JPWO2020075812A1 - キュベット供給装置 - Google Patents

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Abstract

キュベットの供給を円滑に行うことが可能なキュベット供給装置を提供する。キュベット供給装置は、投入口から投入されたキュベットを貯留する第1貯留部と、第1貯留部の下方に設けられ、開口部を通じて第1貯留部から落下したキュベットを貯留する第2貯留部と、第2貯留部に設けられ、キュベットを1つずつ外部に送り出す送り出し部と、第1貯留部に貯留されているキュベットを開口部から第2貯留部に落下させる排出部材と、を備える。排出部材は、回転駆動される回転ロッドと、回転ロッドの周囲に設けられると共に上面にキュベットの移送スロープ面が形成された、開口部に配置される螺旋羽根と、を有し、回転ロッドが回転駆動されている間、移送スロープ面に載せたキュベットを下方に向けて移送すると共に開口部から第2貯留部に落下させる。

Description

本発明は、キュベット供給装置に関する。
従来、血液サンプルや尿サンプル等の生体サンプル中の成分を測定する自動分析装置(自動測定装置)が知られている(例えば特許文献1)。この種の自動分析装置は、通常、キュベット(検体容器)を供給するキュベット供給装置を備えており、キュベット供給装置から供給されたキュベットはキュベットチャックユニット等のチャックによって把持され、分注テーブル等に移送される。
キュベット供給装置は、投入口から投入されたキュベットを貯留する貯留部と、貯留部に貯留されているキュベットを1つずつ送り出す送り出し部と、キュベットの向きを所定の方向に揃えた状態で所定位置まで搬出する搬出部等を備えたものが知られている。
国際公開第2006/107016号
しかしながら、従来のキュベット供給装置においては、貯留部に多数のキュベットが貯留されていると、キュベットを1つずつ外部に送り出す送り出し部においてキュベットが送り出し機構に噛み込むなどして詰まってしまい、円滑なキュベットの供給が困難となる虞があった。
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、キュベットの供給を円滑に行うことが可能なキュベット供給装置を提供することにある。
上記課題を解決するための本発明に係るキュベット供給装置は、投入口から投入されたキュベットを底部に堆積させて貯留する第1貯留部と、前記第1貯留部の下方に設けられ、前記底部によって前記第1貯留部と仕切られると共に当該底部に形成された開口部を通じて前記第1貯留部から落下したキュベットを貯留する第2貯留部と、前記第2貯留部に設けられ、当該第2貯留部に貯留されているキュベットを1つずつ外部に送り出す送り出し部と、前記第1貯留部に貯留されているキュベットを前記開口部から前記第2貯留部に落下させる排出部材と、を備え、前記排出部材は、回転駆動される回転ロッドと、前記回転ロッドの周囲に設けられると共に上面にキュベットの移送スロープ面が形成された、前記開口部に配置される螺旋羽根と、を有し、前記回転ロッドが回転駆動されている間、前記螺旋羽根が前記回転ロッドと一体に回転することで前記移送スロープ面に載せたキュベットを下方に向けて移送すると共に前記開口部から前記第2貯留部に落下させることを特徴とする。
また、前記排出部材は、前記回転ロッドが間欠的に回転駆動されることで、当該回転ロッドにおける一度の回転駆動によって前記開口部から前記第2貯留部に落下するキュベットの数が調節されてもよい。
また、前記回転ロッドの中心軸位置と前記開口部の中心位置が平面視において一致していてもよい。
また、前記排出部材は、前記螺旋羽根の下部領域が前記開口部を通じて前記第2貯留部に挿入された状態で配置されていてもよい。
また、前記排出部材は、前記螺旋羽根の下端縁から当該螺旋羽根の外周縁に沿って所定範囲の領域に亘って形成され、前記螺旋羽根の前記移送スロープ面に載ることなく当該螺旋羽根の下面を潜って前記開口部から前記第2貯留部に落下することを抑制する外周カバーを、更に有していてもよい。
また、前記外周カバーは、前記螺旋羽根の下端縁から当該螺旋羽根が前記回転ロッドの周囲を略一周するまでの領域に亘って形成されていてもよい。
また、前記排出部材は、前記外周カバーの下部領域が前記開口部を通じて前記第2貯留部に挿入された状態で配置されていてもよい。
本発明によれば、キュベットの供給を円滑に行うことが可能なキュベット供給装置を提供できる。
