JP2017071689A - Resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed board and method for manufacturing multilayer printed board - Google Patents

Resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed board and method for manufacturing multilayer printed board Download PDF

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裕希 永井
Yuki Nagai
裕希 永井
水野 康之
Yasuyuki Mizuno
康之 水野
富男 福田
Tomio Fukuda
富男 福田
隆雄 谷川
Takao Tanigawa
隆雄 谷川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having excellent high frequency properties (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) and heat resistance, and a prepreg, a laminate and a multilayer printed board prepared therewith.SOLUTION: A resin composition comprises a polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in a molecule.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリフェニレンエーテル誘導体を含む樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a resin composition containing a polyphenylene ether derivative, a prepreg, a laminate, a multilayer printed wiring board, and a method for producing a multilayer printed wiring board.

携帯電話に代表される移動体通信機器や、その基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワークインフラ機器、あるいは大型コンピュータなどでは使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板には高周波化対応が必要となり、伝送損失の低減を可能とする高周波数帯での誘電特性(低誘電率及び低誘電正接;以下、高周波特性と称することがある。)に優れる基板材料が求められている。近年、このような高周波信号を扱うアプリケーションとして、上述した電子機器のほかに、ITS(Intelligent Transport Systems)分野(自動車、交通システム関連)及び室内の近距離通信分野でも高周波無線信号を扱う新規システムの実用化及び実用計画が進んでおり、今後、これらの機器に搭載するプリント配線板に対しても、低伝送損失の基板材料が更に要求されると予想される。   In mobile communication devices typified by mobile phones, network infrastructure devices such as base station devices, servers and routers, or large computers, etc., the speed and capacity of signals used are increasing year by year. As a result, printed circuit boards mounted on these electronic devices are required to support higher frequencies, and dielectric properties (low dielectric constant and low dielectric loss tangent; below) that enable transmission loss to be reduced. There is a demand for a substrate material that is excellent in high-frequency characteristics. In recent years, as an application for handling such high-frequency signals, in addition to the electronic devices described above, a new system that handles high-frequency wireless signals in the ITS (Intelligent Transport Systems) field (related to automobiles and transportation systems) and indoor short-range communication fields as well. Practical application and practical plans are progressing, and it is expected that a substrate material with low transmission loss will be further required for printed wiring boards mounted on these devices.

また、近年の環境問題から、鉛フリーはんだによる電子部品の実装及びハロゲンフリーによる難燃化が要求されるようになってきたため、プリント配線板用材料にはこれまでよりも高い耐熱性及び難燃性が必要とされている。   In addition, due to recent environmental problems, mounting of electronic components with lead-free solder and flame-retardant with halogen-free has been required, so printed circuit board materials have higher heat resistance and flame resistance than before. Sex is needed.

従来、低伝送損失が要求されるプリント配線板には、高周波特性に優れる耐熱性熱可塑性ポリマーとしてポリフェニレンエーテル(PPE)系樹脂が使用されてきた。例えば、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂とを併用する方法が提案されている。具体的には、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂とを含有する樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)、ポリフェニレンエーテルと、熱硬化性樹脂の中でも誘電率が低いシアネート樹脂とを含有する樹脂組成物(例えば、特許文献2参照)等が開示されている。   Conventionally, polyphenylene ether (PPE) resin has been used as a heat-resistant thermoplastic polymer having excellent high-frequency characteristics for printed wiring boards that require low transmission loss. For example, a method in which polyphenylene ether and a thermosetting resin are used in combination has been proposed. Specifically, a resin composition containing polyphenylene ether and an epoxy resin (see, for example, Patent Document 1), a resin composition containing polyphenylene ether and a cyanate resin having a low dielectric constant among thermosetting resins ( For example, see Patent Document 2).

しかしながら、上記特許文献1及び2に記載の樹脂組成物は、GHz領域での高周波特性、導体との接着性、低熱膨張係数、難燃性が総合的に不十分であったり、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂との相容性が低いことにより耐熱性が低下することがあった。   However, the resin compositions described in Patent Documents 1 and 2 are generally insufficient in high-frequency characteristics in the GHz region, adhesion to conductors, low thermal expansion coefficient, and flame retardancy, The heat resistance may decrease due to the low compatibility with the curable resin.

一方、本発明者らも、ポリフェニレンエーテル樹脂とポリブタジエン樹脂をベースとして、有機溶媒を含有する樹脂組成物の製造段階(Aステージ段階)でセミIPN(semi−Interpenetrating network)化することで、相容性、耐熱性、低熱膨張係数、導体との接着性等を向上できる樹脂組成物(例えば、特許文献3参照)を提案した。しかしながら、近年のプリント配線板用基板材料には高周波化対応に加えて、高密度化、高信頼性、環境配慮への適合性への要求から、導体との高接着性、低熱膨張係数、高ガラス転移温度、高難燃性等の継続的なニーズがある。   On the other hand, the present inventors have also made a semi-IPN (semi-interpenetrating network) compatible in the production stage (A stage stage) of a resin composition containing an organic solvent based on a polyphenylene ether resin and a polybutadiene resin. Proposed a resin composition (see, for example, Patent Document 3) that can improve the properties, heat resistance, low thermal expansion coefficient, adhesion to a conductor, and the like. However, in recent years, PCB materials for printed wiring boards have high adhesion to conductors, a low coefficient of thermal expansion, a high thermal resistance, due to demands for higher density, higher reliability, and environmental friendliness. There are ongoing needs such as glass transition temperature and high flame retardancy.

また、サーバー、ルーター等のネットワーク関連機器用途で使用されるプリント配線板用基板材料には、高密度化に伴い高多層化することも必要であり、高いリフロー耐熱性及びスルーホール信頼性が要求されている。さらに、高周波特性としては、より高い周波数帯での優れた誘電特性が要求されており、しかも、一般的に基板材料は周波数が高くなるほど誘電正接が高くなる傾向を示すが、従来の1〜5GHzでの誘電特性値ではなく、10GHz帯以上で優れた誘電特性(低誘電率及び低誘電正接)を発揮する必要性が高まってきている。   In addition, printed circuit board materials used in network-related equipment such as servers and routers must be multi-layered as the density increases, requiring high reflow heat resistance and through-hole reliability. Has been. Furthermore, as the high frequency characteristics, excellent dielectric characteristics in a higher frequency band are required, and generally, the substrate material tends to have a higher dielectric loss tangent as the frequency increases, but the conventional 1-5 GHz There is an increasing need for exhibiting excellent dielectric characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) in the 10 GHz band or higher, instead of the dielectric characteristic values in FIG.

特開昭58−069046号公報Japanese Patent Laid-Open No. 58-069046 特公昭61−018937号公報Japanese Patent Publication No. 61-018937 特開2008−95061号公報JP 2008-95061 A

本発明は、このような現状に鑑み、優れた高周波特性(低誘電率及び低誘電正接)、低熱膨張係数、難燃性及び高ガラス転移温度を有する樹脂組成物並びにそれを用いたプリプレグ、積層板及び多層プリント配線板を提供することを課題とする。   In view of the current situation, the present invention provides a resin composition having excellent high-frequency characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent), low thermal expansion coefficient, flame retardancy, and high glass transition temperature, and a prepreg and a laminate using the same. It is an object to provide a board and a multilayer printed wiring board.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の分子構造を有するポリフェニレンエーテル誘導体と特定の無機充填剤とを含有する樹脂組成物が、優れた高周波特性及び優れた耐熱性を備え、さらに導体との高接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張係数及び高難燃性を発現することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a resin composition containing a polyphenylene ether derivative having a specific molecular structure and a specific inorganic filler has excellent high-frequency characteristics and excellent It has been found that it has excellent heat resistance, high adhesion to a conductor, high glass transition temperature, low thermal expansion coefficient, and high flame retardancy, and has completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記[1]〜[12]に関するものである。
[1]分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)を含有する樹脂組成物。
[2]前記分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)が、下記一般式(I)で表される構造単位を有する、上記[1]に記載の樹脂組成物。
That is, the present invention relates to the following [1] to [12].
[1] A resin composition containing a polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule.
[2] The polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule has a structural unit represented by the following general formula (I), Resin composition.

Figure 2017071689
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(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。xは0〜4の整数である。)
[3]前記N−置換マレイミド構造含有基が下記一般式(Z)で表される基である、上記[2]に記載の樹脂組成物。
(In the formula, each R 1 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. X is an integer of 0 to 4.)
[3] The resin composition according to the above [2], wherein the N-substituted maleimide structure-containing group is a group represented by the following general formula (Z).

Figure 2017071689
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(式中、R2は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。yは0〜4の整数である。A1は、下記一般式(II)、(III)、(IV)又は(V)で表される基である。) (In the formula, each R 2 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. Y represents an integer of 0 to 4. A 1 represents the following general formula (II), ( III), a group represented by (IV) or (V).)

Figure 2017071689
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(式中、R3は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。pは0〜4の整数である。) (In the formula, each R 3 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. P is an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
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(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、単結合又は下記一般式(III−1)で表される基である。q及びrは各々独立に0〜4の整数である。) (In the formula, R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene having 2 to 5 carbon atoms. A group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, a single bond or a group represented by the following general formula (III-1): q and r are each independently an integer of 0 to 4. .)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボキシル基、ケト基又は単結合である。s及びtは各々独立に0〜4の整数である。) (In the formula, R 6 and R 7 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a keto group, or a single bond, and s and t are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、nは0〜10の整数である。) (In the formula, n is an integer of 0 to 10.)

Figure 2017071689
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(式中、R及びRは各々独立に、水素原子又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。uは1〜8の整数である。)
[4]前記一般式(Z)中のAが下記式(A−1)、(A−2)、及び(A−3)のいずれかで表される基である、上記[3]に記載の樹脂組成物。
(In the formula, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. U is an integer of 1 to 8.)
[4] In the above [3], A 1 in the general formula (Z) is a group represented by any of the following formulas (A-1), (A-2), and (A-3): The resin composition as described.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

[5]前記一般式(I)で表される構造単位が、下記式(I’)で表される構造単位である、上記[2]〜[4]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 [5] The resin composition according to any one of [2] to [4], wherein the structural unit represented by the general formula (I) is a structural unit represented by the following formula (I ′). object.

Figure 2017071689
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[6]更に有機過酸化物、イミダゾール系硬化促進剤、リン系硬化促進剤からなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化促進剤(B)を含む、上記[1]〜[5]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[7]更にエポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂及びマレイミド化合物から選ばれる少なくとも1種の熱硬化性樹脂(C)を含む、上記[1]〜[6]のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[8]熱硬化性樹脂(C)が、分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド構造含有基を有するマレイミド化合物(a)又は下記一般式(VI)で表されるアミノビスマレイミド化合物(c)を含む、上記[7]に記載の樹脂組成物。
[6] Any of the above-mentioned [1] to [5], further comprising at least one curing accelerator (B) selected from the group consisting of an organic peroxide, an imidazole curing accelerator, and a phosphorus curing accelerator. 2. The resin composition according to item 1.
[7] The resin composition according to any one of [1] to [6], further including at least one thermosetting resin (C) selected from an epoxy resin, a cyanate ester resin, and a maleimide compound.
[8] The thermosetting resin (C) is a maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide structure-containing groups in the molecule or an aminobismaleimide compound (c) represented by the following general formula (VI) ), The resin composition according to the above [7].

Figure 2017071689
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(式中、Aは前記一般式(Z)中のAの定義と同じであり、Aは下記一般式(VII)で表される基である。) (In the formula, A 4 is the same as the definition of A 1 in the general formula (Z), and A 5 is a group represented by the following general formula (VII).)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R17及びR18は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜5のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。Aは、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、フルオレニレン基、単結合、又は下記一般式(VII−1)もしくは(VII−2)で表される基である。q’及びr’は各々独立に0〜4の整数である。) (Wherein, R 17 and R 18 each independently, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, .A 8 is an alkoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, 1 to carbon atoms 5 alkylene group, alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbooxy group, keto group, fluorenylene group, single bond, or the following general formula (VII-1) or (VII-2) Q ′ and r ′ are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R19及びR20は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、m−又はp−フェニレンジイソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。s’及びt’は各々独立に0〜4の整数である。) (In the formula, R 19 and R 20 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 9 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, m- or a p-phenylenediisopropylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, and s ′ and t ′ are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
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(式中、R21は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。A10及びA11は各々独立に、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。wは0〜4の整数である。)
[9]上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを含むプリプレグ。
[10]上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物と金属箔とを有する積層板。
[11]上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物又は上記[10]に記載の積層板を有する多層プリント配線板。
[12]上記[9]に記載のプリプレグ又は[10]に記載の積層板を加熱加圧成形する工程を含む多層プリント配線板の製造方法。
(Wherein R 21 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 10 and A 11 are each independently an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, w is an integer of 0 to 4.)
[9] A prepreg comprising the resin composition according to any one of [1] to [8] above and a sheet-like fiber reinforced base material.
[10] A laminate having a cured product of the resin composition according to any one of [1] to [8] and a metal foil.
[11] A multilayer printed wiring board having the cured product of the resin composition according to any one of [1] to [8] or the laminated board according to [10].
[12] A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising a step of heat-pressing the prepreg according to [9] or the laminate according to [10].

本発明の樹脂組成物は、優れた高周波特性(低誘電率及び低誘電正接)、低熱膨張係数、難燃性及び高ガラス転移温度を有する。また、本発明の樹脂組成物が硬化促進剤(B)を含有する場合、更に優れた耐熱性を付加できる。したがって、該樹脂組成物を用いて得られるプリプレグ及び積層板は、多層プリント配線板等の電子部品用途に好適に使用することができる。   The resin composition of the present invention has excellent high frequency characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent), low thermal expansion coefficient, flame retardancy, and high glass transition temperature. Moreover, when the resin composition of this invention contains a hardening accelerator (B), the further outstanding heat resistance can be added. Therefore, the prepreg and laminated board obtained using this resin composition can be used suitably for electronic component uses, such as a multilayer printed wiring board.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書においてはX以上でありY以下である数値範囲(X、Yは実数)を「X〜Y」と表すことがある。例えば、「0.1〜2」という記載は0.1以上であり2以下である数値範囲を示し、当該数値範囲には0.1、0.34、1.03、2等が含まれる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In this specification, a numerical range that is greater than or equal to X and less than or equal to Y (X and Y are real numbers) may be expressed as “X to Y”. For example, the description “0.1-2” indicates a numerical range that is 0.1 or more and 2 or less, and the numerical range includes 0.1, 0.34, 1.03, 2, and the like.

[樹脂組成物]
本発明の一態様は、分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)[以下、単にポリフェニレンエーテル誘導体(A)又は(A)成分と略称することがある]を含有した樹脂組成物である。該樹脂組成物は、有機過酸化物、イミダゾール系硬化促進剤、リン系硬化促進剤からなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化促進剤(B)を含有することが好ましい。
[Resin composition]
One embodiment of the present invention is a polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule [hereinafter sometimes simply referred to as a polyphenylene ether derivative (A) or a component (A). ] The resin composition containing this. The resin composition preferably contains at least one curing accelerator (B) selected from the group consisting of an organic peroxide, an imidazole curing accelerator, and a phosphorus curing accelerator.

(ポリフェニレンエーテル誘導体(A))
ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体であれば、特に限定されることなく使用することができる。
(Polyphenylene ether derivative (A))
The polyphenylene ether derivative (A) can be used without particular limitation as long as it is a polyphenylene ether derivative having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule.

特に、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)が分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有することにより、優れた高周波特性(低誘電率、低誘電正接)、導体との高接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張係数及び高難燃性を有する樹脂組成物となる。ここで、本発明でいう熱膨張係数は、線膨張係数とも呼ばれる値である。また、N−置換マレイミド構造含有基はN−置換マレイミド基を含有していれば特に限定されない。   In particular, since the polyphenylene ether derivative (A) has at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule, it has excellent high-frequency characteristics (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), high adhesion to a conductor, high The resin composition has a glass transition temperature, a low thermal expansion coefficient, and high flame retardancy. Here, the thermal expansion coefficient referred to in the present invention is a value called a linear expansion coefficient. The N-substituted maleimide structure-containing group is not particularly limited as long as it contains an N-substituted maleimide group.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、上記と同様の観点から、分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基及び下記一般式(I)で表される構造単位を有するものであることが好ましい。   From the same viewpoint as described above, the polyphenylene ether derivative (A) preferably has at least one N-substituted maleimide structure-containing group and a structural unit represented by the following general formula (I) in the molecule. .

Figure 2017071689
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(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。xは0〜4の整数である。)
前記一般式(I)中のRが表す脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、メチル基であることが好ましい。また、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、ハロゲンフリーとする観点から、フッ素原子であることが好ましい。
(In the formula, each R 1 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. X is an integer of 0 to 4.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 in the general formula (I) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n -A pentyl group etc. are mentioned. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group. Moreover, as a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example. The halogen atom is preferably a fluorine atom from the viewpoint of halogen-free.

以上の中でも、Rとしては炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。 Among the above, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

xは0〜4の整数であり、0〜2の整数であることが好ましく、2であることが好ましい。なお、xが1又は2である場合、Rはベンゼン環上のオルト位(但し、酸素原子の置換位置を基準とする。)に置換していてもよい。また、xが2以上である場合、複数のR1同士は同一であっても異なっていてもよい。 x is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and preferably 2. When x is 1 or 2, R 1 may be substituted at the ortho position on the benzene ring (provided that the substitution position of the oxygen atom is a reference). When x is 2 or more, the plurality of R1s may be the same or different.

前記一般式(I)で表される構造単位としては、具体的には、下記一般式(I’)で表される構造単位であることが好ましい。   Specifically, the structural unit represented by the general formula (I) is preferably a structural unit represented by the following general formula (I ′).

Figure 2017071689
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ポリフェニレンエーテル誘導体(A)が有するN−置換マレイミド構造含有基としては、高周波特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、2つのマレイミド基の窒素原子同士が有機基を介して結合しているビスマレイミド構造を含有する基であることが好ましく、下記一般式(Z)で表される基であることが好ましい。   The N-substituted maleimide structure-containing group of the polyphenylene ether derivative (A) includes two maleimide groups from the viewpoints of high-frequency properties, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy. A group containing a bismaleimide structure in which nitrogen atoms are bonded via an organic group is preferable, and a group represented by the following general formula (Z) is preferable.

Figure 2017071689
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(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。yは0〜4の整数である。Aは、下記一般式(II)、(III)、(IV)又は(V)で表される基である。) (In the formula, each R 2 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. Y is an integer of 0 to 4. A 1 represents the following general formula (II), ( III), a group represented by (IV) or (V).)

が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rの場合と同様に説明される。 The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 2 are explained in the same manner as in R 1 .

yは0〜4の整数であり、0〜2の整数であることが好ましく、0であることが好ましい。yが2以上の整数である場合、複数のR同士は同一であっても異なっていてもよい。 y is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and preferably 0. When y is an integer of 2 or more, the plurality of R 2 may be the same or different.

