JP7298623B2 - Resin composition, cured product of resin composition, prepreg, laminate, resin film, multilayer printed wiring board, multilayer printed wiring board for millimeter wave radar, and polyphenylene ether derivative - Google Patents

Resin composition, cured product of resin composition, prepreg, laminate, resin film, multilayer printed wiring board, multilayer printed wiring board for millimeter wave radar, and polyphenylene ether derivative Download PDF

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Description

本発明は、樹脂組成物、樹脂組成物の硬化物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム、多層プリント配線板、ミリ波レーダー用多層プリント配線板及びポリフェニレンエーテル誘導体に関する。 The present invention relates to a resin composition, a cured product of the resin composition, a prepreg, a laminate, a resin film, a multilayer printed wiring board, a multilayer printed wiring board for millimeter wave radar, and a polyphenylene ether derivative.

携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワークインフラ機器、又は大型コンピュータ等では、使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板には高周波化対応が必要となり、伝送損失の低減を可能とする高周波数帯における誘電特性(低誘電率及び低誘電正接;以下、高周波特性と称することがある。)に優れる基板材料が求められている。近年、このような高周波信号を扱うアプリケーションとして、上述した電子機器のほかに、ITS分野(自動車、交通システム関連)及び室内の近距離通信分野でも高周波無線信号を扱う新規システムの実用化又は実用計画が進んでおり、今後、これらの機器に搭載するプリント配線板に対しても、低伝送損失基板材料がさらに要求されると予想される。 2. Description of the Related Art Mobile communication devices such as mobile phones, network infrastructure devices such as base station devices, servers and routers, large computers, and the like use signals of higher speed and capacity year by year. Along with this, the printed wiring boards mounted on these electronic devices need to be compatible with higher frequencies. There is a demand for a substrate material that is excellent in the characteristics. In recent years, as applications for handling such high-frequency signals, in addition to the above-mentioned electronic devices, new systems that handle high-frequency wireless signals have been put into practical use or are planned to be put into practical use in the ITS field (related to automobiles and transportation systems) and in the indoor short-distance communication field. In the future, it is expected that there will be further demand for low transmission loss substrate materials for printed wiring boards mounted in these devices.

従来、低伝送損失が要求されるプリント配線板には、高周波特性に優れる耐熱性熱可塑性ポリマーとしてポリフェニレンエーテル(PPE)系樹脂が使用されてきた。例えば、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂とを併用する方法が提案されている。具体的には、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂の中でも誘電率が低いシアネート樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献2参照)等が開示されている。
しかしながら、上記特許文献1~2に記載の樹脂組成物は、GHz領域における高周波特性、導体との接着性、低熱膨張係数、難燃性が総合的に不十分であったり、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂との相容性が低いことにより耐熱性が低下することがあった。
Conventionally, polyphenylene ether (PPE) resins have been used as heat-resistant thermoplastic polymers with excellent high-frequency characteristics for printed wiring boards that require low transmission loss. For example, a method of using polyphenylene ether and a thermosetting resin in combination has been proposed. Specifically, a resin composition containing polyphenylene ether and an epoxy resin (for example, see Patent Document 1), a resin composition containing polyphenylene ether and a cyanate resin having a low dielectric constant among thermosetting resins (for example, see Patent Document 1) Reference 2) and the like are disclosed.
However, the resin compositions described in Patent Documents 1 and 2 are generally insufficient in high frequency characteristics in the GHz region, adhesion with conductors, low coefficient of thermal expansion, and flame retardancy, and polyphenylene ether and heat curing In some cases, the heat resistance is lowered due to the low compatibility with the heat resistant resin.

このような状況下、特に相容性が良好で、且つ高周波数帯における誘電特性、導体との高接着性、優れた耐熱性、高ガラス転移温度、低熱膨張係数及び高難燃性を有する樹脂組成物を提供することを課題として、1分子中にN-置換マレイミド構造含有基及び下記一般式で表される構造単位を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)、エポキシ樹脂、シアネート樹脂及びマレイミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種類の熱硬化性樹脂(B)、及びスチレン系熱可塑性エラストマー(C)を含む樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献3参照)。

Figure 0007298623000001

(式中、Rは各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。xは0~4の整数である。)Under such circumstances, resins with particularly good compatibility, dielectric properties in high frequency bands, high adhesion to conductors, excellent heat resistance, high glass transition temperature, low coefficient of thermal expansion, and high flame retardancy An object of the present invention is to provide a composition comprising a polyphenylene ether derivative (A) having an N-substituted maleimide structure-containing group and a structural unit represented by the following general formula in one molecule, an epoxy resin, a cyanate resin and a maleimide compound. A resin composition containing at least one thermosetting resin (B) selected from the group and a styrene-based thermoplastic elastomer (C) has been proposed (see, for example, Patent Document 3).
Figure 0007298623000001

(In the formula, each R 1 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. x is an integer of 0 to 4.)

特開昭58-069046号公報JP-A-58-069046 特公昭61-018937号公報Japanese Patent Publication No. 61-018937 国際公開第2016/175326号WO2016/175326

特許文献3に記載の樹脂組成物は、確かに高周波数帯における誘電特性にも優れる結果となっているが、近年は、6GHzを超える周波数帯の電波が使用される第五世代移動通信システム(5G)アンテナ及び30~300GHzの周波数帯の電波が使用されるミリ波レーダー等にも利用可能な、高周波数帯における誘電特性がさらに改善された樹脂組成物の開発が切望されており、新規な材料の開発が急務となっている。 The resin composition described in Patent Document 3 certainly has excellent dielectric properties in a high frequency band, but in recent years, fifth generation mobile communication systems using radio waves in a frequency band exceeding 6 GHz ( 5G) The development of a resin composition with further improved dielectric properties in a high frequency band that can be used for antennas and millimeter wave radars that use radio waves in the frequency band of 30 to 300 GHz is eagerly awaited. There is an urgent need to develop materials.

本発明は、このような現状に鑑み、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性を発現し得る樹脂組成物、該樹脂組成物の硬化物、プリプレグ、樹脂フィルム、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板、並びに、そのような樹脂組成物を得ることが可能となるポリフェニレンエーテル誘導体を提供することを課題とする。 In view of such a situation, the present invention provides a resin composition capable of exhibiting excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, a cured product of the resin composition, a prepreg, a resin film, a multilayer printed wiring board and a mill. An object of the present invention is to provide a multi-layer printed wiring board for wave radar, and a polyphenylene ether derivative from which such a resin composition can be obtained.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の分子構造を有するポリフェニレンエーテル誘導体と、特定のマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも1種類とを含有する樹脂組成物であれば、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性を発現することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記[1]~[20]に関するものである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that polyphenylene ether derivatives having a specific molecular structure and at least one selected from the group consisting of specific maleimide compounds and derivatives thereof. The present inventors have found that a resin composition containing it exhibits excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, and have completed the present invention.
That is, the present invention relates to the following [1] to [20].

[1](A)不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体、及び
(B)N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも1種類、
を含有してなる、樹脂組成物。
[2]前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-1)で表される構造を有する、上記[1]に記載の樹脂組成物。

Figure 0007298623000002

(式(a-1)中、Ra1は炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。m1は1又は2であり、n1は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[3]前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-2)で表される構造を有する、上記[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
Figure 0007298623000003

(式(a-2)中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[4]前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数が2つ以上である、上記[1]~[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[5]前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数が4つ以上である、上記[1]~[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6]前記(A)成分において、前記不飽和脂肪族炭化水素基が、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基である、上記[1]~[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7]前記(B)成分が、N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物(b1)由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有する、上記[1]~[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[8]前記(B)成分が、下記一般式(B-1)で表されるポリアミノビスマレイミド化合物を含む、上記[1]~[7]のいずれかに記載の樹脂組成物。
Figure 0007298623000004

(式(B-1)中、XB1及びXB2は、各々独立に、有機基である。)
[9]10GHzにおける誘電率が2.90以下であり、且つ10GHzにおける誘電正接が0.0055以下である、上記[1]~[8]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物。
[10]上記[1]~[8]のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなるプリプレグ。
[11]上記[10]に記載のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板。
[12]上記[1]~[8]のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルム。
[13]上記[10]に記載のプリプレグ、上記[11]に記載の積層板及び上記[12]に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される少なくとも1種類を含有してなる多層プリント配線板。
[14]上記[10]に記載のプリプレグ、上記[11]に記載の積層板及び上記[12]に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される少なくとも1種類を含有してなるミリ波レーダー用多層プリント配線板。
[15]不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体。
[16]前記不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-1)で表される構造を有する、上記[15]に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。
Figure 0007298623000005

(式(a-1)中、Ra1は炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。m1は1又は2であり、n1は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[17]前記不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-2)で表される構造を有する、上記[15]又は[16]に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。
Figure 0007298623000006

(式(a-2)中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
[18]前記不飽和脂肪族炭化水素基の合計数が2つ以上である、上記[15]~[17]のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル誘導体。
[19]前記不飽和脂肪族炭化水素基の合計数が4つ以上である、上記[15]~[18]のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル誘導体。
[20]前記不飽和脂肪族炭化水素基が、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基である、上記[15]~[19]のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル誘導体。[1] Selected from the group consisting of (A) a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and (B) a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups and derivatives thereof at least one
A resin composition comprising
[2] The resin composition according to [1] above, wherein the organic group substituted by the unsaturated aliphatic hydrocarbon group of the component (A) has a structure represented by the following general formula (a-1).
Figure 0007298623000002

(In formula (a-1), R a1 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; m1 is 1 or 2; n1 is 0 or 1; * is another structure; indicates the binding position to
[3] The above [1] or [2], wherein the organic group substituted by the unsaturated aliphatic hydrocarbon group of the component (A) has a structure represented by the following general formula (a-2): Resin composition.
Figure 0007298623000003

(In formula (a-2), R a2 and R a3 are each independently an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. * indicates the bonding position to another structure.)
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3] above, wherein the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups contained in component (A) is two or more.
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4] above, wherein the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups in component (A) is 4 or more.
[6] The above [1] to [5], wherein in the component (A), the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is a vinyl group, an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group, or a 3-butenyl group. The resin composition according to any one of.
[7] The above [1] to [6], wherein the component (B) has a structural unit derived from the maleimide compound (b1) having at least two N-substituted maleimide groups and a structural unit derived from the diamine compound (b2). ] The resin composition according to any one of the above.
[8] The resin composition according to any one of [1] to [7] above, wherein the component (B) contains a polyaminobismaleimide compound represented by the following general formula (B-1).
Figure 0007298623000004

(In formula (B-1), X B1 and X B2 are each independently an organic group.)
[9] A cured product of the resin composition according to any one of [1] to [8], which has a dielectric constant at 10 GHz of 2.90 or less and a dielectric loss tangent at 10 GHz of 0.0055 or less.
[10] A prepreg containing the resin composition according to any one of [1] to [8] above.
[11] A laminate containing the prepreg described in [10] above and a metal foil.
[12] A resin film comprising the resin composition according to any one of [1] to [8] above.
[13] A multilayer printed wiring board containing at least one selected from the group consisting of the prepreg described in [10] above, the laminate described in [11] above, and the resin film described in [12] above. .
[14] For millimeter wave radar, containing at least one selected from the group consisting of the prepreg described in [10] above, the laminated plate described in [11] above, and the resin film described in [12] above. Multilayer printed wiring board.
[15] A polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group.
[16] The polyphenylene ether derivative according to [15] above, wherein the organic group substituted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group has a structure represented by the following general formula (a-1).
Figure 0007298623000005

(In formula (a-1), R a1 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; m1 is 1 or 2; n1 is 0 or 1; * is another structure; indicates the binding position to
[17] The polyphenylene ether derivative according to [15] or [16] above, wherein the organic group substituted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group has a structure represented by the following general formula (a-2).
Figure 0007298623000006

(In formula (a-2), R a2 and R a3 are each independently an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. * indicates the bonding position to another structure.)
[18] The polyphenylene ether derivative according to any one of [15] to [17] above, wherein the total number of the unsaturated aliphatic hydrocarbon groups is two or more.
[19] The polyphenylene ether derivative according to any one of [15] to [18] above, wherein the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups is 4 or more.
[20] The polyphenylene according to any one of [15] to [19] above, wherein the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is a vinyl group, isopropenyl group, allyl group, 1-methylallyl group or 3-butenyl group. ether derivative.

本発明によれば、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性(低誘電率及び低誘電正接)を発現し得る樹脂組成物、該樹脂組成物の硬化物、プリプレグ、樹脂フィルム、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用多層プリント配線板、並びに、そのような樹脂組成物を得ることが可能となるポリフェニレンエーテル誘導体を提供することができる。 According to the present invention, a resin composition that can exhibit excellent dielectric properties (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) in a high frequency band of 10 GHz or higher, a cured product of the resin composition, a prepreg, a resin film, and a multilayer print. It is possible to provide a wiring board, a multilayer printed wiring board for millimeter wave radar, and a polyphenylene ether derivative that makes it possible to obtain such a resin composition.

本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値又は上限値と任意に組み合わせられる。
また、本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本発明に含まれる。
In the numerical ranges described herein, the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples. Also, the lower and upper limits of a numerical range can be arbitrarily combined with the lower and upper limits of other numerical ranges, respectively.
In addition, each component and material exemplified in this specification may be used alone or in combination of two or more unless otherwise specified. As used herein, the content of each component in the composition refers to the total amount of the multiple substances present in the composition when there are multiple substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified. means
Embodiments in which the items described in this specification are combined arbitrarily are also included in the present invention.

[樹脂組成物]
本発明の一態様は、
(A)不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体[以下、単にポリフェニレンエーテル誘導体(A)又は(A)成分と略称することがある]、及び
(B)N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも1種類[以下、単にマレイミド化合物(B)又は(B)成分と略称することがある]、
を含有してなる樹脂組成物である。
以下、各成分について順に詳述する。
[Resin composition]
One aspect of the present invention is
(A) a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group [hereinafter sometimes simply referred to as polyphenylene ether derivative (A) or component (A)], and (B) N-substituted at least one selected from the group consisting of maleimide compounds having at least two maleimide groups and derivatives thereof [hereinafter sometimes simply referred to as maleimide compound (B) or component (B)];
It is a resin composition containing
Each component will be described in detail below.

<ポリフェニレンエーテル誘導体(A)>
ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有しており、好ましくは、少なくとも一方の末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有する。本発明は、当該ポリフェニレンエーテル誘導体(A)自体も提供する。このようなポリフェニレンエーテル誘導体(A)を使用することによって、(B)成分が有するN-置換マレイミド基の炭素-炭素二重結合部位とのエン反応、場合によってはさらにディールス・アルダー反応が生じ得ることとなり、このことが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の向上に起因しているのではないかと推察する。
不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基は、(A)成分の片末端に有していてもよいし、両末端に有していてもよいし、中心骨格に有していてもよい。(A)成分としては、片末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体、両末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体、及び中心骨格に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体からなる群から選択される2種以上の混合物であってもよい。(A)成分としては、片末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を含有することが好ましく、片末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体そのものであることがより好ましい。
(A)成分が、片末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を含有する場合、(A)成分中、片末端に不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体の含有量は、30質量%以上であってもよく、45質量%以上であってもよく、55質量%以上であってもよく、70質量%以上であってもよく、90質量%以上であってもよく、実質的に100質量%であってもよい。
<Polyphenylene ether derivative (A)>
The polyphenylene ether derivative (A) has an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, preferably at least one end thereof has an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The present invention also provides the polyphenylene ether derivative (A) itself. By using such a polyphenylene ether derivative (A), an ene reaction with the carbon-carbon double bond site of the N-substituted maleimide group of the component (B), and in some cases, a Diels-Alder reaction can occur. Therefore, it is presumed that this is due to the improvement of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher.
The organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group may be present at one end of the component (A), may be present at both ends, or may be present at the central skeleton. . Component (A) includes a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group at one end, a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group at both ends, and It may be a mixture of two or more selected from the group consisting of polyphenylene ether derivatives having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group in the central skeleton. Component (A) preferably contains a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group at one end, and an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group at one end. It is more preferable that the polyphenylene ether derivative itself has.
When the component (A) contains a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group at one end, the unsaturated aliphatic hydrocarbon group substituted at one end of the component (A) The content of the polyphenylene ether derivative having an organic group may be 30% by mass or more, 45% by mass or more, 55% by mass or more, or 70% by mass or more. It may be 90% by mass or more, or may be substantially 100% by mass.

(A)成分が有する前記「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」における「不飽和脂肪族炭化水素基」としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基、3-ブテニル基等が挙げられる。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数2~5の不飽和脂肪族炭化水素基がより好ましく、アリル基がさらに好ましい。なお、本発明においては、マレイミド基及び(メタ)アクリロイル基等の様に、一部に不飽和脂肪族炭化水素基を有しているが、その基全体として見たときに不飽和脂肪族炭化水素基とは言えない基は、前記「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」における「不飽和脂肪族炭化水素基」に含まれない。
前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、好ましくは2つ以上、より好ましくは4つ以上であり、上限値に特に制限はなく、8つ以下であってもよいし、6つ以下であってもよい。さらには、前記(A)成分の片末端に有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、好ましくは2つ以上、より好ましくは4つ以上であり、上限値に特に制限はなく、8つ以下であってもよいし、6つ以下であってもよい。
前記(A)成分が有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数及び前記(A)成分の片末端に有する不飽和脂肪族炭化水素基の合計数は、いずれも4つであることが最も好ましい。
Examples of the "unsaturated aliphatic hydrocarbon group" in the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" of component (A) include vinyl group, isopropenyl group, allyl group, and 1-methylallyl group. , 3-butenyl group and the like. Among these, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, unsaturated aliphatic hydrocarbon groups having 2 to 10 carbon atoms are preferable, and unsaturated aliphatic hydrocarbon groups having 2 to 5 carbon atoms are more preferable. , allyl groups are more preferred. In the present invention, a portion of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a maleimide group and a (meth)acryloyl group is present, but the group as a whole has an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. A group that cannot be said to be a hydrogen group is not included in the "unsaturated aliphatic hydrocarbon group" in the above "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group".
The total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups contained in the component (A) is preferably 2 or more, more preferably 4 or more, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. is not particularly limited, and may be eight or less, or may be six or less. Furthermore, the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups at one end of the component (A) is preferably 2 or more, more preferably 4, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. There are no particular restrictions on the upper limit value, and the number may be eight or less, or may be six or less.
The total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups possessed by component (A) and the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups possessed at one end of component (A) are both most preferably four. .

前記「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記一般式(a-1)で表される構造を有することが好ましい。

Figure 0007298623000007

(式(a-1)中、Ra1は炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。m1は1又は2であり、n1は0又は1である。*は、他の構造への結合位置を示す。)The "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" preferably has a structure represented by the following general formula (a-1) from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. .
Figure 0007298623000007

(In formula (a-1), R a1 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; m1 is 1 or 2; n1 is 0 or 1; * is another structure; indicates the binding position to

上記一般式(a-1)中、Ra1が表す炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基、3-ブテニル基等が挙げられる。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、炭素数2~5の不飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、アリル基がより好ましい。
m1は、1であってもよいし、2であってもよいが、1であることが好ましい。n1は0であってもよいし、1であってもよい。
なお、「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」が上記一般式(a-1)で表される構造を有する場合、「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」の少なくとも一部に上記一般式(a-1)で表される構造が含まれていればよい。
In the above general formula (a-1), the unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms represented by R a1 includes, for example, a vinyl group, an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group, and a 3-butenyl group. and the like. Among these, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 5 carbon atoms is preferred, and an allyl group is more preferred.
m1 may be 1 or 2, but is preferably 1. n1 may be 0 or 1.
When the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" has a structure represented by the general formula (a-1), at least the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" It is sufficient if the structure represented by the above general formula (a-1) is contained in part.

