JPWO2020051000A5 - - Google Patents

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[0413]本明細書で使用されるように、用語「および/または」は、実体の列挙の文脈で使用される場合、単独で、または組み合わせて存在する実体を指す。したがって、例えば、語句「A、B、C、および/またはD」は、A、B、C、およびDを個々に含むが、A、B、C、およびDのいずれかのおよび全ての組合せ、ならびにそれらの下位の組合せも含む。
[1] 実質的にグラフェンではない導電性炭素源に電圧パルスを適用する工程によってグラフェンを合成することを含むプロセス。
[2] 前記導電性炭素源の導電率が、10-5S/cmより大きい、[1]に記載のプロセス。
[3] 前記導電性炭素源の導電率が、10-3S/cmより大きい、[2]に記載のプロセス。
[4] 前記電圧パルスの持続時間が、1マイクロ秒~5秒である、[1]に記載のプロセス。
[5] 前記電圧パルスの持続時間が、100ミリ秒~500ミリ秒である、[4]に記載のプロセス。
[6] 前記電圧パルスが、2回~100回繰り返される、[1]に記載のプロセス。
[7] 前記電圧パルスが、2回~10回繰り返される、[6]に記載のプロセス。
[8] サンプルを通る電流が、0.01A/cm~10000A/cmである、[1]に記載のプロセス。
[9] サンプルを通る電流が、0.1A/cm~1000A/cmである、[8]に記載のプロセス。
[10] サンプルを通る電圧が、10V/cm~4000V/cmである、[1]に記載のプロセス。
[11] サンプルを通る電圧が、100V/cm~400V/cmである、[10]に記載のプロセス。
[12] 前記導電性炭素源が、無煙炭、より高温で処理したバイオ炭、焼成石油コークス、シュンガイト、カーボンナノチューブ、アスファルテン、アセチレンブラック、カーボンブラック、およびそれらの混合物からなる群から選択される、[1]に記載のプロセス。
[13] 前記導電性炭素源が、前記プロセスにとって十分な導電率を前記導電性炭素源が有するようにする導電性炭素源の添加剤を含む、[1]に記載のプロセス。
[14] (a)前記導電性炭素源の添加剤が、無煙炭、より高温で処理したバイオ炭、焼成石油コークス、カーボンナノチューブ、グラフェン量子ドット、アセチレンブラック、カーボンブラック、シュンガイト、グラフェン、またはそれらの混合物からなる群から選択され;
(b)前記導電性炭素源が、糞、プラスチック、ビニル重合体、縮合重合体、逐次重合体、連鎖重合体、リビング重合体、ゴム、フミン酸、炭水化物、米粉、食物廃棄物、食物、石炭、有機廃棄物、有機材料、瀝青炭、コークス、石油コークス、オイル、石油製品、天然ガスまたはオイルまたは二酸化炭素から非炭素原子をストリッピングして除いて得られた炭素、木材、セルロース、葉、枝、草類、バイオマス、動物の死体、魚の死体、タンパク質、およびそれらの混合物からなる群から選択されるより低い導電率の炭素材料であり;
(c)前記導電性炭素源の添加剤を、より低い導電率の炭素材料に添加して、そのより低い導電率の源を前記プロセスにとって十分な導電率を有するものにする、[13]に記載のプロセス。
[15] 前記プロセスの前に、前記導電性炭素源が、50%未満のグラフェンを含む、[1]に記載のプロセス。
[16] 前記プロセスの前に、前記導電性炭素源が、分光学的に検出可能なグラフェンを本質的に含まない、[15]に記載のプロセス。
[17] 前記プロセスの生成物収量が、少なくとも70%のグラフェンを含む、[1]に記載のプロセス。
[18] 前記生成物収量が、少なくとも90%のグラフェンである、[17]に記載のプロセス。
[19] 前記生成物収量が、100%のグラフェンである、[17]に記載のプロセス。
[20] 合成されたグラフェンが、乱層グラフェンである、[19]に記載のプロセス。
[21] 前記導電性炭素源が、
(a)最大で10-7S/cmの導電率を有する炭素源;および
(b)前記炭素源と混合された導電性炭素源の添加剤
を含み、前記導電性炭素源が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する、[1]に記載のプロセス。
[22] 前記導電性炭素源が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[21]に記載のプロセス。
[23] 前記導電性炭素源の添加剤が、カーボンブラック、金属粉末、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[21]に記載のプロセス。
[24] 連続プロセスである、[1]に記載のプロセス。
[25] 自動プロセスである、[1]に記載のプロセス。
