JPWO2019181447A1 - Manufacturing method of processed products and adhesive laminate - Google Patents

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Abstract

基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて加工品を製造する方法であって、前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付する工程(1)前記加工対象物に一以上の加工を施す工程(2)前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度以上での加熱によって、前記加工対象物を前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に貼付した状態を維持しながら、前記粘着性積層体を粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面で分離する工程(3)を順に有しさらに、前記加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す工程(4)を、工程(2)においてまたは工程(3)の後において実施される、加工品の製造方法。A heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material (Y1) and an adhesive layer (X1) and containing heat-expandable particles in any of the layers, and a base material (Y2) and a pressure-sensitive adhesive layer (X2). ) Is provided, and a processed product is manufactured using an adhesive laminate in which the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are directly laminated. The step of attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and attaching the object to be processed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate (1). Step of performing one or more processing on the object to be processed (2) By heating the thermally expandable particles at a temperature equal to or higher than the thermal expansion start temperature, the object to be processed is placed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. The process (3) of separating the adhesive laminate at the interface between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) while maintaining the attached state is further included. The step (4) of performing at least one of cutting and grinding on the surface opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) of the object is attached is performed in step (2) or after step (3). A method for manufacturing a processed product, which is carried out in.

Description

本発明は、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品の製造方法、並びに、当該製造方法に用いられる粘着性積層体に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a processed product that has been subjected to at least one of cutting and grinding, and an adhesive laminate used in the manufacturing method.

粘着シートは、部材を半永久的に固定する用途だけでなく、建材、内装材、及び電子部品等を加工したり検査したりする際に、対象となる部材を仮固定するための仮固定用途に使用される場合がある。
このような仮固定用途の粘着シートには、使用時の接着性と、使用後の剥離性との両立が要求される。
The adhesive sheet is used not only for semi-permanently fixing members, but also for temporary fixing of target members when processing or inspecting building materials, interior materials, electronic parts, etc. May be used.
Such an adhesive sheet for temporary fixing is required to have both adhesiveness at the time of use and peelability after use.

例えば、特許文献1には、基材の少なくとも片面に、熱膨張性微小球を含有する熱膨張性粘着層が設けられた、電子部品切断時の仮固定用の加熱剥離型粘着シートが開示されている。
この加熱剥離型粘着シートは、熱膨張性粘着層の厚さに対して、熱膨張性微小球の最大粒径を調整し、加熱前の熱膨張性粘着層の表面の中心線平均粗さを0.4μm以下に調整している。
特許文献1には、当該加熱剥離型粘着シートは、電子部品切断時には、被着体との接触面積を確保できるため、チップ飛び等の接着不具合を防止し得る接着性を発揮でき、一方で、使用後には、加熱して熱膨張性微小球を膨張させて、被着体との接触面積を減少させることで、容易に剥離することができる旨の記載がある。
For example, Patent Document 1 discloses a heat-release type pressure-sensitive adhesive sheet for temporary fixing at the time of cutting an electronic component, in which a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing heat-expandable microspheres is provided on at least one surface of a base material. ing.
This heat-release type pressure-sensitive adhesive sheet adjusts the maximum particle size of the heat-expandable microspheres with respect to the thickness of the heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and adjusts the average roughness of the center line of the surface of the heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer before heating. It is adjusted to 0.4 μm or less.
According to Patent Document 1, the heat-removable adhesive sheet can secure a contact area with an adherend when cutting an electronic component, so that it can exhibit adhesiveness capable of preventing adhesive defects such as chip skipping. There is a description that after use, the heat-expandable microspheres can be expanded by heating to reduce the contact area with the adherend, so that the microspheres can be easily peeled off.

特許第3594853号公報Japanese Patent No. 3594853

特許文献1に記載の粘着シートを用いた加工の工程では、粘着シートを用いて加工すべき対象物(以下、「加工対象物」ともいう)が仮固定され、加工対象物に所定の加工が施された後、当該加工対象物が粘着シートから分離される。
ところで、特に電子部品等の製造においては、加工対象物を切削する工程及び研削する工程の少なくともいずれかの工程を含む、複数の加工工程を経ることが多い。
そのため、例えば、粘着シートに仮固定された加工対象物に対し、当該加工対象物を切削する工程及び研削する工程の少なくともいずれかの加工工程が実施された後、当該加工対象物が粘着シートから分離され、分離された加工対象物が新たな粘着シートに貼付されて、次工程に供されることがある。
また、粘着シートに仮固定された加工対象物に対し、当該加工対象物を切削する工程及び研削する工程以外の加工工程が実施された後、加工対象物が粘着シートから分離され、分離された加工対象物が新たな粘着シートに貼付されて、加工対象物を切削する工程及び研削する工程の少なくともいずれかの加工工程が実施されることもある。
In the process of processing using the adhesive sheet described in Patent Document 1, the object to be processed using the adhesive sheet (hereinafter, also referred to as “processed object”) is temporarily fixed, and the object to be processed is subjected to predetermined processing. After being applied, the object to be processed is separated from the adhesive sheet.
By the way, particularly in the production of electronic parts and the like, a plurality of processing steps including at least one of a step of cutting an object to be machined and a step of grinding are often performed.
Therefore, for example, after at least one of the processing steps of cutting and grinding the processing object is performed on the processing object temporarily fixed to the adhesive sheet, the processing object is removed from the adhesive sheet. The separated object to be processed may be attached to a new adhesive sheet and used in the next step.
Further, after a processing process other than the step of cutting the object to be processed and the process of grinding is performed on the object to be processed temporarily fixed to the adhesive sheet, the object to be processed is separated from the adhesive sheet and separated. The object to be processed may be attached to a new adhesive sheet, and at least one of the steps of cutting and grinding the object to be processed may be performed.

しかしながら、上記のような手順で製品を製造すると、作業が煩雑になるだけでなく、製品の生産性の低下にも繋がる。そこで、作業の煩雑性を抑えながらも、製品の生産性を向上させることのできる手法の確立が望まれる。 However, if the product is manufactured by the above procedure, not only the work becomes complicated but also the productivity of the product is lowered. Therefore, it is desired to establish a method capable of improving the productivity of the product while suppressing the complexity of the work.

本発明は、加工対象物を支持体に固定して、当該加工対象物に対する加工を実施した後、当該加工対象物をわずかな力で支持体から一括して容易に分離することができ、しかも、支持体から分離した当該加工対象物を粘着シートに貼付した状態として次工程の加工に供することができ、当該加工対象物の支持体からの分離前後の少なくともいずれかのタイミングで当該加工対象物の切削及び研削の少なくともいずれかの加工を行うことができる、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品の製造方法、並びに、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品の製造のための粘着性積層体を提供することを目的とする。 According to the present invention, after the object to be processed is fixed to the support and the object to be processed is processed, the object to be processed can be easily separated from the support collectively with a slight force. The object to be processed separated from the support can be subjected to the processing of the next step in a state of being attached to the adhesive sheet, and the object to be processed can be processed at least at any timing before and after the object to be processed is separated from the support. A method for manufacturing a processed product that has been subjected to at least one of cutting and grinding, and at least one of cutting and grinding, which can perform at least one of cutting and grinding. It is an object of the present invention to provide an adhesive laminate for manufacturing a processed product.

本発明者らは、基材及び粘着剤層を有し、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む層を含む、熱膨張性の粘着シート(I)と、基材及び粘着剤層を有する粘着シート(II)とを備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造することによって、上記課題を解決し得ることを見出した。 The present inventors have a heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material and a pressure-sensitive adhesive layer, and including a layer containing heat-expandable particles in any of the layers, and a base material and a pressure-sensitive adhesive layer. Using an adhesive laminate comprising the adhesive sheet (II) and in which the adhesive sheet (I) and the base material of the adhesive sheet (II) are directly laminated, at least one of cutting and grinding is performed. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by manufacturing the processed products.

すなわち、本発明は、以下の[1]〜[17]関する。
[1] 基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張開始温度(t)の熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造する方法であって、
下記工程(1)〜(3)をこの順で有し、
・工程(1):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付する工程
・工程(2):前記加工対象物に一以上の加工を施す工程
・工程(3):前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)以上での加熱によって、前記加工対象物を前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に貼付した状態を維持しながら、前記粘着性積層体を粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する工程
さらに、下記工程(4)を有し、
・工程(4):前記加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す工程
前記工程(4)は、下記(X)及び(Y)の少なくともいずれかにおいて実施される、加工品の製造方法。
(X):前記一以上の加工として前記工程(2)において実施される
(Y):前記工程(3)の後において実施される
[2] 前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)が60〜270℃である、上記[1]に記載の製造方法。
[3] 粘着シート(I)が有する基材(Y1)が、前記熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有する、上記[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4] 粘着シート(I)が有する基材(Y1)が、熱膨張性基材層(Y1−1)と非熱膨張性基材層(Y1−2)とを有する、上記[3]に記載の製造方法。
[5] 粘着シート(I)が有する基材(Y1)の熱膨張性基材層(Y1−1)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる、上記[3]又は[4]に記載の製造方法。
[6] 粘着シート(I)が、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)により基材(Y1)が挟持された構成を有し、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有し、粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)の表面は、前記支持体に貼付される面である、上記[3]〜[5]に記載の製造方法。
[7] 第1粘着剤層(X11)が、前記熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層であり、
第2粘着剤層(X12)が、非熱膨張性粘着剤層であり、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有する、粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)の表面は、前記支持体に貼付される面である、上記[1]又は[2]に記載の製造方法。
[8] 基材(Y1)の第1粘着剤層(X11)が積層した側の表面が、易接着処理が施された表面である、上記[6]又は[7]に記載の製造方法。
[9] 基材(Y2)の粘着シート(I)が積層した側の表面が、剥離処理が施された表面である、上記[1]〜[8]に記載の製造方法。
[10] 粘着シート(II)が、基材(Y2)と粘着剤層(X2)との間に、中間層(Z2)を有する、上記[1]〜[9]に記載の製造方法。
[11] 粘着シート(II)の粘着剤層(X2)が、エネルギー線硬化型の粘着剤層である、上記[1]〜[10]に記載の製造方法。
[12] 粘着シート(II)が、下記要件(α)〜(γ)の1以上を満たす、上記[1]〜[11]に記載の製造方法。
・要件(α):基材(Y2)のヤング率が1.0MPa以上である。
・要件(β):基材(Y2)の厚さが5μm以上である。
・要件(γ):粘着剤層(X2)の貯蔵弾性率G’(23℃)が0.1MPa以上である。
[13] 前記加工対象物が半導体ウエハであり、
前記工程(2)における前記一以上の加工が、下記工程(2−A)を含み、
・工程(2−A):前記半導体ウエハに、分割起点となる改質領域を形成する工程
前記工程(4)が、下記工程(4−A)であり、
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
前記工程(4−A)は、下記(X−A)又は(Y−A)の少なくともいずれかにおいて実施される、上記[1]〜[12]に記載の製造方法。
(X−A):前記一以上の加工として前記工程(2―A)の後に実施される
(Y−A):前記工程(3)の後に実施される
[14] 前記加工対象物が半導体チップであり、
前記工程(2)における前記一以上の加工が、下記工程(2−B)を含み、
・工程(2−B):前記半導体チップと、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、前記半導体チップの周辺部と、を封止材で被覆し、該封止材を硬化させて、前記半導体チップが硬化封止材に封止されてなる硬化封止体を得る工程
前記工程(4)は、下記(X−B)及び(Y−B)の少なくともいずれかにおいて実施される、上記[1]〜[12]に記載の製造方法。
(X−B):前記一以上の加工として前記工程(2―B)の後に実施される
(Y−B):前記工程(3)の後に実施される
[15] 前記加工対象物が分割起点となる改質領域を有する半導体ウエハであり、
前記工程(4)が下記工程(4−A)である、上記[1]〜[12]に記載の製造方法。
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
[16] 前記加工対象物が分割起点となる切り込み溝を有する半導体ウエハであり、
前記工程(1)が下記工程(1−C)であり、前記工程(4)が下記工程(4−C)である、上記[1]〜[12]に記載の製造方法。
・工程(1−C):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に前記半導体ウエハの切り込み溝を有する面を貼付する工程
・工程(4−C):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
[17] 基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造するための、粘着性積層体。
That is, the present invention relates to the following [1] to [17].
[1] A heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1) and containing heat-expandable particles having a thermal expansion start temperature (t) in any of the layers, and An adhesive laminate comprising a pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a base material (Y2) and an adhesive layer (X2), and the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. Is a method of manufacturing a processed product that has been subjected to at least one of cutting and grinding.
The following steps (1) to (3) are performed in this order.
Step (1): A step of attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and attaching the object to be processed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. -Step (2): A step of performing one or more processing on the processing object-Step (3): By heating the heat-expandable particles at a thermal expansion start temperature (t) or higher, the processing object is adhered to the adhesive. The adhesive laminate is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) while maintaining the state of being attached to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Steps to be performed Further, it has the following step (4).
Step (4): A step of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached. The step (4) is as follows. A method for producing a processed product, which is carried out in at least one of (X) and (Y).
(X): Performed in the step (2) as the one or more processes (Y): Performed after the step (3) [2] Thermal expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles The production method according to the above [1], wherein the temperature is 60 to 270 ° C.
[3] The production according to the above [1] or [2], wherein the base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing the heat-expandable particles. Method.
[4] In the above [3], the base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) and a non-heat-expandable base material layer (Y1-2). The manufacturing method described.
[5] The above-mentioned [5], wherein the heat-expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. 3] or the manufacturing method according to [4].
[6] The pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a structure in which the base material (Y1) is sandwiched between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12), and the first pressure-sensitive adhesive sheet (I). The pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated, and the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is the support. The manufacturing method according to the above [3] to [5], which is a surface to be attached to the above.
[7] The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing the heat-expandable particles.
The second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly connected to each other. The production method according to the above [1] or [2], wherein the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a laminated structure is a surface to be attached to the support.
[8] The production method according to the above [6] or [7], wherein the surface on the side where the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the base material (Y1) is laminated is the surface to which the easy-adhesion treatment is applied.
[9] The production method according to the above [1] to [8], wherein the surface on the side where the adhesive sheet (I) of the base material (Y2) is laminated is the surface to which the peeling treatment has been performed.
[10] The production method according to the above [1] to [9], wherein the pressure-sensitive adhesive sheet (II) has an intermediate layer (Z2) between the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2).
[11] The production method according to the above [1] to [10], wherein the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer.
[12] The production method according to the above [1] to [11], wherein the adhesive sheet (II) satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ).
-Requirement (α): Young's modulus of the base material (Y2) is 1.0 MPa or more.
-Requirement (β): The thickness of the base material (Y2) is 5 μm or more.
-Requirement (γ): The storage elastic modulus G'(23 ° C.) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.1 MPa or more.
[13] The object to be processed is a semiconductor wafer.
The one or more processes in the step (2) include the following steps (2-A).
Step (2-A): A step of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer. The step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached. ) Or (YA), the production method according to the above [1] to [12].
(XA): Performed after the step (2-A) as the one or more processes (YA): Performed after the step (3) [14] The processed object is a semiconductor chip. And
The one or more processes in the step (2) include the following steps (2-B).
Step (2-B): The semiconductor chip and the peripheral portion of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are covered with a sealing material, and the sealing material is cured. Step of obtaining a cured encapsulant obtained by encapsulating the semiconductor chip in a cured encapsulant The step (4) is carried out in at least one of the following (XB) and (YB). The production method according to [1] to [12].
(X-B): Performed after the step (2-B) as the one or more processes (Y-B): Performed after the step (3) [15] The processed object is a division starting point. It is a semiconductor wafer having a modified region that becomes
The production method according to the above [1] to [12], wherein the step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached [16] A notch groove in which the object to be processed is a division starting point. Is a semiconductor wafer with
The production method according to the above [1] to [12], wherein the step (1) is the following step (1-C), and the step (4) is the following step (4-C).
Step (1-C): The surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is attached to the support, and the semiconductor wafer is cut into the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Step / Step (4-C) of attaching the grooved surface: A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached [17] Substrate ( It has Y1) and an adhesive layer (X1), and has a heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) containing heat-expandable particles in any of the layers, and a base material (Y2) and a pressure-sensitive adhesive layer (X2). Manufactures a processed product having an adhesive sheet (II) and having at least one of cutting and grinding processed, in which the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are directly laminated. Adhesive laminate for use.