図1は、複合分析装置の一例を示す図である。 図2は、複合分析装置の測定ユニット収容部の内部の構成の一例を示す平面図である。 図3は、キュベット供給装置の斜視図である。 図4は、キュベット供給装置の斜視図である。 図5は、キュベット供給装置の上面図である。 図6は、キュベット供給装置の側面図である。 図7は、キュベット供給装置の側面図である。 図8は、キュベットの模式的な縦断面図である。 図9は、排出部材の斜視図である。 図10は、排出部材の斜視図である。 図11は、排出部材からカバー部材を取り除いた状態を示す図である。 図12は、カバー部材を説明する図である。 図13は、送り出し部を説明する図である。 図14は、送り出し部を収容するハウジングを説明する図である。
以下、実施形態に係るキュベット供給装置10及びキュベット供給装置10が適用される一例の複合分析装置1000について、図面を用いて説明する。
図1は、実施形態に係る複合分析装置1000である。複合分析装置1000は、生体サンプル中の成分を分析する装置であり、例えば、LPIA(Latex Photometric Immuno assay:ラテックス近赤外比濁法)や、血液の凝固時間測定等を行うことができる。また、複合分析装置1000は、測定ユニット収容部1、タンク等収容部2、モニタ3、ステータス出力部4等を備える。測定ユニット収容部1は、各種の測定ユニットを収容する。タンク等収容部2には、純水、洗浄水及び排水をそれぞれ貯留するタンクや、使用済みのキュベットを廃棄するための廃棄ボックス、測定ユニット収容部1が行う処理を制御するコンピュータ等を収容する。
モニタ3は、コンピュータと接続され、測定の進捗状況や結果等を出力する。また、モニタ3は、例えばタッチパネルのように、使用者による入力操作が可能な入出力装置であってもよい。ステータス出力部4は、コンピュータ等と接続され、測定ユニット収容部1が実行する処理において異常が発生した場合に使用者に通知するため警告灯を点滅させたり点灯させたりする。
図2は、複合分析装置1000の測定ユニット収容部1の内部の構成の一例を示す平面図である。測定ユニット収容部1は、サンプルラックの搬送スペース101と、キュベット供給装置10と、サンプルノズルユニット103と、試薬テーブル104と、試薬蓋開閉ユニット105と、試薬ノズルユニット106と、凝固テーブル107と、LPIAテーブル108と、キュベットチャックユニット109と、レール110と、キュベット廃棄口111とを備える。
キュベット供給装置10は、所定形状のキュベットを、複合分析装置1000で使用するために供給する。なお、キュベットは、順に1つずつキュベット供給部1021から供給される。
サンプルノズルユニット103は、ポンプと接続されたノズルを備え、コンピュータによる制御に基づいて、所定の可動範囲を移動し、採血管からサンプルを採取すると共にLPIAテーブル108のキュベットへ吐出するユニットである。
試薬テーブル104は、試薬を収容する試薬瓶を複数保持し、コンピュータによる制御に基づいて回転するディスク状の保持部である。保持される試薬瓶は、所定の採取位置1041において試薬ノズルユニット106で採取される。
試薬蓋開閉ユニット105は、コンピュータによる制御に基づいて、所定の可動範囲を移動し、試薬瓶の蓋を開閉するためのユニットである。
試薬ノズルユニット106は、ポンプと接続されたノズルを備え、コンピュータによる制御に基づいて所定の稼働範囲を移動し、試薬瓶から試薬を採取すると共にキュベットへ吐出するユニットである。
凝固テーブル107は、キュベットの内容物の凝固の程度を測定するため、複数のキュベットを並べて保持するための複数の孔を備える保持部である。なお、保持されるキュベットを挟んで光源と受光部とが配置され、内容物の吸光度又は透過率に基づいて凝固の程度を測定する。なお、凝固テーブル107は、所定の着脱位置1071においてキュベットチャックユニット109によってキュベットの着脱が行われる。
LPIAテーブル108は、LPIAにより検体中の抗原量を測定するため、複数のキュベットを平面視において円形に並べて保持すると共に、コンピュータによる制御に基づいて回転する、ディスク状の保持部である。保持されるキュベットは、所定の着脱位置1081においてキュベットチャックユニット109によって着脱されると共に、所定の分注位置1082において試薬が分注される。
キュベットチャックユニット109は、コンピュータによる制御に基づいて、所定の可動範囲を移動し、キュベットを把持して移動させる。また、キュベットチャックユニット109は、凝固テーブル107やLPIAテーブル108の着脱位置、キュベット供給部1021、キュベット廃棄口111等でキュベットを把持したり投下したりする。試薬ノズルユニット106及びキュベットチャックユニット109はそれぞれレール110に接続され、レール110に沿って移動することができる。
キュベット廃棄口111は、タンク等収容部2に格納される廃棄ボックスに連通する開口部であり、例えば、ラテックス凝集測定や凝固時間測定の実施後、使用済みのキュベットはキュベットチャックユニット109によってキュベット廃棄口111までへ搬送され、キュベット廃棄口111に投下されることで、廃棄ボックスに廃棄される。
