JP5589470B2 - Bismaleimide derivative and method for producing the same, thermosetting resin composition, prepreg and laminate - Google Patents

Bismaleimide derivative and method for producing the same, thermosetting resin composition, prepreg and laminate Download PDF

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本発明は、ビスマレイミド誘導体とその製造方法、並びに熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板に関し、詳しくは、特に銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度を有し、また低誘電性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性にも優れ、更に毒性が低く安全性や作業環境に優れる、電子部品等に好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板と、該樹脂組成物に使用するビスマレイミド誘導体とその製造方法に関する。   The present invention relates to a bismaleimide derivative and a method for producing the same, and a thermosetting resin composition, a prepreg, and a laminate, and in particular, has copper foil adhesion, low thermal expansion, high glass transition temperature, and low dielectric constant. Heat resistance, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame retardancy, drilling workability, low toxicity and excellent safety and work environment, thermosetting resin composition suitable for electronic parts, prepreg and lamination The present invention relates to a plate, a bismaleimide derivative used in the resin composition, and a method for producing the same.

熱硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂に特有な架橋構造が高い耐熱性や寸法安定性を発現するため、電子部品等の分野において広く使われている。特に、銅張積層板や層間絶縁材料においては、近年の高密度化や高信頼性への要求から、高い銅箔接着性や耐熱性(高ガラス転移温度)、良好な低熱膨張性等の特性が強く要求されている。
また、近年の環境問題から、鉛フリーはんだによる電子部品の搭載やハロゲンフリーによる難燃化が要求され、そのため従来のものよりも高い耐熱性及び難燃性が必要とされる。
さらに、製品の安全性や作業環境の向上化のため、毒性の低い成分のみで構成され、毒性ガス等が発生しない熱硬化性樹脂が望まれている。
Thermosetting resins are widely used in the field of electronic components and the like because the cross-linked structure unique to thermosetting resins exhibits high heat resistance and dimensional stability. In particular, in copper-clad laminates and interlayer insulation materials, characteristics such as high copper foil adhesion, heat resistance (high glass transition temperature), and good low thermal expansion properties have been demanded in recent years for higher density and higher reliability. Is strongly demanded.
Moreover, due to recent environmental problems, mounting of electronic parts using lead-free solder and flame resistance using halogen-free are required, and therefore higher heat resistance and flame resistance than conventional ones are required.
Furthermore, in order to improve the safety of the product and the working environment, there is a demand for a thermosetting resin that includes only low-toxic components and does not generate toxic gases.

シアネート化合物は、良好な誘電特性、難燃性に優れる熱硬化性樹脂となるものであるが、このシアネート化合物をエポキシ硬化系の熱硬化性樹脂にそのまま使用した場合、耐熱性や強靭性が不足するという問題や、次世代の絶縁材料に対応するような低熱膨張性が不足するという問題があった。
低熱膨張性を発現する樹脂としては、シアネート化合物と無機充填剤とを含む樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)、シアネート化合物と無機充填剤とエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物(例えば、特許文献2参照)、シアネート化合物と無機充填剤とエポキシ樹脂とフェノール樹脂とを含む樹脂組成物(例えば、特許文献3参照)、シアネート樹脂とアラルキル変性エポキシ樹脂を必須成分として含有する熱硬化性樹脂(例えば、特許文献4および5参照)などが開示されている。
Cyanate compound is a thermosetting resin with excellent dielectric properties and flame retardancy, but when this cyanate compound is used as it is in an epoxy curable thermosetting resin, heat resistance and toughness are insufficient. There is a problem of low thermal expansion that is compatible with next-generation insulating materials.
Examples of the resin exhibiting low thermal expansion include a resin composition containing a cyanate compound and an inorganic filler (see, for example, Patent Document 1), and a resin composition containing a cyanate compound, an inorganic filler, and an epoxy resin (eg, a patent). Reference 2), a resin composition containing a cyanate compound, an inorganic filler, an epoxy resin, and a phenol resin (see, for example, Patent Document 3), a thermosetting resin containing cyanate resin and an aralkyl-modified epoxy resin as essential components ( For example, see Patent Documents 4 and 5).

しかしながら、上記の特許文献1〜3に記載の樹脂組成物は、低熱膨張性を発現させるための無機充填剤の配合使用量が樹脂組成物全体の30〜80質量%と多く、銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合、ドリル加工性や成形性が不足することがある。
また、特許文献4および5に記載の熱硬化性樹脂は、必須成分であるシアネート樹脂が靭性や硬化反応性に劣る樹脂であり、この熱硬化性樹脂の硬化反応性や強靭性が依然不足しており、これらを銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合も、耐熱性や信頼性、加工性等が不足することがある。
However, the resin composition described in Patent Documents 1 to 3 described above has a large amount of the inorganic filler used for expressing low thermal expansibility as 30 to 80% by mass of the entire resin composition, and is a copper-clad laminate. When used as an interlayer insulating material, drill workability and formability may be insufficient.
In addition, the thermosetting resins described in Patent Documents 4 and 5 are resins in which the cyanate resin, which is an essential component, is inferior in toughness and curing reactivity, and the curing reactivity and toughness of this thermosetting resin are still insufficient. Even when these are used as a copper clad laminate or an interlayer insulating material, heat resistance, reliability, workability, etc. may be insufficient.

前記のように、積層板材料には近年の高密度化や高信頼性への要求から、高い銅箔接着性や高ガラス転移温度、良好な低熱膨張性等が必要とされている。
例えば、微細配線形成のため銅箔接着性としては、銅箔引き剥がし強度が1.0kN/m以上であること、特に1.2kN/m以上であることが望まれている。
また、高密度化に伴い基材はより薄型化される方向にあり、熱処理時における基材のそりが小さいことが必要となる。低そり化のためには基材が低熱膨張性であることが有効であり、その熱膨張係数は25ppm/℃以下であること、特に20ppm/℃以下であることが望まれている。
さらに、高密度化のためビルドアップ材等を用いてより高多層化することも必要であり、高いリフロー耐熱性が必要であるが、リフロー耐熱性評価の指針となる銅付き耐熱性(T−300)は、30分以上ふくれ等が生じないことが望まれている。
As described above, the laminated plate material is required to have high copper foil adhesiveness, high glass transition temperature, good low thermal expansion, and the like due to the recent demand for higher density and higher reliability.
For example, as the copper foil adhesiveness for forming fine wiring, it is desired that the peel strength of the copper foil is 1.0 kN / m or more, particularly 1.2 kN / m or more.
Moreover, the base material is in the direction of being made thinner as the density is increased, and the warpage of the base material during heat treatment is required to be small. In order to reduce warpage, it is effective that the base material has low thermal expansion, and it is desired that the thermal expansion coefficient is 25 ppm / ° C. or less, particularly 20 ppm / ° C. or less.
Furthermore, it is necessary to increase the number of layers by using a build-up material or the like for high density, and high reflow heat resistance is required. However, heat resistance with copper (T- 300) is desired that no blistering occurs for 30 minutes or more.

また、高密度化に伴い基材はより信頼性が要求される方向にあり、ドリル加工時のドリル穴の内壁粗さも小さいことが必要となる。ドリル穴の内壁粗さの評価は、めっき銅の染み込み性により評価され、めっき染み込み長さの最大が20μm以下であること、特に15μm以下であることが望まれている。
さらに、高速応答性の要求も増え続けており、基材の比誘電率は5.0以下であること、また誘電正接は0.020以下であることが望まれている。
Further, as the density is increased, the base material is in a direction that requires more reliability, and the inner wall roughness of the drill hole during drilling is required to be small. The evaluation of the inner wall roughness of the drill hole is evaluated based on the penetration property of the plated copper, and it is desired that the maximum plating penetration length is 20 μm or less, particularly 15 μm or less.
Furthermore, the demand for high-speed response continues to increase, and it is desired that the relative dielectric constant of the substrate is 5.0 or less and the dielectric loss tangent is 0.020 or less.

特開2002−285015号公報JP 2002-285015 A 特開2003−73543号公報JP 2003-73543 A 特開2003−268136号公報JP 2003-268136 A 特開2002−309085号公報JP 2002-309085 A 特開2002−348469号公報JP 2002-348469 A

本発明の目的は、こうした現状に鑑み、特に銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度を有し、また低誘電性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性にも優れる熱硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグ及び積層板を提供することを目的とするものである。   In view of the current situation, the object of the present invention is, in particular, copper foil adhesion, low thermal expansion, high glass transition temperature, low dielectric properties, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame resistance, drilling workability It is an object of the present invention to provide a thermosetting resin composition that is also excellent, and a prepreg and laminate using the same.

本発明は、上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、特定の構造を有するビスマレイミド誘導体を含有する熱硬化性樹脂組成物が優れた耐熱性やドリル加工性等が得られ、上記の目的を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下のビスマレイミド誘導体とその製造法、並びに熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供するものである。
As a result of earnest research to solve the above-mentioned problems, the present invention has resulted in excellent heat resistance, drilling workability, etc. obtained from a thermosetting resin composition containing a bismaleimide derivative having a specific structure. The inventors have found that the object can be achieved and have completed the present invention. The present invention has been completed based on such findings.
That is, the present invention provides the following bismaleimide derivatives and production methods thereof, as well as thermosetting resin compositions, prepregs, and laminates.

1.下記一般式(I)で表されるビスマレイミド誘導体。

Figure 0005589470
1. A bismaleimide derivative represented by the following general formula (I).
Figure 0005589470

(式中、Ar1は一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、R1は酸性置換基である水酸基、カルボキシ基又はスルホン酸基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、xは1〜5の整数、yは0〜4の整数で、且つxとyの和は5であり、nは0又は正数である。) (In the formula, Ar 1 is a residue represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by general formula (I-5) ) Or (I-6), R 1 represents a hydroxyl group, carboxy group or sulfonic acid group which is an acidic substituent, R 2 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms A group or a halogen atom, x is an integer of 1 to 5, y is an integer of 0 to 4, and the sum of x and y is 5, and n is 0 or a positive number.)

Figure 0005589470
(式中、R3は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005589470
(Wherein R 3 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)

Figure 0005589470
(式中、R4及びR5は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、A1は炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(In the formula, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005589470
(式中、rは1〜10の整数である。)
Figure 0005589470
(In the formula, r is an integer of 1 to 10.)