また、前記「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び相容性の観点から、下記一般式(a-2)で表される構造を有する態様も好ましい。

Figure 0007298623000008

(式(a-2)中、Ra2及びRa3は、各々独立に、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)Further, the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" is represented by the following general formula (a-2) from the viewpoint of dielectric properties and compatibility in a high frequency band of 10 GHz or higher Structured embodiments are also preferred.
Figure 0007298623000008

(In formula (a-2), R a2 and R a3 are each independently an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. * indicates the bonding position to another structure.)

上記一般式(a-2)中、Ra2及びRa3が表す炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基は、前記一般式(a-1)中のRa1と同じものが挙げられ、同じものが好ましい。
なお、「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」が上記一般式(a-2)で表される構造を有する場合、「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」の少なくとも一部に上記一般式(a-2)で表される構造が含まれていればよい。
In the above general formula (a-2), the unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms represented by R a2 and R a3 is the same as R a1 in the above general formula (a-1). , preferably the same.
When the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" has a structure represented by the general formula (a-2), at least the "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" It is sufficient if the structure represented by the above general formula (a-2) is contained in part.

前記「不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基」としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記一般式(a-3)~(a-5)のいずれかで表される構造であることがより好ましく、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び相容性の観点から、下記一般式(a-5)で表される構造であることがさらに好ましい。 The "organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group" is represented by any one of the following general formulas (a-3) to (a-5) from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. The structure represented by the following general formula (a-5) is more preferable from the viewpoint of dielectric properties and compatibility in a high frequency band of 10 GHz or higher.

Figure 0007298623000009

(式(a-3)中、Ra4は炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 0007298623000009

(In formula (a-3), R a4 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. * indicates a bonding position to another structure.)

Figure 0007298623000010

(式(a-4)中、Ra5及びRa6は、各々独立に、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。Xa1は、炭素数1~6の脂肪族炭化水素基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 0007298623000010

(In formula (a-4), R a5 and R a6 are each independently an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; X a1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; group. * indicates the bonding position to other structures.)

Figure 0007298623000011

(式(a-5)中、Ra7~Ra10は、各々独立に、炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基である。Xa2は有機基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
Figure 0007298623000011

(In formula (a-5), R a7 to R a10 are each independently an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. X a2 is an organic group. * is another structure indicates the binding position to

上記一般式(a-3)~(a-5)中のRa4~Ra10が表す炭素数2~10の不飽和脂肪族炭化水素基としては、一般式(a-1)中のRa1の場合と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。
上記一般式(a-4)中のXa1が表す炭素数1~6の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基等の炭素数1~6のアルキレン基;イソプロピリデン基等の炭素数2~6のアルキリデン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、イソプロピリデン基が好ましく、イソプロピリデン基がより好ましい。
上記一般式(a-5)中のXa2が表す有機基としては、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂肪族炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい芳香族炭化水素基、並びにこれらの任意の組み合わせからなる基等が挙げられる。前記ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。Xa2が表す有機基としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、ヘテロ原子を含有していない基であることが好ましく、ヘテロ原子を含有していない脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含有していない脂環式炭化水素基がより好ましく、ヘテロ原子を含有していない脂肪族炭化水素基とヘテロ原子を含有していない脂環式炭化水素基との組み合わせからなる基であることがさらに好ましい。
As the unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms represented by R a4 to R a10 in general formulas (a-3) to (a-5), R a1 in general formula (a-1) The same ones as in the case of are mentioned, and preferable ones are also the same.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms represented by X a1 in the general formula (a-4) includes, for example, methylene group, ethylene group, alkylene group having 1 to 6 carbon atoms such as trimethylene group; An alkylidene group having 2 to 6 carbon atoms such as a ridene group can be mentioned. Among these, a methylene group and an isopropylidene group are preferred, and an isopropylidene group is more preferred.
The organic group represented by X a2 in the general formula (a-5) includes an aliphatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, an aliphatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, A cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, a group consisting of any combination thereof, and the like can be mentioned. Examples of the heteroatom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and the like. The organic group represented by X a2 is preferably a group containing no heteroatom from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, and an aliphatic hydrocarbon group containing no heteroatom, A heteroatom-free alicyclic hydrocarbon group is more preferred, and a group consisting of a combination of a heteroatom-free aliphatic hydrocarbon group and a heteroatom-free alicyclic hydrocarbon group. It is even more preferable to have

上記一般式(a-3)、(a-4)又は(a-5)で表される構造について、より好ましい態様は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、それぞれ下記式(a-3’)、(a-4’)又は(a-5’)で表される構造である。これらの中でも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び相容性の観点から、下記式(a-4’)又は(a-5’)で表される構造がより好ましく、下記式(a-5’)で表される構造がさらに好ましい。

Figure 0007298623000012

(上記式中、Xa2は前記一般式(a-5)中のXa2と同じである。*は、他の構造への結合位置を示す。)A more preferred embodiment of the structure represented by the general formula (a-3), (a-4) or (a-5) is the following formula ( a-3′), (a-4′) or (a-5′). Among these, from the viewpoint of dielectric properties and compatibility in a high frequency band of 10 GHz or higher, a structure represented by the following formula (a-4') or (a-5') is more preferable, and the following formula (a -5') is more preferred.
Figure 0007298623000012

(In the above formula, X a2 is the same as X a2 in the general formula (a-5). * indicates a bonding position to another structure.)

(A)成分は、ポリフェニレンエーテル誘導体であるため、いうまでもなく、下記一般式(I)で表される構造単位も有する。

Figure 0007298623000013

(式中、Ra11は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。p1は0~4の整数である。)Since component (A) is a polyphenylene ether derivative, it goes without saying that it also has a structural unit represented by the following general formula (I).
Figure 0007298623000013

(In the formula, each R a11 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. p1 is an integer of 0 to 4.)

前記一般式(I)中のRa11は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。該脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチル基がより好ましい。また、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
以上の中でも、Ra11としては、好ましくは炭素数1~5の脂肪族炭化水素基である。
p1は0~4の整数であり、0~2の整数であってもよく、2であってもよい。なお、p1が1又は2である場合、Ra11はベンゼン環上のオルト位(但し、酸素原子の置換位置を基準とする。)に置換していてもよい。また、p1が2以上である場合、複数のRa11同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
前記一般式(I)で表される構造単位としては、具体的には、下記一般式(I')で表される構造単位であってもよい。

Figure 0007298623000014
Each R a11 in the general formula (I) is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group and the like. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a methyl group. Further, the halogen atom includes, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
Among the above, R a11 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
p1 is an integer of 0 to 4, may be an integer of 0 to 2, or may be 2; When p1 is 1 or 2, R a11 may be substituted at the ortho position (based on the substitution position of the oxygen atom) on the benzene ring. Further, when p1 is 2 or more, the plurality of R a11 may be the same or different.
Specifically, the structural unit represented by the general formula (I) may be a structural unit represented by the following general formula (I').
Figure 0007298623000014

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、下記一般式(A-i)~(A-iii)のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していてもよく、特に下記一般式(A-ii)又は(A-iii)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していることが好ましく、下記一般式(A-iii)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含有していることがより好ましい。

Figure 0007298623000015

(上記式中、Xa2は前記一般式(a-5)中のXa2と同じである。q1~q3は、各々独立に、1~200の整数である。)The polyphenylene ether derivative (A) may contain a polyphenylene ether derivative represented by any one of the following general formulas (Ai) to (A-iii), especially the following general formula (A-ii) or It preferably contains a polyphenylene ether derivative represented by (A-iii), and more preferably contains a polyphenylene ether derivative represented by the following general formula (A-iii).
Figure 0007298623000015

(In the above formula, X a2 is the same as X a2 in the general formula (a-5). q1 to q3 are each independently an integer of 1 to 200.)

前記一般式(A-i)~(A-iii)において、q1~q3は各々独立に、1~200の整数であり、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点及び樹脂組成物の相容性の観点から、好ましくは1~150の整数、より好ましくは1~120の整数、さらに好ましくは1~100の整数である。q1~q3の前記数値範囲の下限値としては、10以上であってもよく、20以上であってもよく、25以上であってもよい。
前記一般式(A-i)~(A-iii)のいずれにおいても、q1~q3の値が異なるポリフェニレンエーテル誘導体の混合物であってもよく、通常、混合物となる傾向にある。
In the general formulas (Ai) to (A-iii), q1 to q3 are each independently an integer of 1 to 200, and from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher and the phase of the resin composition From the viewpoint of capacity, it is preferably an integer of 1-150, more preferably an integer of 1-120, even more preferably an integer of 1-100. The lower limit of the numerical range of q1 to q3 may be 10 or more, 20 or more, or 25 or more.
Any of the general formulas (Ai) to (A-iii) may be a mixture of polyphenylene ether derivatives with different values of q1 to q3, and usually tends to be a mixture.

(数平均分子量(Mn))
ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量としては、好ましくは1,000~25,000である。ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量が1,000以上であれば、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性がより一層良好となる傾向にある。また、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量が25,000以下であれば、樹脂組成物の相容性が良好となり、長期間放置しておいても分離し難くなる傾向にある。同様の観点から、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量は、より好ましくは2,000~20,000、さらに好ましくは2,500~15,000、よりさらに好ましくは3,000~10,000、特に好ましくは3,000~7,500、最も好ましくは3,000~6,000である。
なお、本明細書において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した値であり、より詳細には実施例に記載の数平均分子量の測定方法により求めた値である。
(Number average molecular weight (Mn))
The number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A) is preferably 1,000 to 25,000. If the polyphenylene ether derivative (A) has a number average molecular weight of 1,000 or more, the dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher tend to be even better. Further, when the number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A) is 25,000 or less, the compatibility of the resin composition is improved, and separation tends to be difficult even if left standing for a long period of time. From the same point of view, the number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A) is more preferably 2,000 to 20,000, still more preferably 2,500 to 15,000, still more preferably 3,000 to 10,000. , particularly preferably 3,000 to 7,500, most preferably 3,000 to 6,000.
In the present specification, the number average molecular weight is a value converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC), and more specifically, measurement of the number average molecular weight described in the Examples. It is the value obtained by the method.

(ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造方法)
以下、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造方法の一態様について説明するが、特に下記説明に限定されるものではない。
例えば、前記一般式(a-1)~(a-5)のいずれかで表される構造を有するフェノール化合物[以下、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と称する]と、数平均分子量10,000~30,000のポリフェニレンエーテル[以下、原料ポリフェニレンエーテルと称することがある]を有機溶媒中で、再分配反応をさせることによりポリフェニレンエーテルの低分子量化を伴いながら、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造することができる。
(Method for producing polyphenylene ether derivative (A))
One aspect of the method for producing the polyphenylene ether derivative (A) will be described below, but the method is not particularly limited to the description below.
For example, a phenol compound having a structure represented by any of the general formulas (a-1) to (a-5) [hereinafter referred to as unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1)], A polyphenylene ether derivative with an average molecular weight of 10,000 to 30,000 [hereinafter sometimes referred to as a raw material polyphenylene ether] is subjected to a redistribution reaction in an organic solvent while reducing the molecular weight of the polyphenylene ether. (A) can be produced.

なお、前記再分配反応は、例えば、既に重合して製造された原料ポリフェニレンエーテルに対して不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)を混合し、必要に応じて後述の反応触媒を添加することによって、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)のオキシラジカルが、原料ポリフェニレンエーテル中の酸素原子が結合している炭素原子へ攻撃してそこでO-C結合が切れて低分子量化する反応である。その際、攻撃した不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)のオキシラジカルが、結合が切れた炭素原子と結合し、ポリフェニレンエーテルの構造に取り込まれる。該再分配反応としては、公知の方法を利用及び応用することができる。 In the redistribution reaction, for example, the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is mixed with the raw material polyphenylene ether that has already been polymerized, and if necessary, the reaction catalyst described later is added. By doing so, the oxy radical of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) attacks the carbon atom to which the oxygen atom in the raw material polyphenylene ether is bonded, and the OC bond is cut there, resulting in a low molecular weight. It is a reaction that converts At that time, the attacked oxy radical of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is bonded to the carbon atom where the bond has been broken and incorporated into the structure of the polyphenylene ether. A known method can be used and applied for the redistribution reaction.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の分子量は、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量によって制御することができ、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量が多いほどポリフェニレンエーテル誘導体(A)は低分子量化される。つまり、最終的に製造されるポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量が好適な範囲となるように不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量を適宜調整すればよい。
不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の使用量としては、特に制限されるものではないが、例えば、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と反応させる原料ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が10,000~30,000である場合、該原料ポリフェニレンエーテル1モルに対する不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)の水酸基が1~10モルとなる量で使用することにより、数平均分子量が前記した好ましい範囲内のポリフェニレンエーテル誘導体(A)が得られる。
The molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A) can be controlled by the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used, and the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used is The higher the amount, the lower the molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A). That is, the amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used may be appropriately adjusted so that the finally produced polyphenylene ether derivative (A) has a suitable number average molecular weight.
The amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) used is not particularly limited, but for example, the raw material polyphenylene ether to be reacted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) When the number average molecular weight is 10,000 to 30,000, the hydroxyl group of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1) is used in an amount of 1 to 10 mol per 1 mol of the raw material polyphenylene ether. , a polyphenylene ether derivative (A) having a number average molecular weight within the above preferred range is obtained.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造工程で使用される有機溶媒は特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等のエステル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等の含窒素化合物などが挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、溶解性の観点から、トルエン、キシレン、メシチレンを選択してもよく、トルエンを選択することが好ましい。 The organic solvent used in the production process of the polyphenylene ether derivative (A) is not particularly limited, but examples include alcohols such as methanol, ethanol, butanol, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl ketones such as isobutyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene; esters such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, butoxyethyl acetate and ethyl acetate; N,N-dimethylformamide and N,N-dimethyl nitrogen-containing compounds such as acetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, from the viewpoint of solubility, toluene, xylene, and mesitylene may be selected, and toluene is preferably selected.

また、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造工程においては、前述のとおり、必要に応じて反応触媒を使用することができる。この反応触媒としては、例えば、再現性良く安定した数平均分子量のポリフェニレンエーテル誘導体(A)を得るという観点から、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート等の有機過酸化物とナフテン酸マンガン等のカルボン酸金属塩とを併用することが好ましい。また、反応触媒の使用量は特に制限はない。ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造する際の反応速度及びゲル化抑制の観点から、例えば、不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)と反応させる原料ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、有機過酸化物を0.5~5質量部、カルボン酸金属塩を0.05~0.5質量部としてもよい。 Moreover, in the production process of the polyphenylene ether derivative (A), as described above, a reaction catalyst can be used as necessary. As this reaction catalyst, for example, from the viewpoint of obtaining a polyphenylene ether derivative (A) having a stable number average molecular weight with good reproducibility, organic peroxides such as t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and carboxylic acids such as manganese naphthenate can be used. It is preferable to use together with a metal salt. Also, the amount of the reaction catalyst used is not particularly limited. From the viewpoint of reaction rate and gelation suppression when producing the polyphenylene ether derivative (A), for example, with respect to 100 parts by mass of the raw material polyphenylene ether to be reacted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1), organic Peroxide may be 0.5 to 5 parts by mass, and carboxylic acid metal salt may be 0.05 to 0.5 parts by mass.

前記不飽和脂肪族炭化水素基含有フェノール化合物(1)、前記数平均分子量10,000~30,000の原料ポリフェニレンエーテル、有機溶媒及び必要により反応触媒を反応器に所定量仕込み、加熱、保温、撹拌しながら反応させることによりポリフェニレンエーテル誘導体(A)が得られる。この工程での反応温度及び反応時間は、公知の再分配反応時における反応条件を適用でき、適宜調整すればよい。
作業性及びゲル化抑制の観点から、並びに前記所望の数平均分子量の(A)成分を得る観点から、例えば、反応温度70~110℃、反応時間1~8時間で反応を行ってもよい。
A predetermined amount of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group-containing phenol compound (1), the raw material polyphenylene ether having a number average molecular weight of 10,000 to 30,000, an organic solvent and, if necessary, a reaction catalyst are charged into a reactor, heated, kept warm, A polyphenylene ether derivative (A) is obtained by reacting with stirring. For the reaction temperature and reaction time in this step, the reaction conditions for known redistribution reactions can be applied, and they may be adjusted as appropriate.
From the viewpoint of workability and gelation suppression, and from the viewpoint of obtaining the component (A) having the desired number average molecular weight, the reaction may be carried out at, for example, a reaction temperature of 70 to 110° C. and a reaction time of 1 to 8 hours.

前記ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造工程における反応中の固形分濃度(以下、反応濃度と称する)は、特に制限されるものではないが、例えば、10~60質量%であってもよく、25~55質量%であってもよい。反応濃度が10質量%以上の場合、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面でより有利な傾向にある。また、反応温度が60質量%以下の場合、より良好な溶解性が得られる傾向にあり、さらに、溶液粘度が低くて撹拌効率がよく、ゲル化し難い傾向にある。 The solid content concentration (hereinafter referred to as reaction concentration) during the reaction in the production process of the polyphenylene ether derivative (A) is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 60% by mass. It may be up to 55% by mass. When the reaction concentration is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow, which tends to be more advantageous in terms of production cost. Further, when the reaction temperature is 60% by mass or less, better solubility tends to be obtained, and furthermore, solution viscosity is low, stirring efficiency is good, and gelation tends to be difficult.

以上の様にして製造されたポリフェニレンエーテル誘導体(A)の溶液は、後述のように必要に応じて濃縮して有機溶媒の一部を除去してもよいし、有機溶媒を追加して希釈してもよい。 The solution of the polyphenylene ether derivative (A) produced as described above may be concentrated as described later to remove part of the organic solvent, or may be diluted by adding an organic solvent. may

本発明の樹脂組成物は、当該(A)成分の代わりに前記原料ポリフェニレンエーテルを含有させた樹脂組成物よりも、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性が優れる傾向にある。 The resin composition of the present invention tends to have better dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher than a resin composition containing the raw material polyphenylene ether instead of the component (A).

