JP5736944B2 - Thermosetting resin composition, prepreg and laminate - Google Patents

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本発明は、熱硬化性樹脂組成物に関し、優れた低熱膨張性、高ガラス転移温度、良好な銅箔接着性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性を有し、特に低吸水率性、耐デスミア性に優れ、また、毒性が低く安全性や作業環境に優れる、電子部品等に好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, and has excellent low thermal expansibility, high glass transition temperature, good copper foil adhesion, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame resistance, drill workability, In particular, the present invention relates to a thermosetting resin composition, a prepreg, and a laminate that are excellent in low water absorption and desmear resistance, have low toxicity and are excellent in safety and work environment, and are suitable for electronic parts and the like.

熱硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂に特有な架橋構造が高い耐熱性や寸法安定性を発現するため、電子部品等の分野において広く使われている。特に、銅張積層板や層間絶縁材料においては、近年の高密度化や高信頼性への要求から、高い銅箔接着性や耐熱性(高ガラス転移温度)、良好な低熱膨張性等の特性が強く要求されている。
また、近年の環境問題から、鉛フリーはんだによる電子部品の搭載やハロゲンフリーによる難燃化が要求され、そのため従来のものよりも高い耐熱性及び難燃性が必要とされる。
さらに、製品の安全性や作業環境の向上化のため、毒性の低い成分のみで構成され、毒性ガス等が発生しない熱硬化性樹脂が望まれている。
Thermosetting resins are widely used in the field of electronic components and the like because the cross-linked structure unique to thermosetting resins exhibits high heat resistance and dimensional stability. In particular, in copper-clad laminates and interlayer insulation materials, characteristics such as high copper foil adhesion, heat resistance (high glass transition temperature), and good low thermal expansion properties have been demanded in recent years for higher density and higher reliability. Is strongly demanded.
Moreover, due to recent environmental problems, mounting of electronic parts using lead-free solder and flame resistance using halogen-free are required, and therefore higher heat resistance and flame resistance than conventional ones are required.
Furthermore, in order to improve the safety of the product and the working environment, there is a demand for a thermosetting resin that includes only low-toxic components and does not generate toxic gases.

この点、液晶性高分子は、良好な誘電特性、低熱膨張性、難燃性等に優れる熱硬化性樹脂となるものであるが、ポリエステル系やポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリチオール系、ポリエーテル系、ポリアゾメチン系等の公知の液晶高分子を熱硬化性樹脂にそのまま使用した場合、溶融温度が高すぎ加工性や成形性が不足するという問題や、有機溶剤への溶解性が不足し取り扱い難いという問題があった。   In this respect, the liquid crystalline polymer is a thermosetting resin that has excellent dielectric properties, low thermal expansion, flame retardancy, etc., but is polyester, polyamide, polycarbonate, polythiol, or polyether. When a known liquid crystal polymer such as polyazomethine is used as it is in a thermosetting resin, the melting temperature is too high, and the processability and moldability are insufficient, and the solubility in organic solvents is insufficient, making it difficult to handle. There was a problem.

これらの液晶性高分子の中でも、G.F.D’Alelioが液晶性オリゴマであるポリアゾメチン(非特許文献1参照)を見出して以来、多くのポリアゾメチンを使用する樹脂に関する特許事例が報告されている(例えば、特許文献1〜7参照)。   Among these liquid crystalline polymers, since GFD'Alelio found polyazomethine (see Non-Patent Document 1), which is a liquid crystalline oligomer, many patent cases relating to resins using polyazomethine have been reported ( For example, see Patent Documents 1 to 7).

特許文献1には種々のポリアゾメチンが開示され、特許文献2〜7には特定構造を有するポリアゾメチンが開示されている。また、特許文献8には不飽和基を含有する熱硬化性ポリアゾメチン樹脂が開示され、これらの樹脂により高耐熱性を発現することが記載されている。
しかしながら、特許文献1〜7に記載のポリアゾメチンは、三次元に架橋し不融、不溶化する熱硬化性樹脂とは異なり、銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合、耐熱性や成形性が不足する場合がある。
また、特許文献8に記載の熱硬化性ポリアゾメチン樹脂は、耐熱性や強靭性の改良が依然不足であり、これらを近年要求される銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合も、耐熱性や信頼性、加工性等が不足する場合がある。
Patent Document 1 discloses various polyazomethines, and Patent Documents 2 to 7 disclose polyazomethines having specific structures. Patent Document 8 discloses thermosetting polyazomethine resins containing unsaturated groups, and describes that these resins exhibit high heat resistance.
However, the polyazomethines described in Patent Documents 1 to 7 are different from thermosetting resins that are three-dimensionally cross-linked and infusible and insolubilized. When used as a copper-clad laminate or an interlayer insulating material, heat resistance and moldability May be insufficient.
Further, the thermosetting polyazomethine resin described in Patent Document 8 still lacks improvement in heat resistance and toughness, and even when these are used as a copper clad laminate or an interlayer insulating material that has recently been required, In some cases, the reliability, reliability, workability and the like are insufficient.

前記のように、積層板材料には近年の高密度化や高信頼性への要求から、高い銅箔接着性や耐熱性、良好な低熱膨張性等が必要とされている。例えば、微細配線形成のため銅箔接着性としては、銅箔引き剥がし強さが1.0kN/m以上であること、特に1.2kN/m以上であることが望まれている。
また、高密度化に伴い基材は、より薄型化される方向にあり、熱処理時における基材のそりが小さいことが必要となる。低そり化のためには基材が低熱膨張性であることが有効であり、その熱膨張係数は25ppm/℃以下であること、特に20ppm/℃以下であることが望まれている。高密度化のためビルドアップ材等を用いてより高多層化することも必要であり、高いリフロー耐熱性が必要であるが、リフロー耐熱性評価の指針となる銅付き耐熱性(T−300)は、30分以上ふくれ等が生じないことが望まれている。
さらに、高密度化に伴い基材はより信頼性が要求される方向にあり、ドリル加工時のドリル穴の内壁粗さも小さいことが必要となる。ドリル穴の内壁粗さの評価は、めっき銅の染み込み性により評価され、めっき染み込み長さの最大が20μm以下であること、特に15μm以下であることが望まれている。
高速応答性の要求も増え続けており、基材の比誘電率は5.0以下であること、また誘電正接は0.020以下であることが望まれている。
As described above, the laminated board material is required to have high copper foil adhesiveness, heat resistance, good low thermal expansion property, and the like due to the recent demand for higher density and higher reliability. For example, it is desired that the copper foil peel strength is 1.0 kN / m or more, particularly 1.2 kN / m or more as the copper foil adhesion for forming fine wiring.
In addition, as the density increases, the base material tends to be thinner, and the warp of the base material during heat treatment needs to be small. In order to reduce warpage, it is effective that the base material has low thermal expansion, and it is desired that the thermal expansion coefficient is 25 ppm / ° C. or less, particularly 20 ppm / ° C. or less. It is necessary to increase the number of layers using a build-up material to increase the density, and high reflow heat resistance is required, but heat resistance with copper (T-300), which is a guideline for reflow heat resistance evaluation It is desired that no blistering occurs for 30 minutes or more.
Furthermore, as the density increases, the base material is in a direction that requires more reliability, and the inner wall roughness of the drill hole during drilling is required to be small. The evaluation of the inner wall roughness of the drill hole is evaluated based on the penetration property of the plated copper, and it is desired that the maximum plating penetration length is 20 μm or less, particularly 15 μm or less.
The demand for high-speed response continues to increase, and it is desired that the relative dielectric constant of the substrate is 5.0 or less and the dielectric loss tangent is 0.020 or less.

特開昭51−138800号公報JP 51-138800 A 特開昭60−181127号公報JP-A-60-181127 特開昭60−101123号公報JP-A-60-101123 特開2003−073470号公報JP 2003-073470 A 特開昭63−193925号公報JP-A-63-193925 特開平01−069631号公報Japanese Patent Laid-Open No. 01-069631 特開平01−079233号公報Japanese Patent Laid-Open No. 01-079233 特開平05−140067号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-140067

Polymer Sci. Tech., Wiley-Interscience, NewYork, 1969, Vol.10, pp.659-670Polymer Sci. Tech., Wiley-Interscience, NewYork, 1969, Vol.10, pp.659-670

本発明の目的は、こうした現状に鑑み、優れた低熱膨張性、高ガラス転移温度、低誘電性、銅箔接着性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性を有し、特に低吸水率性、耐デスミア性に優れ、また、毒性が低く安全性や作業環境に優れる、電子部品等に好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供することである。   In view of the current situation, the object of the present invention has excellent low thermal expansibility, high glass transition temperature, low dielectric property, copper foil adhesion, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame retardancy, and drill workability. In particular, it is to provide a thermosetting resin composition, a prepreg, and a laminate which are excellent in low water absorption, desmear resistance, low toxicity and excellent in safety and work environment, and suitable for electronic parts and the like.

本発明者らは、積層板材料で以上のような様々な特性の要求がある状況の中、鋭意研究した結果、特定化学式のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)及びエポキシ樹脂(B)を含有させることにより、上記の目的に適う樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供するものである。
As a result of diligent research in the situation where the laminated plate material has various characteristics as described above, the present inventors have found that a bismaleimide derivative (A) and an epoxy resin (B) having a polyazomethine having a specific chemical formula. It has been found that a resin composition suitable for the above-mentioned purpose can be obtained by the inclusion, and the present invention has been completed.
That is, the present invention provides the following thermosetting resin composition, prepreg and laminate.

1.下記一般式(I)で表されるポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)及び、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 1. A thermosetting resin comprising a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine represented by the following general formula (I) and an epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule Resin composition.

Figure 0005736944
(式中、Ar1は独立に一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は下記一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、複数あるAr2は同一でも異なっていても良い。nは0〜10である。)
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 1 is independently a residue represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by the following general formula ( I-5) or a residue represented by (I-6), and a plurality of Ar 2 may be the same or different. N is 0 to 10.)

Figure 0005736944
(式中、R1は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005736944
(In the formula, R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)

Figure 0005736944
(式中、R2及びR3は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、A1は炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r are each independently an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005736944
(式中、mは1〜10の整数である。)
Figure 0005736944
(In the formula, m is an integer of 1 to 10.)

Figure 0005736944
Figure 0005736944

Figure 0005736944
(式中、R6及びR7は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(Wherein R 6 and R 7 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4, A 2 is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.

Figure 0005736944
(式中、A3は、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
Figure 0005736944
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

2.更に、硬化促進剤(C)を含有する上記1の熱硬化性樹脂組成物。
3.更に、無機充填剤(D)を含有する上記1又は2の熱硬化性樹脂組成物。
4.更に、難燃剤(E)を含有する上記1〜3のいずれかの熱硬化性樹脂組成物。
5.更に、難燃助剤(F)を含有する上記4の熱硬化性樹脂組成物。
6.上記1〜5のいずれかの熱硬化性樹脂組成物がシート状補強基材中に含又は塗工されていることを特徴とするプリプレグ。
7.絶縁樹脂層が、上記1〜5いずれかの熱硬化性樹脂組成物又は上記6のプリプレグを用いて形成されたものであることを特徴とする積層板。
2. Furthermore, said 1 thermosetting resin composition containing a hardening accelerator (C).
3. Furthermore, the said 1 or 2 thermosetting resin composition containing an inorganic filler (D).
4). Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of said 1-3 containing a flame retardant (E).
5. Furthermore, said 4 thermosetting resin composition containing a flame retardant adjuvant (F).
6). Prepreg, characterized in that either of the thermosetting resin composition of the 1-5 are free immersion or coating in the sheet-shaped reinforcing substrate.
7). An insulating resin layer is formed using the thermosetting resin composition according to any one of 1 to 5 or the prepreg according to 6 above.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、優れた低熱膨張性、高ガラス転移温度、低誘電性、銅箔接着性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性を有し、特に低吸水率性、耐デスミア性に優れ、また、毒性が低く安全性や作業環境に優れており、電子部品等に好適に使用することができる。   The thermosetting resin composition of the present invention has excellent low thermal expansion, high glass transition temperature, low dielectric property, copper foil adhesion, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame resistance, and drill workability. In particular, it has excellent low water absorption and desmear resistance, is low in toxicity and excellent in safety and work environment, and can be suitably used for electronic parts and the like.

製造実施例1で得られた末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物のFT−IR測定チャートである。2 is an FT-IR measurement chart of a polyazomethine compound having a primary amino group at the terminal obtained in Production Example 1. 製造実施例1で得られたポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A−1)のFT−IR測定チャートである。2 is an FT-IR measurement chart of a bismaleimide derivative (A-1) having polyazomethine obtained in Production Example 1. 実施例9で得られたプレブリグのFT−IR測定チャートである。10 is an FT-IR measurement chart of a prepreg obtained in Example 9. 実施例11で得られたプレブリグのFT−IR測定チャートである。6 is an FT-IR measurement chart of a prepreg obtained in Example 11. FIG.

先ず、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)について説明する。(A)成分のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体は、下記一般式(I)で表される化合物である。

Figure 0005736944
(式中、Ar1は独立に下記一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は下記一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、複数あるAr2は同一でも異なっていても良い。nは0〜10である。) First, the bismaleimide derivative (A) having polyazomethine will be described. The bismaleimide derivative having polyazomethine as the component (A) is a compound represented by the following general formula (I).
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 1 is independently a residue represented by the following general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by the following general formula: (It is a residue represented by (I-5) or (I-6), and a plurality of Ar 2 may be the same or different. N is 0 to 10.)