Figure 0005589470
Figure 0005589470

Figure 0005589470
(式中、R6及びR7は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(式中、A3は、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
Figure 0005589470
(Wherein, the aliphatic hydrocarbon group R 6 and R 7 are 1 to 5 carbon atoms each independently represents a methoxy group or a halogen atom, s, t are each independently an integer from 0 to 4, A 2 Is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.
Figure 0005589470
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

2.下記式(II)で表される上記1のビスマレイミド誘導体。

Figure 0005589470
2. The 1-bismaleimide derivative represented by the following formula (II):
Figure 0005589470

3.一般式(III)で表される1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)、一般式(IV)で表される1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する化合物(b)及び一般式(V)で表される酸性置換基を有するアミン化合物(c)を有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)を製造し、次いで前記化合物(A)と、一般式(VII)で表される1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、前記一般式(I)で表されるビスマレイミド誘導体(B)を製造することを特徴とする上記1又は2のビスマレイミド誘導体の製造方法。 3. Compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule represented by general formula (III), Compound having at least two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV) By subjecting the amine compound (c) having an acidic substituent represented by (b) and the general formula (V) to a dehydration condensation reaction in an organic solvent, a primary amino group is formed at the terminal represented by the general formula (VI). The compound (A) having the formula (VII) and the maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the general formula (VII) and the organic solvent The bismaleimide derivative (B) represented by the general formula (I) is produced by a Michael addition reaction in the process, wherein the bismaleimide derivative according to 1 or 2 is produced.

Figure 0005589470
(式中、Ar2は一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 is the same as in the general formula (I).)

Figure 0005589470
Figure 0005589470

Figure 0005589470
(式中、R1及びR2、x及びyは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, R 1 and R 2 , x and y are the same as those in the general formula (I).)

Figure 0005589470
(式中、Ar2、及びR1、R2、及びx、y、及びnは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 , R 1 , R 2 , x, y, and n are the same as in general formula (I).)

Figure 0005589470
(式中、Ar1は一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 1 is the same as in the general formula (I).)

4.上記1又は2のビスマレイミド誘導体を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
5.上記1又は2のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂を含有する請求項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。
6.上記4又は5の熱硬化性樹脂組成物を繊維シート状補強基材に含浸・塗工し、Bステージ化して得られたプリプレグ。
7.上記6のプリプレグを用いて積層成形して得られた積層板。
4). A thermosetting resin composition comprising the bismaleimide derivative 1 or 2 above.
5. The thermosetting resin composition according to claim 4, comprising the bismaleimide derivative 1 or 2 and an epoxy resin.
6). A prepreg obtained by impregnating and coating a fiber sheet-like reinforcing base material with the thermosetting resin composition of 4 or 5 above and forming a B-stage.
7). A laminate obtained by laminate molding using the prepreg described in 6 above.

本発明のビスマレイミド誘導体を含有する熱硬化性樹脂組成物は、特に銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度を有し、また低誘電性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性にも優れ、更に毒性が低く安全性や作業環境に優れる。従って、該熱硬化性樹脂組成物からなるプリプレグを用いて積層成形して得られた積層板は、多層プリント配線板として、電子部品等に好適に使用することができる。   The thermosetting resin composition containing the bismaleimide derivative of the present invention particularly has copper foil adhesion, low thermal expansion, and high glass transition temperature, and also has low dielectric properties, solder heat resistance, heat resistance with copper, difficulty. Excellent in flammability and drillability, and is low in toxicity and excellent in safety and working environment. Therefore, the laminated board obtained by carrying out lamination molding using the prepreg which consists of this thermosetting resin composition can be used conveniently for an electronic component etc. as a multilayer printed wiring board.

製造例1で得られた末端に1級アミノ基を有する化合物(A−1)のFT−IR測定チャートである。3 is an FT-IR measurement chart of a compound (A-1) having a primary amino group at the terminal obtained in Production Example 1. 製造例1で得られたビスマレイミド誘導体(B−1)のFT−IR測定チャートである。2 is an FT-IR measurement chart of a bismaleimide derivative (B-1) obtained in Production Example 1.

先ず、本発明のビスマレイミド誘導体について説明する。本発明のビスマレイミド誘導体は、下記一般式(I)で表される化合物である。

Figure 0005589470
First, the bismaleimide derivative of the present invention will be described. The bismaleimide derivative of the present invention is a compound represented by the following general formula (I).
Figure 0005589470

(式中、Ar1は一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、R1は酸性置換基である水酸基、カルボキシ基又はスルホン酸基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、xは1〜5の整数、yは0〜4の整数で、且つxとyの和は5であり、nは0又は正数である。) (In the formula, Ar 1 is a residue represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by general formula (I-5) ) Or (I-6), R 1 represents a hydroxyl group, carboxy group or sulfonic acid group which is an acidic substituent, R 2 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms A group or a halogen atom, x is an integer of 1 to 5, y is an integer of 0 to 4, and the sum of x and y is 5, and n is 0 or a positive number.)

Figure 0005589470
(式中、R3は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005589470
(Wherein R 3 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)

Figure 0005589470
(式中、R4及びR5は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、A1は炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(In the formula, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005589470
(式中、rは1〜10の整数である。)
Figure 0005589470
(In the formula, r is an integer of 1 to 10.)

Figure 0005589470
Figure 0005589470

Figure 0005589470
(式中、R6及びR7は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(式中、A3は、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
Figure 0005589470
(Wherein, the aliphatic hydrocarbon group R 6 and R 7 are 1 to 5 carbon atoms each independently represents a methoxy group or a halogen atom, s, t are each independently an integer from 0 to 4, A 2 Is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.
Figure 0005589470
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)

本発明のビスマレイミド誘導体としては、下記式(II)で表されるビスマレイミド誘導体を例示することができる。

Figure 0005589470
As the bismaleimide derivative of the present invention, a bismaleimide derivative represented by the following formula (II) can be exemplified.
Figure 0005589470

次に、本発明のビスマレイミド誘導体の製造方法について説明する。本発明のビスマレイミド誘導体(B)は、一般式(III)で表される1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)、一般式(IV)で表される1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する化合物(b)及び一般式(V)で表される酸性置換基を有するアミン化合物(c)を有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)を製造し、次いで前記化合物(A)と、一般式(VII)で表される1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより製造することができる。   Next, the manufacturing method of the bismaleimide derivative of this invention is demonstrated. The bismaleimide derivative (B) of the present invention includes a compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule represented by the general formula (III), and one molecule represented by the general formula (IV) A compound (b) having at least two aldehyde groups therein and an amine compound (c) having an acidic substituent represented by the general formula (V) are subjected to a dehydration condensation reaction in an organic solvent to thereby give a general formula (VI The compound (A) having a primary amino group at the terminal represented by the formula (A), and then the compound (A) and at least two N-substituted maleimides in one molecule represented by the general formula (VII) The maleimide compound (d) having a group can be produced by a Michael addition reaction in an organic solvent.

Figure 0005589470
(式中、Ar2は一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 is the same as in the general formula (I).)

Figure 0005589470
Figure 0005589470

Figure 0005589470
(式中、R1及びR2、x及びyは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, R 1 and R 2 , x and y are the same as those in the general formula (I).)

Figure 0005589470
(式中、Ar2、及びR1、R2、及びx、y、及びnは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 , R 1 , R 2 , x, y, and n are the same as in general formula (I).)

Figure 0005589470
(式中、Ar1は一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 1 is the same as in the general formula (I).)

上記の一般式(III)で表される1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)としては、例えば4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルケトン、ベンジジン、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、2,2'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジヒドロキシベンジジン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンジアミン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン等の芳香族アミン類が挙げられる。   Examples of the compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule represented by the above general formula (III) include 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3, 3′-dimethyl-diphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4 , 4′-diaminodiphenyl ketone, benzidine, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dihydroxybenzidine, 2, 2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethanediamine, 2, -Bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-amino) Phenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- ( And aromatic amines such as 3-aminophenoxy) phenyl) sulfone and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene.

1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)として、これらの中で、合成時の反応率が高く、より高耐熱性化できる4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン等がより好ましく、安価であることや溶剤への溶解性の点から4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタンが特に好ましい。   As the compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule, among these, 4,4′-diaminodiphenylmethane, which has a high reaction rate at the time of synthesis and can achieve higher heat resistance, '-Diamino-3,3'-dimethyl-diphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyl-diphenylmethane, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (4- Aminophenoxy) phenyl) sulfone and the like are more preferable and 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane, 4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane is particularly preferred.

一般式(IV)で表される1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する化合物(b)としては、例えばテレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、o−フタルアルデヒドが挙げられる。これらの中で、より低熱膨張化が可能であり、合成時の反応率が高く、溶剤溶解性にも優れ、商業的にも入手し易いテレフタルアルデヒドが特に好ましい。   Examples of the compound (b) having at least two aldehyde groups in one molecule represented by the general formula (IV) include terephthalaldehyde, isophthalaldehyde, and o-phthalaldehyde. Among these, terephthalaldehyde, which can be further reduced in thermal expansion, has a high reaction rate during synthesis, is excellent in solvent solubility, and is easily available commercially, is particularly preferable.

一般式(V)で表される酸性置換基を有するアミン化合物(c)としては、例えば、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、o−アミノフェノール、p−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸、o−アミノ安息香酸、o−アミノベンゼンスルホン酸、m−アミノベンゼンスルホン酸、p−アミノベンゼンスルホン酸、3,5−ジヒドロキシアニリン、3,5−ジカルボキシアニリン等が挙げられる。
これらの中で、溶解性や合成の収率の点からm−アミノフェノール、p−アミノフェノール、p−アミノ安息香酸、3,5−ジヒドロキシアニリンが好ましく、高耐熱性や低熱膨張性、高ガラス転移温度(Tg)を有し、安価である点からp−アミノフェノール、p−アミノ安息香酸が特に好ましい。
Examples of the amine compound (c) having an acidic substituent represented by the general formula (V) include m-aminophenol, p-aminophenol, o-aminophenol, p-aminobenzoic acid, and m-aminobenzoic acid. O-aminobenzoic acid, o-aminobenzenesulfonic acid, m-aminobenzenesulfonic acid, p-aminobenzenesulfonic acid, 3,5-dihydroxyaniline, 3,5-dicarboxyaniline and the like.
Among these, m-aminophenol, p-aminophenol, p-aminobenzoic acid, and 3,5-dihydroxyaniline are preferable in terms of solubility and synthesis yield, and have high heat resistance, low thermal expansion, and high glass. P-aminophenol and p-aminobenzoic acid are particularly preferred because they have a transition temperature (Tg) and are inexpensive.