<マレイミド化合物(B)>
マレイミド化合物(B)は、N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも1種である。該マレイミド化合物(B)は、前記ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を包含しない。さらに、マレイミド化合物(B)は、前記一般式(I)で表される構造単位を含有しないこと、換言すると、ポリフェニレンエーテル骨格を含有しないことが好ましい。
また、前記「その誘導体」としては、前記N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物と、後述するジアミン化合物(b2)等のアミン化合物との付加反応物などが挙げられる。
マレイミド化合物(B)としては、有機溶媒への溶解性、相容性、導体との接着性、及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物の誘導体が好ましく、N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物(b1)[以下、単にマレイミド化合物(b1)又は(b1)成分と称することがある。]由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有するポリアミノビスマレイミド化合物(以下、ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)と称することがある)であることがより好ましい。
なお、(b1)成分由来の構造単位及び(b2)成分由来の構造単位は、各々について、1種類であってもよく、2種類以上の組み合わせであってもよい。
<Maleimide compound (B)>
The maleimide compound (B) is at least one selected from the group consisting of maleimide compounds having at least two N-substituted maleimide groups and derivatives thereof. The maleimide compound (B) does not include the polyphenylene ether derivative (A). Furthermore, it is preferable that the maleimide compound (B) does not contain the structural unit represented by the general formula (I), in other words, does not contain a polyphenylene ether skeleton.
Examples of the "derivatives thereof" include addition reaction products of the maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups and an amine compound such as the diamine compound (b2) described later.
The maleimide compound (B) has at least two N-substituted maleimide groups from the viewpoint of solubility in organic solvents, compatibility with conductors, adhesion to conductors, and dielectric properties in high frequency bands of 10 GHz or higher. Derivatives of the maleimide compound are preferred, and the maleimide compound (b1) having at least two N-substituted maleimide groups [hereinafter sometimes simply referred to as maleimide compound (b1) or component (b1). ] and a structural unit derived from the diamine compound (b2) (hereinafter sometimes referred to as a polyaminobismaleimide compound (B1)).
The structural unit derived from the component (b1) and the structural unit derived from the component (b2) may be of one type or a combination of two or more types.

(b1)成分の具体例としては、N-置換マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物であれば特に限定されないが、例えば、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、m-フェニレンビスマレイミド、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン等の芳香族マレイミド化合物;1,6-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、ピロリロン酸バインダ型長鎖アルキルビスマレイミド等の脂肪族マレイミド化合物などが挙げられる。これらの中でも、導体との接着性及び機械特性の観点から、芳香族マレイミド化合物が好ましく、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミドがより好ましい。 Specific examples of component (b1) are not particularly limited as long as they are maleimide compounds having two or more N-substituted maleimide groups. maleimidophenyl)ether, bis(4-maleimidophenyl)sulfone, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, m - Aromatic maleimide compounds such as phenylene bismaleimide and 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane; 1,6-bismaleimide-(2,2,4-trimethyl)hexane, pyrrolonic acid binders and aliphatic maleimide compounds such as long-chain alkyl bismaleimide. Among these, aromatic maleimide compounds are preferred from the viewpoint of adhesion to conductors and mechanical properties, and 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, 3,3'-dimethyl-5, More preferred is 5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide.

成分(b1)由来の構造単位としては、下記一般式(B-1)で表される基及び下記一般式(B-2)で表される基からなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。

Figure 0007298623000016

(式中、XB1は有機基を示し、*は他の構造への結合位置を示す。)The structural unit derived from component (b1) includes at least one selected from the group consisting of a group represented by the following general formula (B-1) and a group represented by the following general formula (B-2). be done.
Figure 0007298623000016

(In the formula, X B1 represents an organic group and * represents a bonding position to another structure.)

前記一般式(B-1)及び(B-2)中のXB1は有機基であり、(b1)成分の残基に相当する。なお、(b1)成分の残基とは、(b1)成分から結合に供された官能基、つまりマレイミド基を除いた部分の構造をいう。
B1が表す有機基としては、例えば、下記一般式(II)、(III)、(IV)又は(V)で表される基が挙げられる。
X B1 in the general formulas (B-1) and (B-2) is an organic group and corresponds to the residue of component (b1). The term “residue of component (b1)” refers to the structure of the portion of component (b1) excluding the functional group used for bonding, that is, the maleimide group.
Examples of the organic group represented by X B1 include groups represented by the following general formulas (II), (III), (IV) and (V).

Figure 0007298623000017

(式中、Rb1は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。pは0~4の整数である。)
b1が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
pは0~4の整数であり、入手容易性の観点から、0~2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。pが2以上の整数である場合、複数のRb1同士は同一であっても異なっていてもよい。
Figure 0007298623000017

(In the formula, each R b1 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. p is an integer of 0 to 4.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
p is an integer of 0 to 4, may be an integer of 0 to 2, may be 0 or 1, or may be 0 from the viewpoint of availability. When p is an integer of 2 or more, a plurality of R b1 may be the same or different.

Figure 0007298623000018

(式中、Rb2及びRb3は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Wは炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合、又は下記一般式(III-1)で表される基である。q及びrは各々独立に0~4の整数である。)
b2及びRb3が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rb1の場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基、エチル基であってもよく、エチル基であってもよい。
が表す炭素数1~5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2-ジメチレン基、1,3-トリメチレン基、1,4-テトラメチレン基、1,5-ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、炭素数1~3のアルキレン基であってもよく、メチレン基であってもよい。
が表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、イソプロピリデン基であってもよい。
としては、上記選択肢の中でも、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基であってもよい。
q及びrは各々独立に0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0~2の整数であってもよく、0又は2であってもよい。q又はrが2以上の整数である場合、複数のRb2同士又はRb3同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
なお、Wが表す一般式(III-1)で表される基は以下のとおりである。
Figure 0007298623000018

(wherein R b2 and R b3 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom; W 2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms; an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms; group, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group, single bond, or a group represented by the following general formula (III-1), q and r are each independently an integer of 0 to 4 is.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b2 and R b3 are the same as in the case of R b1 . The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, or an ethyl group.
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by W 2 include methylene group, 1,2-dimethylene group, 1,3-trimethylene group, 1,4-tetramethylene group, 1,5-pentamethylene group, and the like. are mentioned. The alkylene group is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion and flame retardancy. or a methylene group.
Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by W 2 include ethylidene group, propylidene group, isopropylidene group, butylidene group, isobutylidene group, pentylidene group, isopentylidene group and the like. Among these, from the viewpoint of high frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy, an isopropylidene group may be used.
W 2 may be an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms among the above options.
q and r are each independently an integer of 0 to 4, and both may be an integer of 0 to 2, or may be 0 or 2, from the viewpoint of availability. When q or r is an integer of 2 or more, a plurality of R b2 or R b3 may be the same or different.
The group represented by general formula (III-1) represented by W 2 is as follows.

Figure 0007298623000019

(式中、Rb4及びRb5は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Wは炭素数1~5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。s及びtは各々独立に0~4の整数である。)
b4及びRb5が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rb1の場合と同様に説明される。
が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基としては、Wが表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基と同じものが挙げられる。
としては、上記選択肢の中から、炭素数2~5のアルキリデン基を選択してもよい。
s及びtは0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0~2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。s又はtが2以上の整数である場合、複数のRb4同士又はRb5同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Figure 0007298623000019

(wherein R b4 and R b5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom; W 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, or a single bond, and s and t are each independently an integer of 0 to 4.)
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R b4 and R b5 are explained in the same manner as in the case of R b1 .
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by W 3 include the same alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by W 2 . be done.
As W3 , an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms may be selected from the above options.
s and t are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both may be integers of 0 to 2, may be 0 or 1, or may be 0. When s or t is an integer of 2 or more, a plurality of Rb4 's or Rb5 's may be the same or different.

Figure 0007298623000020

(式中、nは0~10の整数である。)
nは、入手容易性の観点から、0~5の整数であってもよく、0~3の整数であってもよい。
Figure 0007298623000020

(Wherein, n is an integer from 0 to 10.)
n may be an integer of 0 to 5 or an integer of 0 to 3 from the viewpoint of availability.

Figure 0007298623000021

(式中、Rb6及びRb7は各々独立に、水素原子又は炭素数1~5の脂肪族炭化水素基である。uは1~8の整数である。)
b6及びRb7が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、Rb1の場合と同様に説明される。
uは1~8の整数であり、1~3の整数であってもよく、1であってもよい。
Figure 0007298623000021

(In the formula, R b6 and R b7 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. u is an integer of 1 to 8.)
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R b6 and R b7 is explained in the same manner as in the case of R b1 .
u is an integer of 1 to 8, may be an integer of 1 to 3, or may be 1;

前記一般式(B-1)及び(B-2)中のXB1としては、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数、難燃性、及び10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、下記式(XB1-1)~(XB1-3)のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式(XB1-3)で表される基であることがより好ましい。また、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、XB1として、下記式(XB1-1)で表される基と下記式(XB1-3)で表される基との両方を有していてもよいし、XB1として、下記式(XB1-2)で表される基と下記式(XB1-3)で表される基との両方を有していてもよい。

Figure 0007298623000022

(波線は、マレイミド基中の窒素原子との結合位置を示す。)X B1 in the general formulas (B-1) and (B-2) includes adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, coefficient of thermal expansion, flame retardancy, and a high frequency band of 10 GHz or higher. From the viewpoint of dielectric properties in , it is preferably a group represented by any one of the following formulas (X B1 -1) to (X B1 -3), and a group represented by the following formula (X B1 -3) It is more preferable to have In addition, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, as X B1 , both a group represented by the following formula (X B1 -1) and a group represented by the following formula (X B1 -3) or X B1 may have both a group represented by the following formula (X B1 -2) and a group represented by the following formula (X B1 -3) .
Figure 0007298623000022

(The wavy line indicates the bonding position with the nitrogen atom in the maleimide group.)

マレイミド化合物(B)中における(b1)成分由来の構造単位の合計含有量は、5~95質量%が好ましく、30~93質量%がより好ましく、60~90質量%がさらに好ましく、75~90質量%が特に好ましい。(b1)成分由来の構造単位の含有量が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性がより良好となり、且つ、良好なフィルムハンドリング性が得られる傾向にある。 The total content of structural units derived from the component (b1) in the maleimide compound (B) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 30 to 93% by mass, further preferably 60 to 90% by mass, further preferably 75 to 90% by mass. % by weight is particularly preferred. When the content of the structural unit derived from the component (b1) is within the above range, dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher tend to be better, and good film handling property can be obtained.

前記(b2)成分は、アミノ基を2個有する化合物であれば、特に制限はない。
(b2)成分としては、例えば、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルケトン、4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジヒドロキシベンジジン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3-ビス〔1-[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1-メチルエチル〕ベンゼン、1,4-ビス〔1-[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1-メチルエチル〕ベンゼン、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、3,3’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等が挙げられる。
The component (b2) is not particularly limited as long as it is a compound having two amino groups.
Component (b2) includes, for example, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyldiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane, 4,4 '-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4 '-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxybenzidine, 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)propane, 3,3'- dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1, 3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl , 1,3-bis[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1-methylethyl]benzene, 1,4-bis[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1- methylethyl]benzene, 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 4,4'-[1,4-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 3,3 '-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 9,9- bis(4-aminophenyl)fluorene and the like.

これらの中でも、(b2)成分としては、有機溶媒への溶解性、(b1)成分との反応性、及び耐熱性に優れるという観点から、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、及び4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリンが好ましい。また、(b2)成分は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び低吸水性に優れるという観点から、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンが好ましい。また、(b2)成分は、導体との高接着性、伸び、破断強度等の機械特性に優れる観点から、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましい。さらに、上記の有機溶媒への溶解性、合成時の反応性、耐熱性、導体との高接着性に優れることに加えて、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び低吸湿性に優れるという観点から、(b2)成分は、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリンが好ましい。 Among these, as the component (b2), 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino -3,3′-dimethyldiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 4,4′-[1, 3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline and 4,4′-[1,4-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline are preferred. In addition, the component (b2) is 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane from the viewpoint of excellent dielectric properties and low water absorption in a high frequency band of 10 GHz or higher. preferable. Further, the component (b2) is preferably 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane from the viewpoint of excellent mechanical properties such as high adhesion to conductors, elongation and breaking strength. Furthermore, in addition to the above-mentioned solubility in organic solvents, reactivity during synthesis, heat resistance, and high adhesion to conductors, it is said to have excellent dielectric properties and low hygroscopicity in high frequency bands of 10 GHz and above. From the viewpoint, the component (b2) is 4,4′-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 4,4′-[1,4-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline is preferred.

(b2)成分由来の構造単位としては、例えば、下記一般式(B-3)で表される基及び下記一般式(B-4)で表される基からなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。 The structural unit derived from the component (b2) is, for example, at least one type selected from the group consisting of a group represented by the following general formula (B-3) and a group represented by the following general formula (B-4). is mentioned.

Figure 0007298623000023

(式中、XB2は有機基を示し、*は他の構造への結合位置を示す。)
Figure 0007298623000023

(In the formula, X B2 represents an organic group, and * represents a bonding position to another structure.)

前記一般式(B-3)及び(B-4)中のXB2は有機基であり、(b2)成分の残基に相当する。なお、(b2)成分の残基とは、(b2)成分から結合に供された官能基、つまりアミノ基を除いた部分の構造をいう。X B2 in the general formulas (B-3) and (B-4) is an organic group and corresponds to the residue of component (b2). The residue of the component (b2) refers to the structure of the portion of the component (b2) excluding the functional group used for bonding, that is, the amino group.

前記一般式(B-3)及び前記一般式(B-4)中のXB2は、下記一般式(VI)で表される基であることが好ましい。

Figure 0007298623000024

(式中、Rb11及びRb12は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、炭素数1~5のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。Wは、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、フルオレニレン基、単結合、又は下記一般式(VI-1)もしくは(VI-2)で表される基である。q’及びr’は各々独立に0~4の整数である。)X B2 in the general formulas (B-3) and (B-4) is preferably a group represented by the following general formula (VI).
Figure 0007298623000024

(wherein R b11 and R b12 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen atom; W 4 is a 5 alkylene group, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, a fluorenylene group, a single bond, or the following general formula (VI-1) or (VI-2 ), q′ and r′ are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 0007298623000025

(式中、Rb13及びRb14は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Wは炭素数1~5のアルキレン基、イソプロピリデン基、m-フェニレンジイソプロピリデン基、p-フェニレンジイソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。s’及びt’は各々独立に0~4の整数である。)
Figure 0007298623000025

(wherein R b13 and R b14 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom; W 5 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, isopropylidene group, m-phenyl diisopropylidene group, p-phenylenediisopropylidene group, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group or single bond, s' and t' each independently being an integer of 0 to 4; .)

Figure 0007298623000026

(式中、Rb15は炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。W及びWは各々独立に、炭素数1~5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。wは0~4の整数である。)
Figure 0007298623000026

(Wherein, R b15 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom; W 6 and W 7 are each independently an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, or a single bond, and w is an integer of 0 to 4.)

上記一般式(VI)、(VI-1)又は(VI-2)中のRb11、Rb12、Rb13、Rb14及びRb15が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子としては、前記一般式(II)中のRb1と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基であってもよく、メチル基、エチル基であってもよい。
上記一般式(VII)、(VII-1)又は(VII-2)中のW及びWが表す炭素数1~5のアルキレン基、並びにWが表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、前記一般式(III)中のWの場合と同様に説明される。また、上記一般式(VII-2)中のW及びWが表す炭素数1~5のアルキレン基は、前記一般式(III)中のWの場合と同様に説明される。
q’及びr’は0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0~2の整数であってもよく、0又は2であってもよい。s’及びt’は0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0~2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。wは0~4の整数であり、入手容易性の観点から、0~2の整数であってもよく、0であってもよい。
Aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms or halogen atoms represented by R b11 , R b12 , R b13 , R b14 and R b15 in general formula (VI), (VI-1) or (VI-2) above The same as Rb1 in the general formula (II) can be mentioned. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, or may be a methyl group or an ethyl group.
As an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by W 4 and W 5 in the general formula (VII), (VII-1) or (VII-2) and an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by W 4 is explained in the same manner as for W2 in the general formula (III). The alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by W 6 and W 7 in general formula (VII-2) is explained in the same manner as W 2 in general formula (III).
q' and r' are integers of 0 to 4, and both may be integers of 0 to 2, or may be 0 or 2 from the viewpoint of availability. s' and t' are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both may be integers of 0 to 2, may be 0 or 1, or may be 0 . w is an integer of 0 to 4, and may be an integer of 0 to 2 or 0 from the viewpoint of availability.

マレイミド化合物(B)中における(b2)成分由来の構造単位の合計含有量は、5~95質量%が好ましく、7~70質量%がより好ましく、10~40質量%がさらに好ましく、10~25質量%が特に好ましい。成分(b2)由来の構造単位の含有量が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れ、且つより良好な耐熱性、難燃性及びガラス転移温度が得られる傾向にある。 The total content of structural units derived from the component (b2) in the maleimide compound (B) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 7 to 70% by mass, even more preferably 10 to 40% by mass, further preferably 10 to 25% by mass. % by weight is particularly preferred. When the content of the structural unit derived from the component (b2) is within the above range, excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, and a tendency to obtain better heat resistance, flame retardancy and glass transition temperature. It is in.

マレイミド化合物(B)中における(b1)成分由来の構造単位と、(b2)成分由来の構造単位との含有比率は、マレイミド化合物(B)中における、(b2)成分の-NH基由来の基(-NHも含む)の合計当量(Ta2)と、(b1)成分に由来するマレイミド基由来の基(マレイミド基も含む)の合計当量(Ta1)との当量比(Ta2/Ta1)が、0.05~10であることが好ましく、1.0~5であることがより好ましい。当量比(Ta2/Ta1)が上記範囲内であると、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れ、且つより良好な耐熱性、難燃性及びガラス転移温度が得られる傾向にある。The content ratio of the structural unit derived from the component (b1) to the structural unit derived from the component (b2) in the maleimide compound (B) is the ratio of the -NH2 group derived from the component (b2) in the maleimide compound (B). The equivalent ratio (Ta2/Ta1) between the total equivalent weight (Ta2) of the group (including —NH2 ) and the total equivalent weight (Ta1) of the maleimide group-derived group (including the maleimide group) derived from the component (b1) is , preferably 0.05 to 10, more preferably 1.0 to 5. When the equivalent ratio (Ta2/Ta1) is within the above range, there is a tendency to obtain excellent dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, as well as better heat resistance, flame retardancy and glass transition temperature.

マレイミド化合物(B)は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点、並びに有機溶媒への溶解性、導体との高接着性及びフィルムの成形性等の観点から、下記一般式(B-5)で表されるポリアミノビスマレイミド化合物を含むことが好ましい。 The maleimide compound (B) is selected from the following general formula (B- It is preferable that the polyaminobismaleimide compound represented by 5) is included.

Figure 0007298623000027

(式中、XB1及びXB2は、上記で説明したとおりである。)
Figure 0007298623000027

(Wherein, X B1 and X B2 are as described above.)

(ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の製造方法)
前記マレイミド化合物(b1)由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有する前記ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)は、例えば、(b1)成分と(b2)成分とを有機溶媒中で反応させることで製造することができる。
(b1)成分と(b2)成分とを反応させてポリアミノビスマレイミド化合物(B1)を製造する際には、必要に応じて反応触媒を使用することもできる。反応触媒としては、制限されるものではないが、例えば、p-トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類;トリフェニルホスフィン等のリン系触媒などが挙げられる。これらは1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。また、反応触媒の配合量に特に制限はないが、例えば、(b1)成分及び(b2)成分の合計量100質量部に対して、0.01~5質量部使用すればよい。
(Method for producing polyaminobismaleimide compound (B1))
The polyaminobismaleimide compound (B1) having a structural unit derived from the maleimide compound (b1) and a structural unit derived from the diamine compound (b2) can be prepared, for example, by combining the components (b1) and (b2) in an organic solvent. It can be produced by reacting.
When the (b1) component and the (b2) component are reacted to produce the polyaminobismaleimide compound (B1), a reaction catalyst can be used as necessary. Examples of the reaction catalyst include, but are not limited to, acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid; amines such as triethylamine, pyridine and tributylamine; imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole; triphenylphosphine and the like. and phosphorus-based catalysts. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The amount of the reaction catalyst to be added is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of components (b1) and (b2).