が表す、一般式(II)、(III)、(IV)又は(V)で表される基は、以下のとおりである。 A 1 represents, formula (II), the group represented by (III), (IV) or (V) are as follows.

Figure 2017071689
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(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。pは0〜4の整数である。)
が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、R1の場合と同様に説明される。
(In the formula, each R 3 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. P is an integer of 0 to 4.)
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 3 are explained in the same manner as in R 1.

pは0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることが好ましく、0であることが好ましい。pが2以上の整数である場合、複数のR同士は同一であっても異なっていてもよい。 p is an integer of 0 to 4, and is preferably an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, and preferably 0 from the viewpoint of availability. When p is an integer of 2 or more, the plurality of R 3 may be the same or different.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、単結合又は下記一般式(III−1)で表される基である。q及びrは各々独立に0〜4の整数である。)
及びRが表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rの場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、メチル基、エチル基であることが好ましく、エチル基であることが好ましい。
(In the formula, R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene having 2 to 5 carbon atoms. A group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, a single bond or a group represented by the following general formula (III-1): q and r are each independently an integer of 0 to 4. .)
Aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 4 and R 5, examples of the halogen atom include the same ones as for R 1. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably an ethyl group.

が表す炭素数1〜5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2−ジメチレン基、1,3−トリメチレン基、1,4−テトラメチレン基、1,5−ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、高周波特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、炭素数1〜3のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることが好ましい。 Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by A 2 include a methylene group, a 1,2-dimethylene group, a 1,3-trimethylene group, a 1,4-tetramethylene group, and a 1,5-pentamethylene group. Is mentioned. The alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of high-frequency characteristics, adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy, and is a methylene group. Preferably there is.

が表す炭素数2〜5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、高周波特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、イソプロピリデン基であることが好ましい。 Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by A 2 include an ethylidene group, a propylidene group, an isopropylidene group, a butylidene group, an isobutylidene group, a pentylidene group, and an isopentylidene group. Among these, an isopropylidene group is preferable from the viewpoints of high-frequency characteristics, adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy.

としては、上記選択肢の中でも、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基であることが好ましい。 A 2 is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms among the above options.

q及びrは各々独立に0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であることが好ましく、0又は2であることが好ましい。q又はrが2以上の整数である場合、複数のR同士又はR同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 q and r are each independently an integer of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, and preferably 0 or 2. When q or r is an integer greater than or equal to 2, several R < 4 > or R < 5 > may be same or different, respectively.

なお、Aが表す一般式(III−1)で表される基は以下のとおりである。 Incidentally, the group represented by the general formula represented by A 2 (III-1) are as follows.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。s及びtは各々独立に0〜4の整数である。)
及びRが表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、R及びRの場合と同様に説明される。
(In the formula, R 6 and R 7 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, and s and t are each independently an integer of 0 to 4.)
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 6 and R 7 are the same as those for R 4 and R 5 .

が表す炭素数1〜5のアルキレン基としては、Aが表す炭素数1〜5のアルキレン基と同じものが挙げられる。 As the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by A 3, include those similar to the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by A 2.

としては、上記選択肢の中でも、炭素数2〜5のアルキリデン基を選択してもよい。 As A 3 , among the above options, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms may be selected.

s及びtは0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることが好ましく、0であることが好ましい。s又はtが2以上の整数である場合、複数のR同士又はR同士は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 s and t are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, preferably 0 or 1, and preferably 0. When s or t is an integer of 2 or more, a plurality of R 6 s or R 7 s may be the same or different.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、nは0〜10の整数である。)
nは、入手容易性の観点から、0〜5であることが好ましく、0〜3であることが好ましい。
(In the formula, n is an integer of 0 to 10.)
From the viewpoint of availability, n is preferably 0 to 5, and preferably 0 to 3.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R及びRは各々独立に、水素原子又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。uは1〜8の整数である。)
及びRが表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Rの場合と同様に説明される。
(In the formula, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. U is an integer of 1 to 8.)
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 8 and R 9 are described in the same manner as in R 1 .

uは1〜8の整数であり、1〜3の整数であることが好ましく、1であることが好ましい。   u is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 3, and preferably 1.

一般式(Z)で表される基の中のAとしては、高周波特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点から、下記式(A−1)、(A−2)、及び(A−3)のいずれかで表される基であることが好ましい。 A 1 in the group represented by the general formula (Z) is represented by the following formula (A-) from the viewpoint of high-frequency characteristics, adhesion to a conductor, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy. It is preferable that it is group represented by either 1), (A-2), and (A-3).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、下記一般式(A’)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましい。   The polyphenylene ether derivative (A) is preferably a polyphenylene ether derivative represented by the following general formula (A ′).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、A、R、R、x及びyは前記定義のとおりである。mは1以上の整数である。)
mは、1〜300の整数であることが好ましく、10〜300の整数であることが好ましく、30〜200の整数であることが好ましく、50〜150の整数であることが好ましい。
(In the formula, A 1 , R 1 , R 2 , x and y are as defined above. M is an integer of 1 or more.)
m is preferably an integer of 1 to 300, preferably an integer of 10 to 300, preferably an integer of 30 to 200, and preferably an integer of 50 to 150.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、下記式(A’−1)〜(A’−3)のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましい。   The polyphenylene ether derivative (A) is preferably a polyphenylene ether derivative represented by any one of the following formulas (A′-1) to (A′-3).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、mは前記一般式(A’)中のmと同じである。) (In the formula, m is the same as m in the general formula (A ′).)

原材料が安価であるという観点から、上記式(A’−1)のポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましく、誘電特性に優れ、低吸水性であるという観点から、上記式(A’−2)のポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましく、導体との接着性及び機械特性(伸び、破断強度等)に優れるという観点から、上記式(A’−3)のポリフェニレンエーテル誘導体であることが好ましい。したがって、目的とする特性に合わせて、上記式(A’−1)〜(A’−3)のいずれかで表されるポリフェニレンエーテル誘導体の1種を単独で用いる又は2種以上を併用することができる。   From the viewpoint that the raw material is inexpensive, the polyphenylene ether derivative of the above formula (A′-1) is preferable, and from the viewpoint of excellent dielectric properties and low water absorption, the above formula (A′-2) A polyphenylene ether derivative is preferred, and a polyphenylene ether derivative of the above formula (A′-3) is preferred from the viewpoint of excellent adhesion to a conductor and mechanical properties (elongation, breaking strength, etc.). Accordingly, one polyphenylene ether derivative represented by any one of the above formulas (A′-1) to (A′-3) is used alone or in combination of two or more in accordance with the intended characteristics. Can do.

本発明のポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量としては、5000〜12000であることが好ましく、7000〜12000であることがより好ましく、7000〜10000であることが更に好ましい。数平均分子量が5000以上の場合、本発明の樹脂組成物、それを用いたプリプレグ及び積層板において、より良好なガラス転移温度が得られる傾向にある。また、数平均分子量が、12000以下の場合、本発明の樹脂組成物を積層板に用いた際に、より良好な成形性が得られる傾向にある。   The number average molecular weight of the polyphenylene ether derivative (A) of the present invention is preferably 5000 to 12000, more preferably 7000 to 12000, and still more preferably 7000 to 10,000. When the number average molecular weight is 5000 or more, a better glass transition temperature tends to be obtained in the resin composition of the present invention, prepregs and laminates using the resin composition. Moreover, when a number average molecular weight is 12000 or less, when the resin composition of this invention is used for a laminated board, it exists in the tendency for a more favorable moldability to be obtained.

なお、本明細書において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した値であり、より詳細には実施例に記載の数平均分子量の測定方法により求めた値である。   In the present specification, the number average molecular weight is a value converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC), and more specifically, measurement of the number average molecular weight described in Examples. The value obtained by the method.

(ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造方法)
ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、例えば、以下の製造方法によって得ることができる。
(Production method of polyphenylene ether derivative (A))
The polyphenylene ether derivative (A) can be obtained, for example, by the following production method.

まず、下記一般式(VIII)で表されるアミノフェノール化合物[以下、アミノフェノール化合物(VIII)と称する]と、例えば、数平均分子量15000〜25000のポリフェニレンエーテルを有機溶媒中で、公知の再分配反応をさせることにより、ポリフェニレンエーテルの低分子量化を伴いながら、分子中に第一級アミノ基を有するポリフェニレンエーテル化合物(A’’)(以下、単に、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)ともいう)を製造し、次いで、前記ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)と一般式(IX)で表されるビスマレイミド化合物[以下、ビスマレイミド化合物(IX)と称する。]をマイケル付加反応させることによって、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造することができる。   First, a known redistribution of an aminophenol compound represented by the following general formula (VIII) [hereinafter referred to as aminophenol compound (VIII)] and, for example, polyphenylene ether having a number average molecular weight of 15,000 to 25000 in an organic solvent. By reacting, the polyphenylene ether compound (A ″) having a primary amino group in the molecule while reducing the molecular weight of the polyphenylene ether (hereinafter, also simply referred to as polyphenylene ether compound (A ″)). Next, the polyphenylene ether compound (A ″) and the bismaleimide compound represented by the general formula (IX) [hereinafter referred to as bismaleimide compound (IX)]. ] Can be produced by a Michael addition reaction to produce a polyphenylene ether derivative (A).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R及びyは、前記一般式(Z)中のものと同じである。) (In the formula, R 2 and y are the same as those in the general formula (Z).)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、Aは、前記一般式(Z)中のものと同じである。) (In the formula, A 1 is the same as that in the general formula (Z).)

アミノフェノール化合物(VIII)としては、例えば、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール等が挙げられる。これらの中でも、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)を製造する際の反応収率、並びに樹脂組成物、プリプレグ及び積層板とした際の耐熱性の観点から、m−アミノフェノール、p−アミノフェノールであることが好ましく、p−アミノフェノールであることが好ましい。   Examples of the aminophenol compound (VIII) include o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, and the like. Among these, m-aminophenol and p-aminophenol are used from the viewpoint of the reaction yield when producing the polyphenylene ether compound (A ″) and the heat resistance when the resin composition, prepreg and laminate are used. It is preferable that it is p-aminophenol.

ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の分子量は、アミノフェノール化合物(VIII)の使用量によって制御でき、アミノフェノール化合物(VIII)の使用量が多いほど、得られるポリフェニレンエーテル化合物(A’’)は低分子量化される。つまり、最終的に製造されるポリフェニレンエーテル誘導体(A)の数平均分子量が好適な範囲となるようにアミノフェノール化合物(VIII)の使用量を適宜調整すればよい。   The molecular weight of the polyphenylene ether compound (A ″) can be controlled by the amount of aminophenol compound (VIII) used. The greater the amount of aminophenol compound (VIII) used, the lower the polyphenylene ether compound (A ″) obtained. Molecular weight. That is, the use amount of the aminophenol compound (VIII) may be appropriately adjusted so that the number average molecular weight of the finally produced polyphenylene ether derivative (A) falls within a suitable range.

アミノフェノール化合物(VIII)の配合量としては、特に制限されるものではないが、例えば、アミノフェノール化合物(VIII)と反応させる前記ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が15000〜25000であれば、該ポリフェニレンエーテル100質量部に対して0.5〜6質量部の範囲で使用することにより、数平均分子量が5000〜12000であるポリフェニレンエーテル誘導体(A)が得られる。   The compounding amount of the aminophenol compound (VIII) is not particularly limited. For example, when the number average molecular weight of the polyphenylene ether to be reacted with the aminophenol compound (VIII) is 15,000 to 25000, the polyphenylene ether By using it in the range of 0.5 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass, a polyphenylene ether derivative (A) having a number average molecular weight of 5000 to 12000 is obtained.

ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の製造工程で使用される有機溶媒は特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、ブタノール、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の含窒素化合物などが挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、溶解性の観点から、トルエン、キシレン、メシチレンであることが好ましい。   The organic solvent used in the production process of the polyphenylene ether compound (A ″) is not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol, butanol, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone , Ketones such as methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene; esters such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, butoxyethyl acetate and ethyl acetate; N, N-dimethylformamide, N, N -Nitrogen-containing compounds such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, toluene, xylene, and mesitylene are preferable from the viewpoint of solubility.

また、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の製造工程においては、必要に応じて反応触媒を使用することができる。この反応触媒としては、公知の再分配反応時における反応触媒を適用できる。例えば、再現性良く安定した数平均分子量のポリフェニレンエーテル化合物(A’’)を得られるという観点から、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート等の有機過酸化物とナフテン酸マンガン等のカルボン酸金属塩とを併用してもよい。また、反応触媒の使用量は特に制限はない。例えば、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)を製造する際の反応速度及びゲル化抑制の観点から、アミノフェノール化合物(VIII)と反応させる前記ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、有機過酸化物を0.5〜5質量部、カルボン酸金属塩を0.05〜0.5質量部としてもよい。   In the production process of the polyphenylene ether compound (A ″), a reaction catalyst can be used as necessary. As this reaction catalyst, a known reaction catalyst in a redistribution reaction can be applied. For example, from the viewpoint of obtaining a polyphenylene ether compound (A ″) having a stable number average molecular weight with good reproducibility, an organic peroxide such as t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and a metal carboxylate such as manganese naphthenate May be used in combination. The amount of reaction catalyst used is not particularly limited. For example, from the viewpoint of reaction rate and gelation suppression when producing the polyphenylene ether compound (A ″), the organic peroxide is 0 with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether to be reacted with the aminophenol compound (VIII). It is good also considering 0.05-5 mass parts and 0.05-0.5 mass parts of carboxylic acid metal salt.

前記アミノフェノール化合物(VIII)、前記数平均分子量15000〜25000のポリフェニレンエーテル、有機溶媒及び必要により反応触媒を反応器に所定量仕込み、加熱、保温、攪拌しながら反応させることによりポリフェニレンエーテル化合物(A’’)が得られる。この工程での反応温度及び反応時間は、公知の再分配反応時における反応条件を適用できる。   A predetermined amount of the aminophenol compound (VIII), the polyphenylene ether having a number average molecular weight of 15,000 to 25,000, an organic solvent, and, if necessary, a reaction catalyst is charged into a reactor, and the reaction is carried out while heating, keeping warm, and stirring. '') Is obtained. For the reaction temperature and reaction time in this step, the reaction conditions for known redistribution reactions can be applied.

作業性及びゲル化抑制の観点から、及び所望の数平均分子量の(A)成分を得るためのポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の分子量を制御できる等の観点から、例えば、反応温度70〜110℃、反応時間1〜8時間で反応を行ってもよい。   From the viewpoint of workability and suppression of gelation, and from the viewpoint of controlling the molecular weight of the polyphenylene ether compound (A ″) for obtaining the component (A) having a desired number average molecular weight, for example, the reaction temperature is 70 to 110. You may react by (degreeC) and reaction time 1-8 hours.

以上のようにして製造されたポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の溶液は、そのまま連続的に次工程のポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造工程に供給されてもよい。この際、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の溶液を冷却してもよく、又は次工程の反応温度に調整してもよい。また、この溶液は後述のように必要に応じて濃縮して有機溶媒の一部を除去しても、有機溶媒を追加して希釈してもよい。   The solution of the polyphenylene ether compound (A ″) produced as described above may be continuously supplied to the production process for the polyphenylene ether derivative (A) in the next step as it is. At this time, the solution of the polyphenylene ether compound (A ″) may be cooled, or may be adjusted to the reaction temperature in the next step. Further, as described later, this solution may be concentrated as necessary to remove a part of the organic solvent, or may be diluted by adding an organic solvent.

前記ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造する際に用いられるビスマレイミド化合物(IX)としては、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ケトン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビフェニル、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Examples of the bismaleimide compound (IX) used in producing the polyphenylene ether derivative (A) include bis (4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, bis (4-maleimidophenyl) ether, bis ( 4-maleimidophenyl) sulfone, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, m-phenylenebismaleimide, 2, 2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ketone, 2,2-bis (4 -(4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, Scan (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) sulfone, 4,4'-bis (3-maleimido phenoxy) biphenyl, 1,6-bismaleimide - (2,2,4-trimethyl) hexane and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、反応率が高く、より高耐熱性化する観点から、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンを選択してもよい。   Among these, from the viewpoint of high reaction rate and higher heat resistance, bis (4-maleimidophenyl) methane, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane may be selected.

前記式(A’−1)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、安価であるという観点から、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンを用いてもよい。   Bis (4-maleimidophenyl) methane may be used from the viewpoint that a polyphenylene ether derivative including the polyphenylene ether derivative represented by the formula (A′-1) is obtained and is inexpensive.

前記式(A’−2)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、誘電特性に優れ、低吸水性であるという観点から、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミドを用いてもよい。   From the viewpoint of obtaining a polyphenylene ether derivative containing the polyphenylene ether derivative represented by the formula (A′-2), having excellent dielectric properties and low water absorption, 3,3′-dimethyl-5,5′- Diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide may be used.

前記式(A’−3)で表されるポリフェニレンエーテル誘導体を含むポリフェニレンエーテル誘導体が得られ、導体との高接着性及び機械特性(伸び、破断強度等)に優れるという観点から、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンを用いてもよい。   From the viewpoint that a polyphenylene ether derivative containing the polyphenylene ether derivative represented by the formula (A′-3) is obtained and excellent in high adhesion to a conductor and mechanical properties (elongation, breaking strength, etc.), 2,2- Bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane may be used.

ビスマレイミド化合物(IX)の使用量は、アミノフェノール化合物(VIII)の使用量によって決定される。すなわち、該アミノフェノール化合物(VIII)の−NH基当量(Ta1)と、ビスマレイミド化合物(IX)のマレイミド基当量(Tb1)との当量比(Tb1/Ta1)を2〜6の範囲としてもよく、2〜4の範囲で配合してもよい。上記の当量比の範囲内でビスマレイミド化合物(IX)を使用することにより、本発明の樹脂組成物、プリプレグ及び積層板において、より優れた耐熱性、高ガラス転移温度及び高難燃性が得られる傾向にある。 The amount of bismaleimide compound (IX) used is determined by the amount of aminophenol compound (VIII) used. That is, even if the equivalent ratio (Tb1 / Ta1) of the —NH 2 group equivalent (Ta1) of the aminophenol compound (VIII) to the maleimide group equivalent (Tb1) of the bismaleimide compound (IX) is in the range of 2 to 6. You may mix | blend in the range of 2-4. By using the bismaleimide compound (IX) within the above equivalent ratio range, better heat resistance, high glass transition temperature and high flame retardancy can be obtained in the resin composition, prepreg and laminate of the present invention. It tends to be.

ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造する際のマイケル付加反応には、必要に応じて反応触媒を使用することもできる。使用し得る反応触媒としては、特に限定されないが、例えば、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系触媒などが挙げられる。これらは単独で用いても、2種類以上を混合して用いてもよい。また反応触媒の配合量は特に限定されないが、例えば、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)100質量部に対して、0.01〜5質量部であることが好ましい。   In the Michael addition reaction for producing the polyphenylene ether derivative (A), a reaction catalyst can be used as necessary. Although it does not specifically limit as a reaction catalyst which can be used, For example, acidic catalysts, such as p-toluenesulfonic acid; Amines, such as a triethylamine, a pyridine, and a tributylamine; Imidazole compounds, such as methylimidazole and phenylimidazole; Triphenylphosphine, etc. Examples thereof include phosphorus-based catalysts. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the reaction catalyst is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether compound (A ″), for example.