本発明によれば、加工対象物を支持体に固定して、当該加工対象物に対する加工を実施した後、当該加工対象物をわずかな力で支持体から一括して容易に分離することができ、しかも、支持体から分離した当該加工対象物を粘着シートに貼付した状態として次工程の加工に供することができ、当該加工対象物の支持体からの分離前後の少なくともいずれかのタイミングで当該加工対象物の切削及び研削の少なくともいずれかの加工を行うことができる、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品の製造方法、並びに、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品の製造のための粘着性積層体を提供することができる。 According to the present invention, after the object to be processed is fixed to the support and the object to be processed is processed, the object to be processed can be easily separated from the support collectively with a slight force. Moreover, the object to be processed separated from the support can be subjected to the processing of the next step in a state of being attached to the adhesive sheet, and the processing can be performed at least at any timing before and after the object to be processed is separated from the support. A method for manufacturing a processed product that has been subjected to at least one of cutting and grinding, and at least one of cutting and grinding, which can perform at least one of cutting and grinding of an object. It is possible to provide an adhesive laminate for manufacturing the processed product.

本発明の製造方法に用いる第一態様の粘着性積層体の構成を示す、当該粘着性積層体の断面模式図である。It is sectional drawing of the sticky laminate which shows the structure of the sticky laminate of the 1st aspect used in the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法に用いる第二態様の粘着性積層体の構成を示す、当該粘着性積層体の断面模式図である。It is sectional drawing of the adhesive laminate which shows the structure of the adhesive laminate of the 2nd aspect used in the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法に用いる第三態様の粘着性積層体の構成を示す、当該粘着性積層体の断面模式図である。It is sectional drawing of the adhesive laminate which shows the structure of the adhesive laminate of the 3rd aspect used in the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法の他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows another example of the manufacturing method of this invention.

本明細書において、「層」が「非熱膨張性層」であるか「熱膨張性層」であるかは、以下のように判断する。
対象となる層を、熱膨張性粒子を含む層に含まれる熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)で、3分間加熱処理する。下記式から算出される体積変化率が5%未満である場合、当該層は「非熱膨張性層」であると判断し、5%以上である場合、当該層は「熱膨張性層」であると判断する。
・体積変化率(%)={(加熱処理後の前記層の体積−加熱処理前の前記層の体積)/加熱処理前の前記層の体積}×100
なお、熱膨張性粒子を含有しない層は、「非熱膨張性層」であるとする。
In the present specification, whether the "layer" is a "non-thermally expandable layer" or a "thermally expandable layer" is determined as follows.
The target layer is heat-treated for 3 minutes at the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles contained in the layer containing the heat-expandable particles. If the volume change rate calculated from the following formula is less than 5%, the layer is judged to be a "non-thermally expandable layer", and if it is 5% or more, the layer is a "thermally expandable layer". Judge that there is.
Volume change rate (%) = {(volume of the layer after heat treatment-volume of the layer before heat treatment) / volume of the layer before heat treatment} × 100
The layer that does not contain the thermally expandable particles is referred to as a "non-thermally expandable layer".

本明細書において、「有効成分」とは、対象となる組成物に含まれる成分のうち、希釈溶媒を除いた成分を指す。
本明細書において、質量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定される標準ポリスチレン換算の値であり、具体的には実施例に記載の方法に基づいて測定した値である。
本明細書において、例えば、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」と「メタクリル酸」の双方を示し、他の類似用語も同様である。
本明細書において、好ましい数値範囲(例えば、含有量等の範囲)について、段階的に記載された下限値及び上限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。例えば、「好ましくは10〜90、より好ましくは30〜60」という記載から、「好ましい下限値(10)」と「より好ましい上限値(60)」とを組み合わせて、「10〜60」とすることもできる。
As used herein, the term "active ingredient" refers to a component contained in a target composition excluding a diluting solvent.
In the present specification, the mass average molecular weight (Mw) is a value in terms of standard polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method, and specifically, a value measured based on the method described in Examples. Is.
In the present specification, for example, "(meth) acrylic acid" means both "acrylic acid" and "methacrylic acid", and other similar terms are also used.
In the present specification, the lower limit value and the upper limit value described stepwise for a preferable numerical range (for example, a range such as content) can be independently combined. For example, from the description of "preferably 10 to 90, more preferably 30 to 60", the "preferable lower limit value (10)" and the "more preferable upper limit value (60)" are combined to obtain "10 to 60". You can also do it.

[加工品の製造方法]
本発明の加工品の製造方法は、基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張開始温度(t)の熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造する方法であって、
下記工程(1)〜(3)をこの順で有し、
・工程(1):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付する工程
・工程(2):前記加工対象物に一以上の加工を施す工程
・工程(3):前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)以上での加熱によって、前記加工対象物を前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に貼付した状態を維持しながら、前記粘着性積層体を粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する工程
さらに、下記工程(4)を有し、
・工程(4):前記加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す工程
前記工程(4)は、下記(X)及び(Y)の少なくともいずれかにおいて実施される。
(X):前記一以上の加工として前記工程(2)において実施される
(Y):前記工程(3)の後において実施される
以下、本発明の製造方法に用いられる粘着性積層体について説明した後、工程(1)〜(4)を含む各製造工程について説明する。
[Manufacturing method of processed products]
The method for producing a processed product of the present invention has a base material (Y1) and an adhesive layer (X1), and one of the layers contains thermally expandable particles having a thermal expansion start temperature (t). The sheet (I) and the pressure-sensitive adhesive sheet (II) having the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are provided, and the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. It is a method of manufacturing a processed product which has been subjected to at least one of cutting and grinding using the adhesive laminate.
The following steps (1) to (3) are performed in this order.
Step (1): A step of attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and attaching the object to be processed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. -Step (2): A step of performing one or more processing on the processing object-Step (3): By heating the heat-expandable particles at a thermal expansion start temperature (t) or higher, the processing object is adhered to the adhesive. The adhesive laminate is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) while maintaining the state of being attached to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Steps to be performed Further, it has the following step (4).
Step (4): A step of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached. The step (4) is as follows. It is carried out in at least one of (X) and (Y).
(X): Performed in the step (2) as the one or more processes (Y): Performed after the step (3) Hereinafter, the adhesive laminate used in the production method of the present invention will be described. After that, each manufacturing process including the steps (1) to (4) will be described.

[粘着性積層体の構成]
本発明の製造方法に用いる粘着性積層体は、基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む、熱膨張性の粘着シート(I)と、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)と、を備え、粘着シート(I)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなり、加工対象物に所定の加工を施す際に加工対象物を支持体に固定するために用いられる。
本明細書において、所定の加工とは、本発明の製造方法における工程(2)の加工を意味している。なお、本発明では、工程(2)における一以上の加工の一つとして工程(4)を実施することもある。したがって、所定の加工には、本発明の製造方法における工程(4)も含まれ得る。
本発明の製造方法に用いる粘着性積層体において、粘着シート(I)の粘着剤層(X1)の表面は、支持体を貼付する面である。粘着シート(I)が第1粘着剤層(X11)と第2粘着剤層(X12)を有する場合、第2粘着剤層(X12)の表面が支持体を貼付する面であり、第1粘着剤層(X11)の表面は粘着シート(II)の基材(Y2)側に積層する面である。また、粘着シート(II)の粘着剤層(X2)の表面は、加工対象物を貼付する面である。
そして、本発明の製造方法に用いる粘着性積層体は、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上の温度での加熱処理によって、粘着シート(I)と、粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離可能である。以降の説明では、当該加熱処理のことを「分離用加熱処理」ともいう。
図1〜3は、それぞれ、本発明の製造方法に用いる第一態様、第二態様、及び第三態様の粘着性積層体の構成を示す断面模式図である。
[Structure of adhesive laminate]
The pressure-sensitive adhesive laminate used in the production method of the present invention has a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), and the heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) contains heat-expandable particles in any of the layers. And the pressure-sensitive adhesive sheet (II) having the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. Therefore, it is used to fix the object to be processed to the support when performing a predetermined process on the object to be processed.
In the present specification, the predetermined processing means the processing of the step (2) in the manufacturing method of the present invention. In the present invention, the step (4) may be carried out as one or more of the processes in the step (2). Therefore, the predetermined processing may also include the step (4) in the manufacturing method of the present invention.
In the adhesive laminate used in the production method of the present invention, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is the surface to which the support is attached. When the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (X12), the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is the surface to which the support is attached, and the first pressure-sensitive adhesive layer (X12) is attached. The surface of the agent layer (X11) is a surface to be laminated on the base material (Y2) side of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). The surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is the surface on which the object to be processed is attached.
The adhesive laminate used in the production method of the present invention is subjected to heat treatment at a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles, whereby the adhesive sheet (I) and the base material of the adhesive sheet (II) are used. It can be separated at the interface P with (Y2). In the following description, the heat treatment is also referred to as "heat treatment for separation".
1 to 3 are schematic cross-sectional views showing the configurations of the adhesive laminates of the first aspect, the second aspect, and the third aspect used in the production method of the present invention, respectively.

<第一態様の粘着性積層体>
本発明の製造方法に用いる第一態様の粘着性積層体としては、例えば図1(a)、(b)に示す粘着性積層体1a、1bが挙げられる。
粘着性積層体1a、1bは、基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有する粘着シート(I)と、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)とを備え、粘着シート(I)の基材(Y1)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有する。
<Adhesive laminate of the first aspect>
Examples of the adhesive laminate of the first aspect used in the production method of the present invention include the adhesive laminates 1a and 1b shown in FIGS. 1A and 1B.
The adhesive laminates 1a and 1b include a pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), and a pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a base material (Y2) and a pressure-sensitive adhesive layer (X2). The base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.