次に、本実施形態におけるキュベット供給装置10について説明する。図3及び図4は、キュベット供給装置10の斜視図である。図5は、キュベット供給装置10の上面図である。図6は、キュベット供給装置10の側面図である。図7は、キュベット供給装置10の側面図である。なお、図6は、図5に示すX方向の矢視側面を示す。図7は、図5に示すY方向の矢視側面を示す。
キュベット供給装置10は、ユーザによって無造作に投入された複数のキュベットを凝固テーブル107やLPIAテーブル108に1つずつ供給するために設けられている。図8は、キュベット200の模式的な縦断面図である。
キュベット200は、大略四角柱状のキュベット本体210の上端部220付近に、一対の把持用突出片230,230を備え、更にその下方に一対の載置用突出片240,240を備えている。このようなキュベット200は、凝固テーブル107やLPIAテーブル108に設けられた保持孔に、キュベット本体210の下部側を挿入させることによって載置される。把持用突出片230は、複合分析装置1000におけるキュベットチャ
ックユニット109が、キュベット200を移送する際に把持するための部位である。
キュベット供給装置10は、キュベット200を貯留する容器であるホッパー20を有する。ホッパー20は、キュベット200を投入する投入口を上部に有する第1貯留部30と、第1貯留部30の下方に設けられる第2貯留部40を有している。第1貯留部30と第2貯留部40の間には仕切り底31が設けられており、この仕切り底31によって第1貯留部30と第2貯留部40が仕切られている。第2貯留部40は、第1貯留部30に比べて小さな容積を有している。第1貯留部30は、上部が開放されることで投入口21が形成されており、投入口21からキュベット200を第1貯留部30に投入することができる。投入口21から第1貯留部30に投入された多数のキュベット200は、第1貯留部30の仕切り底31に堆積した状態で貯留される。本実施形態においては、第1貯留部30の仕切り底31が底部に相当する。
仕切り底31は窪み形状(凹形状)を有している。図4に示す符号311は、仕切り底31の傾斜部であり、符号312は、仕切り底31の平坦底部である。仕切り底31の傾斜部311は、平坦底部312に対して傾斜している。これにより、第1貯留部30の仕切り底31に堆積しているキュベット200が、平坦底部312に集まり易くなる。なお、キュベット供給装置10は、ホッパー20の高さ方向が概ね鉛直上下方向に一致し、仕切り底31の平坦底部312が概ね水平方向に一致するように複合分析装置1000に設置される。
ここで、図4に示すように、仕切り底31の平坦底部312には、第1貯留部30に貯留されているキュベット200を第1貯留部30から排出し、第2貯留部40に落下させるための開口部である排出開口部32が設けられている。排出開口部32は、円形の横断面を有し、仕切り底31の平坦底部312を貫通している。したがって、ホッパー20における第2貯留部40は、仕切り底31の平坦底部312に形成された排出開口部32を通じて第1貯留部30から落下したキュベット200が貯留されることになる。
第1貯留部30には、第1貯留部30に貯留されているキュベット200を排出開口部32から第2貯留部40に落下させるための排出部材50が配設されている。排出部材50は、平面視において、第1貯留部30における平坦底部312の排出開口部32に対応する位置に配置されている。詳しくは後述するが、排出部材50は、排出開口部32を通じて第1貯留部30から第2貯留部40へと一度に多数のキュベット200が落下することを制限しつつ、第1貯留部30に貯留されているキュベット200を第2貯留部40に移送する。
図9及び図10は、排出部材50の斜視図である。図10は、図9に示すA矢視方向から排出部材50を眺めたときの斜視図である。排出部材50は、モータによって回転駆動される回転ロッド51、回転ロッド51の周囲に設けられる螺旋羽根52、カバー部材53等を有する。図11は、排出部材50からカバー部材53を取り除いた状態を示す図である。図12は、カバー部材53を説明する図である。
回転ロッド51は、円形断面を有する軸部材である。回転ロッド51における一端側には、他の部位よりも一段縮径した縮径部511が設けられている。縮径部511には、一対の平坦なベルト掛け部512が設けられている。排出部材50のベルト掛け部512は、第1貯留部30への排出部材50の設置が完了した状態において、図3〜図5に示す環状の無端ベルト60が掛けられる部位である。図3に示すように、排出部材50は、回転ロッド51の縮径部511側が鉛直方向上部に配置されるように配置される。以下、回転ロッド51のうち、縮径部511が形成されている方の端部を上端とし、反対側の端部を下端として定義する。本実施形態においては、回転ロッド51の下端側に螺旋羽根52及びカバー部材53が設けられている。