上記ビスマレイミド化合物(IX)及び必要により反応触媒等を、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)溶液中に所定量仕込み、マイケル付加反応させることによりポリフェニレンエーテル誘導体(A)が得られる。この工程は加熱、保温、攪拌しながら行うことが好ましく、反応条件としては、作業性及びゲル化抑制の観点から、例えば、反応温度は50〜160℃、反応時間は1〜10時間の範囲であることが好ましい。また、この工程では前述のように有機溶媒を追加又は濃縮して反応濃度(固形分濃度)、溶液粘度を調整することができる。追加で使用される有機溶媒としては、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の製造工程で例示した有機溶媒が適用でき、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。またこれらの中でも、溶解性の観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドを選択してもよい。   A predetermined amount of the bismaleimide compound (IX) and, if necessary, a reaction catalyst are charged into a polyphenylene ether compound (A ″) solution and subjected to a Michael addition reaction to obtain a polyphenylene ether derivative (A). This step is preferably performed while heating, keeping warm, and stirring. As reaction conditions, from the viewpoint of workability and gelation suppression, for example, the reaction temperature is 50 to 160 ° C., and the reaction time is in the range of 1 to 10 hours. Preferably there is. In this step, as described above, the organic solvent can be added or concentrated to adjust the reaction concentration (solid content concentration) and the solution viscosity. As the organic solvent used additionally, the organic solvent exemplified in the production process of the polyphenylene ether compound (A ″) can be applied, and these may be used alone or in combination of two or more. Good. Among these, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide may be selected from the viewpoint of solubility.

また、前記ポリフェニレンエーテル誘導体(A)及びポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の製造工程における反応濃度(固形分濃度)は、特に制限はないが、例えば、前記いずれの製造工程も10〜60質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることが好ましい。反応濃度が10質量%以上の場合、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面でより有利となる傾向にある。また、反応温度が60質量%以下の場合、より良好な溶解性が得られる傾向にある。また、溶液粘度が低く攪拌効率がよく、ゲル化することがより少なくなる傾向にある。   Moreover, the reaction concentration (solid content concentration) in the production process of the polyphenylene ether derivative (A) and the polyphenylene ether compound (A ″) is not particularly limited, but for example, any of the production processes described above is 10 to 60% by mass. It is preferable that it is 20-50 mass%. When the reaction concentration is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow and tends to be more advantageous in terms of production cost. Further, when the reaction temperature is 60% by mass or less, better solubility tends to be obtained. In addition, the solution viscosity is low, the stirring efficiency is good, and gelation tends to be less.

なお、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造後は、反応器から取り出す際の作業性の観点並びにポリフェニレンエーテル誘導体(A)に種々の熱硬化性樹脂等を加えて、本発明の樹脂組成物とする際の使用状況に適した溶液粘度及び溶液濃度(例えば、プリプレグの製造に適した溶液粘度、溶液濃度等)とする観点から、適宜、溶液中の有機溶媒の一部又は全部を除去して濃縮してもよく、有機溶媒を追加して希釈してもよい。追加する際の有機溶媒は特に制限はなく、上述した1種類以上の有機溶媒を適用できる。   In addition, after manufacturing a polyphenylene ether derivative (A), a viewpoint of workability | operativity at the time of taking out from a reactor and various thermosetting resins etc. are added to a polyphenylene ether derivative (A), and it is set as the resin composition of this invention. From the viewpoint of setting the solution viscosity and solution concentration suitable for the actual use situation (for example, solution viscosity and solution concentration suitable for prepreg production), a part or all of the organic solvent in the solution is appropriately removed and concentrated. Alternatively, it may be diluted by adding an organic solvent. There is no restriction | limiting in particular in the organic solvent at the time of adding, One or more types of organic solvents mentioned above are applicable.

前記の製造工程によって得られたポリフェニレンエーテル化合物(A’’)及びポリフェニレンエーテル誘導体(A)の生成は、それぞれの工程終了後に少量の試料を取り出し、GPC測定とIR測定により確認できる。   The formation of the polyphenylene ether compound (A ″) and the polyphenylene ether derivative (A) obtained by the above production process can be confirmed by GPC measurement and IR measurement after taking out a small amount of sample after completion of each process.

まず、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)は、GPC測定から原料のポリフェニレンエーテルよりも分子量が低下し、かつ原材料のアミノフェノール化合物(VIII)のピークが消失していること、またIR測定から3300〜3500cm−1の一級アミノ基の出現により所望のポリフェニレンエーテル化合物(A’’)が製造されていることを確認できる。また、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)は、再沈殿により精製後、IR測定から3300〜3500cm−1の一級アミノ基のピークの消失と、1700〜1730cm−1のマレイミドのカルボニル基のピークの出現を確認することにより、所望のポリフェニレンエーテル誘導体(A)が製造されていることを確認できる。 First, the polyphenylene ether compound (A ″) has a molecular weight lower than that of the starting polyphenylene ether from the GPC measurement, and the peak of the raw material aminophenol compound (VIII) has disappeared. It can be confirmed that the desired polyphenylene ether compound (A ″) is produced by the appearance of a primary amino group of 3500 cm −1 . In addition, after purifying by reprecipitation, the polyphenylene ether derivative (A) was confirmed to disappear from the peak of the primary amino group of 3300 to 3500 cm −1 and the appearance of the peak of the carbonyl group of maleimide at 1700 to 1730 cm −1 from IR measurement. By doing this, it can be confirmed that the desired polyphenylene ether derivative (A) is produced.

本発明の樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル化合物(A’’)と後述する(C)成分とを含有させた樹脂組成物よりも、導体との接着性、熱膨張係数、難燃性、加工性(ドリル加工、切削)により優れる傾向にある。   The resin composition of the present invention is more adhesive to conductors, thermal expansion coefficient, flame retardancy, workability than the resin composition containing the polyphenylene ether compound (A ″) and the component (C) described later. It tends to be more excellent (drilling, cutting).

本発明の樹脂組成物は、上述の(A)成分の他に、有機過酸化物、イミダゾール系硬化促進剤、リン系硬化促進剤からなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化促進剤(B)を含有することが好ましい。(B)成分を含有させることで耐熱性等をより一層向上させることができる。   The resin composition of the present invention comprises at least one curing accelerator (B) selected from the group consisting of an organic peroxide, an imidazole curing accelerator, and a phosphorus curing accelerator in addition to the component (A) described above. It is preferable to contain. By including the component (B), heat resistance and the like can be further improved.

有機過酸化物としては特に限定されないが、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルアセトアセテートパーオキサイド、アセチルアセトパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン、アセチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、m−トルイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチレンパーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルペルオキシ)−バレレート、p−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼン、ハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クミンハイドロパーオキサイド、ジ(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)へキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ビス(1−フェニル−1−メチルエチル)ペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。   The organic peroxide is not particularly limited. For example, methyl ethyl ketone peroxide, methyl acetoacetate peroxide, acetylacetoperoxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (t- Butylperoxy) butane, t-butyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxide) Oxy) hexyne, acetyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, m-toluyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, t-butylene peroxybenzoate, n-butyl-4,4-di- (t-butylperoxy) -valerate, p-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene, Hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumin hydroperoxide, di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2, 5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide, bis (1-phenyl-1- Methylethyl) peroxide, α, α′-bis ( - butylperoxy) diisopropylbenzene, and the like.

耐熱性を更に向上させる観点から、有機過酸化物として、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、ビス(1−フェニル−1−メチルエチル)ペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンのいずれかを含有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving heat resistance, organic peroxides include t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, bis (1-phenyl-1-methylethyl) peroxide. , Diisopropylbenzene hydroperoxide, or α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene is preferably contained.

保存安定性及び塗工性の観点から、有機化酸化物は1分間半減期温度が140℃以上のものが好ましく、160℃以上のものがより好ましい。1分間半減期温度は、ベンゼン等のラジカルに対して不活性な溶媒で、0.1mol/Lの有機過酸化物溶液を調製し、窒素置換をしたガラス容器中で熱分解させて活性酸素量が1分間で半分になる温度を測定することで求められる。 From the viewpoint of storage stability and coatability, the organic oxide preferably has a 1 minute half-life temperature of 140 ° C. or higher, more preferably 160 ° C. or higher. The half-life temperature for 1 minute is a solvent inert to radicals such as benzene, and a 0.1 mol / L organic peroxide solution is prepared and thermally decomposed in a glass container substituted with nitrogen to obtain the amount of active oxygen. Is obtained by measuring the temperature at which the halving is halved in 1 minute.

イミダゾール系硬化促進剤としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4、5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−ヘプタデシルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾール、2、4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等が挙げられる。 Examples of the imidazole curing accelerator include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2 -Heptadecylimidazole, 4,5-diphenylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2-undecylimidazoline, 2-heptadecylimidazoline, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl- Examples include 4-methylimidazole, 2-ethylimidazoline, 2-isopropylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline.

ワニスの保存安定性の観点から、イミダゾール系硬化促進剤はマスク化剤によりマスクされたマスクイミダゾールであることが好ましい。マスク化剤としては、アクリルニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジンイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。   From the viewpoint of storage stability of the varnish, the imidazole curing accelerator is preferably masked imidazole masked with a masking agent. Examples of the masking agent include acrylonitrile, phenylene diisocyanate, toluidine isocyanate, naphthalene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, melamine acrylate, hexamethylene diisocyanate and the like.

リン系硬化促進剤としては、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−アルキルアリールアミン、ピペラジン、ジアリルアミン、チアゾリン、チオモルホリン等の第二級アミン類;ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2、4、6−トリス(ジアミノメチル)フェノール等の第三級アミン類;テトラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムフルオライド、塩化ベンザルコニウム、ベンジルジ(2−ヒドロキシエチル)エチルアンモニウムクロライド、デシルジ(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムブロマイド等の第四級アンモニウム塩などが挙げられる。   Examples of phosphorus curing accelerators include secondary amines such as morpholine, piperidine, pyrrolidine, dimethylamine, diethylamine, dicyclohexylamine, N-alkylarylamine, piperazine, diallylamine, thiazoline, thiomorpholine; benzyldimethylamine, 2- Tertiary amines such as (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol; tetrabutylammonium iodide, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium fluoride, chloride Quaternary ammonium such as benzalkonium, benzyldi (2-hydroxyethyl) ethylammonium chloride, decyldi (2-hydroxyethyl) methylammonium bromide And the like.

(B)成分は単独で用いても二種類以上を組み合わせて用いてもよいが、耐熱性、ガラス転移温度及び熱膨張係数の観点から、(B)成分としてイミダゾール系硬化剤と有機過酸化物とを含有することがより好ましい。上述した観点から、1分間半減期温度が140℃以上の有機化酸化物及びマスクイミダゾールを含有することがより好ましい。   Component (B) may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of heat resistance, glass transition temperature and thermal expansion coefficient, imidazole curing agent and organic peroxide are used as component (B). It is more preferable to contain. From the viewpoint described above, it is more preferable to contain an organic oxide having a 1 minute half-life temperature of 140 ° C. or higher and a mask imidazole.

(B)成分の含有割合は特に制限されるものではないが、例えば、本発明の(A)成分100質量部(ただし、後述する(C)成分を使用する場合は(A)成分及び(C)成分の総和100質量部)に対して0.01〜12質量部であることが好ましく、0.01〜10質量部であることが好ましい。このような範囲で(B)成分を用いると、より良好な耐熱性及び保存安定性が得られる傾向にある。   The content ratio of component (B) is not particularly limited. For example, 100 parts by mass of component (A) of the present invention (however, when component (C) described later is used, component (A) and component (C) ) A total of 100 parts by mass of components) is preferably 0.01 to 12 parts by mass, and preferably 0.01 to 10 parts by mass. When the component (B) is used in such a range, better heat resistance and storage stability tend to be obtained.

(熱硬化性樹脂(C))
本発明の樹脂組成物は、(C)成分として、エポキシ樹脂、シアネート樹脂及びマレイミド化合物から選択される少なくとも1種の熱硬化性樹脂をさらに含んでいてもよい。なお、該マレイミド化合物は、前記ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を包含しない。
(Thermosetting resin (C))
The resin composition of the present invention may further contain at least one thermosetting resin selected from an epoxy resin, a cyanate resin, and a maleimide compound as the component (C). The maleimide compound does not include the polyphenylene ether derivative (A).

エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であることが好ましい。ここで、エポキシ樹脂は、グリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂、グリシジルアミンタイプのエポキシ樹脂、グリシジルエステルタイプのエポキシ樹脂等に分類される。これらの中でも、グリシジルエーテルタイプのエポキシ樹脂を選択してもよい。   The epoxy resin is preferably an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. Here, the epoxy resin is classified into a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, and the like. Among these, a glycidyl ether type epoxy resin may be selected.

エポキシ樹脂は、主骨格の違いによっても種々のエポキシ樹脂に分類され、上記それぞれのタイプのエポキシ樹脂において、更に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;脂環式エポキシ樹脂;脂肪族鎖状エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;フェノールアラルキル型エポキシ樹脂;スチルベン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂等のナフタレン骨格含有型エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂;キシリレン型エポキシ樹脂;ジヒドロアントラセン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂などに分類される。   Epoxy resins are classified into various epoxy resins depending on the difference in the main skeleton. In each of the above types of epoxy resins, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin are also included. Epoxy resin; alicyclic epoxy resin; aliphatic chain epoxy resin; phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac type epoxy resin, etc .; phenol aralkyl Type epoxy resin; stilbene type epoxy resin; dicyclopentadiene type epoxy resin; naphthalene skeleton-containing type such as naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin It is classified into dicyclopentadiene type epoxy resin; epoxy resins; biphenyl type epoxy resins; biphenyl aralkyl type epoxy resins; xylylene-type epoxy resins; dihydroanthracene type epoxy resin.

エポキシ樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、高周波特性、耐熱性、ガラス移転温度、熱膨張係数及び難燃性等の観点から、ナフタレン骨格含有型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂を用いてもよい。   An epoxy resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, naphthalene skeleton-containing epoxy resins and biphenyl aralkyl epoxy resins may be used from the viewpoints of high-frequency characteristics, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, flame retardancy, and the like.

また、(C)成分としてエポキシ樹脂を用いる場合、必要に応じて、エポキシ樹脂の硬化剤、硬化助剤等を併用することができる。これらは特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレンジアミン、ジシアンジアミド等のポリアミン化合物;ビスフェノールA、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂等のポリフェノール化合物;無水フタル酸、無水ピロメリット酸等の酸無水物;カルボン酸化合物;活性エステル化合物などが挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。その使用量は特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜調整することができる。これらの中でも、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数、保存安定性及び絶縁信頼性の観点から、ポリフェノール系化合物、活性エステル系化合物を用いることが好ましい。   Moreover, when using an epoxy resin as (C) component, the hardening | curing agent, hardening adjuvant, etc. of an epoxy resin can be used together as needed. These are not particularly limited, for example, polyamine compounds such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine, dicyandiamide; bisphenol A, phenol novolac resin, cresol novolac resin, bisphenol A novolac resin, phenol And polyphenol compounds such as aralkyl resins; acid anhydrides such as phthalic anhydride and pyromellitic anhydride; carboxylic acid compounds; and active ester compounds. These may be used alone or in combination of two or more. The amount used is not particularly limited and can be appropriately adjusted according to the purpose. Among these, from the viewpoints of heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, storage stability, and insulation reliability, it is preferable to use polyphenol compounds and active ester compounds.

シアネート樹脂は特に限定されるものではないが、例えば、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、フェノール付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステル化合物、フェノールノボラック型シアネートエステル化合物、クレゾールノボラック型シアネートエステル化合物等が挙げられる。シアネート樹脂は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの中でも、製造コストの観点、並びに高周波特性及びその他特性の総合バランスの観点から、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンを用いることが好ましい。   The cyanate resin is not particularly limited, and examples thereof include 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ethane, and bis (3,5-dimethyl-4-cyanato). Phenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, α, α′-bis (4-cyanatophenyl) -m-diisopropyl Examples include benzene, a cyanate ester compound of a phenol-added dicyclopentadiene polymer, a phenol novolac-type cyanate ester compound, and a cresol novolac-type cyanate ester compound. Cyanate resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, it is preferable to use 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane from the viewpoint of manufacturing cost and from the viewpoint of the overall balance of high-frequency characteristics and other characteristics.

また、(C)成分としてシアネート樹脂を用いる場合、必要に応じて、シアネート樹脂の硬化剤、硬化助剤等を併用することができる。これらは特に限定されるものではないが、例えば、モノフェノール化合物、ポリフェノール化合物、アミン化合物、アルコール化合物、酸無水物、カルボン酸化合物等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。硬化剤及び硬化助剤の使用量は特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜調整することができる。これらの中でも、高周波特性、耐熱性、耐吸湿性及び保存安定性の観点から、モノフェノール化合物を用いることが好ましい。   Moreover, when using cyanate resin as (C) component, the hardening | curing agent, hardening adjuvant, etc. of cyanate resin can be used together as needed. Although these are not specifically limited, For example, a monophenol compound, a polyphenol compound, an amine compound, an alcohol compound, an acid anhydride, a carboxylic acid compound etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a hardening | curing agent and a hardening adjuvant is not restrict | limited in particular, According to the objective, it can adjust suitably. Among these, it is preferable to use a monophenol compound from the viewpoints of high-frequency characteristics, heat resistance, moisture absorption resistance, and storage stability.

モノフェノール化合物を用いる場合、有機溶媒への溶解性の観点から、予備反応させてフェノール変性シアネートプレポリマーとして用いる方法を採用することが好ましい。併用するモノフェノール化合物はプレポリマー化する時に規定量の全てを配合してもよく、又はプレポリマー化前後で規定量を分けて配合してもよいが、保存安定性の観点から、分けて配合する方法を採用できる。   When using a monophenol compound, it is preferable to employ a method of pre-reacting and using it as a phenol-modified cyanate prepolymer from the viewpoint of solubility in an organic solvent. The monophenol compound to be used in combination may be blended in all of the prescribed amount when prepolymerized, or may be blended separately in the prescribed amount before and after prepolymerization, but from the viewpoint of storage stability, it is blended separately. Can be adopted.

マレイミド化合物としては特に限定されるものではないが、例えば、分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド構造含有基を有するマレイミド化合物(a)[以下、(a)成分と称することがある。]、及び下記一般式(VI)で表されるアミノビスマレイミド化合物(c)[以下、(c)成分と称することがある。]のうちの少なくとも1種類を含有することができる。また、有機溶媒への溶解性、高周波特性、導体との接着性及びプリプレグの成形性の観点から、該マレイミド化合物としてはアミノビスマレイミド化合物(c)であることが好ましい。   The maleimide compound is not particularly limited. For example, the maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide structure-containing groups in the molecule [hereinafter sometimes referred to as component (a). And an amino bismaleimide compound (c) represented by the following general formula (VI) [Hereinafter, it may be referred to as component (c). ] Can be contained. From the viewpoints of solubility in an organic solvent, high frequency characteristics, adhesion to a conductor, and moldability of a prepreg, the maleimide compound is preferably an aminobismaleimide compound (c).