本発明の製造方法に用いる粘着性積層体は、分離用加熱処理によって界面Pで分離することができるように、粘着シート(I)のいずれかの層を、熱膨張性粒子を含む層としている。
本発明の製造方法に用いる粘着性積層体は、分離用加熱処理によって、熱膨張性粒子が膨張し、熱膨張性粒子を含む層の表面に凹凸が生じる。これにより、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
その結果、粘着シート(II)の粘着剤層(X2)の表面上に加工対象物を貼付し、所定の加工を施した後、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離させることで、所定の加工が施された、粘着シート(II)に貼付された状態の加工対象物を得ることができる。
In the adhesive laminate used in the production method of the present invention, any layer of the adhesive sheet (I) is a layer containing thermal expansion particles so that the adhesive laminate can be separated at the interface P by heat treatment for separation. ..
In the adhesive laminate used in the production method of the present invention, the heat-expandable particles expand by the heat treatment for separation, and the surface of the layer containing the heat-expandable particles becomes uneven. As a result, the contact area between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is reduced.
As a result, the object to be processed is attached on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II), and after performing the predetermined processing, the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is applied. ), It is possible to obtain a processed object in a state of being attached to the adhesive sheet (II) which has been subjected to a predetermined process.

そのため、本発明の製造方法によれば、上記の粘着性積層体を介して加工対象物を支持体に固定して所定の加工を実施することができるとともに、所定の加工が施された加工対象物をわずかな力で支持体から一括して容易に分離することができる。しかも、支持体から分離した加工対象物は粘着シート(II)に貼付した状態として、そのまま次工程に供することができる。
したがって、所定の加工が施された分離後の加工対象物を新たな粘着シートに貼付する作業を行う必要がなく、作業性及び製品の生産性が向上し得る。
Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the object to be processed can be fixed to the support via the above-mentioned adhesive laminate to carry out a predetermined process, and the object to be processed has been subjected to the predetermined process. Objects can be easily separated from the support all at once with a small amount of force. Moreover, the processed object separated from the support can be used as it is in the next step in a state of being attached to the adhesive sheet (II).
Therefore, it is not necessary to attach the separated processed object that has been subjected to a predetermined process to a new adhesive sheet, and the workability and the productivity of the product can be improved.

本発明の第一態様において、基材(Y1)は、図1に示す粘着性積層体1a、1bのように、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有することが好ましい。
なお、基材(Y1)は、図1(a)に示す粘着性積層体1aのように、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)のみを有する単層構成であってもよい。また、基材(Y1)は、図1(b)に示す粘着性積層体1bのように、熱膨張性基材層(Y1−1)と、非熱膨張性基材層(Y1−2)とを有する複層構成であってもよい。
In the first aspect of the present invention, the base material (Y1) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles like the adhesive laminates 1a and 1b shown in FIG. Is preferable.
The base material (Y1) has a single-layer structure having only a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles, as in the adhesive laminate 1a shown in FIG. 1 (a). You may. Further, the base material (Y1) includes a heat-expandable base material layer (Y1-1) and a non-heat-expandable base material layer (Y1-2) as shown in the adhesive laminate 1b shown in FIG. 1 (b). It may have a multi-layer structure having and.

図1(a)に示す粘着性積層体1aは、分離用加熱処理によって、基材(Y1)を構成する熱膨張性基材層(Y1−1)に含まれる熱膨張性粒子が膨張し、基材(Y1)の粘着シート(II)側の表面に凹凸が生じて、基材(Y1)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
一方で、粘着性積層体1aが有する粘着剤層(X1)は、支持体と貼付されているため、基材(Y1)の粘着剤層(X1)側の表面には凹凸が形成され難い。これにより、粘着シート(II)と接している基材(Y1)の表面に凹凸を効率的に形成することができる。
その結果、粘着性積層体1aは、粘着シート(I)の基材(Y1)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
なお、粘着性積層体1aが有する粘着剤層(X1)を、支持体に対する粘着力が高くなるような粘着剤組成物から形成することで、界面Pで、より容易に分離可能となるように設計することも可能である。
In the adhesive laminate 1a shown in FIG. 1A, the heat-expandable particles contained in the heat-expandable base material layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) are expanded by the heat treatment for separation, and the heat-expandable particles are expanded. The surface of the base material (Y1) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side is uneven, and the contact area between the base material (Y1) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is reduced.
On the other hand, since the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive laminate 1a is attached to the support, it is difficult for irregularities to be formed on the surface of the base material (Y1) on the pressure-sensitive adhesive layer (X1) side. As a result, unevenness can be efficiently formed on the surface of the base material (Y1) in contact with the pressure-sensitive adhesive sheet (II).
As a result, the adhesive laminate 1a can be easily separated at the interface P between the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) at once with a slight force. It becomes.
By forming the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive laminate 1a from a pressure-sensitive adhesive composition that has a high adhesive strength to the support, the adhesive layer (X1) can be separated more easily at the interface P. It is also possible to design.

また、図1(b)に示す粘着性積層体1bは、分離用加熱処理によって、基材(Y1)を構成する熱膨張性基材層(Y1−1)に含まれる熱膨張性粒子が膨張し、基材(Y1)の粘着シート(II)側の表面に凹凸が生じて、基材(Y1)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
一方で、基材(Y1)を構成する非熱膨張性基材層(Y1−2)は、加熱処理による膨張の程度が小さいため、基材(Y1)の粘着剤層(X1)側の表面には凹凸が形成され難い。これにより、基材(Y1)の粘着シート(II)側の表面に凹凸を効率的に形成することができる。
その結果、粘着性積層体1bは、粘着シート(I)の基材(Y1)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
なお、粘着性積層体1aの場合と同様に、粘着性積層体1bが有する粘着剤層(X1)を、支持体に対する粘着力が高くなるような粘着剤組成物から形成することで、界面Pで、より容易に分離可能となるように設計することも可能である。
Further, in the adhesive laminate 1b shown in FIG. 1B, the heat-expandable particles contained in the heat-expandable base material layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) are expanded by the heat treatment for separation. However, the surface of the base material (Y1) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side is uneven, and the contact area between the base material (Y1) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is reduced.
On the other hand, since the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) constituting the base material (Y1) has a small degree of expansion due to heat treatment, the surface of the base material (Y1) on the pressure-sensitive adhesive layer (X1) side. It is difficult for unevenness to be formed on the surface. As a result, unevenness can be efficiently formed on the surface of the base material (Y1) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side.
As a result, the adhesive laminate 1b can be easily separated at the interface P between the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) at once with a slight force. It becomes.
As in the case of the adhesive laminate 1a, the interface P is formed by forming the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate 1b from an adhesive composition having a high adhesive force to the support. It is also possible to design it so that it can be separated more easily.

上記観点から、本発明の第一態様において、図1(b)に示す粘着性積層体1bのように、基材(Y1)が、一方の表面側に熱膨張性基材層(Y1−1)を有し、他方の表面側に非熱膨張性基材層(Y1−2)を有するものであることが好ましい。 From the above viewpoint, in the first aspect of the present invention, as in the adhesive laminate 1b shown in FIG. 1B, the base material (Y1) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) on one surface side. ), And a non-thermally expandable base material layer (Y1-2) on the other surface side is preferable.

また、本発明の第一態様において、界面Pでよりわずかな力で一括して容易に分離可能な粘着性積層体とする観点から、粘着性積層体1a、1bは、粘着シート(I)が有する基材(Y1)の熱膨張性基材層(Y1−1)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成であることが好ましい。 Further, in the first aspect of the present invention, from the viewpoint of forming an adhesive laminate that can be easily separated collectively at the interface P with a smaller force, the adhesive laminates 1a and 1b have an adhesive sheet (I). It is preferable that the heat-expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.

<第二態様の粘着性積層体>
本発明の製造方法に用いる第二態様の粘着性積層体としては、例えば図2(a)、(b)に示す粘着性積層体1c、1dが挙げられる。
粘着性積層体1c、1dは、粘着シート(I)が、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)により基材(Y1)が挟持された構成を有し、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有する。
なお、粘着性積層体1c、1dにおいて、第2粘着剤層(X12)の表面は、支持体と貼付される面となる。
<Adhesive laminate of the second aspect>
Examples of the adhesive laminate of the second aspect used in the production method of the present invention include the adhesive laminates 1c and 1d shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b).
The adhesive laminates 1c and 1d have a structure in which the adhesive sheet (I) has a base material (Y1) sandwiched between the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12). The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.
In the adhesive laminates 1c and 1d, the surface of the second adhesive layer (X12) is the surface to be attached to the support.

本発明の第二態様において、基材(Y1)は、図2に示す粘着性積層体1c、1dのように、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有することが好ましい。
なお、基材(Y1)は、図2(a)に示す粘着性積層体1cのように、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)のみを有する単層構成であってもよい。また、基材(Y1)は、図2(b)に示す粘着性積層体1dのように、熱膨張性基材層(Y1−1)と、非熱膨張性基材層(Y1−2)とを有する複層構成であってもよい。
また、基材(Y1)が、熱膨張性基材層(Y1−1)と、非熱膨張性基材層(Y1−2)とを有する複層構成である場合、熱膨張性基材層(Y1−1)は粘着シート(II)側に配置され、非熱膨張性基材層(Y1−2)は第2粘着剤層(X12)側に配置されることが好ましい。
In the second aspect of the present invention, the base material (Y1) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles like the adhesive laminates 1c and 1d shown in FIG. Is preferable.
The base material (Y1) has a single-layer structure having only a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles, as in the adhesive laminate 1c shown in FIG. 2 (a). You may. Further, the base material (Y1) includes a heat-expandable base material layer (Y1-1) and a non-heat-expandable base material layer (Y1-2) as shown in the adhesive laminate 1d shown in FIG. 2 (b). It may have a multi-layer structure having and.
Further, when the base material (Y1) has a multi-layer structure having a heat-expandable base material layer (Y1-1) and a non-heat-expandable base material layer (Y1-2), the heat-expandable base material layer It is preferable that (Y1-1) is arranged on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side, and the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) is arranged on the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) side.

図2(a)に示す粘着性積層体1cは、分離用加熱処理によって、基材(Y1)を構成する熱膨張性基材層(Y1−1)中の熱膨張性粒子が膨張し、基材(Y1)の第1粘着剤層(X11)側の表面に凹凸が生じる。そして、基材(Y1)の表面に生じた凹凸によって第1粘着剤層(X11)も押し上げられ、第1粘着剤層(X11)の粘着シート(II)側の表面にも凹凸が形成される。これにより、第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
一方で、第2粘着剤層(X12)には、支持体が貼付されるため、基材(Y1)の第2粘着剤層(X12)側の表面には凹凸が形成され難い。そのため、基材(Y1)の第1粘着層(X11)側の表面に効率的に凹凸が形成されて、第1粘着層(X11)の粘着シート(II)側の表面に効率的に凹凸が形成される。
その結果、粘着性積層体1cは、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
なお、粘着性積層体1cが有する第2粘着剤層(X12)を、支持体に対する粘着力が高くなるような粘着剤組成物から形成することで、界面Pでより容易に分離可能となるように設計することも可能である。
In the adhesive laminate 1c shown in FIG. 2A, the heat-expandable particles in the heat-expandable base material layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) are expanded by the heat treatment for separation, and the base is formed. The surface of the material (Y1) on the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) side has irregularities. Then, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is also pushed up by the unevenness generated on the surface of the base material (Y1), and the unevenness is also formed on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side. .. As a result, the contact area between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is reduced.
On the other hand, since the support is attached to the second pressure-sensitive adhesive layer (X12), it is difficult for irregularities to be formed on the surface of the base material (Y1) on the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) side. Therefore, irregularities are efficiently formed on the surface of the base material (Y1) on the first adhesive layer (X11) side, and irregularities are efficiently formed on the surface of the first adhesive layer (X11) on the adhesive sheet (II) side. It is formed.
As a result, the adhesive laminate 1c can be easily put together at the interface P between the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) with a slight force. Can be separated into.
By forming the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive laminate 1c from a pressure-sensitive adhesive composition that has a high adhesive force to the support, it can be more easily separated at the interface P. It is also possible to design.

また、図2(b)に示す粘着性積層体1dは、分離用加熱処理によって、基材(Y1)を構成する熱膨張性基材層(Y1−1)に含まれる熱膨張性粒子が膨張し、基材(Y1)の第1粘着剤層(X11)側の表面に凹凸が生じる。そして、基材(Y1)の表面に生じた凹凸によって第1粘着剤層(X11)も押し上げられ、第1粘着剤層(X11)の粘着シート(II)側の表面にも凹凸が形成される。これにより、第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
一方で、基材(Y1)を構成する非熱膨張性基材層(Y1−2)は、加熱処理による膨張の程度が小さいため、基材(Y1)の第2粘着剤層(X12)側の表面には凹凸が形成され難い。これにより、基材(Y1)の第1粘着剤層(X11)側の表面に凹凸を効率的に形成することができる。
その結果、粘着性積層体1dは、粘着シート(I)の基材(Y1)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
なお、粘着性積層体1cの場合と同様に、粘着性積層体1dが有する第2粘着剤層(X12)を、支持体に対する粘着力が高くなるような粘着剤組成物から形成することで、界面Pで、より容易に分離可能となるように設計することも可能である。
Further, in the adhesive laminate 1d shown in FIG. 2B, the heat-expandable particles contained in the heat-expandable base material layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) are expanded by the heat treatment for separation. However, the surface of the base material (Y1) on the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) side is uneven. Then, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is also pushed up by the unevenness generated on the surface of the base material (Y1), and the unevenness is also formed on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side. .. As a result, the contact area between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is reduced.
On the other hand, since the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) constituting the base material (Y1) has a small degree of expansion due to heat treatment, the base material (Y1) is on the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) side. It is difficult for irregularities to be formed on the surface of the surface. As a result, unevenness can be efficiently formed on the surface of the base material (Y1) on the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) side.
As a result, the adhesive laminate 1d can be easily separated at the interface P between the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) at once with a slight force. It becomes.
As in the case of the adhesive laminate 1c, the second adhesive layer (X12) of the adhesive laminate 1d is formed from an adhesive composition having a high adhesive force to the support. It can also be designed to be more easily separable at the interface P.