(b1)成分、(b2)成分、必要によりその他の成分を合成釜に所定量仕込み、(b1)成分と(b2)成分とをマイケル付加反応させることにより、前記ポリアミノビスマレイミド化合物が得られる。この工程での反応条件としては、特に限定されないが、例えば、反応速度等の作業性、ゲル化抑制などの観点から、反応温度は50~160℃が好ましく、反応時間は1~10時間が好ましい。
また、この工程では有機溶媒を追加又は濃縮して反応原料の固形分濃度及び溶液粘度を調整することができる。反応原料の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば、10~90質量%が好ましく、20~80質量%がより好ましい。反応原料の固形分濃度が10質量%以上の場合、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面で有利となる傾向にある。また、反応原料の固形分濃度が90質量%以下の場合、より良好な溶解性が得られ、撹拌効率が良くなり、ゲル化し難い傾向にある。
The above polyaminobismaleimide compound is obtained by charging predetermined amounts of components (b1), (b2) and, if necessary, other components into a synthesis vessel, and subjecting components (b1) and (b2) to a Michael addition reaction. The reaction conditions in this step are not particularly limited, but, for example, from the viewpoint of workability such as reaction rate and suppression of gelation, the reaction temperature is preferably 50 to 160° C., and the reaction time is preferably 1 to 10 hours. .
Further, in this step, an organic solvent can be added or concentrated to adjust the solid content concentration and solution viscosity of the reaction raw materials. The solid content concentration of the reaction raw material is not particularly limited, but is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass. When the solid content concentration of the reaction raw material is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow, which tends to be advantageous in terms of production cost. Further, when the solid content concentration of the reaction raw material is 90% by mass or less, better solubility is obtained, stirring efficiency is improved, and gelation tends to be difficult.

こうして得られるポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の数平均分子量は、特に限定されないが、400~10,000が好ましく、500~5,000がより好ましく、500~2,000がさらに好ましく、500~1,300が特に好ましい。ポリアミノビスマレイミド化合物(B1)の数平均分子量は、実施例に記載の方法により求めることができる。 The number average molecular weight of the polyaminobismaleimide compound (B1) thus obtained is not particularly limited, but is preferably from 400 to 10,000, more preferably from 500 to 5,000, still more preferably from 500 to 2,000. , 300 are particularly preferred. The number average molecular weight of the polyaminobismaleimide compound (B1) can be determined by the method described in Examples.

((A)成分及び(B)成分の含有量、並びにそれらの含有割合)
本発明の樹脂組成物において、前記(A)成分の含有量に特に制限はないが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して1質量部以上であることが好ましく、1~20質量部であることがより好ましく、3~10質量部であることがさらに好ましく、3~7質量部であることが特に好ましい。ここで、本明細書において、「樹脂成分」とは、前記(A)成分及び(B)成分、さらに、任意に使用する(C)成分及び(G)成分のことを指す。つまり、樹脂組成物が(C)成分及び(G)成分を含有しない場合には、「樹脂成分」は(A)成分及び(B)成分を指し、樹脂組成物が(C)成分及び(G)成分からなる群から選択される少なくとも1種類を含有する場合には、「樹脂成分」には、(A)成分及び(B)成分と共に、さらに含有するそれらの成分が含まれる。
前記(B)成分の含有量は特に制限はないが、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び成形性の観点から、樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、10~90質量部であることが好ましく、20~80質量部であることがより好ましく、30~70質量部であることがさらに好ましく、35~60質量部であることが特に好ましい。
前記(A)成分と前記(B)成分の含有割合[(A)/(B)]は特に制限はないが、質量比で、1/99~80/20であってもよく、3/97~75/25であってもよく、5/95~70/30であってもよく、5/95~50/50であってもよく、5/95~20/80であってもよく、5/95~15/85であってもよい。(A)成分と(B)成分の合計量に対する(A)成分の含有割合が1質量%以上であれば、10GHz帯以上の高周波数帯において優れた誘電特性が得られる傾向にある。また、80質量%以下であれば、耐熱性、成形性及び加工性が優れる傾向にある。
(Contents of (A) component and (B) component, and their content ratios)
In the resin composition of the present invention, the content of component (A) is not particularly limited, but from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, It is preferably 1 part by mass or more, more preferably 1 to 20 parts by mass, even more preferably 3 to 10 parts by mass, and particularly preferably 3 to 7 parts by mass. As used herein, the term "resin component" refers to the components (A) and (B), and optionally the components (C) and (G). That is, when the resin composition does not contain the (C) component and the (G) component, the "resin component" refers to the (A) component and the (B) component, and the resin composition contains the (C) component and the (G) component. ) component, the “resin component” includes the components (A) and (B) as well as those components further included.
The content of the component (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of dielectric properties and moldability in a high frequency band of 10 GHz or higher, 10 to 10 parts by mass of the total resin components in the resin composition. It is preferably 90 parts by mass, more preferably 20 to 80 parts by mass, still more preferably 30 to 70 parts by mass, and particularly preferably 35 to 60 parts by mass.
The content ratio [(A)/(B)] of the component (A) and the component (B) is not particularly limited, but the mass ratio may be 1/99 to 80/20, or 3/97. ~75/25, 5/95 to 70/30, 5/95 to 50/50, 5/95 to 20/80, 5 /95 to 15/85. If the content of component (A) with respect to the total amount of component (A) and component (B) is 1% by mass or more, excellent dielectric properties tend to be obtained in a high frequency band of 10 GHz or higher. Moreover, if it is 80% by mass or less, the heat resistance, moldability and workability tend to be excellent.

<その他の成分>
本発明の一態様の樹脂組成物は、さらにその他の成分を含有してなるものであってもよい。その他の成分としては、例えば、スチレン系熱可塑性エラストマー(C)[以下、(C)成分と称することがある。]、無機充填材(D)[以下、(D)成分と称することがある。]、硬化促進剤(E)[以下、(E)成分と称することがある。]、難燃剤(F)[以下、(F)成分と称することがある。]及び架橋剤(G)から選択される少なくとも1種類が挙げられる。これらを含有させることにより、積層板とした際の諸特性をさらに向上させることができる。
以下、これらの成分について詳述する。
<Other ingredients>
The resin composition of one embodiment of the present invention may further contain other components. Other components include, for example, a styrene-based thermoplastic elastomer (C) [hereinafter sometimes referred to as component (C). ], an inorganic filler (D) [hereinafter sometimes referred to as component (D). ], curing accelerator (E) [hereinafter sometimes referred to as component (E). ], Flame Retardant (F) [hereinafter sometimes referred to as component (F). ] and at least one selected from the cross-linking agent (G). By containing these, it is possible to further improve various properties of the laminate.
These components are described in detail below.

(スチレン系熱可塑性エラストマー(C))
本発明の樹脂組成物にスチレン系熱可塑性エラストマ(C)を含有させることにより、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、成形性、導体との接着性、はんだ耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性において良好となり、これらのバランスが良くなる傾向にある。
スチレン系熱可塑性エラストマー(C)としては、下記一般式で表されるスチレン系化合物由来の構造単位(下記参照)を有する熱可塑性エラストマーであれば特に制限はなく、スチレン由来の構造単位(Rc1=水素原子、k=0)を有する熱可塑性エラストマーであってもよい。

Figure 0007298623000028

(上記式中、Rc1は水素原子又は炭素数1~5のアルキル基であり、Rc2は、炭素数1~5のアルキル基である。kは、0~5の整数である。)
c1及びRc2が表す炭素数1~5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基等が挙げられ、炭素数1~3のアルキル基であってもよく、メチル基であってもよい。
c1は、水素原子であってもよい。
kは、0~2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。(Styrene-based thermoplastic elastomer (C))
By including the styrene-based thermoplastic elastomer (C) in the resin composition of the present invention, dielectric properties, moldability, adhesion to conductors, solder heat resistance, glass transition temperature, heat The coefficient of expansion and flame retardancy are improved, and the balance between these tends to be improved.
The styrene-based thermoplastic elastomer (C) is not particularly limited as long as it is a thermoplastic elastomer having a structural unit derived from a styrene-based compound represented by the following general formula (see below). =hydrogen atom, k=0).
Figure 0007298623000028

(In the above formula, R c1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R c2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and k is an integer of 0 to 5.)
The alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R c1 and R c2 includes, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and the like, and may be an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. may be a base.
R c1 may be a hydrogen atom.
k may be an integer from 0 to 2, may be 0 or 1, or may be 0;

スチレン系熱可塑性エラストマー(C)が有するスチレン系化合物由来の構造単位以外の構造単位としては、ブタジエン由来の構造単位、イソプレン由来の構造単位、マレイン酸由来の構造単位、無水マレイン酸由来の構造単位等が挙げられる。スチレン系熱可塑性エラストマー(C)は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
前記ブタジエン由来の構造単位及び前記イソプレン由来の構造単位は、水素添加されていてもよい。水素添加されている場合、ブタジエン由来の構造単位はエチレン単位とブチレン単位とが混合した構造単位となり、イソプレン由来の構造単位はエチレン単位とプロピレン単位とが混合した構造単位となる。
Structural units other than the styrene-based compound-derived structural units possessed by the styrene-based thermoplastic elastomer (C) include butadiene-derived structural units, isoprene-derived structural units, maleic acid-derived structural units, and maleic anhydride-derived structural units. etc. The styrene-based thermoplastic elastomer (C) may be used alone or in combination of two or more.
The butadiene-derived structural unit and the isoprene-derived structural unit may be hydrogenated. When hydrogenated, structural units derived from butadiene become structural units in which ethylene units and butylene units are mixed, and structural units derived from isoprene become structural units in which ethylene units and propylene units are mixed.

スチレン系熱可塑性エラストマー(C)としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS、SBBS)、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEPS)及びスチレン-無水マレイン酸共重合体(SMA)からなる群から選択される少なくとも1種類であることが好ましく、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS)及びスチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEPS)からなる群から選択される少なくとも1種類であることががより好ましい。 The styrene-based thermoplastic elastomer (C) is a styrene-butadiene-styrene block copolymer from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature and coefficient of thermal expansion. At least one selected from the group consisting of hydrogenated coalescing (SEBS, SBBS), hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymers (SEPS) and styrene-maleic anhydride copolymer (SMA) It is preferably at least one selected from the group consisting of hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS) and hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS) is more preferable.

なお、前記スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物としては、炭素-炭素二重結合の水素添加率が通常90%以上(95%以上であってもよい。)であるSEBSと、ブタジエンブロック中の1,2-結合部位の炭素-炭素二重結合(下記左参照)が部分的に水素添加されたSBBS(全体の炭素-炭素二重結合に対する水素添加率はおよそ60~85%)とがある。つまり、SBBSについては架橋性能を有する可能性があり、その場合、後述する架橋剤(G)に含まれ得るが、本発明においてはたとえ架橋性能を有していても、スチレン系熱可塑性エラストマーについては(C)成分に分類する。該(C)成分としては、架橋性能を有さないものであってもよく、つまり、水添スチレン系熱可塑性エラストマーであってもよく、その水素転化率は、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上、最も好ましくは99%以上である。

Figure 0007298623000029
As the hydrogenated product of the styrene-butadiene-styrene block copolymer, SEBS having a carbon-carbon double bond hydrogenation rate of usually 90% or more (may be 95% or more), SBBS in which the carbon-carbon double bonds (see left below) at the 1,2-bonded sites in the butadiene block are partially hydrogenated (the hydrogenation rate for the entire carbon-carbon double bonds is approximately 60-85% ). In other words, SBBS may have crosslinkability, and in that case, it may be included in the crosslinker (G) described later, but in the present invention, even if it has crosslinkability, the styrene thermoplastic elastomer is classified as (C) component. The component (C) may be one that does not have crosslinkability, that is, it may be a hydrogenated styrenic thermoplastic elastomer, and its hydrogen conversion rate is preferably 70% or more, more preferably. is 80% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more, and most preferably 99% or more.
Figure 0007298623000029

前記SEBSにおいて、スチレン由来の構造単位の含有率(以下、スチレン含有率と略称することがある。)は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、5~80質量%であってもよく、5~70質量%であってもよく、10~70質量%であってもよく、10~50質量%であってもよい。SEBSのメルトフローレート(MFR)は、特に制限はないが、230℃、荷重2.16kgf(21.2N)の測定条件では、0.1~20g/10minであってもよく、0.5~15g/10minであってもよい。
SEBSの市販品としては、例えば、旭化成ケミカルズ株式会社製のタフテック(登録商標)Hシリーズ、Mシリーズ、株式会社クラレ製のセプトン(登録商標)シリーズ、クレイトンポリマージャパン株式会社製のクレイトン(登録商標)Gポリマーシリーズ等が挙げられる。
In the SEBS, the content of structural units derived from styrene (hereinafter sometimes abbreviated as styrene content) is determined by dielectric properties, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition in high frequency bands of 10 GHz or higher. From the viewpoint of temperature and thermal expansion coefficient, it may be 5 to 80% by mass, 5 to 70% by mass, 10 to 70% by mass, or 10 to 50% by mass. good too. The melt flow rate (MFR) of SEBS is not particularly limited, but may be 0.1 to 20 g / 10 min under the measurement conditions of 230 ° C. and a load of 2.16 kgf (21.2 N), and may be 0.5 to It may be 15 g/10 min.
Commercially available products of SEBS include, for example, Tuftec (registered trademark) H series and M series manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, Septon (registered trademark) series manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Kraton (registered trademark) manufactured by Clayton Polymer Japan Co., Ltd. G polymer series and the like.

前記SBBSにおいて、スチレン含有率は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、40~80質量%であってもよく、50~75質量%であってもよく、55~75質量%であってもよい。SBBSのメルトフローレート(MFR)は、特に制限はないが、190℃、荷重2.16kgf(21.2N)の測定条件では、0.1~10g/10minであってもよく、0.5~10g/10minであってもよく、1~6g/10minであってもよい。
SBBSの市販品としては、例えば、旭化成ケミカルズ株式会社製のタフテック(登録商標)Pシリーズ等が挙げられる。
In the SBBS, the styrene content may be 40 to 80% by mass from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, adhesiveness with conductors, heat resistance, glass transition temperature and thermal expansion coefficient. , 50 to 75% by mass, or 55 to 75% by mass. The melt flow rate (MFR) of SBBS is not particularly limited, but may be 0.1 to 10 g / 10 min under the measurement conditions of 190 ° C. and a load of 2.16 kgf (21.2 N). It may be 10 g/10 min, or 1 to 6 g/10 min.
Examples of commercial products of SBBS include Tuftec (registered trademark) P series manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation.

スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEPS)の水素添加率は、90%以上であってもよく、95%以上であってもよい。SEPSにおいて、スチレン含有率は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、5~60質量%であってもよく、5~50質量%であってもよく、10~40質量%であってもよい。SEPSのメルトフローレート(MFR)は、特に制限はないが、230℃、荷重2.16kgf(21.2N)の測定条件では、0.1~130g/10minであってもよく、10~100g/10minであってもよく、50~90g/10minであってもよい。
SEPSの市販品としては、例えば、株式会社クラレ製のセプトン(登録商標)シリーズ、クレイトンポリマージャパン株式会社製のクレイトンGポリマーシリーズ等が挙げられる。
The hydrogenation rate of the hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS) may be 90% or more, or 95% or more. In SEPS, the styrene content is 5 to 60% by mass from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, adhesiveness with conductors, heat resistance, glass transition temperature and thermal expansion coefficient. It may be 5 to 50% by mass, or 10 to 40% by mass. The melt flow rate (MFR) of SEPS is not particularly limited, but may be 0.1 to 130 g/10 min, 10 to 100 g/ It may be 10 min, or it may be 50 to 90 g/10 min.
Commercially available products of SEPS include, for example, Septon (registered trademark) series manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Kraton G Polymer series manufactured by Kraton Polymer Japan.

スチレン-無水マレイン酸共重合体(SMA)において、スチレン含有率は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、20~90質量%であってもよく、40~90質量%であってもよく、50~90質量%であってもよく、55~85質量%であってもよい。
スチレン-無水マレイン酸共重合体(SMA)は、無水マレイン酸由来の構造単位がエステル化されていてもよい。
SMAの市販品としては、クレイバレーテクノロジーUSA社製のSMA(登録商標)レジン等が挙げられる。
なお、上記のスチレン系熱可塑性エラストマー(C)はいずれも市販品を用いればよい。上記スチレン含有率及びメルトフローレート(MFR)は、製造会社のカタログ又はホームページに記載の値である。
In the styrene-maleic anhydride copolymer (SMA), the styrene content is 20 from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature and coefficient of thermal expansion. It may be up to 90% by mass, 40 to 90% by mass, 50 to 90% by mass, or 55 to 85% by mass.
In the styrene-maleic anhydride copolymer (SMA), structural units derived from maleic anhydride may be esterified.
Commercially available SMA products include SMA (registered trademark) resin manufactured by Clay Valley Technologies USA.
As the styrene-based thermoplastic elastomer (C), commercial products may be used. The above styrene content and melt flow rate (MFR) are the values described in the manufacturer's catalog or website.

本発明の樹脂組成物が(C)成分を含有する場合、(C)成分の含有量は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、(A)~(C)成分の総和100質量部に対して、5~60質量部であることが好ましく、10~60質量部であることがより好ましく、15~60質量部であることがさらに好ましく、15~50質量部であることが特に好ましく、15~40質量部であることが最も好ましい。(C)成分の含有量が(A)~(C)成分の総和100質量部に対して5質部以上であれば、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性及び耐吸湿性がより良好となる傾向にあり、60質量部以下であれば、耐熱性、成形性、加工性及び難燃性がより良好となる傾向にある。 When the resin composition of the present invention contains the component (C), the content of the component (C) is determined by the dielectric properties, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature and heat resistance in a high frequency band of 10 GHz or higher. From the viewpoint of expansion coefficient, it is preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, more preferably 15 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of components (A) to (C). parts, particularly preferably 15 to 50 parts by mass, and most preferably 15 to 40 parts by mass. If the content of component (C) is 5 parts by mass or more with respect to the total of 100 parts by mass of components (A) to (C), dielectric properties and moisture absorption resistance in a high frequency band of 10 GHz or higher are expected to be better. If the content is 60 parts by mass or less, heat resistance, moldability, processability and flame retardancy tend to be better.