アミノビスマレイミド化合物(c)は、例えば、(a)成分と分子中に2個の一級アミノ基を有する芳香族ジアミン化合物(b)[以下、(b)成分と称することがある。]とを有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより得られる。   The amino bismaleimide compound (c) is, for example, the component (a) and an aromatic diamine compound (b) having two primary amino groups in the molecule [hereinafter, referred to as component (b). Can be obtained by Michael addition reaction in an organic solvent.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、Aは前記一般式(Z)中のAの定義と同じであり、Aは下記一般式(VII)で表される基である。) (In the formula, A 4 is the same as the definition of A 1 in the general formula (Z), and A 5 is a group represented by the following general formula (VII).)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R17及びR18は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜5のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。式中、Aは炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、フルオレニレン基、単結合、又は下記一般式(VII−1)もしくは(VII−2)で表される基である。q’及びr’は各々独立に0〜4の整数である。) (Wherein R 17 and R 18 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen atom. In the formula, A 8 is the number of carbon atoms. An alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carboxy group, a keto group, a fluorenylene group, a single bond, or the following general formula (VII-1) or (VII- 2) q ′ and r ′ are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R19及びR20は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、m−又はp−フェニレンジイソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。s’及びt’は各々独立に0〜4の整数である。) (In the formula, R 19 and R 20 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 9 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, m- or a p-phenylenediisopropylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, and s ′ and t ′ are each independently an integer of 0 to 4.)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、R21は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。A10及びA11は各々独立に、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。wは0〜4の整数である。) (Wherein R 21 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 10 and A 11 are each independently an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, w is an integer of 0 to 4.)

前記一般式 (VII)、(VII−1)又は (VII−2)中のR17、R18、R19、R20及びR21が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子としては、一般式(I)中のRと同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、メチル基、エチル基であることが好ましい。 C1-C5 aliphatic hydrocarbon group or halogen atom which R <17> , R <18> , R <19> , R < 20 > and R < 21 > in said general formula (VII), (VII-1) or (VII-2) represent As, R 1 in the general formula (I) may be the same. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and is preferably a methyl group or an ethyl group.

前記一般式(VII)又は(VII−1)中のA及びAが表す炭素数1〜5のアルキレン基及び炭素数2〜5のアルキリデン基、及び前記一般式(VII−2)中のA10及びA11が表す炭素数1〜5のアルキレン基としては、前記一般式(III)中のAの場合と同様に説明される。 In the general formula (VII) or (VII-1), A 8 and A 9 represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, and in the general formula (VII-2). The alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by A 10 and A 11 is explained in the same manner as in the case of A 2 in the general formula (III).

q’及びr’は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも0〜2の整数であることが好ましく、0又は2であることが好ましい。s’及びt’は0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることが好ましく、0であることが好ましい。wは0〜4の整数であり、入手容易性の観点から、0〜2の整数であることが好ましく、0であることが好ましい。   q ′ and r ′ are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, and preferably 0 or 2. s 'and t' are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, preferably 0 or 1, and preferably 0. w is an integer of 0 to 4, and is preferably an integer of 0 to 2, and preferably 0 from the viewpoint of availability.

前記(a)成分としては、特に限定されるものではなく、例えば、前記ビスマレイミド化合物(IX)と同じものを適用してもよい。(a)成分としては、例えば、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ケトン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ビス(3−マレイミドフェノキシ)ビフェニル、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン等が挙げられる。(a)成分は目的、用途等に合わせて1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。また、(a)成分としては、ビスマレイミド化合物であることが好ましく、安価であるという観点から、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンであることが好ましく、また、誘電特性に優れ、低吸水性であるという観点から、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミドであることが好ましく、導体との高接着性及び機械特性(伸び、破断強度等)に優れるという観点から、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンであることが好ましい。   The component (a) is not particularly limited, and for example, the same component as the bismaleimide compound (IX) may be applied. Examples of the component (a) include bis (4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, bis (4-maleimidophenyl) ether, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, 3,3′-dimethyl-5, 5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, Bis (4-maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ketone, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, bis (4- ( 4-maleimidophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-bis (3-mer Imide phenoxy) biphenyl, 1,6-bismaleimide - (2,2,4-trimethyl) hexane and the like. (A) A component may be used individually by 1 type according to the objective, a use, etc., and may use 2 or more types together. The component (a) is preferably a bismaleimide compound, and is preferably bis (4-maleimidophenyl) methane from the viewpoint of being inexpensive, and has excellent dielectric properties and low water absorption. From the viewpoint of being, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide is preferable, and it has high adhesion to the conductor and mechanical properties (elongation, breaking strength, etc.). From the viewpoint of superiority, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane is preferred.

前述のとおり、アミノビスマレイミド化合物(c)は、前記(a)成分と、分子中に2個の一級アミノ基を有する芳香族ジアミン化合物(b)と、を有機溶媒中でマイケル付加反応させることにより得ることができる。   As described above, the amino bismaleimide compound (c) is a Michael addition reaction between the component (a) and the aromatic diamine compound (b) having two primary amino groups in the molecule in an organic solvent. Can be obtained.

前記(b)成分としては、特に限定されるものではないが、有機溶媒への溶解性が高く、合成時の反応率が高く、かつ耐熱性を高くできる観点から、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチル−ジフェニルメタン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン等が挙げられる。溶解性、反応率及び耐熱性が優れることに加えて、安価であるという観点から、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチル−ジフェニルメタンであることが好ましい。また、溶解性、反応率及び耐熱性に優れることに加えて、導体との高接着性を発現できるという観点から、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンであることが好ましい。更に、溶解性、反応率、耐熱性、及び導体との接着性に優れることに加えて、高周波特性及び耐吸湿性の観点からは、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンを選択することが好ましい。これらは目的、用途等に合わせて、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   The component (b) is not particularly limited, but is 4,4′-diaminodiphenylmethane from the viewpoint of high solubility in an organic solvent, high reaction rate during synthesis, and high heat resistance. 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-diphenylmethane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, and the like. In addition to excellent solubility, reaction rate and heat resistance, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-diphenylmethane, 4,4 ′ from the viewpoint of being inexpensive. -Diamino-3,3'-diethyl-diphenylmethane is preferred. In addition to being excellent in solubility, reaction rate, and heat resistance, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 4, 4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline and 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline are preferable. Furthermore, in addition to excellent solubility, reaction rate, heat resistance, and adhesion to conductors, 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1- It is preferred to select methylethylidene)] bisaniline, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline. These may be used alone or in combination of two or more according to the purpose and application.

前記アミノビスマレイミド化合物(c)を製造する際に使用される有機溶媒は特に制限はないが、例えば、上記のポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の製造工程で例示した有機溶媒が適用できる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を混合して用いてもよい。またこれらの中でも、溶解性の観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドであることが好ましい。   The organic solvent used for producing the amino bismaleimide compound (c) is not particularly limited, and for example, the organic solvent exemplified in the production process of the polyphenylene ether compound (A ″) can be applied. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide are preferable from the viewpoint of solubility.

前記(c)成分を製造する際の(a)成分と(b)成分の使用量は、(b)成分の−NH2基当量(Ta2)と、(a)成分のマレイミド基当量(Tb2)との当量比(Tb2/Ta2)が1〜10の範囲であることが好ましく、2〜10の範囲であることが好ましい。上記範囲内で(a)成分と(b)成分を使用することにより、本発明の樹脂組成物、プリプレグ及び積層板において、優れた高周波特性、導体との高接着性、優れた耐熱性、高ガラス転移温度及び高難燃性が得られる。   The amounts used of the component (a) and the component (b) in the production of the component (c) are the -NH2 group equivalent (Ta2) of the component (b) and the maleimide group equivalent (Tb2) of the component (a). The equivalent ratio (Tb2 / Ta2) is preferably in the range of 1 to 10, and preferably in the range of 2 to 10. By using the component (a) and the component (b) within the above range, in the resin composition, prepreg and laminate of the present invention, excellent high frequency characteristics, high adhesion to a conductor, excellent heat resistance, high Glass transition temperature and high flame retardancy are obtained.

前記アミノビスマレイミド化合物(c)を製造する際のマイケル付加反応には反応触媒を使用しなくてもよいが、必要に応じて使用することもできる。反応触媒としては、特に制限されるものではないが、上記のポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造時のマイケル付加反応に使用できる反応触媒を適用することができる。反応触媒の配合量も上記のように、特に限定されるものではない。   In the Michael addition reaction for producing the amino bismaleimide compound (c), it is not necessary to use a reaction catalyst, but it can also be used as necessary. Although it does not restrict | limit especially as a reaction catalyst, The reaction catalyst which can be used for the Michael addition reaction at the time of manufacture of said polyphenylene ether derivative (A) is applicable. The blending amount of the reaction catalyst is not particularly limited as described above.

また、(C)成分としてマレイミド化合物を用いる場合、マレイミド化合物の硬化剤、架橋剤、硬化助剤等を併用することができる。これらは、特に制限されるものではないが、例えば、スチレンモノマー、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のビニル化合物;(メタ)アクリレート化合物;トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル化合物;ジアミノジフェニルメタン等のポリアミン化合物などが挙げられる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。これらの使用量も特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜調整することができる。これらの中でも、高周波特性及び耐熱性等の観点から、ビニル化合物及びポリアミン化合物を用いてもよい。   Moreover, when using a maleimide compound as (C) component, the hardening | curing agent of a maleimide compound, a crosslinking agent, a hardening adjuvant, etc. can be used together. These are not particularly limited, for example, vinyl compounds such as styrene monomer, divinylbenzene and divinylbiphenyl; (meth) acrylate compounds; allyl compounds such as triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate; diaminodiphenylmethane and the like And the polyamine compounds. These may be used alone or in combination of two or more. These usage amounts are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the purpose. Among these, a vinyl compound and a polyamine compound may be used from the viewpoint of high frequency characteristics and heat resistance.

上記(a)成分、(b)成分、有機溶媒及び必要により反応触媒等を反応器に所定量仕込み、加熱、保温、攪拌しながらマイケル付加反応させることによりアミノビスマレイミド化合物(c)が得られる。この工程での反応温度、反応時間等の反応条件は、例えば、上述したポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造時のマイケル付加反応時における反応条件を適用できる。   The amino bismaleimide compound (c) is obtained by charging a predetermined amount of the above component (a), component (b), an organic solvent and, if necessary, a reaction catalyst into a reactor and subjecting it to a Michael addition reaction while heating, keeping warm, and stirring. . As the reaction conditions such as the reaction temperature and reaction time in this step, for example, the reaction conditions during the Michael addition reaction during the production of the polyphenylene ether derivative (A) described above can be applied.

反応濃度(固形分濃度)は特に制限はないが、10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であることが好ましい。反応濃度が10質量%以上の場合、反応速度が遅くなりすぎず、製造コストの面でより有利となる傾向にある。90質量%以下の場合、より良好な溶解性が得られる傾向にある。また、溶液粘度が低いので攪拌効率がよく、ゲル化することも少ない。なお、アミノビスマレイミド化合物(c)の製造後は、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造時と同様に、目的に合わせて有機溶媒の一部又は全部を除去(濃縮)したり、有機溶媒を追加して希釈したりすることができる。   The reaction concentration (solid content concentration) is not particularly limited, but is preferably 10 to 90% by mass, and preferably 20 to 80% by mass. When the reaction concentration is 10% by mass or more, the reaction rate does not become too slow and tends to be more advantageous in terms of production cost. In the case of 90% by mass or less, better solubility tends to be obtained. Moreover, since the solution viscosity is low, the stirring efficiency is good and gelation is rare. In addition, after the production of the amino bismaleimide compound (c), as in the production of the polyphenylene ether derivative (A), part or all of the organic solvent is removed (concentrated) according to the purpose, or an organic solvent is added. And can be diluted.

((A)成分と(C)成分の含有割合)
前記(A)成分と前記(C)成分の含有割合[(A):(C)]は特に制限はないが、質量比で、5:95〜80:20であることが好ましく、5:95〜75:25であることが好ましく、5:95〜70:30であることが好ましく、20:80〜60:40であることが好ましく、20:80〜50:50であることが好ましい。(A)成分と(C)成分合計量に対する(A)成分の含有割合が5質量%以上であれば、より優れた高周波特性及び低吸湿性が得られる傾向にある。また、80質量%以下であれば、より優れた耐熱性、より優れた成形性及びより優れた加工性が得られる傾向にある。
(Content ratio of (A) component and (C) component)
The content ratio [(A) :( C)] of the component (A) and the component (C) is not particularly limited, but is preferably 5:95 to 80:20 by mass ratio. ~ 75: 25 is preferred, 5:95 to 70:30 is preferred, 20:80 to 60:40 is preferred, and 20:80 to 50:50 is preferred. If the content ratio of the component (A) with respect to the total amount of the component (A) and the component (C) is 5% by mass or more, more excellent high frequency characteristics and low hygroscopicity tend to be obtained. Moreover, if it is 80 mass% or less, it exists in the tendency for the more excellent heat resistance, the more excellent moldability, and the more excellent workability to be obtained.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、任意に必要に応じて、無機充填剤(D)(以下、(D)成分と呼ぶことがある)、難燃剤(E)(以下、(E)成分と呼ぶことがある)を用いてもよい。これらを含有させることにより積層板とした際の諸特性を更に向上させることができる。例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物に任意に適切な無機充填剤を含有させることで、低熱膨張特性、高弾性率性、耐熱性、難燃性等を向上させることができる。また、適切な難燃剤を含有させることで、高周波特性、耐熱性、導体との接着性、ガラス転移温度の低下を抑制しつつ、高難燃性を付与することができる。 The thermosetting resin composition of the present invention optionally comprises an inorganic filler (D) (hereinafter may be referred to as (D) component), a flame retardant (E) (hereinafter referred to as (E) component). May be used). By including these, various properties when the laminate is obtained can be further improved. For example, low thermal expansion characteristics, high elastic modulus, heat resistance, flame retardancy, and the like can be improved by arbitrarily including an appropriate inorganic filler in the thermosetting resin composition of the present invention. Moreover, high flame retardance can be provided, suppressing the fall of a high frequency characteristic, heat resistance, adhesiveness with a conductor, and a glass transition temperature by containing a suitable flame retardant.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に使用する(D)成分としては、特に制限されるものではないが、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム
、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケ
イ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素などを用いることがで
きる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。また、無機充填剤の形状及び粒径についても特に制限はないが、例えば、粒径0.01〜20μm、好ま
しくは0.1〜10μmのものが好適に用いられる。ここで、粒径とは、平均粒子径を指し、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めた時、体積50
%に相当する点の粒子径のことである。レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置等で測定することができる。
The component (D) used in the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, silica, alumina, titanium oxide, mica, beryllia, barium titanate, potassium titanate, titanium Strontium acid, calcium titanate, aluminum carbonate, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, calcined clay, etc., talc, aluminum borate Aluminum borate, silicon carbide and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the shape and particle size of an inorganic filler, For example, a particle size of 0.01-20 micrometers, Preferably 0.1-10 micrometers is used suitably. Here, the particle size refers to the average particle size, and when the cumulative frequency distribution curve by the particle size is determined with the total volume of the particles being 100%, the volume is 50
The particle diameter at a point corresponding to%. It can be measured by a particle size distribution measuring apparatus using a laser diffraction scattering method.

(D)成分を用いる場合、その使用量は特に限定されるものではないが、例えば、(D)成分を含む熱硬化性樹脂組成物中の(D)成分の含有比率が3〜65体積%であること
が好ましく、5〜60体積%であることがより好ましい。熱硬化性樹脂組成物全体中の(D)成分の含有比率が上記の範囲である場合、良好な硬化性、成形性、及び耐薬品性が得られる。また、(D)成分を用いる場合、(D)成分の分散性や(D)成分と樹脂組成物中の有機成分との密着性を向上させる目的でカップリング剤を併用することが好ましい。カップリング剤としては特に限定されるものではなく、例えば、各種のシランカップリン
グ剤やチタネートカップリング剤を用いることができる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。また、その使用量も特に限定されるものではなく、使
用する(D)成分100質量部に対して0.1〜5質量部とすることが好ましく、0.5〜3質量部とすることがより好ましい。この範囲であれば、諸特性の低下が少なく、上記の(D)成分の使用による特長を効果的に発揮できる。カップリング剤を用いる場合、樹脂組成物中に(D)成分を配合した後、カップリング剤を添加する、いわゆるインテグラ
ルブレンド処理方式ではなく、予め直接的に無機充填剤にカップリング剤を乾式又は湿式で表面処理された無機充填剤を使用する方式が好ましい。この方法を用いることで、より
効果的に上記(D)成分の特長を発現できる。
When the component (D) is used, the amount used is not particularly limited. For example, the content ratio of the component (D) in the thermosetting resin composition containing the component (D) is 3 to 65% by volume. It is preferable that it is 5-60 volume%. When the content ratio of the component (D) in the entire thermosetting resin composition is in the above range, good curability, moldability, and chemical resistance can be obtained. Moreover, when using (D) component, it is preferable to use a coupling agent together in order to improve the dispersibility of (D) component and the adhesiveness of (D) component and the organic component in a resin composition. The coupling agent is not particularly limited, and for example, various silane coupling agents and titanate coupling agents can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the usage-amount is not specifically limited, It is preferable to set it as 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of (D) component to be used, and it shall be 0.5-3 mass parts. More preferred. If it is this range, there will be little fall of various characteristics and the feature by use of said (D) component can be exhibited effectively. When using a coupling agent, the component (D) is added to the resin composition, and then the coupling agent is added. Or the system which uses the inorganic filler surface-treated by the wet method is preferable. By using this method, the characteristics of the component (D) can be expressed more effectively.

本発明において(D)成分を用いる場合、(D)成分の熱硬化性樹脂組成物への分散性
を向上させる目的で、必要に応じ、(D)成分を予め有機溶媒中に分散させたスラリーと
して用いることがより好ましい。(D)成分をスラリー化する際に使用される有機溶媒は
特に制限はないが、上述したポリフェニレンエーテル化合物(A’)の製造工程で例示し
た有機溶媒が適用できる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を混合して
用いてもよい。また、これらの中では、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンが分散性の観点から好ましい。また、スラリーの不揮発分濃度は特に制
限はないが、例えば、無機充填剤の沈降性や分散性の観点から50〜80質量%が好まし
く、60〜80質量%の範囲とすることがより好ましい。
In the present invention, when the component (D) is used, a slurry in which the component (D) is dispersed in an organic solvent in advance for the purpose of improving the dispersibility of the component (D) in the thermosetting resin composition. It is more preferable to use as. The organic solvent used when slurrying the component (D) is not particularly limited, but the organic solvents exemplified in the production process of the polyphenylene ether compound (A ′) described above can be applied. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Cyclohexanone is preferred from the viewpoint of dispersibility. Further, the nonvolatile content concentration of the slurry is not particularly limited, but for example, 50 to 80% by mass is preferable and 60 to 80% by mass is more preferable from the viewpoint of sedimentation and dispersibility of the inorganic filler.

