used, the boiling point of the organic solvent used, and the like. For example, in the case of a resin varnish containing an organic solvent of about 40 to 60% by mass, the drying temperature and the drying time may be determined. A resin film can be suitably formed by drying at 50 to 150 ° C. for about 3 to 10 minutes.

[積層板]
本実施形態のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板を製造することもできる。具体的には、本実施形態のプリプレグ1枚の片面もしくは両面に金属箔を配置するか、又は本実施形態のプリプレグ2枚以上を重ねて得られるプリプレグの片面もしくは両面に金属箔を配置し、次いで加熱加圧成形することによって積層板を得ることができる。金属箔を有する積層板は、金属張積層板と称されることもある。
金属箔の金属としては、電気絶縁材料用途で用いられるものであれば特に制限されないが、導電性の観点から、銅、金、銀、ニッケル、白金、モリブデン、ルテニウム、アルミニウム、タングステン、鉄、チタン、クロム、又はこれらの金属元素を1種以上含有する合金であってもよく、銅、アルミニウムが好ましく、銅がより好ましい。
加熱加圧成形の条件は特に制限されるものではないが、例えば、温度が100〜300℃、圧力が0.2〜10MPa、時間が0.1〜5時間の範囲で実施することができる。また、加熱加圧成形は、真空プレス等を用いて真空状態を0.5〜5時間保持する方法を採用できる。
[Laminated board]
It is also possible to manufacture a laminated board containing the prepreg and the metal foil of the present embodiment. Specifically, the metal foil is arranged on one side or both sides of one prepreg of the present embodiment, or the metal foil is arranged on one side or both sides of the prepreg obtained by stacking two or more prepregs of the present embodiment. Next, a laminated plate can be obtained by heat and pressure molding. A laminated board having a metal foil is sometimes referred to as a metal-clad laminated board.
The metal of the metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating material, but from the viewpoint of conductivity, copper, gold, silver, nickel, platinum, molybdenum, ruthenium, aluminum, tungsten, iron, titanium. , Chromium, or an alloy containing one or more of these metal elements, preferably copper and aluminum, and more preferably copper.
The conditions for heat and pressure molding are not particularly limited, but for example, the temperature can be 100 to 300 ° C., the pressure can be 0.2 to 10 MPa, and the time can be 0.1 to 5 hours. Further, for the heat and pressure molding, a method of holding the vacuum state for 0.5 to 5 hours using a vacuum press or the like can be adopted.

[多層プリント配線板]
本実施形態の多層プリント配線板は、本実施形態のプリプレグ、本実施形態の樹脂フィルム及び本実施形態の積層板からなる群から選択される1種以上を含有してなるものである。本実施形態の多層プリント配線板は、本実施形態のプリプレグ、本実施形態の樹脂フィルム及び本実施形態の積層板からなる群から選択される1種以上を用いて、公知の方法によって、穴開け加工、金属めっき加工、金属箔のエッチング等による回路形成加工及び多層化接着加工を行うことによって製造することができる。
[Multilayer printed wiring board]
The multilayer printed wiring board of the present embodiment contains one or more selected from the group consisting of the prepreg of the present embodiment, the resin film of the present embodiment, and the laminated board of the present embodiment. The multilayer printed wiring board of the present embodiment is drilled by a known method using one or more selected from the group consisting of the prepreg of the present embodiment, the resin film of the present embodiment, and the laminated board of the present embodiment. It can be manufactured by performing circuit forming processing such as processing, metal plating processing, etching of metal foil, and multi-layer bonding processing.

本実施形態の樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム及び多層プリント配線板は、10GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いることができる。特に、多層プリント配線板は、ミリ波レーダー用多層プリント配線板として有用である。 The resin composition, prepreg, laminated board, resin film and multilayer printed wiring board of the present embodiment can be suitably used for electronic devices that handle high frequency signals of 10 GHz or higher. In particular, the multilayer printed wiring board is useful as a multilayer printed wiring board for millimeter-wave radar.

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、これらは本発明の説明のための例示であり、本発明の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。 Although preferred embodiments of the present invention have been described above, these are examples for explaining the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The present invention can be carried out in various aspects different from the above-described embodiment without departing from the gist thereof.

