JPWO2020022300A1 - ゲートカバー - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、ヘッドアップディスプレイ装置等の表示装置に適用可能で、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するゲートカバーを提供することである。本発明のゲートカバーは、少なくとも支持体及び赤外線反射層を有するゲートカバーであって、前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とする。

Description

本発明は、ゲートカバーに関し、より詳しくは、ヘッドアップディスプレイ装置等の表示装置に適用可能で、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するゲートカバーに関する。

ヘッドアップディスプレイ装置（一般に「ＨＵＤ」ともいう。）は、液晶表示装置（以下、ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、という。）等から出射した画像を、ゲートカバーを通してフロントガラスに向けて投影するものだが、同時にフロントガラスにあたる太陽光が装置内に集光されてしまうため、ＬＣＤの熱劣化により表示不良が生じてしまうことが問題となっていた。従来、熱対策としてヘッドアップディスプレイ装置内にコールドミラーやホットミラーを設置して太陽光の熱線がＬＣＤに到達しないようにする技術（例えば、特許文献１、特許文献２、及び図１参照。）が知られている。

図１は、従来のヘッドアップディスプレイ装置への太陽光の入射経路を示す模式図である。

自動車の運転席前方に設置されたヘッドアップディスプレイ装置１は、フロントガラス２より入射した太陽光Ｌが、ゲートカバー３を通過し、凹面である拡大鏡４により集光され、コールドミラー５及びホットミラー６により近赤外〜赤外線が一部カットされ、ＬＣＤ７に入射される。しかしながら、当該コールドミラー５及びホットミラー６だけの熱線カット効果では、投影情報の増加に伴うゲートカバーの開口面積の大型化に伴う熱線の入射量増加への対応としては不足しており、熱線によるＬＣＤの表示不良の発生に対しては、さらなる熱対策が求められている。

加えて、太陽光が入り込むことによりヘッドアップディスプレイ装置内の温度が上昇すると車内の湿気によりゲートカバーに結露が生じる場合がある。これにより投影画像が不鮮明になり、視認性が低くなる。対策として特許文献３のように送風ファンにて結露を解消する方法を応用することが考えられるが、送風ファンを動かすための電力が必要となると同時に、送風ファンの駆動によりさらに装置内の温度が上昇する懸念もある。

特開２０１３−８６６９１号公報 特開２００７−６５０１１号公報 特開２０１６−５５７１３号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、ヘッドアップディスプレイ装置等の表示装置に適用可能で、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するゲートカバーを提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において

、少なくとも支持体及び赤外線反射層を有し、前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％おける平衡含水率が特定の値以上であるゲートカバーによって、ヘッドアップディスプレイ装置等の表示装置に適用可能で、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するゲートカバーが得られることを見出した。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．少なくとも支持体及び赤外線反射層を有するゲートカバーであって、
前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とするゲートカバー。

２．前記ゲートカバーが、外光入射側から支持体及び赤外線反射層の順に積層されていることを特徴する第１項に記載のゲートカバー。

３．前記赤外線反射層が誘電体多層膜であり、かつ当該誘電体多層膜が親水性ポリマーを含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載のゲートカバー。

４．前記誘電体多層膜が、無機又は有機微粒子を含有することを特徴とする第３項に記載のゲートカバー。

５．さらに、偏光板を有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載のゲートカバー。

６．前記ゲートカバーが、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイ装置に具備されることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載のゲートカバー。

本発明の上記手段により、ヘッドアップディスプレイ装置等の表示装置に適用可能で、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するゲートカバーを提供することができる。

本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

ゲートカバーが赤外線反射層を有することにより、太陽光の熱線がヘッドアップディスプレイ装置に入る部分で遮断できるため、装置内の温度上昇を効率よく抑制できる。また、当該赤外線反射層は、温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が１．０％以上であることによって水分吸収性及び水分放散性を有するため、送風ファン等の余分な電力を消費せずに、ゲートカバーの結露を吸収、解消できるため、当該結露による表示画像の視認性の低下を抑制できる。

従来のヘッドアップディスプレイ装置への太陽光の入射経路を示す模式図 本発明の、赤外線反射層を有するゲートカバーの構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層を有するゲートカバーの別の構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層を有するゲートカバーの別の構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層及び偏光板を有するゲートカバーの構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層及び偏光板を有するゲートカバーの別の構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層及び偏光板を有するゲートカバーの別の構成例を示す模式図 本発明の、赤外線反射層及び偏光板を有するゲートカバーの別の構成例を示す模式図 本発明に係る偏光板の基本的構成の一例を示す概略断面図 液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図 実施例で作製したゲートカバーの模式図 実施例で作製したゲートカバーの模式図 実施例で作製したゲートカバーの模式図 実施例で作製したゲートカバーの模式図 実施例で用いたゲートカバーのＰＣフィルムとＴＡＣフィルムが積層された構成を示す模式図 実施例で用いたゲートカバーのＰＣフィルムとＴＡＣフィルムが積層された別の構成を示す模式図 実施例で用いたゲートカバーのＰＣフィルムとＴＡＣフィルムが積層された別の構成を示す模式図

本発明のゲートカバーは、少なくとも支持体及び赤外線反射層を有するゲートカバーであって、前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とする。この特徴は、下記実施態様に共通する又は対応する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ゲートカバーが、外光入射側から支持体及び赤外線反射層の順に積層されていることが、ヘッドアップディスプレイ装置内の温度上昇を抑制する観点から好ましい。

また、前記赤外線反射層が、誘電体多層膜であり、かつ当該誘電体多層膜が親水性ポリマーを含有することが、水分吸収性及び水分放散性をより高める観点から好ましい。

前記赤外線反射層は、無機又は有機微粒子を含有することにより、誘電体多層膜間での屈折率差を付与しやすくできるため、少ない層数で赤外線反射性を発現でき、薄膜化できる観点から好ましい。

また、本発明のゲートカバーが偏光板を有することは、当該偏光板が光吸収することにより、ヘッドアップディスプレイ装置内の温度上昇をさらに抑制する観点から好ましい。

前記ゲートカバーは、省スペース及び省エネルギーの観点から自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイ装置に具備されることが好ましい。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

≪本発明のゲートカバーの概要≫
本発明のゲートカバーは、少なくとも支持体及び赤外線反射層を有するゲートカバーであって、前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とする。

本発明でいう「ゲートカバー」とは、ヘッドアップディスプレイ装置に含まれ、当該装置から画像情報を出射する出口部分をいい、通常透明樹脂成形体である。当該透明樹脂成形体は、外部からの埃や塵の装置内への侵入を防止する機能を併せて有する。

本発明でいう「支持体」とは、前記赤外線反射層を担持することでゲートカバーを構成する部材いう。

また、「赤外線反射層」とは、誘電体多層膜で構成される近赤外から赤外領域の波長光（例えば、少なくとも光波長７５０〜１４００ｎｍの範囲、好ましくは９００〜１２１５ｎｍの範囲）を反射する機能層をいう。

また、本発明の中で用いられる「基材」とは、赤外線反射層や、偏光板の偏光子を支持できる程度に剛性を有する部材をいう。好ましくは樹脂成形体（以下、基材フィルムともいう。）である。

本発明では、赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とするが、これは赤外線反射層そのものの平衡含水率をいう。したがって、例えば、基材フィルム上に赤外線反射層が形成されている場合は、以下の方法によって、当該赤外線反射層の平衡含水率を測定する。

〈平衡含水率の測定〉
サンプル：基材フィルム及び当該基材フィルム上に赤外線反射層を有するフィルム（以下、反射フィルムと表記）
サンプルサイズ：Ａ４サイズ、１枚
装置：天秤
測定方法：温度２３℃、湿度２０％ＲＨ下、２４時間調湿した基材フィルムと反射フィルムの質量を、例えば、微量水分計（例えば、三菱化学アナリテック（株）製、ＣＡ−２０型）で測定後、当該基材と反射フィルムを温度２３℃、湿度５０％ＲＨ下、２４時間調湿した後再度質量を測定する。その後、温度２３℃、湿度８０％ＲＨ、２４時間調湿した後質量を測定する。測定した質量からそれぞれの質量差を算出する。その質量差は基材と赤外線反射層とが吸った水分の質量であることから、当該質量差を比較することによって、反射フィルムにおける赤外線反射層の平衡含水率を求めることができる。

赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であり、上限は特に制限されるものではないが、２．０質量％以下であることが好ましい。

＜本発明のゲートカバーの構成＞
図２は、本発明の、赤外線反射層を有するゲートカバーの好ましい構成例を示す模式図である。図２において、上側がヘッドアップディスプレイ装置の太陽光入射側を示す。

本発明のゲートカバー１０は、支持体１１に赤外線反射層１２が積層されて構成されているが、その基本的な構成は、図２Ａ及び図２Ｂで示すように、支持体１１の上下の一方の面に赤外線反射層１２を有する構成と、図２Ｃで示すように、支持体１１の上下の両面に赤外線反射層１２を有する構成があり、特に限定されるものではない。支持体１１は、後述するポリカーボネート（以下、ＰＣという。）フィルム、又はトリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣという。）フィルム）が好ましく用いられる。

構成の中で好ましくは、前記ゲートカバーが、外光入射側から支持体及び赤外線反射層の順に積層されている構成（図２Ｂ又は図２Ｃ）であり、ヘッドアップディスプレイ装置内の温度上昇を抑制することができる。また、赤外線反射層１２は一層のみではなく、複数が積層されていてもよい。さらに赤外線反射層１２はいったん基材フィルム（不図示）上に形成された後、支持体１１に接着剤又は粘着剤を介して貼合されていてもよい。

図３は、本発明の変形例である、赤外線反射層及び偏光板を有するゲートカバーの好ましい構成例を示す模式図である。図３において、上側がヘッドアップディスプレイ装置の太陽光入射側を示す。