Figure 0005736944
(式中、R1は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005736944
(In the formula, R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)

Figure 0005736944
(式中、R2及びR3は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、A1は炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r are each independently an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005736944
(式中、mは1〜10の整数である。)
Figure 0005736944
(In the formula, m is an integer of 1 to 10.)

Figure 0005736944
Figure 0005736944

Figure 0005736944
(式中、R6及びR7は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(Wherein R 6 and R 7 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4, A 2 is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.

Figure 0005736944
(式中、A3は、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
Figure 0005736944
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

(A)成分のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)としては、下記式(II)で表されるビスマレイミド誘導体を例示することができる。

Figure 0005736944
Examples of the bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine as the component (A) include bismaleimide derivatives represented by the following formula (II).
Figure 0005736944

次に、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)の製造方法について説明する。ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)の製造方法としては、以下の3通りの方法(製造法A、B、C)がある。
製造法A:下記一般式(III)で表される1分子中に2個の1級アミノ基を有するアミノ化合物(a)を、下記一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒ化合物(b)と有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、下記一般式(V)に示す末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物(c)を製造し、次いで前記化合物(c)と、下記一般式(VI)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体を製造する。
Next, the manufacturing method of the bismaleimide derivative (A) which has polyazomethine is demonstrated. As a method for producing the bismaleimide derivative (A) having polyazomethine, there are the following three methods (Production Methods A, B, and C).
Production method A: An amino compound (a) having two primary amino groups in one molecule represented by the following general formula (III), and two aldehydes in one molecule represented by the following general formula (IV) A polyazomethine compound (c) having a primary amino group at the terminal represented by the following general formula (V) is produced by dehydration condensation reaction with an aldehyde compound (b) having a group in an organic solvent, and then the compound ( bismaleimide having polyazomethine by c) and Michael addition reaction of maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the following general formula (VI) in an organic solvent A derivative is produced.

Figure 0005736944
(式中、Ar2は一般式(I)のものと同様である。)
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 2 is the same as that of the general formula (I).)

Figure 0005736944
Figure 0005736944

Figure 0005736944
(式中、Ar2及びnは一般式(I)のものと同様である。)
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 2 and n are the same as those in formula (I).)

Figure 0005736944
(式中、Ar1は一般式(I)のものと同様である。)
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 1 is the same as that of the general formula (I).)

製造法B:一般式(III)で表される1分子中に2個の1級アミノ基を有するアミノ化合物(a1)と一般式(VI)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、下記一般式(VII)に示す1級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)を製造し、次いでこの化合物(e)と、一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物(b)、又は一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物(b)と一般式(III)で表される1分子中に2個の1級アミノ基を有するアミノ化合物(a2)を有機溶媒中で脱水縮合反応させることによりポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)を製造する。 Production method B: An amino compound (a 1 ) having two primary amino groups in one molecule represented by the general formula (III) and at least two N— in one molecule represented by the general formula (VI) The maleimide compound (d) having a substituted maleimide group is subjected to Michael addition reaction in an organic solvent to produce a maleimide derivative (e) having a primary amino group represented by the following general formula (VII), and then this compound (e ) And an aldehyde compound (b) having two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV), or an aldehyde compound (b) having two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV) (b) ) And an amino compound (a 2 ) having two primary amino groups in one molecule represented by the general formula (III) are subjected to a dehydration condensation reaction in an organic solvent to thereby produce a bismaleimide derivative having polyazomethine (A ).

Figure 0005736944
(式中、Ar1は一般式(I)のものと同様である。)
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 1 is the same as that of the general formula (I).)

製造法C:一般式(III)に示す1分子中に2個の1級アミノ基を有する化合物(a1)と、一般式(VI)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中でマイケル付加反応させ、一般式(VII)に示す分子中に1級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)を製造し、次いでこのマレイミド誘導体(e)と、一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物(b)、又は一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物(b)と一般式(III)で表される1分子中に2個の1級アミノ基を有するアミノ化合物(a2)を、有機溶媒に溶解した混合樹脂溶液を製造し、次いでこの混合樹脂溶液を塗布したものを100〜200℃で熱処理することにより脱水縮合反応させ、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)を製造する。
上記A、B、Cのどの製造方法で(A)成分のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体を製造してもよく、製造法A及び製造法Bは、特に合成の終点管理がし易い特徴を有する製造法であり、また、製造法Cは、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)の溶剤溶解性が不足する場合に、特に有効な製造法である。
Production method C: Compound (a 1 ) having two primary amino groups in one molecule represented by general formula (III), and at least two N-substituted maleimides in one molecule represented by general formula (VI) The maleimide compound (d) having a group is subjected to Michael addition reaction in an organic solvent to produce a maleimide derivative (e) having a primary amino group in the molecule represented by the general formula (VII), and then the maleimide derivative (e ) And an aldehyde compound (b) having two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV), or an aldehyde compound (b) having two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV) (b) ) And an amino compound (a 2 ) having two primary amino groups in one molecule represented by the general formula (III) is prepared in an organic solvent, and this mixed resin solution is Heat treatment at 100-200 ° C. A bismaleimide derivative (A) having polyazomethine is produced by dehydrating condensation reaction.
Bismaleimide derivatives having (A) component polyazomethine may be produced by any of the production methods of A, B, and C described above, and production method A and production method B have the feature that the end point of the synthesis is particularly easy to manage. The production method C is a production method particularly effective when the solvent solubility of the bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine of the present invention is insufficient.

まず、製造法Aについて詳細に説明する。製造法Aでは、初めに、一般式(III)で表される1分子中に2個の1級アミノ基を有するアミノ化合物(a)を、一般式(IV)に示す1分子中に2個のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物(b)と有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、一般式(V)に示す末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物(c)を製造し、次いで前記ポリアゾメチン化合物(c)と、一般式(VI)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、一般式(I)で表されるポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。   First, the production method A will be described in detail. In production method A, first, two amino compounds (a) having two primary amino groups in one molecule represented by the general formula (III) are contained in one molecule represented by the general formula (IV). A polyazomethine compound (c) having a primary amino group at the terminal represented by the general formula (V) is produced by a dehydration condensation reaction with an aldehyde compound (b) having an aldehyde group in an organic solvent. By subjecting the azomethine compound (c) and the maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the general formula (VI) to Michael addition reaction in an organic solvent, the general formula (I The bismaleimide derivative (A) having a polyazomethine represented by

アミノ化合物(a)は、各々独立でも同一のものでもよく、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、3−メチル−1,4−ジアミノベンゼン、2,5−ジメチル−1,4−ジアミノベンゼン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルケトン、ベンジジン、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、2,2'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジヒドロキシベンジジン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンジアミン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン等の芳香族アミン類が挙げられる。   The amino compound (a) may be independent or the same, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3-methyl-1,4-diaminobenzene, 2,5-dimethyl- 1,4-diaminobenzene, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane, 4,4 '-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, benzidine, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2 , 2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dihydroxybenzidine, 2,2-bis (3-a No-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethanediamine, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4- ( 4-aminophenoxy) phenyl) propane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4, 4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 9,9-bis (4-aminophenyl) ) Aromatic amines such as fluorene.

アミノ化合物(a)は、これらの中で、合成時の反応率が高く、より高耐熱性化できる4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン等がより好ましく、安価であることや溶剤への溶解性の点から4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンが好ましく、低熱膨張性や誘電特性の点から、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンが特に好ましい。また、高弾性率であることから、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3−メチル−1,4−ジアミノベンゼン、2,5−ジメチル−1,4−ジアミノベンゼンも特に好ましい。   Among these, the amino compound (a) has a high reaction rate at the time of synthesis, and 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, which can have higher heat resistance. , 4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- ( 4-aminophenoxy) phenyl) propane and the like are more preferable and 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4 in view of low cost and solubility in a solvent. , 4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane and bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane are preferred, and 3,3 ′ is preferred from the viewpoint of low thermal expansion and dielectric properties. Dimethyl-4,4'-diamino biphenyl, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane is particularly preferred. Moreover, since it is a high elastic modulus, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3-methyl-1,4-diaminobenzene, and 2,5-dimethyl-1,4-diaminobenzene are particularly preferable.

アルデヒド化合物(b)としては、例えばテレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、o−フタルアルデヒドが挙げられる。これらの中で、より低熱膨張化が可能であり、合成時の反応率が高く、溶剤溶解性にも優れ、商業的にも入手し易いテレフタルアルデヒドが特に好ましい。
ここで、アミノ化合物(a)とアルデヒド化合物(b)の使用量は、アミノ化合物(a)の一級アミノ基数〔アミノ化合物(a)の使用量/アミノ化合物(a)の一級アミノ基当量〕が、アルデヒド化合物(b)のアルデヒド基数〔アルデヒド化合物(b)の使用量/アルデヒド化合物(b)のアルデヒド基当量〕を超えるように使用されることが望ましい。アミノ化合物(a)の一級アミノ基数が、アルデヒド化合物(b)のアルデヒド基数以下であると合成の収率が著しく低下したり、合成中にゲル化や不溶化を起こしたり、また、これをもとに得られるビスマレイミド誘導体の耐熱性が低下する場合がある。
Examples of the aldehyde compound (b) include terephthalaldehyde, isophthalaldehyde, and o-phthalaldehyde. Among these, terephthalaldehyde, which can be further reduced in thermal expansion, has a high reaction rate during synthesis, is excellent in solvent solubility, and is easily available commercially, is particularly preferable.
Here, the amount of amino compound (a) and aldehyde compound (b) used is the number of primary amino groups of amino compound (a) [the amount of amino compound (a) used / the amount of primary amino group equivalent of amino compound (a)]. The number of aldehyde groups of the aldehyde compound (b) [desired amount of aldehyde compound (b) / equivalent aldehyde group of aldehyde compound (b)] is preferably used. If the number of primary amino groups in the amino compound (a) is less than or equal to the number of aldehyde groups in the aldehyde compound (b), the synthesis yield is significantly reduced, gelation or insolubilization occurs during the synthesis, The heat resistance of the bismaleimide derivative obtained may be reduced.

脱水縮合反応に使用される有機溶媒は、特に制限されないが、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤、ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。これらの中で、溶解性の点からジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン等が好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残りにくいジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましく、また、この合成反応は脱水縮合反応であるため副生成物として水が生成される。この副生成物である水を除去する目的でトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤を併用することが特に好ましく、芳香族系溶剤との共沸により副生成物である水を除去しながら合成することが望ましい。   The organic solvent used in the dehydration condensation reaction is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic solvents such as toluene, xylene, mesitylene, nitrogen atom containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, sulfur atom containing solvents such as dimethyl sulfoxide, γ- Examples thereof include ester solvents such as butyrolactone, and one or two or more of them can be used in combination. Among these, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, γ-butyrolactone and the like are preferable from the viewpoint of solubility, and dimethylacetamide and propylene glycol monomethyl ether, which are highly volatile and hardly remain as residual solvents during the production of prepreg, are more preferable. Since this synthesis reaction is a dehydration condensation reaction, water is produced as a by-product. It is particularly preferable to use an aromatic solvent such as toluene, xylene, mesitylene or the like for the purpose of removing this by-product water, while removing the by-product water by azeotropy with the aromatic solvent. It is desirable to synthesize.

有機溶媒の使用量は、アミノ化合物(a)及びアルデヒド化合物(b)の合計量100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶媒の使用量が25質量部より少ないと溶解性が不足し、また2000質量部より多いと合成に長時間を要し、製造コストが高くなる。
脱水縮合反応には、必要により任意に反応触媒を使用することができ、該触媒は特に限定されない。反応触媒の例としては、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒、トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類、メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン等のリン系触媒等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。脱水縮合反応を効率よく進行させるため、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒が特に好ましい。
The amount of the organic solvent used is preferably 25 to 2000 parts by mass, more preferably 40 to 1000 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the amino compound (a) and the aldehyde compound (b). It is especially preferable to set it as -500 mass parts. When the amount of the organic solvent used is less than 25 parts by mass, the solubility is insufficient, and when it is more than 2000 parts by mass, the synthesis takes a long time and the production cost increases.
In the dehydration condensation reaction, a reaction catalyst can be optionally used as necessary, and the catalyst is not particularly limited. Examples of reaction catalysts include acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid, amines such as triethylamine, pyridine, and tributylamine, imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole, and phosphorus-based catalysts such as triphenylphosphine. 1 type (s) or 2 or more types can be mixed and used. An acidic catalyst such as p-toluenesulfonic acid is particularly preferred in order to allow the dehydration condensation reaction to proceed efficiently.