以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

なお、各例において、数平均分子量は以下の手順で測定した。
(数平均分子量の測定方法)
数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type;A−2500、A−5000、F−1、F−2、F−4、F−10、F−20、F−40)[東ソー株式会社製、商品名]を用いて3次式で近似した。GPCの測定条件を、以下に示す。
装置:
ポンプ:L−6200型[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
検出器:L−3300型RI[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラムオーブン:L−655A−52[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラム:ガードカラム;TSK Guardcolumn HHR−L+カラム;TSKgel G4000HHR+TSKgel G2000HHR(すべて東ソー株式会社製、商品名)
カラムサイズ:6.0×40mm(ガードカラム)、7.8×300mm(カラム)
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:30mg/5mL
注入量:20μL
流量:1.00mL/分
測定温度:40℃
In each example, the number average molecular weight was measured by the following procedure.
(Measurement method of number average molecular weight)
The number average molecular weight was converted from the calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The calibration curve is standard polystyrene: TSK standard POLYSTYRENE (Type; A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation, Product name] was used for approximation by a cubic equation. The measurement conditions of GPC are shown below.
Device:
Pump: L-6200 type [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Detector: L-3300 type RI [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column oven: L-655A-52 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column: Guard column; TSK Guardcolum HHR-L + column; TSKgel G4000HHR + TSKgel G2000HHR (all manufactured by Tosoh Corporation, trade name)
Column size: 6.0 x 40 mm (guard column), 7.8 x 300 mm (column)
Eluent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 30 mg / 5 mL
Injection volume: 20 μL
Flow rate: 1.00 mL / min Measurement temperature: 40 ° C

[製造例A−1:ポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、ポリフェニレンエーテル「ザイロン(登録商標)S203A」(商品名、旭化成株式会社製、数平均分子量=12,000)、及び下記一般式(1)で表されるアリル基含有化合物[以下、テトラアリルビスフェノール類と略称することがある。]を投入し、90〜100℃で撹拌しながら溶解した。なお、トルエンの使用量は反応濃度が35質量%になる量とした。

Figure 2020096036

(式中、Xa2は2価の有機基であり、上記一般式(a1−5)中のXa2と同様に説明される。)[Production Example A-1: Production of Polyphenylene Ether Derivative (A-1)]
Toluene, polyphenylene ether "Zylon (registered trademark) S203A" (trade name, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., number average molecular weight) in a glass flask container with a volume of 2 L that can be heated and cooled equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer. = 12,000), and an allyl group-containing compound represented by the following general formula (1) [hereinafter, may be abbreviated as tetraallyl bisphenols. ] Was added and dissolved with stirring at 90 to 100 ° C. The amount of toluene used was such that the reaction concentration was 35% by mass.
Figure 2020096036

(In the formula, X a2 is a divalent organic group and is described in the same manner as X a2 in the above general formula (a1-5).)

上記アリル基含有化合物が溶解したことを目視で確認後、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート及びオクチル酸マンガンを添加し、溶液温度90〜100℃で6時間、再分配反応させた後、40℃に冷却して、分子末端にアリル基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)を得た。この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、テトラアリルビスフェノール類に由来するダブルピークがシングルピークとなり、且つポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は4,200であった。
各成分の使用量を表1に示す。
After visually confirming that the allyl group-containing compound was dissolved, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and manganese octylate were added, and the solution was redistributed at a solution temperature of 90 to 100 ° C. for 6 hours, and then brought to 40 ° C. After cooling, a polyphenylene ether derivative (A-1) having an allyl group at the molecular terminal was obtained. When a small amount of this reaction solution was taken out and GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran) was performed, the double peak derived from tetraallyl bisphenols became a single peak, and the number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 4,200. there were.
The amount of each component used is shown in Table 1.