ここで、本発明の第二態様においても、界面Pでよりわずかな力で一括して容易に分離可能な粘着性積層体とする観点から、粘着性積層体1c、1dは、粘着シート(I)が有する基材(Y1)の熱膨張性基材層(Y1−1)と、第1粘着剤層(X11)とが直接積層した構成であることが好ましい。この場合、更に、第1粘着剤層(X11)と樹脂膜形成用シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成であることがより好ましい。 Here, also in the second aspect of the present invention, from the viewpoint of forming an adhesive laminate that can be easily separated at the interface P with a smaller force, the adhesive laminates 1c and 1d are the adhesive sheets (I). The heat-expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) and the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) are preferably laminated directly. In this case, it is more preferable that the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the resin film-forming sheet (II) are directly laminated.

<第三態様の粘着性積層体>
本発明の製造方法に用いる第一態様の粘着性積層体1a、1b、第二態様の粘着性積層体1c、1dは、いずれも、基材(Y1)を構成する層の一つとして、熱膨張性粒子を含む層が含まれるものである。
一方で、本発明の製造方法に用いる第三態様の粘着性積層体として、粘着シート(I)の基材(Y1)の界面P側の表面に、前記熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層を設け、基材(Y1)の他方の表面に、非熱膨張性粘着剤層を設けた構成であってもよい。
このような態様としては、例えば図3に示す粘着性積層体2のように、粘着シート(I)が、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)により基材(Y1)が挟持された構成を有し、第1粘着剤層(X11)が、熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層であり、第2粘着剤層(X12)が、非熱膨張性粘着剤層であり、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有するものが挙げられる。
なお、粘着性積層体2のような上記構成において、第2粘着剤層(X12)の表面は、支持体と貼付される面である。
また、粘着性積層体2のような上記構成において、基材(Y1)は、非熱膨張性基材であることが好ましい。
<Adhesive laminate of the third aspect>
The adhesive laminates 1a and 1b of the first aspect and the adhesive laminates 1c and 1d of the second aspect used in the production method of the present invention are all heat as one of the layers constituting the base material (Y1). It includes a layer containing expansive particles.
On the other hand, as the adhesive laminate of the third aspect used in the production method of the present invention, the heat-expandable adhesive containing the heat-expandable particles on the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) on the interface P side of the base material (Y1). The agent layer may be provided, and the non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer may be provided on the other surface of the base material (Y1).
In such an embodiment, for example, as in the adhesive laminate 2 shown in FIG. 3, the adhesive sheet (I) is made of a base material (Y1) by the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12). ) Is sandwiched, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing heat-expandable particles, and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive. Examples of the agent layer include those having a structure in which the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.
In the above configuration such as the adhesive laminate 2, the surface of the second adhesive layer (X12) is a surface to be attached to the support.
Further, in the above configuration such as the adhesive laminate 2, the base material (Y1) is preferably a non-thermally expandable base material.

図3に示す粘着性積層体2においては、分離用加熱処理によって、第1粘着剤層(X11)である熱膨張性粘着剤層の表面に凹凸が生じ、第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との接触面積が減少する。
一方で、第1粘着剤層(X11)の基材(Y1)側の表面は、非熱膨張性基材である基材(Y1)が積層しているため、凹凸は生じ難い。そのため、第1粘着剤層(X11)の、粘着シート(II)側の表面に効率的に凹凸が形成される。
その結果、粘着性積層体2は、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
In the adhesive laminate 2 shown in FIG. 3, the heat treatment for separation causes irregularities on the surface of the heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, which is the first pressure-sensitive adhesive layer (X11). The contact area of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with the base material (Y2) is reduced.
On the other hand, since the base material (Y1), which is a non-thermally expandable base material, is laminated on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) on the base material (Y1) side, unevenness is unlikely to occur. Therefore, irregularities are efficiently formed on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side.
As a result, the adhesive laminate 2 can be easily put together at the interface P between the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) with a slight force. Can be separated into.

<剥離材を有する粘着性積層体の構成>
本発明の製造方法に用いる一態様の粘着性積層体において、支持体を貼付する粘着剤層(X1)の表面及び加工対象物を貼着する粘着剤層(X2)の表面の一方又は双方に、さらに剥離材を積層した構成としてもよい。
また、例えば図1(a)、(b)に示す粘着性積層体1a、1bにおいて、粘着剤層(X1)及び粘着剤層(X2)の一方の粘着表面に、両面に剥離処理が施された剥離材が積層したものを、ロール状に巻いた構成としてもよい。図2(a)、(b)に示す粘着性積層体1c、1d、図3に示す粘着性積層体2についても、同様にロール状に巻いた構成としてもよい。
<Structure of adhesive laminate with release material>
In one aspect of the adhesive laminate used in the production method of the present invention, one or both of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) to which the support is attached and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) to which the object to be processed is attached. , Further, a release material may be laminated.
Further, for example, in the adhesive laminates 1a and 1b shown in FIGS. 1A and 1B, the adhesive surfaces of one of the adhesive layer (X1) and the adhesive layer (X2) are peeled off on both sides. A roll-shaped structure may be obtained in which the release material is laminated. The adhesive laminates 1c and 1d shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b) and the adhesive laminate 2 shown in FIG. 3 may also be wound in a roll shape in the same manner.

[粘着性積層体の各種物性]
本発明の製造方法に用いる一態様の粘着性積層体は、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上の温度での加熱処理によって、粘着シート(I)と、粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで、わずかな力で一括して容易に分離可能となる。
ここで、本発明の一態様の粘着性積層体において、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上の温度での加熱処理によって、界面Pで分離する際の剥離力(F)としては、通常0〜2000mN/25mm、好ましくは0〜1000mN/25mm、より好ましくは0〜150mN/25mm、更に好ましくは0〜100mN/25mm、より更に好ましくは0〜50mN/25mmである。
なお、剥離力(F)が0mN/25mmである場合には、実施例に記載の方法で剥離力を測定しようとしても、剥離力が小さ過ぎるために測定不可となる場合も含まれる。
[Various physical characteristics of adhesive laminate]
One aspect of the adhesive laminate used in the production method of the present invention is a base of the adhesive sheet (I) and the adhesive sheet (II) by heat treatment at a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles. At the interface P with the material (Y2), it can be easily separated at once with a small force.
Here, in the adhesive laminate of one aspect of the present invention, the peeling force (F 1 ) at the time of separation at the interface P by heat treatment at a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles is , Usually 0 to 2000 mN / 25 mm, preferably 0 to 1000 mN / 25 mm, more preferably 0 to 150 mN / 25 mm, still more preferably 0 to 100 mN / 25 mm, still more preferably 0 to 50 mN / 25 mm.
When the peeling force (F 1 ) is 0 mN / 25 mm, even if the peeling force is measured by the method described in the examples, the peeling force may be too small to be measured.

また、加熱処理前において、加工対象物を十分に固定して、加工作業に悪影響を及ぼさないようにする観点から、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との層間密着性は高いことが好ましい。
上記観点から、本発明の製造方法に用いる一態様の粘着性積層体において、加熱処理を行う前における、界面Pで分離する際の剥離力(F)としては、好ましくは100mN/25mm以上、より好ましくは300mN/25mm以上、更に好ましくは500mN/25mm以上であり、また、好ましくは50000mN/25mm以下である。
Further, before the heat treatment, from the viewpoint of sufficiently fixing the object to be processed so as not to adversely affect the processing work, the layer between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). High adhesion is preferable.
From the above viewpoint, in the adhesive laminate of one aspect used in the production method of the present invention, the peeling force (F 0 ) at the time of separation at the interface P before the heat treatment is preferably 100 mN / 25 mm or more. It is more preferably 300 mN / 25 mm or more, further preferably 500 mN / 25 mm or more, and preferably 50,000 mN / 25 mm or less.

本発明の製造方法に用いる一態様の粘着性積層体において、剥離力(F)は剥離力(F)よりも大きい。具体的には、剥離力(F)と剥離力(F)との比〔(F)/(F)〕は、好ましくは0〜0.9、より好ましくは0〜0.8、更に好ましくは0〜0.5、より更に好ましくは0〜0.2である。In one aspect of the adhesive laminate used in the production method of the present invention, the peeling force (F 0 ) is larger than the peeling force (F 1). Specifically, the ratio [(F 1 ) / (F 0)] of the peeling force (F 1 ) to the peeling force (F 0 ) is preferably 0 to 0.9, more preferably 0 to 0.8. , More preferably 0 to 0.5, and even more preferably 0 to 0.2.

なお、剥離力(F)を測定する際の温度条件としては、膨張開始温度(t)以上であって、熱膨張性粒子が膨張する温度であればよい。
また、剥離力(F)を測定する際の温度条件としては、膨張開始温度(t)未満であればよいが、基本的には、室温(23℃)である。
ただし、剥離力(F)及び剥離力(F)のより具体的な測定条件及び測定方法は、実施例に記載の方法に基づく。
The temperature condition for measuring the peeling force (F 1 ) may be a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) and the temperature at which the thermally expandable particles expand.
The temperature condition for measuring the peeling force (F 0 ) may be less than the expansion start temperature (t), but is basically room temperature (23 ° C.).
However, more specific measurement conditions and measurement methods for the peeling force (F 1 ) and the peeling force (F 0 ) are based on the methods described in the examples.

本発明の製造方法に用いる一態様の粘着性積層体において、室温(23℃)における、粘着シート(I)が有する粘着剤層(X1)(第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12))の粘着力、及び、粘着シート(II)が有する粘着剤層(X2)の粘着力としては、それぞれ独立に、好ましくは0.1〜10.0N/25mm、より好ましくは0.2〜8.0N/25mm、更に好ましくは0.4〜6.0N/25mm、より更に好ましくは0.5〜4.0N/25mmである。
粘着シート(I)が第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)を有する場合、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)の粘着力は、それぞれ上記範囲であることが好ましいが、支持体との密着性を向上させ、界面Pで一括してより容易に分離可能とする観点から、支持体と貼付される第2粘着剤層(X12)の粘着力が、第1粘着剤層(X11)の粘着力よりも高いことがより好ましい。
In one aspect of the adhesive laminate used in the production method of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (X1) (first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and second pressure-sensitive adhesive) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) at room temperature (23 ° C.). The adhesive strength of the layer (X12)) and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are independently, preferably 0.1 to 10.0 N / 25 mm, more preferably 0. It is .2 to 8.0 N / 25 mm, more preferably 0.4 to 6.0 N / 25 mm, and even more preferably 0.5 to 4.0 N / 25 mm.
When the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (X12), the adhesive strengths of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) are different, respectively. The above range is preferable, but from the viewpoint of improving the adhesion to the support and making it easier to separate all at once at the interface P, the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) to be attached to the support It is more preferable that the adhesive strength is higher than the adhesive strength of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11).

粘着シート(I)が有する基材(Y1)及び粘着シート(II)が有する基材(Y2)は、非粘着性の基材である。
本発明において、非粘着性の基材か否かの判断は、対象となる基材の表面に対して、JIS Z0237:1991に準拠して測定したプローブタック値が50mN/5mmφ未満であれば、当該基材を「非粘着性の基材」と判断する。
本発明の一態様で用いる粘着シート(I)が有する基材(Y1)及び粘着シート(II)が有する基材(Y2)の表面におけるプローブタック値は、それぞれ独立に、通常50mN/5mmφ未満であるが、好ましくは30mN/5mmφ未満、より好ましくは10mN/5mmφ未満、更に好ましくは5mN/5mmφ未満である。
なお、本明細書において、熱膨張性基材の表面におけるプローブタック値の具体的な測定方法は、実施例に記載の方法による。
The base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are non-adhesive base materials.
In the present invention, whether or not the substrate is a non-adhesive substrate is determined if the probe tack value measured in accordance with JIS Z0237: 1991 with respect to the surface of the substrate of interest is less than 50 mN / 5 mmφ. The base material is judged to be a "non-adhesive base material".
The probe tack values on the surfaces of the base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (II) used in one embodiment of the present invention are independently, usually less than 50 mN / 5 mmφ. However, it is preferably less than 30 mN / 5 mmφ, more preferably less than 10 mN / 5 mmφ, and even more preferably less than 5 mN / 5 mmφ.
In the present specification, the specific method for measuring the probe tack value on the surface of the heat-expandable base material is the method described in Examples.

以下、本発明の粘着性積層体を構成する各層について説明する。 Hereinafter, each layer constituting the adhesive laminate of the present invention will be described.