(無機充填材(D))
本発明の樹脂組成物に無機充填材(D)を含有させることで、低熱膨張係数、高弾性率性、耐熱性及び難燃性を向上させることができる傾向にある。
(D)成分としては、特に制限されるものではないが、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー(焼成クレー等)、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、熱膨張係数、弾性率、耐熱性及び難燃性の観点から、シリカ、アルミナ、マイカ、タルクであってもよく、シリカ、アルミナであってもよく、シリカであってもよい。シリカとしては、例えば、湿式法で製造され含水率の高い沈降シリカと、乾式法で製造され結合水等をほとんど含まない乾式法シリカが挙げられ、乾式法シリカとしては、さらに、製造法の違いにより破砕シリカ、フュームドシリカ、溶融シリカ(溶融球状シリカ)が挙げられる。
また、無機充填材(D)の形状及び粒径についても特に制限はない。例えば、粒径は0.01~20μmであってもよく、0.1~10μmであってもよい。ここで、粒径とは、平均粒子径を指し、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めた時、体積50%に相当する点の粒子径のことである。レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置等で測定することができる。
(Inorganic filler (D))
By including the inorganic filler (D) in the resin composition of the present invention, there is a tendency that the low coefficient of thermal expansion, high elastic modulus, heat resistance and flame retardancy can be improved.
Component (D) is not particularly limited, but examples include silica, alumina, titanium oxide, mica, beryllia, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, hydroxide magnesium, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, clay (calcined clay, etc.), talc, aluminum borate, silicon carbide, and the like. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, from the viewpoint of thermal expansion coefficient, elastic modulus, heat resistance and flame retardancy, silica, alumina, mica, talc, silica, alumina, or silica may be used. Silica includes, for example, precipitated silica that is produced by a wet method and has a high water content, and dry-process silica that is produced by a dry method and contains almost no bound water. Crushed silica, fumed silica, fused silica (fused spherical silica).
Also, the shape and particle size of the inorganic filler (D) are not particularly limited. For example, the particle size may be 0.01-20 μm, or 0.1-10 μm. Here, the particle diameter refers to the average particle diameter, and is the particle diameter at the point corresponding to 50% volume when the cumulative frequency distribution curve of the particle diameter is obtained with the total volume of the particles being 100%. It can be measured with a particle size distribution measuring device or the like using a laser diffraction scattering method.

本発明の樹脂組成物が(D)成分を含有する場合、樹脂組成物中における(D)成分の含有量は特に制限されるものではないが、熱膨張係数、弾性率、耐熱性及び難燃性の観点から、樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは5~70質量部、より好ましくは15~70質量部、さらに好ましくは20~60質量部、特に好ましくは35~60質量部、最も好ましくは40~55質量部である。 When the resin composition of the present invention contains component (D), the content of component (D) in the resin composition is not particularly limited. From the viewpoint of the properties, it is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 15 to 70 parts by mass, still more preferably 20 to 60 parts by mass, and particularly preferably 35 to 60 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total resin components. , and most preferably 40 to 55 parts by weight.

また、(D)成分を用いる場合、(D)成分の分散性及び(D)成分と樹脂組成物中の有機成分との密着性を向上させる目的で、必要に応じ、カップリング剤を併用してもよい。該カップリング剤としては特に限定されるものではなく、例えば、シランカップリング剤又はチタネートカップリング剤を適宜選択して用いることができる。カップリング剤は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。また、カップリング剤の使用量も特に限定されるものではなく、例えば、(D)成分100質量部に対して0.1~5質量部としてもよく、0.5~3質量部としてもよい。この範囲であれば、諸特性の低下が少なく、上記の(D)成分の使用による特長を効果的に発揮できる傾向にある。
なお、カップリング剤を用いる場合、樹脂組成物中に(D)成分を配合した後、カップリング剤を添加する、いわゆるインテグラルブレンド処理方式ではなく、予め無機充填材にカップリング剤を乾式又は湿式で表面処理した無機充填材を使用する方式を採用できる。この方法を採用することで、より効果的に上記(D)成分の特長を発現できる。
Further, when component (D) is used, a coupling agent is optionally used in combination for the purpose of improving the dispersibility of component (D) and the adhesion between component (D) and the organic component in the resin composition. may The coupling agent is not particularly limited, and for example, a silane coupling agent or a titanate coupling agent can be appropriately selected and used. One type of coupling agent may be used alone, or two or more types may be used in combination. Also, the amount of the coupling agent used is not particularly limited, and may be, for example, 0.1 to 5 parts by mass or 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (D). . Within this range, there is little deterioration in various properties, and there is a tendency that the features of using the component (D) can be effectively exhibited.
When a coupling agent is used, the coupling agent is added to the inorganic filler in advance instead of the so-called integral blending method, in which the coupling agent is added after the component (D) is blended into the resin composition. A method using a wet surface-treated inorganic filler can be adopted. By adopting this method, the features of the component (D) can be exhibited more effectively.

本発明において(D)成分を用いる場合、(D)成分の樹脂組成物への分散性を向上させる目的で、必要に応じ、(D)成分を予め有機溶媒中に分散させたスラリーとして用いることができる。(D)成分をスラリー化する際に使用される有機溶媒は特に制限はないが、例えば、上述したポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造工程で例示した有機溶媒が適用できる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。またこれらの中でも、分散性の観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンを選択できる。また、スラリーの固形分(不揮発分)濃度は特に制限はないが、例えば、無機充填材(D)の沈降性及び分散性の観点から、50~80質量%であってもよく、60~80質量%であってもよい。 When component (D) is used in the present invention, for the purpose of improving the dispersibility of component (D) in the resin composition, if necessary, component (D) may be used as a slurry in which component (D) is previously dispersed in an organic solvent. can be done. The organic solvent used for slurrying the component (D) is not particularly limited, but for example, the organic solvents exemplified in the process for producing the polyphenylene ether derivative (A) described above can be applied. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone can be selected from the viewpoint of dispersibility. In addition, the solid content (non-volatile content) concentration of the slurry is not particularly limited. % by mass.

(硬化促進剤(E))
本発明の樹脂組成物に硬化促進剤(E)を含有させることで、樹脂組成物の硬化性を向上させ、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、耐熱性、導体との接着性、弾性率及びガラス転移温度を向上させることができる傾向にある。
(E)成分としては、例えば、p-トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン化合物;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、イソシアネートマスクイミダゾール(例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2-エチル-4-メチルイミダゾールの付加反応物等)等のイミダゾール化合物;第3級アミン化合物;第4級アンモニウム化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系化合物;ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3-ヘキシン、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン等の有機過酸化物;マンガン、コバルト、亜鉛等のカルボン酸塩などが挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、耐熱性、ガラス転移温度及び保存安定性の観点から、イミダゾール化合物、有機過酸化物、カルボン酸塩であってもよく、耐熱性、ガラス転移温度、弾性率及び熱膨張係数の観点から、イミダゾール化合物と、有機過酸化物又はカルボン酸塩とを併用してもよい。また、有機過酸化物の中では、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンを選択してもよく、カルボン酸塩の中では、ナフテン酸マンガンを選択してもよい。
(Curing accelerator (E))
By including the curing accelerator (E) in the resin composition of the present invention, the curability of the resin composition is improved, and the dielectric properties, heat resistance, adhesion to conductors, and elasticity in a high frequency band of 10 GHz or higher It tends to be able to improve the modulus and glass transition temperature.
Component (E) includes, for example, acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid; amine compounds such as triethylamine, pyridine and tributylamine; tertiary amine compounds; quaternary ammonium compounds; phosphorous compounds such as triphenylphosphine; dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2, 5-bis(t-butylperoxy)-3-hexyne, 2,5-dimethyl-2,5-bis(t-butylperoxy)hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, α,α'-bis organic peroxides such as (t-butylperoxy)diisopropylbenzene; carboxylates such as manganese, cobalt and zinc; These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, from the viewpoint of heat resistance, glass transition temperature and storage stability, imidazole compounds, organic peroxides and carboxylates may be used. Therefore, an imidazole compound and an organic peroxide or carboxylate may be used in combination. Also, among the organic peroxides, α,α'-bis(t-butylperoxy)diisopropylbenzene may be selected, and among the carboxylates, manganese naphthenate may be selected.

本発明の樹脂組成物に(E)成分を含有させる場合、(E)成分の含有量は特に制限されるものではないが、例えば、本発明の樹脂成分の総和100質量部に対して、0.01~10質量部であってもよく、0.01~5質量部であってもよく、0.1~5質量部であってもよく、0.5~5質量部であってもよい。このような範囲で(E)成分を用いると、より良好な耐熱性及び保存安定性が得られる傾向にある。 When the resin composition of the present invention contains the component (E), the content of the component (E) is not particularly limited. .01 to 10 parts by mass, 0.01 to 5 parts by mass, 0.1 to 5 parts by mass, or 0.5 to 5 parts by mass . When the component (E) is used within such a range, better heat resistance and storage stability tend to be obtained.

(難燃剤(F))
本発明の樹脂組成物に難燃剤(F)及び必要に応じて難燃助剤を含有させることで、樹脂組成物の難燃性を向上させることができる傾向にある。
(F)成分としては、リン系難燃剤、金属水和物、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。環境問題の観点から、リン系難燃剤及び金属水和物であってもよい。難燃剤(F)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
(Flame retardant (F))
By incorporating the flame retardant (F) and, if necessary, the auxiliary flame retardant into the resin composition of the present invention, there is a tendency that the flame retardancy of the resin composition can be improved.
Component (F) includes phosphorus-based flame retardants, metal hydrates, halogen-based flame retardants, and the like. From the viewpoint of environmental problems, phosphorus-based flame retardants and metal hydrates may be used. One type of the flame retardant (F) may be used alone, or two or more types may be used in combination.

-リン系難燃剤-
リン系難燃剤としては、一般的に難燃剤として使用されるもののうち、リン原子を含有するものであれば特に制限はなく、無機系のリン系難燃剤であってもよいし、有機系のリン系難燃剤であってもよい。なお、環境問題の観点から、ハロゲン原子を含有しないものを選択できる。10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点からは、有機系のリン系難燃剤であってもよい。
無機系のリン系難燃剤としては、例えば、赤リン;リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム;リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物;リン酸;ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
有機系のリン系難燃剤としては、例えば、芳香族リン酸エステル、1置換ホスホン酸ジエステル、2置換ホスフィン酸エステル、2置換ホスフィン酸の金属塩、有機系含窒素リン化合物、環状有機リン化合物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族リン酸エステル化合物、2置換ホスフィン酸の金属塩を選択できる。ここで、金属塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであってもよく、アルミニウム塩であってもよい。また、有機系のリン系難燃剤の中では、芳香族リン酸エステルを選択できる。
-Phosphorus Flame Retardant-
The phosphorus-based flame retardant is not particularly limited as long as it contains a phosphorus atom among those commonly used as flame retardants, and may be an inorganic phosphorus-based flame retardant or an organic flame retardant. It may be a phosphorus-based flame retardant. From the viewpoint of environmental problems, one that does not contain a halogen atom can be selected. From the viewpoint of dielectric properties, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient and flame retardancy in a high frequency band of 10 GHz or higher, an organic phosphorus-based flame retardant may be used.
Examples of inorganic phosphorus flame retardants include red phosphorus; ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate and ammonium polyphosphate; inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as amide phosphoric acid. ; phosphoric acid; phosphine oxide;
Examples of organic phosphorus-based flame retardants include aromatic phosphoric acid esters, monosubstituted phosphonic acid diesters, disubstituted phosphinic acid esters, metal salts of disubstituted phosphinic acids, organic nitrogen-containing phosphorus compounds, cyclic organic phosphorus compounds, and the like. is mentioned. Among these, aromatic phosphoric acid ester compounds and metal salts of disubstituted phosphinic acids can be selected. Here, the metal salt may be lithium salt, sodium salt, potassium salt, calcium salt, magnesium salt, aluminum salt, titanium salt, zinc salt, or aluminum salt. Further, among organic phosphorus-based flame retardants, aromatic phosphate esters can be selected.

芳香族リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジルジ-2,6-キシレニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、1,3-フェニレンビス(ジ-2,6-キシレニルホスフェート)、ビスフェノールA-ビス(ジフェニルホスフェート)、1,3-フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)等が挙げられる。
1置換ホスホン酸ジエステルとしては、例えば、フェニルホスホン酸ジビニル、フェニルホスホン酸ジアリル、フェニルホスホン酸ビス(1-ブテニル)等が挙げられる。
2置換ホスフィン酸エステルとしては、例えば、ジフェニルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル等が挙げられる。
2置換ホスフィン酸の金属塩としては、ジアルキルホスフィン酸の金属塩、ジアリルホスフィン酸の金属塩、ジビニルホスフィン酸の金属塩、ジアリールホスフィン酸の金属塩等が挙げられる。これら金属塩は、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであってもよく、アルミニウム塩を選択してもよい。
有機系含窒素リン化合物としては、例えば、ビス(2-アリルフェノキシ)ホスファゼン、ジクレジルホスファゼン等のホスファゼン化合物;リン酸メラミン;ピロリン酸メラミン;ポリリン酸メラミン;ポリリン酸メラムなどが挙げられる。
環状有機リン化合物としては、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族リン酸エステル、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物から選択される少なくとも1種類であってもよく、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物から選択される少なくとも1種類であってもよく、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物を併用してもよい。特に、2置換ホスフィン酸の金属塩としては、ジアルキルホスフィン酸の金属塩であってもよく、ジアルキルホスフィン酸のアルミニウム塩であってもよい。環状有機リン化合物としては、10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシドであってもよい。
Examples of aromatic phosphate esters include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl di-2,6-xylenyl phosphate, resorcinol bis(diphenyl phosphate), 1,3 -phenylene bis(di-2,6-xylenyl phosphate), bisphenol A-bis(diphenyl phosphate), 1,3-phenylene bis(diphenyl phosphate) and the like.
The monosubstituted phosphonic acid diesters include, for example, divinyl phenylphosphonate, diallyl phenylphosphonate, bis(1-butenyl) phenylphosphonate and the like.
Disubstituted phosphinate esters include, for example, phenyl diphenylphosphinate and methyl diphenylphosphinate.
The metal salts of disubstituted phosphinic acids include metal salts of dialkylphosphinic acid, metal salts of diallylphosphinic acid, metal salts of divinylphosphinic acid, and metal salts of diarylphosphinic acid. These metal salts may be lithium salts, sodium salts, potassium salts, calcium salts, magnesium salts, aluminum salts, titanium salts or zinc salts, and aluminum salts may be selected.
Examples of organic nitrogen-containing phosphorus compounds include phosphazene compounds such as bis(2-allylphenoxy)phosphazene and dicresylphosphazene; melamine phosphate; melamine pyrophosphate; melamine polyphosphate; and melam polyphosphate.
Cyclic organic phosphorus compounds include 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(2,5-dihydroxyphenyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10- and phosphaphenanthrene-10-oxide.
Among these, at least one selected from aromatic phosphate esters, metal salts of disubstituted phosphinic acids and cyclic organic phosphorus compounds may be used, and may be selected from metal salts of disubstituted phosphinic acids and cyclic organic phosphorus compounds. or a metal salt of a disubstituted phosphinic acid and a cyclic organic phosphorus compound may be used in combination. In particular, the metal salt of a disubstituted phosphinic acid may be a metal salt of a dialkylphosphinic acid or an aluminum salt of a dialkylphosphinic acid. The cyclic organic phosphorus compound may be 10-(2,5-dihydroxyphenyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide.

また、前記芳香族リン酸エステルは、下記一般式(F-1)で表される芳香族リン酸エステルであってもよく、前記2置換ホスフィン酸の金属塩は、下記一般式(F-2)で表される2置換ホスフィン酸の金属塩であってもよい。

Figure 0007298623000030
Further, the aromatic phosphate may be an aromatic phosphate represented by the following general formula (F-1), and the metal salt of the disubstituted phosphinic acid may be represented by the following general formula (F-2 ) may be a metal salt of a disubstituted phosphinic acid represented by
Figure 0007298623000030

(式中、RF1~RF3は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。f1及びf2は各々独立に0~5の整数であり、f3は0~4の整数である。
F4及びRF5は各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又は炭素数6~14の芳香族炭化水素基である。Mは、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、カルシウム原子、マグネシウム原子、アルミニウム原子、チタン原子、亜鉛原子である。yは、1~4の整数である。)
(Wherein, R F1 to R F3 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. f1 and f2 are each independently an integer of 0 to 5, and f3 is 0 to 4 integers.
R F4 and R F5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms. M is a lithium atom, sodium atom, potassium atom, calcium atom, magnesium atom, aluminum atom, titanium atom, zinc atom. y is an integer from 1 to 4; )

F1~RF3が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基及びハロゲン原子としては、前記一般式(I)中のRa11の場合と同じものが挙げられる。
f1及びf2はいずれも、0~2の整数であってもよく、2であってもよい。f3は0~2の整数であってもよく、0又は1であってもよく、0であってもよい。
F4及びRF5が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、該脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基であってもよく、エチル基であってもよい。
F4及びRF5が表す炭素数6~14の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基等が挙げられる。該芳香族炭化水素基としては、炭素数6~10の芳香族炭化水素基であってもよい。
yは金属イオンの価数を表しており、つまり、Mの種類に対応して1~4の範囲内で変化する。
Mとしては、アルミニウム原子であってもよい。なお、Mがアルミニウム原子である場合、yは3である。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R F1 to R F3 are the same as those for R a11 in the general formula (I).
Both f1 and f2 may be integers from 0 to 2, or may be 2. f3 may be an integer from 0 to 2, may be 0 or 1, or may be 0.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R F4 and R F5 includes, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group and an n-butyl group. , isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group and the like. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or an ethyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms represented by R 1 F4 and R 2 F5 include phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group and anthryl group. The aromatic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms.
y represents the valence of the metal ion, ie, varies from 1 to 4 depending on the type of M.
M may be an aluminum atom. In addition, y is 3 when M is an aluminum atom.

-金属水和物-
金属水和物としては、例えば、水酸化アルミニウムの水和物、水酸化マグネシウムの水和物等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。該金属水酸化物は無機充填材にも該当し得るが、難燃性を付与し得る材料の場合には難燃剤に分類する。
-metal hydrate-
Examples of metal hydrates include aluminum hydroxide hydrates and magnesium hydroxide hydrates. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Although the metal hydroxide can also correspond to an inorganic filler, it is classified as a flame retardant in the case of a material capable of imparting flame retardancy.