[26] 前記導電性炭素源が、カーボンブラックおよびゴムを含む、[1]に記載のプロセス。
[27] 前記導電性炭素源が、1wt%~10wt%のカーボンブラックを含む、[26]に記載のプロセス。
[28] 前記導電性炭素源が、4wt%~6wt%のカーボンブラックを含む、[27]に記載のプロセス。
[29] 前記電圧パルスを適用する工程が、DC電圧を利用する、[1]に記載のプロセス。
[30] 前記電圧パルスを適用する工程が、AC電圧を利用する、[1]に記載のプロセス。
[31] 前記電圧パルスが、3相電力を使用する動力源を使用して適用される、[1]に記載のプロセス。
[32] 実質的にグラフェンではない導電性炭素源に電圧パルスを適用する工程によってグラフェンを合成することを含むプロセスであって、導電性炭素源に前記電圧パルスを適用するとき、ドープされた、またはヘテロ原子を含有するグラフェン生成物を生じさせるためのヘテロ原子が存在する、上記プロセス。
[33] 前記ヘテロ原子が、窒素、リン、ホウ素、およびそれらの混合物からなる群から選択される、[32]に記載のプロセス。
[34] 前記ヘテロ原子が、金属、半金属、およびそれらの混合物からなる群から選択される、[32]に記載のプロセス。
[35] 前記ヘテロ原子源が、メラミン、アミノボラン、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂、ホスフィン、リン酸塩、金属塩、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群から選択される、[32]に記載のプロセス。
[36] (a)実質的にグラフェンではない導電性炭素源を含む炭素フィードストック;
(b)該導電性炭素源を閉じ込めるように機能可能な非導電性容器;および
(c)該非導電性容器内の該導電性炭素源に電圧パルスを適用して、グラフェンを合成するのに使用可能な電極;
を含む装置。
[37] コンジットをさらに含み、それを通って前記導電性炭素源を前記非導電性容器に輸送することができる、[36]に記載の装置。
[38] 前記電極が前記電圧パルスを適用しているときに、前記非導電性容器の位置を定めることができるチャンバーをさらに含む、[36]に記載の装置。
[39] 前記非導電性容器が、石英またはセラミック材料を含む、[36]に記載の装置。
[40] 前記非導電性容器が、石英管を含む、[36]に記載の装置。
[41] (a)複数の前記非導電性容器を含み;
(b)ベルトまたはスクリューおよび収集ビンをさらに含み;
(c)該ベルトまたはスクリューは、
(i)前記導電性炭素源を前記非導電性容器中に充填した後、複数の前記非導電性容器中の容器をチャンバーに輸送する;および
(ii)前記非導電性容器を、前記チャンバーから、合成されたグラフェンを前記収集ビン中に収集できる位置に輸送する;
ように機能可能なものである、[36]に記載の装置。
[42] 前記電圧パルスを適用するように機能可能な複数のコンデンサーを含む、[36]に記載の装置。
[43] 前記電圧パルスの適用を制御するように機能可能な制御器および機械式リレーを含む、[36]に記載の装置。
[44] 制御器および機械式リレーに作動可能に連結されたインダクターおよびダイオードを含む、[43]に記載の装置。
[45] キルスイッチをさらに含む、[36]に記載の装置。
[46] 前記導電性炭素源が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する炭素源を含む、[36]に記載の装置。
[47] 前記炭素源が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[46]に記載の装置。
[48] 前記導電性炭素源が、炭素源および導電性炭素源の添加剤を含む、[36]に記載の装置。
[49] 前記導電性炭素源が、炭素粉末である、[48]に記載の装置。
[50] (a)前記炭素源が、少なくとも最大で10-6S/cmの導電率を有し;
(b)前記導電性炭素源が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する、[49]に記載の装置。
[51] 前記導電性炭素源が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[50]に記載の装置。
[52] 前記導電性炭素源からグラフェンを合成するために連続プロセスを実行するように機能可能である、[36]に記載の装置。
[53] 前記導電性炭素源からグラフェンを合成するための自動プロセスを実行するように機能可能である、[36]に記載の装置。
[54] [36]に記載の装置を含むシステム。
[55] 前記装置が、DC電圧源に作動可能に連結されている、[54]に記載のシステム。