螺旋羽根52は、回転ロッド51の周囲(外周面)に設けられた螺旋形状の羽根部材であり、その上面にキュベット20載せて移送することの可能な移送スロープ面521が形成されている。ここで、符号522は螺旋羽根52の外周縁である。また、図10に示す符号523は螺旋羽根52の下端縁である。また、図10に示すように、螺旋羽根52は、回転ロッド51の周囲(外周面)を1.5周程度周回するように設けられている。但し、回転ロッド51の周囲(外周面)を周回する螺旋羽根52の周回数、軸方向の範囲等は適宜変更することができる。
次に、カバー部材53について説明する。カバー部材53は、螺旋羽根52の外周縁522に沿って螺旋羽根52の外周(側面)を覆う外周カバー54と、外周カバー54の下端54a側を部分的に覆う底部カバー55を有する。外周カバー54の下端54aにおける内周側には、底部カバー55が設けられていない領域に開口部であるキュベット排出口56が形成されている。なお、外周カバー54の下端のうち、キュベット排出口56に対応する部分(キュベット排出口56に面する部分)は、外周カバー54の端面に切欠きが形成されることで切欠き凹部57が設けられている。なお、図11に示すように、カバー部材53におけるキュベット排出口56は、平面視において概略半円形状を有している。但し、カバー部材53におけるキュベット排出口56の形状、大きさ等は特に限定されない。
また、図9及び図10に示すように、本実施形態における排出部材50の外周カバー54は、螺旋羽根52の下端縁から螺旋羽根52が回転ロッド51の周囲を略一周するまでの領域(以下、「外周カバー設置領域」という)に亘って、螺旋羽根52の外周(側面)を覆うように設けられている。そして、外周カバー54は、外周カバー設置領域においては、少なくとも螺旋羽根52の外周縁522より下方の領域を覆うように設けられている。具体的には、外周カバー54のうち、図9に示す仮想境界線Bよりも螺旋羽根52の下端縁523側を覆う先端カバー領域541は、螺旋羽根52の移送スロープ面521よりも上方に突出するように設けられている。外周カバー54における先端カバー領域541のうち、螺旋羽根52の移送スロープ面521よりも上方に突出する部分を先端カバー上部領域541aと呼び、移送スロープ面521の下方を覆う領域を先端カバー下部領域541bと呼ぶ。なお、外周カバー54における先端カバー領域541以外の部分は、図9に示すように、螺旋羽根52の移送スロープ面521よりも下方だけを覆っている。
次に、ホッパー20における排出部材50の設置態様について説明する。図3〜図5に示すように、第1貯留部30における一対の対向する側壁31a,33bの上部間には、排出部材50における回転ロッド51の上端側を支持する第1支持部材34が横架されている。第1支持部材34は、水平に配置される底板341と、底板341の左右縁から上方に立設する一対の支持壁342,342を有している。また、底板341には、排出部材50における回転ロッド51を挿通するための貫通孔が設けられている。底板341の貫通孔は、第1貯留部30における平坦底部312の排出開口部32と同軸に配置されている。
また、図3〜図5に示すように、回転ロッド51の上端には円盤部材58が設けられている。円盤部材58は、回転ロッド51における縮径部511の上端面にネジなどによって接合されている。円盤部材58の直径は、第1支持部材34における一対の支持壁342,342の幅よりも大きく、一対の支持壁342,342の上端面に円盤部材58を引っ掛けることによって、排出部材50における回転ロッド51の上端側が支持されている。また、図3に示すように、回転ロッド51の下端側には、第2貯留部40の内壁面に固定されている第2支持部材41が取り付けられている。回転ロッド51は、第2支持部材41に対して軸廻りに回転自在に接続されている。以上のように、回転ロッド51は、回転自在にその上下端を第1支持部材34及び第2支持部材41によって安定した状態で支持されている。また、回転ロッド51は、ホッパー20の上下方向に沿った鉛直姿勢で保持されており、且つ、回転ロッド51の中心軸位置は排出開口部32の中心位置と平面視において一致している。
更に、キュベット供給装置10は、排出部材50における回転ロッド51を回転駆動する第1モータ61を備えている。第1モータ61は駆動軸62を有しており、駆動軸62と回転ロッド51の縮径部511に無端ベルト60が掛けられている。第1モータ61は、駆動軸62を正方向と逆方向の何れにも回転させることができる。これにより、第1モータ61のモータ駆動によって、排出部材50の回転ロッド51は、正方向と逆方向の何れにも回転することができる。