-ハロゲン系難燃剤-
ハロゲン系難燃剤としては、塩素系難燃剤、臭素系難燃剤等が挙げられる。塩素系難燃剤としては、例えば、塩素化パラフィン等が挙げられる。臭素系難燃剤としては、例えば、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂;ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、エチレンビス(ペンタブロモフェニル)、エチレンビステトラブロモフタルイミド、1,2-ジブロモ-4-(1,2-ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオクタン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、臭素化ポリフェニレンエーテル、臭素化ポリスチレン、2,4,6-トリス(トリブロモフェノキシ)-1,3,5-トリアジン等の臭素化添加型難燃剤(ここで、「添加型」とは、臭素が化学的に結合していない形態でポリマーに導入された、つまりブレンドされたものをいう。);トリブロモフェニルマレイミド、トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、テトラブロモビスフェノールA型ジメタクリレート、ペンタブロモベンジルアクリレート、臭素化スチレン等の不飽和二重結合基含有の臭素化反応型難燃剤(ここで、「反応型」とは、化学的に結合した形態でポリマーに臭素が導入されたものをいう。)などが挙げられる。これらは1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
- Halogen Flame Retardant -
Halogen-based flame retardants include chlorine-based flame retardants, brominated flame-retardants, and the like. Examples of chlorine-based flame retardants include chlorinated paraffins. Examples of brominated flame retardants include brominated epoxy resins such as brominated bisphenol A type epoxy resins and brominated phenol novolac type epoxy resins; Bromophthalimide, 1,2-dibromo-4-(1,2-dibromoethyl)cyclohexane, tetrabromocyclooctane, hexabromocyclododecane, bis(tribromophenoxy)ethane, brominated polyphenylene ether, brominated polystyrene, 2, Brominated additive flame retardants such as 4,6-tris(tribromophenoxy)-1,3,5-triazine (here, "additive" refers to flame retardants in which bromine is not chemically bound to the polymer. unsaturated dimethacrylates such as tribromophenylmaleimide, tribromophenylacrylate, tribromophenylmethacrylate, tetrabromobisphenol A-type dimethacrylate, pentabromobenzylacrylate, and brominated styrene. A brominated reactive flame retardant containing a heavy bond group (here, "reactive type" refers to one in which bromine is introduced into a polymer in a chemically bonded form), and the like. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

((F)成分の含有量)
本発明の樹脂組成物が(F)成分を含有する場合、(F)成分としてリン系難燃剤を用いるときは、樹脂組成物中のリン系難燃剤の含有量は特に制限されるものではないが、例えば、樹脂成分の総和100質量部に対して、リン原子換算で、0.2~5質量部であることが好ましく、0.3~3質量部であることがより好ましく、0.5~3質量部であることがさらに好ましい。リン原子の含有量が0.2質量部以上の場合、より良好な難燃性が得られる傾向にある。また、リン原子の含有量が5質量部以下である場合、より良好な成形性、導体との高接着性、優れた耐熱性及び高ガラス転移温度が得られる傾向にある。
一方、本発明の樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させる場合、環境問題及び耐薬品性の観点から、樹脂成分の総和100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることがより好ましく、5質量部以下であることがさらに好ましく、3質量部以下であることが特に好ましい。(F)成分としては、ハロゲン系難燃剤を使用しない態様も好ましい。
また、本発明の樹脂組成物にリン系難燃剤以外の難燃剤を含有させる場合、特に制限されるものではないが、樹脂成分の総和100質量部に対して、0.5~20質量部であってもよく、1~15質量部であってもよく、1~10質量部であってもよく、2~8質量部であってもよい。
(Content of component (F))
When the resin composition of the present invention contains component (F), and when a phosphorus-based flame retardant is used as component (F), the content of the phosphorus-based flame retardant in the resin composition is not particularly limited. However, for example, it is preferably 0.2 to 5 parts by mass, more preferably 0.3 to 3 parts by mass, in terms of phosphorus atoms with respect to 100 parts by mass of the total resin component, and 0.5 More preferably, it is up to 3 parts by mass. When the phosphorus atom content is 0.2 parts by mass or more, better flame retardancy tends to be obtained. Further, when the content of phosphorus atoms is 5 parts by mass or less, there is a tendency to obtain better moldability, high adhesion to conductors, excellent heat resistance, and a high glass transition temperature.
On the other hand, when the resin composition of the present invention contains a halogen-based flame retardant, from the viewpoint of environmental problems and chemical resistance, it is preferably 20 parts by mass or less with respect to the total of 100 parts by mass of the resin components. It is more preferably not more than 5 parts by mass, even more preferably not more than 5 parts by mass, and particularly preferably not more than 3 parts by mass. An aspect in which no halogen flame retardant is used as the component (F) is also preferred.
Further, when the resin composition of the present invention contains a flame retardant other than a phosphorus-based flame retardant, it is not particularly limited, but 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components. 1 to 15 parts by mass, 1 to 10 parts by mass, or 2 to 8 parts by mass.

(難燃助剤)
本発明の樹脂組成物には、難燃助剤、例えば、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機系難燃助剤を含有させることができる。
本発明の樹脂組成物に難燃助剤を含有させる場合、その含有量は特に制限されるものではないが、例えば、樹脂成分の総和100質量部に対して、0.1~20質量部であってもよく、0.1~10質量部であってもよい。このような範囲で難燃助剤を用いると、より良好な耐薬品性が得られる傾向にある。
(flame retardant aid)
The resin composition of the present invention may contain an auxiliary flame retardant such as antimony trioxide and zinc molybdate.
When the resin composition of the present invention contains a flame retardant aid, the content is not particularly limited, but for example, 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components. It may be 0.1 to 10 parts by mass. Using a flame retardant aid within such a range tends to result in better chemical resistance.

(架橋剤(G))
本発明の樹脂組成物に架橋剤(G)を含有させることで、(A)成分と(B)成分との反応を促進することができる傾向にある。
架橋剤(G)としては、(A)成分及び(B)成分と架橋反応し得るものであれば特に制限されるものではないが、マレイミド基が有する炭素-炭素二重結合と反応し得る基を有する化合物であることが好ましい。その中でも、架橋剤(G)としては、エチレン性不飽和結合を2個以上有する架橋剤であることが好ましい。前記エチレン性不飽和結合としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基、3-ブテニル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;マレイミド基、(メタ)アクリロイル基等のヘテロ原子を含む置換基などに含まれる不飽和結合が挙げられる。架橋剤(G)としては、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性の観点から、エチレン性不飽和結合を上記不飽和脂肪族炭化水素基として有するものが好ましく、ビニル基として有するものがより好ましい。架橋剤(G)が1分子中に有するエチレン性不飽和結合の数は、優れた耐熱性を得る観点から、好ましくは3個以上、より好ましくは5個以上、さらに好ましくは10個以上である。
(Crosslinking agent (G))
By including the cross-linking agent (G) in the resin composition of the present invention, there is a tendency that the reaction between the components (A) and (B) can be promoted.
The cross-linking agent (G) is not particularly limited as long as it can cross-link with components (A) and (B). is preferably a compound having Among these, the cross-linking agent (G) is preferably a cross-linking agent having two or more ethylenically unsaturated bonds. Examples of the ethylenically unsaturated bond include unsaturated aliphatic hydrocarbon groups such as vinyl group, isopropenyl group, allyl group, 1-methylallyl group and 3-butenyl group; Unsaturated bonds included in substituents containing heteroatoms are included. The cross-linking agent (G) preferably has an ethylenically unsaturated bond as the unsaturated aliphatic hydrocarbon group, more preferably a vinyl group, from the viewpoint of dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher. . The number of ethylenically unsaturated bonds that the cross-linking agent (G) has in one molecule is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and still more preferably 10 or more, from the viewpoint of obtaining excellent heat resistance. .

架橋剤(G)としては、具体的には、不飽和ポリエステル;側鎖に炭素-炭素二重結合を有するポリブタジエン、側鎖に炭素-炭素二重結合を有するポリイソプレン等の、側鎖に炭素-炭素二重結合を有するポリアルカジエン;ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のポリビニル化合物;ポリ(メタ)アクリレート化合物;トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のポリアリル化合物;ジアミノジフェニルメタン等のポリアミン化合物などが挙げられる。これらの中でも、側鎖に炭素-炭素二重結合を有するポリアルカジエンが好ましく、側鎖に炭素-炭素二重結合を有するポリブタジエンがより好ましい。架橋剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。 Specific examples of the cross-linking agent (G) include unsaturated polyesters; polybutadiene having a carbon-carbon double bond in the side chain; polyisoprene having a carbon-carbon double bond in the side chain; Polyalkadiene having a carbon double bond; Polyvinyl compounds such as divinylbenzene and divinylbiphenyl; Poly(meth)acrylate compounds; Polyallyl compounds such as triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate; Polyamine compounds such as diaminodiphenylmethane; mentioned. Among these, polyalkadiene having a carbon-carbon double bond in the side chain is preferred, and polybutadiene having a carbon-carbon double bond in the side chain is more preferred. One type of crosslinking agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

本発明の樹脂組成物には、さらに必要に応じて、熱可塑性樹脂、エラストマー等の樹脂材料(前記(C)成分を除く)、並びに、カップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、顔料、着色剤、滑剤等を適宜選択して含有させることができる。これらは1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。また、これらの使用量は特に限定されるものではなく、本発明の効果を阻害しない範囲で使用すればよい。 The resin composition of the present invention may further contain, if necessary, resin materials such as thermoplastic resins and elastomers (excluding the above component (C)), coupling agents, antioxidants, heat stabilizers, and antistatic agents. Agents, UV absorbers, pigments, coloring agents, lubricants, etc. can be appropriately selected and contained. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Moreover, the amount of these to be used is not particularly limited, and may be used within a range that does not impair the effects of the present invention.

(有機溶剤)
本発明の樹脂組成物は、希釈することによって取り扱いを容易にするという観点及び後述するプリプレグを製造し易くする観点から、有機溶剤を含有させてもよい。有機溶剤を含有させた樹脂組成物は、一般的に、樹脂ワニス又はワニスと称されることがある。
該有機溶剤としては、特に制限されないが、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤;ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤;γ-ブチロラクトン等のエステル系溶剤などが挙げられる。
これらの中でも、溶解性の観点から、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、窒素原子含有溶剤であってもよく、ケトン系溶剤であってもよく、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンであってもよく、メチルエチルケトンであってもよい。
有機溶剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
(Organic solvent)
The resin composition of the present invention may contain an organic solvent from the viewpoint of facilitating handling by dilution and from the viewpoint of facilitating the production of a prepreg to be described later. A resin composition containing an organic solvent is generally called a resin varnish or varnish.
Examples of the organic solvent include, but are not limited to, alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; and tetrahydrofuran. aromatic solvents such as toluene, xylene and mesitylene; nitrogen atom-containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; sulfur atom-containing solvents such as dimethylsulfoxide; esters such as γ-butyrolactone system solvents and the like.
Among these, alcohol-based solvents, ketone-based solvents, nitrogen atom-containing solvents, ketone-based solvents, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone may be used from the viewpoint of solubility. well, it may be methyl ethyl ketone.
An organic solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本発明の樹脂組成物における有機溶剤の含有量は、特に制限はないが、固形分濃度が30~90質量%であってもよいし、40~80質量%であってもよく、40~70質量%であってもよく、40~60質量%であってもよい。固形分濃度が上記の範囲内である樹脂組成物を用いることで、取り扱い性が容易となり、さらに基材への含浸性及び製造されるプリプレグの外観が良好で、後述するプリプレグ中の樹脂の固形分濃度の調整が容易となり、所望の厚みとなるようなプリプレグの製造がより容易となる傾向にある。 The content of the organic solvent in the resin composition of the present invention is not particularly limited. % by mass, or 40 to 60% by mass. By using a resin composition having a solid content concentration within the above range, it is easy to handle, and the impregnation of the substrate and the appearance of the produced prepreg are good, and the solid content of the resin in the prepreg, which will be described later, is improved. There is a tendency that it becomes easier to adjust the concentration, and it becomes easier to manufacture a prepreg having a desired thickness.

前記(A)及び(B)成分、必要に応じて併用されるその他の成分、及び必要に応じて有機溶媒を公知の方法で混合し、本発明の樹脂組成物を得ることができる。この際、撹拌しながら溶解又は分散させてもよい。混合順序、温度、時間等の条件は、特に限定されず任意に設定することができる。 The resin composition of the present invention can be obtained by mixing the components (A) and (B), other components used in combination as needed, and an organic solvent as needed by a known method. At this time, it may be dissolved or dispersed while stirring. Conditions such as mixing order, temperature and time are not particularly limited and can be arbitrarily set.

本発明の樹脂組成物は相容性が良好であり、1日放置しても析出物は生じない傾向にある。また、より相容性が優れた態様においては、1週間放置しても析出物が生じない(但し、相分離することはある。)傾向にあり、さらに相容性が優れた態様においては、1週間放置しても、相分離さえしない傾向にある。
本発明の樹脂組成物の硬化物(ガラスクロス等の繊維基材を含まない積層体及び樹脂フィルム)は、10GHzにおける誘電率(Dk)が2.90以下となる傾向にあり、より好ましいものでは2.80以下、さらに好ましいものでは2.75以下となる傾向にある。また、10GHzにおける誘電正接(Df)は、0.0055以下となる傾向にある。
10GHzにおける誘電率(Dk)の下限値に特に制限はないが、2.4以上となる傾向にあり、2.6以上であってもよい。
また、10GHzにおける誘電正接(Df)の下限値に特に制限はないが、0.0015以上となる傾向にあり、0.0020以上であってもよく、0.0023以上であってもよい。
より好ましい態様では、10GHzにおける誘電正接(Df)は0.0050以下であり、0.0045以下であり、0.0035以下であり、0.0030以下であり、0.0029以下である。近年、10GHzにおける誘電正接(Df)については改善が厳しく要求されつつあり、0.0030以下となる場合は極めて好ましく、達成することが非常に難しい水準である。
なお、誘電率及び誘電正接は、空洞共振器法により測定した値であり、より詳細には、実施例に記載する方法によって測定された値である。また、単に誘電率というとき、比誘電率を意味する。
The resin composition of the present invention has good compatibility and tends not to form precipitates even after being left for one day. In addition, in an embodiment with more excellent compatibility, there is a tendency that no precipitates are formed even after standing for one week (although phase separation may occur). In an embodiment with more excellent compatibility, Even if it is left for one week, it tends not to even phase-separate.
Cured products of the resin composition of the present invention (laminates and resin films containing no fiber base material such as glass cloth) tend to have a dielectric constant (Dk) of 2.90 or less at 10 GHz, which is more preferable. It tends to be 2.80 or less, more preferably 2.75 or less. Also, the dielectric loss tangent (Df) at 10 GHz tends to be 0.0055 or less.
Although there is no particular lower limit for the dielectric constant (Dk) at 10 GHz, it tends to be 2.4 or higher, and may be 2.6 or higher.
The lower limit of the dielectric loss tangent (Df) at 10 GHz is not particularly limited, but tends to be 0.0015 or more, may be 0.0020 or more, or may be 0.0023 or more.
In a more preferred embodiment, the dielectric loss tangent (Df) at 10 GHz is 0.0050 or less, 0.0045 or less, 0.0035 or less, 0.0030 or less, and 0.0029 or less. In recent years, there has been a strict demand for improvement of the dielectric loss tangent (Df) at 10 GHz, and a level of 0.0030 or less is extremely desirable and extremely difficult to achieve.
The dielectric constant and dielectric loss tangent are values measured by the cavity resonator method, more specifically, values measured by the method described in Examples. In addition, when simply referred to as a permittivity, it means a relative permittivity.

[プリプレグ]
本発明は、本発明の樹脂組成物を含有してなるプリプレグも提供する。該プリプレグは、より詳細には本発明の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを含有してなるものであり、本発明の樹脂組成物をシート状繊維補強基材に含浸又は塗工し、次いで乾燥させることによって製造することができる。より具体的には、例えば、乾燥炉中で通常、80~200℃の温度で、1~30分間加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させることにより本発明のプリプレグを製造することができる。樹脂組成物の使用量は、乾燥後のプリプレグ中の樹脂組成物由来の固形分濃度が好ましくは30~90質量%、より好ましくは50~90質量%、さらに好ましくは65~80質量%となるように決定することができる。固形分濃度を上記の範囲とすることで積層板とした際、より良好な成形性が得られる傾向にある。
[Prepreg]
The present invention also provides a prepreg containing the resin composition of the present invention. More specifically, the prepreg contains the resin composition of the present invention and a sheet-like fiber-reinforced base material, and the sheet-like fiber-reinforced base material is impregnated or coated with the resin composition of the present invention. , and then dried. More specifically, for example, the prepreg of the present invention can be produced by heat-drying in a drying furnace usually at a temperature of 80 to 200° C. for 1 to 30 minutes to semi-harden (B-stage). . The amount of the resin composition used is such that the solid content concentration derived from the resin composition in the prepreg after drying is preferably 30 to 90% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, and still more preferably 65 to 80% by mass. can be determined as By setting the solid content concentration within the above range, there is a tendency that better moldability can be obtained when a laminate is formed.

プリプレグのシート状繊維補強基材としては、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている公知のものが用いられる。シート状補強基材の材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等の無機物繊維;ポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;これらの混合物などが挙げられる。これらのシート状補強基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有する。また、シート状繊維補強基材の厚みは特に制限されず、例えば、0.02~0.5mmのものを用いることができる。また、樹脂組成物の含浸性、積層板とした際の耐熱性、耐吸湿性、及び加工性の観点から、カップリング剤等で表面処理したもの、及び機械的に開繊処理を施したものを使用できる。 As the sheet-like fiber-reinforced base material of the prepreg, known materials used for various laminates for electrical insulating materials are used. Examples of materials for the sheet-like reinforcing substrate include inorganic fibers such as E-glass, D-glass, S-glass and Q-glass; organic fibers such as polyimide, polyester and tetrafluoroethylene; and mixtures thereof. These sheet-like reinforcing substrates have shapes such as woven fabrics, non-woven fabrics, robinks, chopped strand mats, surfacing mats, and the like. Moreover, the thickness of the sheet-shaped fiber-reinforced base material is not particularly limited, and for example, a thickness of 0.02 to 0.5 mm can be used. In addition, from the viewpoint of the impregnability of the resin composition, the heat resistance, moisture absorption resistance, and workability when laminated, the resin composition is surface-treated with a coupling agent or the like, and mechanically fiber-opened. can be used.

樹脂組成物をシート状補強基材に含浸又は塗工させる方法としては、次のホットメルト法又はソルベント法を採用できる。
ホットメルト法は、樹脂組成物に有機溶剤を含有させず、(1)該樹脂組成物との剥離性の良い塗工紙に一旦コーティングし、それをシート状補強基材にラミネートする方法、又は(2)ダイコーターによりシート状補強基材に直接塗工する方法である。
一方、ソルベント法は、樹脂組成物に有機溶剤を含有させ、得られた樹脂組成物にシート状補強基材を浸漬して、樹脂組成物をシート状補強基材に含浸させ、その後、乾燥させる方法である。
As a method for impregnating or coating the sheet-like reinforcing substrate with the resin composition, the following hot-melt method or solvent method can be employed.
In the hot melt method, the resin composition does not contain an organic solvent, and (1) a coated paper having good releasability from the resin composition is once coated and then laminated to a sheet-shaped reinforcing substrate, or (2) A method of directly coating a sheet-shaped reinforcing substrate with a die coater.
On the other hand, in the solvent method, a resin composition is made to contain an organic solvent, a sheet-shaped reinforcing substrate is immersed in the obtained resin composition, the sheet-shaped reinforcing substrate is impregnated with the resin composition, and then dried. The method.

[樹脂フィルム]
本発明は、本発明の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルムも提供する。例えば、有機溶媒を含有する樹脂組成物、つまり樹脂ワニスを支持体へ塗布し、加熱乾燥させることによって、該樹脂フィルムを製造することができる。支持体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィンのフィルム;ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」ともいう)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルのフィルム;ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等の各種プラスチックフィルムなどが挙げられる。また、支持体として、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔、離型紙などを使用してもよい。支持体には、マット処理、コロナ処理等の表面処理が施してあってもよい。また、支持体には、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等による離型処理が施してあってもよい。
支持体の厚さは、特に限定されないが、10~150μmが好ましく、25~50μmがより好ましい。
[Resin film]
The present invention also provides a resin film containing the resin composition of the present invention. For example, the resin film can be produced by applying a resin composition containing an organic solvent, ie, a resin varnish, to a support and drying by heating. Examples of the support include polyolefin films such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride; polyester films such as polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as "PET") and polyethylene naphthalate; various plastics such as polycarbonate films and polyimide films. film and the like. As the support, metal foil such as copper foil or aluminum foil, release paper, or the like may be used. The support may be subjected to surface treatment such as matte treatment and corona treatment. Further, the support may be subjected to release treatment with a silicone resin release agent, an alkyd resin release agent, a fluororesin release agent, or the like.
The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 μm, more preferably 25 to 50 μm.