[56] 前記装置が、AC電圧源に作動可能に連結されている、[54]に記載のシステム。
[57] 前記装置が、3相電力を使用する動力源に作動可能に連結されている、[54]に記載のシステム。
[58] 前記動力源が、3相電力、それに続いて全波整流を使用する、[57]に記載のシステム。
[59] 前記動力源が、前記電圧パルスの持続時間を制御するためにゼロクロスリレーを使用する、[57]に記載のシステム。
[60] 前記動力源が、コンピューター制御をさらに含み、該コンピューター制御が、前記ゼロクロスリレーを通過することを可能にする半サイクルの数に基づいて前記電圧パルスの持続時間を選択するように機能可能なものである、[59]に記載のシステム。
[61] 前記動力源が、120、208、277、480ボルトAC(RMS)二乗平均平方根の3相のうちの1つを使用するように機能可能なものである、[57]に記載のシステム。
[62] 前記動力源が、AC電力を提供するように機能可能な3相発電機を含む、[57]に記載のシステム。
[63] 前記3相発電機が、ACモーターに機械的にカップリングされている、[62]に記載のシステム。
[64] (a)前記3相発電機が、ローターを含み;
(b)前記3相発電機が、前記ローターの慣性により、機械的動力を電流に迅速に変換することによってAC電力を提供するように機能可能なものである、[62]に記載のシステム。
[65] (a)前記3相発電機が、フライホイールを含み;
(b)前記3相発電機が、より長い持続時間および定常電圧および電流出力を提供するために、前記フライホイールを使用してAC電力を提供するように機能可能なものである、[62]に記載のシステム。
[66] (a)前記電圧パルスを適用するように機能可能な複数のコンデンサーを含み;
(b)前記電圧パルスの適用を制御するように機能可能な制御器および機械式リレーを含む、[54]に記載のシステム。
[67] 前記装置が、制御器および機械式リレーに作動可能に連結されたインダクターおよびダイオードを含む、[66]に記載の装置。
[68] 前記装置が、キルスイッチをさらに含む、[54]に記載の装置。
[69] 2D材料を形成するための方法であって、
(a)前駆体を含む前駆体材料を選択すること;
(b)前記材料に電圧パルスを適用して、2D材料を形成すること
を含む、上記方法。
[70] 前記前駆体が、10-6S/cmより大きい導電率を有する、[69]に記載の方法。
[71] 前記前駆体が、金属源を含む、[70]に記載の方法。
[72] 前記金属源が、鉄粉末、モリブデン粉末、タングステン金属、および銅金属からなる群から選択される、[71]に記載の方法。
[73] 前記前駆体が、非金属源を含む、[70]に記載の方法。
[74] 前記非金属源が、カーボンブラック、焼成石油コークスからなる群から選択される、[73]に記載の方法。
[75] (a)前記前駆体が、10-6S/cm未満の導電率を有し;
(b)前記前駆体材料が、導電性源をさらに含み;
(c)前記前駆体材料が、10-5S/cmより大きい導電率を有する、[69]に記載の方法。
[76] 前記前駆体が、10-7S/cm未満の導電率を有する、[75]に記載の方法。
[77] 前記前駆体が、二硫化モリブデン(MoS)、テトラチオモリブデン酸アンモニウム((NHMoS)、ボランアンモニア錯体(BHNH)、赤リン、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[75]に記載の方法。
[78] 前記導電性源が、炭素材料、金属粉末、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[75]に記載の方法。
[79] 前記前駆体が、二硫化モリブデン(MoS)、テトラチオモリブデン酸アンモニウム((NHMoS)、ボランアンモニア錯体(BHNH)、赤リン、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[69]に記載の方法。
[80] 前記前駆体が、二硫化モリブデン(MoS)またはテトラチオモリブデン酸アンモニウム((NHMoS)を含む、[69]に記載の方法。
[81] 前記2D材料が、IT’-MoSおよび2H-MoSを含む、[80]に記載の方法。
[82] 前記前駆体が、ボランアンモニア錯体(BHNH)を含む、[69]に記載の方法。
[83] 前記2D材料が、六方晶窒化ホウ素(h-BN)を含む、[82]に記載の方法。
[84] 前記前駆体が、赤リンを含む、[69]に記載の方法。
[85] 前記2D材料が、黒リンを含む、[84]に記載の方法。
[86] 前記材料に電圧パルスを適用して、2D材料を形成する工程が、
(a)前記材料に複数回の電圧パルスを適用する工程であって、電圧パルスの回数は、1パルス~100パルスの範囲内である、工程