この反応において、1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)、1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する化合物(b)及び酸性置換基を有するアミン化合物(c)の使用量は、化合物(a)の一級アミノ基数〔即ち、化合物(a)の使用質量/化合物(a)の一級アミノ基当量〕と化合物(c)の一級アミノ基数〔即ち、化合物(c)の使用質量/化合物(c)の一級アミノ基当量〕の合計が、化合物(b)のアルデヒド基数〔即ち、化合物(b)の使用質量/化合物(b)のアルデヒド基当量〕を超えるように使用することが望ましい。また、化合物(a)の一級アミノ基数が化合物(c)の一級アミノ基数を超えるように使用することが望ましい。
化合物(a)の一級アミノ基数と化合物(c)の一級アミノ基数の合計が、化合物(b)のアルデヒド基数以下であると、合成中にゲル化や不溶化を起こしたり、これより得られるビスマレイミド誘導体の耐熱性が低下することがある。また、化合物(a)の一級アミノ基数が化合物(c)の一級アミノ基数以下であると、これより得られるビスマレイミド誘導体の耐熱性が低下することがある。
In this reaction, a compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule, a compound (b) having at least two aldehyde groups in one molecule, and an amine compound (c) having an acidic substituent Is used as follows: The number of primary amino groups in compound (a) [namely, the mass of compound (a) used / the amount of primary amino group equivalents in compound (a)] and the number of primary amino groups in compound (c) [ie compound (c) Used mass / primary amino group equivalent of compound (c)] exceeds the number of aldehyde groups of compound (b) [that is, used mass of compound (b) / aldehyde group equivalent of compound (b)] It is desirable to do. Moreover, it is desirable to use it so that the number of primary amino groups of compound (a) may exceed the number of primary amino groups of compound (c).
If the total number of primary amino groups in compound (a) and the number of primary amino groups in compound (c) is less than or equal to the number of aldehyde groups in compound (b), gelation or insolubilization may occur during synthesis, or bismaleimide obtained therefrom The heat resistance of the derivative may decrease. Moreover, the heat resistance of the bismaleimide derivative obtained from this may fall that the number of primary amino groups of a compound (a) is below the number of primary amino groups of a compound (c).

この反応で使用される有機溶媒は特に制限されないが、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤、ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。これらの中で、溶解性の点からジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン等が好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残りにくいジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。
また、この反応は脱水縮合反応であるため副生成物として水が生成される。この副生成物である水を除去する目的でトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤を併用することが特に好ましく、芳香族系溶剤との共沸により副生成物である水を除去しながら合成することが望ましい。
有機溶媒の使用量は、化合物(a)、化合物(b)、化合物(c)の総和100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶剤の配合量が25質量部より少ないと溶解性が不足し、また2000質量部より多いと反応に長時間を要し、製造コストが高くなる。
The organic solvent used in this reaction is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. , Ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic solvents such as toluene, xylene and mesitylene, nitrogen atom containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, sulfur atom containing solvents such as dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, etc. These ester solvents can be used, and one kind or a mixture of two or more kinds can be used. Among these, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, γ-butyrolactone and the like are preferable from the viewpoint of solubility, and dimethylacetamide and propylene glycol monomethyl ether, which are highly volatile and hardly remain as a residual solvent at the time of producing a prepreg, are more preferable.
Moreover, since this reaction is a dehydration condensation reaction, water is produced as a by-product. It is particularly preferable to use an aromatic solvent such as toluene, xylene, mesitylene or the like for the purpose of removing this by-product water, while removing the by-product water by azeotropy with the aromatic solvent. It is desirable to synthesize.
The amount of the organic solvent used is preferably 25 to 2000 parts by mass, more preferably 40 to 1000 parts by mass, per 100 parts by mass of the total of compound (a), compound (b), and compound (c). 40 to 500 parts by mass is particularly preferable. When the amount of the organic solvent is less than 25 parts by mass, the solubility is insufficient, and when it is more than 2000 parts by mass, the reaction takes a long time and the production cost increases.

また、この反応には、必要により任意に反応触媒を使用することができる。反応触媒の例としては、特に限定されないが、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒、トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類、メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン等のリン系触媒等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。脱水縮合反応を効率よく進行させるため、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒が特に好ましい。   In this reaction, a reaction catalyst can be optionally used as necessary. Examples of reaction catalysts include, but are not limited to, acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid, amines such as triethylamine, pyridine and tributylamine, imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole, and phosphorus systems such as triphenylphosphine. A catalyst etc. are mentioned, 1 type (s) or 2 or more types can be mixed and used. An acidic catalyst such as p-toluenesulfonic acid is particularly preferred in order to allow the dehydration condensation reaction to proceed efficiently.

上記の合成原料、有機溶媒、必要により反応触媒を合成釜に仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌し脱水縮合反応させることにより、上記一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)が製造される。
反応温度は25〜200℃が好ましい。反応温度が25℃未満では反応速度が遅くなり、反応温度が200℃を超えるとゲル化を引き起し易い。
溶解性に優れるジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等と、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤を併用し共沸により副生成物である水を除去しながら反応を行うことが望ましく、反応温度は共沸点である120℃〜200℃が特に好ましい。
The above-mentioned synthesis raw material, organic solvent, and if necessary, a reaction catalyst is charged into a synthesis kettle, and if necessary, stirred for 0.1 to 10 hours while being heated and kept warm, and subjected to a dehydration condensation reaction. A compound (A) having a primary amino group at the terminal is produced.
The reaction temperature is preferably 25 to 200 ° C. When the reaction temperature is less than 25 ° C, the reaction rate is slow, and when the reaction temperature exceeds 200 ° C, gelation is likely to occur.
It is desirable to use dimethylformamide, dimethylacetamide, etc., which have excellent solubility, and an aromatic solvent such as toluene, xylene, etc. to remove the by-product water by azeotropy, and the reaction temperature is azeotropic. A certain range of 120 ° C. to 200 ° C. is particularly preferable.

得られた上記一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)は、少量の試料を取り出しGPC測定、及びIR測定を行うことにより確認することができる。GPC測定により合成原料である化合物(a)、化合物(b)、化合物(c)のピークが消失していること、また、IR測定により合成原料であるアルデヒド基を有する化合物(b)のアルデヒド基に起因する1700cm-1、及び2750cm-1、2800cm-1のピークが消失し、シッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1のピークが出現することを確認することにより、良好に合成反応が進行し所望の化合物(A)が製造されていることを確認できる。 The obtained compound (A) having a primary amino group at the terminal represented by the general formula (VI) can be confirmed by taking a small amount of sample and performing GPC measurement and IR measurement. The peaks of compound (a), compound (b), and compound (c), which are synthetic raw materials, disappear by GPC measurement, and the aldehyde group of compound (b), which has an aldehyde group, which is a synthetic raw material, by IR measurement due to 1700 cm -1, and 2750 cm -1, a peak of 2800 cm -1 disappeared, by a peak of 1620 cm -1 due to Schiff base (-N = CH-) to verify that the appearance, good It can be confirmed that the synthesis reaction proceeds and the desired compound (A) is produced.

一般式(I)で表される本発明のビスマレイミド誘導体(B)は、上記により製造される、一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)と、上記一般式(VII)で表される1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)とを有機溶媒中で必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌しマイケル付加反応させることにより製造される。   The bismaleimide derivative (B) of the present invention represented by the general formula (I) is prepared as described above, the compound (A) having a primary amino group at the terminal represented by the general formula (VI), and the above The maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the general formula (VII) is stirred for 0.1 to 10 hours in an organic solvent while heating and holding as necessary. Produced by Michael addition reaction.

1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)としては、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、下記一般式(VII′)で表されるポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン等が挙げられる。
これらの中で、反応率が高く、より高耐熱性化できるビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンが好ましく、溶剤への溶解性の点から、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンがより好ましく、安価である点からビス(4−マレイミドフェニル)メタンが特に好ましい。
Examples of the maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule include bis (4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide represented by the following general formula (VII ′), Bis (4-maleimidophenyl) ether, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, Examples include m-phenylene bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, and the like.
Among these, bis (4-maleimidophenyl) methane, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-, which has a high reaction rate and can have higher heat resistance. Diphenylmethane bismaleimide and 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane are preferable, and 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane is preferable from the viewpoint of solubility in a solvent. Bismaleimide and bis (4-maleimidophenyl) methane are more preferred, and bis (4-maleimidophenyl) methane is particularly preferred because it is inexpensive.

Figure 0005589470
(式中、rは1〜10の整数である。)
Figure 0005589470
(In the formula, r is an integer of 1 to 10.)

この反応において、マレイミド化合物(d)と、末端に1級アミノ基を有する化合物(A)の使用量は、化合物(d)のマレイミド基数(即ち、化合物(d)の使用量/化合物(d)のマレイミド基当量)が、末端に1級アミノ基を有する化合物(A)の一級アミノ基数(即ち、化合物(A)の使用量/化合物(A)の一級アミノ基当量)の2〜10倍になる範囲であることが望ましい。10倍を超えると溶剤への溶解性が不足したり熱硬化性樹脂の耐熱性が低下する場合があり、2倍未満であるとゲル化を起こしたり、熱硬化性樹脂の耐熱性が低下する場合がある。また、有機溶媒の使用量は、化合物(d)と末端に1級アミノ基を有する化合物(A)(固形分)の総和100質量部当たり、25〜2000質量部とすることが好ましく、40〜1000質量部とすることがより好ましく、40〜500質量部とすることが特に好ましい。有機溶剤の配合量が25質量部少ないと溶解性が不足し、また2000質量部より多いと反応に長時間を要し、製造コストが高くなる。   In this reaction, the amount of the maleimide compound (d) and the compound (A) having a primary amino group at the terminal is the number of maleimide groups in the compound (d) (that is, the amount of compound (d) used / compound (d). 2-10 times the number of primary amino groups of the compound (A) having a primary amino group at the terminal (that is, the amount of the compound (A) used / the primary amino group equivalent of the compound (A)). It is desirable that If it exceeds 10 times, the solubility in the solvent may be insufficient or the heat resistance of the thermosetting resin may decrease, and if it is less than 2 times, gelation may occur or the heat resistance of the thermosetting resin may decrease. There is a case. The amount of the organic solvent used is preferably 25 to 2000 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the compound (d) and the compound (A) having a primary amino group at the terminal (solid content). It is more preferable to set it as 1000 mass parts, and it is especially preferable to set it as 40-500 mass parts. If the blending amount of the organic solvent is less than 25 parts by mass, the solubility is insufficient, and if it is more than 2000 parts by mass, the reaction takes a long time and the production cost increases.