図３で示す構成例において、偏光子１３と記載している部材は、偏光子の両側を保護フィルム（不図示）で挟持している通常の偏光板（図４参照。）であってもよく、また、ゲートカバー１０の支持体１１を偏光子１３の保護フィルムとして用いる構成であってもよい。前記通常の偏光板を用いる場合は、偏光子の両側の保護フィルムとして、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが用いられることが好ましく、さらに、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが積層されて保護フィルムを形成し偏光子１３の両側を挟持していてもよい。その場合、偏光子１３に接する面はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムであることが好ましい。

図３Ａは、支持体１１の上に、偏光子１３及び赤外線反射層１２を積層した構成である。赤外線反射層１２は図２と同様に基材フィルム（不図示）上に形成されていて、支持体１１に貼合されていてもよい。支持体１１は前記したように、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが用いられることが好ましい。

図３Ｂは、支持体１１の下、すなわちヘッドアップディスプレイ装置の内側に向けて、偏光子１３及び赤外線反射層１２を積層した構成である。

図３Ｃは、支持体１１上に偏光子１３を配置し、当該偏光子１３上に赤外線反射層１２、また支持体のヘッドアップディスプレイ装置の内側に向けて、赤外線反射層１２を積層した構成であり、図３Ｄは、その変形例である、支持体１１の下に偏光子１３を配置し、支持体１１及び偏光子１３の両側に赤外線反射層１２を積層した構成である。

以上は一例であり、これに限定されるものではなく、各部材がさらにそれぞれ複数積層されていてもよい。

以下、本発明のゲートカバーを構成する各要素について説明する。

１．ゲートカバーを構成する支持体
本発明のゲートカバーは、前記したように、ヘッドアップディスプレイ装置に含まれ、当該装置から画像情報を出射する出口部分をいい、通常ゲートカバーを構成する支持体は、樹脂成形体である。当該樹脂成形体は装置内のＬＣＤからの画像情報を取り出すために透明であり、また外部からの埃や塵の装置内への侵入を防止する機能を有する。透明度や温度、湿度に対する強度の関係から、アクリル樹脂板、ポリカーボネート樹脂板又はトリアセチルセルロース樹脂板が用いられる。

前記樹脂板は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６：１９９８で示される可視光領域の透過率としては６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、特に８０％以上であることが好ましい。

当該樹脂板の厚さは、特に制限されるものではないが、５０〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、５０〜５００μｍの範囲内であることがより好ましい。

また、ゲートカバーを構成する支持体は、本発明に係る赤外線反射層の基材フィルムや、後述する偏光板の保護フィルムを兼ねてもよく、その場合は部品点数及び加工工数の削減や、ゲートカバー自体の薄膜化が期待できる。

２．赤外線反射層
本発明に係る赤外線反射層は、赤外線反射層が、誘電体多層膜であり、かつ当該誘電体多層膜が親水性ポリマーを含有し、前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とし、水分吸収性有することが特徴である。

＜誘電体多層膜＞
本発明に係る光反射性の誘電体多層膜は、種々の態様の構成をとり得るが、誘電体である無機又は有機微粒子及び親水性ポリマーを含有し、かつ光反射性を有することを特徴とする。光反射性については、光の波長により選択的に反射する態様のものであることが好ましい。直接太陽光が照射されるゲートカバーとしては、近赤外及び赤外領域の光を選択的に反射する性質を有することが好ましいが、同時に紫外線についても、ＬＣＤの劣化を助長することから紫外領域の光も反射することが好ましい。したがって、特に３００〜４０５ｎｍ及び９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を反射するものであることが好ましい。

また、本発明において「親水性ポリマー」とは、２５℃の水１００ｇに０．００１ｇ以上溶解するポリマーのことをいう。また、熱水に溶解させた後、２５℃で同様に溶解している樹脂も、本発明でいう親水性ポリマーとして定義する。親水性ポリマーは、公知の親水性ポリマーを用いることができ、具体例としては、後述の親水性ポリマーとして例示されているものを用いることができる。

また、本発明において「光を反射する」とは、表面反射率が１０％以上であることをいう。したがって、例えば、「３００〜４０５ｎｍ及び９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を反射する」とは、３００〜４０５ｎｍ及び９００〜１２１５ｎｍの波長領域の光の表面反射率が１０％以上であるということを意味する。

また、本発明において「光反射性の誘電体多層膜」の「光反射性」とは、特定の波長領域で表面反射率よりも高い反射特性を有することをいう。

このような光反射特性を実現するために、本発明に係る誘電体多層膜は、基本的には、例えば、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層させたものであることが好ましい。層の種類は２種に限定されず、それ以上の種類であってもよい。

誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。

なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、相対的なものである。すなわち、「低屈折率層」及び「高屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、相対的に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層と定義する。

したがって、「低屈折率層」及び「高屈折率層」なる用語は、誘電体多層膜を構成する各屈折率層において、隣接する二つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。

（特定の波長領域内の光を反射するための誘電体多層膜の構成）
特定の波長領域内の光を反射するための誘電体多層膜は、低屈折率層及び高屈折率層の層厚及び積層数を調整することによって、形成することができる。以下、低屈折率層の屈折率を１．５、高屈折率層の屈折率を１．７とした場合において、９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を反射する誘電体多層膜の構成の一例を説明する。

まず、低屈折率層が９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる層厚について説明する。低屈折率層をその波長領域内の光をよく反射できるようにするためには、例えば、低屈折率層の光反射率のピークの位置に対応する波長を、その波長領域の中央値である１０５７．５ｎｍとすることで実現できる。この場合、下記式１のように、この「中央値の波長」を「屈折率×４」で除することによって、この中央値の波長が光反射率のピークの位置に対応する波長となる低屈折率層の層厚を算出することができる。

式１：低屈折率層の層厚＝中央値の波長／（屈折率×４）
上記の例の場合は、中央値の波長：１０５７．５ｎｍ、屈折率：１．５であるので、低屈折率層の層厚は１７６．３ｎｍと算出することができる。すなわち、低屈折率層の層厚を１７６．３ｎｍとすることで、低屈折率層が９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる。

高屈折率層における、９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる層厚は、低屈折率層と同様に上記式１により算出できる。具体的には、中央値の波長：１０５７．５ｎｍ、屈折率：１．７であるので、高屈折率層の層厚は１５５．５ｎｍと算出することができる。

低屈折率層と、高屈折率層の積層数を増やせば、より高い反射率とすることができる。
したがって、誘電体多層膜を構成する低屈折率層（層厚：１７６．３ｎｍ、屈折率：１．５）と、高屈折率層（層厚：１５５．５ｎｍ、屈折率：１．７）とを、所望の光反射率を有するようになるまで積層数を増やして交互に積層することで、９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を反射する誘電体多層膜を形成することができる。

同様に低屈折率層の屈折率を１．５、高屈折率層の屈折率を１．７とした場合において、３００〜４０５ｎｍの波長領域内の光を反射する誘電体多層膜の構成の一例を説明する。

低屈折率層をその波長領域内の光をよく反射できるようにするためには、例えば、低屈折率層の光反射率のピークの位置に対応する波長を、その波長領域の中央値である３５２．５ｎｍとすることで実現できる。この場合、前記式１のように、この「中央値の波長」を「屈折率×４」で除することによって、この中央値の波長が光反射率のピークの位置に対応する波長となる低屈折率層の層厚を算出することができる。

上記の例の場合は、中央値の波長：３５２．５ｎｍ、屈折率：１．５であるので、低屈折率層の層厚は５８．８ｎｍと算出することができる。すなわち、低屈折率層の層厚を５８．８ｎｍとすることで、低屈折率層が３００〜４０５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる。

高屈折率層における、３００〜４０５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる層厚は、低屈折率層と同様に上記式１により算出できる。具体的には、中央値の波長：３５２．５ｎｍ、屈折率：１．７であるので、高屈折率層の層厚は５１．８ｎｍと算出することができる。

低屈折率層と、高屈折率層の積層数を増やせば、より高い反射率とすることができる。
したがって、誘電体多層膜を構成する低屈折率層（層厚：５８．８ｎｍ、屈折率：１．５）と、高屈折率層（層厚：５１．８ｎｍ、屈折率：１．７）とを、所望の光反射率を有するようになるまで積層数を増やして交互に積層することで、３００〜４０５ｎｍの波長領域内の光を反射する誘電体多層膜を形成することができる。

次に、２つの特定の波長領域内の光を反射するための誘電体多層膜の構成について説明する。２つの特定の波長領域内の光を反射するための誘電体多層膜も、低屈折率層及び高屈折率層のそれぞれの層厚を調整することによって、形成することができる。以下、低屈折率層の屈折率を１．５、高屈折率層の屈折率を１．７とした場合において、構成波長領域３００〜４０５ｎｍ及び９００〜１２１５ｎｍの両方の波長領域内の光を反射する誘電体多層膜の構成の一例を説明する。

上記のとおり、低屈折率層が９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる層厚は、上記式１により算出できる。具体的には、中央値の波長：１０５７．５ｎｍ、屈折率：１．５であるので、低屈折率層の層厚は１７６．３ｎｍと算出することができる。

また、高屈折率層が９００〜１２１５ｎｍの波長領域内の光を効率的に反射できる層厚も、上記式１により算出できる。具体的には、中央値の波長：１０５７．５ｎｍ、屈折率：１．７であるので、高屈折率層の層厚は１５５．５ｎｍと算出することができる。

さらに、多層膜による反射の場合、反射ピークに対応する位置の波長の１／３の付近の波長域にも強い反射が発生するため、１０５７．５ｎｍ／３＝３５２．５ｎｍの付近の波長域でも反射率が大きくなる。