を含み;
(b)該電圧パルスのそれぞれが、1マイクロ秒~5秒の範囲内の長さの持続時間を有し;
(c)前記電圧パルスのそれぞれの電流が、0.01A/cm~10,000A/cmの範囲内であり;
(d)前記電圧パルスのそれぞれの電圧が、10V~4,000Vの範囲内である、[69]に記載の方法。
[87] (a)前記電圧パルスの回数が、1パルス~10パルスの範囲内であり;
(b)前記電圧パルスのそれぞれの持続時間の長さが、10マイクロ秒~1,000ミリ秒の範囲内であり;
(c)前記電圧パルスのそれぞれの電流が、0.1A/cm~10,00A/cmの範囲内であり;
(d)前記電圧パルスのそれぞれの電圧が、100V~400Vの範囲内である、[86]に記載の方法。
[88] 前記電圧パルスを適用する工程が、DC電圧を利用する、[69]に記載のプロセス。
[89] 前記電圧パルスを適用する工程が、AC電圧を利用する前記電圧パルスを適用する工程が、AC電圧を利用する、[69]に記載のプロセス。
[90] 前記電圧パルスが、3相電力を使用する動力源を使用して適用される、[69]に記載のプロセス。
[91] (a)前駆体を含む前駆体材料;
(b)該前駆体材料を閉じ込めるように機能可能な非導電性容器;および
(c)2D材料を調製するために該非導電性容器内の該前駆体材料に電圧パルスを適用するのに使用可能な電極
を含む装置。
[92] それを介して前記前駆体を前記非導電性容器に輸送することができるコンジットをさらに含む、[91]に記載の装置。
[93] 前記電極が前記電圧パルスを適用しているときに、前記非導電性容器の位置を定めることができるチャンバーをさらに含む、[91]に記載の装置。
[94] 前記非導電性容器が、石英またはセラミック材料を含む、[91]に記載の装置。
[95] (a)複数の前記非導電性容器を含み;
(b)ベルトまたはスクリューおよび収集ビンをさらに含み;
(c)該ベルトまたはスクリューは、
(i)前記前駆体材料を前記非導電性容器中に充填した後、複数の前記非導電性容器中の前記非導電性容器を前記チャンバーに輸送する;および
(ii)前記非導電性容器を、前記チャンバーから、調製された2D材料を前記収集ビン中に収集できる位置に輸送する
ように機能可能なものである、[91]に記載の装置。
[96] 前記電圧パルスを適用するように機能可能な複数のコンデンサーを含む、[91]に記載の装置。
[97] 前記電圧パルスの適用を制御するように機能可能な制御器および機械式リレーを含む、[91]に記載の装置。
[98] 制御器および機械式リレーに作動可能に連結されたインダクターおよびダイオードを含む、[97]に記載の装置。
[99] キルスイッチをさらに含む、[91]に記載の装置。
[100] 前記前駆体が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する、[91]に記載の装置。
[101] 前記前駆体が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[100]に記載の装置。
[102] 前記前駆体材料が、導電性源をさらに含む、[91]に記載の装置。
[103] (a)前記前駆体が、少なくとも最大で10-6S/cmの導電率を有し;
(b)前記導電性源が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する、[102]に記載の装置。
[104] 前記前駆体材料が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[103]に記載の装置。
[105] 前記前駆体材料から前記2D材料を生成するための連続プロセスを実行するように機能可能である、[91]に記載の装置。
[106] 前記前駆体材料から前記2D材料を生成するための自動プロセスを実行するように機能可能である、[91]に記載の装置。
[107] [91]に記載の装置を含むシステム。
[108] 前記装置が、DC電圧源に作動可能に連結されている、[107]に記載のシステム。
[109] 前記装置が、AC電圧源に作動可能に連結されている、[107]に記載のシステム。
[110] 前記装置が、3相電力を使用する動力源に作動可能に連結されている、[107]に記載のシステム。
[111] 前記動力源が、3相電力、それに続いて全波整流を使用する、[110]に記載のシステム。
[112] 前記動力源が、前記電圧パルスの持続時間を制御するためにゼロクロスリレーを使用する、[110]に記載のシステム。
[113] 前記動力源が、コンピューター制御をさらに含み、該コンピューター制御が、前記ゼロクロスリレーを通過することを可能にする半サイクルの数に基づいて前記電圧パルスの持続時間を選択するように機能可能なものである、[112]に記載のシステム。