[製造例A−2:ポリフェニレンエーテル誘導体(A−2)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、ポリフェニレンエーテル「ザイロン(登録商標)S202A」(商品名、旭化成株式会社製、数平均分子量=16,000)、及びp−アミノフェノールを投入し、90℃で撹拌しながら溶解した。なお、トルエンの使用量は反応濃度が35質量%になる量とした。
溶解したことを目視で確認後、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート及びナフテン酸マンガンを添加し、溶液温度90℃で4時間、再分配反応させた後、70℃に冷却して分子末端に第一級アミノ基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を得た。ここで、この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、p−アミノフェノールに由来するピークが消失し、且つポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は約6,200であった。また少量取り出した反応溶液をメタノール/ベンゼン混合溶媒(混合質量比=1:1)に滴下し、再沈殿させて精製した固形分のFT−IR測定を行ったところ、3,400cm−1付近の第一級アミノ基由来のピークの出現が確認された。
[Production Example A-2: Production of Polyphenylene Ether Derivative (A-2)]
Toluene, polyphenylene ether "Zylon (registered trademark) S202A" (trade name, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., number average molecular weight) in a glass flask container with a volume of 2 L that can be heated and cooled equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer. = 16,000) and p-aminophenol were added and dissolved with stirring at 90 ° C. The amount of toluene used was such that the reaction concentration was 35% by mass.
After visually confirming that it was dissolved, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and manganese naphthenate were added, and the solution was redistributed at a solution temperature of 90 ° C. for 4 hours, then cooled to 70 ° C. and first at the molecular terminal. A polyphenylene ether derivative having a secondary amino group was obtained. Here, when a small amount of this reaction solution was taken out and GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran) was performed, the peak derived from p-aminophenol disappeared, and the number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was about 6, It was 200. The reaction solution taken out a small amount of methanol / benzene mixed solvent (weight ratio = 1: 1) was added dropwise, was subjected to FT-IR measurement of solids were purified by reprecipitation, 3,400 cm -1 vicinity of The appearance of a peak derived from the primary amino group was confirmed.

次に、上記反応溶液に、2,2’−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(反応濃度が30質量%になる量)を加えて、撹拌しながら液温を昇温し、120℃で保温しながら4時間反応させた後、冷却及び200メッシュフィルターを通して濾過することにより、ポリフェニレンエーテル誘導体(A−2)を製造した。
この反応溶液を少量取り出し、上記同様に再沈殿、精製した固形物のFT−IR測定を行い、3,500cm−1付近の第一級アミノ基由来ピークの消失と、1,700〜1,730cm−1のカルボニル基の出現が確認された。またこの固形物のGPC(上記と同条件)を測定したところ、数平均分子量は約6,500であった。
各成分の使用量を表1に示す。
Next, 2,2'-bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] propane and propylene glycol monomethyl ether (amount at which the reaction concentration becomes 30% by mass) are added to the above reaction solution, and the solution is stirred with stirring. The polyphenylene ether derivative (A-2) was produced by raising the temperature, reacting at 120 ° C. for 4 hours, cooling and filtering through a 200 mesh filter.
Taking out a small amount of the reaction solution, and the same re-precipitation, it carried out an FT-IR measurements of the purified solids, loss of primary amino groups from a peak in the vicinity of 3,500cm -1, 1,700~1,730cm The appearance of a -1 carbonyl group was confirmed. Moreover, when GPC (the same conditions as above) of this solid substance was measured, the number average molecular weight was about 6,500.
The amount of each component used is shown in Table 1.

Figure 2020096036
Figure 2020096036

[製造例B−1:ポリアミノビスマレイミド化合物(B−1)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積1Lのガラス製フラスコ容器に、マレイミド化合物(b1)として、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ジアミン化合物(b2)として、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを投入し、液温を120℃に保ち、撹拌しながら3時間反応させた後、冷却及び200メッシュフィルターを通して濾過することにより、数平均分子量800のポリアミノビスマレイミド化合物(B−1)を製造した。
各成分の使用量を表2に示す。
[Production Example B-1: Production of Polyaminobismaleimide Compound (B-1)]
2,2-Bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane as the maleimide compound (b1) in a 1 L volume glass flask container equipped with a thermometer, a reflux cooling tube, and a stirrer and capable of heating and cooling. , 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, as diamine compound (b2), 4,4'-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] A polyaminobismaleimide compound (B) having a number average molecular weight of 800 was added by adding bisaniline and propylene glycol monomethyl ether, keeping the liquid temperature at 120 ° C., reacting for 3 hours with stirring, and then cooling and filtering through a 200 mesh filter. -1) was manufactured.
The amount of each component used is shown in Table 2.