したがって、誘電体多層膜を構成する低屈折率層（層厚：１７６．３ｎｍ、屈折率：１．５）と、高屈折率層（層厚：１５５．５ｎｍ、屈折率：１．７）とを、所望の光反射率を有するようになるまで積層数を増やして交互に積層することで、３００〜４０５ｎｍ及び９００〜１２１５ｎｍの両方の波長領域内の光を反射する誘電体多層膜を形成することができる。

各誘電体多層膜は、その構成材料として誘電体成分が含有されていることが必要であるが、具体的には、無機又は有機微粒子と親水性ポリマーを含有する。有機微粒子としては、公知のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。

本発明では、中でも無機微粒子と親水性ポリマーを含有することが好ましく、以下、各成分について説明する。

（無機微粒子）
本発明において、低屈折率層及び高屈折率層は、無機微粒子として金属酸化物粒子を含有することが好ましい。以下、低屈折率層及び高屈折率層のそれぞれについて説明する。

〈低屈折率層に適用可能な無機微粒子（金属酸化物粒子）〉
本発明に係る低屈折率層には、金属酸化物粒子としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカゾル、特に酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。

また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特に酸化ケイ素（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、酸化ケイ素以外の公知の金属酸化物粒子（無機酸化物粒子）も使用することができる。屈折率を調整するために、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子としては、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子は、その平均粒径（個数平均；直径）が３〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜４０ｎｍの範囲であることがさらに好ましく、３〜２０ｎｍの範囲であることが特に好ましく、４〜１０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。

また、低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子の粒径は、一次平均粒径の他に、体積平均粒径により求めることもできる。

本発明に適用可能なコロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、及び国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。

このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。

コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ又はＢａ等で処理されたものであってもよい。

また、低屈折率層の酸化ケイ素粒子としては、上述のように、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍの範囲であると好ましく、５〜５０ｎｍの範囲であるとより好ましく、５〜４５ｎｍの範囲であるとさらに好ましい。

なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形又は実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形又は実質的に円形若しくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。

低屈折率層における酸化ケイ素粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、２０〜９０質量％の範囲であることが好ましく、３０〜８５質量％の範囲であることがより好ましく、４０〜８０質量％の範囲であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。

〈高屈折率層に適用可能な無機微粒子（金属酸化物粒子）〉
本発明に係る高屈折率層においては、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。高屈折率層に適用する金属酸化物粒子としては、上記説明した低屈折率層に適用する金属酸化物粒子とは異なることが好ましい。

本発明に係る高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛粒子、アルミナ粒子、コロイダルアルミナ、酸化ニオブ粒子、酸化ユウロピウム粒子、ジルコン粒子等を挙げることができる。

上記金属酸化物粒子は、それぞれ１種単独で用いても、又は２種以上混合して用いてもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、酸化ジルコニウム粒子を含有することが好ましい。酸化ジルコニウム粒子を含む高屈折率層は、透明でより高い屈折率を発現することができる。また、光触媒活性が低いことから、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐光性、耐候性が高くなる。なお、本発明において、酸化ジルコニウムとは二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）を意味する。

上記酸化ジルコニウム粒子は、立方晶でも正方晶であってもよく、また、それらの混合物であってもよい。

高屈折率層に含まれる酸化ジルコニウム粒子の大きさは、特に制限されるものではないが、体積平均粒径又は一次平均粒径により求めることができる。高屈折率層で用いられる酸化ジルコニウム粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であると好ましく、１〜１００ｎｍの範囲であるとより好ましく、２〜５０ｎｍの範囲であるとさらに好ましい。また、高屈折率層で用いられる酸化ジルコニウム粒子の一次平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、１〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、２〜５０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。体積平均粒径又は一次平均粒径が１〜１００ｎｍの範囲内であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。

なお、本発明でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。

また、本発明において、一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。

透過型電子顕微鏡から求める場合、粒子の一次平均粒径は、粒子そのもの、又は屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。

また、酸化ジルコニウム粒子としては、水系の酸化ジルコニウムゾルの表面を変性して有機溶剤等に分散可能な状態にしたものを用いてもよい。

酸化ジルコニウム粒子又はその分散液の調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、特開２０１４−８０３６１号公報に記載されるように、ジルコニウム塩を水中にてアルカリと反応させて、酸化ジルコニウム粒子のスラリーを調製し、有機酸を加えて水熱処理する方法が用いられうる。

酸化ジルコニウム粒子は、市販のものを使用してもよく、例えば、ＳＺＲ−Ｗ、ＳＺＲ−ＣＷ、ＳＺＲ−Ｍ、及びＳＺＲ−Ｋ等（以上、堺化学工業株式会社製）を好適に使用することができる。

さらに、本発明で用いられる酸化ジルコニウム粒子は、単分散性であることが好ましい。

高屈折率層における酸化ジルコニウム粒子の含有量としては、特に制限されないが、高屈折率層の全固形分に対して、１５〜９５質量％の範囲であると好ましく、２０〜９０質量％の範囲であるとより好ましく、３０〜９０質量％の範囲であるとさらにより好ましい。上記範囲とすることで、光反射特性の良好なものとできる。

本発明に係る誘電体多層膜において、高屈折率層には、酸化ジルコニウム粒子以外にも、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、酸化ニオブ、酸化ユウロピウム等の金属酸化物粒子（高屈折率金属酸化物微粒子）を用いることができる。なお、上記高屈折率金属酸化物微粒子は、屈折率を調整するために、１種であっても２種以上を併用してもよい。なお、上記酸化ジルコニウム以外の高屈折率金属酸化物微粒子の大きさは、特に制限されないが、体積平均粒径が１〜１００ｎｍ以下であると好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であるとより好ましい。一次平均粒径が１〜１００ｎｍ以下であると好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であるとより好ましい。また、高屈折率層における上記高屈折率金属酸化物微粒子の含有量としては、特に制限されないが、酸化ジルコニウムと組み合わせる場合においては、酸化ジルコニウム粒子の含有量と高屈折率金属酸化物微粒子の含有量との和が、高屈折率層の全固形分に対して、１５〜９５質量％の範囲となるように調整されると好ましく、２０〜８０質量％の範囲であるとより好ましく、３０〜８０質量％の範囲であるとさらにより好ましい。

なお、酸化ジルコニウムと他の金属酸化物微粒子を組み合わせる場合、高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子の総量（酸化ジルコニウム粒子と上記酸化ジルコニウム以外の高屈折率金属酸化物微粒子との合計量）に対して、酸化ジルコニウム粒子の含有量は８０〜１００質量％の範囲であることが好ましく、９０〜１００質量％の範囲であることが好ましく、１００質量％であることがさらに好ましい。

上記高屈折率層の酸化ジルコニウム粒子は、複数存在する高屈折率層の少なくとも１層に含まれていればよい。

〈低屈折率層の親水性ポリマー〉
本発明に係る低屈折率層には、従来公知の親水性ポリマーを用いることができる。

本発明に係る低屈折率層においては、特に、ポリビニルアルコール系樹脂をバインダー樹脂として用いることが好ましい。

ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１０００以上であることが好ましく、平均重合度が１５００〜５０００の範囲であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００％の範囲であることが好ましく、８０〜９９．９％の範囲であることが特に好ましい。

本発明で用いられるポリビニルアルコールは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコールとして用いられる市販品の例としては、例えば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５（以上、株式会社クラレ製）、ＪＣ−２５、ＪＣ−３３、ＪＦ−０３、ＪＦ−０４、ＪＦ−０５、ＪＰ−０３、ＪＰ−０４、ＪＰ−０５、ＪＰ−４５（以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。

本発明に適用するバインダー樹脂は、本発明の効果を損なわない限りでは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。このような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。

変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。

また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、株式会社クラレ製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報及び同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、及び特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。

ビニルアルコール系ポリマーとしては、エクセバール（前出）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。

低屈折率層においては、上記ポリビニルアルコール系樹脂以外に、本発明の目的効果を損なわない範囲でその他のバインダー樹脂を適用することができる。

〈高屈折率層のバインダー樹脂〉
高屈折率層に適用可能なバインダー樹脂としては、成膜性が良好である観点から、低屈折率層で説明したのと同様のポリビニルアルコール系樹脂を適用することが特に好ましいが、その他には、ポリ（メタ）アクリレート等を適用することができる。

高屈折率層を構成するバインダー樹脂は１種であってもよいし、２種以上であってもよい。

ポリ（メタ）アクリレートとしては、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体であり、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレートが挙げられる。

高屈折率層に含まれるポリ（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、１００００〜１００００００程度であり、５００００〜８０００００の範囲であることが好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。

〈その他の親水性ポリマー〉
更に、本発明に係る低屈折率層や高屈折率層に適用可能なその他の親水性ポリマーとしては、例えば、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、反応性官能基を有するポリマー等を挙げることができ、その詳細については、例えば、特開２０１２−２７２８８号公報、特開２０１２−１３９９３８号公報、特開２０１２−１８５３４２号公報、特開２０１２−２１５７３３号公報、特開２０１２−２２０７０８号公報、特開２０１２−２４２６４４号公報、特開２０１２−２５２１３７号公報、特開２０１３−４９１６号公報、特開２０１３−９７２４８号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報、特開２０１４−８９３４７号公報、特開２０１４−２０１４５０号公報、特開２０１４−２１５５１３号公報等の記載を参照することができる。

（各屈折率層に適用可能なその他の添加剤）
本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、及び特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、及び特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオン又はノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、及び特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、ポリエステル樹脂、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。

〔誘電体多層膜の積層構造〕
本発明に係る誘電体多層膜は、ゲートカバー又は基材フィルム上に無機微粒子を含有する高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜であることが好ましい。

一般に、誘電体多層膜においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光、例えば、紫外線や赤外線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明においては、少なくとも隣接した２層（高屈折率層及び低屈折率層）の屈折率差が０．１５以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、特に好ましくは０．２１以上である。また、上限には特に制限はないが通常０．５以下である。