[114] 前記動力源が、120、208、277、480ボルトAC(RMS)二乗平均平方根の3相のうちの1つを使用するように機能可能なものである、[110]に記載のシステム。
[115] 前記動力源が、AC電力を提供するように機能可能な3相発電機を含む、[110]に記載のシステム。
[116] 前記3相発電機が、ACモーターに機械的にカップリングされている、[115]に記載のシステム。
[117] (a)前記3相発電機が、ローターを含み;
(b)前記3相発電機が、前記ローターの慣性により、機械的動力を電流に迅速に変換することによってAC電力を提供するように機能可能なものである、[115]に記載のシステム。
[118] (a)前記3相発電機が、フライホイールを含み;
(b)前記3相発電機が、より長い持続時間および定常電圧および電流出力を提供するために、前記フライホイールを使用してAC電力を提供するように機能可能なものである、[115]に記載のシステム。
[119] (a)前記電圧パルスを適用するように機能可能な複数のコンデンサーを含み;
(b)前記電圧パルスの適用を制御するように機能可能な制御器および機械式リレーを含む、[107]に記載のシステム。
[120] 前記装置が、制御器および機械式リレーに作動可能に連結されたインダクターおよびダイオードを含む、[119]に記載のシステム。
[121] 前記装置が、キルスイッチをさらに含む、[107]に記載のシステム。
[122] バルクの量の乱層グラフェンを合成することを含むプロセス。
[123] 炭素ベースの材料から前記乱層グラフェンを作製するためのフラッシュグラフェンプロセスを含む、[122]に記載のプロセス。
[124] 前記乱層グラフェンが、低欠陥乱層グラフェンである、[122]に記載のプロセス。
[125] 前記乱層グラフェンとの複合材料を作製することをさらに含む、[122]に記載のプロセス。
[126] 実質的にグラフェンではない導電性炭素源に電圧パルスを適用することによって、乱層グラフェンを合成することを含むプロセス。
[127] 前記導電性炭素源の導電率が、10-5S/cmより大きい、[126]に記載のプロセス。
[128] 前記導電性炭素源の導電率が、10-3S/cmより大きい、[127]に記載のプロセス。
[129] 前記電圧パルスの持続時間が、1マイクロ秒~5秒である、[126]に記載のプロセス。
[130] 前記電圧パルスの持続時間が、100ミリ秒~500ミリ秒である、[129]に記載のプロセス。
[131] 前記電圧パルスが、2回~100回繰り返される、[126]に記載のプロセス。
[132] 前記電圧パルスが、2回~10回繰り返される、[131]に記載のプロセス。
[133] サンプルを通る電流が、0.01A/cm~10000A/cmである、[126]に記載のプロセス。
[134] サンプルを通る電流が、0.1A/cm~1000A/cmである、[133]に記載のプロセス。
[135] サンプルを通る電圧が、10V/cm~4000V/cmである、[126]に記載のプロセス。
[136] サンプルを通る電圧が、100V/cm~400V/cmである、[135]に記載のプロセス。
[137] 前記導電性炭素源が、無煙炭、より高温で処理したバイオ炭、焼成石油コークス、シュンガイト、カーボンナノチューブ、アスファルテン、アセチレンブラック、カーボンブラック、およびそれらの混合物からなる群から選択される、[126]に記載のプロセス。
[138] 前記導電性炭素源が、前記プロセスにとって十分な導電率を前記導電性炭素源が有するようにする導電性炭素源の添加剤を含む、[126]に記載のプロセス。
[139] (a)前記導電性炭素源の添加剤が、無煙炭、より高温で処理したバイオ炭、焼成石油コークス、カーボンナノチューブ、グラフェン量子ドット、アセチレンブラック、カーボンブラック、シュンガイト、グラフェン、またはそれらの混合物からなる群から選択され;
(b)前記導電性炭素源が、糞、プラスチック、ビニル重合体、縮合重合体、逐次重合体、連鎖重合体、リビング重合体、ゴム、フミン酸、炭水化物、米粉、食物廃棄物、食物、石炭、有機廃棄物、有機材料、瀝青炭、コークス、石油コークス、オイル、石油製品、天然ガスまたはオイルまたは二酸化炭素から非炭素原子をストリッピングして除いて得られた炭素、木材、セルロース、葉、枝、草類、バイオマス、動物の死体、魚の死体、タンパク質、およびそれらの混合物からなる群から選択されるより低い導電率の炭素材料であり;
(c)前記導電性炭素源の添加剤を、より低い導電率の炭素材料に添加して、そのより低い導電率の源を前記プロセスにとって十分な導電率を有するものにする、[138]に記載のプロセス。
[140] 前記導電性炭素源が、