Figure 2020096036
Figure 2020096036

[樹脂組成物の調製]
実施例1〜5、比較例1
表3に記載の各成分を表3に記載の配合量(単位:質量部)に従って室温又は50〜80℃で加熱しながら撹拌及び混合して、固形分(不揮発分)濃度約50質量%の樹脂組成物を調製した。
各例で得た樹脂組成物を、厚さ38μmのPETフィルム(帝人株式会社製、商品名:G2−38)に塗工した後、170℃で5分間加熱乾燥して、Bステージ状態の樹脂フィルムを作製した。この樹脂フィルムをPETフィルムから剥離した後、粉砕して樹脂粉末とした。次いで、厚さ1mm×長さ50mm×幅35mmのサイズに型抜きしたテフロン(登録商標)シートに上記の樹脂粉末を投入し、その上下に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(古河電気工業株式会社製、商品名:BF−ANP18)を、M面が投入した樹脂粉末に接するように配置し、温度230℃、圧力2.0MPa、時間120分間の条件で加熱加圧成形して、樹脂組成物を硬化させて、両面銅箔付き樹脂板(樹脂板の厚さ:1mm)を作製した。
[Preparation of resin composition]
Examples 1-5, Comparative Example 1
Each component shown in Table 3 is stirred and mixed while heating at room temperature or 50 to 80 ° C. according to the blending amount (unit: parts by mass) shown in Table 3, and the solid content (nonvolatile content) concentration is about 50% by mass. A resin composition was prepared.
The resin composition obtained in each example was applied to a PET film having a thickness of 38 μm (manufactured by Teijin Limited, trade name: G2-38), and then heated and dried at 170 ° C. for 5 minutes to obtain a resin in a B stage state. A film was made. This resin film was peeled off from the PET film and then pulverized to obtain a resin powder. Next, the above resin powder was put into a Teflon (registered trademark) sheet stamped to a size of 1 mm in thickness × 50 mm in length × 35 mm in width, and a low profile copper foil (Furukawa Denki Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm was placed above and below the sheet. A company-made product, trade name: BF-ANP18) is placed so that the M surface is in contact with the charged resin powder, and is heat-press molded under the conditions of a temperature of 230 ° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 120 minutes to form a resin composition. The object was cured to prepare a resin plate with double-sided copper foil (resin plate thickness: 1 mm).

[評価・測定方法]
上記実施例及び比較例で得られた樹脂組成物及び樹脂板を用いて、下記方法に従って各測定及び評価を行った。結果を表3に示す。
[Evaluation / measurement method]
Using the resin compositions and resin plates obtained in the above Examples and Comparative Examples, each measurement and evaluation was carried out according to the following methods. The results are shown in Table 3.

(1.樹脂組成物の相容性の評価)
各例で得た樹脂組成物を目視で観察して、相容性(巨視的(マクロ)な相分離及び析出物の有無)を以下の基準に従い評価した。
A:1週間以上放置しても、巨視的(マクロ)な相分離及び析出物がなかった。
B:1日放置しても変化はなかったが、3日以上放置したところ、析出物はないが、巨視的(マクロ)な相分離がやや生じていた。
C:1日放置したところ、析出物はないが、巨視的(マクロ)な相分離が生じていた。
D:1日放置後、析出物が確認された。
(1. Evaluation of compatibility of resin composition)
The resin compositions obtained in each example were visually observed, and the compatibility (macroscopic phase separation and the presence or absence of precipitates) was evaluated according to the following criteria.
A: There was no macroscopic phase separation and no precipitate even after being left for 1 week or longer.
B: There was no change even when left for 1 day, but when left for 3 days or more, there was no precipitate, but macroscopic (macro) phase separation occurred slightly.
C: When left for 1 day, there was no precipitate, but macroscopic phase separation occurred.
D: After leaving for 1 day, precipitates were confirmed.

(2.樹脂板の誘電特性(誘電率及び誘電正接)の評価)
各例で得た両面銅箔付き樹脂板を銅エッチング液である過硫酸アンモニウム(三菱ガス化学株式会社製)10質量%溶液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、2mm×50mmの評価基板を作製した。
該評価基板を空洞共振器摂動法に準拠して、10GHz帯で誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)を測定した。
(2. Evaluation of the dielectric properties (dielectric constant and dielectric loss tangent) of the resin plate)
Evaluation of 2 mm x 50 mm from the evaluation substrate from which the copper foil was removed by immersing the resin plate with double-sided copper foil obtained in each example in a 10% by mass solution of ammonium persulfate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.), which is a copper etching solution. A substrate was prepared.
The evaluation substrate was measured for dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) in the 10 GHz band according to the cavity resonator perturbation method.

(3.熱膨張率及びガラス転移温度の測定方法)
熱膨張係数(板厚方向、温度範囲:30〜120℃)とガラス転移温度(Tg)は、両面銅箔付き樹脂板の両面の銅箔をエッチングした5mm角の試験片を用いて、熱機械測定装置(TMA)[ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社製、Q400(型番)]により、IPC(The Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits)規格に準拠して測定した。
(3. Method for measuring thermal expansion rate and glass transition temperature)
The coefficient of thermal expansion (plate thickness direction, temperature range: 30 to 120 ° C.) and glass transition temperature (Tg) are determined by using a 5 mm square test piece obtained by etching the copper foil on both sides of a resin plate with double-sided copper foil. It was measured by a measuring device (TMA) [manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd., Q400 (model number)] in accordance with the IPC (The Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits) standard.