この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフト（例えば、（ＦＴＧ Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｆｉｌｍ ＤＥＳＩＧＮ Ｖｅｒｓｉｏｎ ２．２３．３７００））を用いてシミュレーション又は計算することができる。例えば、近赤外線反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。

誘電体多層膜において、高屈折率層及び低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。

本発明に係る誘電体多層膜は反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、紫外線反射層や可視光線反射層や近赤外線反射層とすることができる。すなわち、反射率をアップさせる特定波長領域を、近赤外〜赤外領域に設定すれば赤外線反射層となる。また、反射率をアップさせる特定波長領域を紫外光領域にも設定すれば、赤外線反射層のみならず紫外線反射層としても機能する。

本発明に係る誘電体多層膜における低屈折率層は、屈折率が１．１０〜１．６０の範囲であることが好ましく、より好ましくは１．３０〜１．５０の範囲である。高屈折率層は、屈折率が１．６５〜１．８０の範囲であることが好ましく、より好ましくは１．７０〜１．７５の範囲である。

屈折率層の１層（最下層、最表層を除く）あたりの厚さ（乾燥後の層厚）は、２０〜１０００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲であることがより好ましく、５０〜３５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。

本発明において、誘電体多層膜の全体の厚さは、好ましくは１２〜３１５μｍの範囲、より好ましくは１５〜２００μｍの範囲、さらに好ましくは２０〜１００μｍの範囲である。

さらに、光学特性をより良好なものとするために、誘電体多層膜のヘイズは小さい方が好ましく、０〜１．５％の範囲であるとより好ましい。

〔誘電体多層膜の形成方法〕
本発明に係る誘電体多層膜の形成方法としては、前述のように、ゲートカバー又は基材フィルム上に、高屈折率層と低屈折率層とを積層して形成することができる方法であれば、いかなる方法でも用いられ得る。なお、ゲートカバー上に高屈折率層と低屈折率層とを直接積層する方法を採用するか、基材フィルム上に高屈折率層と低屈折率層とを連続して積層する方法を採用するかは、生産性やコストを考慮して決定すればよい。

以下、一例として基材フィルム上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成する方法を、具体的に説明する。

（基材フィルム）
基材フィルムとしては、透明樹脂基材であることが好ましく、特に限定されるものではない。

透明樹脂基材として使用できる樹脂としては特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリサルフォン（ＰＳＦ樹脂）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であるセルロースアシレート系樹脂等が挙げられる。

樹脂基材の厚さ、種類は、本発明の光学特性制御フィルムの可視光線透過率の特性を満たす範囲で選択されるものであれば、特に限定されるものではない。

樹脂基材の厚さは、５〜２００μｍ程度が好ましく、更に好ましくは１５〜１５０μｍの範囲である。樹脂基材は、２枚以上を重ねたものであってもよく、この際、樹脂基材の種類は同じでもよいし異なっていてもよい。

また、樹脂基材は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６：１９９８で示される可視光領域の透過率としては８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。樹脂基材が上記透過率以上であることは、フィルム法線方向での本発明に係る可視光線透過率を、８３％以上に調整しやすくする観点から、好ましい。

また、上記樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。

（１）基材フィルム、例えば、ＰＥＴフィルム上に、高屈折率層用塗布液を塗布・乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層用塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成し、これを順次繰り返して行い誘電体多層膜を形成する方法、
（２）基材フィルム上に、低屈折率層用塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層用塗布液を塗布・乾燥して高屈折率層を形成し、これを順次繰り返して行い誘電体多層膜を形成する方法、
（３）基材フィルム上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを逐次重層塗布した後乾燥して、所定の層数の高屈折率層及び低屈折率層で構成されている誘電体多層膜を形成する方法、
（４）基材フィルム上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とをウェット状態で複数層積層し、所定の層数を同時重層塗布・乾燥して、高屈折率層及び低屈折率層を含む誘電体多層膜を形成する方法、などが挙げられる。

なかでも、より簡便な製造プロセスとなる上記（４）の方法が好ましい。すなわち、本発明に係る誘電体多層膜の形成方法としては、水系同時重層塗布法により、高屈折率層及び低屈折率層とを複数層積層する態様の方法であることが好ましい。

塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、又は米国特許第２７６１４１９号明細書、同第２７６１７９１号明細書に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。

高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、又はその混合溶媒が好ましい。本発明においては、各屈折率層の構成バインダー樹脂として親水性ポリマーであるポリビニルアルコールを主として用いることが好ましいが、このように、ポリビニルアルコールを用いることにより、水系溶媒による塗布が可能となる。

さらに、本発明では、ヘイズの低減やクラックの抑制のため、メチルジアリルアミン塩酸塩重合体等のカチオンポリマーを低屈折率層用塗布液に添加することが好ましい。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。

前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水系溶媒が好ましく、水、又は水とメタノール、エタノール、若しくは酢酸エチルとの混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。

水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％の範囲であることが好ましく、８５〜９９．５質量％の範囲であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、９９．９質量％以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。

高屈折率層用塗布液中の樹脂の濃度（複数種類の樹脂を用いる場合は、その合計濃度）は、０．５〜１０質量％の範囲であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の例えば酸化ジルコニウムを含む金属酸化物粒子の合計濃度は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましい。

低屈折率層用塗布液中の樹脂の濃度は、０．５〜１０質量％の範囲であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の酸化ケイ素粒子を含む金属酸化物粒子の合計濃度は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましい。

高屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、樹脂バインダー、例えば、ポリビニルアルコール、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。

低屈折率層用塗布液の調製方法も、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、樹脂バインダー、例えば、ポリビニルアルコール、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。

また、本発明において、同時重層塗布を行う場合は高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液に用いるポリビニルアルコールのケン化度が異なることが好ましい。ケン化度が異なることによって塗布、乾燥工程の各工程において層の混合を抑制することができる。

同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液の温度は、スライドホッパー塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。

同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１６０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは６０〜１４０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。

塗布及び乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、３０〜６０℃の範囲に加温した高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液のいずれか一方を保護層上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体を形成する。

次に、所望の光反射性能を発現するために必要な積層数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃の範囲、膜面温度５〜１００℃の範囲（好ましくは１０〜５０℃の範囲）の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、４０〜６０℃の範囲の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。

また、同時重層塗布を行う場合の塗布及び乾燥方法の条件は、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を３０〜６０℃の範囲に加温して、保護層上に高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃の範囲に一旦冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃の範囲、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。例えば、４０〜８０℃の範囲の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。

３．偏光板
本発明に係る偏光板は、偏光子の少なくとも一方の面側に保護フィルムを有する偏光板であることが好ましく、本発明のゲートカバー又は赤外線反射層に隣接して有することが好ましい。さらに、偏光子のもう一方の面側には、別の保護フィルムを有していてもよく、さらにゲートカバーに用いる支持体を使用して、そのままゲートカバーとして用いてもよく、赤外線反射層に用いる基材フィルムを保護フィルムとして用いてもよい。

また、本発明に係る偏光板は、吸収型偏光板であっても反射型偏光板のどちらでもよく、用いる機能によって選択することが好ましい。

図４に、本発明の偏光板の基本的構成の一例を示す概略断面図を示す。

図４に示した偏光板２０においては、第１の保護フィルム２１と第２の保護フィルム２２の間に偏光子１３が配置されている。前記保護フィルムの少なくとも一つは位相差フィルムとしての機能も有することが好ましい。

本発明に係る偏光板は、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の各種表示装置に適用できるように薄膜であることが好ましく、ゲートカバーに貼合される偏光板の厚さは４０〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、４９〜９９μｍの範囲内であることがより好ましい。

以下、偏光子及び保護フィルムの順に詳細な説明をする。

＜偏光子＞
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。

例えば、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％の範囲、重合度２０００〜４０００の範囲、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％の範囲のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃の範囲であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。

偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲であることが好ましく、偏光板を薄型化するため等から、５〜２５μｍの範囲であることがより好ましい。

＜保護フィルム＞）
本発明に用いられる保護フィルムとしては、種々の熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。また、当該保護フィルムには、目的に応じて、後述する種々の化合物を含有させることができる。

熱可塑性樹脂の例としては、セルロースアシレート系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂等が挙げられる。中でも、位相差を発現しにくく、耐湿性又は耐熱性が良好である点から、セルロースアシレート系樹脂、アクリル系樹脂、及びシクロオレフィン系樹脂が好ましく、強度の点からポリカーボネート系樹脂を用いることが好ましい。保護フィルムに含まれる熱可塑性樹脂は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよく、異なる種類の保護フィルムを積層して用いてもよい。

〈セルロースアシレート〉
セルロースアシレートは、セルロースのヒドロキシ基の一部又は全部が、カルボン酸とエステル化反応して得られる樹脂である。セルロースアシレートに含まれるアシル基は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよい。

セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であってもよいし、芳香族アシル基であってもよい。中でも、位相差の調整が容易である点から、セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であることが好ましい。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、２〜７の範囲であることが好ましく、２〜４の範囲であることがより好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基等が含まれる。

中でも、セルロースアシレートのアシル基は、耐熱性を高めやすい点から、アセチル基を含むことが好ましく、必要に応じて炭素原子数３以上のアシル基をさらに含んでもよい。炭素原子数３以上のアシル基は、セルロースアシレートに疎水性を付与し得る。

セルロースアシレートの例には、セルロースアセテート（セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレート等が含まれ、位相差を発現しにくく、良好な耐熱性を有することから、セルロースアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。

セルロースアシレートのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０の範囲であることが好ましく、２．６〜３．０であることがより好ましい。アシル基の総置換度を高めることで、延伸による位相差発現性を低くすることができる。アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