[粘着シート(I)の構成]
本発明の製造方法に用いる粘着性積層体が有する粘着シート(I)は、基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、分離用加熱処理によって、粘着シート(II)の基材(Y2)との界面で分離できるように、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む、熱膨張性の粘着シートである。
本発明に一態様において、熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)は、好ましくは60〜270℃である。
[Structure of adhesive sheet (I)]
The pressure-sensitive adhesive sheet (I) contained in the pressure-sensitive adhesive laminate used in the production method of the present invention has a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), and is a base material of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) by heat treatment for separation. A heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet containing heat-expandable particles in any of the layers so that it can be separated at the interface with (Y2).
In one aspect of the present invention, the thermal expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles is preferably 60 to 270 ° C.

本発明の一態様で用いる粘着シート(I)としては、以下の態様のものが好ましい。
・第1態様の粘着シート(I):基材(Y1)として、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有する粘着シート(I)。
・第2態様の粘着シート(I):基材(Y1)の両面側に、熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)と、非熱膨張性粘着剤層である第2粘着剤層(X12)を有する粘着シート(I)。
・基材(Y1)が非熱膨張性基材である、粘着シート(I)。
以下、本発明の一態様で用いる、第一態様及び第二態様の粘着シート(I)について説明する。
As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) used in one aspect of the present invention, the following aspects are preferable.
The pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect: The pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles as the base material (Y1).
The pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect: The first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing heat-expandable particles, and non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive on both sides of the base material (Y1). The pressure-sensitive adhesive sheet (I) having the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) which is the agent layer.
-Adhesive sheet (I) in which the base material (Y1) is a non-thermally expandable base material.
Hereinafter, the pressure-sensitive adhesive sheets (I) of the first aspect and the second aspect used in one aspect of the present invention will be described.

<第一態様の粘着シート(I)>
第一態様の粘着シート(I)としては、図1〜2に示すように、基材(Y1)が、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有するものが挙げられる。
<Adhesive sheet (I) of the first aspect>
As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, as shown in FIGS. 1 and 2, the base material (Y1) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles. Be done.

第一態様の粘着シート(I)において、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能とする観点から、粘着剤層(X1)は、非熱膨張性粘着剤層であることが好ましい。
具体的には、図1に示す粘着性積層体1a、1bが有する粘着シート(I)においては、粘着剤層(X1)が、非熱膨張性粘着剤層であることが好ましい。また、図2に示す粘着性積層体1c、1dが有する粘着シート(I)においては、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)のいずれもが、非熱膨張性粘着剤層であることが好ましい。
In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the pressure-sensitive adhesive can be easily separated at the interface P between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with a slight force. The agent layer (X1) is preferably a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer.
Specifically, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the pressure-sensitive adhesive laminates 1a and 1b shown in FIG. 1, the pressure-sensitive adhesive layer (X1) is preferably a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer. Further, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the pressure-sensitive adhesive laminates 1c and 1d shown in FIG. 2, both the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) are non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive. It is preferably an agent layer.

第一態様の粘着シート(I)の分離用加熱処理前の基材(Y1)の厚さは、好ましくは10〜1000μm、より好ましくは20〜700μm、更に好ましくは25〜500μm、より更に好ましくは30〜300μmである。 The thickness of the base material (Y1) before the heat treatment for separation of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect is preferably 10 to 1000 μm, more preferably 20 to 700 μm, still more preferably 25 to 500 μm, still more preferably. It is 30 to 300 μm.

第一態様の粘着シート(I)の分離用加熱処理前の粘着剤層(X1)の厚さは、好ましくは1〜60μm、より好ましくは2〜50μm、更に好ましくは3〜40μm、より更に好ましくは5〜30μmである。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) before the heat treatment for separation of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect is preferably 1 to 60 μm, more preferably 2 to 50 μm, still more preferably 3 to 40 μm, still more preferably. Is 5 to 30 μm.

なお、本明細書において、例えば、図2に示すように、粘着シート(I)が、複数の粘着剤層を有する場合、上記の「粘着剤層(X1)の厚さ」は、それぞれの粘着剤層の厚さ(図2では、粘着剤層(X11)及び(X12)のそれぞれの厚さ)を意味する。
また、本明細書において、粘着性積層体を構成する各層の厚さは、実施例に記載の方法により測定された値を意味する。
In the present specification, for example, as shown in FIG. 2, when the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a plurality of pressure-sensitive adhesive layers, the above-mentioned "thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (X1)" is the respective pressure-sensitive adhesive. It means the thickness of the agent layer (in FIG. 2, the thickness of each of the pressure-sensitive adhesive layers (X11) and (X12)).
Further, in the present specification, the thickness of each layer constituting the adhesive laminate means a value measured by the method described in Examples.

第一態様の粘着シート(I)において、分離用加熱処理前における、熱膨張性基材層(Y1−1)と粘着剤層(X1)との厚さ比〔(Y1−1)/(X1)〕としては、好ましくは1000以下、より好ましくは200以下、更に好ましくは60以下、より更に好ましくは30以下である。
当該厚さ比が1000以下であれば、加熱処理によって、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能となる粘着性積層体とすることができる。
なお、当該厚さ比は、好ましくは0.2以上、より好ましくは0.5以上、更に好ましくは1.0以上、より更に好ましくは5.0以上である。
In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the thickness ratio of the heat-expandable base material layer (Y1-1) and the pressure-sensitive adhesive layer (X1) before the heat treatment for separation [(Y1-1) / (X1). )] Is preferably 1000 or less, more preferably 200 or less, still more preferably 60 or less, still more preferably 30 or less.
When the thickness ratio is 1000 or less, the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) can be easily separated at the interface P with a slight force. It can be an adhesive laminate.
The thickness ratio is preferably 0.2 or more, more preferably 0.5 or more, still more preferably 1.0 or more, and even more preferably 5.0 or more.

また、第一態様の粘着シート(I)では、基材(Y1)が、図1(a)に示すような、熱膨張性基材層(Y1−1)のみから構成されたものであってもよく、図1(b)に示すような、粘着シート(II)側に熱膨張性基材層(Y1−1)を有し、粘着剤層(X1)側に非熱膨張性基材層(Y1−2)を有するものであってもよい。 Further, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the base material (Y1) is composed of only the heat-expandable base material layer (Y1-1) as shown in FIG. 1 (a). Also, as shown in FIG. 1 (b), the pressure-sensitive base material layer (Y1-1) is provided on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) side, and the non-heat-expandable base material layer is provided on the pressure-sensitive adhesive layer (X1) side. It may have (Y1-2).

第一態様の粘着シート(I)において、分離用加熱処理前における、熱膨張性基材層(Y1−1)と非熱膨張性基材層(Y1−2)との厚さ比〔(Y1−1)/(Y1−2)〕としては、好ましくは0.02〜200、より好ましくは0.03〜150、更に好ましくは0.05〜100である。 In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the thickness ratio of the heat-expandable base material layer (Y1-1) and the non-heat-expandable base material layer (Y1-2) before the heat treatment for separation [(Y1). -1) / (Y1-2)] is preferably 0.02 to 200, more preferably 0.03 to 150, and even more preferably 0.05 to 100.

<第二態様の粘着シート(I)>
第二態様の粘着シート(I)としては、図3に示すように、基材(Y1)の両面側に、それぞれ、熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)と、非熱膨張性粘着剤層である第2粘着剤層(X12)を有するものが挙げられる。
なお、第二態様の粘着シート(I)は、熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接接触する。
なお、第二態様の粘着シート(I)において、基材(Y1)は、非熱膨張性基材層であることが好ましい。
<Adhesive sheet (I) of the second aspect>
As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, as shown in FIG. 3, a first pressure-sensitive adhesive layer which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing heat-expandable particles on both side surfaces of the base material (Y1), respectively. (X11) and those having a second pressure-sensitive adhesive layer (X12) which is a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer can be mentioned.
In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) come into direct contact with each other.
In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the base material (Y1) is preferably a non-thermally expandable base material layer.

第二態様の粘着シート(I)において、分離用加熱処理前における、熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)と、非熱膨張性粘着剤層である第2粘着剤層(X12)との厚さ比〔(X11)/(X12)〕としては、好ましくは0.1〜80、より好ましくは0.3〜50、更に好ましくは0.5〜15である。 In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer which is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer before the heat treatment for separation. The thickness ratio [(X11) / (X12)] to (X12) is preferably 0.1 to 80, more preferably 0.3 to 50, and even more preferably 0.5 to 15.

また、第二態様の粘着シート(I)において、分離用加熱処理前における、熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)と、基材(Y1)との厚さ比〔(X11)/(Y1)〕としては、好ましくは0.05〜20、より好ましくは0.1〜10、更に好ましくは0.2〜3である。 Further, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the thickness ratio of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the base material (Y1) before the heat treatment for separation [( X11) / (Y1)] is preferably 0.05 to 20, more preferably 0.1 to 10, and even more preferably 0.2 to 3.

以下、粘着シート(I)を構成するいずれかの層に含まれる熱膨張性粒子について説明した上で、基材(Y1)を構成する熱膨張性基材層(Y1−1)、非熱膨張性基材層(Y1−2)、及び粘着剤層(X1)に関して詳述する。 Hereinafter, the heat-expandable particles contained in any of the layers constituting the pressure-sensitive adhesive sheet (I) will be described, and then the heat-expandable base material layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) and non-thermally expandable particles will be described. The sex substrate layer (Y1-2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X1) will be described in detail.

<熱膨張性粒子>
本発明で用いる熱膨張性粒子は、加熱により膨張する粒子であればよいが、膨張開始温度(t)が60〜270℃に調整された粒子であることが好ましい。膨張開始温度(t)は、粘着性積層体の用途に応じて適宜選択される。
例えば、本発明の製造方法において、工程(1)及び工程(2)で粘着性積層体が高温環境下に晒されることがない場合(例えば、半導体ウエハ内部に分割起点としての改質領域を形成する加工を行う場合等)、熱膨張性粒子の膨張開始温度は、上記温度範囲内でできるだけ低いことが好ましい。これにより、粘着シート(I)と粘着シート(1I)とを分離する際に要する加熱エネルギーを小さなものとして、切削物及び/又は研削物の製造コストを低減し得る。また、加工対象物に過剰な熱履歴を与えることなく、粘着シート(I)と粘着シート(1I)とを分離することができる。
本明細書において、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)は、以下の方法に基づき測定された値を意味する。
<Thermal expandable particles>
The thermally expandable particles used in the present invention may be particles that expand by heating, but are preferably particles whose expansion start temperature (t) is adjusted to 60 to 270 ° C. The expansion start temperature (t) is appropriately selected depending on the use of the adhesive laminate.
For example, in the manufacturing method of the present invention, when the adhesive laminate is not exposed to a high temperature environment in steps (1) and (2) (for example, a modified region as a division starting point is formed inside the semiconductor wafer). It is preferable that the expansion start temperature of the thermally expandable particles is as low as possible within the above temperature range. As a result, the heating energy required to separate the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the pressure-sensitive adhesive sheet (1I) can be reduced, and the manufacturing cost of the cut product and / or the ground product can be reduced. Further, the adhesive sheet (I) and the adhesive sheet (1I) can be separated without giving an excessive heat history to the object to be processed.
In the present specification, the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles means a value measured based on the following method.

(熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)の測定法)
直径6.0mm(内径5.65mm)、深さ4.8mmのアルミカップに、測定対象となる熱膨張性粒子0.5mgを加え、その上からアルミ蓋(直径5.6mm、厚さ0.1mm)をのせた試料を作製する。
動的粘弾性測定装置を用いて、その試料にアルミ蓋上部から、加圧子により0.01Nの力を加えた状態で、試料の高さを測定する。そして。加圧子により0.01Nの力を加えた状態で、20℃から300℃まで10℃/minの昇温速度で加熱し、加圧子の垂直方向における変位量を測定し、正方向への変位開始温度を膨張開始温度(t)とする。
(Measurement method of expansion start temperature (t) of thermally expandable particles)
To an aluminum cup having a diameter of 6.0 mm (inner diameter: 5.65 mm) and a depth of 4.8 mm, 0.5 mg of heat-expandable particles to be measured was added, and an aluminum lid (diameter: 5.6 mm, thickness: 0. Prepare a sample on which 1 mm) is placed.
Using a dynamic viscoelasticity measuring device, the height of the sample is measured in a state where a force of 0.01 N is applied to the sample from the upper part of the aluminum lid by a pressurizer. And. With a force of 0.01 N applied by the pressurizer, it is heated from 20 ° C. to 300 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, the amount of displacement of the pressurizer in the vertical direction is measured, and displacement in the positive direction is started. Let the temperature be the expansion start temperature (t).

熱膨張性粒子としては、熱可塑性樹脂から構成された外殻と、当該外殻に内包され、且つ所定の温度まで加熱されると気化する内包成分とから構成される、マイクロカプセル化発泡剤であることが好ましい。
マイクロカプセル化発泡剤の外殻を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスルホン等が挙げられる。
The heat-expandable particles are microencapsulated foaming agents composed of an outer shell made of a thermoplastic resin and an contained component contained in the outer shell and vaporized when heated to a predetermined temperature. It is preferable to have.
Examples of the thermoplastic resin constituting the outer shell of the microencapsulating foaming agent include vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethylmethacrylate, polyacrylonitrile, polyvinylidene chloride, and polysulfone.