(難燃剤(E))
本発明の樹脂組成物は、難燃剤(E)を含んでいてもよい。
(Flame retardant (E))
The resin composition of the present invention may contain a flame retardant (E).

(E)成分としては、リン系難燃剤、金属水和物、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。(E)成分は、環境問題の観点から、リン系難燃剤及び金属水和物であることが好ましい。難燃剤(E)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Examples of the component (E) include phosphorus flame retardants, metal hydrates, and halogen flame retardants. The component (E) is preferably a phosphorus flame retardant and a metal hydrate from the viewpoint of environmental problems. A flame retardant (E) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

−リン系難燃剤−
リン系難燃剤としては、一般的に難燃剤として使用されるもののうち、リン原子を含有するものであれば特に制限はなく、無機系のリン系難燃剤であることが好ましいし、有機系のリン系難燃剤であることが好ましい。なお、環境問題の観点から、ハロゲン原子を含有しないものを選択できる。高周波特性、導体との接着性、耐熱性、ガラス転移温度、熱膨張係数及び難燃性の観点からは、有機系のリン系難燃剤であることが好ましい。
-Phosphorus flame retardant-
The phosphorus-based flame retardant is not particularly limited as long as it contains a phosphorus atom among those generally used as a flame retardant, and is preferably an inorganic phosphorus-based flame retardant. A phosphorus-based flame retardant is preferable. From the viewpoint of environmental problems, it is possible to select one that does not contain a halogen atom. From the viewpoint of high-frequency characteristics, adhesion to conductors, heat resistance, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, and flame retardancy, an organic phosphorus flame retardant is preferable.

無機系のリン系難燃剤としては、例えば、赤リン;リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム;リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物;リン酸;ホスフィンオキシドなどが挙げられる。   Examples of inorganic phosphorus flame retardants include red phosphorus; ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate and ammonium polyphosphate; inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as phosphate amides Phosphoric acid; phosphine oxide and the like.

有機系のリン系難燃剤としては、例えば、芳香族リン酸エステル、1置換ホスホン酸ジエステル、2置換ホスフィン酸エステル、2置換ホスフィン酸の金属塩、有機系含窒素リン化合物、環状有機リン化合物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族リン酸エステル化合物、2置換ホスフィン酸の金属塩を選択できる。ここで、金属塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであることが好ましく、アルミニウム塩であることが好ましい。また、有機系のリン系難燃剤の中では、芳香族リン酸エステルを選択できる。   Examples of organic phosphorus flame retardants include aromatic phosphoric acid esters, monosubstituted phosphonic acid diesters, disubstituted phosphinic acid esters, disubstituted phosphinic acid metal salts, organic nitrogenous phosphorus compounds, and cyclic organic phosphorus compounds. Is mentioned. Among these, an aromatic phosphate compound and a metal salt of a disubstituted phosphinic acid can be selected. Here, the metal salt is preferably any one of a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, a calcium salt, a magnesium salt, an aluminum salt, a titanium salt, and a zinc salt, and preferably an aluminum salt. Among organic phosphorus flame retardants, an aromatic phosphate ester can be selected.

芳香族リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジルジ−2,6−キシレニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、1,3−フェニレンビス(ジ−2,6−キシレニルホスフェート)、ビスフェノールA−ビス(ジフェニルホスフェート)、1,3−フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)等が挙げられる。   Examples of the aromatic phosphate ester include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl di-2,6-xylenyl phosphate, resorcinol bis (diphenyl phosphate), 1,3 -Phenylenebis (di-2,6-xylenyl phosphate), bisphenol A-bis (diphenyl phosphate), 1,3-phenylenebis (diphenyl phosphate) and the like.

1置換ホスホン酸ジエステルとしては、例えば、フェニルホスホン酸ジビニル、フェニルホスホン酸ジアリル、フェニルホスホン酸ビス(1−ブテニル)等が挙げられる。   Examples of monosubstituted phosphonic acid diesters include divinyl phenylphosphonate, diallyl phenylphosphonate, and bis (1-butenyl) phenylphosphonate.

2置換ホスフィン酸エステルとしては、例えば、ジフェニルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル等が挙げられる。   Examples of the disubstituted phosphinic acid ester include phenyl diphenylphosphinate and methyl diphenylphosphinate.

2置換ホスフィン酸の金属塩としては、ジアルキルホスフィン酸の金属塩、ジアリルホスフィン酸の金属塩、ジビニルホスフィン酸の金属塩、ジアリールホスフィン酸の金属塩等が挙げられる。これら金属塩は、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、チタン塩、亜鉛塩のいずれかであることが好ましく、アルミニウム塩を選択してもよい。   Examples of the metal salt of disubstituted phosphinic acid include a metal salt of dialkylphosphinic acid, a metal salt of diallylphosphinic acid, a metal salt of divinylphosphinic acid, and a metal salt of diarylphosphinic acid. These metal salts are preferably lithium salt, sodium salt, potassium salt, calcium salt, magnesium salt, aluminum salt, titanium salt, or zinc salt, and an aluminum salt may be selected.

有機系含窒素リン化合物としては、例えば、ビス(2−アリルフェノキシ)ホスファゼン、ジクレジルホスファゼン等のホスファゼン化合物;リン酸メラミン;ピロリン酸メラミン;ポリリン酸メラミン;ポリリン酸メラムなどが挙げられる。   Examples of the organic nitrogen-containing phosphorus compound include phosphazene compounds such as bis (2-allylphenoxy) phosphazene and dicresyl phosphazene; melamine phosphate; melamine pyrophosphate; melamine polyphosphate; melam polyphosphate.

環状有機リン化合物としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド等が挙げられる。   As the cyclic organic phosphorus compound, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10- And phosphaphenanthrene-10-oxide.

これらの中でも、芳香族リン酸エステル、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物から選択される少なくとも1種類であることが好ましく、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物から選択される少なくとも1種類であることが好ましく、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物を併用してもよい。特に、2置換ホスフィン酸の金属塩としては、ジアルキルホスフィン酸の金属塩であることが好ましく、ジアルキルホスフィン酸のアルミニウム塩であることが好ましい。環状有機リン化合物としては、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシドであることが好ましい。   Among these, it is preferably at least one selected from an aromatic phosphate ester, a metal salt of a disubstituted phosphinic acid, and a cyclic organophosphorus compound, and selected from a metal salt of a disubstituted phosphinic acid and a cyclic organophosphorus compound. At least one kind is preferable, and a metal salt of a disubstituted phosphinic acid and a cyclic organophosphorus compound may be used in combination. In particular, the metal salt of disubstituted phosphinic acid is preferably a metal salt of dialkylphosphinic acid, and is preferably an aluminum salt of dialkylphosphinic acid. The cyclic organophosphorus compound is preferably 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide.

なお、2置換ホスフィン酸の金属塩及び環状有機リン化合物を併用する場合、環状有機リン化合物に対する2置換ホスフィン酸の金属塩の含有比率[2置換ホスフィン酸の金属塩/環状有機リン化合物]は、質量比で、0.6〜2.5であることが好ましく、0.9〜2であることが好ましく、1〜2であることが好ましく、1.2〜2であることが好ましい。   When the metal salt of disubstituted phosphinic acid and the cyclic organic phosphorus compound are used in combination, the content ratio of the metal salt of disubstituted phosphinic acid to the cyclic organic phosphorus compound [metal salt of disubstituted phosphinic acid / cyclic organic phosphorus compound] is: The mass ratio is preferably 0.6 to 2.5, preferably 0.9 to 2, preferably 1 to 2, and preferably 1.2 to 2.

また、前記芳香族リン酸エステルは、下記一般式(F−1)もしくは(F−2)で表される芳香族リン酸エステルであることが好ましく、前記2置換ホスフィン酸の金属塩は、下記一般式(F−3)で表される2置換ホスフィン酸の金属塩であることが好ましい。   The aromatic phosphate is preferably an aromatic phosphate represented by the following general formula (F-1) or (F-2), and the metal salt of the disubstituted phosphinic acid is: A metal salt of a disubstituted phosphinic acid represented by the general formula (F-3) is preferable.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

(式中、RF1〜RF5は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。e及びfは各々独立に0〜5の整数であり、g、h及びIは各々独立に0〜4の整数である。 (Wherein R F1 to R F5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. E and f are each independently an integer of 0 to 5, g, h and I is an integer of 0-4 each independently.

F6及びRF7は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基である。Mは、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、カルシウム原子、マグネシウム原子、アルミニウム原子、チタン原子、亜鉛原子である。mは、1〜4の整数である。) R F6 and R F7 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms. M is a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a calcium atom, a magnesium atom, an aluminum atom, a titanium atom, or a zinc atom. m is an integer of 1-4. )

F1〜RF5が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基及びハロゲン原子としては、前記一般式(I)中のRの場合と同じものが挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R F1 to R F5 include the same as those in the case of R 1 in the general formula (I).

e及びfは、0〜2の整数であることが好ましく、2であることが好ましい。g、h及びIは、0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることが好ましく、0であることが好ましい。   e and f are preferably integers of 0 to 2, and are preferably 2. g, h and I are preferably integers of 0 to 2, preferably 0 or 1, and preferably 0.

F6及びRF7が表す炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基としては、前記一般式(I)中のRの場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜3の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、エチル基であることが好ましい。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R F6 and R F7 include the same as those in the case of R 1 in the general formula (I). The aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an ethyl group.

F6及びRF7が表す炭素数6〜14の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基等が挙げられる。該芳香族炭化水素基としては、炭素数6〜10の芳香族炭化水素基であることが好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms represented by R F6 and R F7 include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, and an anthryl group. The aromatic hydrocarbon group is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms.

mは金属イオンの価数を表しており、つまり、Mの種類に対応して1〜4の範囲内で変化する。   m represents the valence of the metal ion, that is, changes within a range of 1 to 4 corresponding to the type of M.

Mとしては、アルミニウム原子であることが好ましい。なお、Mがアルミニウム原子である場合、mは3である。   M is preferably an aluminum atom. Note that m is 3 when M is an aluminum atom.

−金属水和物−
金属水和物としては、例えば、水酸化アルミニウムの水和物、水酸化マグネシウムの水和物等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。該金属水酸化物は無機充填剤にも該当し得るが、難燃性を付与し得る材料の場合には難燃剤に分類する。
-Metal hydrate-
Examples of metal hydrates include aluminum hydroxide hydrate, magnesium hydroxide hydrate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The metal hydroxide may correspond to an inorganic filler, but is classified as a flame retardant in the case of a material that can impart flame retardancy.

−ハロゲン系難燃剤−
ハロゲン系難燃剤としては、塩素系難燃剤、臭素系難燃剤等が挙げられる。塩素系難燃剤としては、例えば、塩素化パラフィン等が挙げられる。臭素系難燃剤としては、例えば、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂;ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、エチレンビス(ペンタブロモフェニル)、エチレンビステトラブロモフタルイミド、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオクタン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、臭素化ポリフェニレンエーテル、臭素化ポリスチレン、2,4,6−トリス(トリブロモフェノキシ)−1,3,5−トリアジン等の臭素化添加型難燃剤(ここで、「添加型」とは、臭素が化学的に結合していない形態でポリマーに導入された、つまりブレンドされたものをいう。);トリブロモフェニルマレイミド、トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、テトラブロモビスフェノールA型ジメタクリレート、ペンタブロモベンジルアクリレート、臭素化スチレン等の不飽和二重結合基含有の臭素化反応型難燃剤(ここで、「反応型」とは、化学的に結合した形態でポリマーに臭素が導入されたものをいう。)などが挙げられる。これらは1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
-Halogen flame retardant-
Examples of the halogen flame retardant include a chlorine flame retardant and a bromine flame retardant. Examples of the chlorinated flame retardant include chlorinated paraffin. Examples of brominated flame retardants include brominated epoxy resins such as brominated bisphenol A type epoxy resins and brominated phenol novolac type epoxy resins; hexabromobenzene, pentabromotoluene, ethylenebis (pentabromophenyl), ethylenebistetra Bromophthalimide, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane, hexabromocyclododecane, bis (tribromophenoxy) ethane, brominated polyphenylene ether, brominated polystyrene, 2, Brominated flame retardants such as 4,6-tris (tribromophenoxy) -1,3,5-triazine (here, “added type” refers to a polymer in a form in which bromine is not chemically bonded) Introduced, that is, blended.); Brominated reactive flame retardants containing unsaturated double bond groups such as bromophenylmaleimide, tribromophenyl acrylate, tribromophenyl methacrylate, tetrabromobisphenol A type dimethacrylate, pentabromobenzyl acrylate, brominated styrene (where, “Reactive type” refers to a polymer in which bromine is introduced into a polymer in a chemically bonded form. These may be used alone or in combination of two or more.

((E)成分の含有割合)
(E)成分としてリン系難燃剤を用いる場合、本発明の樹脂組成物におけるリン系難燃剤の含有割合は特に制限されるものではないが、例えば、固形分換算の樹脂組成物(前記(D)成分を除くその他成分の総和)中のリン原子の含有量が0.2〜5質量%であることが好ましく、0.3〜3質量%であることが好ましい。リン原子の含有量が0.2質量%以上の場合、より良好な難燃性が得られる傾向にある。また、リン原子の含有量が5質量%以下である場合、より良好な成形性、導体との高接着性、優れた耐熱性及び高ガラス転移温度が得られる傾向にある。
(Content of component (E))
When a phosphorus flame retardant is used as the component (E), the content of the phosphorus flame retardant in the resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, the resin composition in terms of solid content (the above (D ) The total content of other components excluding the component is preferably 0.2 to 5% by mass, more preferably 0.3 to 3% by mass. When the phosphorus atom content is 0.2% by mass or more, better flame retardancy tends to be obtained. Moreover, when content of a phosphorus atom is 5 mass% or less, it exists in the tendency for better moldability, the high adhesiveness with a conductor, the outstanding heat resistance, and a high glass transition temperature.

一方、本発明の樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させる場合、環境問題及び耐薬品性の観点から、(A)成分及び(C)成分の総和100質量部(ただし、(C)成分を使用しない場合は(A)成分100質量部)に対して、20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることが好ましい。   On the other hand, when the halogen-based flame retardant is contained in the resin composition of the present invention, from the viewpoint of environmental problems and chemical resistance, the total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (C) (however, the component (C) When not used, it is preferably 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, and preferably 5 parts by mass or less, with respect to (100 parts by mass of component (A)).

また、本発明の樹脂組成物にリン系難燃剤及びハロゲン系難燃剤以外の難燃剤を含有させる場合、特に制限されるものではないが、(A)成分及び(C)成分の総和100質量部(ただし、(C)成分を使用しない場合は(A)成分100質量部)に対して、0.5〜20質量部であることが好ましく、1〜15質量部であることが好ましく、1〜10質量部であることが好ましく、1〜6質量部であることが好ましい。   Further, when the resin composition of the present invention contains a flame retardant other than the phosphorus-based flame retardant and the halogen-based flame retardant, it is not particularly limited, but the total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (C) (However, when not using (C) component, it is preferable that it is 0.5-20 mass parts with respect to (A) component 100 mass parts), and it is preferable that it is 1-15 mass parts, It is preferably 10 parts by mass, and preferably 1 to 6 parts by mass.

(難燃助剤)
本発明の樹脂組成物には、難燃助剤を含有させることができる。難燃助剤として、例えば、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機系難燃助剤を用いることができる。
(Flame retardant aid)
The resin composition of the present invention can contain a flame retardant aid. As the flame retardant aid, for example, an inorganic flame retardant aid such as antimony trioxide or zinc molybdate can be used.

本発明の樹脂組成物に難燃助剤を含有させる場合、その含有割合は特に制限されるものではないが、例えば、(A)成分及び(C)成分の総和100質量部(ただし、(C)成分を使用しない場合は(A)成分100質量部)に対して、0.1〜20質量部であることが好ましく、0.1〜10質量部であることが好ましい。このような範囲で難燃助剤を用いると、より良好な耐薬品性が得られる傾向にある。   When the flame retardant aid is contained in the resin composition of the present invention, the content ratio is not particularly limited. For example, the total of 100 parts by mass of (A) component and (C) component (however, (C When the component is not used, it is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to (A) component 100 parts by mass). When the flame retardant aid is used in such a range, better chemical resistance tends to be obtained.

本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、任意に公知の熱可塑性樹脂、エラストマー等の樹脂材料、並びにカップリング剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、顔料、着色剤、滑剤等を適宜選択して含有させることができる。これらは1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。また、これらの使用量は特に限定されるものではない。   The resin composition of the present invention includes, as necessary, resin materials such as known thermoplastic resins and elastomers, as well as coupling agents, antioxidants, thermal stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, and pigments. In addition, a colorant, a lubricant and the like can be appropriately selected and contained. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these usage-amounts are not specifically limited.

(有機溶剤)
本発明の樹脂組成物は、希釈することによって取り扱いを容易にするという観点及び後述するプリプレグを製造し易くする観点から、有機溶剤を含有させてもよい。
(Organic solvent)
The resin composition of the present invention may contain an organic solvent from the viewpoint of facilitating handling by dilution and easy manufacture of a prepreg described later.

該有機溶剤としては、特に制限されないが、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤;ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤;γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤などが挙げられる。   Examples of the organic solvent include, but are not limited to, alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; tetrahydrofuran Ether solvents such as toluene; xylene, mesitylene and other aromatic solvents; dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and other nitrogen atom containing solvents; dimethyl sulfoxide and other sulfur atom containing solvents; γ-butyrolactone and other esters System solvents and the like.

これらの中でも、溶解性の観点から、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、窒素原子含有溶剤であることが好ましい。   Among these, an alcohol solvent, a ketone solvent, and a nitrogen atom-containing solvent are preferable from the viewpoint of solubility.

有機溶剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   One organic solvent may be used alone, or two or more organic solvents may be used in combination.

本発明の樹脂組成物における有機溶剤の含有量は、特に制限はないが、固形分濃度が30〜90質量%であることが好ましく、40〜80質量%であることが好ましい。固形分濃度が上記の範囲内である樹脂組成物を用いることで、取り扱い性が容易となり、さらに基材への含浸性及び製造されるプリプレグの外観が良好で、後述するプリプレグ中の樹脂の固形分濃度の調整が容易となり、所望の厚みとなるようなプリプレグの製造が容易となる傾向にある。   Although there is no restriction | limiting in particular in content of the organic solvent in the resin composition of this invention, it is preferable that solid content concentration is 30-90 mass%, and it is preferable that it is 40-80 mass%. By using a resin composition having a solid content concentration within the above range, the handleability becomes easy, the impregnation property to the base material and the appearance of the produced prepreg are good, and the resin solids in the prepreg described later Adjustment of the partial concentration is facilitated, and production of a prepreg having a desired thickness tends to be facilitated.