上記の原料、有機溶媒、必要により反応触媒を合成釜に仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1時間から10時間攪拌し脱水縮合反応させることにより、上記一般式(VII)に示す末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物(c)が製造される。
反応温度は25〜200℃が好ましく、温度が25℃より低いと反応速度が遅くなり、温度が200℃より高いと反応溶媒に高沸点の溶媒を必要とするため、プリプレグを製造する際、残溶剤を残し易くなり耐熱性が低下する場合がある。溶解性に優れるジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン等と、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤を併用し共沸により副生成物である水を除去しながら反応することが望ましく、反応温度は120〜200℃が特に好ましい。
The above raw materials, organic solvent and, if necessary, a reaction catalyst are charged into a synthesis kettle, and if necessary, stirred for 0.1 to 10 hours with heating and heat retention to cause a dehydration condensation reaction. A polyazomethine compound (c) having a primary amino group is produced.
The reaction temperature is preferably 25 to 200 ° C. When the temperature is lower than 25 ° C, the reaction rate becomes slow. When the temperature is higher than 200 ° C, a high boiling point solvent is required as the reaction solvent. It may be easy to leave a solvent and heat resistance may decrease. It is desirable to react with dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone and the like having excellent solubility in combination with an aromatic solvent such as toluene and xylene while removing water as a by-product by azeotropy, and the reaction temperature is 120 to 200 ° C. is particularly preferred.

脱水縮合反応により得られたポリアゾメチン化合物(c)は、少量の試料を取り出し、再沈殿により精製した試料のIR測定を行うことにより確認することができる。IR測定により合成原料であるアルデヒド化合物(b)のアルデヒド基に起因する1700cm-1、及び2750cm-1、2800cm-1のピークが消失し、シッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1のピークが出現することを確認し、また、1級アミノ基に起因する3440cm-1、及び3370cm-1付近のピークが存在することを確認することにより、良好に合成反応が進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。 The polyazomethine compound (c) obtained by the dehydration condensation reaction can be confirmed by taking out a small amount of sample and performing IR measurement on the sample purified by reprecipitation. 1700 cm -1, and 2750 cm -1 due to the aldehyde group of the aldehyde compound is a synthetic material by IR measurement (b), the peak of 2800 cm -1 disappeared, due to Schiff base (-N = CH-) 1620cm - Ensure that the first peak appears, also, by the peak around at 3,440 cm -1, and 3370cm -1 due to primary amino groups to make sure that there, better synthesis reaction proceeds to the desired It can be confirmed that the compound is produced.

一般式(I)に示される本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)は、上記により製造されるポリアゾメチン化合物(c)と、マレイミド化合物(d)とを有機溶媒中で必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌しマイケル付加反応させることにより製造される。
マレイミド化合物(d)としては、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、下記一般式(VIII)で表されるポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンなどが挙げられる。
The bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine of the present invention represented by the general formula (I) is prepared by heating the polyazomethine compound (c) produced as described above and the maleimide compound (d) in an organic solvent as necessary. -Manufactured by stirring for 0.1 to 10 hours while keeping the temperature to allow Michael addition reaction.
As the maleimide compound (d), for example, bis (4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide represented by the following general formula (VIII), bis (4-maleimidophenyl) ether, bis (4-maleimidophenyl) Sulfone, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, 2,2-bis (4- (4 -Maleimidophenoxy) phenyl) propane and the like.

Figure 0005736944
(式中、mは1〜10の整数である。)
Figure 0005736944
(In the formula, m is an integer of 1 to 10.)

マレイミド化合物(d)として、これらの中で、反応率が高く、より高耐熱性化できるビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンが好ましく、溶剤への溶解性の点から、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンがより好ましく、安価である点からビス(4−マレイミドフェニル)メタンが特に好ましい。   Among these, as the maleimide compound (d), bis (4-maleimidophenyl) methane, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, 3,3-dimethyl-5,5 having a high reaction rate and higher heat resistance can be obtained. -Diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide and 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane are preferred. From the viewpoint of solubility in a solvent, 3,3-dimethyl-5,5- Diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide and bis (4-maleimidophenyl) methane are more preferred, and bis (4-maleimidophenyl) methane is particularly preferred because it is inexpensive.

マイケル付加反応において、ポリアゾメチン化合物(c)とマレイミド化合物(d)の使用量は、マレイミド化合物(d)のマレイミド基数〔マレイミド化合物(d)の使用量/マレイミド化合物(d)のマレイミド基当量〕が、ポリアゾメチン化合物(c)の一級アミノ基数〔ポリアゾメチン化合物(c)の使用量/ポリアゾメチン化合物(c)の一級アミノ基当量〕の2〜10倍になる範囲であることが望ましい。10倍を超えると有機溶媒への溶解性が不足したり熱硬化性樹脂の耐熱性が低下する場合があり、2倍未満であるとゲル化を起こしたり、熱硬化性樹脂の耐熱性が低下する場合がある。また、有機溶媒の使用量は、マレイミド化合物(d)とアミノ化合物(a)の合計量(固形分)100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶剤の配合量が40質量部より少ないと溶解性が不足し、また500質量部より多いと合成に長時間を要し、製造コストが高くなる。
マイケル付加反応で使用される有機溶媒には、前記の脱水縮合反応と同様の溶媒が使用される。また、マイケル付加反応には、前記の脱水縮合反応と同様の反応触媒を任意に使用することができる。
In the Michael addition reaction, the amount of polyazomethine compound (c) and maleimide compound (d) used is the number of maleimide groups of maleimide compound (d) [the amount of maleimide compound (d) used / maleimide group equivalent of maleimide compound (d)]. Is preferably in the range of 2 to 10 times the number of primary amino groups of polyazomethine compound (c) [amount of polyazomethine compound (c) used / equivalent primary amino group of polyazomethine compound (c)]. If it exceeds 10 times, the solubility in an organic solvent may be insufficient or the heat resistance of the thermosetting resin may be reduced. If it is less than 2 times, gelation may occur or the heat resistance of the thermosetting resin may be reduced. There is a case. Moreover, it is preferable that the usage-amount of an organic solvent shall be 25-2000 mass parts per 100 mass parts of total amounts (solid content) of a maleimide compound (d) and an amino compound (a), and shall be 40-1000 mass parts. It is more preferable to set it as 40-500 mass parts. When the amount of the organic solvent is less than 40 parts by mass, the solubility is insufficient, and when it is more than 500 parts by mass, the synthesis takes a long time and the production cost increases.
As the organic solvent used in the Michael addition reaction, the same solvent as in the dehydration condensation reaction is used. Moreover, the reaction catalyst similar to the above-mentioned dehydration condensation reaction can be arbitrarily used for the Michael addition reaction.

上記のポリアゾメチン化合物(c)、マレイミド化合物(d)、有機溶媒、必要により反応触媒を合成釜に仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌しマイケル付加反応させることにより、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
マイケル付加反応の反応温度は25〜200℃が好ましく、100〜160℃が特に好ましい。反応温度が25℃より低いと反応速度が遅く、また反応温度が200℃より高いとゲル化を引き起し易い。
得られたポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)は、少量の試料を取り出し、GPC測定、及び再沈殿により精製した試料のIR測定を行うことにより確認することができる。GPC測定により合成されたビスマレイミド誘導体のピークが出現することを確認し、また、IR測定によりビスマレイミドのイミド基に起因する1710cm-1、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1のピークが出現することを確認することにより、マイケル付加反応が良好に進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。
By adding the above polyazomethine compound (c), maleimide compound (d), an organic solvent, and a reaction catalyst to a synthesis kettle if necessary, and stirring for 0.1 to 10 hours while heating and keeping heat as necessary to cause a Michael addition reaction, A bismaleimide derivative (A) having polyazomethine is produced.
The reaction temperature of the Michael addition reaction is preferably 25 to 200 ° C, particularly preferably 100 to 160 ° C. When the reaction temperature is lower than 25 ° C, the reaction rate is slow, and when the reaction temperature is higher than 200 ° C, gelation tends to occur.
The obtained bismaleimide derivative (A) having polyazomethine can be confirmed by taking out a small amount of sample and performing GPC measurement and IR measurement of the sample purified by reprecipitation. It was confirmed that the peak of the bismaleimide derivative synthesized by GPC measurement appeared, and by IR measurement, 1710 cm −1 due to the imide group of bismaleimide and 1620 cm due to the Schiff base (—N═CH—) By confirming that the peak of −1 appears, it can be confirmed that the Michael addition reaction proceeds well and a desired compound is produced.

次に、製造法Bについて詳細に説明する。
製造法Bでは、初めにアミノ化合物(a1)とマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、分子構造中に1級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)を製造し、次いでこのマレイミド誘導体(e)と、アルデヒド化合物(b)、又はアルデヒド化合物(b)及びアミノ化合物(a2)を有機溶媒中で脱水縮合反応させることによりポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
製造法Bにおいて、アミノ化合物(a1)及びアミノ化合物(a2)は製造法Aのアミノ化合物(a)と同じであり、マレイミド化合物(d)、アルデヒド化合物(b)および有機溶媒は製造法Aのものと同じである。
Next, the production method B will be described in detail.
In production method B, a maleimide derivative (e) having a primary amino group in the molecular structure is first produced by Michael addition reaction of amino compound (a 1 ) and maleimide compound (d) in an organic solvent. Then, this maleimide derivative (e), the aldehyde compound (b), or the aldehyde compound (b) and the amino compound (a 2 ) are subjected to a dehydration condensation reaction in an organic solvent, whereby a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine is obtained. Is manufactured.
In the production method B, the amino compound (a 1 ) and the amino compound (a 2 ) are the same as the amino compound (a) in the production method A, and the maleimide compound (d), the aldehyde compound (b) and the organic solvent are the production methods. Same as A.

製造法Bでは、まず初めにアミノ化合物(a1)とマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中で、必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌し、マイケル付加反応させることにより、一級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)が得られる。
このマイケル付加反応において、マレイミド化合物(d)と、アミン化合物(a1)の使用量は、マレイミド化合物(d)のマレイミド基数〔マレイミド化合物(d)の使用量/マレイミド化合物(d)のマレイミド基当量〕が、アミン化合物(a1)の一級アミノ基数〔アミン化合物(a)の使用量/アミン化合物(a1)の一級アミノ基当量〕の2.0〜10.0倍の範囲になるように使用することが望ましい。10.0倍を超えると溶剤への溶解性が不足したり熱硬化性樹脂の耐熱性が低下することがあり、2.0倍未満であるとゲル化を起こしたり、熱硬化性樹脂の耐熱性が低下することがある。
In the production method B, first, the amino compound (a 1 ) and the maleimide compound (d) are stirred in the organic solvent for 0.1 to 10 hours while heating and holding as necessary, and subjected to a Michael addition reaction. A maleimide derivative (e) having a primary amino group is obtained.
In this Michael addition reaction, the amount of maleimide compound (d) and amine compound (a 1 ) used is the number of maleimide groups in maleimide compound (d) [the amount of maleimide compound (d) used / maleimide group in maleimide compound (d). Equivalent)] is in the range of 2.0 to 10.0 times the number of primary amino groups of amine compound (a 1 ) [amount of amine compound (a) / primary amino group equivalent of amine compound (a 1 )]. It is desirable to use it. If it exceeds 10.0 times, the solubility in the solvent may be insufficient or the heat resistance of the thermosetting resin may decrease, and if it is less than 2.0 times, gelation may occur or the heat resistance of the thermosetting resin may decrease. May decrease.

また、有機溶媒の使用量は、アミン化合物(a1)とマレイミド化合物(d)の合計量(固形分)100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶剤の配合量が25質量部より少ないと溶解性が不足し、2000質量部より多いとマイケル付加反応に長時間を要し、製造コストが高くなる。マイケル付加反応には、必要により任意に製造法Aの場合と同様の反応触媒を使用することができる。
アミン化合物(a1)、マレイミド化合物(d)、有機溶媒、必要により反応触媒を合成釜に仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌し、マイケル付加反応させることにより、一般式(VII)に示す一級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)が製造される。
マイケル付加反応の温度は、80〜200℃が好ましく、100℃〜160℃が特に好ましい。温度が80℃より低いと反応速度が遅くなり、また温度が200℃より高いとゲル化を引き起こし易い。得られた一級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)は、少量の試料を取り出し、GPC測定を行うことにより確認することができる。GPC測定により合成されたマレイミド誘導体のピークが出現することを確認することにより、良好に合成反応が進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。
The amount of the organic solvent, the total amount (solid content) 100 parts by weight per amine compounds (a 1) and maleimide compound (d), preferably to 25 to 2000 parts by weight, and 40 to 1000 parts by weight It is more preferable to set it to 40 to 500 parts by mass. When the amount of the organic solvent is less than 25 parts by mass, the solubility is insufficient, and when it is more than 2000 parts by mass, the Michael addition reaction takes a long time and the production cost is increased. In the Michael addition reaction, the same reaction catalyst as in Production Method A can be optionally used as necessary.
Amine compound (a 1 ), maleimide compound (d), organic solvent, and if necessary, a reaction catalyst is added to the synthesis kettle, and if necessary, stirred for 0.1 to 10 hours while heating and keeping warm, and subjected to Michael addition reaction. A maleimide derivative (e) having a primary amino group represented by the formula (VII) is produced.
The temperature of the Michael addition reaction is preferably 80 to 200 ° C, particularly preferably 100 to 160 ° C. When the temperature is lower than 80 ° C, the reaction rate is slow, and when the temperature is higher than 200 ° C, gelation is likely to occur. The obtained maleimide derivative (e) having a primary amino group can be confirmed by taking a small sample and performing GPC measurement. By confirming that the peak of the maleimide derivative synthesized by GPC measurement appears, it can be confirmed that the synthesis reaction proceeds well and the desired compound is produced.