ここで、第1貯留部30における平坦底部312の排出開口部32の内径は、排出部材50における外周カバー54の外径よりも若干大きな寸法に設計されており、排出部材50における螺旋羽根52及びカバー部材53の一部(下部領域)が排出開口部32を通じて第2貯留部40内に挿入されている。但し、排出部材50は、外周カバー54の下端54a位置が第1貯留部30における平坦底部312と略一致していてもよい。
次に、キュベット供給装置10の送り出し部70について説明する。図3に示すように、送り出し部70は、第2貯留部40の内部に収容されている。送り出し部70は、モータによって回転駆動されることで、第2貯留部40に貯留されているキュベット200を1つずつピックアップし、ピックアップしたキュベット200を外部に送り出し、整列部90に受け渡すための機構である。
図13は、送り出し部70を説明する図である。送り出し部70は、一対の円盤部材72,72と、これらを一体に連結する連結部71を有している。連結部71は、一対の円盤部材72,72の中心を連結する円柱部材である。一対の円盤部材72,72は同一構造を有し、互いに平行に配置されている。一対の円盤部材72,72同士の間隔(離間寸法)は、キュベット200におけるキュベット本体210の幅寸法D1(図8を参照)よりも大きく、且つ、一対の載置用突出片240,240同士の先端部間寸法D2よりも小さい(図8を参照)。
図13に示すように、一対の円盤部材72,72には、円弧の一部を切り欠いた切欠き部73が同一の位置に設けられている。そして、一対の円盤部材72,72に形成された切欠き部73の端部には、送り出し部70が回転駆動された際に、第2貯留部40に貯留されているキュベット200をピックアップするためのピックアップ部74が形成されている。
図3に示すように、第2貯留部40には、送り出し部70を収容するハウジング75が設けられている。図14は、送り出し部70を収容するハウジング75を説明する図である。ハウジング75は、第2貯留部40の内部側に面して開口する円柱形状の収容凹部76を有しており、一対の円盤部材72,72が鉛直平面に沿った姿勢で収容凹部76に収容されている。図14に示す符号77は、送り出し部70の回転軸である。送り出し部70の回転軸77は水平方向に沿った姿勢で保持されている。
本実施形態においては、収容凹部76の直径は、円盤部材72,72の直径より僅かに大きな寸法に設定されている。図14に示す符号78は、収容凹部76に収容される一対の円盤部材72,72における切欠き部73と、収容凹部76の内周面との間に形成された空洞部である。本実施形態では、図4に示す第2モータ80によって、送り出し部70が回転軸77を中心として矢印C方向に回転駆動される。また、ハウジング75における空洞部78は、送り出し部70の切欠き部73に対応する位置に形成されるため、送り出し部70が回転駆動されることに伴い、空洞部78の位置も移動する。
なお、ハウジング75の下端縁は、第2貯留部40の底部42(図3を参照)と高さが等しくなっている。また、図3に示すように、第2貯留部40の壁面は、第1貯留部30の仕切り底31に形成された排出開口部32から落下してくるキュベット200が、送り出し部70に向かってガイドされるように形成されている。具合的には、第2貯留部40における左右方向の幅は、ハウジング75の幅と等しい。また、ハウジング75に収容された送り出し部70(円盤部材72,72)の向かい側に位置する壁面は傾斜壁43となっており、第2貯留部40の幅が下方に向かって徐々に狭められている。
また、図14に示す符号44は、第2貯留部40内に配置されるガイド部材である。ガイド部材44は、上面に傾斜ガイド面44aを有しており、仕切り底31の排出開口部32から落下するキュベット200を、傾斜ガイド面44aによって、送り出し部70に向かって好適にガイドすることができる。なお、ガイド部材44は、送り出し部70における手前側の円盤部材72(第2貯留部40の内部空間側に面する方の円盤部材72)に対向する円盤対向面(図示せず)を有している。本実施形態では、ガイド部材44の円盤対向面とこれに対向配置される円盤部材72との間の隙間にキュベット200が入り込まないように、円盤部材72と円盤対向面との間のクリアランス寸法が設定されている。