具体的には、以下の式（１）〜（３）を満たすセルローストリアセテート又はセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基の置換度である。

式（１）１．０≦Ｘ≦３．０
式（２） ０≦Ｙ≦１．５
式（３）２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、３００００〜１５００００の範囲であることが好ましい。セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎが３００００以上であると、保護フィルムの機械的強度が得られやすく、１５００００以下であると、成形性が損なわれにくい。セルロースアシレートの重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．４〜３．０程度であり得る。

セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定することができる。測定条件は、以下のとおりである。

（測定条件）
溶媒：ジクロロメタン
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（（株）日立製作所製）
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜１００００００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

〈アクリル系樹脂〉
アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体；又は（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体であり得る。なお、（メタ）アクリル酸エステルには、アクリル酸エステルと、メタクリル酸エステルの両方が含まれる。

（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、メタクリル酸メチルであることがより好ましい。

（メタ）クリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの例には、アルキル部分の炭素原子数が２〜１８のメタクリル酸アルキルエステル；アルキル部分の炭素原子数が１〜１８のアクリル酸アルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、グルタル酸無水物等の酸無水物；マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等が含まれる。これらの他のモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体におけるメタクリル酸メチル由来の構造単位の含有割合は、該共重合体を構成する全構成単位の合計に対して３０モル％以上であることが好ましく、５０モル％以上であることがより好ましい。

アクリル系樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート等が含まれる。

アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、８００００〜１００００００の範囲であることが好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８００００以上であると、保護フィルムの機械的強度が得られやすく、１００００００以下であると、成形性が損なわれにくい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。

〈シクロオレフィン系樹脂〉
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体である。

シクロオレフィン単量体は、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体である。位相差値ＲｏやＲｔ（特にＲｔ）が低い保護フィルムを得る観点から、非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体を含むことが好ましい。非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。

一般式（Ａ−１）のＲ₁は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。中でも、炭素数１〜５の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基がより好ましい。

一般式（Ａ−１）のＲ₂は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

一般式（Ａ−１）のｐは、０〜２の整数を表す。ｐは、１又は２であることが好ましい。

一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体は、非対称な構造を有する。即ち、一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の置換基Ｒ₁及びＲ₂が、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。そのような非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体は、主鎖がｘ方向に並んでも、側鎖がｘｙ面内だけでなく、それ以外の種々の方向を向くため、Ｒｏのみが発現しやすく、Ｒｔが大きくなりにくいと考えられる。

一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系重合体を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、例えば５０モル％以上、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上とし得る。一般式（Ａ−１）で表される単量体を一定以上含むシクロオレフィン系重合体は、保護フィルムのＲｔを低くしやすい。

シクロオレフィン単量体は、必要に応じて一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体以外の他のシクロオレフィン単量体をさらに含んでもよい。他のシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。

一般式（Ａ−２）のＲ₃〜Ｒ₆は、独立して水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ただし、Ｒ₃〜Ｒ₆の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ₃とＲ₄が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ₅とＲ₆が同時に水素原子を表すことはないものとする。

炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。

極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。

一般式（Ａ−２）のｐは、０〜２の整数を示す。ｐは、１又は２であることが好ましい。

一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５〜３４に示し、一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１〜１４に示す。

他のシクロオレフィン単量体の例には、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン等も含まれる。

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、シクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体が含まれる。

開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン及びシクロオクタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、（メタ）アクリレートが含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物であり、その例には、エチレン、プロピレン、ブテンが含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。

シクロオレフィン系樹脂におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全単量体の合計に対して例えば５０〜１００モル％の範囲、好ましくは６０〜１００モル％の範囲とし得る。

シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎは、８０００〜１０００００の範囲であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲であることがより好ましく、１２０００〜５００００の範囲であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、２００００〜３０００００の範囲であることが好ましく、３００００〜２５００００の範囲であることがより好ましく、４００００〜２０００００の範囲であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎ、重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。

〈ポリカーボネート系樹脂〉
本発明では、種々の公知のポリカーボネート系樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望するフィルムの諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。

一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、その合成手法において重縮合反応が用いられて、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Ａと呼称されている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。

かかる共重合成分としてこのビスフェノール−Ａ以外に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフロロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。

また、一部にテレフタル酸及び／又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位をビスフェノール−Ａからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより芳香族ポリカーボネートの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。

ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、１００００以上、２０００００以下であれば好適に用いられる。粘度平均分子量２００００〜１２００００の範囲が特に好ましい。粘度平均分子量が１００００より低い樹脂を使用すると得られるフィルムの機械的強度が不足する場合があり、また４０００００以上の高分子量になるとドープの粘度が大きくなり過ぎ取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。

本発明に用いられる芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は２００℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは２３０℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、ＤＳＣ装置（示差走査熱量分析装置）にて測定することができ、例えばセイコーインスツル株式会社製：ＲＤＣ２２０にて、１０℃／分の昇温条件によって求められる、ベースラインが偏奇し始める温度である。

保護フィルムに含まれる熱可塑性樹脂は、偏光板に加工する際の適性から、セルロースアシレートが好ましい。位相差を低減しやすく、耐湿性や耐熱性をバランスさせやすい点では、セルロースアシレートとアクリル系樹脂の併用も好ましい。耐湿性を高めやすい点では、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂が好ましい。さらに透明度や強度の観点からは、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。

保護フィルムにおける熱可塑性樹脂の含有量は、保護フィルムの全質量に対して５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上とし得る。

（任意成分）
本発明の保護フィルムは、必要に応じて上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化防止剤及びマット剤が含まれる。

（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、保護フィルムの耐候性を向上させる目的で添加され得る。そのような紫外線吸収剤の例には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、及びトリアジン系紫外線吸収剤が含まれる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノールが含まれる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８等のＴＩＮＵＶＩＮシリーズがあり、これらはいずれもＢＡＳＦ社製の市販品である。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等が含まれる。

サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の例には、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等が含まれる。

シアノアクリレート系紫外線吸収剤の例には、２′−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等が含まれる。

トリアジン系紫外線吸収剤の例には、２−（２′−ヒドロキシ−４′−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニルトリアジン等が含まれる。トリアジン系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７が含まれる。

これらの中でも、良好な紫外線吸収能を有する点では、トリアジン系の紫外線吸収剤が好ましいが、延伸によって位相差を発現しやすい傾向がある。したがって、延伸により位相差を発現しにくく、かつ良好な紫外線吸収性能を有する点では、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましい。

なお、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は、トリアジン系の紫外線吸収剤と比べると紫外線吸収性能はやや劣るため、フィルムにおける含有量を多くする必要がある。紫外線吸収剤の含有量を多くすると、湿熱耐久性は低下しやすい。

紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１〜１０質量％であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１質量％以上であれば、保護フィルムの耐候性を十分に高めうる。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１０質量％以下であれば、得られる保護フィルムの透明性が損なわれ難い。紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１．５〜５質量％であることがさらに好ましい。

（可塑剤）
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、及びアクリル系可塑剤等が含まれる。保護フィルムに含まれる可塑剤は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。中でも、熱可塑性樹脂と相溶しやすく、良好な可塑性が得られやすい点から、ポリエステル系可塑剤が好ましい。

ポリエステル系可塑剤は、下記式（Ｉ）で表されるであることが好ましい。下記式（Ｉ）のｎは、１以上の整数を表す。

式（Ｉ）：Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
式（Ｉ）のＡは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基、アルケニレンジカルボン酸から誘導される基、又は炭素原子数６〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基を表す。

アルキレンジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−エタンジカルボン酸（コハク酸）、１，３−プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１，４−ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）等が含まれる。アルケニレンジカルボン酸から誘導される基の例には、マレイン酸、フマル酸等から誘導される基が含まれる。アリールジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１，３−ベンゼンジカルボン酸、１，４−ベンゼンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸等から誘導される基が含まれる。

Ａは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基と炭素原子数８〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基との組み合わせが好ましい。

式（Ｉ）のＧは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基、又は炭素原子数４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基を表す。

炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基の例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、及び１，１２−オクタデカンジオール等から誘導される基が含まれる。

炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基の例には、１，２−ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１，３−ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１，４−ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される基が含まれる。炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導される基が含まれる。

Ｇは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基であることが好ましい。

式（Ｉ）のＢは、芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される基である。

芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基等を介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸等から誘導される基が含まれる。

脂肪族モノカルボン酸から誘導される基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素原子数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される基が好ましく、アセチル基がより好ましい。

式（Ｉ）で表されるポリエステル系可塑剤の例には、以下のものが含まれる。

ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、５００〜３０００の範囲であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量が５００以上であると、製膜時に揮発しにくく、３０００以下であると成形性や熱可塑性樹脂との相溶性が損なわれにくい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、６００〜２０００の範囲であることがより好ましい。重量平均分子量は、前述と同様の方法で測定することができる。

可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜４０質量％の範囲であることが好ましい。可塑剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量％以上であると、後述する膜状物を十分に可塑化しやすく、４０質量％以下であると、延伸時や保存時のブリードアウトを十分に抑制しやすい。可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜２０質量％であることがより好ましく、１〜３質量％の範囲であることがさらに好ましい。

可塑剤は、その効果の一つとして、熱可塑性樹脂の含水率を低下させて耐水性と耐湿性を向上させ得る。従って、可塑剤以外の添加剤の疎水性が高ければ、可塑剤の添加量を少なくすることができる。

（酸化防止剤）
酸化防止剤は、高湿高温下に置かれた液晶表示装置に含まれる保護フィルムの劣化を抑制する目的；具体的には、保護フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による樹脂の分解を遅らせたり、抑制したりする目的で添加され得る。

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、その例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。中でも、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。

酸化防止剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量ｐｐｍ〜１．０質量％の範囲であることが好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲であることがより好ましい。