支持体に樹脂ワニスを塗布する方法に特に制限はなく、例えば、コンマコーター、バーコーター、キスコーター、ロールコーター、グラビアコーター、ダイコーター等の当業者に公知の塗工装置を用いることができる。これらの塗工装置は、膜厚によって、適宜選択すればよい。
乾燥温度及び乾燥時間は、有機溶媒の使用量、及び使用する有機溶媒の沸点等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、40~60質量%程度の有機溶媒を含む樹脂ワニスの場合、50~150℃で3~10分程度乾燥させることにより、樹脂フィルムを好適に形成することができる。
The method of applying the resin varnish to the support is not particularly limited, and coating devices known to those skilled in the art such as a comma coater, bar coater, kiss coater, roll coater, gravure coater and die coater can be used. These coating apparatuses may be appropriately selected depending on the film thickness.
The drying temperature and drying time may be appropriately determined according to the amount of organic solvent used and the boiling point of the organic solvent used. A resin film can be preferably formed by drying at ~150°C for about 3 to 10 minutes.

[積層板]
本発明のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板を製造することもできる。具体的には、本発明のプリプレグ1枚の片面もしくは両面に金属箔を配置するか、又は本発明のプリプレグ2枚以上を重ねて得られるプリプレグの片面もしくは両面に金属箔を配置し、次いで加熱加圧成形することによって積層板を得ることができる。金属箔が配置された積層板は、金属張り積層板と称されることもある。
金属箔の金属としては、電気絶縁材料用途で用いられるものであれば特に制限されないが、導電性の観点から、銅、金、銀、ニッケル、白金、モリブデン、ルテニウム、アルミニウム、タングステン、鉄、チタン、クロム、又はこれらの金属元素のうちの少なくとも1種類を含む合金であってもよく、銅、アルミニウムであってもよく、銅であることが好ましい。
加熱加圧成形の条件は特に制限されるものではないが、例えば、温度が100℃~300℃、圧力が0.2~10MPa、時間が0.1~5時間の範囲で実施することができる。また、加熱加圧成形は、真空プレス等を用いて真空状態を0.5~5時間保持する方法を採用できる。
[Laminate]
A laminate containing the prepreg of the present invention and a metal foil can also be produced. Specifically, a metal foil is placed on one or both sides of one prepreg of the present invention, or a metal foil is placed on one or both sides of a prepreg obtained by stacking two or more prepregs of the present invention, and then heated. A laminate can be obtained by pressure molding. A laminate on which metal foil is arranged is sometimes called a metal-clad laminate.
The metal of the metal foil is not particularly limited as long as it is used as an electrical insulating material, but from the viewpoint of conductivity, copper, gold, silver, nickel, platinum, molybdenum, ruthenium, aluminum, tungsten, iron, titanium. , chromium, or an alloy containing at least one of these metal elements, and may be copper or aluminum, preferably copper.
The conditions for the heat and pressure molding are not particularly limited, but for example, the temperature is 100° C. to 300° C., the pressure is 0.2 to 10 MPa, and the time is 0.1 to 5 hours. . In addition, for the heating and pressure molding, a method of maintaining a vacuum state using a vacuum press or the like for 0.5 to 5 hours can be adopted.

[多層プリント配線板]
本発明の多層プリント配線板は、本発明のプリプレグ、本発明の樹脂フィルム及び本発明の積層板からなる群から選択される少なくとも1種類を含有してなるものである。本発明の多層プリント配線板は、本発明のプリプレグ、本発明の樹脂フィルム及び本発明の積層板からなる群から選択される少なくとも1種類を用いて、公知の方法によって、穴明け加工、金属めっき加工、金属箔のエッチング等による回路形成加工及び多層化接着加工を行うことによって、多層プリント配線板を製造することができる。
[Multilayer printed wiring board]
The multilayer printed wiring board of the present invention contains at least one selected from the group consisting of the prepreg of the present invention, the resin film of the present invention and the laminate of the present invention. The multilayer printed wiring board of the present invention uses at least one selected from the group consisting of the prepreg of the present invention, the resin film of the present invention, and the laminate of the present invention, and is subjected to drilling and metal plating by a known method. A multilayer printed wiring board can be manufactured by performing processing, circuit forming processing such as etching of metal foil, and multilayer bonding processing.

本発明の樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム及び多層プリント配線板は、10GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いることができる。特に、多層プリント配線板は、ミリ波レーダー用多層プリント配線板として有用である。 The resin composition, prepreg, laminate, resin film, and multilayer printed wiring board of the present invention can be suitably used in electronic devices that handle high frequency signals of 10 GHz or higher. In particular, the multilayer printed wiring board is useful as a multilayer printed wiring board for millimeter wave radar.

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、これらは本発明の説明のための例示であり、本発明の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。 Although preferred embodiments of the present invention have been described above, these are examples for explaining the present invention, and are not intended to limit the scope of the present invention only to these embodiments. The present invention can be implemented in various aspects different from the above embodiments without departing from the scope of the invention.

以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、各例において、数平均分子量は以下の様にして測定した。
(数平均分子量の測定方法)
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type;A-2500、A-5000、F-1、F-2、F-4、F-10、F-20、F-40)[東ソー株式会社製、商品名]を用いて3次式で近似した。GPCの測定条件を、以下に示す。
装置:
ポンプ:L-6200型[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
検出器:L-3300型RI[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラムオーブン:L-655A-52[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラム:ガードカラム;TSK Guardcolumn HHR-L+カラム;TSKgel G4000HHR+TSKgel G2000HHR(すべて東ソー株式会社製、商品名)
カラムサイズ:6.0×40mm(ガードカラム)、7.8×300mm(カラム)
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:30mg/5mL
注入量:20μL
流量:1.00mL/分
測定温度:40℃
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
In each example, the number average molecular weight was measured as follows.
(Method for measuring number average molecular weight)
Conversion was performed from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). Calibration curve, standard polystyrene: TSK standard POLYSTYRENE (Type; A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation, product name] and approximated by a cubic equation. GPC measurement conditions are shown below.
Device:
Pump: L-6200 type [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Detector: L-3300 type RI [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column oven: L-655A-52 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column: Guard column; TSK Guardcolumn HHR-L + column; TSKgel G4000HHR + TSKgel G2000HHR (all manufactured by Tosoh Corporation, trade name)
Column size: 6.0 x 40 mm (guard column), 7.8 x 300 mm (column)
Eluent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 30 mg/5 mL
Injection volume: 20 μL
Flow rate: 1.00 mL/min Measurement temperature: 40°C

[製造例A-1:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-1)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、数平均分子量が約16,000の原料ポリフェニレンエーテル「ザイロン(登録商標)S202A」(商品名、旭化成株式会社製)1mol、及び2-アリルフェノールを水酸基換算で4mol相当量を投入し、90~100℃で撹拌しながら溶解した。
溶解したことを目視で確認後、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート及びオクチル酸マンガンを添加し、溶液温度90~100℃で6時間、再分配反応させた後、40℃に冷却して、分子末端にアリル基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-1)を得た。この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、2-アリルフェノールに由来するダブルピークがシングルピークとなり、且つポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は5,100であった。
各成分の使用量を表1に示す。
[Production Example A-1: Production of polyphenylene ether derivative (A-1)]
Toluene and raw polyphenylene ether "Zylon (registered trademark) S202A" (product number average molecular weight of about 16,000) were placed in a 2 L glass flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer and capable of being heated and cooled. Asahi Kasei Co., Ltd.) 1 mol and 2-allylphenol in an amount equivalent to 4 mol in terms of hydroxyl group were added and dissolved with stirring at 90 to 100°C.
After visually confirming the dissolution, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and manganese octylate were added, and the solution was allowed to undergo a redistribution reaction at a temperature of 90 to 100°C for 6 hours. A polyphenylene ether derivative (A-1) having an organic group substituted with an allyl group was obtained. A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (converted to polystyrene, eluent: tetrahydrofuran). As a result, the double peak derived from 2-allylphenol became a single peak, and the number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 5,100. there were.
Table 1 shows the amount of each component used.

[製造例A-2:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-2)の製造]
製造例A-1において、2-アリルフェノールの仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は同様に操作を行うことによって、分子片末端にアリル基1つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-2)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は3,300であった。
[Production Example A-2: Production of polyphenylene ether derivative (A-2)]
Polyphenylene having an organic group substituted with one allyl group at one end of the molecule by performing the same operation as in Production Example A-1, except that the charged amount of 2-allylphenol was changed as shown in Table 1. An ether derivative (A-2) was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 3,300.

[製造例A-3:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-3)の製造]
製造例A-1において、2-アリルフェノールの代わりにジアリルビスフェノールA(DABPA)を使用し、且つ各成分の使用量を表1に記載のとおりにしたこと以外は同様の操作を行うことによって、分子片末端にアリル基2つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-3)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は4,300であった。
[Production Example A-3: Production of polyphenylene ether derivative (A-3)]
In Production Example A-1, diallyl bisphenol A (DABPA) was used instead of 2-allylphenol, and the amount of each component used was as shown in Table 1. A polyphenylene ether derivative (A-3) having an organic group substituted with two allyl groups at one end of the molecule was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 4,300.

[製造例A-4:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-4)の製造]
製造例A-3において、DABPAの仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は同様に操作を行うことによって、分子片末端にアリル基2つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-4)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は3,500であった。
[Production Example A-4: Production of polyphenylene ether derivative (A-4)]
A polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with two allyl groups at one end of the molecule ( A-4) was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 3,500.

[製造例A-5:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-5)の製造]
製造例A-1において、2-アリルフェノールの代わりに下記一般式(1)で表されるアリル基含有化合物(以下、テトラアリルビスフェノール類と称することがある。)を使用し、且つ各成分の使用量を表1に記載のとおりにしたこと以外は同様の操作を行うことによって、分子片末端にアリル基4つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-5)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は5,400であった。

Figure 0007298623000031

(式中、Xa2は有機基であり、前記一般式(a-5)中のXa2と同様に説明される。)[Production Example A-5: Production of polyphenylene ether derivative (A-5)]
In Production Example A-1, instead of 2-allylphenol, an allyl group-containing compound represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes referred to as tetraallylbisphenols) is used, and each component is A polyphenylene ether derivative (A-5) having an organic group substituted with four allyl groups at one end of the molecule was obtained by performing the same operation except that the amount used was as shown in Table 1. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 5,400.
Figure 0007298623000031

(In the formula, X a2 is an organic group and is explained in the same manner as X a2 in the general formula (a-5).)

[製造例A-6:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-6)の製造]
製造例A-5において、下記一般式(1)で表されるアリル基含有化合物の仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は同様に操作を行うことによって、分子片末端にアリル基4つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-6)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は4,500であった。
[Production Example A-6: Production of polyphenylene ether derivative (A-6)]
By performing the same operation as in Production Example A-5, except that the charged amount of the allyl group-containing compound represented by the following general formula (1) was changed as shown in Table 1, an allyl was added to one end of the molecule. A polyphenylene ether derivative (A-6) having four substituted organic groups was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 4,500.

[製造例A-7:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-7)の製造]
製造例A-5において、「ザイロン(登録商標)S202A」(商品名、旭化成株式会社製)を「ザイロン(登録商標)S203A」(商品名、旭化成株式会社製)に変更したこと以外は同様に操作を行うことによって、分子片末端にアリル基4つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-7)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は4,200であった。
[Production Example A-7: Production of polyphenylene ether derivative (A-7)]
Same as in Production Example A-5, except that "Zylon (registered trademark) S202A" (trade name, manufactured by Asahi Kasei Corporation) was changed to "Zylon (registered trademark) S203A" (trade name, manufactured by Asahi Kasei Corporation). By carrying out the operation, a polyphenylene ether derivative (A-7) having an organic group substituted with four allyl groups at one end of the molecule was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 4,200.

[製造例A-8:ポリフェニレンエーテル誘導体(A-8)の製造]
製造例A-7において、下記一般式(1)で表されるアリル基含有化合物の仕込み量を表1に記載のとおりに変更したこと以外は同様に操作を行うことによって、分子片末端にアリル基4つが置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A-8)を得た。ポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は3,800であった。
[Production Example A-8: Production of polyphenylene ether derivative (A-8)]
By performing the same operation as in Production Example A-7, except that the charged amount of the allyl group-containing compound represented by the following general formula (1) was changed as shown in Table 1, an allyl was added to one end of the molecule. A polyphenylene ether derivative (A-8) having an organic group substituted with four groups was obtained. The number average molecular weight of the polyphenylene ether compound was 3,800.

[比較製造例A’-9:ポリフェニレンエーテル誘導体(A’-9)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、数平均分子量が約16,000の原料ポリフェニレンエーテル「ザイロン(登録商標)S202A」(商品名、旭化成株式会社製)、及びp-アミノフェノールを投入し、90~100℃で撹拌しながら溶解した。
溶解したことを目視で確認後、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート及びナフテン酸マンガンを添加し、溶液温度90~100℃で6時間、再分配反応させた後、40℃に冷却して分子末端に第一級アミノ基を有するポリフェニレンエーテル誘導体を得た。ここで、この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、p-アミノフェノールに由来するピークが消失し、且つポリフェニレンエーテル化合物の数平均分子量は約12,000であった。また少量取り出した反応溶液をメタノール/ベンゼン混合溶媒(混合質量比=1:1)に滴下し、再沈殿させて精製した固形分のFT-IR測定を行ったところ、3,400cm-1付近の第一級アミノ基由来のピークの出現が確認された。
[Comparative Production Example A'-9: Production of polyphenylene ether derivative (A'-9)]
Toluene and raw polyphenylene ether "Zylon (registered trademark) S202A" (product number average molecular weight of about 16,000) were placed in a 2 L glass flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer and capable of being heated and cooled. Asahi Kasei Co., Ltd.) and p-aminophenol were added and dissolved with stirring at 90 to 100°C.
After visually confirming the dissolution, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and manganese naphthenate were added and the solution was allowed to undergo a redistribution reaction at a temperature of 90 to 100°C for 6 hours. A polyphenylene ether derivative with primary amino groups was obtained. Here, when a small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (in terms of polystyrene, eluent: tetrahydrofuran), the peak derived from p-aminophenol disappeared, and the polyphenylene ether compound had a number average molecular weight of 000. In addition, a small amount of the reaction solution taken out was added dropwise to a mixed solvent of methanol / benzene (mixing mass ratio = 1:1), and FT-IR measurement of the solid content purified by reprecipitation was performed. The appearance of peaks derived from primary amino groups was confirmed.

次に、上記反応溶液に、BMI-4000(商品名、大和化成工業株式会社製)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて、撹拌しながら液温を昇温し、100℃で保温しながら4時間反応させた後、冷却及び200メッシュフィルターを通して濾過することにより、ポリフェニレンエーテル誘導体(A’-9)を製造した。
この反応溶液を少量取り出し、上記同様に再沈殿、精製した固形物のFT-IR測定を行い、3,500cm-1付近の第一級アミノ基由来ピークの消失と、1,700~1,730cm-1のカルボニル基の出現が確認された。またこの固形物の数平均分子量は約6,500であった。
各成分の使用量を表1に示す。
Next, BMI-4000 (trade name, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) and propylene glycol monomethyl ether are added to the above reaction solution, the liquid temperature is raised while stirring, and the reaction is performed for 4 hours while maintaining the temperature at 100°C. After cooling and filtering through a 200 mesh filter, a polyphenylene ether derivative (A'-9) was produced.
A small amount of this reaction solution is taken out, reprecipitated in the same manner as above, FT-IR measurement of the purified solid is performed, and the disappearance of the primary amino group-derived peak near 3,500 cm -1 and 1,700 to 1,730 cm The appearance of the carbonyl group of -1 was confirmed. The number average molecular weight of this solid was about 6,500.
Table 1 shows the amount of each component used.

Figure 0007298623000032
Figure 0007298623000032

表1における各材料は、以下のとおりである。
(1)ポリフェニレンエーテル
・ザイロン(登録商標)S202A:ポリフェニレンエーテル(旭化成ケミカルズ株式会社製)、数平均分子量=16,000、商品名
・ザイロン(登録商標)S203A:ポリフェニレンエーテル(旭化成ケミカルズ株式会社製)、数平均分子量=12,000、商品名
(2)再分配反応用化合物
・2-アリルフェノール:東京化成工業株式会社製
・ジアリルビスフェノールA:2,2-ビス(3-アリル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、大和化成工業株式会社製
・テトラアリルビスフェノール類:下記一般式(1)で表される化合物、群栄化学工業株式会社製

Figure 0007298623000033

(式(1)中、Xa2は有機基であり、前記一般式(a-5)中のXa2と同様に説明される。)
・p-アミノフェノール:イハラケミカル工業株式会社製
(3)変性用化合物
・BMI-4000:2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、商品名(大和化成工業株式会社製)
(4)反応触媒
・パーブチル(登録商標)I:t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(日油株式会社製)
・ナフテン酸マンガン(和光純薬工業株式会社製)Each material in Table 1 is as follows.
(1) Polyphenylene ether Zylon (registered trademark) S202A: Polyphenylene ether (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), number average molecular weight = 16,000, trade name Zylon (registered trademark) S203A: Polyphenylene ether (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) , number average molecular weight = 12,000, trade name (2) compound for redistribution reaction 2-allylphenol: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. diallyl bisphenol A: 2,2-bis(3-allyl-4-hydroxyphenyl ) Propane, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. Tetraallyl bisphenols: compounds represented by the following general formula (1), manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.
Figure 0007298623000033

(In formula (1), X a2 is an organic group and is described in the same manner as X a2 in general formula (a-5).)
・p-Aminophenol: (3) modification compound manufactured by Ihara Chemical Industry Co., Ltd. ・BMI-4000: 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, trade name (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. )
(4) Reaction catalyst Perbutyl (registered trademark) I: t-butylperoxyisopropyl monocarbonate (manufactured by NOF Corporation)
・Manganese naphthenate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

[製造例B-1:ポリアミノビスマレイミド化合物(B1-1)の製造]
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積1Lのガラス製フラスコ容器に、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン(マレイミド化合物(b1))、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(マレイミド化合物(b1))、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン(ジアミン化合物(b2))及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを投入し、液温を120℃に保ち、撹拌しながら3時間反応させた後、冷却及び200メッシュフィルターを通して濾過することにより、数平均分子量800のポリアミノビスマレイミド化合物(B1-1)を製造した。
各成分の使用量を表2に示す。
[Production Example B-1: Production of polyaminobismaleimide compound (B1-1)]
2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane (maleimide compound (b1)) was placed in a heatable and coolable 1 L glass flask equipped with a thermometer, a reflux condenser and a stirrer. , 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethanebismaleimide (maleimide compound (b1)), 4,4′-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)] Bisaniline (diamine compound (b2)) and propylene glycol monomethyl ether were added, the liquid temperature was kept at 120°C, and the mixture was reacted for 3 hours while stirring. to produce a polyaminobismaleimide compound (B1-1).
Table 2 shows the amount of each component used.