この反応で使用される有機溶媒は特に制限されないが、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤、ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。これらの中で、溶解性の点からジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン等が好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残りにくいジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。末端に1級アミノ基を有する化合物(A)を製造する際にも有機溶媒を使用するが、この有機溶媒を、上記ビスマレイミド誘導体(B)を製造する際に連続的に使用することが、製造コストの点から特に好ましい。   The organic solvent used in this reaction is not particularly limited, but alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. , Ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic solvents such as toluene, xylene and mesitylene, nitrogen atom containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, sulfur atom containing solvents such as dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, etc. These ester solvents can be used, and one kind or a mixture of two or more kinds can be used. Among these, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, γ-butyrolactone and the like are preferable from the viewpoint of solubility, and dimethylacetamide and propylene glycol monomethyl ether, which are highly volatile and hardly remain as a residual solvent at the time of producing a prepreg, are more preferable. An organic solvent is also used in producing the compound (A) having a primary amino group at the terminal, and this organic solvent is used continuously in producing the bismaleimide derivative (B). This is particularly preferable from the viewpoint of manufacturing cost.

また、この反応には、必要により任意に反応触媒を使用することができる。反応触媒は特に限定されないが、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒、トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類、メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン等のリン系触媒等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。
反応方法としては、マレイミド化合物(d)、末端に1級アミノ基を有する化合物(A)、有機溶媒、必要により反応触媒を合成釜に仕込み、必要により加熱・保温しながら0.1〜10時間攪拌し、マイケル付加反応させることにより、ビスマレイミド誘導体(B)が製造される。
反応温度は25℃〜200℃が好ましく、100℃〜160℃が特に好ましい。反応温度が25℃未満では反応速度が遅く、また200℃を越えるとゲル化を引き起こし易い。
得られたビスマレイミド誘導体(B)は、少量の試料を取り出し、再沈殿により精製した試料のIR測定を行うことにより確認することができる。マイケル付加反応による3400cm-1の一級アミノ基のピークの消失と、シッフ塩基(−N=CH−)の1620cm-1のピーク、及びビスマレイミド誘導体の1710〜1720cm-1のケトンのピークの出現を確認することにより、良好に合成反応が進行し所望の化合物が製造されていることを確認できる。
In this reaction, a reaction catalyst can be optionally used as necessary. The reaction catalyst is not particularly limited, and examples include acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid, amines such as triethylamine, pyridine, and tributylamine, imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole, and phosphorus-based catalysts such as triphenylphosphine. 1 type, or 2 or more types can be mixed and used.
As the reaction method, the maleimide compound (d), the compound having a primary amino group at the terminal (A), an organic solvent, and if necessary, a reaction catalyst is charged into a synthesis kettle, and if necessary, heated for 0.1 to 10 hours while maintaining the temperature. The bismaleimide derivative (B) is produced by stirring and Michael addition reaction.
The reaction temperature is preferably 25 ° C to 200 ° C, particularly preferably 100 ° C to 160 ° C. If the reaction temperature is less than 25 ° C, the reaction rate is slow, and if it exceeds 200 ° C, gelation tends to occur.
The obtained bismaleimide derivative (B) can be confirmed by taking out a small amount of sample and performing IR measurement of the sample purified by reprecipitation. The disappearance of the peak of the primary amino group of 3400 cm −1 due to the Michael addition reaction, the appearance of the Schiff base (—N═CH—) peak of 1620 cm −1 , and the bismaleimide derivative 1710 to 1720 cm −1 ketone peak. By confirming, it can be confirmed that the synthesis reaction proceeds well and the desired compound is produced.

本発明の熱硬化性樹脂組成物はビスマレイミド誘導体を含有することを特徴とするものであり、必要によりビスマレイミド誘導体と共に、エポキシ樹脂、硬化促進剤、金属水和物等の難燃剤、無機充填剤等を含有させても良く、これらを含有させることにより、諸特性を更に向上することができる。例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物に、エポキシ樹脂を含有させることにより、ボイド等の発生が少ない良好な成形加工性を付与することができ、更に耐熱性や難燃性、銅箔接着性等を向上させることができる。   The thermosetting resin composition of the present invention is characterized in that it contains a bismaleimide derivative, and if necessary, together with a bismaleimide derivative, an epoxy resin, a curing accelerator, a flame retardant such as a metal hydrate, and inorganic filling An agent or the like may be contained, and various properties can be further improved by containing them. For example, by including an epoxy resin in the thermosetting resin composition of the present invention, it is possible to impart good moldability with less generation of voids, heat resistance, flame resistance, and copper foil adhesion. Etc. can be improved.

エポキシ樹脂を含有させる場合のエポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であるものが耐熱性の点から好ましく、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、ビフェニル系、ノボラック系、多官能フェノール系、ナフタレン系、脂環式系及びアルコール系等のグリシジルエーテル、グリシジルアミン系並びにグリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
これらの中で、誘電特性、耐熱性、耐湿性及び銅箔接着性の点からビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が好ましく、難燃性や成形加工性の点からビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂がより好ましく、ドリル加工性が良好となる点や高難燃性となる点から、下記一般式(VIII)で表されるビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂が特に好ましい。なお、該一般式(VIII)のmは1以上の正数である。
In the case of containing an epoxy resin, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is preferable from the viewpoint of heat resistance. For example, bisphenol A, bisphenol F, biphenyl, Examples include novolak, polyfunctional phenol, naphthalene, alicyclic, and alcoholic glycidyl ethers, glycidylamine, and glycidyl ester epoxy resins. Can do.
Among these, bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy in terms of dielectric properties, heat resistance, moisture resistance and copper foil adhesion Resin, phenol novolac type epoxy resin and cresol novolac type epoxy resin are preferable, and bisphenol F type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin from the viewpoint of flame retardancy and molding processability, A cresol novolac type epoxy resin is more preferable, and a biphenylaralkyl type epoxy resin represented by the following general formula (VIII) is particularly preferable from the viewpoint of good drilling workability and high flame retardancy. In the general formula (VIII), m is a positive number of 1 or more.

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エポキシ樹脂を含有させる場合、その使用量(固形分換算)は、固形分換算のビスマレイミド誘導体100質量部当たり、10〜200質量部とすることが好ましく、20〜200質量部とすることがより好ましく、20〜100重量部とすることが特に好ましい。
エポキシ樹脂の配合量が10質量部より少ないと銅箔接着性や耐薬品性が不足することがあり、また、200質量部を超えると耐熱性、低熱膨張率性、高弾性率性が低下することがある。
When an epoxy resin is contained, the amount used (in terms of solid content) is preferably 10 to 200 parts by mass and more preferably 20 to 200 parts by mass per 100 parts by mass of the bismaleimide derivative in terms of solid content. It is particularly preferably 20 to 100 parts by weight.
When the blending amount of the epoxy resin is less than 10 parts by mass, the copper foil adhesion and chemical resistance may be insufficient, and when it exceeds 200 parts by mass, the heat resistance, the low thermal expansion property, and the high elastic modulus are deteriorated. Sometimes.

硬化促進剤の例としては、イミダゾール類及びその誘導体、第三級アミン類及び第四級アンモニウム塩等が挙げられる。その中でもイミダゾール類及びその誘導体が高弾性率性や難燃性、銅箔接着性等の点から好ましく、更に下記一般式(IX)で表されるイミダゾール基がエポキシ樹脂によって置換された化合物や、下記一般式(X)で表されるイソシアネート樹脂によって置換された化合物が200℃以下での比較的低温での硬化成形性とワニスやプリプレグの経日安定性に優れるためより好ましく、下記一般式(XI)又は(XII)で表される化合物が少量の配合使用量でよく、また商業的にも安価であることから特に好ましい。   Examples of the curing accelerator include imidazoles and derivatives thereof, tertiary amines and quaternary ammonium salts. Among them, imidazoles and derivatives thereof are preferable from the viewpoint of high elastic modulus and flame retardancy, copper foil adhesion, and the like, and further, a compound in which an imidazole group represented by the following general formula (IX) is substituted with an epoxy resin, A compound substituted with an isocyanate resin represented by the following general formula (X) is more preferable because it is excellent in curing moldability at a relatively low temperature at 200 ° C. or lower and the aging stability of a varnish or prepreg, and the following general formula ( The compound represented by XI) or (XII) may be used in a small amount and is particularly preferable because it is commercially inexpensive.

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(式中、R6、R7、R8、R9は各々独立に水素原子、又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、フェニル基を示し、Bは単結合、アルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基のいずれかである。)
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(Wherein R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and B represents a single bond, an alkylene group or an alkylidene group. , An ether group, or a sulfonyl group.)

Figure 0005589470
(式中、R6、R7、R8、R9は各々独立に水素原子、又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、フェニル基を示し、Dはアルキレン基、芳香族炭化水素基等のイソシアネート樹脂の残基である。)
Figure 0005589470
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and D represents an alkylene group or an aromatic hydrocarbon group. It is a residue of an isocyanate resin such as

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硬化促進剤を含有させる場合、その使用量は、固形分換算の本発明のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂の総和100質量部当たり、0.1〜10質量部とすることが好ましく、0.1〜5質量部とすることがより好ましい。硬化促進剤の使用量が0.1質量部より少ないと耐熱性や難燃性、銅箔接着性等が不足することがあり、また、10質量部を超えると耐熱性や経時安定性が低下することがある。   When a curing accelerator is contained, the amount used is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the sum of the bismaleimide derivative of the present invention and the epoxy resin in terms of solid content. More preferably 5 parts by mass. If the amount of curing accelerator used is less than 0.1 parts by mass, heat resistance, flame retardancy, copper foil adhesion, etc. may be insufficient, and if it exceeds 10 parts by mass, heat resistance and stability over time will decrease. There are things to do.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、難燃性を向上させることを目的として、難燃剤を含有させてもよい。適切な難燃剤を含有させることにより、耐熱性や銅箔接着性、高弾性率、低熱膨張率性等の諸特性の低下が少なく、高難燃性を付与することができる。
難燃剤の例としては、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、リン酸エステル系化合物、ホスファゼン、赤リン等のリン系難燃剤、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤等が挙げられる。難燃剤として臭素や塩素を含有する含ハロゲン系難燃剤は、近年の環境問題から本発明の目的にそぐわない。
The thermosetting resin composition of the present invention may contain a flame retardant for the purpose of improving flame retardancy. By containing an appropriate flame retardant, it is possible to impart high flame retardancy with little deterioration of various properties such as heat resistance, copper foil adhesiveness, high elastic modulus, and low thermal expansion coefficient.
Examples of flame retardants include metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, phosphorus-based flame retardants such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate, phosphate compounds, phosphazenes, and red phosphorus. Examples include inorganic flame retardant aids such as a flame retardant, antimony trioxide, and zinc molybdate. Halogen-containing flame retardants containing bromine or chlorine as flame retardants are not suitable for the purpose of the present invention due to recent environmental problems.

