JPWO2019189559A1 - 光干渉断層撮像器、光干渉断層撮像方法及びプログラム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000012014 optical coherence tomography Methods 0.000 title description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 75
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 74
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 11
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 6
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 abstract description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 abstract description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 13
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000547 structure data Methods 0.000 description 1
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
- G01B9/02091—Tomographic interferometers, e.g. based on optical coherence
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02002—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies
- G01B9/02004—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies using frequency scans
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02083—Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/21—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour by interference
- G02F1/225—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour by interference in an optical waveguide structure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/65—Spatial scanning object beam
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/21—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour by interference
- G02F1/212—Mach-Zehnder type
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/30—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 grating
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、日本国特許出願:特願2018−066025号(2018年03月29日出願)の優先権主張に基づくものであり、同出願の全記載内容は引用をもって本書に組み込み記載されているものとする。
本発明は、光干渉断層撮像器、光干渉断層撮像方法及びプログラムに関する。特に、光ビームを測定対象物に照射し物体内部からの散乱光に対し光コヒーレンス・トモグラフィー(OCT;Optical Coherence Tomography)で断層撮像を行う光干渉断層撮像器、光干渉断層撮像方法及びプログラムに関する。
なお、このプログラムは、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体に記録することができる。記憶媒体は、半導体メモリ、ハードディスク、磁気記録媒体、光記録媒体等の非トランジェント(non-transient)なものとすることができる。本発明は、コンピュータプログラム製品として具現することも可能である。
第1の実施形態について、図面を用いてより詳細に説明する。図2は第1の実施形態である光干渉断層撮像器100の構成例を示す図である。
続いて、第2の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図4は第2の実施形態である光干渉断層撮像器100の構成例を示す図である。
続いて、第3の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図6は第3の実施形態である光干渉断層撮像器100の構成例を示す図である。
[形態1]
複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源(101)と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段(104)と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段(106)と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段(114)と、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直すプロセッサ(113)と、
を備える、光干渉断層撮像器。
[形態2]
前記プロセッサ(113)は、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長の昇順又は降順に並べ直す、好ましくは形態1の光干渉断層撮像器。
[形態3]
前記波長可変光源(101)における光源駆動パラメタと光源出力光波長設定値との対応関係を格納するメモリ(111)をさらに備え、
前記プロセッサ(113)は、
前記光源出力光波長設定値と前記干渉光強度測定値から前記光源出力光波長設定値と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記光源出力光波長設定値を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、好ましくは形態1又は2の光干渉断層撮像器。
[形態4]
前記波長可変光源(101)の出力の一部を用いて光源出力光波長測定値を得る波長モニタ手段(109)をさらに備え、
前記プロセッサ(113)は、
前記光源出力光波長測定値と前記干渉光強度測定値から前記光源出力光波長測定値と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記光源出力光波長測定値を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、好ましくは形態1又は2の光干渉断層撮像器。
[形態5]
前記波長可変光源(101)における光源駆動パラメタと光源出力光波長設定値との対応関係を格納するメモリ(111)と、
前記波長可変光源(101)の出力の一部を用いて光源出力光波長測定値を得る波長モニタ手段(109)と、
をさらに備え、
前記プロセッサ(113)は、
前記光源出力光波長設定値と前記光源出力光波長測定値から、前記波長可変光源が出力している前記光源出力光波長を特定し、前記特定した光源出力光波長と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記特定した光源出力波長を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、好ましくは形態1又は2の光干渉断層撮像器。
[形態6]
前記波長モニタ手段(109)は、
エタロン、非対称マッハ・ツェンダ干渉計及びアレイ光導波路回折格子の少なくともいずれか1つのである、好ましくは形態4又は5の光干渉断層撮像器。
[形態7]
前記プロセッサ(113)は、
前記並べ直した干渉光強度測定値の波長スペクトルをフーリエ変換する、好ましくは形態1乃至6のいずれか一に記載の光干渉断層撮像器。
[形態8]
前記分岐手段(104)による、前記物体光と前記参照光の分岐比は1対1である、好ましくは形態1乃至7のいずれか一に記載の光干渉断層撮像器。
[形態9]