前記(A)成分及び必要に応じて使用される(B)成分、(C)成分、その他の成分、有機溶媒等を公知の方法で混合することにより、本発明の樹脂組成物を得ることができる。この際、攪拌しながら溶解又は分散させてもよい。混合順序、混合及び攪拌時の温度及び時間等の条件は、特に限定されず任意に設定することができる。   The resin composition of the present invention can be obtained by mixing the component (A) and the component (B), the component (C), other components, an organic solvent, etc., which are used as necessary, by a known method. it can. At this time, it may be dissolved or dispersed while stirring. Conditions such as mixing order, temperature and time during mixing and stirring are not particularly limited and can be arbitrarily set.

本発明の樹脂組成物から積層板を作製したときの、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度は特に限定されないが、良好な耐熱性及びスルーホール接続信頼性、並びに電子部品等を製造する際の優れた加工性の観点から、200℃以上で60分以上、硬化後のガラス転移温度が、180℃以上であることが好ましく、200℃以上であることがより好ましい。ガラス転移温度の上限は特にないが、例えば1000℃以下であることが好ましく、500℃以下であることが好ましく、300℃以下であることが好ましい。   The glass transition temperature of the cured product of the resin composition when the laminate is produced from the resin composition of the present invention is not particularly limited, but when manufacturing good heat resistance and through-hole connection reliability, electronic parts, etc. From the viewpoint of excellent workability, the glass transition temperature after curing is preferably 180 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, at 200 ° C. or higher for 60 minutes or longer. The upper limit of the glass transition temperature is not particularly limited, but is preferably, for example, 1000 ° C. or less, preferably 500 ° C. or less, and preferably 300 ° C. or less.

また、本発明の樹脂組成物から積層板を作製したときの、樹脂組成物の硬化物の熱膨張係数(Z方向、Tg以下)は特に限定されないが、積層板のそりを抑制する観点から、45ppm/℃以下であることが好ましく、43ppm/℃以下であることが好ましい。熱膨張係数の下限値には制限はないが、例えば25ppm/℃以上である。   Moreover, the thermal expansion coefficient (Z direction, Tg or less) of the cured product of the resin composition when producing a laminate from the resin composition of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing warpage of the laminate, It is preferably 45 ppm / ° C. or less, more preferably 43 ppm / ° C. or less. Although there is no restriction | limiting in the lower limit of a thermal expansion coefficient, For example, it is 25 ppm / degrees C or more.

なお、ガラス転移温度及び熱膨張係数は、実施例に記載のとおり、IPC規格に準じて測定した値である。   The glass transition temperature and the thermal expansion coefficient are values measured in accordance with the IPC standard as described in the examples.

本発明の樹脂組成物から積層板を作製したときの、樹脂組成物の硬化物の誘電率及び誘電正接は特に限定されないが、高周波帯で好適に用いる観点から、10GHzでの誘電率が小さいことが好ましく、3.8以下であることが好ましく、3.7以下であることがより好ましく、3.6以下であることが更に好ましい。誘電率の下限については特に限定はないが、例えば0.5以上である。   The dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product of the resin composition when a laminate is produced from the resin composition of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of being suitably used in a high frequency band, the dielectric constant at 10 GHz is small. Is preferably 3.8 or less, more preferably 3.7 or less, and still more preferably 3.6 or less. The lower limit of the dielectric constant is not particularly limited but is, for example, 0.5 or more.

また、誘電正接は小さいことが好ましく、10GHzでの誘電正接が、0.006以下であることが好ましく、0.0055以下であることがより好ましい。誘電正接の下限については特に限定はなく、小さいほどよいが、例えば、0.0001以上である。   The dielectric loss tangent is preferably small, and the dielectric loss tangent at 10 GHz is preferably 0.006 or less, and more preferably 0.0055 or less. The lower limit of the dielectric loss tangent is not particularly limited and may be as small as possible. For example, it is 0.0001 or more.

なお、誘電率及び誘電正接は実施例のとおり、空胴共振器法で測定した値である。   The dielectric constant and dielectric loss tangent are values measured by the cavity resonator method as in the examples.

[プリプレグ]
本発明は、本発明の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを有するプリプレグをも提供する。すなわち、本発明に係るプリプレグは、本発明の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを用いて形成される。該プリプレグは、例えば、本発明の樹脂組成物を、シート状繊維補強基材に含浸又は塗工し、乾燥させることによって得ることができる。より具体的には、例えば、乾燥炉中で通常、80〜200℃の温度で、1〜30分間加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させることにより本発明のプリプレグを製造することができる。樹脂組成物の使用量は、乾燥後のプリプレグ中の樹脂組成物由来の固形分濃度が30〜90質量%となるように決定することができる。固形分濃度を上記の範囲とすることで積層板とした際、より良好な成形性が得られる傾向にある。
[Prepreg]
The present invention also provides a prepreg having the resin composition of the present invention and a sheet-like fiber reinforced base material. That is, the prepreg according to the present invention is formed using the resin composition of the present invention and a sheet-like fiber reinforced base material. The prepreg can be obtained, for example, by impregnating or applying the resin composition of the present invention to a sheet-like fiber reinforced substrate and drying it. More specifically, for example, the prepreg of the present invention can be produced by heating and drying in a drying furnace usually at a temperature of 80 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes and semi-curing (B-stage). . The usage-amount of a resin composition can be determined so that the solid content density | concentration derived from the resin composition in the prepreg after drying may be 30-90 mass%. When the solid content concentration is within the above range, when a laminate is obtained, better formability tends to be obtained.

プリプレグのシート状繊維補強基材としては、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている公知のものが用いられる。シート状補強基材の材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等の無機物繊維;ポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;これらの混合物などが挙げられる。これらのシート状補強基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有する。また、シート状繊維補強基材の厚みは特に制限されず、例えば、0.02〜0.5mmのものを用いることができる。また、カップリング剤等で表面処理したもの及び機械的に開繊処理を施したものが、樹脂組成物の含浸性、積層板とした際の耐熱性、耐吸湿性及び加工性の観点から好適に使用できる。   As the sheet-like fiber reinforced base material of the prepreg, known materials used for various types of laminates for electrical insulating materials are used. Examples of the material for the sheet-like reinforcing substrate include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass, and Q glass; organic fibers such as polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene; and mixtures thereof. These sheet-like reinforcement base materials have shapes, such as a woven fabric, a nonwoven fabric, a robink, a chopped strand mat, a surfacing mat, for example. Moreover, the thickness in particular of a sheet-like fiber reinforcement base material is not restrict | limited, For example, a 0.02-0.5 mm thing can be used. Also, those surface-treated with a coupling agent or the like and mechanically subjected to fiber opening treatment are suitable from the viewpoint of impregnation of the resin composition, heat resistance when made into a laminate, moisture absorption resistance and workability. Can be used for

樹脂組成物をシート状補強基材に含浸又は塗工させる方法としては、例えば、次のホットメルト法又はソルベント法を採用できる。   As a method for impregnating or applying the resin composition to the sheet-like reinforcing substrate, for example, the following hot melt method or solvent method can be employed.

ホットメルト法は、樹脂組成物に有機溶剤を含有させず、(1)該組成物との剥離性の良い塗工紙に一旦コーティングし、それをシート状補強基材にラミネートする方法又は(2)ダイコーターによりシート状補強基材に直接塗工する方法である。   In the hot melt method, an organic solvent is not contained in the resin composition, and (1) a method of once coating a coated paper having good releasability from the composition and laminating it on a sheet-like reinforcing substrate or (2 ) It is a method of coating directly on a sheet-like reinforcing substrate with a die coater.

一方、ソルベント法は、樹脂組成物に有機溶剤を含有させ、得られた樹脂組成物にシート状補強基材を浸漬して、樹脂組成物をシート状補強基材に含浸させ、その後、乾燥させる方法である。   On the other hand, in the solvent method, the resin composition contains an organic solvent, the sheet-like reinforcing base material is immersed in the obtained resin composition, the resin composition is impregnated into the sheet-like reinforcing base material, and then dried. Is the method.

[積層板及び多層プリント配線板]
本発明の積層板は、本発明のプリプレグと属箔とを有する。すなわち、本発明の積層板は、本発明のプリプレグと金属箔とを用いて形成される。本発明の積層板は、例えば、本発明のプリプレグ1枚の片面もしくは両面に金属板を配置するか、又は本発明のプリプレグ2枚以上を重ねて得られるプリプレグの片面もしくは両面に金属箔を配置し、次いで加熱加圧成形することによって得ることができる。
[Laminated boards and multilayer printed wiring boards]
The laminate of the present invention has the prepreg of the present invention and a genus foil. That is, the laminate of the present invention is formed using the prepreg of the present invention and the metal foil. The laminated plate of the present invention has, for example, a metal plate disposed on one or both surfaces of one prepreg of the present invention, or a metal foil disposed on one or both surfaces of a prepreg obtained by stacking two or more prepregs of the present invention. Then, it can be obtained by heating and pressing.

金属箔の金属としては、電気絶縁材料用途で用いられるものであれば特に制限されないが、導電性の観点から、銅、金、銀、ニッケル、白金、モリブデン、ルテニウム、アルミニウム、タングステン、鉄、チタン、クロム又はこれらの金属元素のうちの少なくとも1種を含む合金であることが好ましく、銅、アルミニウムであることが好ましく、銅であることが好ましい。   The metal of the metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating materials, but from the viewpoint of conductivity, copper, gold, silver, nickel, platinum, molybdenum, ruthenium, aluminum, tungsten, iron, titanium , Chromium or an alloy containing at least one of these metal elements is preferable, copper and aluminum are preferable, and copper is preferable.

加熱加圧成形の条件は特に制限されるものではないが、例えば、温度が100〜300℃、圧力が0.2〜10.0MPa、時間が0.1〜5時間の範囲で実施することができる。また加熱加圧成形は真空プレス等を用いて真空状態を0.5〜5時間保持する方法を採用できる。   The conditions for heat and pressure molding are not particularly limited. For example, the temperature may be 100 to 300 ° C., the pressure may be 0.2 to 10.0 MPa, and the time may be 0.1 to 5 hours. it can. Moreover, the heat press molding can employ | adopt the method of hold | maintaining a vacuum state for 0.5 to 5 hours using a vacuum press etc. FIG.

また、本発明の多層プリント配線板は、本発明のプリプレグ又は積層板を有する。すなわち、本発明の多層プリント配線板は、本発明のプリプレグ又は積層板を加熱加圧成形して形成されるものである。加熱加圧成形の条件は特に制限されず、上記と同様の条件を採用できる。本発明の多層プリント配線板は、例えば、本発明のプリプレグ又は積層板を用いて、公知の方法によって、穴開け加工、金属めっき加工、金属箔のエッチング等による回路形成加工及び多層化接着加工を行うことによって製造することができる。   Moreover, the multilayer printed wiring board of this invention has the prepreg or laminated board of this invention. That is, the multilayer printed wiring board of the present invention is formed by heating and pressing the prepreg or laminated board of the present invention. The conditions for heat and pressure molding are not particularly limited, and the same conditions as described above can be adopted. The multilayer printed wiring board of the present invention can be subjected to circuit formation processing and multilayer adhesion processing by a known method using, for example, the prepreg or laminate of the present invention by a known method. It can be manufactured by doing.

本発明の樹脂組成物、プリプレグ、積層板及び多層プリント配線板は、1GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いることができ、特に10GHz以上の高周波信号又は30GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いることができる。   The resin composition, prepreg, laminated board and multilayer printed wiring board of the present invention can be suitably used for electronic equipment that handles high frequency signals of 1 GHz or higher, and particularly those that handle high frequency signals of 10 GHz or higher or high frequency signals of 30 GHz or higher. It can use suitably for an apparatus.

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、これらは本発明の説明のための例示であり、本発明の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。   The preferred embodiments of the present invention have been described above, but these are examples for explaining the present invention, and the scope of the present invention is not intended to be limited to these embodiments.

本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。   The present invention can be implemented in various modes different from the above-described embodiments without departing from the gist thereof.

以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

[ポリフェニレンエーテル誘導体(A)の製造]
下記手順、表1の配合量に従って、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を製造した。
[Production of polyphenylene ether derivative (A)]
The polyphenylene ether derivative (A) was produced according to the following procedure and the blending amount shown in Table 1.

(製造例A−1:ポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)の製造)
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、数平均分子量が約16000のポリフェニレンエーテル及びp−アミノフェノールを投入し、90℃で撹拌しながら溶解した。
(Production Example A-1: Production of polyphenylene ether derivative (A-1))
Toluene, polyphenylene ether having a number average molecular weight of about 16000 and p-aminophenol are charged into a 2 L glass flask container equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer, which can be heated and cooled, and stirred at 90 ° C. While dissolving.

溶解したことを目視で確認後、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート及びナフテン酸マンガンを添加し、溶液温度90℃で4時間反応させた後、70℃に冷却して分子末端に一級アミノ基を有するポリフェニレンエーテル化合物(A’’)を得た。   After visually confirming dissolution, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate and manganese naphthenate were added, reacted at a solution temperature of 90 ° C. for 4 hours, then cooled to 70 ° C. and having a primary amino group at the molecular end. A polyphenylene ether compound (A ″) was obtained.

この反応溶液を少量取り出し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、測定を行ったところ、p−アミノフェノールに由来するピークが消失し、かつポリフェニレンエーテル化合物(A’’)の数平均分子量は約9200であった。また少量取り出した反応溶液をメタノール/ベンゼン混合溶媒(混合質量比:1:1)に滴下し、再沈殿させて精製した固形分(反応生成物)のFT−IR測定を行ったところ、3400cm−1付近の一級アミノ基由来ピークの出現が確認された。   A small amount of this reaction solution was taken out and measured by gel permeation chromatography (GPC). As a result, the peak derived from p-aminophenol disappeared, and the number average molecular weight of the polyphenylene ether compound (A ″) was about 9200. When a small amount of the reaction solution taken out was dropped into a methanol / benzene mixed solvent (mixing mass ratio: 1: 1) and reprecipitated and subjected to FT-IR measurement of the purified solid content (reaction product), 3400 cm- The appearance of a peak derived from a primary amino group in the vicinity of 1 was confirmed.

ここで、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type;A−2500、A−5000、F−1、F−2、F−4、F−10、F−20、F−40)[東ソー株式会社製、商品名]を用いて3次式で近似した。GPCの測定条件を、以下に示す。
装置:
ポンプ:L−6200型[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
検出器:L−3300型RI[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラムオーブン:L−655A−52[株式会社日立ハイテクノロジーズ製]
カラム:ガードカラム;TSK Guardcolumn HHR−L+カラム;TSKgel G4000HHR+TSKgel G2000HHR[すべて東ソー株式会社製、商品名]
カラムサイズ:6.0×40mm(ガードカラム)、7.8×300mm(カラム)
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:30mg/5mL
注入量:20μL
流量:1.00mL/分
測定温度:40℃
Here, the number average molecular weight was converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The calibration curve is standard polystyrene: TSK standard POLYSTYRENE (Type; A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation, The product name] was used to approximate the cubic equation. The measurement conditions for GPC are shown below.
apparatus:
Pump: L-6200 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Detector: L-3300 RI [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column oven: L-655A-52 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]
Column: Guard column; TSK Guardcolumn HHR-L + column; TSKgel G4000HHR + TSKgel G2000HHR [all trade names, manufactured by Tosoh Corporation]
Column size: 6.0 × 40 mm (guard column), 7.8 × 300 mm (column)
Eluent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 30 mg / 5 mL
Injection volume: 20 μL
Flow rate: 1.00 mL / min Measurement temperature: 40 ° C

次に、上記反応溶液に、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて、攪拌しながら液温を昇温し、120℃で保温しながら4時間反応させた後、冷却してから200メッシュフィルターを通して濾過することにより、ポリフェニレンエーテル誘導体(A−1)を製造した。   Next, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide and propylene glycol monomethyl ether are added to the reaction solution, and the liquid temperature is raised while stirring. After reacting for 4 hours while keeping the temperature at 0 ° C., the mixture was cooled and then filtered through a 200 mesh filter to produce a polyphenylene ether derivative (A-1).

この反応溶液を少量取り出し、上記同様に再沈殿して、精製した固形物のFT−IR測定を行い、3400cm−1付近の一級アミノ基由来ピークの消失と、1700〜1730cm−1のマレイミドのカルボニル基由来ピークの出現が確認された。また、この固形物のGPC(上記と同条件)を測定したところ、数平均分子量は約9400であった。   A small amount of this reaction solution was taken out, reprecipitated in the same manner as described above, and subjected to FT-IR measurement of the purified solid. The disappearance of the primary amino group-derived peak around 3400 cm −1 and the carbonyl of maleimide at 1700 to 1730 cm −1. The appearance of group-derived peaks was confirmed. Moreover, when GPC (same conditions as the above) of this solid substance was measured, the number average molecular weight was about 9400.

(製造例A−2〜A−3:ポリフェニレンエーテル誘導体(A−2)〜(A−3)の製造)
製造例A−1において、各原料及び配合量を表1に示すとおりに変更した以外は、製造例A−1と同様にして、ポリフェニレンエーテル誘導体(A−2)〜(A−3)を製造した。ポリフェニレンエーテル誘導体(A−2)〜(A−3)の数平均分子量を表1に示す。
(Production Examples A-2 to A-3: Production of polyphenylene ether derivatives (A-2) to (A-3))
In Production Example A-1, polyphenylene ether derivatives (A-2) to (A-3) are produced in the same manner as in Production Example A-1, except that each raw material and blending amount are changed as shown in Table 1. did. Table 1 shows the number average molecular weights of the polyphenylene ether derivatives (A-2) to (A-3).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

[低分子量ポリフェニレンエーテルの製造]
下記手順、表2の配合量に従って、比較材料である低分子量ポリフェニレンエーテル(R−1〜2)を製造した。
[Production of low molecular weight polyphenylene ether]
Low molecular weight polyphenylene ether (R-1 to 2), which is a comparative material, was produced according to the following procedure and the blending amount in Table 2.

(比較製造例R−1:低分子量ポリフェニレンエーテル(R−1)の製造)
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2リットルのガラス製フラスコ容器に、トルエン、数平均分子量が約16000のポリフェニレンエーテル及びビスフェノールAを投入した。液温を80℃に保温して撹拌・溶解した。溶解を目視で確認後、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート及びナフテン酸コバルトを配合し、1時間反応させることによって低分子量ポリフェニレンエーテル(R−1)を得た。この低分子量ポリフェニレンエーテル(R−1)のGPC(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を測定したところ約8000であった。
(Comparative Production Example R-1: Production of Low Molecular Weight Polyphenylene Ether (R-1))
Toluene, polyphenylene ether having a number average molecular weight of about 16000, and bisphenol A were charged into a glass flask container with a capacity of 2 liters that was equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer. The liquid temperature was kept at 80 ° C. and stirred and dissolved. After confirming dissolution visually, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate and cobalt naphthenate were blended and reacted for 1 hour to obtain low molecular weight polyphenylene ether (R-1). It was about 8000 when GPC (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran) of this low molecular weight polyphenylene ether (R-1) was measured.