これらの難燃剤の中で、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物が、高いガラス転移温度や銅箔接着性を発現することができ、またリンを含有しないことから安全性や環境適応性も高く、好適に使用される。
さらに、これらの金属水和物の中でも、ベーマイト型水酸化アルミニウム(AlOOH)、ギブサイト型水酸化アルミニウム〔Al(OH)3〕を熱処理によりその熱分解温度を300℃以上に調整した化合物、熱分解温度が300℃以上である水酸化マグネシウム等の金属水和物は、優れた耐熱性を有するため、より好適に使用される。
特に、ベーマイト型水酸化アルミニウム(AlOOH)は、350℃以上の特に高い熱分解温度を有するため、難燃性と、特に高い耐熱性が両立することや、耐酸性等の耐薬液性、低吸水率性等に優れるため、特に好適に使用される。
Among these flame retardants, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide can express high glass transition temperature and copper foil adhesiveness, and do not contain phosphorus, so safety and environment It is highly adaptable and can be used preferably.
Furthermore, among these metal hydrates, a compound in which boehmite type aluminum hydroxide (AlOOH) and gibbsite type aluminum hydroxide [Al (OH) 3] are adjusted to a thermal decomposition temperature of 300 ° C. or higher by heat treatment, thermal decomposition Metal hydrates such as magnesium hydroxide having a temperature of 300 ° C. or higher have excellent heat resistance and are therefore more preferably used.
In particular, boehmite-type aluminum hydroxide (AlOOH) has a particularly high thermal decomposition temperature of 350 ° C. or higher, so that both flame retardancy and particularly high heat resistance are compatible, chemical resistance such as acid resistance, and low water absorption. Since it is excellent in efficiency etc., it is used especially suitably.

難燃剤を含有させる場合、その使用量は、難燃剤が金属水和物である場合は、固形分換算の本発明のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂の総和100質量部当たり、10〜300質量部とすることが好ましく、10〜250質量部とすることがより好ましく、50〜200質量部とすることが特に好ましい。10質量部未満であると難燃性が不足することがあり、300質量部を越えると耐めっき液性等の耐薬品性が低下することがある。   When the flame retardant is contained, when the flame retardant is a metal hydrate, the amount used is 10 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the bismaleimide derivative of the present invention and the epoxy resin in terms of solid content. It is preferable to use 10 to 250 parts by mass, and 50 to 200 parts by mass is particularly preferable. If it is less than 10 parts by mass, the flame retardancy may be insufficient, and if it exceeds 300 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance may be lowered.

難燃剤がリン系難燃剤である場合は、固形分換算の本発明のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂の総和100質量部当たり、リン原子の含有量が0.1〜10.0質量部となるように配合することが好ましく、1.0〜10.0質量部となるように配合することがより好ましく、1.0〜8.0質量部となるように配合することが特に好ましい。0.1質量部未満であると難燃性が不足することがあり、10.0質量部を越えると耐めっき液性等の耐薬品性や耐熱性、銅箔接着性が低下する場合がある。   When the flame retardant is a phosphorus flame retardant, the phosphorus atom content is 0.1 to 10.0 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the bismaleimide derivative of the present invention and the epoxy resin in terms of solid content. It is preferable to mix | blend, It is more preferable to mix | blend so that it may become 1.0-10.0 mass part, It is especially preferable to mix | blend so that it may become 1.0-8.0 mass part. If the amount is less than 0.1 parts by mass, the flame retardancy may be insufficient. If the amount exceeds 10.0 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance, heat resistance, and copper foil adhesion may be deteriorated. .

難燃助剤として、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤を使用する場合、その使用量は、固形分換算の本発明のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂の総和100質量部当たり、0.1〜20質量部とすることが好ましく、0.1〜10質量部とすることがより好ましい。20質量部を越えると耐めっき液性等の耐薬品性が低下することがある。   When using an inorganic flame retardant auxiliary such as antimony trioxide, zinc molybdate as a flame retardant auxiliary, the amount used is per 100 parts by mass of the total of the bismaleimide derivative of the present invention and epoxy resin in terms of solid content, It is preferable to set it as 0.1-20 mass parts, and it is more preferable to set it as 0.1-10 mass parts. If it exceeds 20 parts by mass, chemical resistance such as plating solution resistance may be lowered.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、低熱膨張率性や高弾性率性、耐熱性、難燃性を向上させることを目的に、任意に適切な無機充填剤を含有させることができる。
無機充填剤の例としては、シリカ、アルミナ、マイカ、タルク、ガラス短繊維又は微粉末及び中空ガラス、炭酸カルシウム、石英粉末等が挙げられるが、これらの中で、銅箔接着性、耐熱性、難燃性の点からシリカ、アルミナ、マイカ、タルク等が好ましく、高放熱性の点からシリカ、アルミナが特に好ましい。
The thermosetting resin composition of the present invention can optionally contain an appropriate inorganic filler for the purpose of improving low thermal expansion property, high elastic modulus property, heat resistance, and flame retardancy.
Examples of inorganic fillers include silica, alumina, mica, talc, short glass fiber or fine powder and hollow glass, calcium carbonate, quartz powder, etc. Among these, copper foil adhesiveness, heat resistance, Silica, alumina, mica, talc and the like are preferable from the viewpoint of flame retardancy, and silica and alumina are particularly preferable from the viewpoint of high heat dissipation.

無機充填剤を含有させる場合、その使用量は、固形分換算の本発明のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂の総和100質量部当たり、10〜300質量部とすることが好ましく、20〜200質量部とすることがより好ましく、30〜200質量部とすることが特に好ましい。無機充填剤の含有量が300重量部を超えると耐めっき液性等の耐薬品性や成形性が低下することがある。   When the inorganic filler is included, the amount used is preferably 10 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the bismaleimide derivative of the present invention and the epoxy resin in terms of solid content, and 20 to 200 parts by mass. It is more preferable to set it to 30 to 200 parts by mass. If the content of the inorganic filler exceeds 300 parts by weight, chemical resistance such as plating solution resistance and moldability may be deteriorated.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、本発明の目的に反しない範囲で、任意に公知の熱可塑性樹脂、エラストマー、有機充填剤等の併用ができる。
熱可塑性樹脂としては、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂及びシリコーン樹脂等が挙げられる。
In the thermosetting resin composition of the present invention, a known thermoplastic resin, elastomer, organic filler and the like can be used in combination as long as the object of the present invention is not adversely affected.
Examples of the thermoplastic resin include tetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, xylene resin, petroleum resin, and silicone resin.

エラストマーとしては、ポリブタジエン、アクリロニトリル、エポキシ変性ポリブタジエン、無水マレイン酸変性ポリブタジエン、フェノール変性ポリブタジエン及びカルボキシ変性アクリロニトリル等が挙げられる。
有機充填剤としては、シリコーンパウダー、テトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、並びにポリフェニレンエーテル等の有機物粉末等が挙げられる。
Examples of the elastomer include polybutadiene, acrylonitrile, epoxy-modified polybutadiene, maleic anhydride-modified polybutadiene, phenol-modified polybutadiene, and carboxy-modified acrylonitrile.
Examples of organic fillers include organic powders such as silicone powder, tetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyphenylene ether.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、任意に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光重合開始剤、蛍光増白剤及び密着性向上剤等を含有させることができる。例えば、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収剤、ヒンダードフェノール系やスチレン化フェノール等の酸化防止剤、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、チオキサントン系等の光重合開始剤、スチルベン誘導体等の蛍光増白剤、尿素シラン等の尿素化合物やシランカップリング剤等の密着性向上剤等が挙げられる。   The thermosetting resin composition of the present invention can optionally contain an ultraviolet absorber, an antioxidant, a photopolymerization initiator, a fluorescent whitening agent, an adhesion improver, and the like. For example, ultraviolet absorbers such as benzotriazoles, antioxidants such as hindered phenols and styrenated phenols, photopolymerization initiators such as benzophenones, benzyl ketals, thioxanthones, fluorescent whitening agents such as stilbene derivatives, Examples include urea compounds such as urea silane and adhesion improvers such as silane coupling agents.

本発明のプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、繊維シート状補強基材に含浸・塗工し、Bステージ化して得られたものである。本発明のプリプレグは、上記の熱硬化性樹脂組成物を、繊維シート状補強基材に含浸・塗工し、加熱等により半硬化(Bステージ化)して製造することができる。
プリプレグの繊維シート状補強基材として、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス及びQガラス等の無機物繊維、ポリイミド、ポリエステル及びテトラフルオロエチレン等の有機繊維、並びにそれらの混合物等が挙げられる。これらの基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット及びサーフェシングマット等の形状を有するが、材質及び形状は、目的とする成形物の用途や性能により選択され、必要により、単独又は2種類以上の材質及び形状を組み合わせることができる。
繊維シート状補強基材の厚さは、特に制限されず、例えば、約0.03〜0.5mmを使用することができ、シランカップリング剤等で表面処理したもの又は機械的に開繊処理を施したものが、耐熱性や耐湿性、加工性の面から好適である。該基材に対する樹脂組成物の付着量が、乾燥後のプリプレグの樹脂含有率で、20〜90質量%となるように、基材に含浸又は塗工した後、通常、100〜200℃の温度で1〜30分加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させて、本発明のプリプレグを得ることができる。
The prepreg of the present invention is obtained by impregnating and applying the thermosetting resin composition of the present invention to a fiber sheet-like reinforcing base material and forming a B-stage. The prepreg of the present invention can be produced by impregnating and coating the above thermosetting resin composition on a fiber sheet-like reinforcing base material and semi-curing (B-stage) by heating or the like.
As the prepreg fiber sheet reinforcing substrate, known materials used for various laminates for electrical insulating materials can be used. Examples of the material include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass, and Q glass, organic fibers such as polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene, and mixtures thereof. These base materials have, for example, shapes such as woven fabric, non-woven fabric, robink, chopped strand mat, and surfacing mat, but the material and shape are selected depending on the intended use and performance of the molded product, and if necessary, A single material or two or more materials and shapes can be combined.
The thickness of the fiber sheet-shaped reinforcing substrate is not particularly limited, and for example, about 0.03 to 0.5 mm can be used, and the surface treatment with a silane coupling agent or the like or mechanical fiber opening treatment Those subjected to are suitable from the viewpoints of heat resistance, moisture resistance and workability. After impregnating or coating the base material so that the amount of the resin composition attached to the base material is 20 to 90% by mass in terms of the resin content of the prepreg after drying, the temperature is usually 100 to 200 ° C. Can be heated and dried for 1 to 30 minutes and semi-cured (B-stage) to obtain the prepreg of the present invention.