複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源(101)と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段(104)と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段(106)と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段(114)と、
を備える光干渉断層撮像器(100)において、
前記干渉光強度測定値を取得するステップと、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直すステップと、
を含む、光干渉断層撮像方法。
[形態10]
複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源(101)と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段(104)と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段(106)と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段(114)と、
を備える光干渉断層撮像器に搭載されたコンピュータ(113)に、
前記干渉光強度測定値を取得する処理と、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直す処理と、
を実行させる、プログラム。
なお、形態9及び形態10は、形態1と同様に、形態2〜形態8のように展開することが可能である。
11、101 波長可変光源
12 分岐手段
13 照射手段
14 光電変換測定手段
15、113 プロセッサ
102 バランス型受光器
103 サーキュレータ
104 分岐合流器
105 ファイバコリメータ
106 スキャンミラーとレンズからなる照射光学系
107 測定対象物
108 参照光ミラー
109 波長モニタ
111 メモリ
112 電流ドライバ
114 ADコンバータ
Claims (10)
- 複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段と、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直すプロセッサと、
を備える、光干渉断層撮像器。 - 前記プロセッサは、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長の昇順又は降順に並べ直す、請求項1の光干渉断層撮像器。 - 前記波長可変光源における光源駆動パラメタと光源出力光波長設定値との対応関係を格納するメモリをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記光源出力光波長設定値と前記干渉光強度測定値から前記光源出力光波長設定値と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記光源出力光波長設定値を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、請求項1又は2の光干渉断層撮像器。 - 前記波長可変光源の出力の一部を用いて光源出力光波長測定値を得る波長モニタ手段をさらに備え、
前記プロセッサは、
前記光源出力光波長測定値と前記干渉光強度測定値から前記光源出力光波長測定値と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記光源出力光波長測定値を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、請求項1又は2の光干渉断層撮像器。 - 前記波長可変光源における光源駆動パラメタと光源出力光波長設定値との対応関係を格納するメモリと、
前記波長可変光源の出力の一部を用いて光源出力光波長測定値を得る波長モニタ手段と、
をさらに備え、
前記プロセッサは、
前記光源出力光波長設定値と前記光源出力光波長測定値から、前記波長可変光源が出力している前記光源出力光波長を特定し、前記特定した光源出力光波長と前記干渉光強度測定値の対応関係を生成し、前記特定した光源出力波長を並べ直すことで前記干渉光強度測定値を並べ直す、請求項1又は2の光干渉断層撮像器。 - 前記波長モニタ手段は、
エタロン、非対称マッハ・ツェンダ干渉計及びアレイ光導波路回折格子の少なくともいずれか1つのである、請求項4又は5の光干渉断層撮像器。 - 前記プロセッサは、
前記並べ直した干渉光強度測定値の波長スペクトルをフーリエ変換する、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光干渉断層撮像器。 - 前記分岐手段による、前記物体光と前記参照光の分岐比は1対1である、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光干渉断層撮像器。
- 複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段と、
を備える光干渉断層撮像器において、
前記干渉光強度測定値を取得するステップと、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直すステップと、
を含む、光干渉断層撮像方法。 - 複数の光源駆動パラメタで出力光波長が定まる波長可変光源と、
前記波長可変光源の出力光を物体光と参照光に分岐する分岐手段と、
前記物体光を測定対象物に照射する照射手段と、
前記測定対象物から散乱された物体光と前記参照光とを干渉させ受光器に導き干渉光強度測定値を得る光電変換測定手段と、
を備える光干渉断層撮像器に搭載されたコンピュータに、
前記干渉光強度測定値を取得する処理と、
前記干渉光強度測定値を、前記出力光波長に基づき並べ直す処理と、
を実行させる、プログラム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018066025 | 2018-03-29 | ||
JP2018066025 | 2018-03-29 | ||
PCT/JP2019/013555 WO2019189559A1 (ja) | 2018-03-29 | 2019-03-28 | 光干渉断層撮像器、光干渉断層撮像方法及びプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019189559A1 true JPWO2019189559A1 (ja) | 2021-03-11 |
JP7136191B2 JP7136191B2 (ja) | 2022-09-13 |
Family
ID=68060115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020509311A Active JP7136191B2 (ja) | 2018-03-29 | 2019-03-28 | 光干渉断層撮像器、光干渉断層撮像方法及びプログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11953320B2 (ja) |
JP (1) | JP7136191B2 (ja) |
WO (1) | WO2019189559A1 (ja) |
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CN103828146B (zh) | 2011-07-22 | 2017-07-21 | 因赛特光电子解决方案有限公司 | 从激光器动态自适应地生成波长连续的且规定的波长对时间的扫描的系统和方法 |
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JP6166645B2 (ja) | 2013-11-19 | 2017-07-19 | 株式会社トーメーコーポレーション | 光断層画像撮影装置 |
JP6818410B2 (ja) | 2015-02-05 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | 波長可変レーザ装置及び光干渉断層計 |
-
2019
- 2019-03-28 WO PCT/JP2019/013555 patent/WO2019189559A1/ja active Application Filing
- 2019-03-28 US US17/043,077 patent/US11953320B2/en active Active
- 2019-03-28 JP JP2020509311A patent/JP7136191B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019189559A1 (ja) | 2019-10-03 |
US11953320B2 (en) | 2024-04-09 |
US20210018312A1 (en) | 2021-01-21 |
JP7136191B2 (ja) | 2022-09-13 |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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