次いで、得られたマレイミド誘導体(e)と、アルデヒド化合物(b)、又はアルデヒド化合物(b)とアミノ化合物(a2)を、有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
ここで、アルデヒド化合物(b)とアミノ化合物(a2)の使用量は、マレイミド誘導体(e)の一級アミノ基数〔マレイミド誘導体(e)の使用量/マレイミド誘導体(e)の一級アミノ基当量〕と、アミノ化合物(a2)の一級アミノ基数〔アミノ化合物(a2)の使用量/アミノ化合物(a2)の一級アミノ基当量〕の合計が、アルデヒド化合物(b)のアルデヒド基数〔アルデヒド化合物(b)の使用量/アルデヒド化合物(b)のアルデヒド基当量〕の0.1〜4.0倍の範囲になるように使用されることが望ましい。4.0倍を超えると溶剤への溶解性が不足したり熱硬化性樹脂の耐熱性や銅箔接着性が低下することがあり、0.1倍未満であるとゲル化を起こしたり、熱硬化性樹脂の耐熱性や断熱性が低下することがある。
有機溶媒の使用量は、アミン化合物(a1)、マレイミド化合物(d)、アルデヒド化合物(b)およびアミノ化合物(a2)の合計量100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶剤の使用量が25質量部より少ないと溶解性が不足し、また2000質量部より多いと合成に長時間を要し、製造コストが高くなる。使用される有機溶媒は製造法Aの場合と同様である。また、この脱水縮合反応には製造法Aの場合と同様の反応触媒を任意に使用することができる。
Next, the obtained maleimide derivative (e) and the aldehyde compound (b), or the aldehyde compound (b) and the amino compound (a 2 ) are subjected to a dehydration condensation reaction in an organic solvent, whereby the polyazomethine of the present invention is obtained. The bismaleimide derivative (A) having is produced.
Here, the amount of the aldehyde compound (b) and the amino compound (a 2 ) used is the number of primary amino groups of the maleimide derivative (e) [the amount of maleimide derivative (e) used / the primary amino group equivalent of the maleimide derivative (e)] When amino compound primary amino groups of (a 2) the sum of [the amino compound usage / amino compound (a 2) (a 2) primary amino group equivalent of], aldehyde groups [aldehyde compound of the aldehyde compound (b) It is desirable that the amount used is in a range of 0.1 to 4.0 times the amount of (b) used / aldehyde group equivalent of aldehyde compound (b). If it exceeds 4.0 times, the solubility in the solvent may be insufficient, or the heat resistance of the thermosetting resin and the copper foil adhesion may be reduced. If it is less than 0.1 times, gelation may occur, The heat resistance and heat insulation properties of the curable resin may be reduced.
The amount of the organic solvent used is preferably 25 to 2000 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the amine compound (a 1 ), maleimide compound (d), aldehyde compound (b) and amino compound (a 2 ). 40 to 1000 parts by mass, more preferably 40 to 500 parts by mass. When the amount of the organic solvent used is less than 25 parts by mass, the solubility is insufficient, and when it is more than 2000 parts by mass, the synthesis takes a long time and the production cost increases. The organic solvent used is the same as in production method A. In addition, the same reaction catalyst as in production method A can be arbitrarily used for this dehydration condensation reaction.

合成釜に、マレイミド誘導体(e)、アルデヒド化合物(b)及び、必要によりアミノ化合物(a2)と、有機溶媒、必要により反応触媒を仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1時間から10時間攪拌し脱水縮合反応させることにより、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
脱水縮合反応温度は25〜200℃が好ましい。反応温度が25℃より低いと反応速度が遅くなる。また反応温度が200℃より高い場合には、脱水縮合反応の溶媒に高沸点溶媒を必要とするため、プリプレグを製造する際、残溶剤を残し易くなり耐熱性が低下することがある。有機溶媒として、溶解性に優れるジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノンや、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤を併用し、共沸により副生成物である水を除去しながら脱水縮合反応をすることが望ましく、反応温度は120〜200℃が特に好ましい。
製造法Bで得られたポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)は、製造法Aと同様の方法で、良好に脱水縮合反応が進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。
A maleimide derivative (e), an aldehyde compound (b), an amino compound (a 2 ) and an organic solvent, if necessary, a reaction catalyst are charged into the synthesis kettle, and the reaction catalyst is heated for 0.1 hours to 10 minutes, if necessary. The bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine of the present invention is produced by stirring for a period of time and causing a dehydration condensation reaction.
The dehydration condensation reaction temperature is preferably 25 to 200 ° C. When the reaction temperature is lower than 25 ° C, the reaction rate becomes slow. When the reaction temperature is higher than 200 ° C., a high-boiling solvent is required as a solvent for the dehydration condensation reaction. Therefore, when the prepreg is produced, the residual solvent tends to remain and heat resistance may be lowered. As an organic solvent, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone with excellent solubility, and aromatic solvents such as toluene and xylene can be used together, and dehydration condensation reaction can be performed while removing water as a by-product by azeotropy. Desirably, the reaction temperature is particularly preferably 120 to 200 ° C.
The bismaleimide derivative (A) having polyazomethine obtained by the production method B can be confirmed by the same method as the production method A so that the dehydration condensation reaction proceeds well and the desired compound is produced.

次に、製造法Cについて詳細に説明する。
製造法Cでは、初めに、アミノ化合物(a1)とマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中でマイケル付加反応させ、1級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)を製造し、次いでこのマレイミド誘導体(e)と、アルデヒド化合物(b)、又はアルデヒド化合物(b)及びアミノ化合物(a2)を有機溶媒に溶解した混合樹脂溶液を製造し、次いでこの混合樹脂溶液を塗布したものを100〜200℃で熱処理することにより脱水縮合反応させることによりポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
なお製造法Cにおいても、アミノ化合物(a1)及びアミノ化合物(a2)は製造法Aのアミノ化合物(a)と同じであり、マレイミド化合物(d)、アルデヒド化合物(b)および有機溶媒は製造法Aのものと同じである。
Next, the production method C will be described in detail.
In the production method C, first, a maleimide derivative (e) having a primary amino group is produced by Michael addition reaction of an amino compound (a 1 ) and a maleimide compound (d) in an organic solvent, and then the maleimide derivative A mixed resin solution prepared by dissolving (e), an aldehyde compound (b), or an aldehyde compound (b) and an amino compound (a 2 ) in an organic solvent, and then applying the mixed resin solution to 100 to 200 A bismaleimide derivative (A) having polyazomethine is produced by a dehydration condensation reaction by heat treatment at ° C.
In production method C, amino compound (a 1 ) and amino compound (a 2 ) are the same as amino compound (a) in production method A, and maleimide compound (d), aldehyde compound (b) and the organic solvent are It is the same as that of production method A.

製造法Cにおいて、初めに、アミノ化合物(a1)とマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中でマイケル付加反応させ、分子構造中に1級アミノ基を有するマレイミド誘導体(e)を製造する方法は、製造法Bの場合と同様である。
次いで、得られたマレイミド誘導体(e)と、アルデヒド化合物(b)、又はアルデヒド化合物(b)とアミノ化合物(a2)を有機溶媒に溶解して混合樹脂溶液を製造し、次いでこの混合樹脂溶液を塗布したものを熱処理して脱水縮合反応させることにより、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)が製造される。
ここで、アルデヒド化合物(b)とアミノ化合物(a2)の使用量、有機溶媒及びその使用量、並びに反応触媒についても、製造法Bの場合と同様である。
In the production method C, first, a method for producing a maleimide derivative (e) having a primary amino group in a molecular structure by subjecting an amino compound (a 1 ) and a maleimide compound (d) to a Michael addition reaction in an organic solvent. Is the same as in the case of production method B.
Subsequently, the obtained maleimide derivative (e) and the aldehyde compound (b) or the aldehyde compound (b) and the amino compound (a 2 ) are dissolved in an organic solvent to produce a mixed resin solution, and then this mixed resin solution The bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine of the present invention is produced by heat-treating the material coated with bismuth and causing a dehydration condensation reaction.
Here, the use amount of the aldehyde compound (b) and the amino compound (a 2 ), the organic solvent and the use amount thereof, and the reaction catalyst are the same as in the case of the production method B.

配合釜に、マレイミド誘導体(e)、アルデヒド化合物(b)及び、必要によりアミノ化合物(a2)と、有機溶媒、必要により反応触媒を仕込み、必要により20~100℃で加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌し溶解させることにより、均一に溶解された混合樹脂溶液を得ることができる。均一に溶解された後に混合樹脂溶液が濁ることがあるが、均一に分散されていれば特に問題ない。
次いで、この混合樹脂溶液を、ガラス基材を用いた含浸塗工やフィルム等の支持体上にキャストすること等により塗布したものを、乾燥機中で100〜200℃で熱処理することにより脱水縮合させ、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)を製造することができる。
この製造法Cは、本発明のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)自体が乾式で製造されるため、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)自体の溶剤溶解性が不足する場合、特に有効な製造法である。
乾燥機の温度が100℃未満であると、脱水縮合反応が不十分であったり、残溶剤が多くなるため耐熱性や弾性率が低下する場合がある。また、乾燥機の温度が200℃を超えると、ビスマレイミドの重合等によりゲル化が進行し、成形性が低下する場合がある。
製造法Cで得られたポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)は、製造法Aと同様にして、良好に脱水縮合反応が進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。
The compound kettle is charged with maleimide derivative (e), aldehyde compound (b), amino compound (a 2 ), if necessary, an organic solvent, and a reaction catalyst if necessary, and is heated and kept at 20-100 ° C. if necessary. By stirring and dissolving for 1 to 10 hours, a uniformly dissolved mixed resin solution can be obtained. Although the mixed resin solution may become cloudy after being uniformly dissolved, there is no particular problem as long as it is uniformly dispersed.
Next, dehydration condensation is performed by heat-treating the mixed resin solution applied by casting on a support such as impregnation coating or film using a glass substrate at 100 to 200 ° C. in a dryer. Thus, the bismaleimide derivative (A) having the polyazomethine of the present invention can be produced.
This production method C is particularly effective when the bismaleimide derivative (A) itself having polyazomethine according to the present invention is produced in a dry process, and therefore the bismaleimide derivative (A) itself having polyazomethine is insufficient in solvent solubility. It is a simple manufacturing method.
If the temperature of the dryer is less than 100 ° C., the dehydration condensation reaction may be insufficient or the residual solvent may increase, resulting in a decrease in heat resistance and elastic modulus. Moreover, when the temperature of a dryer exceeds 200 degreeC, gelatinization will advance by superposition | polymerization of bismaleimide, etc., and a moldability may fall.
The bismaleimide derivative (A) having polyazomethine obtained by the production method C can confirm that the dehydration-condensation reaction proceeds well and the desired compound is produced in the same manner as in the production method A.

次に、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)について説明する。(B)成分の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂は、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されず、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、ビフェニル系、ノボラック系、多官能フェノール系、ナフタレン系、脂環式系エポキシ樹脂及びアルコール系エポキシ樹脂のグリシジルエーテル、グリシジルアミン系エポキシ樹脂並びにグリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
これらの中で、誘電特性、耐熱性、耐湿性及び銅箔接着性の点からビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が好ましく、良好な低熱膨張性や高いガラス転移温度を有する点からナフタレン環含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂がより好ましい。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、固形分換算の(A)成分および(B)成分の合計量100質量部当たり、(A)成分の使用量が20〜95質量部とすることが好ましく、40〜90質量部とすることがより好ましい。(A)成分の配合量が20質量部以上とすることにより、難燃性、耐熱性、接着性、誘電特性が向上する。
Next, the epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule will be described. The epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule of the component (B) is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A, bisphenol F-type, biphenyl-type, novolak-type, polyfunctional phenol-type, naphthalene-type, alicyclic epoxy resin and glycidyl ether of alcohol-type epoxy resin, glycidylamine-type epoxy resin, glycidyl ester-type epoxy resin, etc. Or 2 or more types can be mixed and used.
Among these, bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene ring-containing epoxy resin, anthracene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin in terms of dielectric properties, heat resistance, moisture resistance and copper foil adhesion, Biphenyl aralkyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, etc. are preferable, and naphthalene ring-containing epoxy resin, anthracene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin from the viewpoint of having good low thermal expansion and high glass transition temperature Biphenyl aralkyl type epoxy resins and phenol novolac type epoxy resins are more preferred.
In the thermosetting resin composition of the present invention, the use amount of the component (A) is preferably 20 to 95 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of solid content. 40 to 90 parts by mass is more preferable. When the blending amount of the component (A) is 20 parts by mass or more, flame retardancy, heat resistance, adhesiveness, and dielectric characteristics are improved.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要により硬化促進剤(C)、無機充填剤(D)、金属水和物等の難燃剤(E)等を併用してもよい。これらの材料を適切に併用することにより更に諸特性を向上することができる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物に、適切な硬化促進剤(C)を併用することにより、成形温度250℃以下での低温硬化性を付与することができ、更に高弾性率性や難燃性、銅箔接着性等を向上させることができる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いられる硬化促進剤(C)としては、イミダゾール類及びその誘導体、第三級アミン類及び第四級アンモニウム塩等が挙げられる。その中でもイミダゾール類及びその誘導体が高弾性率性や難燃性、銅箔接着性等の点から好ましい。
更に下記一般式(IX)で表されるイミダゾール基がエポキシ樹脂によって置換された化合物や、下記一般式(X)で表されるイソシアネート樹脂によって置換された化合物が200℃以下での比較的低温での硬化成形性とワニスやプリプレグの経日安定性に優れるためより好ましく、下記一般式(XI)又は(XII)で表される化合物が少量の配合使用量でよく、また商業的にも安価であることから特に好ましい。
In the thermosetting resin composition of the present invention, a flame retardant (E) such as a curing accelerator (C), an inorganic filler (D), or a metal hydrate may be used in combination as necessary. Various properties can be further improved by appropriately using these materials together.
By using an appropriate curing accelerator (C) in combination with the thermosetting resin composition of the present invention, low temperature curability at a molding temperature of 250 ° C. or less can be imparted, and further, high elasticity and flame retardancy. Property, copper foil adhesiveness, etc. can be improved.
Examples of the curing accelerator (C) used in the thermosetting resin composition of the present invention include imidazoles and derivatives thereof, tertiary amines, and quaternary ammonium salts. Among them, imidazoles and derivatives thereof are preferable from the viewpoints of high elastic modulus, flame retardancy, copper foil adhesion, and the like.
Further, a compound in which an imidazole group represented by the following general formula (IX) is substituted by an epoxy resin, or a compound substituted by an isocyanate resin represented by the following general formula (X) at a relatively low temperature of 200 ° C. or less. It is more preferable because it has excellent curing moldability and aging stability of varnish and prepreg. The compound represented by the following general formula (XI) or (XII) may be used in a small amount, and is also commercially inexpensive. This is particularly preferable.