(a)最大で10-7S/cmの導電率を有する炭素源;および
(b)前記炭素源と混合された導電性炭素源の添加剤
を含み、前記導電性炭素源が、少なくとも10-5S/cmの導電率を有する、[126]に記載のプロセス。
[141] 前記導電性炭素源が、少なくとも10-3S/cmの導電率を有する、[140]に記載のプロセス。
[142] 前記導電性炭素源の添加剤が、カーボンブラック、金属粉末、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[141]に記載のプロセス。
[143] 連続プロセスである、[126]に記載のプロセス。
[144] 自動プロセスである、[126]に記載のプロセス。
[145] (a)前記プロセスが、少なくとも1グラムのバルクのグラフェン材料を合成し;
(b)前記乱層グラフェンが、前記バルクのグラフェン材料の少なくとも90wt%である、[126]に記載のプロセス。
[146] (a)バルクのグラフェン材料の大部分は、乱層グラフェンであり;
(b)バルクのグラフェン材料は、少なくとも1グラムの重量を有する、バルクのグラフェン材料。
[147] 前記グラフェンの少なくとも90wt%が、乱層グラフェンである、[146]に記載のバルクのグラフェン材料。
[148] (a)前記バルクのグラフェン材料が、主として固体炭素源を含む炭素源材料から合成され、
(b)該固体炭素源は、固体状態の炭素源である、[146]に記載のバルクのグラフェン材料。
[149] 前記固体炭素源が、前記炭素源材料の少なくとも90wt%を構成する、[148]に記載のバルクのグラフェン材料。
[150] (a)前記バルクのグラフェン材料が、主として液体炭素源を含む炭素源材料から合成され、
(b)該液体炭素源は、液体状態の炭素源である、[146]に記載のバルクのグラフェン材料。
[151] 前記液体炭素源が、前記炭素源材料の少なくとも90wt%を構成する、[150]に記載のバルクのグラフェン材料。
[152] 乱層グラフェンおよび第2の材料を含む複合材料。
[153] 前記第2の材料が、コンクリート、セメント、プラスチック、塗料、コーティング、発泡体、ポリウレタン発泡体、床張り材、屋根ふき材、木材、合板、アルミニウム、鋼、銅、金属、アスファルト、金属酸化物、炭素-炭素複合材料、繊維、フィルムおよびそれらの組合せからなる群から選択される、[152]に記載の複合材料。
[154] 前記複合材料が、0.001wt%~10wt%の前記乱層グラフェンを含む、[152]に記載の複合材料。
[155] 前記複合材料の引張強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の引張強度より大きい、[152]に記載の複合材料。
[156] 前記複合材料の引張強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の引張強度より少なくとも10%大きい、[155]に記載の複合材料。
[157] 前記複合材料の圧縮強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の圧縮強度より大きい、[152]に記載の複合材料。
[158] 前記複合材料の圧縮強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の圧縮強度より少なくとも10%大きい、[157]に記載の複合材料。
[159] 前記複合材料のヤング率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料のヤング率と実質的に異なる、[152]に記載の複合材料。
[160] 前記複合材料のヤング率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料のヤング率と少なくとも10%異なる、[159]に記載の複合材料。
[161] 前記複合材料の降伏強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の降伏強度より大きい、[152]に記載の複合材料。
[162] 前記複合材料の降伏強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の降伏強度より少なくとも10%大きい、[160]に記載の複合材料。
[163] 前記複合材料の導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の導電率より大きい、[152]に記載の複合材料。
[164] 前記複合材料の導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の導電率より少なくとも10ジーメンス/センチメートル大きい、[163]に記載の複合材料。