本発明の積層板は、前述のプリプレグを用いて積層成形して得られたものである。例えば、プリプレグを1〜20枚重ね、その片面又は両面に銅及びアルミニウム等の金属箔を配置した構成で積層成形することにより製造することができる。金属箔は、電気絶縁材料用途で用いるものであれば特に制限されない。
成形条件は、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力2〜100kg/cm2、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。
また、本発明のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、多層板を製造することもできる。
The laminate of the present invention is obtained by laminate molding using the above-described prepreg. For example, it can be manufactured by stacking 1 to 20 prepregs and laminate-molding them with a configuration in which a metal foil such as copper and aluminum is disposed on one or both sides thereof. The metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating material applications.
The molding conditions can be applied to a laminate for an electrical insulating material and a multilayer board, for example, using a multistage press, a multistage vacuum press, continuous molding, an autoclave molding machine, etc., at a temperature of 100 to 250 ° C., a pressure of 2 to 100 kg / cm 2, can be molded in the range of the heating time from 0.1 to 5 hours.
Further, the prepreg of the present invention and the inner layer wiring board can be combined and laminated to produce a multilayer board.

次に、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの記載に限定されるものではない。
なお、各実施例及び比較例で得られた銅張積層板は、以下の方法により性能を測定・評価した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention in more detail, this invention is not limited to these description.
In addition, the performance of the copper clad laminates obtained in each example and comparative example was measured and evaluated by the following method.

(1)銅箔接着性(銅箔ピール強度)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより1cm幅の銅箔を形成して評価基板を作製し、引張り試験機を用いて銅箔の接着性(ピール強度)を測定した。
(1) Copper foil adhesion (copper foil peel strength)
A 1 cm wide copper foil was formed by immersing the copper clad laminate in a copper etching solution to produce an evaluation substrate, and the adhesion (peel strength) of the copper foil was measured using a tensile tester.

(2)線熱膨張係数
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の厚み方向(Z方向)の30〜100℃の線熱膨張率を測定した。
(2) Linear thermal expansion coefficient A 5-mm square evaluation board | substrate which removed the copper foil by immersing a copper clad laminated board in a copper etching liquid was produced, and the evaluation board | substrate of the evaluation board | substrate was used using the TMA test apparatus (the Du Pont company make, TMA2940). The linear thermal expansion coefficient of 30 to 100 ° C. in the thickness direction (Z direction) was measured.

(3)ガラス転移温度(Tg)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の厚み方向(Z方向)の熱膨張特性から測定した。
(3) Glass transition temperature (Tg)
A 5 mm square evaluation board from which the copper foil was removed by immersing the copper-clad laminate in a copper etching solution was prepared, and a TMA test apparatus (manufactured by DuPont, TMA2940) was used in the thickness direction (Z direction) of the evaluation board. Measured from thermal expansion characteristics.

(4)はんだ耐熱性
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5cm角の評価基板を作製し、平山製作所(株)製プレッシャー・クッカー試験装置を用いて、121℃、2atmの条件で4時間プレッシャー・クッカー処理を行った後、温度288℃のはんだ浴に、評価基板を20秒間浸漬した後、外観を観察することによりはんだ耐熱性を評価した。(外観にふくれがあったものを「ふくれ」と記す。)
(4) Solder heat resistance A 5 cm square evaluation board from which the copper foil was removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution was prepared, and 121 ° C. using a pressure cooker test apparatus manufactured by Hirayama Seisakusho. After performing the pressure-cooker treatment for 4 hours under the condition of 2 atm, the evaluation substrate was immersed in a solder bath at a temperature of 288 ° C. for 20 seconds, and then the solder heat resistance was evaluated by observing the appearance. (If there is a blister on the exterior, mark it “blister”.)

(5)銅付き耐熱性(T−300)
銅張積層板から5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、300℃で評価基板の膨れが発生するまでの時間を測定することにより評価した。(昇温時にふくれがあったものを「ふくれ」と記す。)
(5) Heat resistance with copper (T-300)
A 5 mm square evaluation board was produced from the copper clad laminate, and evaluation was performed by measuring the time until the evaluation board swells at 300 ° C. using a TMA test apparatus (manufactured by DuPont, TMA2940). (If there is a blister when the temperature rises, mark it as “blister”.)

(6)難燃性
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、長さ127mm、幅12.7mmに切り出した試験片を作製し、UL94の試験法(V法)に準じて評価した。
(6) Flame retardance A test piece cut out to a length of 127 mm and a width of 12.7 mm was prepared from an evaluation substrate from which a copper foil was removed by immersing a copper-clad laminate in a copper etching solution. Evaluation was made according to V method.

(7)誘電特性(比誘電率及び誘電正接)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板を作製し、Hewllet・Packerd社製比誘電率測定装置(製品名:HP4291B)を用いて、周波数1GHzでの比誘電率及び誘電正接を測定した。
(7) Dielectric properties (dielectric constant and dielectric loss tangent)
An evaluation board from which copper foil is removed by immersing a copper clad laminate in a copper etching solution is prepared, and a relative dielectric constant at a frequency of 1 GHz is measured using a relative dielectric constant measuring apparatus (product name: HP4291B) manufactured by Hewllet Packerd. The rate and dielectric tangent were measured.

(8)ドリル加工性
ドリルに径0.105mm(ユニオンツールMV J676)を用い、回転数:160000rpm、送り速度:0.8m/min、重ね枚数:1枚の条件でドリル加工を行い、6000ヒットさせて評価基板を作製し、ドリル穴の内壁粗さを評価した。内壁粗さの評価は、無電解銅めっきを行い(めっき厚:15μm)、穴壁へのめっき染み込み長さの最大値を測定することにより評価した。
(8) Drill workability Using a drill with a diameter of 0.105 mm (Union Tool MV J676), drilling was performed under the conditions of rotation speed: 160000 rpm, feed rate: 0.8 m / min, number of stacked sheets: 6000 hits Thus, an evaluation substrate was produced, and the inner wall roughness of the drill hole was evaluated. The inner wall roughness was evaluated by performing electroless copper plating (plating thickness: 15 μm) and measuring the maximum value of the plating penetration length into the hole wall.

製造例1:〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−1)及びビスマレイミド誘導体(B−1)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0g、p−アミノフェノール:109.0g、N、N−ジメチルアセトアミド:1157.0g及びトルエン:115.7gを入れ、攪拌しながら80℃で1時間保温した。次いで、ジアミノジフェニルメタン:198.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行い、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−1)の溶液を得た。
Production Example 1: Production of Compound (A-1) and Bismaleimide Derivative (B-1) Solution Having Primary Amino Group at Terminal
In a 3 liter reaction vessel with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, a terephthalaldehyde: 134.0 g, p-aminophenol: 109.0 g, N, N-dimethyl Acetamide: 1157.0 g and toluene: 115.7 g were added, and kept at 80 ° C. for 1 hour with stirring. Next, 198.0 g of diaminodiphenylmethane was added, the temperature was raised and reflux dehydration reaction was performed at about 130 to 145 ° C., the temperature was raised to 160 ° C. and concentrated at normal pressure, and then cooled to 120 ° C. A solution of the compound (A-1) having a secondary amino group was obtained.

この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約13.7分付近に出現する合成原料であるテレフタルアルデヒド、及び、約12.8分付近に出現するp−アミノフェノールとジアミノジフェニルメタンに由来するピークが消失していた。
また、反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合重量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行った。測定結果を図1に示す。
その測定結果より、アルデヒド基を有する化合物のアルデヒド基に起因する1700cm-1付近、及び2750cm-1、2800cm-1付近のピークは確認されず、シッフ塩基(−N=CH−)に起因する1620cm-1付近の強いピークが確認でき、下記化学式(XIII)の化合物が製造されていることを確認した。
A small amount of this reaction solution was taken out and subjected to GPC measurement (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran). As a result, terephthalaldehyde, which is a synthetic raw material whose elution time appears around 13.7 minutes, and around 12.8 minutes The peaks derived from p-aminophenol and diaminodiphenylmethane appearing in 1 disappeared.
Further, a small amount of the reaction solution was taken out, dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing weight ratio 1: 1) and reprecipitated to take out the purified solid content, and FT-IR measurement was performed. The measurement results are shown in FIG.
From the measurement result, the vicinity of 1700 cm -1 due to the aldehyde group of the compound having an aldehyde group, and 2750 cm -1, the peak around 2800 cm -1 is not confirmed, 1620 cm due to Schiff base (-N = CH-) A strong peak in the vicinity of -1 was confirmed, confirming that the compound of the following chemical formula (XIII) was produced.

Figure 0005589470
Figure 0005589470

次に、上記反応溶液に、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン:716.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−1)の溶液を得た。この反応溶液を少量取り出し、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合重量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行った。測定結果を図2に示す。
その測定結果から、マイケル付加反応による3400cm-1の一級アミノ基のピークの消失と、シッフ塩基(−N=CH−)の1620cm-1のピーク、及びビスマレイミド誘導体の1710〜1720cm-1のケトンのピークの出現を確認することにより、下記化学式(II)のビスマレイミド誘導体が製造されていることを確認した。
なお、製造例1において、ジアミノジフェニルメタンとp−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンのマレイミド基数は、化合物(A−1)の一級アミノ基数の4.0倍である。
Next, 716.0 g of bis (4-maleimidophenyl) methane: 716.0 g is added to the above reaction solution, kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to obtain a solution of the bismaleimide derivative (B-1). Obtained. A small amount of this reaction solution was taken out and dropped into a mixed solvent of methanol and benzene (mixing weight ratio 1: 1) to cause reprecipitation, whereby the purified solid content was taken out and subjected to FT-IR measurement. The measurement results are shown in FIG.
From the measurement result, the disappearance of the peak of the primary amino groups of 3400 cm -1 by Michael addition reaction, the peak of 1620 cm -1 of the Schiff base (-N = CH-), and ketones 1710~1720Cm -1 bismaleimide derivative It was confirmed that the bismaleimide derivative of the following chemical formula (II) was produced by confirming the appearance of the peak.
In Production Example 1, the total number of primary amino groups of diaminodiphenylmethane and p-aminophenol is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) methane is 4.0 times the number of primary amino groups in compound (A-1).