Figure 0005736944
(式中、R6、R7、R8、R9は各々独立に水素原子、又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、フェニル基を示し、Bは単結合、又はアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基のいずれかである。)
Figure 0005736944
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and B represents a single bond, an alkylene group or an alkylidene group) A group, an ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005736944
(式中、R6、R7、R8、R9は各々独立に水素原子、又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、フェニル基を示し、Dはアルキレン基、芳香族炭化水素基等のイソシアネート樹脂の残基である)
Figure 0005736944
(In the formula, R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and D represents an alkylene group or an aromatic hydrocarbon group. Is a residue of isocyanate resin, etc.)

Figure 0005736944
Figure 0005736944

Figure 0005736944
Figure 0005736944

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、低熱膨張率性や高弾性率性、耐熱性、難燃性を向上させることを目的に、任意に無機充填剤(D)を含有させることができる。
無機充填剤(D)としては、シリカ、アルミナ、マイカ、タルク、ガラス短繊維又は微粉末及び中空ガラス、炭酸カルシウム、石英粉末等が挙げられるが、これらの中で、銅箔接着性、耐熱性、難燃性の点からシリカ、アルミナ、マイカ、タルク等が好ましく、高放熱性の点からシリカ、アルミナが特に好ましい。
In addition, the thermosetting resin composition of the present invention may optionally contain an inorganic filler (D) for the purpose of improving low thermal expansion property, high elastic modulus, heat resistance, and flame retardancy. Can do.
Examples of the inorganic filler (D) include silica, alumina, mica, talc, short glass fiber or fine powder, and hollow glass, calcium carbonate, quartz powder, etc. Among them, copper foil adhesiveness, heat resistance Silica, alumina, mica, talc and the like are preferable from the viewpoint of flame retardancy, and silica and alumina are particularly preferable from the viewpoint of high heat dissipation.

更に、本発明の熱硬化性樹脂組成物に、難燃性を向上させることを目的に、難燃剤(E)を含有させることができる。適切な難燃剤を併用することにより、耐熱性や銅箔接着性、高弾性率、低熱膨張率性等の諸特性の低下が少なく、高難燃性を付与することができる。
難燃剤(E)の例としては、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、リン酸エステル系化合物、ホスファゼン、赤リン等のリン系難燃剤、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤等が挙げられる。臭素や塩素を含有する含ハロゲン系難燃剤は、近年の環境問題から本発明の目的にそぐわない。
これらの難燃剤の中で、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物が、高いガラス転移温度や銅箔接着性を発現することができ、またリンを含有しないことから安全性や環境適応性もかなり高いので好ましい。
金属水和物の中でも、ベーマイト型水酸化アルミニウム(AlOOH)、あるいはギブサイト型水酸化アルミニウム〔Al(OH)3〕を熱処理によりその熱分解温度を300℃以上に調製した化合物、水酸化マグネシウム等の、熱分解温度が300℃以上である金属水和物は、優れた耐熱性を有するためより好ましい。特に、ベーマイト型水酸化アルミニウム(AlOOH)は、350℃以上の特に高い熱分解温度を有するため、難燃性と、特に高い耐熱性が両立することや、耐酸性等の耐薬液性、低吸水率性等に優れるため、特に好ましい。
Furthermore, a flame retardant (E) can be contained in the thermosetting resin composition of the present invention for the purpose of improving flame retardancy. By using an appropriate flame retardant in combination, it is possible to impart high flame retardancy with little reduction in various properties such as heat resistance, copper foil adhesion, high elastic modulus, and low thermal expansion.
Examples of flame retardants (E) include metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate, phosphate ester compounds, phosphazenes, red phosphorus, etc. Examples thereof include inorganic flame retardant aids such as phosphorus-based flame retardants, antimony trioxide, and zinc molybdate. Halogen-containing flame retardants containing bromine and chlorine are not suitable for the purpose of the present invention due to recent environmental problems.
Among these flame retardants, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide can express high glass transition temperature and copper foil adhesiveness, and do not contain phosphorus, so safety and environment It is preferable because it is highly adaptable.
Among metal hydrates, boehmite-type aluminum hydroxide (AlOOH) or gibbsite-type aluminum hydroxide [Al (OH) 3] is prepared by heat treatment to have a thermal decomposition temperature of 300 ° C. or higher, such as magnesium hydroxide. A metal hydrate having a thermal decomposition temperature of 300 ° C. or higher is more preferable because it has excellent heat resistance. In particular, boehmite-type aluminum hydroxide (AlOOH) has a particularly high thermal decomposition temperature of 350 ° C. or higher, so that both flame retardancy and particularly high heat resistance are compatible, chemical resistance such as acid resistance, and low water absorption. Since it is excellent in efficiency etc., it is especially preferable.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に、硬化促進剤(C)を含有させる場合、その使用量は、固形分換算の(A)成分および(B)成分の合計量100質量部当たり、0.1〜10質量部とすることが好ましく、0.1〜5質量部とすることがより好ましい。硬化促進剤の使用量が0.1質量部少ないと耐熱性や難燃性、銅箔接着性などが不足することがあり、また10質量部を超えると耐熱性や経日安定性が低下することがある。
同様に、無機充填剤(D)を含有させる場合、その使用量は、固形分換算の(A)成分および(B)成分の合計量100質量部当たり、10〜300質量部とすることが好ましく、10〜250質量部とすることがより好ましく、20〜200質量部とすることが更に好ましく、30〜200質量部とすることが特に好ましい。無機充填剤(C)の含有量が300質量部を超えると耐めっき液性等の耐薬品性や成形性が低下する場合がある。
When the curing accelerator (C) is contained in the thermosetting resin composition of the present invention, the amount used is 0.000 per 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B) in terms of solid content. It is preferable to set it as 1-10 mass parts, and it is more preferable to set it as 0.1-5 mass parts. If the amount of the curing accelerator used is less than 0.1 parts by mass, heat resistance, flame retardancy, copper foil adhesiveness, etc. may be insufficient, and if it exceeds 10 parts by mass, the heat resistance and aging stability will decrease. Sometimes.
Similarly, when the inorganic filler (D) is contained, the amount used is preferably 10 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B) in terms of solid content. 10 to 250 parts by mass, more preferably 20 to 200 parts by mass, and particularly preferably 30 to 200 parts by mass. If the content of the inorganic filler (C) exceeds 300 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance and moldability may be deteriorated.

同様に、難燃剤(E)を含有させる場合、その使用量は、難燃剤が金属水和物である場合は、固形分換算の(A)成分および(B)成分の合計量100質量部当たり、10〜300質量部とすることが好ましく、10〜250質量部とすることがより好ましく、50〜200質量部とすることが特に好ましい。10質量部未満であると難燃性が不足する場合があり、300質量部を越えると耐めっき液性などの耐薬品性が低下する場合がある。
難燃剤(E)がリン系難燃剤である場合は、固形分換算のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)100質量部当たり、リン原子の含有量が0.1〜10.0質量部となるように配合することが好ましく、1.0〜10.0質量部となるように配合することがより好ましく、1.0〜8.0質量%となるように配合することが特に好ましい。0.1質量%未満であると難燃性が不足する場合があり、10.0質量部を越えると耐めっき液性などの耐薬品性や耐熱性、銅箔接着性が低下する場合がある。
また、難燃剤(E)に難燃助剤(F)を使用することができる。難燃助剤としては、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤を使用することができる。その使用量は、固形分換算の(A)成分および(B)成分の合計量100質量部当たり、0.1〜20質量部とすることが好ましく、0.1〜10質量部とすることがより好ましい。難燃助剤(F)が20質量部を越えると耐めっき液性等の耐薬品性が低下する場合がある。
Similarly, when the flame retardant (E) is contained, the amount used is, when the flame retardant is a metal hydrate, per 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of solid content. 10 to 300 parts by mass, more preferably 10 to 250 parts by mass, and particularly preferably 50 to 200 parts by mass. If it is less than 10 parts by mass, the flame retardancy may be insufficient, and if it exceeds 300 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance may be lowered.
When the flame retardant (E) is a phosphorus flame retardant, the content of phosphorus atoms is 0.1 to 10.0 parts by mass per 100 parts by mass of the bismaleimide derivative (A) having polyazomethine in terms of solid content. It is preferable to mix | blend, it is more preferable to mix | blend so that it may become 1.0-10.0 mass part, and it is especially preferable to mix | blend so that it may become 1.0-8.0 mass%. If it is less than 0.1% by mass, the flame retardancy may be insufficient, and if it exceeds 10.0 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance, heat resistance, and copper foil adhesion may be deteriorated. .
Moreover, a flame retardant adjuvant (F) can be used for a flame retardant (E). As the flame retardant aid, inorganic flame retardant aids such as antimony trioxide and zinc molybdate can be used. The amount used is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and preferably 0.1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of components (A) and (B) in terms of solid content. More preferred. When the flame retardant aid (F) exceeds 20 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance may be lowered.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、任意に公知の熱可塑性樹脂、エラストマー、難燃剤、有機充填剤などの含有させることができる。
熱可塑性樹脂としては、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂及びシリコーン樹脂などが挙げられる。
エラストマーとしては、ポリブタジエン、アクリロニトリル、エポキシ変性ポリブタジエン、無水マレイン酸変性ポリブタジエン、フェノール変性ポリブタジエン及びカルボキシ変性アクリロニトリルなどが挙げられる。
有機充填剤としては、シリコーンパウダー、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及びポリフェニレンエーテル等の有機物粉末等が挙げられる。
The thermosetting resin composition of the present invention can optionally contain a known thermoplastic resin, elastomer, flame retardant, organic filler and the like.
Examples of the thermoplastic resin include tetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, xylene resin, petroleum resin, and silicone resin.
Examples of the elastomer include polybutadiene, acrylonitrile, epoxy-modified polybutadiene, maleic anhydride-modified polybutadiene, phenol-modified polybutadiene, and carboxy-modified acrylonitrile.
Examples of the organic filler include organic powders such as silicone powder, tetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyphenylene ether.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、任意に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光重合開始剤、蛍光増白剤及び密着性向上剤などを含有させることもできる。これらの例としては、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収剤、ヒンダードフェノール系やスチレン化フェノール等の酸化防止剤、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、チオキサントン系等の光重合開始剤、スチルベン誘導体等の蛍光増白剤、尿素シラン等の尿素化合物やシランカップリング剤等の密着性向上剤などが挙げられる。   The thermosetting resin composition of the present invention can optionally contain an ultraviolet absorber, an antioxidant, a photopolymerization initiator, a fluorescent whitening agent, an adhesion improver, and the like. Examples of these include UV absorbers such as benzotriazoles, antioxidants such as hindered phenols and styrenated phenols, photopolymerization initiators such as benzophenones, benzyl ketals, and thioxanthones, and fluorescence such as stilbene derivatives. Examples include brighteners, urea compounds such as urea silane, and adhesion improvers such as silane coupling agents.

なお、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、その取り扱い上から、有機溶剤が用いられる。使用される有機溶媒は特に制限されないが、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤、ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。使用される有機溶媒は、これらの中で溶解性の点からジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残り難いジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。   In addition, the organic solvent is used for the thermosetting resin composition of this invention on the handling. The organic solvent to be used is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, etc. Ether solvents, aromatic solvents such as toluene, xylene and mesitylene, nitrogen atom-containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, sulfur atom-containing solvents such as dimethylsulfoxide, and ester systems such as γ-butyrolactone A solvent etc. are mentioned, 1 type (s) or 2 or more types can be mixed and used. Among these, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether, etc. are preferable from the viewpoint of solubility, and dimethyl dimethyl which has high volatility and hardly remains as a residual solvent at the time of producing a prepreg. Acetamide and propylene glycol monomethyl ether are more preferred.