[165] 前記複合材料の熱導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の熱導電率より大きい、[152]に記載の複合材料。
[166] 前記複合材料の熱導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の熱導電率より少なくとも1ワット/メートル・ケルビン高い、[165]に記載の複合材料。
[167] 前記第2の材料が、液体材料である、[152]に記載の複合材料。
[168] 前記液体材料が、冷却液、トランスミッション液、潤滑剤、オイル、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[167]に記載の複合材料。
[169] 前記液体材料が、掘削泥水およびフラッキング液からなる群から選択される、[167]に記載の複合材料。
[170] 前記乱層グラフェンが、前記液体材料のための流体損失防止添加剤である、[167]に記載の複合材料。
[171] 前記複合材料の粘度が、前記乱層グラフェンを含まない液体材料の粘度より少なくとも1ミリパスカル秒大きい、[167]に記載の複合材料。
[172] 前記第2の材料が、乾燥潤滑剤である、[152]に記載の複合材料。
[173] 乱層グラフェンを含む乾燥潤滑剤。
[174] 前記乱層グラフェンである、[173]に記載の乾燥潤滑剤。
[175] 低欠陥乱層グラフェンの組成物。
[176] (a)前記乱層グラフェンが、複数のグラフェンシートを含み、
(b)該グラフェンシートは、主としてsp混成炭素原子を含む、[175]に記載の組成物。
[177] 前記グラフェンシートが、少なくとも70原子%のsp混成炭素原子を含む、[165]に記載の組成物。
[178] 乱層グラフェンの化学的な共有結合の機能化を含む方法であって、機能化原子は、酸素、炭素、金属、硫黄、リン、非金属、メタロイド、およびそれらの組合せからなる群から選択される、上記方法。
[179] 界面活性剤、DNA、タンパク質、ポリマー、芳香族化合物、有機小分子、ガス、地下水汚染物、生物学的なセル、微生物、ポリ塩化ビフェニル、過塩素酸塩、およびホウ酸塩の1つまたはそれより多くによる乱層グラフェンの化学的な非共有結合の機能化を含む方法。
[180] (a)乱層グラフェンを含む材料を選択すること;および
(b)スケール防止剤として、または腐食抑制剤として前記材料を利用すること
を含む方法。
[181] 前記材料が、前記乱層グラフェンである、[180]に記載の方法。
[182] 乱層グラフェンを含むセンサーデバイスであって、該乱層グラフェンが、該センサーデバイスにおいて、分析物の吸着に基づいて電気特性を変更するように機能可能なものである、上記センサーデバイス。
[183] 前記電気特性が、移動度、抵抗、コンダクタンス、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[182]に記載のセンサーデバイス。
[184] 前記分析物が、ガス、生物学的物質、神経剤、およびそれらの組合せからなる群から選択される、[182]に記載のセンサーデバイス。
[185] 乱層グラフェンを含むデバイスであって、光学デバイス、光電子デバイス、および電子または光子の電界放出のように機能可能なデバイスからなる群から選択される、上記デバイス。

Claims (15)

  1. (a)実質的にグラフェンではない導電性炭素源に電圧パルスを適用する工程と、
    (b)電圧パルスをかけた導電性炭素源を加熱して導電性炭素源をグラフェンにする工程と、
    を含む、グラフェンを合成するためのプロセス。
  2. 前記導電性炭素源の導電率が、10-5S/cmより大きい、および/または、
    前記導電性炭素源が、無煙炭、焼成石油コークス、シュンガイト、カーボンナノチューブ、アスファルテン、アセチレンブラック、カーボンブラック、およびそれらの混合物からなる群から選択される、および/または、
    前記導電性炭素源が、前記プロセスにとって十分な導電率を前記導電性炭素源が有するようにする導電性炭素源の添加剤を含む、および/または、
    前記導電性炭素源が、50%未満のグラフェンを含む、請求項1に記載のプロセス。
  3. (a)前記導電性炭素源の添加剤が、無煙炭、焼成石油コークス、カーボンナノチューブ、グラフェン量子ドット、アセチレンブラック、カーボンブラック、シュンガイト、グラフェン、またはそれらの混合物からなる群から選択され;