Figure 0005589470
Figure 0005589470

製造例2: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−2)及びビスマレイミド誘導体(B−2)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−アミノ安息香酸:137.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:1637.0gとトルエン:363.8gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン:226.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−2)の溶液を得た。
次に、該溶液に2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン:1140.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−2)の溶液を得た。
なお、製造例2において、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタンとp−アミノ安息香酸の一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパンのマレイミド基数は、化合物(A−2)の一級アミノ基数の4.0倍である。
Production Example 2: [Production of Compound (A-2) and Bismaleimide Derivative (B-2) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 5 liters, which can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 134.0 g of terephthalaldehyde, 137.0 g of p-aminobenzoic acid, and N. N-dimethylacetamide: 1637.0 g and toluene: 363.8 g were blended and kept warm at 80 ° C. for 1 hour with stirring.
To this was added 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane: 226.0 g, and the mixture was heated to reflux dehydration reaction at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-2) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 1140.0 g of 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane: 1140.0 g was added to the solution, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, then cooled to bismaleimide derivative ( A solution of B-2) was obtained.
In Production Example 2, the total number of primary amino groups of 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane and p-aminobenzoic acid is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. It is. The number of maleimide groups in 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane is 4.0 times the number of primary amino groups in compound (A-2).

製造例3: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−3)及びビスマレイミド誘導体(B−3)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積5リットルの反応容器に、イソフタルアルデヒド:268.0gと、m−アミノフェノール:109.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:1769.0gとトルエン:393.1gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン:508.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−3)の溶液を得た。
次に、該溶液に3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド:884.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−3)の溶液を得た。
なお、製造例3において、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタンとm−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は5.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は4.0である。また、3,3−ジメチル−5,5−ジエチル−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミドのマレイミド基数は、化合物(A−3)の一級アミノ基数の4.0倍である。
Production Example 3: Production of Compound (A-3) and Bismaleimide Derivative (B-3) Solution Having Primary Amino Group at Terminal
In a reaction vessel with a volume of 5 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, a moisture meter with a reflux condenser, isophthalaldehyde: 268.0 g, m-aminophenol: 109.0 g, and N, N -Dimethylacetamide: 1769.0 g and toluene: 393.1 g were blended and kept warm at 80 ° C for 1 hour with stirring.
To this, 4,8.0'-diamino-3,3'-diethyl-diphenylmethane: 508.0 g was added, and the mixture was heated to reflux dehydration reaction at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-3) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 884.0 g of 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide: 884.0 g was added to the solution, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to bismaleimide. A solution of the derivative (B-3) was obtained.
In Production Example 3, the total number of primary amino groups of 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane and m-aminophenol is 5.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 4.0. is there. The number of maleimide groups in 3,3-dimethyl-5,5-diethyl-4,4-diphenylmethane bismaleimide is 4.0 times the number of primary amino groups in compound (A-3).

製造例4: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−4)及びビスマレイミド誘導体(B−4)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−アミノフェノール:109.0g、及びN,N-ジメチルアセトアミド:1189.0gとトルエン:264.2gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン:410.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−4)の溶液を得た。
次に、m−フェニレンビスマレイミド:536.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−4)の溶液を得た。
なお、製造例4において、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンとp−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、m−フェニレンビスマレイミドのマレイミド基数は、化合物(A−4)の一級アミノ基数の4.0倍である。
Production Example 4: [Production of Compound (A-4) and Bismaleimide Derivative (B-4) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 3 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 134.0 g of terephthalaldehyde, 109.0 g of p-aminophenol, and N, N -Dimethylacetamide: 1189.0 g and toluene: 264.2 g were blended and kept at 80 ° C. for 1 hour with stirring.
To this was added 410.0 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane: the temperature was raised and a reflux dehydration reaction was carried out at about 130-145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-4) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 536.0 g of m-phenylene bismaleimide was added, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to obtain a solution of a bismaleimide derivative (B-4).
In Production Example 4, the total number of primary amino groups of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and p-aminophenol is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2. 0. The number of maleimide groups in m-phenylene bismaleimide is 4.0 times the number of primary amino groups in compound (A-4).

製造例5: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−5)及びビスマレイミド誘導体(B−5)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−アミノフェノール:109.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:882.0gとトルエン:196.0gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに3,3'−ジヒドロキシベンジジン:216.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−5)の溶液を得た。
次に、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド:423.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−5)の溶液を得た。
なお、製造例5において、3,3'−ジヒドロキシベンジジンとp−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミドのマレイミド基数は、化合物(A−5)の一級アミノ基数の3.0倍である。
Production Example 5: [Production of Compound (A-5) and Bismaleimide Derivative (B-5) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 3 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 134.0 g of terephthalaldehyde, 109.0 g of p-aminophenol, and N, N -Dimethylacetamide: 882.0g and toluene: 196.0g were mix | blended and it heat-retained at 80 degreeC for 1 hour, stirring.
To this was added 3,3′-dihydroxybenzidine: 216.0 g, and the temperature was raised to perform a reflux dehydration reaction at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-5) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 423.0 g of 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide was added, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours while stirring, and then cooled to obtain a solution of a bismaleimide derivative (B-5). .
In Production Example 5, the total number of primary amino groups of 3,3′-dihydroxybenzidine and p-aminophenol is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide is 3.0 times the number of primary amino groups in compound (A-5).

製造例6: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−6)及びビスマレイミド誘導体(B−6)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−アミノフェノール:109.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:1215.0gとトルエン:270.0gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これにビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン:432.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−6)の溶液を得た。
次に、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル:540.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−6)の溶液を得た。
なお、製造例6において、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンとp−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテルのマレイミド基数は、化合物(A−6)の一級アミノ基数の3.0倍である。
Production Example 6 [Production of Compound (A-6) and Bismaleimide Derivative (B-6) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 3 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 134.0 g of terephthalaldehyde, 109.0 g of p-aminophenol, and N, N -Dimethylacetamide: 1215.0g and toluene: 270.0g were mix | blended, and it heat-retained at 80 degreeC for 1 hour, stirring.
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone: 432.0 g was added thereto, the temperature was raised, and a reflux dehydration reaction was performed at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-6) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 540.0 g of bis (4-maleimidophenyl) ether was added, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to obtain a solution of a bismaleimide derivative (B-6).
In Production Example 6, the total number of primary amino groups of bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone and p-aminophenol is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) ether is 3.0 times the number of primary amino groups in compound (A-6).

製造例7: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−7)及びビスマレイミド誘導体(B−7)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:134.0gと、p−アミノフェノール:109.0g、及びN、N−ジメチルアセトアミド:987.0gとトルエン:219.3gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル:368.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−7)の溶液を得た。
次に、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン:376.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−7)の溶液を得た。
なお、製造例7において、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルとp−アミノフェノールの一級アミノ基数の合計は3.0であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は2.0である。また、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホンのマレイミド基数は、化合物(A−7)の一級アミノ基数の2.0倍である。
Production Example 7: [Production of Compound (A-7) and Bismaleimide Derivative (B-7) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 3 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, 134.0 g of terephthalaldehyde, 109.0 g of p-aminophenol, and N, N -Dimethylacetamide: 987.0g and toluene: 219.3g were mix | blended, and it heat-retained at 80 degreeC for 1 hour, stirring.
To this was added 368.0 g of 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, and the mixture was heated to reflux dehydration reaction at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-7) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 376.0 g of bis (4-maleimidophenyl) sulfone was added, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to obtain a solution of a bismaleimide derivative (B-7).
In Production Example 7, the total number of primary amino groups of 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and p-aminophenol is 3.0, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 2.0. The number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) sulfone is 2.0 times the number of primary amino groups in compound (A-7).

製造例8: 〔末端に1級アミノ基を有する化合物(A−8)及びビスマレイミド誘導体(B−8)溶液の製造〕
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、テレフタルアルデヒド:67.0gと、p−アミノ安息香酸:68.5g、及びN,N−ジメチルアセトアミド:1143.5gとトルエン:254.1gを配合し、攪拌しながら80℃で1時間保温した。
これに4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタン:113.0gを添加し、昇温して約130〜145℃で還流脱水反応を行った。次いで、160℃まで昇温して常圧濃縮した後、120℃まで冷却し、末端に1級アミノ基を有する化合物(A−8)の溶液を得た。
次に、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン:895.0gを添加し、攪拌しながら120℃で6時間保温した後、冷却してビスマレイミド誘導体(B−8)の溶液を得た。
なお、製造例8において、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジフェニルメタンとp−アミノ安息香酸の一級アミノ基数の合計は1.5であり、テレフタルアルデヒドのアルデヒド基数は1.0である。また、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンのマレイミド基数は、化合物(A−8)の一級アミノ基数の10.0倍である。
Production Example 8: [Production of Compound (A-8) and Bismaleimide Derivative (B-8) Solution Having Primary Amino Group at Terminal]
In a reaction vessel with a volume of 3 liters, which can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser, terephthalaldehyde: 67.0 g, p-aminobenzoic acid: 68.5 g, and N, N-dimethylacetamide: 1143.5 g and toluene: 254.1 g were blended and kept warm at 80 ° C. for 1 hour with stirring.
11,4 g of 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane: 113.0 g was added thereto, and the mixture was heated to reflux dehydration reaction at about 130 to 145 ° C. Subsequently, after heating up to 160 degreeC and concentrating at normal pressure, it cooled to 120 degreeC and the solution of the compound (A-8) which has a primary amino group at the terminal was obtained.
Next, 895.0 g of bis (4-maleimidophenyl) methane was added, and the mixture was kept at 120 ° C. for 6 hours with stirring, and then cooled to obtain a solution of a bismaleimide derivative (B-8).
In Production Example 8, the total number of primary amino groups of 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane and p-aminobenzoic acid is 1.5, and the number of aldehyde groups of terephthalaldehyde is 1.0. It is. The number of maleimide groups in bis (4-maleimidophenyl) methane is 10.0 times the number of primary amino groups in compound (A-8).