（マット剤）
マット剤は、保護フィルムの表面の滑り性を高める目的で添加され得る。微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子である。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の微粒子が含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。中でも、ヘイズを生じ難く、着色も少ないことから、二酸化ケイ素（シリカ）粒子が好ましい。

二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上日本触媒（株）製）等が含まれる。中でも、得られるフィルムの濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させやすいことから、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０及びシーホスターＫＥ−Ｐ３０が好ましい。

微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、７〜２０ｎｍの範囲であることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０〜２００万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。

微粒子の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．０５〜１．０質量％の範囲であることが好ましく、０．１〜０．８質量％であることがより好ましい。

（フィルム物性）
（位相差値Ｒｏ及びＲｔ）
本発明に用いられる保護フィルムは、位相差フィルムとしての機能を持たせることも好ましい。例えばＩＰＳモードの液晶表示装置の位相差フィルムとしての機能を持たせる場合は、測定波長５５０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向の位相差値Ｒｏは、０〜８ｎｍの範囲であることが好ましく、０〜５ｎｍの範囲であることがより好ましい。厚さ方向の位相差値Ｒｔは、−１０〜１０ｎｍの範囲であることが好ましく、−８〜８ｎｍの範囲であることがより好ましい。

なお、保護フィルムのＲｏ及びＲｔは、それぞれ下記式で定義される。

式（１ａ）：Ｒｏ＝（ｎ_x−ｎ_y）×ｄ
式（１ｂ）：Ｒｔ＝（（ｎ_x＋ｎ_y）／２−ｎ_z）×ｄ
（式中、ｎ_xは、フィルムの面内方向において屈折率が最大となる方向ｘ（面内遅相軸方向）における屈折率であり、ｎ_yは、フィルムの面内方向において前記方向ｘ（面内遅相軸方向）と直交する方向ｙにおける屈折率であり、ｎ_zは、フィルムの厚さ方向における屈折率であり、ｄは、フィルムの膜厚（ｎｍ）である。）
保護フィルムの位相差値Ｒｏ及びＲｔの測定は、以下の方法で行うことができる。

１）保護フィルムを２３℃・５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿する。

２）調湿後の保護フィルムの、測定波長５５０ｎｍにおける位相差値Ｒｏ及びＲｔを、それぞれ自動複屈折率計 Ａｘｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製Ａｘｏｓｃａｎを用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定する。具体的な測定手順や測定条件は、後述する実施例と同様である。

保護フィルムの位相差値Ｒｏ及びＲｔは、主として熱可塑性樹脂の種類、糖のアルキレンオキサイド付加物の種類及び含有量、並びに延伸倍率によって調整することができる。保護フィルムの位相差値Ｒｏ及びＲｔを低くするためには、例えば熱可塑性樹脂としてセルロースアシレートとアクリル系樹脂の混合物を選択したり；糖のアルキレンオキサイド付加物におけるアルキレンオキサイドの付加モル数を少なくしたり、アルキレンオキサイドの種類を炭素数の少ないアルキレンオキサイドとしたり、アルキレンオキサイドのヒドロキシ基末端を未封止としたり；延伸倍率を低くしたりすることが好ましい。

（ヘイズ）
本発明に係る保護フィルムのヘイズは、０．０１〜２．０の範囲であることが好ましい。保護フィルムのヘイズが２．０以下であると、表示画像のコントラストを高め得る。本発明に係る保護フィルムのヘイズは、０．０１〜１．０の範囲であることがより好ましい。

保護フィルムのヘイズは、ヘイズメーター（型式ＮＤＨ ２０００、日本電色工業（株）製）により測定することができる。

保護フィルムのヘイズは、フィルムに含有させる種々の前記化合物の種類や含有量によって調整することができる。

（厚さ）
保護フィルムの厚さは、例えば５〜１００μｍの範囲とし得る。ＲｏとＲｔを上記範囲に調整しやすくする観点から、５〜６０μｍの範囲であることがより好ましく、１０〜３０μｍの範囲であることが特に好ましい。

［保護フィルムの製造方法］
本発明に用いられる保護フィルムは、任意の方法で製造することができ、例えば（１）少なくとも前述の熱可塑性樹脂と溶媒とを含むドープを得る工程と、（２）得られたドープを金属支持体上に流延し、乾燥及び剥離して、膜状物を得る工程と、（３）得られた膜状物を延伸する工程とを含む。

（１）の工程について
（溶媒）
ドープに用いられる溶媒は、前述の熱可塑性樹脂やその他の成分を溶解させ得る有機溶媒（良溶媒）を含むことが好ましい。そのような良溶媒の例には、塩化メチレン（ジクロロメタン）等の塩素系有機溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等の非塩素系有機溶媒が含まれる。中でも、塩化メチレン（ジクロロメタン）、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく用いることができる。

ドープに用いられる溶媒は、貧溶媒をさらに含んでいてもよい。貧溶媒の例には、炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールが含まれる。ドープ中のアルコールの比率が高くなると、膜状物がゲル化しやすく、金属支持体からの剥離が容易になりやすい。

炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらのうちドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。

良溶媒と貧溶媒とを併用する場合、良溶媒の含有比率を６０〜９９質量％、貧溶媒の含有比率を１〜４０質量％とし得る。

ドープの樹脂濃度は、金属支持体上に流延した後の乾燥負荷を低減する観点では高いほうが好ましいが、濾過時の負荷が増えて濾過精度が悪くなる。これらを両立するドープの樹脂濃度は、１５〜４５質量％であることが好ましい。

樹脂の溶解は、一般的な方法で行うことができる。加熱と加圧を組み合わせると、常圧における沸点以上に加熱できる。溶媒の常圧での沸点以上であり、かつ加圧下で溶媒が沸騰しない温度で加熱しながら撹拌溶解すると、塊状未溶解物の発生を抑制できるので、好ましい。

加圧は、窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶媒の蒸気圧を発現させる方法によって行うことができる。加熱は、外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

加熱温度は、樹脂の溶解性の観点からは高いほうが好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。加熱温度は、例えば４５〜１２０℃であることが好ましい。

異物故障を抑制する観点等から、得られたドープを濾材で濾過することが好ましい。濾過したドープを脱泡した後、送液ポンプで流延ダイに供給する。

（２）の工程について
得られたドープを、金属支持体上に流延する。ドープの流延は、流延ダイから吐出させて行うことができる。

金属支持体は、ステンレスベルト又は回転する金属ドラム等であり得る。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。

次いで、金属支持体上に流延されたドープ中の溶媒を蒸発させ、乾燥させる。金属支持体上におけるドープ中の溶媒の蒸発は、ドープの表面に風を当てる方法、金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。金属支持体上のドープの乾燥は、４０〜１００℃の雰囲気下で行うことが好ましい。

そして、乾燥されたドープを金属支持体から剥離して、膜状物を得る。金属支持体から剥離する際のドープの残留溶媒量（剥離時の残留溶媒量Ｓ₀）は、得られる保護フィルムの位相差値ＲｏやＲｔを低減しやすくする点では、５０〜１２０質量％の範囲であることが好ましい。剥離時の残留溶媒量Ｓ₀が５０質量％以上であると、乾燥又は延伸時に熱可塑性樹脂が流動しやすく無配向にしやすいため、得られる保護フィルムのＲｏやＲｔを低減しやすい。剥離時の残留溶媒量Ｓ₀が１２０質量％以下であると、ドープを剥離する際に要する力が過剰に大きくなりにくいので、ドープの破断を抑制しやすい。

ドープの残留溶媒量は、下記式で定義される。以下においても同様である。

ドープの残留溶媒量（質量％）＝（ドープの加熱処理前質量−ドープの加熱処理後質量）／ドープの加熱処理後質量×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１２０℃６０分の加熱処理をいう。

剥離して得られた膜状物は、必要に応じてさらに乾燥させてもよい。

（３）の工程について
得られた膜状物を、乾燥させながら延伸する。延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向（ＭＤ方向）、膜状物の長手方向と直交する幅手方向（ＴＤ方向）、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであってもよい。

延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階に分割して行ってもよい。また、二軸延伸を行う場合、同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に延伸を行う逐次二軸延伸を行ってもよい。

延伸倍率は、広幅化と薄型化を実現する点から、一定以上の延伸倍率であることが好ましく、例えば全方向の延伸倍率の合計が、１０〜２００％であることが好ましく、２０〜５０％であることがより好ましい。延伸倍率は、｛（延伸後の膜状物の延伸方向大きさ）／（延伸前の膜状物の延伸方向大きさ）｝×１００として定義される。全方向の延伸倍率の合計とは、各方向の延伸倍率の総和（合計）をいう。

延伸温度は、フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、例えば（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋５０）℃、好ましくは（Ｔｇ＋２０）〜（Ｔｇ＋４０）℃とし得る。延伸温度が（Ｔｇ＋１５）℃以上であると、乾燥又は延伸時に膜状物に加わる張力が過剰には大きくなりにくいので、得られる保護フィルムのＲｏやＲｔが過剰には増大しにくい。延伸温度が（Ｔｇ＋５０）℃以下であると、膜状物中の溶媒の気化による気泡の発生を高度に抑制しやすい。延伸温度は、具体的には１４０〜２２０℃とし得る。

延伸開始時の膜状物中の残留溶媒量Ｓ₁は、５〜２０質量％であることが好ましい。延伸開始時の残留溶媒量Ｓ₁が５質量％以上であると、残留溶媒による可塑化効果で、延伸時の膜状物の実質的なＴｇが低くなるため、保護フィルムのＲｏやＲｔが増大しにくい。延伸開始時の残留溶媒量Ｓ₁が２０質量％以下であると、膜状物中の溶媒の気化による気泡の発生を高度に抑制できる。延伸開始時の膜状物中の残留溶媒量Ｓ₁は、８〜１５質量％であることがより好ましい。