Figure 0007298623000034
Figure 0007298623000034

表2における各材料は、以下のとおりである。
(1)マレイミド化合物(b1)
・BMI-5100:3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、大和化成工業株式会社製、商品名
・BMI-4000:2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、大和化成工業株式会社製、商品名
(2)ジアミン化合物(b2)
・ビスアニリン-M:4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、三井化学株式会社製、商品名
Each material in Table 2 is as follows.
(1) maleimide compound (b1)
・BMI-5100: 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethanebismaleimide, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name ・BMI-4000: 2,2-bis[4- (4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name (2) diamine compound (b2)
Bisaniline-M: 4,4′-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., trade name

[実施例1~8、比較例1~2]
表3に記載の各成分を表3に記載の配合量(単位:質量部)に従って室温又は50~80℃で加熱しながら撹拌及び混合して、固形分(不揮発分)濃度約50質量%の樹脂組成物を調製した。
各例で得た樹脂組成物を、厚さ0.07mmのガラス布(NEガラス、日東紡績株式会社製)に塗工した後、105℃で5分間加熱乾燥して、樹脂含有量(樹脂成分量)約73質量%のプリプレグを作製した。これらのプリプレグ6枚を重ね、その上下に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(BF-ANP18、M面のRz:1.5μm、古河電気工業株式会社製)をM面が接するように配置し、温度230℃、圧力4MPa、時間180分間の条件で加熱加圧成形して、両面銅張積層板(厚さ:0.8mm)を作製した。
[Examples 1-8, Comparative Examples 1-2]
Each component shown in Table 3 is stirred and mixed while heating at room temperature or 50 to 80 ° C. according to the blending amount (unit: parts by mass) shown in Table 3, and the solid content (nonvolatile content) concentration is about 50% by mass. A resin composition was prepared.
After applying the resin composition obtained in each example to a glass cloth (NE glass, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 0.07 mm, it is dried by heating at 105 ° C. for 5 minutes, and the resin content (resin component Amount) A prepreg of about 73% by mass was produced. Six sheets of these prepregs were stacked, and 18 μm-thick low-profile copper foils (BF-ANP18, M surface Rz: 1.5 μm, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) were placed on the top and bottom so that the M surface was in contact. , a temperature of 230° C., a pressure of 4 MPa, and a time of 180 minutes to fabricate a double-sided copper-clad laminate (thickness: 0.8 mm).

<評価・測定方法>
上記実施例及び比較例で得られた樹脂組成物又は両面銅張積層板を用いて、下記方法に従って各測定及び評価を行った。結果を表3に示す。
<Evaluation/measurement method>
Using the resin compositions or double-sided copper-clad laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples, measurements and evaluations were carried out according to the following methods. Table 3 shows the results.

(1.樹脂組成物の相容性の評価)
各例で得た樹脂組成物を目視で観察して、相容性(巨視的(マクロ)な相分離及び析出物の有無)を以下の基準に従い評価した。なお、評価A~Cであることが好ましく、A又はBであることがより好ましく、Aであることがさらに好ましい。
A:1週間以上放置しても、巨視的(マクロ)な相分離及び析出物がなかった。
B:1日放置しても変化はなかったが、1週間以上放置したところ、析出物はないが、巨視的(マクロ)な相分離が少々生じていた。
C:1日放置したところ、析出物はないが、巨視的(マクロ)な相分離が生じていた。
D:1日放置後、析出物が確認された。
(1. Evaluation of compatibility of resin composition)
The resin composition obtained in each example was visually observed to evaluate compatibility (presence or absence of macroscopic (macro) phase separation and precipitates) according to the following criteria. The evaluations A to C are preferred, A or B is more preferred, and A is even more preferred.
A: There was no macroscopic (macro) phase separation and precipitates even after standing for 1 week or more.
B: There was no change even after standing for 1 day, but after standing for 1 week or longer, there was no precipitate but slight macroscopic phase separation occurred.
C: When left for 1 day, there was no precipitate, but macroscopic (macro) phase separation occurred.
D: Precipitates were observed after standing for 1 day.

(2.両面銅張積層板の誘電特性の評価)
表3に記載の各成分を表3に記載の配合量(単位:質量部)に従って室温又は50~80℃で加熱しながら撹拌及び混合して、固形分(不揮発分)濃度40~60質量%の樹脂組成物を調製した。
各例で得た樹脂組成物を、厚さ38μmのPETフィルム(G2-38、帝人株式会社製)に塗工した後、170℃で5分間加熱乾燥して、Bステージの樹脂フィルムを作製した。当該樹脂フィルムをPETフィルムから剥離した後、粉砕し、厚さ1mm、50mm×35mmのサイズに型抜きしたテフロン(登録商標)シートに樹脂を投入し、その上下に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(BF-ANP18、古河電気工業株式会社製)をM面が接するように配置し、温度230℃、圧力2.0MPa、時間120分間の条件で加熱加圧成形して、両面銅張積層板(厚さ:1mm)を作製した。
こうして得られた両面銅張積層板を銅エッチング液である過硫酸アンモニウム(三菱ガス化学株式会社製)10質量%溶液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、2mm×50mmの評価基板を作製した。
該評価基板を用いて、10GHz帯における誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)を空洞共振器法により得られる共振周波数と無負荷Q値から算出した。測定器には、アジレント・テクノロジー株式会社製のベクトル型ネットワークアナライザE8364B、株式会社関東電子応用開発製のCP531(10GHz共振器)及びCPMA-V2(プログラム)をそれぞれ使用して、雰囲気温度25℃で行った。
誘電率(Dk)は2.90以下が好ましく、2.75以下がより好ましい。誘電正接(Df)は0.0055以下が好ましく、0.0050以下がより好ましく、0.0045以下がさらに好ましい。
(2. Evaluation of dielectric properties of double-sided copper-clad laminate)
Each component shown in Table 3 is stirred and mixed while heating at room temperature or 50 to 80 ° C. according to the blending amount (unit: parts by mass) shown in Table 3, and the solid content (nonvolatile content) concentration is 40 to 60% by mass. was prepared.
The resin composition obtained in each example was applied to a PET film (G2-38, manufactured by Teijin Limited) having a thickness of 38 μm, and then dried by heating at 170° C. for 5 minutes to prepare a B-stage resin film. . After peeling the resin film from the PET film, the resin was pulverized and put into a Teflon (registered trademark) sheet punched into a size of 1 mm thick and 50 mm × 35 mm. A foil (BF-ANP18, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) is placed so that the M surface is in contact, and heat and pressure molding is performed under the conditions of a temperature of 230 ° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 120 minutes to form a double-sided copper-clad laminate. (thickness: 1 mm).
The double-sided copper-clad laminate thus obtained was immersed in a 10% by mass solution of ammonium persulfate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), which is a copper etchant, to remove the copper foil from the evaluation board. made.
Using the evaluation substrate, the dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) in the 10 GHz band were calculated from the resonance frequency and unloaded Q value obtained by the cavity resonator method. For the measuring instruments, Agilent Technologies Inc.'s vector-type network analyzer E8364B, Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd.'s CP531 (10 GHz resonator) and CPMA-V2 (program) are used, respectively, at an ambient temperature of 25 ° C. gone.
The dielectric constant (Dk) is preferably 2.90 or less, more preferably 2.75 or less. The dielectric loss tangent (Df) is preferably 0.0055 or less, more preferably 0.0050 or less, even more preferably 0.0045 or less.

Figure 0007298623000035
Figure 0007298623000035

なお、表3における各材料は、以下のとおりである。
(1)ポリフェニレンエーテル誘導体(A)
・ポリフェニレンエーテル誘導体(A-1)~(A-8):前記製造例A-1~A-8で製造したポリフェニレンエーテル誘導体(A-1)~(A-8)を使用した。
・ポリフェニレンエーテル誘導体(A’-9):前記製造例A’-9で製造したポリフェニレンエーテル誘導体(A’-9)を使用した。
・SA9000:下記式(2)で表される両末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル誘導体、重量平均分子量1,700(SABICイノベーティブプラスチックス社製、商品名)

Figure 0007298623000036

(式(2)中、x1及びx2は、各々独立に、0~20である。x1及びx2の合計は1~30であることが好ましい。)In addition, each material in Table 3 is as follows.
(1) Polyphenylene ether derivative (A)
- Polyphenylene ether derivatives (A-1) to (A-8): The polyphenylene ether derivatives (A-1) to (A-8) produced in Production Examples A-1 to A-8 above were used.
• Polyphenylene ether derivative (A'-9): The polyphenylene ether derivative (A'-9) produced in Production Example A'-9 was used.
- SA9000: Both-terminal methacryl-modified polyphenylene ether derivative represented by the following formula (2), weight average molecular weight 1,700 (manufactured by SABIC Innovative Plastics, trade name)
Figure 0007298623000036

(In formula (2), x1 and x2 are each independently 0 to 20. The sum of x1 and x2 is preferably 1 to 30.)

(2)マレイミド化合物(B)
・ポリアミノビスマレイミド化合物(B-1):前記製造例B-1で製造したポリアミノビスマレイミド化合物(B1-1)を使用した。
(3)スチレン系熱可塑性エラストマー(C)
・クレイトン(登録商標)G1652:水添スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)、メルトフローレート5.0g/10分、スチレン含有量30%、水素添加率100%(クレイトンポリマージャパン株式会社製、商品名)
(4)無機充填材(D)
・シリカ:球状溶融シリカ、平均粒子径=0.5μm
(5)硬化促進剤(E)
・パーブチル(登録商標)P:α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン(日油株式会社製、商品名)
・G-8009L:イソシアネートマスクイミダゾール(ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2-エチル-4-メチルイミダゾールの付加反応物)(第一工業製薬株式会社製、商品名)
(6)難燃剤(F)
・PQ-60:パラキシリレンビスジフェニルホスフィンオキサイド、晋一化工股▲分▼有限公司製
・OP935:ジアルキルホスフィン酸アルミニウム塩、2置換ホスフィン酸の金属塩、リン含有量;23.5質量%(クラリアント社製、商品名)
(7)架橋剤(G)
・B-1000:1,2-ポリブタジエンホモポリマー、数平均分子量1,200(日本曹達株式会社製、商品名)
(2) maleimide compound (B)
· Polyaminobismaleimide compound (B-1): The polyaminobismaleimide compound (B1-1) produced in Production Example B-1 was used.
(3) Styrene-based thermoplastic elastomer (C)
・ Kraton (registered trademark) G1652: Hydrogenated styrene thermoplastic elastomer (SEBS), melt flow rate 5.0 g / 10 minutes, styrene content 30%, hydrogenation rate 100% (manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., trade name )
(4) Inorganic filler (D)
・Silica: spherical fused silica, average particle size = 0.5 μm
(5) Curing accelerator (E)
・ Perbutyl (registered trademark) P: α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene (manufactured by NOF Corporation, trade name)
・G-8009L: isocyanate mask imidazole (addition reaction product of hexamethylene diisocyanate resin and 2-ethyl-4-methylimidazole) (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name)
(6) Flame retardant (F)
・PQ-60: paraxylylene bisdiphenylphosphine oxide, manufactured by Shinichi Kako Co., Ltd. ・OP935: dialkylphosphinic acid aluminum salt, metal salt of disubstituted phosphinic acid, phosphorus content: 23.5% by mass (Clariant company, product name)
(7) Crosslinking agent (G)
・B-1000: 1,2-polybutadiene homopolymer, number average molecular weight 1,200 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., trade name)

表3に示された結果から明らかなように、本発明の実施例においては、樹脂組成物の相容性が良好又は優れており、これらを用いて作製した銅張積層板は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れている。
一方、比較例1においては、樹脂組成物の相容性が不良であり、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性も不十分である。また比較例2では、樹脂組成物の相容性は良好となったものの、銅張積層板は、10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に乏しかった。
As is clear from the results shown in Table 3, in the examples of the present invention, the compatibility of the resin composition is good or excellent, and the copper-clad laminates produced using these are 10 GHz band or higher. Excellent dielectric properties in the high frequency band of
On the other hand, in Comparative Example 1, the compatibility of the resin composition is poor, and the dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher are also insufficient. In Comparative Example 2, although the compatibility of the resin composition was good, the copper-clad laminate had poor dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher.

本発明の樹脂組成物は相容性が良好であり、該樹脂組成物から作製される積層板は特に10GHz帯以上の高周波数帯における誘電特性に優れるため、6GHzを超える周波数帯の電波が使用される第五世代移動通信システム(5G)アンテナ及び30~300GHzの周波数帯の電波が使用されるミリ波レーダーに利用される多層プリント配線板に有用である。 The resin composition of the present invention has good compatibility, and the laminate produced from the resin composition is particularly excellent in dielectric properties in a high frequency band of 10 GHz or higher, so radio waves in a frequency band exceeding 6 GHz can be used. It is useful for multilayer printed wiring boards used for fifth-generation mobile communication system (5G) antennas and millimeter wave radars that use radio waves in the frequency band of 30 to 300 GHz.

Claims (18)

(A)不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体、及び
(B)N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも1種類、
を含有してなる、樹脂組成物であって、
前記(A)成分において、前記不飽和脂肪族炭化水素基が、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基であり、
前記(A)成分において、前記不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-5)で表される、樹脂組成物。
Figure 0007298623000037

(式(a-5)中、Ra7~Ra10は、各々独立に、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基である。Xa2は有機基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
(A) a polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group; and (B) at least one type selected from the group consisting of a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups and derivatives thereof. ,
A resin composition comprising
In the component (A), the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group or a 3-butenyl group,
A resin composition wherein, in the component (A), the organic group substituted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is represented by the following general formula (a-5).
Figure 0007298623000037

(In formula (a-5), R a7 to R a10 are each independently an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group or a 3-butenyl group . X a2 is an organic group. * is Indicate the point of attachment to other structures.)
前記一般式(a-5)中、Xa2が表す有機基が、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂肪族炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい芳香族炭化水素基、又はこれらの任意の組み合わせからなる基である、請求項1に記載の樹脂組成物。 In the general formula (a-5), the organic group represented by X a2 is an aliphatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, and an alicyclic ring which may partially contain a heteroatom. 2. The resin composition according to claim 1 , which is a group consisting of a hydrocarbon group of the formula, an aromatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, or any combination thereof. 前記(A)成分の数平均分子量が1,000~25,000である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 3. The resin composition according to claim 1 , wherein the component (A) has a number average molecular weight of 1,000 to 25,000. 前記(A)成分において、前記不飽和脂肪族炭化水素基が、アリル基又は1-メチルアリル基である、請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 4. The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein in component (A) , the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is an allyl group or a 1-methylallyl group . 前記(B)成分が、N-置換マレイミド基を少なくとも2個有するマレイミド化合物(b1)由来の構造単位とジアミン化合物(b2)由来の構造単位とを有する、請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 5. Any one of claims 1 to 4 , wherein the component (B) has a structural unit derived from the maleimide compound (b1) having at least two N-substituted maleimide groups and a structural unit derived from the diamine compound (b2). The resin composition according to . 前記(B)成分が、下記一般式(B-1)で表されるポリアミノビスマレイミド化合物を含む、請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 0007298623000038

(式(B-1)中、XB1及びXB2は、各々独立に、有機基である。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the component (B) contains a polyaminobismaleimide compound represented by the following general formula (B-1).
Figure 0007298623000038

(In formula (B-1), X B1 and X B2 are each independently an organic group.)
前記(A)成分と前記(B)成分の含有割合[(A)/(B)]が、質量比で、1/99~80/20である、請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物。 7. Any one of claims 1 to 6 , wherein the content ratio [(A)/(B)] of the component (A) and the component (B) is 1/99 to 80/20 in mass ratio. A cured product of the described resin composition. 10GHzにおける誘電率が2.90以下であり、且つ10GHzにおける誘電正接が0.0055以下である、請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物。 The cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 7 , which has a dielectric constant at 10 GHz of 2.90 or less and a dielectric loss tangent at 10 GHz of 0.0055 or less. 請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含有してなるプリプレグ。 A prepreg containing the resin composition according to any one of claims 1 to 7 . 請求項に記載のプリプレグと金属箔とを含有してなる積層板。 A laminate comprising the prepreg according to claim 9 and a metal foil. 請求項1~のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含有してなる樹脂フィルム。 A resin film comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 7 . 請求項に記載のプリプレグ、請求項10に記載の積層板及び請求項11に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される少なくとも1種類を含有してなる多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board comprising at least one selected from the group consisting of the prepreg according to claim 9 , the laminate according to claim 10 , and the resin film according to claim 11 . 請求項に記載のプリプレグ、請求項10に記載の積層板及び請求項11に記載の樹脂フィルムからなる群から選択される少なくとも1種類を含有してなるミリ波レーダー用多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board for millimeter wave radar, comprising at least one selected from the group consisting of the prepreg according to claim 9 , the laminate according to claim 10 , and the resin film according to claim 11 . 不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基を有するポリフェニレンエーテル誘導体であって、前記不飽和脂肪族炭化水素基が、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基であり、前記不飽和脂肪族炭化水素基が置換した有機基が下記一般式(a-5)で表される、ポリフェニレンエーテル誘導体。
Figure 0007298623000039

(式(a-5)中、Ra7~Ra10は、各々独立に、イソプロペニル基、アリル基、1-メチルアリル基又は3-ブテニル基である。Xa2は有機基である。*は、他の構造への結合位置を示す。)
A polyphenylene ether derivative having an organic group substituted with an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, wherein the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group or a 3-butenyl group, A polyphenylene ether derivative, wherein the organic group substituted with the unsaturated aliphatic hydrocarbon group is represented by the following general formula (a-5).
Figure 0007298623000039

(In formula (a-5), R a7 to R a10 are each independently an isopropenyl group, an allyl group, a 1-methylallyl group or a 3-butenyl group . X a2 is an organic group. * is Indicate the point of attachment to other structures.)
前記一般式(a-5)中、Xa2が表す有機基が、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂肪族炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、一部にヘテロ原子を含有していてもよい芳香族炭化水素基、又はこれらの任意の組み合わせからなる基である、請求項14に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。 In the general formula (a-5), the organic group represented by X a2 is an aliphatic hydrocarbon group which may partially contain a heteroatom, and an alicyclic ring which may partially contain a heteroatom. 15. The polyphenylene ether derivative according to claim 14 , which is a group consisting of a hydrocarbon group of the formula, an aromatic hydrocarbon group which may partially contain heteroatoms, or any combination thereof. 数平均分子量が1,000~25,000である、請求項14又は15に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。 The polyphenylene ether derivative according to claim 14 or 15 , having a number average molecular weight of 1,000 to 25,000. 数平均分子量が2,000~6,000である、請求項14~16のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。 The polyphenylene ether derivative according to any one of claims 14-16 , having a number average molecular weight of 2,000-6,000. 前記不飽和脂肪族炭化水素基が、アリル基又は1-メチルアリル基である、請求項14~17のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル誘導体。 The polyphenylene ether derivative according to any one of claims 14-17 , wherein said unsaturated aliphatic hydrocarbon group is an allyl group or a 1-methylallyl group .
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