ここで、送り出し部70によってキュベット200を1つずつピックアップして外部に送り出し、キュベット200を整列部90に受け渡す際には、第2モータ80が送り出し部70を図14の矢印C方向に回転駆動する。そうすると、ハウジング75における空洞部78に存在するキュベット200が、回転駆動する送り出し部70のピックアップ部74によって拾い上げられる。上記のように、一対の円盤部材72,72同士の間隔(離間寸法)は、キュベット200におけるキュベット本体210の幅寸法D1よりも大きく、且つ、一対の載置用突出片240,240同士の先端部間寸法D2よりも小さい。そのため、キュベット本体210は一対の円盤部材72,72同士の隙間に入り込みつつ、キュベット200の一対の載置用突出片240,240が一対の円盤部材72,72の縁部に引っ掛かることで、ピックアップ部74によってキュベット200を1つずつピックアップできる。そして、送り出し部70は、ピックアップ部74によってキュベット200をピックアップした状態で回転し、ハウジング75の側方に形成された排出口79(図14を参照)までキュベット200を移送することで、排出口79からキュベット200を外部に送り出すことができる。
送り出し部70によって排出口79まで送り出されたキュベット200は、整列部90に受け渡される。整列部90は、平行に配置された一対の搬送レール91,91を備える。一対の搬送レール91,91同士の間隔(離間寸法)は、キュベット200におけるキュベット本体210の幅寸法D1よりも大きく、且つ、一対の載置用突出片240,240同士の先端部間寸法D2よりも小さい。また、整列部90(一対の搬送レール91,91)の一端は排出口79に連設されており、排出口79側から先端側に向かって斜め下方に傾斜している。また、整列部90(一対の搬送レール91,91)の先端(終端)には平坦な平坦部が形成されており、平坦部は水平に延在している。本実施形態においては、整列部90(一対の搬送レール91,91)の先端(終端)に位置する平坦部によってキュベット供給部1021が形成されている。これにより、キュベットチャックユニット109が、キュベット供給部1021に配置されているキュベット200を安定して把持することができ、キュベットチャックユニット109によってキュベット200を掴み損ねること等のエラーがより一層起こり難くなる。
以上のように構成される整列部90は、送り出し部70の回転駆動によって第2貯留部40から1つずつ送り出されるキュベット200を排出口79で受け取る。そして、一対の搬送レール91,91間の隙間にキュベット本体210を入り込ませつつ、一対の載置用突出片240,240を一対の搬送レール91,91によって支持することで、斜めに傾斜する一対の搬送レール91,91に沿ってキュベット200を滑り落とし、キュベット供給部1021までキュベット200を一つずつ移送することができる。
なお、整列部90には、キュベット200を一列に整列して所定の数だけ配置することができる。整列部90に整列されたキュベット200の数が所定の数以上になると、センサ92(図6を参照)がこれを検知する。整列部90がキュベット200によって満杯になっていることをセンサ92が検知すると、複合分析装置1000のコンピュータの制御部は、第2モータ80に送り出し部70の回転駆動を停止させる。これに対して、センサ92が整列部90に整列されたキュベット200の満杯状態を検知しなくなると、コンピュータの制御部は、第2モータ80に送り出し部70を回転駆動させ、送り出し部70によってキュベット200を一つ送り出す。
また、本実施形態においては、整列部90に整列されているキュベット200の数が一定数以下であるかどうかを上記センサ92によって検知してもよい。この場合、整列部90に整列されているキュベット200の数が一定数より多い場合には、送り出し部70によるキュベット200の送り出し動作を停止させておき、キュベット200の数が一定数まで減少したことを検知したときにだけ、送り出し部70によるキュベット200の送り出し動作を間欠的に行うようにしてもよい。
ところで、キュベット供給装置10の送り出し部70は、キュベット200を1つずつピックアップして外部に送り出す機構のため、仮に、第2貯留部40に多数のキュベット200が存在してしまうと、送り出し部70の切欠き部73にキュベット200が引っ掛かったり、詰まってしまい、円滑なキュベット200の送り出し動作を行うことが困難となる虞がある。
これに対して、本実施形態におけるキュベット供給装置10においては、排出開口部32を通じて第1貯留部30から第2貯留部40へと排出されるキュベット200の数をコントロールする。ここで、第2貯留部40の側壁における底部42の高さ近傍には、第2貯留部40の底部42に貯留されているキュベット200を検知するためのセンサ45が設けられている。例えば、センサ45によって、第2貯留部のキュベット200が検知されなくなると、コンピュータの制御部は、第1モータ61に排出部材50の回転ロッド51を所定角度だけ正方向に回転させる。例えば、第1モータ61は、回転ロッド51を正方向に360°(1回転)させるようにしてもよい。