本発明のプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、シート状補強基材に含浸又は塗工し、Bステージ化して得られるものである。本発明のプリプレグは、上記の熱硬化性樹脂組成物を、シート状補強基材に含浸・塗工し、加熱等により半硬化(Bステージ化)して製造することができる。
プリプレグのシート状補強基材として、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス及びQガラス等の無機物繊維、ポリイミド、ポリエステル及びテトラフルオロエチレン等の有機繊維、並びにそれらの混合物等が挙げられる。これらの基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット及びサーフェシングマット等の形状を有するが、材質及び形状は、目的とする成形物の用途や性能により選択され、必要により、単独又は2種類以上の材質及び形状を組み合わせることができる。
シート状補強基材の厚さは、特に制限されず、例えば、約0.03〜0.5mmを使用することができ、シランカップリング剤等で表面処理したもの又は機械的に開繊処理を施したものが、耐熱性や耐湿性、加工性の面から好適である。該基材に対する樹脂組成物の付着量が、乾燥後のプリプレグの樹脂含有率で、20〜90質量%となるように、基材に含浸又は塗工した後、通常、100〜200℃の温度で1〜30分加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させて、本発明のプリプレグを得ることができる。
The prepreg of the present invention is obtained by impregnating or coating the thermosetting resin composition of the present invention on a sheet-like reinforcing base material and forming a B-stage. The prepreg of the present invention can be produced by impregnating and coating the above thermosetting resin composition on a sheet-like reinforcing base material and semi-curing (B-stage) by heating or the like.
The well-known thing used for the laminated board for various electrical insulation materials can be used as a sheet-like reinforcement base material of a prepreg. Examples of the material include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass, and Q glass, organic fibers such as polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene, and mixtures thereof. These base materials have, for example, shapes such as woven fabric, non-woven fabric, robink, chopped strand mat, and surfacing mat, but the material and shape are selected depending on the intended use and performance of the molded product, and if necessary, A single material or two or more materials and shapes can be combined.
The thickness of the sheet-like reinforcing base material is not particularly limited, and for example, about 0.03 to 0.5 mm can be used, and the surface treatment with a silane coupling agent or the like or mechanical fiber opening treatment is performed. What was given is suitable from the surface of heat resistance, moisture resistance, and workability. After impregnating or coating the base material so that the amount of the resin composition attached to the base material is 20 to 90% by mass in terms of the resin content of the prepreg after drying, the temperature is usually 100 to 200 ° C. Can be heated and dried for 1 to 30 minutes and semi-cured (B-stage) to obtain the prepreg of the present invention.

本発明の積層板は、絶縁樹脂層が前述の熱硬化性樹脂組成物又はプリプレグを用いて形成されたものである。例えば、プリプレグを1〜20枚重ね、その片面又は両面に銅及びアルミニウム等の金属箔を配置した構成で積層成形することにより製造することができる。金属箔は、電気絶縁材料用途で用いるものであれば特に制限されない。
成形条件は、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力0.2〜10MPa、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。
また、本発明のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、多層板を製造することもできる。
In the laminated board of the present invention, the insulating resin layer is formed using the above-mentioned thermosetting resin composition or prepreg. For example, it can be manufactured by stacking 1 to 20 prepregs and laminate-molding them with a configuration in which a metal foil such as copper and aluminum is disposed on one or both sides thereof. The metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating material applications.
The molding conditions can be applied to a laminate for an electrical insulating material and a multilayer board, for example, using a multistage press, a multistage vacuum press, continuous molding, an autoclave molding machine, etc., at a temperature of 100 to 250 ° C., a pressure of 0.2 to It can be molded in a range of 10 MPa and a heating time of 0.1 to 5 hours.
Further, the prepreg of the present invention and the inner layer wiring board can be combined and laminated to produce a multilayer board.

次に、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの記載に限定されるものではない。なお、各実施例及び比較例で得られた銅張積層板は、以下の方法により性能を測定・評価した。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention in more detail, this invention is not limited to these description. In addition, the performance of the copper clad laminates obtained in each example and comparative example was measured and evaluated by the following method.

(1)銅箔接着性(銅箔ピール強度)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより1cm幅の銅箔を形成して評価基板を作製し、引張り試験機を用いて銅箔の接着性(ピール強度)を測定した。
(1) Copper foil adhesion (copper foil peel strength)
A 1 cm wide copper foil was formed by immersing the copper clad laminate in a copper etching solution to produce an evaluation substrate, and the adhesion (peel strength) of the copper foil was measured using a tensile tester.

(2)ガラス転移温度(Tg)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の厚み方向(Z方向)の熱膨張特性から測定した。
(2) Glass transition temperature (Tg)
A 5 mm square evaluation board from which the copper foil was removed by immersing the copper-clad laminate in a copper etching solution was prepared, and a TMA test apparatus (manufactured by DuPont, TMA2940) was used in the thickness direction (Z direction) of the evaluation board. Measured from thermal expansion characteristics.

(3)線熱膨張係数
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の厚み方向(Z方向)の30〜100℃の線熱膨張係数を測定した。
(3) Coefficient of linear thermal expansion A 5 mm square evaluation board from which the copper foil has been removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution is prepared, and a TMA test apparatus (manufactured by DuPont, TMA2940) is used. The linear thermal expansion coefficient of 30 to 100 ° C. in the thickness direction (Z direction) was measured.

(4)はんだ耐熱性
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5cm角の評価基板を作製し、平山製作所(株)製プレッシャー・クッカー試験装置を用いて、121℃、0.2MPaの条件で4時間プレッシャー・クッカー処理を行った後、温度288℃のはんだ浴に、評価基板を20秒間浸漬した後、外観を観察することによりはんだ耐熱性を評価した。(外観にふくれがあったものを「ふくれ」と記す。)
(4) Solder heat resistance A 5 cm square evaluation board from which the copper foil was removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution was prepared, and 121 ° C. using a pressure cooker test apparatus manufactured by Hirayama Seisakusho. After performing the pressure cooker treatment for 4 hours under the condition of 0.2 MPa, the evaluation substrate was immersed in a solder bath at a temperature of 288 ° C. for 20 seconds, and then the solder heat resistance was evaluated by observing the appearance. (If there is a blister on the exterior, mark it “blister”.)

(5)吸水率の評価
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5cm角の評価基板を作製し、平山製作所(株)製プレッシャー・クッカー試験装置を用いて、121℃、0.2MPaの条件で4時間の吸湿処理を行った後、吸湿処理前後の基板の質量差を測定し、質量の増加分を百分率で算出した
(5) Evaluation of water absorption rate A 5-cm square evaluation board from which a copper foil was removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution was prepared, and the pressure cooker test apparatus manufactured by Hirayama Mfg. Co., Ltd. was used. After performing moisture absorption treatment for 4 hours under the conditions of ° C and 0.2 MPa, the difference in mass of the substrate before and after moisture absorption treatment was measured, and the increase in mass was calculated as a percentage.

(6)難燃性
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、長さ127mm、幅12.7mmに切り出した試験片を作製し、UL94の試験法(V法)に準じて評価した。
(6) Flame retardance A test piece cut out to a length of 127 mm and a width of 12.7 mm was prepared from an evaluation substrate from which a copper foil was removed by immersing a copper-clad laminate in a copper etching solution. Evaluation was made according to V method.

(7)銅付き耐熱性(T−300)
銅張積層板から5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、300℃で評価基板の膨れが発生するまでの時間を測定することにより評価した。(昇温時にふくれがあったものを「昇温時ふくれ」と記す。)
(7) Heat resistance with copper (T-300)
A 5 mm square evaluation board was produced from the copper clad laminate, and evaluation was performed by measuring the time until the evaluation board swells at 300 ° C. using a TMA test apparatus (manufactured by DuPont, TMA2940). (Things that were blistered when the temperature was raised are referred to as “bulges when the temperature is raised.”)

(8)誘電特性(比誘電率及び誘電正接)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板を作製し、Hewllet・Packerd社製比誘電率測定装置(製品名:HP4291B)を用いて、周波数1GHzでの比誘電率及び誘電正接を測定した。
(8) Dielectric properties (dielectric constant and dielectric loss tangent)
An evaluation board from which copper foil is removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution is prepared, and a relative dielectric constant at a frequency of 1 GHz is measured using a relative dielectric constant measuring apparatus (product name: HP4291B) manufactured by Hewllet Packerd. The rate and dielectric loss tangent were measured.

(9)ドリル加工性
ドリルに径0.105mm(ユニオンツールMV J676)を用い、回転数:160000rpm、送り速度:0.8m/min、重ね枚数:1枚の条件でドリル加工を行い、6000ヒットさせて評価基板を作製し、ドリル穴の内壁粗さを評価した。内壁粗さの評価は、無電解銅めっきを行い(めっき厚:15μm)、穴壁へのめっき染み込み長さの最大値を測定することにより評価した。
(9) Drill workability Using a drill with a diameter of 0.105 mm (Union Tool MV J676), drilling was performed under the conditions of rotation speed: 160000 rpm, feed rate: 0.8 m / min, number of stacked sheets: 6000 hits Thus, an evaluation substrate was produced, and the inner wall roughness of the drill hole was evaluated. The inner wall roughness was evaluated by performing electroless copper plating (plating thickness: 15 μm) and measuring the maximum value of the plating penetration length into the hole wall.

(10)耐デスミア性
デスミア処理は、全面エッチングした試験片を膨潤(70℃、5分)、流水洗(室温、2分)、粗化(80℃、10分)、ドラッグアウト(50℃、2分)、中和(40℃、5分)、流水洗(室温、2分)の順に行った。試験液はアトテック社製の膨潤液、デスミア液、中和液を所定の液性および濃度に調整したものを用いた。
試験片サイズは50mm×50mmとし、3枚にて実施した。試験片の乾燥(125℃、1時間)処理後とデスミア処理後の質量変化を測定し、試験片3枚の単位面積当たりの平均の質量減少量〔質量減少量(g)/試験片表面積(dm2)〕を算出した。
(10) Desmear resistance Desmear treatment is performed by swelling a test piece that has been entirely etched (70 ° C., 5 minutes), washing with running water (room temperature, 2 minutes), roughening (80 ° C., 10 minutes), drag-out (50 ° C., 2 minutes), neutralization (40 ° C., 5 minutes), washing with running water (room temperature, 2 minutes). The test solution used was a solution prepared by adjusting the swelling properties, desmear solution, and neutralization solution made by Atotech to predetermined liquid properties and concentrations.
The test piece size was 50 mm × 50 mm, and the test piece size was three. The mass change after drying (125 ° C., 1 hour) treatment and desmear treatment of the test piece was measured, and the average mass loss per unit area of the three test pieces [mass reduction amount (g) / test piece surface area ( dm 2 )] was calculated.

製造実施例1:ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A−1)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0g、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル:424.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:405.7g及びトルエン:278.0gを配合し、攪拌しながら昇温し、約115〜125℃で4時間還流脱水反応を行った後、室温に冷却し、末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約13.7分付近に出現する合成原料であるテレフタルアルデヒド、及び、約12.8分付近に出現する3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニルに由来するピークが消失していた。
さらに、少量取り出した反応溶液を、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行った。その測定結果を第1図に示す。
第1図によれば、アルデヒド基を有する化合物のアルデヒド基に起因する1700cm-1付近、及び2750cm-1、2800cm-1付近のピークは確認されず、また、シッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近の強いピーク、及び1級アミノ基に起因する3440cm-1、及び3370cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XIII)の化合物が製造されていることを確認した。
Production Example 1: Production of bismaleimide derivative (A-1) having polyazomethine In a reaction vessel having a volume of 3 liters capable of being heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, terephthalaldehyde was added. : 134.0 g, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl: 424.0 g, propylene glycol monomethyl ether: 405.7 g, and toluene: 278.0 g, and the mixture was heated while stirring. After a reflux dehydration reaction at 115 to 125 ° C. for 4 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain a polyazomethine compound solution having a primary amino group at the terminal.
A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran). As a result, terephthalaldehyde, which is a synthetic raw material whose elution time appears around 13.7 minutes, and around 12.8 minutes The peak derived from 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl appearing in FIG.
Further, the reaction solution taken out in a small amount was dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1) to cause reprecipitation, whereby the purified solid content was taken out and subjected to FT-IR measurement. The measurement results are shown in FIG.
According to Figure 1, around 1700 cm -1 due to the aldehyde group of the compound having an aldehyde group, and 2750 cm -1, the peak around 2800 cm -1 is not observed, also, the Schiff base (-N = CH-) at 3,440 cm -1 due to the strong peaks, and a primary amino group at around 1620 cm -1 due to, and 3370cm -1 confirmed peaks around, the compound of the following formula (XIII) was confirmed that it is prepared .

Figure 0005736944
Figure 0005736944

次に、上記反応溶液に、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン:716.0gを添加し、攪拌しながら約120℃で2時間還流した後、130℃まで昇温して常圧濃縮した。次いで、100℃まで冷却した後、シクロヘキサノン:770.1gを添加し、室温まで冷却してポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A−1)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行った。その測定結果を第2図に示す。
第2図によれば、ビスマレイミドのイミド基に起因する1715cm-1付近、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XIV)のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例1において、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニルの一級アミノ基数は4.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンのマレイミド基数は、末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物(XIV)の一級アミノ基数の2.0倍である。
Next, 716.0 g of bis (4-maleimidophenyl) methane: was added to the above reaction solution, and the mixture was refluxed at about 120 ° C. for 2 hours with stirring, then heated to 130 ° C. and concentrated at normal pressure. Next, after cooling to 100 ° C., 770.1 g of cyclohexanone was added and cooled to room temperature to obtain a solution of bismaleimide derivative (A-1) having polyazomethine.
A small amount of this reaction solution was taken out, dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1) and reprecipitated to take out the purified solid, and FT-IR measurement was performed. The measurement results are shown in FIG.
According to FIG. 2, near 1715 cm -1 due to the imide group bismaleimide, and confirmed peak around 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-), poly represented by the following Formula (XIV) It was confirmed that a bismaleimide derivative having azomethine was produced.
In Production Example 1, the number of primary amino groups of 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl is 4.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) methane is 2.0 times the number of primary amino groups in the polyazomethine compound (XIV) having a primary amino group at the terminal.