Figure 2020096036
Figure 2020096036

なお、表3における各材料は、以下のとおりである。
[(A)成分]
・ポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)及び(A−2):製造例A−1及びA−2で製造したポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)及び(A−2)を使用した。
The materials in Table 3 are as follows.
[(A) component]
-Polyphenylene ether derivatives (A-1) and (A-2): The polyphenylene ether derivatives (A-1) and (A-2) produced in Production Examples A-1 and A-2 were used.

[(B)成分]
・ポリアミノビスマレイミド化合物(B−1):製造例B−1で製造したポリアミノビスマレイミド化合物(B−1)を使用した。
[(B) component]
-Polyaminobismaleimide compound (B-1): The polyaminobismaleimide compound (B-1) produced in Production Example B-1 was used.

[(C)成分]
・Ricon257:ブタジエン−スチレン共重合体(CRAY VALLEY製、商品名、質量比(ブタジエン/スチレン):65/35)
・B−1000:1,2−ポリブタジエンホモポリマー、数平均分子量=1,200、ビニル基含有率=85%以上(日本曹達株式会社製、商品名)
・B−2000:1,2−ポリブタジエンホモポリマー、数平均分子量=2,100、ビニル基含有率=90%以上(日本曹達株式会社製、商品名)
・B−3000:1,2−ポリブタジエンホモポリマー、数平均分子量=3,200、ビニル基含有率=90%以上(日本曹達株式会社製、商品名)
[(C) component]
-Ricon257: butadiene-styrene copolymer (manufactured by CRAY VALLEY, trade name, mass ratio (butadiene / styrene): 65/35)
B-1000: 1,2-polybutadiene homopolymer, number average molecular weight = 1,200, vinyl group content = 85% or more (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., trade name)
B-2000: 1,2-polybutadiene homopolymer, number average molecular weight = 2,100, vinyl group content = 90% or more (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., trade name)
B-3000: 1,2-polybutadiene homopolymer, number average molecular weight = 3,200, vinyl group content = 90% or more (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., trade name)

[(D)成分]
・クレイトン(登録商標)G1652:水添スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)、メルトフローレート5.0g/10min、スチレン含有率30%、水素添加率100%(クレイトンポリマージャパン株式会社製、商品名)
[(D) component]
-Clayton (registered trademark) G1652: Hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer (SEBS), melt flow rate 5.0 g / 10 min, styrene content 30%, hydrogenation rate 100% (manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., trade name)

[(E)成分]
・シリカ:球状溶融シリカ、平均粒子径=0.5μm
[(E) component]
-Silica: Spherical fused silica, average particle size = 0.5 μm

[(F)成分]
・α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン
・G−8009L:イソシアネートマスクイミダゾール(ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2−エチル−4−メチルイミダゾールの付加反応物)(第一工業製薬株式会社製、商品名)
[(F) component]
-Α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene-G-8009L: Isocyanate mask imidazole (addition reaction product of hexamethylene diisocyanate resin and 2-ethyl-4-methylimidazole) (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) Made, product name)

[(G)成分]
・OP−935:ジアルキルホスフィン酸アルミニウム塩、2置換ホスフィン酸の金属塩、リン含有量:23.5質量%(クラリアント社製、商品名)
・1,3−フェニレンビス(ジ2,6−キシレニルホスフェート)、リン含有量:9.0質量%
[(G) component]
OP-935: Aluminum salt of dialkylphosphinic acid, metal salt of disubstituted phosphinic acid, phosphorus content: 23.5% by mass (manufactured by Clariant, trade name)
-1,3-Phenylenebis (di2,6-xylenyl phosphate), phosphorus content: 9.0% by mass

表3に示された結果から明らかなように、本実施形態の実施例1〜5においては、樹脂組成物の相容性が良好であり、これらを用いて作製した硬化物は、耐熱性に優れ、10GHz帯の高周波数帯における誘電特性に優れている。
一方、比較例1においては、ガラス転移温度が低く、10GHz帯の高周波数帯における誘電特性も不十分である。
As is clear from the results shown in Table 3, in Examples 1 to 5 of this embodiment, the compatibility of the resin composition is good, and the cured product prepared by using these has good heat resistance. Excellent in dielectric properties in the high frequency band of 10 GHz band.
On the other hand, in Comparative Example 1, the glass transition temperature is low and the dielectric characteristics in the high frequency band of 10 GHz band are also insufficient.