排出部材50の回転ロッド51が正方向に回転すると、排出部材50の螺旋羽根52が回転ロッド51と一体に回転することで、第1貯留部30に貯留(堆積)しているキュベット200のうち、螺旋羽根52の移送スロープ面521に乗っているキュベット200が、回転ロッド51が回転している間だけ下方に向けて移送される。その結果、キュベット200を少数(例えば、1〜2個程度)だけ、排出開口部32(キュベット排出口56)を通じて第1貯留部30から第2貯留部40に落下させることができる。これによれば、排出開口部32を通じて第1貯留部30から第2貯留部40にキュベット200を供給する際、一度に大量のキュベット200が第2貯留部40に供給されないため、第2貯留部40における送り出し部70の切欠き部73にキュベット200が引っ掛かったり、詰まってしまうことを好適に抑制できる。なお、排出部材50における回転ロッド51を回転駆動する際、1回当たりにおける回転ロッド51の回転量(回転角度)は、排出開口部32から1度に排出させるキュベット200の数に応じて適切な制御量に設定することができる。なお、コンピュータの制御は、排出部材50における回転ロッド51を所定の回転量だけ正方向に回転させることで第1貯留部30のキュベット200を第2貯留部40に落下させた後、回転ロッド51を所定の回転量(例えば、0.5回転)だけ逆方向に回転させてもよい。このように、排出部材50によるキュベット200の排出動作御、回転ロッド51を逆回転させることで、第1貯留部30におけるキュベット200が偏った状態で貯留されることを抑制できる。
また、本実施形態における排出部材50によれば、回転ロッド51が停止している間には、螺旋羽根52の移送スロープ面521にキュベット200が乗っていたとしても下方に移送されない。そのため、回転ロッド51の停止期間中に、排出開口部32(キュベット排出口56)を通じて第1貯留部30から第2貯留部40へとキュベット200が落下することを抑制できる。
更に、本実施形態においては、排出部材50の回転ロッド51が間欠的に回転駆動されるため、回転ロッド51における一度の回転駆動によって排出開口部32(キュベット排出口56)から第2貯留部40に落下するキュベットの数を適切な数に調節することが可能となる。
更に、本実施形態における排出部材50は、螺旋羽根52の外周縁522に沿って螺旋羽根52の外周(側面)を覆う外周カバー54を備えている。そして、外周カバー54は、外周カバー設置領域において、螺旋羽根52の外周縁522より下方の領域を覆っているため、螺旋羽根52の移送スロープ面521に載ることなく当該螺旋羽根52の下面を潜って排出開口部32(キュベット排出口56)から第2貯留部40に落下することを抑制できる。これによれば、排出部材50における回転ロッド51を正方向に回転駆動させた際、第1貯留部30から第2貯留部40に多量のキュベット200が排出されてしまうことを、より確実に抑制できる。
特に、本実施形態においては、外周カバー54における先端カバー領域541は、螺旋羽根52の移送スロープ面521の下方領域だけでなく、上方領域も螺旋羽根52の側面を覆うように構成されている。これによれば、螺旋羽根52の下端縁523側において、螺旋羽根52の移送スロープ面521に載ることなく当該螺旋羽根52の下面を潜って排出開口部32(キュベット排出口56)から第2貯留部40に落下することを先端カバー下部領域541bによって好適に抑制できる。更に、螺旋羽根52における下端縁523を含む先端領域は、カバー部材53のキュベット排出口56や排出開口部32と近接しているが、本実施形態における外周カバー54は先端カバー上部領域541aが移送スロープ面521の上方に突出している。そのため、本実施形態における排出部材50によれば、螺旋羽根52における下端縁523を含む先端領域の近傍に位置するキュベット200が、螺旋羽根52の移送スロープ面521の上側を乗り越えて直接的に排出開口部32やキュベット排出口56から第2貯留部40に落下することを抑制できる。
また、本実施形態における排出部材50の外周カバー54は、螺旋羽根52の下端縁523から当該螺旋羽根52が回転ロッド51の周囲を略一周するまでの領域に亘って形成するようにした。ここで、排出部材50における回転ロッド51の回転駆動時にキュベット200が螺旋羽根52の移送スロープ面521に載ることなく螺旋羽根52の下面を潜って排出開口部32(キュベット排出口56)から排出されてしまうリスクは、螺旋羽根52の下端縁523から当該螺旋羽根52が回転ロッド51の周囲を略一周するまでの領域(区間)が高いと考えられる。そこで、そのような領域(区間)に対して外周カバー54を配置することで、排出開口部32(キュベット排出口56)から一度に沢山のキュベット200が落下することを抑制できるという効果をより顕著に得ることができる。