膜状物のＭＤ方向の延伸は、例えば複数のローラーに周速差をつけ、その間でローラー周速差を利用する方法（ローラー法）で行うことができる。膜状物のＴＤ方向の延伸は、例えば膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げる方法（テンター法）で行うことができる。

（その他市販の保護フィルム等）
偏光子には、市販の保護フィルムが配置されてもよい。他の保護フィルムの例には、市販のセルロースアシレートフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ株式会社製）、ポリエステルフィルム（例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等）、その他市販のシクロオレフィン系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルム等が含まれる。

保護フィルムの厚さは、特に限定はないが、１０〜１００μｍの範囲であることが好ましく、１０〜６０μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜６０μｍの範囲であることが特に好ましい。

［偏光板の作製方法］
本発明に係る偏光板の作製方法としては、例えば、図４に示した偏光板の場合、基本的には、上記のように、保護フィルムを偏光子の片面又は両面に貼合すればよい。ただし、当該保護フィルムの偏光子側の面に対し後述する易接着処理（表面活性化処理）を施すことが好ましい。

下記のような工程（１〜５）を含む方法で偏光板を作製することができる。

工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸する。これをヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に浸漬し、次いでヨウ化カリウム及びホウ酸を含有する水溶液に浸漬する。その後、これを水洗・乾燥して偏光子を得る。

工程２：あらかじめ表面に易接着処理を施した保護フィルムの当該表面上に上記工程１で得た偏光子を載せる。

工程３：前記保護フィルム上に載せられた偏光子の反対側の面上にポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を塗布する。

工程４：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、あらかじめ表面に易接着処理を施した保護フィルムを当該偏光子に対向するように載せて積層体を形成する。

工程５：工程４で得た積層体に圧力を加え貼合する。

工程６：工程５で得た積層体を乾燥し、偏光板を作製する。

偏光子に保護フィルムを貼合する場合、例えば、市販のセルロースアシレート系保護フィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ株式会社製）も好ましく用いられる。このような保護フィルムの場合は、あらかじめケン化処理等の表面活性化処理を行う必要がある。

液接着処理としては、コロナ（放電）処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、プライマー塗布処理等があるが、このうち少なくとも１種が実施されれば良い。これらの易接着処理のうち、生産性の観点からは、コロナ処理、プラズマ処理が易接着処理として好ましい。

なお、接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂を主成分として含む水系接着剤や、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂を主成分として含む活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテル等をベースポリマーとして含む接着剤等を用いることもできる。

４．液晶表示装置（ＬＣＤ）
ヘッドアップディスプレイ装置に用いられる表示装置は、液晶表示装置（ＬＣＤ）であることが好適であるが、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等を用いてもよい。

＜液晶表示装置＞
本発明に係るヘッドアップディスプレイ装置に用いられる好ましい表示装置として、液晶表示装置を例にして説明する。

図５は、液晶表示装置３０の基本的な構成の一例を示す模式図である。図５に示されているように、液晶表示装置３０は、基本的には、液晶セル３２と、それを挟持する第１の偏光板３１及び第２の偏光板３３と、バックライト３４とで構成される。

液晶セル３２の表示モードは、特に制限されず、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎ
ｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｉｓｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）等のいずれであってよい。モバイル機器向けの液晶セル
は、例えばＩＰＳモードのものが好ましく、中・大型用途の液晶セルは、例えばＶＡモードのものが好ましい。

第１の偏光板３１は、液晶セル３２の視認側の面に配置されており、第１の偏光子３１ａと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２とは反対側の面に配置された第１の保護フィルム３１ｂと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２側の面に配置された第２の保護フィルム３１ｃとを含む。

また、第２の偏光板３３は、液晶セル３２のバックライト３４側の面に配置されており、第２の偏光子３３ａと、第２の偏光子３３ａの液晶セル側の面に配置された保護フィルム３３ｂと、第２の偏光子３３ａの液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム３３ｃを含む。第２の偏光子３３ａの吸収軸は、第１の偏光子３１ａの吸収軸と直交していることが好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

〔実施例１〕
以下、部材後の数字は図２〜図４に示した部材番号に対応するものである。

＜ゲートカバー１の作製＞
（赤外線反射層作製方法）

（１）低屈折率層形成用塗布液１の調製
撹拌容器にカチオンポリマーとしてメチルジアリルアミン塩酸塩重合体（３級アミン塩を含む。）（ＰＡＳ−Ｍ−１、重量平均分子量２００００、５０質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）４．０ｇ、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体（４級アンモニウム基を含む。）（ＰＡＳ−Ｈ−５Ｌ、重量平均分子量３００００、２８質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）５．０ｇ、ゆすぎ水３１ｇ、及びホウ酸（３質量％水溶液）３１．９ｇを混合した。ここに、１０質量％の酸性コロイダルシリカの水溶液（ＳＴ−ＯＸＳ、濃度１０％、平均一次粒径：４〜６ｎｍ、日産化学工業株式会社製）を４８９．９ｇ加えた。これを撹拌しながら４０℃まで加温した。ここに、親水性ポリマー（バインダー）としてポリビニルアルコールの８質量％水溶液（ＪＰ−４５、重合度４５００、ケン化度８８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらにエマルジョン樹脂（スーパーフレックス６５０、第一工業製薬株式会社）３０．５ｇ、及び５質量％の界面活性剤の溶液（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社）６．３ｇ、及び純水１５ｇの混合液を加え、４０℃で撹拌、混合し、低屈折率層形成用塗布液１を得た。

低屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の光波長５８９．３ｎｍにおける屈折率は、１．５０であった。なお、屈折率の測定方法は下記のとおりである（以下、実施例において、屈折率は同様に測定した。）。
（単膜屈折率の測定）
屈折率を測定するため、基材上に低屈折率層形成用塗布液１を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。日立製の分光光度計 Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５°正反射の条件にて５８９．３ｎｍの反射率の測定を行い、その結果より屈折率を求めた。

（２）高屈折率層形成用塗布液１の調製
３０質量％の酸化ジルコニウム粒子の分散液（ＳＺＲ−Ｗ、ジルコニアゾル、粒度分布：Ｄ５０ ３〜５ｎｍ、堺化学工業株式会社製）３８４．８ｇに対してクエン酸水溶液（１．９質量％）を１７５．４ｇ加えた。これに界面活性剤（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）の５質量％水溶液を１．９４ｇ添加し、これを４０℃まで加温した。次いで、エチレン変性ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（株式会社クラレ製、エクセバールＲＳ２１１７、ケン化度：９７．５〜９９ｍｏｌ％）を１２０．４ｇ加え、更に純水９．９ｇを加えた。これを１０分撹拌後、親水性ポリマーとしてポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＣ−４０、ケン化度：９９ｍｏｌ％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらに純水６６．７ｇを加えた。この後、４０℃で１８０分間撹拌し、高屈折率層形成用塗布液１を得た。
高屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の屈折率は、１．７３であった。

（３）赤外線反射層の形成
２２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層形成用塗布液１及び高屈折率層形成用塗布液１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した長尺の樹脂基材（縦４００ｍｍ、横２５０ｍｍ、厚さ４０μｍの透明なトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製ＴＡＣフィルム、ＫＣ４ＵＡ）上に、２１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に合計２１層積層）を行った。この際、最下層（樹脂基材側）及び最上層は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１１７ｎｍ）及び高屈折率層（乾燥後の厚さ：１０１ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、２１層から構成される赤外線反射層１２を形成した。

（偏光子及びゲートカバー１の作製方法）
以下の工程により偏光子及びゲートカバー１を作製した
工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗・乾燥して、最終的に５μｍ厚の偏光子１３を得た。

工程２：あらかじめ表面にコロナ放電処理を施した第２の保護フィルム２２の当該表面上に上記工程１で得た偏光子１３を載せた。第２の保護フィルム２２として、縦４００ｍｍ、横２５０ｍｍ、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ株式会社製、ＫＣ４ＵＡ）を用いた。

なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。

工程３：前記保護フィルム上に載せられた偏光子の反対側の面上に固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を厚さ２μｍで塗布した。

工程４：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、上記作製した赤外線反射層１２を形成したＴＡＣフィルムを第１の保護フィルム２１として載せて偏光板及びゲートカバー前駆体を形成した。

工程５：工程４で得た偏光板及びゲートカバー前駆体に圧力（２０〜３０Ｎ／ｃｍ²）を加え、搬送スピード約２ｍ／分で偏光子１３と第１の保護フィルム２１及び第２の保護フィルム２２を貼合した。

工程６：工程５で貼合された偏光板及びゲートカバー前駆体を約９０秒間乾燥し、偏光板を有するゲートカバー１を作製した。

上記作製したゲートカバー１は、図６Ａで示す構成である。

＜ゲートカバー２及び３の作製＞
ゲートカバー１の作製において、親水性ポリマーであるポリビニルアルコールの添加量を変化させ、バインダー比率９０質量％及び５０質量％にした以外は同様にして、ゲートカバー２及び３を作製した。

＜ゲートカバー４の作製＞
ゲートカバー１の作製において、親水性ポリマーであるポリビニルアルコールの代わりに市販のアルカリ処理オセインゼラチンをバインダー比率７０質量％となるように調製して用いた以外は同様にして、ゲートカバー４を作製した。

＜ゲートカバー５の作製＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ｂで示す構成に変えた以外は同様にしてゲートカバー５を作製した。すなわち、下層から第２の保護フィルム２２／偏光子１３／第１の保護フィルム２１／赤外線反射層１２の積層構成とした。

ここで、第１の保護フィルム２１／赤外線反射層１２は、上記ＴＡＣフィルム付き赤外線反射層１２に該当する。

＜ゲートカバー６の作製＞
ゲートカバー１の作製において、親水性ポリマーであるポリビニルアルコールの代わりに、アクリル樹脂であるポリメチルメタクリレートを、バインダー比率９０質量％を超えるように調製した以外は同様にして、ゲートカバー６を作製した。