Figure 0005736944
Figure 0005736944

製造実施例2:ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A−2)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−フェニレンジアミン:108.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:601.6gとトルエン:396.6gを配合し、攪拌しながら昇温し、約115〜125℃で4時間還流脱水反応を行った。
次いで、4,4'−ジアミノジフェニルメタン:396.0gを添加し、攪拌しながら昇温し、更に約115〜125℃で4時間還流脱水反応を行った後、室温に冷却し、末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約13.7分付近に出現する合成原料であるテレフタルアルデヒド、及び、約13.2分付近に出現するp−フェニレンジアミン、約12.8分付近に出現する4,4'−ジアミノジフェニルメタンに由来するピークが消失していた。
さらに、少量取り出した反応溶液を、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、アルデヒド基を有する化合物のアルデヒド基に起因する1700cm-1付近、及び2750cm-1、2800cm-1付近のピークは確認されず、また、シッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近の強いピーク、及び1級アミノ基に起因する3440cm-1、及び3370cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XV)の化合物が製造されていることを確認した。
Production Example 2: Production of bismaleimide derivative (A-2) having polyazomethine In a reaction vessel having a volume of 5 liters, which can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, terephthalaldehyde : 134.0 g, p-phenylenediamine: 108.0 g, N, N-dimethylacetamide: 601.6 g and toluene: 396.6 g were mixed, and the temperature was increased while stirring. A reflux dehydration reaction was performed for a period of time.
Subsequently, 4,4′-diaminodiphenylmethane: 396.0 g was added, the temperature was increased while stirring, and the reflux dehydration reaction was further performed at about 115 to 125 ° C. for 4 hours. A solution of a polyazomethine compound having an amino group was obtained.
A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran). As a result, terephthalaldehyde, which is a synthetic raw material that appears at about 13.7 minutes, and about 13.2 minutes The peak derived from p-phenylenediamine appearing at 4 and 4,4′-diaminodiphenylmethane appearing around 12.8 minutes had disappeared.
Furthermore, when the reaction solution taken out in a small amount was dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1) and reprecipitated, the purified solid content was taken out and subjected to FT-IR measurement. around 1700 cm -1 due to the aldehyde group of the compound having an aldehyde group, and 2750 cm -1, the peak around 2800 cm -1 is not observed, also, around 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-) due to strong peaks, and the primary amino group of at 3,440 cm -1, and 3370cm peak around -1 confirmed, the compound of the following formula (XV) was confirmed that it is manufactured.

Figure 0005736944
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次に、上記反応溶液にプロピレングリコールモノメチルエーテル:1064.1gと2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン:1140.0gを添加し、攪拌しながら約120℃で2時間保温した後、室温まで冷却してポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A−2)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、ビスマレイミドのイミド基に起因する1715cm-1付近、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XVI)のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例2において、p−フェニレンジアミンと4,4'−ジアミノジフェニルメタンの一級アミノ基数の合計は4.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンのマレイミド基数は、末端に1級アミノ基を有するポリアゾメチン化合物(XVI)の一級アミノ基数の2.0倍である。
Next, propylene glycol monomethyl ether: 1064.1 g and 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane: 1140.0 g were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at about 120 ° C. for 2 hours. After keeping the temperature, the solution was cooled to room temperature to obtain a solution of a bismaleimide derivative (A-2) having polyazomethine.
A small amount of this reaction solution was taken out, dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1), and reprecipitated to take out the purified solid and subjected to FT-IR measurement. around 1715 cm -1 due to the imide group and a peak around 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-) to check, bismaleimide derivative having the polyazomethine of the following formula (XVI) is prepared Confirmed that.
In Production Example 2, the total number of primary amino groups of p-phenylenediamine and 4,4′-diaminodiphenylmethane is 4.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane is 2.0 times the number of primary amino groups in the polyazomethine compound (XVI) having a primary amino group at the terminal.

Figure 0005736944
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製造実施例3:ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(B−1)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン:1140.0gと、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン:226.0g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル:540.5gとトルエン:328.9gを配合し、攪拌しながら115〜125℃で2時間還流した。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.8分付近に出現する4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタンに由来するピークが消失し、また、溶出時間が約11.3分付近に合成原料と異なるピークが出現し、下記化学式(XVII)の化合物が製造されていることを確認した。
Production Example 3: Production of bismaleimide derivative (B-1) having polyazomethine In a reaction vessel having a volume of 5 liters, which can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane: 1140.0 g, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane: 226.0 g, and propylene glycol monomethyl ether: 540.5 g And toluene: 328.9 g were mixed and refluxed at 115 to 125 ° C. for 2 hours with stirring.
A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran). As a result, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane appeared at an elution time of about 12.8 minutes. In addition, a peak different from the synthetic raw material appeared at an elution time of about 11.3 minutes, and it was confirmed that the compound of the following chemical formula (XVII) was produced.

Figure 0005736944
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次いで、テレフタルアルデヒド:67.0gを添加し、約115〜125℃で4時間還流脱水反応を行った。次いで、130℃まで昇温して常圧濃縮した後、冷却し、100℃でシクロヘキサノン:841.0gを添加し、攪拌しながら室温まで冷却してポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(B−1)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、ビスマレイミドのイミド基に起因する1715cm-1付近、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XIII)のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例3において、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンのマレイミド基数は、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタンの一級アミノ基数の2.0倍であり、また、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は、化学式(XVIII)の化合物の一級アミノ基数の1.0倍である。
Next, 67.0 g of terephthalaldehyde was added, and reflux dehydration reaction was performed at about 115 to 125 ° C. for 4 hours. Next, after heating up to 130 ° C. and concentrating at normal pressure, cooling, adding 841.0 g of cyclohexanone at 100 ° C., cooling to room temperature with stirring, and bismaleimide derivative (B-1) having polyazomethine Solution was obtained.
A small amount of this reaction solution was taken out, dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1), and reprecipitated to take out the purified solid and subjected to FT-IR measurement. around 1715 cm -1 due to the imide group and a peak around 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-) to check, bismaleimide derivative having the polyazomethine of the following formula (XIII) are prepared Confirmed that.
In Production Example 3, the number of maleimide groups of 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane is the number of primary amino groups of 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane. The number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 1.0 times the number of primary amino groups of the compound of formula (XVIII).

Figure 0005736944
Figure 0005736944

製造実施例4:ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(B−2)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド:1768.0gと、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン:410.0g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル:842.2gとトルエン:514.5gを配合し、攪拌しながら115〜125℃で2時間還流した。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.0分付近に出現するビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンに由来するピークが消失し、また、溶出時間が約11.0分付近に合成原料と異なるピークが出現し、下記化学式(XIX)の化合物が製造されていることを確認した。
Production Example 4: Production of bismaleimide derivative (B-2) having polyazomethine In a reaction vessel having a volume of 5 liters capable of being heated and cooled with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide: 1768.0 g, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane: 410.0 g, and propylene glycol monomethyl ether: 842.2 g And toluene: 514.5 g were mixed and refluxed at 115 to 125 ° C. for 2 hours with stirring.
When a small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran), it was derived from bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane that appeared at around 12.0 minutes. In addition, a peak different from the synthetic raw material appeared at an elution time of about 11.0 minutes, and it was confirmed that the compound of the following chemical formula (XIX) was produced.

Figure 0005736944
Figure 0005736944

次いで、テレフタルアルデヒド:67.0gを添加し、約115〜125℃で4時間還流脱水反応を行った。次いで、130℃まで昇温して常圧濃縮した後、冷却し、100℃でシクロヘキサノン:1318.8gを添加し、攪拌しながら室温まで冷却してポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(B−2)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、ビスマレイミドのイミド基に起因する1715cm-1付近、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近のピークが確認でき、下記化学式(XX)のポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例4において、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンのマレイミド基数は、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタンの一級アミノ基数の2.0倍であり、また、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は、化学式(XX)の化合物の一級アミノ基数の1.0倍である。
Next, 67.0 g of terephthalaldehyde was added, and reflux dehydration reaction was performed at about 115 to 125 ° C. for 4 hours. Next, after heating to 130 ° C. and concentrating at normal pressure, cooling, adding cyclohexanone: 1318.8 g at 100 ° C., cooling to room temperature with stirring, and bismaleimide derivative (B-2) having polyazomethine Solution was obtained.
A small amount of this reaction solution was taken out, dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing mass ratio 1: 1), and reprecipitated to take out the purified solid and subjected to FT-IR measurement. around 1715 cm -1 due to the imide group, and Schiff base (-N = CH-) to confirmed peak around 1620 cm -1 due bismaleimide derivative having the polyazomethine of the following formula (XX) is prepared Confirmed that.
In Production Example 4, the number of maleimide groups of 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane is the number of primary amino groups of 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane. The number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 1.0 times the number of primary amino groups of the compound of formula (XX).

Figure 0005736944
Figure 0005736944

製造実施例5:マレイミド誘導体(C−1)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン:716.0gと、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン:410.0g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル:842.2gとトルエン:514.5gを配合し、攪拌しながら115〜125℃で2時間還流した。次いで、130℃まで昇温して常圧濃縮した後、冷却し、100℃でシクロヘキサノン:1318.8gを添加し、攪拌しながら室温まで冷却してビスマレイミド誘導体(C−1)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.0分付近に出現するビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンに由来するピークが消失し、また、溶出時間が約11.1分付近に合成原料と異なるピークが出現し、下記化学式(XXI)の化合物〔マレイミド誘導体(C−1)〕が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例5において、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンのマレイミド基数は、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンの一級アミノ基数の2.0倍である。マレイミド誘導体(C−1)は実施例9および実施例10においてテレフタルアルデヒドと共に有機溶媒に溶解し、熱処理することにより脱水縮合反応し、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)となる。
Production Example 5 Production of Maleimide Derivative (C-1) Bis (4-maleimidophenyl) was added to a reaction vessel having a volume of 5 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Methane: 716.0 g, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane: 410.0 g, propylene glycol monomethyl ether: 842.2 g and toluene: 514.5 g were blended, and 115-125 while stirring. Reflux at 2 ° C. for 2 hours. Next, the temperature was raised to 130 ° C. and concentrated at normal pressure, followed by cooling, adding cyclohexanone: 1318.8 g at 100 ° C., and cooling to room temperature with stirring to obtain a solution of the bismaleimide derivative (C-1). It was.
When a small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran), it was derived from bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane that appeared at around 12.0 minutes. That the peak that differs from the synthetic raw material appears at an elution time of about 11.1 minutes, and the compound of the following chemical formula (XXI) [maleimide derivative (C-1)] has been produced. confirmed.
In Production Example 5, the number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) methane is 2.0 times the number of primary amino groups in bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane. The maleimide derivative (C-1) is dissolved in an organic solvent together with terephthalaldehyde in Example 9 and Example 10, and subjected to a dehydration condensation reaction by heat treatment to be a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine.

Figure 0005736944
Figure 0005736944

製造実施例6:マレイミド誘導体(C−2)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン:716.0gと、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル:106.0g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル:325.6gとトルエン:191.3gを配合し、攪拌しながら115〜125℃で2時間還流した。次いで、130℃まで昇温して常圧濃縮した後、冷却し、100℃でシクロヘキサノン:477.7gを添加し、攪拌しながら室温まで冷却してマレイミド誘導体(C−2)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.8分付近に出現する3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニルに由来するピークが消失し、また、溶出時間が約11.1分付近に合成原料と異なるピークが出現し、下記化学式(XXII)の化合物〔マレイミド誘導体(C−2)〕が製造されていることを確認した。
なお、製造実施例6において、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンのマレイミド基数は、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニルの一級アミノ基数の4.0倍である。マレイミド誘導体(C−2)は実施例11および実施例12においてテレフタルアルデヒドと共に有機溶媒に溶解し、熱処理することにより脱水縮合反応し、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)となる。
Production Example 6 Production of Maleimide Derivative (C-2) Bis (4-maleimidophenyl) was added to a reaction vessel having a volume of 5 liters capable of being heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Methane: 716.0 g, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl: 106.0 g, and propylene glycol monomethyl ether: 325.6 g and toluene: 191.3 g were blended, while stirring, Reflux at 125 ° C. for 2 hours. Next, the temperature was raised to 130 ° C. and the solution was concentrated at normal pressure, then cooled, cyclohexanone: 477.7 g was added at 100 ° C., and the mixture was cooled to room temperature with stirring to obtain a solution of the maleimide derivative (C-2). .
A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran). As a result, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, which appeared at an elution time of about 12.8 minutes, was obtained. The derived peak disappears, and a peak different from the synthetic raw material appears at an elution time of about 11.1 minutes, and the compound of the following chemical formula (XXII) [maleimide derivative (C-2)] has been produced. It was confirmed.
In Production Example 6, the number of maleimide groups of bis (4-maleimidophenyl) methane is 4.0 times the number of primary amino groups of 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl. The maleimide derivative (C-2) is dissolved in an organic solvent together with terephthalaldehyde in Example 11 and Example 12, and subjected to a dehydration condensation reaction by heat treatment to be a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine.