本発明の樹脂組成物は相容性が良好であり、該樹脂組成物から作製される積層板は、特に、耐熱性及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れるため、6GHzを超える周波数帯の電波が使用される第五世代移動通信システム(5G)アンテナ及び30〜300GHzの周波数帯の電波が使用されるミリ波レーダーに利用される多層プリント配線板に有用である。 The resin composition of the present invention has good compatibility, and the laminated board produced from the resin composition is particularly excellent in heat resistance and dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, so that the frequency exceeds 6 GHz. It is useful for 5th generation mobile communication system (5G) antennas in which radio waves in the band are used and multi-layer printed wiring boards used in millimeter-wave radars in which radio waves in the frequency band of 30 to 300 GHz are used.

Claims (15)

(A)エチレン性不飽和結合含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体と、
(B)N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上と、
(C)エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤と、
を含有してなる、樹脂組成物。
(A) A polyphenylene ether derivative having an ethylenically unsaturated bond-containing group and
(B) One or more selected from the group consisting of maleimide compounds having two or more N-substituted maleimide groups and derivatives thereof, and
(C) A cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds,
A resin composition comprising.
前記(C)成分が、前記2個以上のエチレン性不飽和結合を、ビニル基として有するものである、請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the component (C) has the two or more ethylenically unsaturated bonds as a vinyl group. 前記(C)成分が、前記2個以上のエチレン性不飽和結合を、1,2−ビニル基として有するポリブタジエンである、請求項2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 2, wherein the component (C) is polybutadiene having the two or more ethylenically unsaturated bonds as a 1,2-vinyl group. 前記ポリブタジエンを構成するブタジエン由来の全構造単位に対して、1,2−ビニル構造を有する構造単位の含有量が、50モル%以上である、請求項3に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 3, wherein the content of the structural unit having a 1,2-vinyl structure is 50 mol% or more with respect to all the structural units derived from butadiene constituting the polybutadiene. 前記ポリブタジエンの数平均分子量が、500〜10,000である、請求項3又は4に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 3 or 4, wherein the polybutadiene has a number average molecular weight of 500 to 10,000. 前記(C)成分の含有量が、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、5〜60質量部である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the component (C) is 5 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the resin components in the resin composition. .. 前記(A)成分が、下記一般式(a1−1)で表される構造を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2020096036

(式中、Ra1は炭素数2〜10のエチレン性不飽和結合含有基である。n1は1又は2であり、n2は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the component (A) contains a structure represented by the following general formula (a1-1).
Figure 2020096036

(Wherein, R a1 is .n1 an ethylenically unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms is 1 or 2, n2 is 0 or 1. * Is the point of attachment to other structures show.)
前記(A)成分が、下記一般式(a1−2)で表される構造を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2020096036

(式中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2〜10のエチレン性不飽和結合含有基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the component (A) contains a structure represented by the following general formula (a1-2).
Figure 2020096036

(In the formula, Ra2 and Ra3 are independently ethylenically unsaturated bond-containing groups having 2 to 10 carbon atoms. * Indicates a bond position to another structure.)
前記(A)成分において、エチレン性不飽和結合含有基の数が、2個以上である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the number of ethylenically unsaturated bond-containing groups in the component (A) is two or more. 前記(B)成分が、N−置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物(b1)由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 9, wherein the component (B) has a structural unit derived from a maleimide compound (b1) having two or more N-substituted maleimide groups and a structural unit derived from a diamine compound (b2). The resin composition according to. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含有してなるプリプレグ。 A prepreg containing the resin composition according to any one of claims 1 to 10. 請求項11に記載のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板。 A laminated board containing the prepreg according to claim 11 and a metal foil. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルム。 A resin film containing the resin composition according to any one of claims 1 to 10. 請求項11に記載のプリプレグ、請求項12に記載の積層板及び請求項13に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される1種以上を含有してなる多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board containing at least one selected from the group consisting of the prepreg according to claim 11, the laminated board according to claim 12, and the resin film according to claim 13. 請求項11に記載のプリプレグ、請求項12に記載の積層板及び請求項13に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される1種以上を含有してなるミリ波レーダー用多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board for a millimeter-wave radar, comprising one or more selected from the group consisting of the prepreg according to claim 11, the laminated board according to claim 12, and the resin film according to claim 13.
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