外殻に内包された内包成分としては、例えば、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、イソブタン、イソペンタン、イソヘキサン、イソヘプタン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ネオペンタン、ドデカン、イソドデカン、シクロトリデカン、ヘキシルシクロヘキサン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ナノデカン、イソトリデカン、4−メチルドデカン、イソテトラデカン、イソペンタデカン、イソヘキサデカン、2,2,4,4,6,8,8−ヘプタメチルノナン、イソヘプタデカン、イソオクタデカン、イソナノデカン、2,6,10,14−テトラメチルペンタデカン、シクロトリデカン、ヘプチルシクロヘキサン、n−オクチルシクロヘキサン、シクロペンタデカン、ノニルシクロヘキサン、デシルシクロヘキサン、ペンタデシルシクロヘキサン、ヘキサデシルシクロヘキサン、ヘプタデシルシクロヘキサン、オクタデシルシクロヘキサン等が挙げられる。
これらの内包成分は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)は、内包成分の種類を適宜選択することで調整可能である。
Examples of the contained components contained in the outer shell include propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, isobutane, isopentane, isohexane, isoheptan, isooctane, isononan, isodecane, cyclopropane, cyclobutane, and cyclopentane. , Cyclohexane, cycloheptan, cyclooctane, neopentane, dodecane, isododecane, cyclotridecane, hexylcyclohexane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nanodecane, isotridecane, 4-methyldodecane, isotetradecane, isopentadecane, iso Hexadecane, 2,2,4,4,6,8,8-heptamethylnonane, isoheptadecane, isooctadecane, isonanodecane, 2,6,10,14-tetramethylpentadecane, cyclotridecane, heptylcyclohexane, n-octylcyclohexane , Cyclopentadecane, nonanecyclohexane, decylcyclohexane, pentadecylcyclohexane, hexadecylcyclohexane, heptadecylcyclohexane, octadecylcyclohexane and the like.
These inclusion components may be used alone or in combination of two or more.
The expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles can be adjusted by appropriately selecting the type of the inclusion component.

本発明の一態様で用いる、熱膨張性粒子の23℃における膨張前の平均粒子径は、好ましくは3〜100μm、より好ましくは4〜70μm、更に好ましくは6〜60μm、より更に好ましくは10〜50μmである。
なお、熱膨張性粒子の膨張前の平均粒子径とは、体積中位粒子径(D50)であり、レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて測定した、膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布において、膨張前の熱膨張性粒子の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が50%に相当する粒子径を意味する。
The average particle size of the thermally expandable particles used in one embodiment of the present invention before expansion at 23 ° C. is preferably 3 to 100 μm, more preferably 4 to 70 μm, still more preferably 6 to 60 μm, still more preferably 10 to 10. It is 50 μm.
The average particle size of the heat-expandable particles before expansion is the volume medium particle size (D 50 ), and is a laser diffraction type particle size distribution measuring device (for example, manufactured by Malvern, product name “Mastersizer 3000”). In the particle distribution of the heat-expandable particles before expansion measured using the above, it means the particle size in which the cumulative volume frequency calculated from the smaller particle size of the heat-expandable particles before expansion corresponds to 50%.

本発明の一態様で用いる、熱膨張性粒子の23℃における膨張前の90%粒子径(D90)としては、好ましくは10〜150μm、より好ましくは20〜100μm、更に好ましくは25〜90μm、より更に好ましくは30〜80μmである。
なお、熱膨張性粒子の膨張前の90%粒子径(D90)とは、レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて測定した、膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布において、膨張前の熱膨張性粒子の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が90%に相当する粒子径を意味する。
The 90% particle size (D 90 ) of the heat-expandable particles used in one embodiment of the present invention before expansion at 23 ° C. is preferably 10 to 150 μm, more preferably 20 to 100 μm, still more preferably 25 to 90 μm. Even more preferably, it is 30 to 80 μm.
The 90% particle size (D 90 ) of the thermally expandable particles before expansion is the expansion measured using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (for example, manufactured by Malvern, product name "Mastersizer 3000"). In the particle distribution of the previous heat-expandable particles, it means the particle size in which the cumulative volume frequency calculated from the smaller particle size of the heat-expandable particles before expansion corresponds to 90%.

本発明の一態様で用いる熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上の温度まで加熱した際の体積最大膨張率は、好ましくは1.5〜100倍、より好ましくは2〜80倍、更に好ましくは2.5〜60倍、より更に好ましくは3〜40倍である。 The maximum volume expansion rate when the thermally expandable particles used in one embodiment of the present invention are heated to a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) is preferably 1.5 to 100 times, more preferably 2 to 80 times, and further. It is preferably 2.5 to 60 times, and even more preferably 3 to 40 times.

<熱膨張性基材層(Y1−1)>
本発明の一態様の粘着性積層体において、粘着シート(I)の基材(Y1)が、熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有する場合、熱膨張性基材層(Y1−1)は、下記要件(1)を満たすものであることが好ましい。
・要件(1):熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)における、熱膨張性基材層(Y1−1)の貯蔵弾性率E’(t)が、1.0×10Pa以下である。
なお、本明細書において、所定の温度における熱膨張性基材層(Y1−1)の貯蔵弾性率E’は、実施例に記載の方法により測定された値を意味する。
<Thermal expandable base material layer (Y1-1)>
In the adhesive laminate of one aspect of the present invention, when the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing heat-expandable particles, a heat-expandable group. The material layer (Y1-1) preferably satisfies the following requirement (1).
- Requirement (1): in the expansion starting temperature of the thermally expandable particles (t), thermally expandable base layer storage modulus (Y1-1) E '(t) is at 1.0 × 10 7 Pa or less is there.
In the present specification, the storage elastic modulus E'of the heat-expandable base layer (Y1-1) at a predetermined temperature means a value measured by the method described in Examples.

上記要件(1)は、熱膨張性粒子が膨張する直前の熱膨張性基材層(Y1−1)の剛性を示す指標といえる。
熱膨張性粒子の膨張前において、熱膨張性基材層(Y1−1)の貯蔵弾性率E’は昇温に伴い低下する。しかし、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)に到達する前後で、熱膨張性粒子が膨張し始めることで、熱膨張性基材層(Y1−1)の貯蔵弾性率E’の低下が抑制される。
その一方で、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pでわずかな力で容易に分離可能とするためには、膨張開始温度(t)以上の温度まで加熱することで、粘着シート(I)の基材(Y2)と積層している側の表面に、凹凸が形成され易くする必要がある。
つまり、上記要件(1)を満たす熱膨張性基材層(Y1−1)は、膨張開始温度(t)で熱膨張性粒子が膨張して十分に大きくなり、粘着シート(II)の基材(Y2)と積層している側の粘着シート(I)の表面に、凹凸が形成され易い。
その結果、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能となる粘着性積層体となり得る。
The above requirement (1) can be said to be an index showing the rigidity of the heat-expandable base material layer (Y1-1) immediately before the heat-expandable particles expand.
Before the expansion of the heat-expandable particles, the storage elastic modulus E'of the heat-expandable base material layer (Y1-1) decreases as the temperature rises. However, before and after reaching the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles, the heat-expandable particles start to expand, so that the storage elastic modulus E'of the heat-expandable base material layer (Y1-1) decreases. It is suppressed.
On the other hand, in order to enable easy separation at the interface P between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with a slight force, the temperature must reach the expansion start temperature (t) or higher. By heating, it is necessary to facilitate the formation of irregularities on the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) on the side where the base material (Y2) is laminated.
That is, in the heat-expandable base material layer (Y1-1) that satisfies the above requirement (1), the heat-expandable particles expand at the expansion start temperature (t) and become sufficiently large, and the base material of the adhesive sheet (II) is sufficiently large. Unevenness is likely to be formed on the surface of the adhesive sheet (I) on the side where it is laminated with (Y2).
As a result, an adhesive laminate can be easily separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) with a slight force.

本発明で用いる熱膨張性基材層(Y1−1)の要件(1)で規定する貯蔵弾性率E’(t)は、上記観点から、好ましくは9.0×10Pa以下、より好ましくは8.0×10Pa以下、更に好ましくは6.0×10Pa以下、より更に好ましくは4.0×10Pa以下である。
また、膨張した熱膨張性粒子の流動を抑制し、粘着シート(II)の基材(Y2)と積層している側の粘着シート(I)の表面に形成される凹凸の形状維持性を向上させ、界面Pでわずかな力でより容易に分離可能とする観点から、熱膨張性基材層(Y1−1)の要件(1)で規定する貯蔵弾性率E’(t)は、好ましくは1.0×10Pa以上、より好ましくは1.0×10Pa以上、更に好ましくは1.0×10Pa以上である。
Storage modulus E defined in requirement (1) of the heat-expandable base layer (Y1-1) used in the present invention '(t), from the above viewpoint, preferably not more than 9.0 × 10 6 Pa, more preferably Is 8.0 × 10 6 Pa or less, more preferably 6.0 × 10 6 Pa or less, and even more preferably 4.0 × 10 6 Pa or less.
In addition, the flow of expanded heat-expandable particles is suppressed, and the shape-retainability of the unevenness formed on the surface of the adhesive sheet (I) on the side where the adhesive sheet (II) is laminated with the base material (Y2) is improved. The storage elastic modulus E'(t) specified in the requirement (1) of the heat-expandable base material layer (Y1-1) is preferably set from the viewpoint of allowing the particles to be separated more easily at the interface P with a slight force. It is 1.0 × 10 3 Pa or more, more preferably 1.0 × 10 4 Pa or more, and further preferably 1.0 × 10 5 Pa or more.

上記要件(1)を満たす熱膨張性基材層(Y1−1)とする観点から、熱膨張性基材層(Y1−1)中の熱膨張性粒子の含有量は、熱膨張性基材層(Y1−1)の全質量(100質量%)に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜35質量%、更に好ましくは10〜30質量%、より更に好ましくは15〜25質量%である。 From the viewpoint of forming the heat-expandable base material layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1), the content of the heat-expandable particles in the heat-expandable base material layer (Y1-1) is the heat-expandable base material. With respect to the total mass (100% by mass) of the layer (Y1-1), preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, still more preferably 10 to 30% by mass, still more preferably 15 to It is 25% by mass.

なお、熱膨張性基材層(Y1−1)と積層する他の層との層間密着性を向上させる観点から、熱膨張性基材層(Y1−1)の表面に対して、酸化法や凹凸化法等による表面処理、易接着処理、あるいはプライマー処理を施してもよい。
酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸処理(湿式)、熱風処理、オゾン、及び紫外線照射処理等が挙げられ、凹凸化法としては、例えば、サンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。
From the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the heat-expandable base material layer (Y1-1) and other layers to be laminated, the surface of the heat-expandable base material layer (Y1-1) is subjected to an oxidation method. Surface treatment by an unevenness method or the like, easy adhesion treatment, or primer treatment may be performed.
Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromic acid treatment (wet), hot air treatment, ozone, and ultraviolet irradiation treatment, and examples of the unevenness method include sandblasting method and solvent treatment method. And so on.

熱膨張性基材層(Y1−1)は、樹脂及び熱膨張性粒子を含む樹脂組成物(y)から形成することが好ましい。
なお、樹脂組成物(y)には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、基材用添加剤を含有してもよい。
基材用添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、着色剤等が挙げられる。
なお、これらの基材用添加剤は、それぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの基材用添加剤を含有する場合、それぞれの基材用添加剤の含有量は、前記樹脂100質量部に対して、好ましくは0.0001〜20質量部、より好ましくは0.001〜10質量部である。
The heat-expandable base material layer (Y1-1) is preferably formed from the resin composition (y) containing the resin and the heat-expandable particles.
The resin composition (y) may contain an additive for a base material, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of the base material additive include an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, and a colorant.
These base material additives may be used alone or in combination of two or more.
When these base material additives are contained, the content of each base material additive is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. It is 10 parts by mass.

熱膨張性基材層(Y1−1)の形成材料である樹脂組成物(y)に含まれる熱膨張性粒子については、上述のとおりである。
熱膨張性粒子の含有量は、樹脂組成物(y)の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜35質量%、更に好ましくは10〜30質量%、より更に好ましくは15〜25質量%である。
The heat-expandable particles contained in the resin composition (y), which is a material for forming the heat-expandable base material layer (Y1-1), are as described above.
The content of the heat-expandable particles is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, still more preferably 10 with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the resin composition (y). It is ~ 30% by mass, more preferably 15 to 25% by mass.

熱膨張性基材層(Y1−1)の形成材料である樹脂組成物(y)に含まれる樹脂としては、非粘着性樹脂であってもよく、粘着性樹脂であってもよい。
つまり、樹脂組成物(y)に含まれる樹脂が粘着性樹脂であっても、樹脂組成物(y)から熱膨張性基材層(Y1−1)を形成する過程において、当該粘着性樹脂が重合性化合物と重合反応し、得られる樹脂が非粘着性樹脂となり、当該樹脂を含む熱膨張性基材層(Y1−1)が非粘着性となればよい。
The resin contained in the resin composition (y) which is the material for forming the heat-expandable base material layer (Y1-1) may be a non-adhesive resin or an adhesive resin.
That is, even if the resin contained in the resin composition (y) is an adhesive resin, the adhesive resin is used in the process of forming the heat-expandable base material layer (Y1-1) from the resin composition (y). It suffices that the resin obtained by polymerizing with the polymerizable compound becomes a non-adhesive resin, and the heat-expandable base material layer (Y1-1) containing the resin becomes non-adhesive.