(比較製造例R−2:低分子量ポリフェニレンエーテル(R−2)の製造)
トルエン(有機溶媒A)250質量部、数平均分子量が約16000のポリフェニレンエーテル100質量部、ビスフェノールA3.8質量部、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート2.9質量部及びナフテン酸コバルト0.027質量部を用い、配合量以外は比較製造例R−1と同様にして低分子量ポリフェニレンエーテル溶液を得た。この溶液に多量のメタノールを加えて低分子量ポリフェニレンエーテルを再沈殿させた後、減圧下80℃/3時間で乾燥して有機溶媒Aを除去して固形の低分子量ポリフェニレンエーテル(R−2’)を得た。次いで、この低分子量ポリフェニレンエーテル(R−2’)、クロロメチルスチレン、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、トルエン(有機溶媒B)を温度計、還流冷却管、撹拌装置及び滴下ロートを備えた加熱及び冷却可能な容積2リットルのガラス製フラスコ容器に投入した。液温を75℃に保温して撹拌・溶解した後、この溶液に水酸化ナトリウム水溶液を20分間で滴下し、75℃で更に4時間撹拌・反応させた。次に、10%塩酸水溶液でフラスコ内容物を中和した後、多量のメタノールを追加して再沈殿させた後、ろ過した。ろ過物をメタノール80と水20の比率の混合液で3回洗浄した後、減圧下80℃/3時間乾燥して、末端をエテニルベンジル化した低分子量ポリフェニレンエーテル(R−2)を得た。この低分子量ポリフェニレンエーテル(R−2)のGPC(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を測定したところ約3000であった。
(Comparative Production Example R-2: Production of Low Molecular Weight Polyphenylene Ether (R-2))
250 parts by mass of toluene (organic solvent A), 100 parts by mass of polyphenylene ether having a number average molecular weight of about 16000, 3.8 parts by mass of bisphenol A, 2.9 parts by mass of t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, and 0.027 of cobalt naphthenate A low molecular weight polyphenylene ether solution was obtained in the same manner as in Comparative Production Example R-1, except for the blending amount. A large amount of methanol was added to this solution to reprecipitate the low molecular weight polyphenylene ether, followed by drying at 80 ° C./3 hours under reduced pressure to remove the organic solvent A to obtain a solid low molecular weight polyphenylene ether (R-2 ′). Got. Next, the low molecular weight polyphenylene ether (R-2 ′), chloromethylstyrene, tetra-n-butylammonium bromide, toluene (organic solvent B) were heated with a thermometer, a reflux condenser, a stirrer, and a dropping funnel. It was put into a glass flask container having a capacity of 2 liters that can be cooled. After keeping the liquid temperature at 75 ° C. and stirring and dissolving, an aqueous sodium hydroxide solution was dropped into this solution over 20 minutes, and the mixture was further stirred and reacted at 75 ° C. for 4 hours. Next, the flask contents were neutralized with a 10% aqueous hydrochloric acid solution, and a large amount of methanol was added for reprecipitation, followed by filtration. The filtrate was washed three times with a mixture of methanol 80 and water 20 and then dried under reduced pressure at 80 ° C. for 3 hours to obtain a low molecular weight polyphenylene ether (R-2) having an ethenylbenzylated end. . It was about 3000 when GPC (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran) of this low molecular weight polyphenylene ether (R-2) was measured.

[ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマーの製造]
下記手順、表2の配合量に従って、比較材料であるポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー(R−3)を製造した。
[Production of polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer]
A polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer (R-3) as a comparative material was produced according to the following procedure and the blending amount in Table 2.

(比較製造例R−3:ポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー(R−3)の製造)
温度計、還流冷却管、減圧濃縮装置、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積2リットルのガラス製フラスコ容器に、トルエン、数平均分子量が約16000のポリフェニレンエーテルを投入し、フラスコ内の温度を90℃に設定して撹拌溶解した。次いで、ポリブタジエン樹脂、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンを入れ、撹拌、溶解させた。液温を110℃にした後、反応開始剤として、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを配合し、撹拌しながら1時間反応させて、ポリフェニレンエーテルの存在下でブタジエン樹脂とビスマレイミドを予備反応させた。さらに液温を80℃に設定後、撹拌しながら溶液の固形分濃度が45質量%となるように減圧濃縮後、冷却して比較製造例R−3のポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー溶液を得た。このポリフェニレンエーテル変性ブタジエンプレポリマー(R−3)溶液中のビス(4−マレイミドフェニル)メタンの転化率(100からビス(4−マレイミドフェニル)メタンの未転化分(測定値)を引いた値)をGPC(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)により測定したところ30%であった。
(Comparative Production Example R-3: Production of polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer (R-3))
To a glass flask container with a capacity of 2 liters, which is equipped with a thermometer, a reflux condenser, a vacuum concentrator, and a stirrer, is charged toluene and polyphenylene ether having a number average molecular weight of about 16000, and the temperature inside the flask Was set at 90 ° C. and dissolved by stirring. Next, polybutadiene resin and bis (4-maleimidophenyl) methane were added, stirred and dissolved. After the liquid temperature was set to 110 ° C., 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane was blended as a reaction initiator and reacted for 1 hour with stirring to obtain polyphenylene ether. Butadiene resin and bismaleimide were pre-reacted in the presence of. Furthermore, after setting the liquid temperature to 80 ° C., the solution was concentrated under reduced pressure so that the solid content concentration of the solution was 45% by mass with stirring, and then cooled to obtain a polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer solution of Comparative Production Example R-3. . Conversion rate of bis (4-maleimidophenyl) methane in this polyphenylene ether-modified butadiene prepolymer (R-3) solution (value obtained by subtracting the unconverted content (measured value) of bis (4-maleimidophenyl) methane from 100) Was 30% when measured by GPC (polystyrene conversion, eluent: tetrahydrofuran).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

なお、「有機溶媒A」及び「有機溶媒B」は製造例R−2における投入タイミングの違いにより各有機溶媒を便宜的に分けたものであり、成分として違いはない。 “Organic solvent A” and “organic solvent B” are obtained by dividing each organic solvent for convenience by the difference in charging timing in Production Example R-2, and there is no difference as a component.

[アミノビスマレイミド化合物(C−1)〜(C−3)及びフェノール変性シアネートプレポリマー(C−4)の製造]
下記手順、表3の配合量に従って、熱硬化性樹脂であるアミノビスマレイミド化合物(C−1)〜(C−3)及びフェノール変性シアネートプレポリマー(C−4)を製造した。
[Production of amino bismaleimide compounds (C-1) to (C-3) and a phenol-modified cyanate prepolymer (C-4)]
According to the following procedure and the compounding amount of Table 3, amino bismaleimide compounds (C-1) to (C-3) and a phenol-modified cyanate prepolymer (C-4) which are thermosetting resins were produced.

(製造例B−1:アミノビスマレイミド化合物(C−1)の製造)
温度計、還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積1Lのガラス製フラスコ容器に、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを投入し、液温を120℃に保ったまま、撹拌しながら3時間反応させた後、冷却してから200メッシュフィルターを通して濾過することにより、アミノビスマレイミド化合物(C−1)を製造した。
(Production Example B-1: Production of amino bismaleimide compound (C-1))
A 2-L (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane was added to a 1 L glass flask container capable of heating and cooling equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirring device. 4- (4-Aminophenoxy) phenyl) propane and propylene glycol monomethyl ether were added, and the mixture was allowed to react with stirring for 3 hours while maintaining the liquid temperature at 120 ° C., then cooled and filtered through a 200 mesh filter. As a result, an amino bismaleimide compound (C-1) was produced.

(製造例C−2〜C−3:アミノビスマレイミド化合物(C−2)〜(C−3)の製造) 製造例C−1において、各原料及びその配合量を表3に示すとおりに変更した以外は、製造例C−1と同様にして、アミノビスマレイミド化合物(C−2)〜(C−3)を製造した。 (Production Examples C-2 to C-3: Production of amino bismaleimide compounds (C-2) to (C-3)) In Production Example C-1, each raw material and its blending amount were changed as shown in Table 3. Except that, amino bismaleimide compounds (C-2) to (C-3) were produced in the same manner as in Production Example C-1.

(製造例C−4:フェノール変性シアネートプレポリマー(B−4)の製造) 温度計、 還流冷却管、撹拌装置を備えた加熱及び冷却可能な容積1Lのガラス製フラスコ容器に、トルエン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、p−(α−クミル)フェノールを投入し、溶解したことを目視で確認した後に、液温を110℃に保ったまま、攪拌しながら反応触媒としてナフテン酸亜鉛を投入して3時間反応させた。その後、冷却してから200メッシュフィルターを通して濾過することにより、フェノール変性シアネートプレポリマー(C−4)を製造した。 (Production Example C-4: Production of Phenol-modified Cyanate Prepolymer (B-4)) To a 1 L glass flask container with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer capable of heating and cooling, toluene, 2, 2-bis (4-cyanatophenyl) propane and p- (α-cumyl) phenol were added, and after confirming that they were dissolved, the reaction temperature was kept at 110 ° C. while stirring, as a reaction catalyst. Zinc naphthenate was added and reacted for 3 hours. Thereafter, the mixture was cooled and then filtered through a 200 mesh filter to produce a phenol-modified cyanate prepolymer (C-4).

Figure 2017071689
Figure 2017071689

表1〜3における各材料の略号は、以下のとおりである。
(1)ポリフェニレンエーテル
・PPO640:ポリフェニレンエーテル(SABICイノベーティブプラスチックス社製)、数平均分子量=約16000、商品名
(2)アミノフェノール化合物(VIII)及びフェノール化合物
・p−アミノフェノール:イハラケミカル工業株式会社製
・m−アミノフェノール:イハラケミカル工業株式会社製
・ビスフェノールA:ビスフェノールA、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、三菱化学株式会社製
(3)ビスマレイミド化合物(IX)及びマレイミド化合物(a)
・BMI−5100:3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、商品名(大和化成工業株式会社製)
・BMI−4000:2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、商品名(大和化成工業株式会社製)
・BMI−TMH:1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、商品名(大和化成工業株式会社製)
・BMI−1000:ビス(4−マレイミドフェニル)メタン(大和化成工業株式会社製)
(4)反応触媒
・パーブチル(登録商標)I:t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(日油株式会社製)
・パーヘキサ(登録商標)TMH:1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(日油株式会社製)
・ナフテン酸マンガン:和光純薬工業株式会社製
・ナフテン酸コバルト:和光純薬工業株式会社製
・ナフテン酸亜鉛:和光純薬工業株式会社製
(5)ポリブタジエン樹脂
・B−3000:ブタジエンホモポリマー(数平均分子量:約3000、日本曹達株式会社製)
(6)芳香族ジアミン化合物(b)
・BAPP:2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、商品名(和歌山精化工業株式会社製)
・ビスアニリン−P:4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、商品名(三井化学株式会社製)
・ビスアニリン−M:4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン、商品名(三井化学株式会社製)
(7)シアネート樹脂
・BADCy:Primaset(登録商標)BADCy、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、商品名(ロンザ社製)
(8)モノフェノール化合物
・p−(α−クミル)フェノール:三井化学ファイン株式会社製
(9)その他化合物
・クロロメチルスチレン:p−クロロメチルスチレン/m−クロロメチルスチレン比=50/50(東京化成工業株式会社製)
・テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド:東京化成工業株式会社製
・50%NaOH溶液:和光純薬工業株式会社製
Abbreviations of each material in Tables 1 to 3 are as follows.
(1) Polyphenylene ether / PPO640: Polyphenylene ether (manufactured by SABIC Innovative Plastics), number average molecular weight = about 16000, trade name (2) aminophenol compound (VIII) and phenol compound / p-aminophenol: Ihara Chemical Industrial Co., Ltd. Company-made m-aminophenol: Ihara Chemical Industry Co., Ltd. Bisphenol A: Bisphenol A, 2,2'-bis (4-hydroxyphenyl) propane, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. (3) bismaleimide compound (IX) and Maleimide compound (a)
BMI-5100: 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, trade name (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BMI-4000: 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, trade name (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BMI-TMH: 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, trade name (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BMI-1000: bis (4-maleimidophenyl) methane (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
(4) Reaction catalyst perbutyl (registered trademark) I: t-butylperoxyisopropyl monocarbonate (manufactured by NOF Corporation)
Perhexa (registered trademark) TMH: 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane (manufactured by NOF Corporation)
Manganese naphthenate: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Cobalt naphthenate: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Zinc naphthenate: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (5) Polybutadiene resin B-3000: Butadiene homopolymer ( Number average molecular weight: about 3000, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
(6) Aromatic diamine compound (b)
BAPP: 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, trade name (manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
Bisaniline-P: 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, trade name (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
Bisaniline-M: 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, trade name (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
(7) Cyanate resin / BADCy: Primaset (registered trademark) BADCy, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, trade name (manufactured by Lonza)
(8) Monophenol compound / p- (α-cumyl) phenol: manufactured by Mitsui Chemicals Fine Co., Ltd. (9) Other compounds / chloromethylstyrene: p-chloromethylstyrene / m-chloromethylstyrene ratio = 50/50 (Tokyo) (Made by Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Tetra-n-butylammonium bromide: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. 50% NaOH solution: manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

[実施例1〜22、比較例1〜7;樹脂組成物の調製]
表4及び表5に記載の各成分を表4及び表5に記載の配合量(単位:質量部)に従って室温又は50〜80℃で加熱しながら攪拌、混合して、固形分(不揮発分)濃度40〜60質量%の樹脂組成物を調製した。
[Examples 1-22, Comparative Examples 1-7; Preparation of Resin Composition]
Stir and mix each component described in Table 4 and Table 5 with heating at room temperature or 50 to 80 ° C. according to the blending amount (unit: parts by mass) described in Table 4 and Table 5 to obtain a solid content (nonvolatile content). A resin composition having a concentration of 40 to 60% by mass was prepared.

ここで、無機充填剤の配合量としては、通常、樹脂組成物(無機充填材を除く)の密度が1.20〜1.25g/cm3であり、用いた無機充填剤の密度が2.2〜3.01g/cm3である。
なお、上記製造例にて用いた原料及び中間生成物は極微量であるか失活しており、樹脂組成物中に残存していたとしても無視できる。
Here, as the blending amount of the inorganic filler, the density of the resin composition (excluding the inorganic filler) is usually 1.20 to 1.25 g / cm 3 , and the density of the used inorganic filler is 2. 2 to 3.01 g / cm 3 .
Note that the raw materials and intermediate products used in the above production examples are extremely small or inactivated, and can be ignored even if they remain in the resin composition.

[評価・測定方法]
上記実施例及び比較例で得られた樹脂組成物を用いて、下記方法に従って各測定及び評価を行った。結果を表6〜8に示す。なお、表6〜8における実施例1〜22、比較例1〜7の結果は、表4及び表5においてそれぞれ調整例1〜22、比較調整例1〜7で調整した組成物の測定及び評価結果である。
[Evaluation / Measurement Method]
Each measurement and evaluation was performed according to the following method using the resin compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples. The results are shown in Tables 6-8. The results of Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 7 in Tables 6 to 8 are the measurements and evaluations of the compositions prepared in Adjustment Examples 1 to 22 and Comparative Adjustment Examples 1 to 7 in Tables 4 and 5, respectively. It is a result.

(プリプレグ及び銅張積層板の作製)
各例で得た樹脂組成物を、厚さ0.1mmのガラス布(Eガラス、日東紡績株式会社製)に塗工した後、160℃で7分間加熱乾燥して、樹脂含有量(樹脂分)約54質量%のプリプレグを作製した。これらのプリプレグ6枚を重ね、その上下に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(FV−WS、M面Rz:1.5μm、古河電気工業株式会社製)をM面が接するように配置し、温度230℃、圧力3.9MPa、時間180分間の条件で加熱加圧成形して、両面銅張積層板(厚さ:0.8mm)を作製した。
(Preparation of prepreg and copper clad laminate)
The resin composition obtained in each example was applied to a glass cloth (E glass, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 0.1 mm, and then dried by heating at 160 ° C. for 7 minutes to obtain a resin content (resin content). ) About 54% by mass of a prepreg was produced. These 6 prepregs are stacked, and on the top and bottom thereof, a low profile copper foil (FV-WS, M surface Rz: 1.5 μm, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm is arranged so that the M surface is in contact with it. A double-sided copper-clad laminate (thickness: 0.8 mm) was produced by heating and pressing under conditions of a temperature of 230 ° C., a pressure of 3.9 MPa, and a time of 180 minutes.

(プリプレグの外観評価)
上記で得られたプリプレグの外観を観察した。外観は目視により評価し、プリプレグの表面に多少なりともムラ、スジ、発泡、相分離があり、表面平滑性に欠けるものを×とし、前記のような外観上の異常がないものを○とした。
(Appearance evaluation of prepreg)
The appearance of the prepreg obtained above was observed. Appearance was evaluated by visual inspection, and the surface of the prepreg had some unevenness, streaks, foaming, and phase separation, and those with poor surface smoothness were marked with ×, and those with no appearance abnormalities were marked with ○. .

(銅張積層板の特性評価)
上記で得られた銅張積層板について、成形性、誘電特性、銅箔引き剥がし強さ、ガラス転移温度、熱膨張係数、はんだ耐熱性及び難燃性を評価した。銅張積層板の特性評価方法は、以下のとおりである。
(Characteristic evaluation of copper clad laminate)
The copper clad laminate obtained above was evaluated for formability, dielectric properties, copper foil peel strength, glass transition temperature, thermal expansion coefficient, solder heat resistance and flame retardancy. The characteristic evaluation method of the copper clad laminate is as follows.

(1)成形性
両面の銅箔をエッチングした積層板の外観を観察して成形性を評価した。成形性は目視により評価し、ムラ、スジ、カスレ、ボイドのいずれかがあり、表面平滑性に欠けるものを×、前記のような外観上の異常がないものを○とした。
(2)誘電特性
誘電特性(比誘電率、誘電正接)は、両面の銅箔をエッチング除去した後、60mm×2mmのサイズに切断して、105℃/1hの条件で乾燥したものを試験片とし、10GHzにおけるDk及びDfを空胴共振器法により得られる共振周波数と無負荷Q値から算出した。
(1) Formability The formability was evaluated by observing the appearance of the laminated board obtained by etching the copper foils on both sides. The moldability was evaluated by visual inspection, and any of unevenness, streaks, blurring, and voids was observed.
(2) Dielectric properties Dielectric properties (relative dielectric constant, dielectric loss tangent) are test pieces obtained by removing the copper foils on both sides by etching, cutting to a size of 60 mm × 2 mm, and drying at 105 ° C./1 h. And Dk and Df at 10 GHz were calculated from the resonance frequency obtained by the cavity resonator method and the unloaded Q value.