実施例1〜18、比較例1〜6
製造例1〜8で得られたビスマレイミド誘導体の溶液(第1表〜第3表)又は第4表に記載のビスマレイミド誘導体、或いはこれにエポキシ樹脂、硬化促進剤、無機充填剤、難燃剤を含有させ、希釈溶剤にメチルエチルケトンを使用して第1表〜第4表に示した配合割合(質量部)で混合して樹脂分60質量%の均一なワニスを得た。
次に、上記ワニスを厚さ0.2mmのEガラスクロスに含浸塗工し、160℃で10分加熱乾燥して樹脂含有量55質量%のプリプレグを製造した。
さらに、これらのプリプレグを4枚重ね、18μmの電解銅箔を上下に配置し、圧力25kg/cm2、温度230℃で120分間プレスを行って銅張積層板を製造した。
このようにして得られた銅張積層板を用いて、銅箔接着性(銅箔ピール強度)、耐熱性〔ガラス転移温度(Tg)、はんだ耐熱性及び銅付き耐熱性〕、難燃性、誘電特性〔比誘電率(1GHz)及び誘電正接(1GHz)〕、ドリル加工性を前記の方法で測定・評価した。結果を第1表〜第4表す。
Examples 1-18, Comparative Examples 1-6
Solutions of bismaleimide derivatives obtained in Production Examples 1 to 8 (Tables 1 to 3) or bismaleimide derivatives listed in Table 4, or epoxy resins, curing accelerators, inorganic fillers, flame retardants And was mixed at a blending ratio (parts by mass) shown in Tables 1 to 4 using methyl ethyl ketone as a diluent solvent to obtain a uniform varnish having a resin content of 60% by mass.
Next, the varnish was impregnated and applied to an E glass cloth having a thickness of 0.2 mm and dried by heating at 160 ° C. for 10 minutes to produce a prepreg having a resin content of 55% by mass.
Further, four of these prepregs were stacked, 18 μm electrolytic copper foils were placed one above the other, and pressed at a pressure of 25 kg / cm 2 and a temperature of 230 ° C. for 120 minutes to produce a copper clad laminate.
Using the copper-clad laminate thus obtained, copper foil adhesion (copper foil peel strength), heat resistance [glass transition temperature (Tg), solder heat resistance and heat resistance with copper], flame retardancy, Dielectric characteristics [relative permittivity (1 GHz) and dielectric loss tangent (1 GHz)] and drill workability were measured and evaluated by the above methods. The results are shown in Tables 1 to 4.

Figure 0005589470
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なお、第1表〜第4表におけるエポキシ樹脂、硬化促進剤、無機充填剤、難燃剤およびビスマレイミド誘導体(比較例にて使用)は以下の通りである。
(1)ビスマレイミド誘導体
・ビス(4−マレイミドフェニル)メタン(ケイアイ化成社製)
・2,2'−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン(和歌山精化社製)
(2)エポキシ樹脂
・NC−3000−H:ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂
(日本化薬社製、商品名NC−3000H、エポキシ当量290)
・N−770:フェノールアラルキルエポキシ樹脂
(三井化学社製、商品名E−XL-3L、エポキシ当量235)
・YX−4000:ビフェニル型エポキシ樹脂
(ジャパンエポキシレジン社製、商品名YX−4000、エポキシ当量190)
The epoxy resins, curing accelerators, inorganic fillers, flame retardants and bismaleimide derivatives (used in comparative examples) in Tables 1 to 4 are as follows.
(1) Bismaleimide derivative / bis (4-maleimidophenyl) methane (manufactured by Keiai Kasei Co., Ltd.)
・ 2,2′-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane (Wakayama Seika Co., Ltd.)
(2) Epoxy resin / NC-3000-H: biphenylaralkyl epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name NC-3000H, epoxy equivalent 290)
N-770: phenol aralkyl epoxy resin (Mitsui Chemicals, trade name E-XL-3L, epoxy equivalent 235)
YX-4000: biphenyl type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name YX-4000, epoxy equivalent 190)

(3)硬化促進剤
・P−200(ジャパンエポキシレジン社製エポキシマスクイミダゾール:商品名)
・G−8009L(第一工業製薬社製イソシアネートマスクイミダゾール:商品名)
(3) Curing accelerator P-200 (Epoxy mask imidazole manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: trade name)
G-8809L (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. isocyanate mask imidazole: trade name)

(4)無機充填剤
・溶融シリカ(アドマテックス社製:商品名SO−25R)
(5)難燃剤
・AlOOH:ベーマイト型水酸化アルミニウム(河合石灰社製:商品名BMT−3L、熱分解温度:400℃)
・Mg(OH)2:水酸化マグネシウム(関東化学社製、熱分解温度:350℃)
・TPP:トリフェニルホスフェート(関東化学社製、リン含有量:9.6〜9.7質量%)
(4) Inorganic filler / fused silica (manufactured by Admatechs: trade name SO-25R)
(5) Flame retardant / AlOOH: Boehmite type aluminum hydroxide (manufactured by Kawai Lime Co., Ltd .: trade name BMT-3L, thermal decomposition temperature: 400 ° C.)
Mg (OH) 2 : Magnesium hydroxide (Kanto Chemical Co., Inc., thermal decomposition temperature: 350 ° C.)
TPP: Triphenyl phosphate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., phosphorus content: 9.6 to 9.7% by mass)

第1表〜第3表から明らかなように、本発明の実施例においては、銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、低誘電特性、ドリル加工性に優れているプレプリグ及び積層板が得られている。
これに対し、第4表から明らかなように、本発明のビスマレイミド誘導体を含有しない比較例1〜6においては、銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、低誘電特性、ドリル加工性において実施例より劣るものである。
As is apparent from Tables 1 to 3, in the examples of the present invention, copper foil adhesion, low thermal expansion, high glass transition temperature, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame resistance, low dielectric constant Pre-pregs and laminates excellent in properties and drillability are obtained.
On the other hand, as is clear from Table 4, in Comparative Examples 1 to 6 not containing the bismaleimide derivative of the present invention, copper foil adhesion, low thermal expansion, high glass transition temperature, solder heat resistance, with copper The heat resistance, flame retardancy, low dielectric properties, and drill workability are inferior to those of the examples.

本発明のビスマレイミド誘導体を用いることにより、特に顕著な銅箔接着性、低熱膨張性、高ガラス転移温度を有し、また低誘電特性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性に優れる熱硬化性樹脂組成物が得られ、プリプレグ及び積層板を提供することができ、多層プリント配線板として電子機器などに有利に使用される。   By using the bismaleimide derivative of the present invention, it has particularly remarkable copper foil adhesion, low thermal expansion, high glass transition temperature, low dielectric properties, solder heat resistance, heat resistance with copper, flame resistance, drill A thermosetting resin composition having excellent processability can be obtained, and a prepreg and a laminate can be provided, and it is advantageously used as an electronic device as a multilayer printed wiring board.

Claims (7)

下記一般式(I)で表されるビスマレイミド誘導体。
Figure 0005589470
(式中、Ar1は一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基であり、Ar2は一般式(I−5)又は(I−6)で示される残基であり、R1は酸性置換基である水酸基、カルボキシ基又はスルホン酸基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、xは1〜5の整数、yは0〜4の整数で、且つxとyの和は5であり、nは0又は正数である。)
Figure 0005589470
(式中、R3は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 0005589470
(式中、R4及びR5は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、A1は炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(式中、rは1〜10の整数である。)
Figure 0005589470
Figure 0005589470
(式中、R6及びR7は各々独立に炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、A2は単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、アルキリデン基、エーテル基、スルフォニル基、ケトン基、フルオレン基、又はフェニレンジオキシ基で表される残基である。)
Figure 0005589470
(式中、A3は、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、又はスルフォニル基である。)
A bismaleimide derivative represented by the following general formula (I).
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 1 is a residue represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4), and Ar 2 is represented by general formula (I-5) ) Or (I-6), R 1 represents a hydroxyl group, carboxy group or sulfonic acid group which is an acidic substituent, R 2 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms A group or a halogen atom, x is an integer of 1 to 5, y is an integer of 0 to 4, and the sum of x and y is 5, and n is 0 or a positive number.)
Figure 0005589470
(Wherein R 3 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and p is an integer of 0 to 4)
Figure 0005589470
(In the formula, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by an alkylene group of 1 to 5, an alkylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)
Figure 0005589470
(In the formula, r is an integer of 1 to 10.)
Figure 0005589470
Figure 0005589470
(Wherein, the aliphatic hydrocarbon group R 6 and R 7 are 1 to 5 carbon atoms each independently represents a methoxy group or a halogen atom, s, t are each independently an integer from 0 to 4, A 2 Is a residue represented by a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group, an ether group, a sulfonyl group, a ketone group, a fluorene group, or a phenylenedioxy group.
Figure 0005589470
(In the formula, A 3 is a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, or a sulfonyl group.)
下記式(II)で表される請求項1に記載のビスマレイミド誘導体。
Figure 0005589470
The bismaleimide derivative according to claim 1, which is represented by the following formula (II).
Figure 0005589470
一般式(III)で表される1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有する化合物(a)、一般式(IV)で表される1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する化合物(b)及び一般式(V)で表される酸性置換基を有するアミン化合物(c)を有機溶媒中で脱水縮合反応させることにより、一般式(VI)で表される末端に1級アミノ基を有する化合物(A)を製造し、次いで前記化合物(A)と、一般式(VII)で表される1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(d)を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより、前記一般式(I)で表されるビスマレイミド誘導体(B)を製造することを特徴とする請求項1又は2に記載のビスマレイミド誘導体の製造方法。
Figure 0005589470
(式中、Ar2は一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
Figure 0005589470
(式中、R1及びR2、x及びyは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(式中、Ar2、及びR1、R2、及びx、y、及びnは一般式(I)と同様である。)
Figure 0005589470
(式中、Ar1は一般式(I)と同様である。)
Compound (a) having at least two primary amino groups in one molecule represented by general formula (III), Compound having at least two aldehyde groups in one molecule represented by general formula (IV) By subjecting the amine compound (c) having an acidic substituent represented by (b) and the general formula (V) to a dehydration condensation reaction in an organic solvent, a primary amino group is formed at the terminal represented by the general formula (VI). The compound (A) having the formula (VII) and the maleimide compound (d) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the general formula (VII) and the organic solvent The bismaleimide derivative production method according to claim 1 or 2, wherein the bismaleimide derivative (B) represented by the general formula (I) is produced by Michael addition reaction therein.
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 is the same as in the general formula (I).)
Figure 0005589470
Figure 0005589470
(In the formula, R 1 and R 2 , x and y are the same as those in the general formula (I).)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 2 , R 1 , R 2 , x, y, and n are the same as in general formula (I).)
Figure 0005589470
(In the formula, Ar 1 is the same as in the general formula (I).)
請求項1又は2に記載のビスマレイミド誘導体を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。   A thermosetting resin composition comprising the bismaleimide derivative according to claim 1. 請求項1又は2に記載のビスマレイミド誘導体とエポキシ樹脂を含有する請求項4に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition of Claim 4 containing the bismaleimide derivative and epoxy resin of Claim 1 or 2. 請求項4又は5に記載の熱硬化性樹脂組成物を繊維シート状補強基材に含浸・塗工し、Bステージ化して得られたプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating and coating a fiber sheet-like reinforcing base material with the thermosetting resin composition according to claim 4 or 5 to form a B-stage. 請求項6に記載のプリプレグを用いて積層成形して得られた積層板。   A laminate obtained by laminate molding using the prepreg according to claim 6.
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