樹脂組成物(y)に含まれる前記樹脂の質量平均分子量(Mw)としては、好ましくは1000〜100万、より好ましくは1000〜70万、更に好ましくは1000〜50万である。
また、当該樹脂が2種以上の構成単位を有する共重合体である場合、当該共重合体の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、及びグラフト共重合体のいずれであってもよい。
The mass average molecular weight (Mw) of the resin contained in the resin composition (y) is preferably 10 to 1,000,000, more preferably 10 to 700,000, and even more preferably 10 to 500,000.
When the resin is a copolymer having two or more kinds of structural units, the form of the copolymer is not particularly limited, and any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer can be used. It may be.

樹脂の含有量は、樹脂組成物(y)の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは50〜99質量%、より好ましくは60〜95質量%、更に好ましくは65〜90質量%、より更に好ましくは70〜85質量%である。 The content of the resin is preferably 50 to 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, still more preferably 65 to 90% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the resin composition (y). %, More preferably 70 to 85% by mass.

なお、上記要件(1)を満たす熱膨張性基材層(Y1−1)を形成する観点から、樹脂組成物(y)に含まれる前記樹脂としては、アクリルウレタン系樹脂及びオレフィン系樹脂から選ばれる1種以上を含むことが好ましい。
また、上記アクリルウレタン系樹脂としては、以下の樹脂(U1)が好ましい。
・ウレタンプレポリマー(UP)と、(メタ)アクリル酸エステルを含むビニル化合物とを重合してなるアクリルウレタン系樹脂(U1)。
From the viewpoint of forming the heat-expandable base material layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1), the resin contained in the resin composition (y) is selected from acrylic urethane-based resin and olefin-based resin. It is preferable to include one or more of these.
Further, as the acrylic urethane resin, the following resin (U1) is preferable.
An acrylic urethane resin (U1) obtained by polymerizing a urethane prepolymer (UP) and a vinyl compound containing a (meth) acrylic acid ester.

(アクリルウレタン系樹脂(U1))
アクリルウレタン系樹脂(U1)の主鎖となるウレタンプレポリマー(UP)としては、ポリオールと多価イソシアネートとの反応物が挙げられる。
なお、ウレタンプレポリマー(UP)は、更に鎖延長剤を用いた鎖延長反応を施して得られたものであることが好ましい。
(Acrylic urethane resin (U1))
Examples of the urethane prepolymer (UP) that serves as the main chain of the acrylic urethane resin (U1) include a reaction product of a polyol and a multivalent isocyanate.
The urethane prepolymer (UP) is preferably obtained by further performing a chain extension reaction using a chain extender.

ウレタンプレポリマー(UP)の原料となるポリオールとしては、例えば、アルキレン型ポリオール、エーテル型ポリオール、エステル型ポリオール、エステルアミド型ポリオール、エステル・エーテル型ポリオール、カーボネート型ポリオール等が挙げられる。
これらのポリオールは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の一態様で用いるポリオールとしては、ジオールが好ましく、エステル型ジオール、アルキレン型ジオール及びカーボネート型ジオールがより好ましく、エステル型ジオール、カーボネート型ジオールが更に好ましい。
Examples of the polyol which is a raw material of the urethane prepolymer (UP) include an alkylene type polyol, an ether type polyol, an ester type polyol, an ester amide type polyol, an ester ether type polyol, and a carbonate type polyol.
These polyols may be used alone or in combination of two or more.
As the polyol used in one aspect of the present invention, a diol is preferable, an ester type diol, an alkylene type diol and a carbonate type diol are more preferable, and an ester type diol and a carbonate type diol are further preferable.

エステル型ジオールとしては、例えば、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール等のアルカンジオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレングリコール;等のジオール類から選択される1種又は2種以上と、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、4,4−ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルメタン−4,4'−ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ヘット酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸等のジカルボン酸及びこれらの無水物から選択される1種又は2種以上と、の縮重合体が挙げられる。
具体的には、ポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリジエチレンアジペートジオール、ポリ(ポリテトラメチレンエーテル)アジペートジオール、ポリ(3−メチルペンチレンアジペート)ジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール及びポリネオペンチルテレフタレートジオール等が挙げられる。
Examples of the ester-type diol include alkanediols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; ethylene glycol, propylene glycol, and the like. One or more selected from diols such as diethylene glycol, alkylene glycol such as dipropylene glycol; and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4-diphenyldicarboxylic acid, diphenylmethane-4 , 4'-dicarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, hetic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid, cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid, hexa Examples thereof include dicarboxylic acids such as hydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid, and one or more selected from these anhydrides.
Specifically, polyethylene adipatediol, polybutylene adipatediol, polyhexamethylene adipatediol, polyhexamethyleneisophthalatediol, polyneopentyl adipatediol, polyethylenepropylene adipatediol, polyethylenebutylene adipatediol, polybutylenehexamethylene adipatediol, Polydiethylene adipate diol, poly (polytetramethylene ether) adipate diol, poly (3-methylpentylene adipate) diol, polyethylene azelate diol, polyethylene sebacate diol, polybutylene azelate diol, polybutylene sebacate diol and polyneo Examples thereof include pentyl terephthalate diol.

アルキレン型ジオールとしては、例えば、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール等のアルカンジオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレングリコール;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等のポリアルキレングリコール;ポリテトラメチレングリコール等のポリオキシアルキレングリコール;等が挙げられる。 Examples of the alkylene-type diol include alkanediols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; ethylene glycol, propylene glycol, and the like. Examples thereof include alkylene glycols such as diethylene glycol and dipropylene glycol; polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polybutylene glycol; and polyoxyalkylene glycols such as polytetramethylene glycol.

カーボネート型ジオールとしては、例えば、1,4−テトラメチレンカーボネートジオール、1,5−ペンタメチレンカーボネートジオール、1,6−ヘキサメチレンカーボネートジオール、1,2−プロピレンカーボネートジオール、1,3−プロピレンカーボネートジオール、2,2−ジメチルプロピレンカーボネートジオール、1,7−ヘプタメチレンカーボネートジオール、1,8−オクタメチレンカーボネートジオール、1,4−シクロヘキサンカーボネートジオール等が挙げられる。 Examples of the carbonate type diol include 1,4-tetramethylene carbonate diol, 1,5-pentamethylene carbonate diol, 1,6-hexamethylene carbonate diol, 1,2-propylene carbonate diol, and 1,3-propylene carbonate diol. , 2,2-Dimethylpropylene carbonate diol, 1,7-heptamethylene carbonate diol, 1,8-octamethylene carbonate diol, 1,4-cyclohexane carbonate diol and the like.

ウレタンプレポリマー(UP)の原料となる多価イソシアネートとしては、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環式ポリイソシアネート等が挙げられる。
これらの多価イソシアネートは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、これらの多価イソシアネートは、トリメチロールプロパンアダクト型変性体、水と反応させたビュウレット型変性体、イソシアヌレート環を含有させたイソシアヌレート型変性体であってもよい。
Examples of the polyisocyanate used as a raw material for the urethane prepolymer (UP) include aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates.
These polyvalent isocyanates may be used alone or in combination of two or more.
Further, these polyvalent isocyanates may be a trimethylolpropan adduct-type modified product, a Biuret-type modified product reacted with water, or an isocyanurate-type modified product containing an isocyanurate ring.

これらの中でも、本発明の一態様で用いる多価イソシアネートとしては、ジイソシアネートが好ましく、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、2,4−トリレンジイソシアネート(2,4−TDI)、2,6−トリレンジイソシアネート(2,6−TDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、及び脂環式ジイソシアネートから選ばれる1種以上がより好ましい。 Among these, as the polyvalent isocyanate used in one aspect of the present invention, diisocyanate is preferable, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI), 2,6. -One or more selected from tolylene diisocyanate (2,6-TDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), and alicyclic diisocyanate are more preferable.

脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート(イソホロンジイソシアネート、IPDI)、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられるが、イソホロンジイソシアネート(IPDI)が好ましい。 Examples of the alicyclic diisocyanate include 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexylisocyanate (isophorone diisocyanate, IPDI), 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexanediisocyanate, and 1,4-cyclohexane. Examples thereof include diisocyanate, methyl-2,4-cyclohexanediisocyanate and methyl-2,6-cyclohexanediisocyanate, but isophorone diisocyanate (IPDI) is preferable.

本発明の一態様において、アクリルウレタン系樹脂(U1)の主鎖となるウレタンプレポリマー(UP)としては、ジオールとジイソシアネートとの反応物であり、両末端にエチレン性不飽和基を有する直鎖ウレタンプレポリマーが好ましい。
当該直鎖ウレタンプレポリマーの両末端にエチレン性不飽和基を導入する方法としては、ジオールとジイソシアネート化合物とを反応してなる直鎖ウレタンプレポリマーの末端のNCO基と、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとを反応させる方法が挙げられる。
In one aspect of the present invention, the urethane prepolymer (UP) serving as the main chain of the acrylic urethane resin (U1) is a reaction product of a diol and a diisocyanate, and is a straight chain having ethylenically unsaturated groups at both ends. Urethane prepolymers are preferred.
As a method for introducing an ethylenically unsaturated group into both ends of the linear urethane prepolymer, an NCO group at the terminal of the linear urethane prepolymer formed by reacting a diol and a diisocyanate compound and a hydroxyalkyl (meth) acrylate are used. There is a method of reacting with.

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 3-hydroxy. Examples thereof include butyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate.

アクリルウレタン系樹脂(U1)の側鎖となる、ビニル化合物としては、少なくとも(メタ)アクリル酸エステルを含む。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、アルキル(メタ)アクリレート及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートから選ばれる1種以上が好ましく、アルキル(メタ)アクリレート及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを併用することがより好ましい。
The vinyl compound that forms the side chain of the acrylic urethane resin (U1) contains at least a (meth) acrylic acid ester.
As the (meth) acrylic acid ester, one or more selected from alkyl (meth) acrylate and hydroxyalkyl (meth) acrylate is preferable, and alkyl (meth) acrylate and hydroxyalkyl (meth) acrylate are more preferably used in combination.

アルキル(メタ)アクリレート及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを併用する場合、アルキル(メタ)アクリレート100質量部に対する、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの配合割合としては、好ましくは0.1〜100質量部、より好ましくは0.5〜30質量部、更に好ましくは1.0〜20質量部、より更に好ましくは1.5〜10質量部である。 When alkyl (meth) acrylate and hydroxyalkyl (meth) acrylate are used in combination, the mixing ratio of hydroxyalkyl (meth) acrylate to 100 parts by mass of alkyl (meth) acrylate is preferably 0.1 to 100 parts by mass. It is preferably 0.5 to 30 parts by mass, more preferably 1.0 to 20 parts by mass, and even more preferably 1.5 to 10 parts by mass.

当該アルキル(メタ)アクリレートが有するアルキル基の炭素数としては、好ましくは1〜24、より好ましくは1〜12、更に好ましくは1〜8、より更に好ましくは1〜3である。 The alkyl group of the alkyl (meth) acrylate has preferably 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably 1 to 8 carbon atoms, and even more preferably 1 to 3 carbon atoms.

また、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、上述の直鎖ウレタンプレポリマーの両末端にエチレン性不飽和基を導入するために用いられるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと同じものが挙げられる。 Examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate include the same hydroxyalkyl (meth) acrylate used for introducing ethylenically unsaturated groups into both ends of the above-mentioned linear urethane prepolymer.

(メタ)アクリル酸エステル以外のビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等の芳香族炭化水素系ビニル化合物;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、(メタ)アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メタ(アクリルアミド)等の極性基含有モノマー;等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of vinyl compounds other than (meth) acrylic acid ester include aromatic hydrocarbon-based vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene and vinyltoluene; vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; vinyl acetate and vinyl propionate. , (Meta) acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, polar group-containing monomers such as meta (acrylamide); and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

ビニル化合物中の(メタ)アクリル酸エステルの含有量としては、当該ビニル化合物の全量(100質量%)に対して、好ましくは40〜100質量%、より好ましくは65〜100質量%、更に好ましくは80〜100質量%、より更に好ましくは90〜100質量%である。 The content of the (meth) acrylic acid ester in the vinyl compound is preferably 40 to 100% by mass, more preferably 65 to 100% by mass, still more preferably, based on the total amount (100% by mass) of the vinyl compound. It is 80 to 100% by mass, more preferably 90 to 100% by mass.

ビニル化合物中のアルキル(メタ)アクリレート及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの合計含有量としては、当該ビニル化合物の全量(100質量%)に対して、好ましくは40〜100質量%、より好ましくは65〜100質量%、更に好ましくは80〜100質量%、より更に好ましくは90〜100質量%である。 The total content of the alkyl (meth) acrylate and the hydroxyalkyl (meth) acrylate in the vinyl compound is preferably 40 to 100% by mass, more preferably 65 to 100% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the vinyl compound. It is 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, and even more preferably 90 to 100% by mass.