Figure 0005736944
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実施例1〜12、比較例1〜3
希釈溶剤にメチルエチルケトンを使用し、(A)成分として製造実施例1〜4で得られたポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体A−1、A−2、B−1、B−2、製造実施例5と6で得られたマレイミド誘導体C−1、C−2とアルデヒド化合物、又は比較例に用いるビスマレイミド誘導体と、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)、硬化促進剤(C)、無機充填剤(D)難燃剤(E)及び難燃助剤(F)を、第1表及び第2表に示した配合割合(質量部)で混合して樹脂分60質量%の均一なワニスを得た。
次に、上記ワニスを厚さ0.2mmのEガラスクロスに含浸塗工し、160℃で10分加熱乾燥して樹脂含有量55質量%のプリプレグを得た。
さらに、これらのプリプレグを4枚重ね、18μmの電解銅箔を上下に配置し、圧力2.5MPa、温度230℃で120分間プレスを行って銅張積層板を得た。
このようにして得られた銅張積層板を用いて、銅箔接着性(銅箔ピール強度)、ガラス転移温度(Tg)、熱膨張係数、はんだ耐熱性、吸水率、難燃性、銅付き耐熱性、誘電特性〔比誘電率(1GHz)、誘電正接(1GHz)〕、ドリル加工性及び耐デスミア性を、前記の方法で測定・評価した。その結果を第1表、第2表及び第3表に示す。
Examples 1-12, Comparative Examples 1-3
Bismaleimide derivatives A-1, A-2, B-1, B-2 having the polyazomethine obtained in Production Examples 1 to 4 as component (A) using methyl ethyl ketone as a diluent solvent, Production Example 5 And 6, maleimide derivatives C-1, C-2 and aldehyde compounds, or bismaleimide derivatives used in comparative examples, an epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule, and a curing accelerator (C), inorganic filler (D) flame retardant (E) and flame retardant aid (F) are mixed at the blending ratio (parts by mass) shown in Tables 1 and 2 to give a resin content of 60% by mass. Uniform varnish was obtained.
Next, the varnish was impregnated and applied to an E glass cloth having a thickness of 0.2 mm and dried by heating at 160 ° C. for 10 minutes to obtain a prepreg having a resin content of 55% by mass.
Furthermore, four of these prepregs were stacked, 18 μm electrolytic copper foils were placed one above the other, and pressed at a pressure of 2.5 MPa and a temperature of 230 ° C. for 120 minutes to obtain a copper-clad laminate.
Using the copper-clad laminate thus obtained, copper foil adhesion (copper foil peel strength), glass transition temperature (Tg), thermal expansion coefficient, solder heat resistance, water absorption, flame retardancy, with copper Heat resistance, dielectric properties [relative permittivity (1 GHz), dielectric loss tangent (1 GHz)], drilling workability and desmear resistance were measured and evaluated by the methods described above. The results are shown in Tables 1, 2 and 3.

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なお、第1表、第2表及び第3表におけるエポキシ樹脂(B)、硬化促進剤(C)、無機充填剤(D)、難燃剤(E)、難燃助剤(F)およびビスマレイミド誘導体(比較例に使用)は以下の通りである。
(1)エポキシ樹脂(B)
・EP806〔ジャパンエポキシレジン(株)製:商品名、ビスフェノールF型エポキシ樹脂〕、
・N−770〔大日本インキ化学工業(株)製:商品名、フェノールノボラック型エポキシ樹脂〕、
・HP−4032D〔大日本インキ化学工業(株)製:商品名、2官能ナフタレン型エポキシ樹脂〕、
・ESN−175〔東都化成(株)製:商品名、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂〕、
・ESN−375〔東都化成(株)製:商品名、2官能ナフタレンアラルキル型エポキシ樹脂〕、
・YX−4000〔ジャパンエポキシレジン(株)製:商品名、ビフェニル型エポキシ樹脂〕、
・NC−3000−H〔日本化薬(株)製:商品名、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂〕、
・YX−8800〔ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名、アントラセン型エポキシ樹脂〕、
In addition, the epoxy resin (B), curing accelerator (C), inorganic filler (D), flame retardant (E), flame retardant auxiliary (F) and bismaleimide in Table 1, Table 2 and Table 3 Derivatives (used in comparative examples) are as follows.
(1) Epoxy resin (B)
・ EP806 [manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name, bisphenol F type epoxy resin],
N-770 [Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .: trade name, phenol novolac type epoxy resin],
-HP-4032D [Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .: trade name, bifunctional naphthalene type epoxy resin],
ESN-175 [manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .: trade name, naphthol aralkyl type epoxy resin],
ESN-375 [manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .: trade name, bifunctional naphthalene aralkyl type epoxy resin],
・ YX-4000 [manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name, biphenyl type epoxy resin],
NC-3000-H [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: trade name, biphenyl aralkyl type epoxy resin],
YX-8800 [Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name, anthracene type epoxy resin],

(2)硬化促進剤(C)
・P−200(ジャパンエポキシレジン社製:商品名、前記(XI)式で表されるエポキシマスクイミダゾール)
・G−8009L(第一工業製薬社製:商品名、前記(XII)式で表されるイソシアネートマスクイミダゾール)
(3)無機充填剤(D)
・溶融シリカ(アドマテックス社製:商品名SO−25R)
(4)難燃剤(E)
・AlOOH:ベーマイト型水酸化アルミニウム(河合石灰社製:商品名BMT−3L、熱分解温度:400℃)
・Mg(OH)2:水酸化マグネシウム(関東化学社製、熱分解温度:350℃)
(5)難燃助剤(F)
・KG1100:モリブデン酸亜鉛処理タルク(シャーウイン・ウィリアムズ(株)製)
(6)ビスマレイミド誘導体
・BMI(ケイアイ化成社製:商品名、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、マレイミド当量179)
・BMI−80(ケイアイ化成社製:商品名、2,2'−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、マレイミド当量285)
(2) Curing accelerator (C)
・ P-200 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name, epoxy mask imidazole represented by the formula (XI))
G-8809L (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: trade name, isocyanate mask imidazole represented by the formula (XII))
(3) Inorganic filler (D)
・ Fused silica (manufactured by Admatechs: trade name SO-25R)
(4) Flame retardant (E)
AlOOH: Boehmite type aluminum hydroxide (manufactured by Kawai Lime Co., Ltd .: trade name BMT-3L, thermal decomposition temperature: 400 ° C.)
Mg (OH) 2 : Magnesium hydroxide (Kanto Chemical Co., Inc., thermal decomposition temperature: 350 ° C.)
(5) Flame retardant aid (F)
KG1100: Zinc molybdate-treated talc (manufactured by Sherwin Williams)
(6) Bismaleimide derivative / BMI (manufactured by Keisei Kasei Co., Ltd .: trade name, bis (4-maleimidophenyl) methane, maleimide equivalent 179)
BMI-80 (manufactured by Keisei Kasei Co., Ltd .: trade name, 2,2′-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, maleimide equivalent 285)

なお、実施例9と実施例11についてはプリプレグのFT−IRの測定を行った。その結果を図3及び図4に示す。
なお、実施例9および実施例10におけるテレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は、マレイミド誘導体(C−1)の一級アミノ基数の2.0倍である。
また、実施例11および実施例12におけるテレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は、ビスマレイミド誘導体(C−2)の一級アミノ基数の1.0倍である。
図3及び図4において、ビスマレイミドのイミド基に起因する1715cm-1付近、及びシッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近のピークが確認でき、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体が製造されていることが確認される。
In addition, about Example 9 and Example 11, the FT-IR measurement of the prepreg was performed. The results are shown in FIGS.
In addition, the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde in Example 9 and Example 10 is 2.0 times the number of primary amino groups of maleimide derivative (C-1).
Moreover, the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde in Example 11 and Example 12 is 1.0 times the number of primary amino groups of the bismaleimide derivative (C-2).
3 and 4, around 1715 cm -1 due to the imide group of the bismaleimide, and confirmed peak around 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-), bismaleimide derivative having polyazomethine Is confirmed to be manufactured.

第1表および第2表から明らかなように、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)および1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有する本発明の実施例では、銅箔接着性(銅箔ピール強度)、高ガラス転移温度、低熱膨張性、はんだ耐熱性、低吸水性、銅付き耐熱性、難燃性、低誘電特性、ドリル加工性、耐デスミア性の全てにバランスよく優れているプレプリグ及び積層板が得られている。
これに対し、第3表から明らかなように、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)および1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有せずに他のビスマレイミド誘導体を用いた比較例1〜3では、銅箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性、はんだ耐熱性、低吸水性、銅付き耐熱性、難燃性、低誘電特性、ドリル加工性、耐デスミア性の全ての特性が、実施例より劣ったプレプリグ及び積層板しか得られていない。
As is apparent from Tables 1 and 2, in the examples of the present invention containing the bismaleimide derivative (A) having polyazomethine and the epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule, Adhesion of copper foil (copper foil peel strength), high glass transition temperature, low thermal expansion, solder heat resistance, low water absorption, heat resistance with copper, flame resistance, low dielectric properties, drill workability, desmear resistance Pre-pregs and laminates excellent in balance are obtained for all.
On the other hand, as apparent from Table 3, bismaleimide derivatives (A) having polyazomethine and other bismaleimides without containing an epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule In Comparative Examples 1 to 3 using a derivative, copper foil adhesion, high glass transition temperature, low thermal expansion, solder heat resistance, low water absorption, heat resistance with copper, flame resistance, low dielectric properties, drill workability, Only prepregs and laminates that are inferior to the examples in all properties of desmear resistance are obtained.

本発明により、ポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)および1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有する樹脂組成物を用いることにより、銅箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性、はんだ耐熱性、低吸水性、銅付き耐熱性、難燃性、低誘電特性、ドリル加工性、耐デスミア性の全てにバランス良く優れ、更に毒性が低く安全性や作業環境に優れる、電子部品等に好適な熱硬化性樹脂組成物が得られ、これを用いたプリプレグ及び積層板を提供することが可能となり、多層プリント配線板として電子機器などに有利に使用される。   According to the present invention, by using a resin composition containing a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine and an epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule, copper foil adhesion, high glass Excellent balance in transition temperature, low thermal expansion, solder heat resistance, low water absorption, heat resistance with copper, flame resistance, low dielectric properties, drilling workability, desmear resistance, low toxicity and safety and work A thermosetting resin composition excellent in environment and suitable for electronic parts and the like can be obtained, and it becomes possible to provide a prepreg and a laminate using the composition, and it is advantageously used for electronic devices as a multilayer printed wiring board. .

Claims (9)

下記一般式(I)で表されるポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)及び、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0005736944
(式中、Ar1は独立に一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は下記一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、複数あるAr2は同一でも異なっていても良い。nは0〜10である。)
Figure 0005736944
(式中、R1は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005736944
(式中、R及びRは各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、Aは炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(式中、mは1〜10の整数である。)
Figure 0005736944
Figure 0005736944
(式中、R及びRは各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005736944
(式中、Aは、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
A thermosetting resin comprising a bismaleimide derivative (A) having polyazomethine represented by the following general formula (I) and an epoxy resin (B) having at least two epoxy groups in one molecule Resin composition.
Figure 0005736944
(In the formula, Ar 1 is independently a residue represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by the following general formula ( I-5) or a residue represented by (I-6), and a plurality of Ar 2 may be the same or different. N is 0 to 10.)
Figure 0005736944
(In the formula, R 1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)
Figure 0005736944
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)
Figure 0005736944
(In the formula, m is an integer of 1 to 10.)
Figure 0005736944
Figure 0005736944
(Wherein R 6 and R 7 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4, A 2 is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.
Figure 0005736944
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)
前記エポキシ樹脂(B)が、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂から選ばれる1種以上である、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物 The epoxy resin (B) is bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene ring-containing epoxy resin, anthracene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol The thermosetting resin composition of Claim 1 which is 1 or more types chosen from a novolak-type epoxy resin . 前記ビスマレイミド誘導体(A)の使用量が、固形分換算の前記ビスマレイミド誘導体(A)および前記エポキシ樹脂(B)の合計100質量部当たり、20〜90質量部である、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物 The usage-amount of the said bismaleimide derivative (A) is 20-90 mass parts per 100 mass parts in total of the said bismaleimide derivative (A) and said epoxy resin (B) of solid content conversion. The thermosetting resin composition described in 1 . 更に、硬化促進剤(C)を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-3 containing a hardening accelerator (C). 更に、無機充填剤(D)を含有する請求項1〜4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-4 containing an inorganic filler (D). 更に、難燃剤(E)を含有する請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-5 containing a flame retardant (E). 更に、難燃助剤(F)を含有する請求項1〜6のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-6 containing a flame retardant adjuvant (F). 請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物がシート状補強基材中に含又は塗工されていることを特徴とするプリプレグ。 Prepreg wherein the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7 is free immersion or coating in the sheet-shaped reinforcing substrate. 絶縁樹脂層が、請求項1〜のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物又は請求項に記載のプリプレグを用いて形成されたものであることを特徴とする積層板。
A laminated board, wherein the insulating resin layer is formed using the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7 or the prepreg according to claim 8 .
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