＜ゲートカバー７の作製＞
ゲートカバー１の作製において、偏光子１３を用いなかった以外は同様にして、図６Ｄで示す構成のゲートカバー７を作製した。

＜ゲートカバー８の作製＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ｃで示す構成に変えた以外は同様にしてゲートカバー８を作製した。すなわち、第２の保護フィルム２２にもあらかじめ赤外線反射層１２をゲートカバー１の作製と同様に設けて、下層から赤外線反射層１２／第１の保護フィルム２１／偏光子１３／第２の保護フィルム２２／赤外線反射層１２の積層構成とした。

＜ゲートカバー９の作製＞
ゲートカバー１の作製において、親水性ポリマーであるポリビニルアルコールの添加量を変化させ、バインダー比率１００質量％にした以外は同様にして、ゲートカバー９を作製した。

＜ゲートカバー１０の作製：比較例＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ａで示す赤外線反射層１２の代替として、第１の保護フィルム２１上に銀層を層厚１００ｎｍで蒸着した以外は同様にしてゲートカバー１０を作製した。

＜ゲートカバー１１の作製：比較例＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ａで示す赤外線反射層１２の代替として、下記方法で作製した厚さ１２５μｍのポリカーボネートフィルムを、エポキシ系接着剤を用いて第１の保護フィルム２１上に貼合した以外は同様にしてゲートカバー１１を作製した。

（ポリカーボネートフィルムの作製）
ＢｉｓＡ：２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
ＢＣＦ：９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン
ビスフェノール成分がＢｉｓＡ／ＢＣＦ＝７０／３０からなる平均分子量３７０００の共重合ポリカーボネート樹脂をメチレンクロライドに２０質量％になるように溶解した。そしてこの溶液をダイコーティング法により厚さ１７５μｍのポリエステルフィルム上に流延した。次いで、乾燥炉で残留溶媒濃度が１３質量％になるまで乾燥し、ポリエステルフィルムから剥離した。そして、得られたポリカーボネートフィルムを温度１８０℃の乾燥炉で縦横の張力にできるだけ差が生じないように、かつフィルムを保持しうる最小限の張力でバランスさせながら、該フィルム中の残留溶媒濃度が０．１質量％になるまで乾燥させた厚さ１２５μｍのフィルムを得た。

＜ゲートカバー１２の作製：比較例＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ａで示す赤外線反射層１１２の代替として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）を、エポキシ系接着剤を用いて第１の保護フィルム２１上に貼合した以外は同様にしてゲートカバー１２を作製した。

＜ゲートカバー１３の作製：比較例＞
ゲートカバー１の作製において、図６Ａで示す赤外線反射層１１２の代替として、ケン化処理したＴＡＣフィルム（厚さ６０μｍ）を、エポキシ系接着剤を用いて第１の保護フィルム２１上に貼合した以外は同様にしてゲートカバー１３を作製した。

≪評価≫
上記作製したゲートカバー１〜１３を用いて下記評価を実施した。

＜評価１：赤外線反射層の含水率＞
〈平衡含水率の測定〉
サンプルサイズ：Ａ４サイズ、１枚
装置：天秤
測定方法：温度２３℃、湿度２０％ＲＨ下、２４時間調湿した基材フィルムであるＴＡＣフィルムと赤外線反射層の積層体の質量を、微量水分計（三菱化学アナリテック（株）製、ＣＡ−２０型）で測定後、当該積層体を温度２３℃、湿度５０％ＲＨ下、２４時間調湿した後再度質量を測定した。その後、温度２３℃、湿度８０％ＲＨ、２４時間調湿した後質量を測定した。測定した質量からそれぞれの質量差を算出し、その質量差は基材フィルムと赤外線反射層とが吸った水分の質量であることから、赤外線反射層の平衡含水率を求めた。

＜評価２：赤外線反射率測定（ＴＳＥＲ）＞
分光光度計（株式会社日立ハイテクノロジー社製Ｕ−４０００型）を用いて、作製したゲートカバーの日射反射率Ｒ（ＤＳ）を、ＪＩＳ Ｋ ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長８００ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定した。次いで、ＪＩＳ Ｓ ３１０７：２０１３に記載の方法で求められる日射透過率Ｔ（ＤＳ）及び日射反射率Ｒ（ＤＳ）を用いて、下記計算式を用いて遮熱性能（ＴＳＥＲ：Ｔｏｔａｌ Ｓｏｌａｒ Ｅｎｅｒｇｙ Ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ）を算出した。

ＴＳＥＲ（％）＝（（１００−Ｔ（ＤＳ）−Ｒ（ＤＳ））×０．７１４３）＋Ｒ（ＤＳ）
ヘッドアップディスプレイ装置の熱対策としては、遮熱性能（ＴＳＥＲ）が１９％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましく、３８％以上であることが望ましい。

＜評価３：呼気防曇性試験＞
室温２５℃の環境下において、赤外線反射層の表面に向けて１０ｃｍの距離から息を吹きかけて曇り状態（防曇性）を目視確認した。得られた結果を以下の評価基準でランク付けを行った。

５ 曇りなし
４ わずかに曇るが、２秒以内に曇りが取れる
３ わずかに曇るが、５秒以内に曇りが取れる
２ 曇るが、ゲートカバーを通して見る景色はぼやけない
１ 曇りが見られ、ゲートカバーを通して見る景色もぼやける
＜評価４：高湿度下でのゲートカバーの視認性＞
作製したゲートカバーを市販のヘッドアップディスプレイ装置に装着するゲートカバーとして取りつけ、当該装置を基準として２３℃、５０％ＲＨに１０分間に静置した後、視認性を確認した。その後、２３℃、８０％ＲＨの環境に１０分静置し、視認性を評価した。

得られた結果を以下の評価基準でランク付けを行った。

○ ２３℃、８０％ＲＨでの視認性は２３℃、５０％ＲＨでの視認性と変わらない
△ ゲートカバー表面はわずかに曇るが、ゲートカバーを通して見る景色はぼやけない
× ２３℃、５０％ＲＨより見える画像が少しぼやけている
以上のゲートカバーの構成及び評価結果を表Ｉに示す。

表Ｉの結果より、本発明のゲートカバー１〜９は、赤外線反射率（ＴＳＥＲ）に優れ、防曇性及び高湿度下でのゲートカバーの視認性に優れていることが分かった。

〔実施例２〕
実施例１のゲートカバー１〜３、５及び８の作製において、第１の保護フィルム２１及び第２の保護フィルム２２として用いたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの代わりに、実施例１のゲートカバー１１の作製に用いた前記ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムを、上記第１の保護フィルム２１及び第２の保護フィルム２２として用いた以外は同様にして、ゲートカバーをそれぞれ作製し、実施例１と同様な評価を行った。その結果、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムを用いても、実施例１を再現し赤外線反射率（ＴＳＥＲ）、防曇性、及び高湿下での視認性に優れたゲートカバーが得られることが分かった。

〔実施例３〕
さらに、実施例１のゲートカバー１〜３、５及び８の作製において、図７で示すように、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムとトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムとを積層して、上記ゲートカバーの第１の保護フィルム２１及び第２の保護フィルム２２として用いた。

図７Ａは、図６Ａに対応し、下層から赤外線反射層１２、ＰＣフィルム５１、ＴＡＣフィルム５２、偏光子１３、ＴＡＣフィルム５２、ＰＣフィルム５１の層構成である。なお、ＰＣフィルム５１とＴＡＣフィルム５２はエポキシ系接着剤で貼合した。

図７Ｂは、図６Ｂに対応し、同様な構成であるが、偏光子１３よりも赤外線反射層１２が上層（太陽光線入射側）にある構成である。

図７Ｃは、図６Ｃに対応し、赤外線反射層１２が偏光子１３の両側に配置された構成である。

以上の構成のゲートカバーに対し、実施例１と同様な評価を行った。

その結果、実施例１を再現し赤外線反射率（ＴＳＥＲ）、防曇性、及び高湿下での視認性に優れたゲートカバーが得られることが分かった。

本発明のゲートカバーは、表示素子（デバイス）の太陽光の熱線による表示機能の劣化や、結露による視認性低下を抑制するため、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイ装置に好適に具備される。

１ ヘッドアップディスプレイ装置
２ フロントグラス
３ ゲートカバー
４ 拡大鏡
５ コールドミラー
６ ホットミラー
７ 液晶表示装置（ＬＣＤ）
１０ ゲートカバー
１１ 支持体
１２ 赤外線反射層
１２ａ 低屈折率層
１２ｂ 高屈折率層
１３ 偏光子
２０ 偏光板
２１ 第１の保護フィルム
２２ 第２の保護フィルム
３０ 液晶表示装置
３１ 第１の偏光板
３２ 液晶セル
３３ 第２の偏光板
３４ バックライト
５１ ＰＣフィルム
５２ ＴＡＣフィルム

Claims (6)

1. 少なくとも支持体及び赤外線反射層を有するゲートカバーであって、
   前記赤外線反射層の温度２３℃、相対湿度５０％における平衡含水率が、０．１質量％以上であることを特徴とするゲートカバー。
2. 前記ゲートカバーが、外光入射側から支持体及び赤外線反射層の順に積層されていることを特徴する請求項１に記載のゲートカバー。
3. 前記赤外線反射層が誘電体多層膜であり、かつ当該誘電体多層膜が親水性ポリマーを含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のゲートカバー。
4. 前記誘電体多層膜が、無機又は有機微粒子を含有することを特徴とする請求項３に記載のゲートカバー。
5. さらに、偏光板を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のゲートカバー。
6. 前記ゲートカバーが、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイ装置に具備されることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のゲートカバー。

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