    (b)前記導電性炭素源が、糞、プラスチック、ビニル重合体、縮合重合体、逐次重合体、連鎖重合体、リビング重合体、ゴム、フミン酸、炭水化物、米粉、食物廃棄物、食物、石炭、有機廃棄物、有機材料、瀝青炭、コークス、石油コークス、オイル、石油製品、天然ガスまたはオイルまたは二酸化炭素から非炭素原子をストリッピングして除いて得られた炭素、木材、セルロース、葉、枝、草類、バイオマス、動物の死体、魚の死体、タンパク質、およびそれらの混合物からなる群から選択されるより低い導電率の炭素材料であり;
    (c)前記導電性炭素源の添加剤を、より低い導電率の炭素材料に添加して、そのより低い導電率の源を前記プロセスにとって十分な導電率を有するものにする、請求項1または2に記載のプロセス。
  4. 合成されたグラフェンが乱層グラフェンである、および/または、乱層グラフェンが、誤配向したグラフェン層を有するグラフェンである、請求項1~3のいずれかに記載のプロセス。
  5. 導電性炭素源と合成したグラフェンが連続して移動されるプロセスであり、導電性炭素源と合成したグラフェンの移動が、導電性炭素源への電圧パルスの適用と同調している、請求項1に記載のプロセス。
  6. 導電性炭素源が、前記プロセスにとって十分な導電率を前記導電性炭素源が有するようにする導電性炭素源の添加剤を含む、請求項1に記載のプロセス。
  7. (a)前記導電性炭素源の添加剤が、無煙炭、焼成石油コークス、カーボンナノチューブ、グラフェン量子ドット、アセチレンブラック、カーボンブラック、シュンガイト、グラフェン、またはそれらの混合物からなる群から選択され;
    (b)前記導電性炭素源が、糞、プラスチック、ビニル重合体、縮合重合体、逐次重合体、連鎖重合体、リビング重合体、ゴム、フミン酸、炭水化物、米粉、食物廃棄物、食物、石炭、有機廃棄物、有機材料、瀝青炭、コークス、石油コークス、オイル、石油製品、天然ガスまたはオイルまたは二酸化炭素から非炭素原子をストリッピングして除いて得られた炭素、木材、セルロース、葉、枝、草類、バイオマス、動物の死体、魚の死体、タンパク質、およびそれらの混合物からなる群から選択されるより低い導電率の炭素材料であり;
    (c)前記導電性炭素源の添加剤を、より低い導電率の炭素材料に添加して、そのより低い導電率の源を前記プロセスにとって十分な導電率を有するものにする、請求項6に記載のプロセス。
  8. 乱層グラフェンおよび第2の材料を含む、請求項1~7のいずれかの方法で製造された複合材料。
  9. 前記第2の材料が、コンクリート、セメント、プラスチック、塗料、コーティング、発泡体、ポリウレタン発泡体、床張り材、屋根ふき材、木材、合板、アルミニウム、鋼、銅、金属、アスファルト、金属酸化物、炭素-炭素複合材料、繊維、フィルムおよびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項に記載の複合材料。
  10. 前記複合材料が、0.001wt%~10wt%の前記乱層グラフェンを含む、請求項に記載の複合材料。
  11. 前記複合材料の引張強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の引張強度より大きい、および/または、前記複合材料の圧縮強度が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の圧縮強度より大きい、および/または、前記複合材料のヤング率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料のヤング率と実質的に異なる、および/または、前記複合材料のヤング率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料のヤング率と少なくとも10%異なる、および/または、前記複合材料の導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の導電率より大きい、および/または、前記複合材料の熱導電率が、前記乱層グラフェンを含まない前記第2の材料の熱導電率より大きい、請求項に記載の複合材料。
  12. (a)バルクのグラフェン材料の大部分は、乱層グラフェンであり;
    (b)バルクのグラフェン材料は、少なくとも1グラムの重量を有する、バルクのグラフェン材料。
  13. 前記グラフェンの少なくとも90wt%が、乱層グラフェンである、請求項12に記載のバルクのグラフェン材料。
  14. (a)前記バルクのグラフェン材料が、主として固体炭素源を含む炭素源材料から合成され、
    (b)該固体炭素源は、固体状態の炭素源である、請求項12に記載のバルクのグラフェン材料。
  15. (a)前記バルクのグラフェン材料が、主として液体炭素源を含む炭素源材料から合成され、
    (b)該液体炭素源は、液体状態の炭素源である、請求項12に記載のバルクのグラフェン材料。
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