JPWO2020089610A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 放射能汚染された金属ワークピースの表面を除染するための電解処理システムにおいて、少なくとも２つの電極であって、それぞれの電極はヘッドを含み、前記システムは、各電極の少なくとも前記ヘッドが電解液中に位置するように配置されており、それぞれが前記表面に近接しているが、直接電気的に接触しておらず、前記表面に沿った前記電極の移動を許容するのに十分な距離だけ前記電解液によって前記表面から分離されている少なくとも２つの電極と、前記電極間の前記電解液中の絶縁体と、を含み、前記絶縁体が前記ワークピースを通る以外の前記電極間のいずれかの直接電流経路を最小限に抑える、電解処理システム。
2. 前記電極が、ＤＣ電源を使用してカソードおよびアノードとして交互に分極化される、請求項１に記載の電解処理システム。
3. 前記電極が、ＡＣ電圧が印加されたきに、カソードおよびアノードとして交互に分極化される、請求項１に記載の電解処理システム。
4. 前記電極が、ＤＣバイアスをかけられたＡＣ電圧が印加されたときに、カソードおよびアノードとして交互に分極化される、請求項１に記載の電解処理システム。
5. 前記電解液を、処理される物品表面の領域に封じ込めるシールを備える、請求項１から４のいずれか１項に記載の電解処理システム。
6. 前記電解液が処理される表面の一部に封じ込められ、全体が前記表面を横切って移動するよう、平面を処理するように適合されている、請求項１から５のいずれか１項に記載の電解処理システム。
7. 交流周波数が、１Ｈｚ～１０００Ｈｚまでの間である、請求項３または４に記載の電解処理システム。
8. 前記電解液が、硝酸を含有する、請求項１から７のいずれか１項に記載の電解処理システム。
9. 前記電解液が、塩化物塩および有機錯体のうちの１つ以上を含有する、請求項１から８のいずれか１項に記載の電解処理システム。
10. 電気化学プロセスの効率と効果を向上させるために、前記システムの使用時に、超音波エネルギーが追加で適用される、請求項１から９のいずれか１項に記載の電解処理システム。
11. 前記電極が移動するとき前記電極の前方または後方に計装が取り付けられており、前記計装が、移動速度、処理時間、電流密度、電圧制御、流体流量のうちの１つまたはすべてを制御するために使用される、請求項１から１０のいずれか１項に記載の電解処理システム。
12. 前記電極に印加される前記電圧が接地電位を基準としない絶縁回路の電源を有する、請求項１から１１のいずれか１項に記載の電解処理システム。
13. 前記電解液を、前記電極に再循環させる方法を有する、請求項１から１２のいずれか１項に記載の電解処理システム。
14. 前記電極に対する電圧バイアスが交互に逆転される、請求項１から１３のいずれか１項に記載の電解処理システム。
15. 前記非接触ワークピースを通る前記電流経路と、前記電極から電極への直接経路との抵抗の比が、０．６以下である、請求項１から１４のいずれか１項に記載の電解処理システム。