また、排出部材50におけるカバー部材53の底部カバー55は、キュベット排出口56を除いて、螺旋羽根52の下面側に空洞部が形成されないように外周カバー54の下端54a位置から螺旋羽根52の下面までの領域を占有するように(埋めるように)形成されている(図9を参照)。これにより、螺旋羽根52の下端縁523近傍において、螺旋羽根52の下面と底部カバー55との間にキュベット200が引っ掛ったりすることを好適に抑制できる。
また、本実施形態においては、排出部材50における回転ロッド51の中心軸位置を、仕切り底31に形成される排出開口部32の中心位置と平面視において一致させるようにした。これによれば、排出部材50における螺旋羽根52の螺旋径と排出開口部32における内径の寸法差を小さくしても、回転ロッド51の回転駆動時に螺旋羽根52の外周縁522が排出開口部32の周縁に衝突することを抑制できる。
また、排出部材50は、螺旋羽根52及びカバー部材53の一部(下部領域)が排出開口部32を通じて第2貯留部40内に挿入されるように設置されている。これによれば、回転ロッド51の回転駆動時において、第1貯留部30から排出開口部32を通じて第2貯留部40へと一度に排出されるキュベット200の数をより精度良く制御することができる。
以上のように、本実施形態におけるキュベット供給装置10によれば、多数のキュベット200が貯留される第1貯留部30から、キュベット200を1つずつ外部に送り出す送り出し部70が収容される第2貯留部40に対して多量のキュベット200が一度に移送されることを抑制し、キュベット200を一度に適切な数だけ第2貯留部40に移送することができるため、送り出し部70におけるキュベット200の外部への円滑な送り出し動作が阻害されることがない。これにより、複合分析装置1000の各種分析で使用するキュベット200を、キュベット供給装置によって円滑に供給することができる。
10・・・キュベット供給装置
20・・・ホッパー
30・・・第1貯留部
31・・・仕切り底
32・・・排出開口部
40・・・第2貯留部
50・・・排出部材
51・・・回転ロッド
52・・・螺旋羽根
53・・・カバー部材
54・・・外周カバー
55・・・底部カバー
56・・・キュベット排出口
70・・・送り出し部
90・・・整列部

Claims (7)

  1. 投入口から投入されたキュベットを底部に堆積させて貯留する第1貯留部と、
    前記第1貯留部の下方に設けられ、前記底部によって前記第1貯留部と仕切られると共に当該底部に形成された開口部を通じて前記第1貯留部から落下したキュベットを貯留する第2貯留部と、
    前記第2貯留部に設けられ、当該第2貯留部に貯留されているキュベットを1つずつ外部に送り出す送り出し部と、
    前記第1貯留部に貯留されているキュベットを前記開口部から前記第2貯留部に落下させる排出部材と、
    を備え、
    前記排出部材は、
    回転駆動される回転ロッドと、
    前記回転ロッドの周囲に設けられると共に上面にキュベットの移送スロープ面が形成された、前記開口部に配置される螺旋羽根と、
    を有し、前記回転ロッドが回転駆動されている間、前記螺旋羽根が前記回転ロッドと一体に回転することで前記移送スロープ面に載せたキュベットを下方に向けて移送すると共に前記開口部から前記第2貯留部に落下させる、
    キュベット供給装置。
  2. 前記排出部材は、前記回転ロッドが間欠的に回転駆動されることで、当該回転ロッドにおける一度の回転駆動によって前記開口部から前記第2貯留部に落下するキュベットの数が調節される、
    請求項1に記載のキュベット供給装置。
  3. 前記回転ロッドの中心軸位置と前記開口部の中心位置が平面視において一致している、
    請求項1又は2に記載のキュベット供給装置。
  4. 前記排出部材は、前記螺旋羽根の下部領域が前記開口部を通じて前記第2貯留部に挿入された状態で配置されている、
    請求項1から3の何れか一項に記載のキュベット供給装置。
  5. 前記排出部材は、前記螺旋羽根の下端縁から当該螺旋羽根の外周縁に沿って所定範囲の領域に亘って形成され、前記螺旋羽根の前記移送スロープ面に載ることなく当該螺旋羽根の下面を潜って前記開口部から前記第2貯留部に落下することを抑制する外周カバーを、
    更に有する、
    請求項1から4の何れか一項に記載のキュベット供給装置。
  6. 前記外周カバーは、前記螺旋羽根の下端縁から当該螺旋羽根が前記回転ロッドの周囲を略一周するまでの領域に亘って形成されている、
    請求項5に記載のキュベット供給装置。
  7. 前記排出部材は、前記外周カバーの下部領域が前記開口部を通じて前記第2貯留部に挿入された状態で配置されている、
    請求項5又は6に記載のキュベット供給装置。
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