測定器にはアジレントテクノロジー製ベクトル型ネットワークアナライザE8364B、関東電子応用開発製CP531 (10GHz共振器)及びCPMA−V2(プログラム)をそれぞれ使用して雰囲気温度25℃で行った。
(3)銅箔引き剥がし強さ
銅箔引き剥がし強さは、JIS C 6481に準拠して測定し、導体との接着性を測定した。
(4)はんだ耐熱性(吸湿耐熱性)
はんだ耐熱性は、両面の銅箔をエッチングした50mm角の試験片を用いて、常態及びプレッシャークッカーテスト(PCT)用装置(条件:121℃、2.2気圧)中に所定時間(1時間、3時間及び5時間)処理した後のものを、288℃の溶融はんだ中に20秒間浸漬した後のはんだ浸漬後の試験片の外観を目視観察した。なお、表中の数字は、はんだ浸漬後の試験片3枚のうち、膨れ、ミーズリングの発生等の異常が認められなかったものの枚数を意味する。
(5)ガラス転移温度(Tg)及び熱膨張係数
ガラス転移温度(Tg)と熱膨張係数(板厚方向、温度範囲:30〜150℃)は、両面の銅箔をエッチングした5mm角の試験片を用いて、熱機械測定装置(TMA)[ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社製、Q400(型番)]により、IPC(The Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits)規格に準拠して、ガラス転移温度と熱膨張係数(線膨張係数)を測定した。
(6)難燃性
銅張積層板を銅エッチング液である過硫酸アンモニウム(三菱ガス化学株式会社製)10質量%溶液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、長さ127mm及び幅12.7mmの試験片を切り出し、該試験片を用いて、UL94の試験法(V法)に準じて難燃性を試験及び評価した。
The measurement was performed at an ambient temperature of 25 ° C. using a vector network analyzer E8364B manufactured by Agilent Technologies, CP531 (10 GHz resonator) manufactured by Kanto Electronics Application Development, and CPMA-V2 (program).
(3) Copper foil peeling strength The copper foil peeling strength was measured in accordance with JIS C 6481 and the adhesion to a conductor was measured.
(4) Solder heat resistance (moisture absorption heat resistance)
The solder heat resistance is determined by using a 50 mm square test piece obtained by etching the copper foils on both sides, and in a normal time and pressure cooker test (PCT) apparatus (conditions: 121 ° C., 2.2 atm) for a predetermined time (1 hour, The appearance of the test piece after immersion in the solder after being immersed in molten solder at 288 ° C. for 20 seconds was visually observed. In addition, the number in a table | surface means the number of sheets in which abnormality, such as generation | occurrence | production of a swelling and a measling, was not recognized among three test pieces after a solder immersion.
(5) Glass transition temperature (Tg) and coefficient of thermal expansion Glass transition temperature (Tg) and coefficient of thermal expansion (plate thickness direction, temperature range: 30 to 150 ° C.) are 5 mm square test pieces obtained by etching copper foils on both sides. In accordance with the IPC (The Institute for Interconnecting Electronic Circuits) standard using a thermomechanical measuring device (TMA) [Q400 (model number) manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd.] The transition temperature and the thermal expansion coefficient (linear expansion coefficient) were measured.
(6) Flame retardance 127 mm in length and 12 mm in width from the evaluation board from which the copper foil was removed by immersing the copper-clad laminate in a 10% by mass solution of ammonium persulfate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), which is a copper etching solution. A 7 mm test piece was cut out, and the flame retardancy was tested and evaluated according to the UL 94 test method (Method V) using the test piece.

つまり、垂直に保持した試験片の下端に20mm炎による10秒間の接炎を2回行った。評価は、UL94のV法の基準に従って行った。   That is, flame contact for 10 seconds with a 20 mm flame was performed twice on the lower end of the test piece held vertically. Evaluation was performed in accordance with UL94 V method standards.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

Figure 2017071689
Figure 2017071689

なお、表4及び表5における各材料の略号等は、以下のとおりである。
(1)硬化促進剤(B)
<有機化酸化物>
・パーブチル(登録商標)I:t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、商品名(日油株式会社製)、1分間半減期温度158.8℃
・パーヘキサ(登録商標)HC:1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、商品名(日油株式会社製)、1分間半減期温度149.2℃
・パーブチル(登録商標)P:α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、商品名(日油株式会社製)、1分間半減期温度175.4℃
・パークミル(登録商標)D:ビス(1−フェニル−1−メチルエチル)ペルオキシド、商品名(日油株式会社製)、1分間半減期温度175.2℃
・パークミル(登録商標)P:ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、商品名(日油株式会社製)、1分間半減期温度232.5℃
<イミダゾール系硬化剤>
・G−8009L:イソシアネートマスクイミダゾール(ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2−エチル−4−メチルイミダゾールの付加反応物)、商品名(第一工業製薬株式会社製)
・2MZ−H:2−メチルイミダゾール、商品名(四国化成株式会社製)
・2E4MZ:2−エチル−4−メチルイミダゾール、商品名(四国化成株式会社製)
・1B2MZ:1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、商品名(四国化成株式会社製)
・C11Z:2−ウンデシルイミダゾール、商品名(四国化成株式会社製)
・2MA−OK:2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s―トリアジン イソシアヌル酸付加物、商品名(四国化成株式会社製)
<リン系硬化促進剤>
・TPP−MK:テトタフェニルホスホニウム、商品名(北興産業株式会社製)
・TPP−S:トリフェニルホスホニウム、商品名(北興産業株式会社製)
(2)熱硬化性樹脂(C)
・NC−7000L:ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、商品名(日本化薬株式会社製)
・BMI−4000: 2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン(大和化成工業株式会社製)
・NC−3000H ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製)
・BA−230S:2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンのプレポリマー(固形分75質量%、ロンザ社製)
・TAIC: トリアリルイソシアヌレート(日本化成株式会社製)
(3)無機充填材(D)
・SC2050−KNK:溶融シリカ、商品名(株式会社アドマテックス製)
・AlOOH: ベーマイト型水酸化アルミニウム、密度3.0g/cm(河合石灰工業株式会社製)
(4)難燃剤(E)
・OP−935:ジアルキルホスフィン酸アルミニウム塩、2置換ホスフィン酸の金属塩、リン含有量:23.5質量%、商品名(クラリアント社製)
・HCA−HQ:10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、環状有機リン化合物、リン含有量:9.6質量%、商品名(三光株式会社製)
(5)ポリフェニレンエーテル
・PPO640(ポリフェニレンエーテル、数平均分子量:約16000、SABICイノベーティブプラスチックス社製)
(6)相溶化剤
・タフプレンA: スチレン−ブタジエンブロック共重合体(旭化成ケミカルズ株式会社製)
In addition, the symbol of each material in Table 4 and Table 5 is as follows.
(1) Curing accelerator (B)
<Organized oxide>
Perbutyl (registered trademark) I: t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, trade name (manufactured by NOF Corporation), 1 minute half-life temperature 158.8 ° C
Perhexa (registered trademark) HC: 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, trade name (manufactured by NOF Corporation), 1 minute half-life temperature 149.2 ° C.
Perbutyl (registered trademark) P: α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, trade name (manufactured by NOF CORPORATION), 1 minute half-life temperature 175.4 ° C.
Parkmill (registered trademark) D: bis (1-phenyl-1-methylethyl) peroxide, trade name (manufactured by NOF Corporation), 1 minute half-life temperature 175.2 ° C.
Parkmill (registered trademark) P: diisopropylbenzene hydroperoxide, trade name (manufactured by NOF Corporation), 1 minute half-life temperature 232.5 ° C
<Imidazole-based curing agent>
G-8809L: Isocyanate mask imidazole (addition reaction product of hexamethylene diisocyanate resin and 2-ethyl-4-methylimidazole), trade name (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
・ 2MZ-H: 2-methylimidazole, trade name (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole, trade name (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
1B2MZ: 1-benzyl-2-methylimidazole, trade name (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
C11Z: 2-undecylimidazole, trade name (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
2MA-OK: 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, trade name (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
<Phosphorus curing accelerator>
・ TPP-MK: Tetotaphenylphosphonium, trade name (made by Hokuko Sangyo Co., Ltd.)
・ TPP-S: Triphenylphosphonium, trade name (made by Hokuko Sangyo Co., Ltd.)
(2) Thermosetting resin (C)
NC-7000L: Naphthol novolac type epoxy resin, trade name (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
BMI-4000: 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
NC-3000H biphenyl aralkyl epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd.)
BA-230S: 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane prepolymer (solid content 75% by mass, manufactured by Lonza)
TAIC: triallyl isocyanurate (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
(3) Inorganic filler (D)
SC2050-KNK: fused silica, trade name (manufactured by Admatechs)
AlOOH: Boehmite type aluminum hydroxide, density 3.0 g / cm 3 (manufactured by Kawai Lime Industry Co., Ltd.)
(4) Flame retardant (E)
OP-935: aluminum salt of dialkylphosphinic acid, metal salt of disubstituted phosphinic acid, phosphorus content: 23.5% by mass, trade name (manufactured by Clariant)
HCA-HQ: 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, cyclic organophosphorus compound, phosphorus content: 9.6% by mass Product name (Sanko Co., Ltd.)
(5) Polyphenylene ether / PPO640 (polyphenylene ether, number average molecular weight: about 16000, manufactured by SABIC Innovative Plastics)
(6) Compatibilizer / Tufprene A: Styrene-butadiene block copolymer (Asahi Kasei Chemicals Corporation)

Figure 2017071689
Figure 2017071689

実施例1〜17は、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)及び有機過酸化物及びイミダゾール系硬化促進剤、リン系硬化促進剤からなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化促進剤(B)を含有する樹脂組成物を用いた例である。実施例1〜17に係る積層板は後述する比較例1〜7よりも高周波特性に優れ、さらに良好な吸湿耐熱性、導体との接着性、ガラス転移温度、熱膨張特性及び難燃性をバランスよく備える。さらに、過酸化物とイミダゾールとを併用した場合(実施例1〜5)には吸湿耐熱性により優れている。   Examples 1 to 17 are resins containing at least one curing accelerator (B) selected from the group consisting of a polyphenylene ether derivative (A), an organic peroxide, an imidazole curing accelerator, and a phosphorus curing accelerator. It is an example using a composition. The laminates according to Examples 1 to 17 are superior in high-frequency characteristics than Comparative Examples 1 to 7 described later, and further balance good moisture absorption heat resistance, adhesion to conductors, glass transition temperature, thermal expansion characteristics and flame retardancy. Prepare well. Furthermore, when the peroxide and imidazole are used in combination (Examples 1 to 5), the moisture absorption heat resistance is superior.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

実施例18〜22は、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を含有する樹脂組成物を用いた例である。表7に示すとおり、後述する比較例1〜7よりも誘電正接、CTE及び難燃性に優れている。 Examples 18 to 22 are examples using a resin composition containing a polyphenylene ether derivative (A). As shown in Table 7, the dielectric loss tangent, CTE, and flame retardancy are superior to those of Comparative Examples 1 to 7 described later.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

比較例1〜7は、ポリフェニレンエーテル誘導体(A)を含有しない樹脂組成物を用いた例である。 Comparative Examples 1 to 7 are examples using resin compositions not containing the polyphenylene ether derivative (A).

さらに、ワニスの長期安定性評価のため、実施例1〜5で調整したワニスを室温で1週間静置し,その後のゲル化(サンプル管内放置)の有無について評価した。ゲル化の有無はサンプル管を静かに反転させた(上下を反対にした)場合に流動性の有無で確認した。結果を表9に示す。 Furthermore, in order to evaluate the long-term stability of the varnish, the varnish prepared in Examples 1 to 5 was allowed to stand at room temperature for 1 week, and the presence or absence of subsequent gelation (leaving in the sample tube) was evaluated. The presence or absence of gelation was confirmed by the presence or absence of fluidity when the sample tube was gently inverted (upside down). The results are shown in Table 9.

Figure 2017071689
Figure 2017071689

表9に示すとおり、1分間半減期温度が160℃以上の過酸化物を用いた例(実施例3〜5)ではワニスが一週間以上ゲル化せず、上述の各種特性に加え長期安定性にも優れていることがわかる。また、マスクイミダゾールを用いた例(実施例9)においても長期安定性が向上していることが理解できる。 As shown in Table 9, in the examples (Examples 3 to 5) using a peroxide having a 1 minute half-life temperature of 160 ° C. or higher, the varnish did not gel for more than one week, and in addition to the above-mentioned various properties, long-term stability It turns out that it is also excellent. It can also be understood that long-term stability is improved in the example using the mask imidazole (Example 9).

本発明の樹脂組成物は、優れた高周波特性、導体との高接着性、優れた耐熱性、低熱膨張係数、難燃性及び高ガラス転移温度を有する。また、本発明の樹脂組成物は、原材料コスト及び基板材料の製造コストを低く抑えられ、この樹脂組成物を用いて提供されるプリプレグ及び積層板は、多層印刷配線板等の電子部品用途に好適に使用することができる。   The resin composition of the present invention has excellent high-frequency characteristics, high adhesion to a conductor, excellent heat resistance, low thermal expansion coefficient, flame retardancy, and high glass transition temperature. In addition, the resin composition of the present invention can keep raw material costs and substrate material manufacturing costs low, and prepregs and laminates provided using this resin composition are suitable for electronic component applications such as multilayer printed wiring boards. Can be used for

Claims (12)

分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)を含有する樹脂組成物。   A resin composition comprising a polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule. 前記分子中に少なくとも1個のN−置換マレイミド構造含有基を有するポリフェニレンエーテル誘導体(A)が、更に下記一般式(I)で表される構造単位を有する、請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 2017071689
(式中、Rは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。xは0〜4の整数である。)
The resin composition according to claim 1, wherein the polyphenylene ether derivative (A) having at least one N-substituted maleimide structure-containing group in the molecule further has a structural unit represented by the following general formula (I). .
Figure 2017071689
(In the formula, each R 1 is independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. X is an integer of 0 to 4.)
前記N−置換マレイミド構造含有基が下記一般式(Z)で表される基である、請求項2に記載の樹脂組成物。
Figure 2017071689
(式中、R2は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。yは0〜4の整数である。A1は、下記一般式(II)、(III)、(IV)又は(V)で表される基である。)
Figure 2017071689
(式中、R3は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。pは0〜4の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、単結合又は下記一般式(III−1)で表される基である。q及びrは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、R及びRは各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボキシル基、ケト基又は単結合である。s及びtは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、nは0〜10の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、R及びRは各々独立に、水素原子又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基である。uは1〜8の整数である。)
The resin composition according to claim 2, wherein the N-substituted maleimide structure-containing group is a group represented by the following general formula (Z).
Figure 2017071689
(In the formula, each R 2 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. Y represents an integer of 0 to 4. A 1 represents the following general formula (II), ( III), a group represented by (IV) or (V).)
Figure 2017071689
(In the formula, each R 3 independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. P is an integer of 0 to 4.)
Figure 2017071689
(In the formula, R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene having 2 to 5 carbon atoms. A group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, a single bond or a group represented by the following general formula (III-1): q and r are each independently an integer of 0 to 4. .)
Figure 2017071689
(In the formula, R 6 and R 7 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a keto group, or a single bond, and s and t are each independently an integer of 0 to 4.)
Figure 2017071689
(In the formula, n is an integer of 0 to 10.)
Figure 2017071689
(In the formula, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. U is an integer of 1 to 8.)
前記一般式(Z)中のAが下記式(A−1)、(A−2)、及び(A−3)のいずれかで表される基である、請求項3に記載の樹脂組成物。
Figure 2017071689
A 1 is the following formula in the formula (Z) (A-1) , (A-2), and a group represented by any one of (A-3), the resin composition according to claim 3 object.
Figure 2017071689
前記一般式(I)で表される構造単位が、下記式(I’)で表される構造単位である、請求項2〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2017071689
The resin composition according to any one of claims 2 to 4, wherein the structural unit represented by the general formula (I) is a structural unit represented by the following formula (I ').
Figure 2017071689
更に有機過酸化物、イミダゾール系硬化促進剤、リン系硬化促進剤からなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化促進剤(B)を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin according to any one of claims 1 to 5, further comprising at least one curing accelerator (B) selected from the group consisting of an organic peroxide, an imidazole curing accelerator, and a phosphorus curing accelerator. Composition. 更にエポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂及びマレイミド化合物から選ばれる少なくとも1種の熱硬化性樹脂(C)を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   Furthermore, the resin composition of any one of Claims 1-6 containing the at least 1 sort (s) of thermosetting resin (C) chosen from an epoxy resin, cyanate ester resin, and a maleimide compound. 熱硬化性樹脂(C)が、分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド構造含有基を有するマレイミド化合物(a)又は下記一般式(VI)で表されるアミノビスマレイミド化合物(c)を含む、請求項7に記載の樹脂組成物。
Figure 2017071689
(式中、Aは前記一般式(Z)中のAの定義と同じであり、Aは下記一般式(VII)で表される基である。)
Figure 2017071689
(式中、R17及びR18は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜5のアルコキシ基、水酸基又はハロゲン原子である。Aは、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数2〜5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基、フルオレニレン基、単結合、又は下記一般式(VII−1)もしくは(VII−2)で表される基である。q’及びr’は各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、R19及びR20は各々独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Aは炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、m−又はp−フェニレンジイソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。s’及びt’は各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017071689
(式中、R21は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。A10及びA11は各々独立に、炭素数1〜5のアルキレン基、イソプロピリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボオキシ基、ケト基又は単結合である。wは0〜4の整数である。)
The thermosetting resin (C) contains a maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide structure-containing groups in the molecule or an aminobismaleimide compound (c) represented by the following general formula (VI). The resin composition according to claim 7.
Figure 2017071689
(In the formula, A 4 is the same as the definition of A 1 in the general formula (Z), and A 5 is a group represented by the following general formula (VII).)
Figure 2017071689
(Wherein, R 17 and R 18 each independently, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, .A 8 is an alkoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, 1 to carbon atoms 5 alkylene group, alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbooxy group, keto group, fluorenylene group, single bond, or the following general formula (VII-1) or (VII-2) Q ′ and r ′ are each independently an integer of 0 to 4.)
Figure 2017071689
(In the formula, R 19 and R 20 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 9 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, m- or a p-phenylenediisopropylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, and s ′ and t ′ are each independently an integer of 0 to 4.)
Figure 2017071689
(Wherein R 21 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. A 10 and A 11 are each independently an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an isopropylidene group, an ether group, A sulfide group, a sulfonyl group, a carbooxy group, a keto group, or a single bond, w is an integer of 0 to 4.)
請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物とシート状繊維補強基材とを含むプリプレグ。   A prepreg comprising the resin composition according to claim 1 and a sheet-like fiber reinforced base material. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物と金属箔とを有する積層板。   The laminated board which has the hardened | cured material and metal foil of the resin composition of any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物又は請求項10に記載の積層板を有する多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board which has the hardened | cured material of the resin composition of any one of Claims 1-8, or the laminated board of Claim 10. 請求項9に記載のプリプレグ又は請求項10に記載の積層板を加熱加圧成形する工程を含む多層プリント配線板の製造方法。   The manufacturing method of a multilayer printed wiring board including the process of heat-press-molding the prepreg of Claim 9, or the laminated board of Claim 10.
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