本発明の一態様で用いるアクリルウレタン系樹脂(U1)は、ウレタンプレポリマー(UP)と、(メタ)アクリル酸エステルを含むビニル化合物とを混合し、両者を重合することで得られる。
当該重合においては、さらにラジカル開始剤を加えて行うことが好ましい。
The acrylic urethane resin (U1) used in one embodiment of the present invention is obtained by mixing a urethane prepolymer (UP) and a vinyl compound containing a (meth) acrylic acid ester and polymerizing both.
In the polymerization, it is preferable to further add a radical initiator.

本発明の一態様で用いるアクリルウレタン系樹脂(U1)において、ウレタンプレポリマー(UP)に由来の構成単位(u11)と、ビニル化合物に由来する構成単位(u12)との含有量比〔(u11)/(u12)〕としては、質量比で、好ましくは10/90〜80/20、より好ましくは20/80〜70/30、更に好ましくは30/70〜60/40、より更に好ましくは35/65〜55/45である。 In the acrylic urethane resin (U1) used in one aspect of the present invention, the content ratio of the structural unit (u11) derived from the urethane prepolymer (UP) and the structural unit (u12) derived from the vinyl compound [(u11). ) / (U12)] is preferably 10/90 to 80/20, more preferably 20/80 to 70/30, still more preferably 30/70 to 60/40, and even more preferably 35 in terms of mass ratio. / 65-55 / 45.

(オレフィン系樹脂)
樹脂組成物(y)に含まれる樹脂として好適な、オレフィン系樹脂としては、オレフィンモノマーに由来の構成単位を少なくとも有する重合体である。
上記オレフィンモノマーとしては、炭素数2〜8のα−オレフィンが好ましく、具体的には、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、1−ヘキセン等が挙げられる。
これらの中でも、エチレン及びプロピレンが好ましい。
(Olefin resin)
The olefin-based resin suitable as the resin contained in the resin composition (y) is a polymer having at least a structural unit derived from the olefin monomer.
The olefin monomer is preferably an α-olefin having 2 to 8 carbon atoms, and specific examples thereof include ethylene, propylene, butylene, isobutylene, and 1-hexene.
Among these, ethylene and propylene are preferable.

具体的なオレフィン系樹脂としては、例えば、超低密度ポリエチレン(VLDPE、密度:880kg/m以上910kg/m未満)、低密度ポリエチレン(LDPE、密度:910kg/m以上915kg/m未満)、中密度ポリエチレン(MDPE、密度:915kg/m以上942kg/m未満)、高密度ポリエチレン(HDPE、密度:942kg/m以上)、直鎖状低密度ポリエチレン等のポリエチレン樹脂;ポリプロピレン樹脂(PP);ポリブテン樹脂(PB);エチレン−プロピレン共重合体;オレフィン系エラストマー(TPO);ポリ(4−メチル−1−ペンテン)(PMP);エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA);エチレンービニルアルコール共重合体(EVOH);エチレン−プロピレン−(5−エチリデン−2−ノルボルネン)等のオレフィン系三元共重合体;等が挙げられる。Specific olefinic resins, for example, ultra low density polyethylene (VLDPE, density: 880 kg / m 3 or more 910 kg / m less than 3), low density polyethylene (LDPE, density: 910 kg / m 3 or more 915 kg / m less than 3 ), Medium density polyethylene (MDPE, density: 915 kg / m 3 or more and less than 942 kg / m 3 ), high density polyethylene (HDPE, density: 942 kg / m 3 or more), linear low density polyethylene and other polyethylene resins; polypropylene resin (PP); Polybutene resin (PB); Ethylene-propylene copolymer; Olefin-based elastomer (TPO); Poly (4-methyl-1-pentene) (PMP); Ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA); Ethylene -Vinyl alcohol copolymer (EVOH); olefin-based ternary copolymer such as ethylene-propylene- (5-ethylidene-2-norbornene); and the like.

本発明の一態様において、オレフィン系樹脂は、さらに酸変性、水酸基変性、及びアクリル変性から選ばれる1種以上の変性を施した変性オレフィン系樹脂であってもよい。 In one aspect of the present invention, the olefin resin may be a modified olefin resin further subjected to one or more modifications selected from acid modification, hydroxyl group modification, and acrylic modification.

例えば、オレフィン系樹脂に対して酸変性を施してなる酸変性オレフィン系樹脂としては、上述の無変性のオレフィン系樹脂に、不飽和カルボン酸又はその無水物を、グラフト重合させてなる変性重合体が挙げられる。
上記の不飽和カルボン酸又はその無水物としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、グルタコン酸、テトラヒドロフタル酸、アコニット酸、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水グルタコン酸、無水シトラコン酸、無水アコニット酸、ノルボルネンジカルボン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物等が挙げられる。
なお、不飽和カルボン酸又はその無水物は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
For example, the acid-modified olefin-based resin obtained by acid-modifying an olefin-based resin is a modified polymer obtained by graft-polymerizing an unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof with the above-mentioned non-modified olefin-based resin. Can be mentioned.
Examples of the unsaturated carboxylic acid or its anhydride include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, glutaconic acid, tetrahydrophthalic acid, aconitic acid, (meth) acrylic acid, maleic anhydride, and itaconic anhydride. , Glutaconic anhydride, citraconic anhydride, aconitic anhydride, norbornendicarboxylic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride and the like.
The unsaturated carboxylic acid or its anhydride may be used alone or in combination of two or more.

オレフィン系樹脂に対してアクリル変性を施してなるアクリル変性オレフィン系樹脂としては、主鎖である上述の無変性のオレフィン系樹脂に、側鎖として、アルキル(メタ)アクリレートをグラフト重合させてなる変性重合体が挙げられる。
上記のアルキル(メタ)アクリレートが有するアルキル基の炭素数としては、好ましくは1〜20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12である。
上記のアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、後述のモノマー(a1’)として選択可能な化合物と同じものが挙げられる。
The acrylic-modified olefin-based resin obtained by subjecting the olefin-based resin to acrylic modification is a modification obtained by graft-polymerizing an alkyl (meth) acrylate as a side chain to the above-mentioned non-modified olefin-based resin which is the main chain. Polymers can be mentioned.
The alkyl group of the above alkyl (meth) acrylate has preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and further preferably 1 to 12 carbon atoms.
Examples of the above-mentioned alkyl (meth) acrylate include the same compounds as those that can be selected as the monomer (a1') described later.

オレフィン系樹脂に対して水酸基変性を施してなる水酸基変性オレフィン系樹脂としては、主鎖である上述の無変性のオレフィン系樹脂に、水酸基含有化合物をグラフト重合させてなる変性重合体が挙げられる。
上記の水酸基含有化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類等が挙げられる。
Examples of the hydroxyl group-modified olefin resin obtained by subjecting the olefin resin to hydroxyl group modification include a modified polymer obtained by graft-polymerizing a hydroxyl group-containing compound on the above-mentioned non-modified olefin resin which is the main chain.
Examples of the hydroxyl group-containing compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 3-hydroxybutyl. Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol can be mentioned.

(アクリルウレタン系樹脂及びオレフィン系樹脂以外の樹脂)
本発明の一態様において、樹脂組成物(y)には、本発明の効果を損なわない範囲で、アクリルウレタン系樹脂及びオレフィン系樹脂以外の樹脂を含有してもよい。
そのような樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリスチレン;アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体;三酢酸セルロース;ポリカーボネート;アクリルウレタン系樹脂には該当しないポリウレタン;ポリスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルスルホン;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルイミド、ポリイミド等のポリイミド系樹脂;ポリアミド系樹脂;アクリル樹脂;フッ素系樹脂等が挙げられる。
(Resin other than acrylic urethane resin and olefin resin)
In one aspect of the present invention, the resin composition (y) may contain a resin other than the acrylic urethane-based resin and the olefin-based resin as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of such resins include vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polyvinyl alcohol; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polystyrene; acrylic nitrile-butadiene-styrene co-weight. Combined; cellulose triacetate; polycarbonate; polyurethane not applicable to acrylic urethane resin; polysulfone; polyether ether ketone; polyether sulfone; polyphenylene sulfide; polyimide resin such as polyetherimide and polyimide; polyamide resin; acrylic resin; Fluorescent resin and the like can be mentioned.

ただし、上記要件(1)を満たす熱膨張性基材層(Y1−1)を形成する観点から、樹脂組成物(y)中のアクリルウレタン系樹脂及びオレフィン系樹脂以外の樹脂の含有割合は、少ない方が好ましい。
アクリルウレタン系樹脂及びオレフィン系樹脂以外の樹脂の含有割合としては、樹脂組成物(y)中に含まれる樹脂の全量100質量部に対して、好ましくは30質量部未満、より好ましくは20質量部未満、より好ましくは10質量部未満、更に好ましくは5質量部未満、より更に好ましくは1質量部未満である。
However, from the viewpoint of forming the heat-expandable base material layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1), the content ratio of the acrylic urethane resin and the resin other than the olefin resin in the resin composition (y) is determined. Less is preferable.
The content ratio of the resin other than the acrylic urethane resin and the olefin resin is preferably less than 30 parts by mass, more preferably 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin contained in the resin composition (y). Less than, more preferably less than 10 parts by mass, still more preferably less than 5 parts by mass, still more preferably less than 1 part by mass.

(無溶剤型樹脂組成物(y1))
本発明の一態様で用いる樹脂組成物(y)の一態様として、質量平均分子量(Mw)が50000以下のエチレン性不飽和基を有するオリゴマーと、エネルギー線重合性モノマーと、上述の熱膨張性粒子を配合してなり、溶剤を配合しない、無溶剤型樹脂組成物(y1)が挙げられる。
無溶剤型樹脂組成物(y1)では、溶剤を配合しないが、エネルギー線重合性モノマーが、前記オリゴマーの可塑性の向上に寄与するものである。
無溶剤型樹脂組成物(y1)から形成した塗膜に対して、エネルギー線を照射することで、上記要件(1)を満たす熱膨張性基材層(Y1−1)を形成し易い。
(Solvent-free resin composition (y1))
As one aspect of the resin composition (y) used in one aspect of the present invention, an oligomer having an ethylenically unsaturated group having a mass average molecular weight (Mw) of 50,000 or less, an energy ray-polymerizable monomer, and the above-mentioned thermal expansion property. Examples thereof include a solvent-free resin composition (y1) in which particles are blended and no solvent is blended.
In the solvent-free resin composition (y1), no solvent is blended, but the energy ray-polymerizable monomer contributes to the improvement of the plasticity of the oligomer.
By irradiating the coating film formed from the solvent-free resin composition (y1) with energy rays, it is easy to form a heat-expandable base material layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1).

なお、無溶剤型樹脂組成物(y1)に配合される熱膨張性粒子の種類や形状、配合量(含有量)については、上述のとおりである。 The types and shapes of the heat-expandable particles to be blended in the solvent-free resin composition (y1) and the blending amount (content) are as described above.

無溶剤型樹脂組成物(y1)に含まれる前記オリゴマーの質量平均分子量(Mw)は、50000以下であるが、好ましくは1000〜50000、より好ましくは2000〜40000、更に好ましくは3000〜35000、より更に好ましくは4000〜30000である。 The mass average molecular weight (Mw) of the oligomer contained in the solvent-free resin composition (y1) is 50,000 or less, preferably 1000 to 50,000, more preferably 2000 to 40,000, still more preferably 3000 to 35,000, and more. More preferably, it is 4000 to 30000.

また、前記オリゴマーとしては、上述の樹脂組成物(y)に含まれる樹脂のうち、質量平均分子量が50000以下のエチレン性不飽和基を有するものであればよいが、上述のウレタンプレポリマー(UP)が好ましい。
なお、当該オリゴマーとしては、エチレン性不飽和基を有する変性オレフィン系樹脂も使用し得る。
The oligomer may be any resin contained in the above-mentioned resin composition (y) having an ethylenically unsaturated group having a mass average molecular weight of 50,000 or less, and the above-mentioned urethane prepolymer (UP). ) Is preferable.
As the oligomer, a modified olefin resin having an ethylenically unsaturated group can also be used.

無溶剤型樹脂組成物(y1)中における、前記オリゴマー及びエネルギー線重合性モノマーの合計含有量は、無溶剤型樹脂組成物(y1)の全量(100質量%)に対して、好ましくは50〜99質量%、より好ましくは60〜95質量%、更に好ましくは65〜90質量%、より更に好ましくは70〜85質量%である。 The total content of the oligomer and the energy ray-polymerizable monomer in the solvent-free resin composition (y1) is preferably 50 to 50% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the solvent-free resin composition (y1). It is 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, still more preferably 65 to 90% by mass, and even more preferably 70 to 85% by mass.

エネルギー線重合性モノマーとしては、例えば、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、アダマンタン(メタ)アクリレート、トリシクロデカンアクリレート等の脂環式重合性化合物;フェニルヒドロキシプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノールエチレンオキシド変性アクリレート等の芳香族重合性化合物;テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モルホリンアクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等の複素環式重合性化合物等が挙げられる。
これらのエネルギー線重合性モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the energy ray-polymerizable monomer include isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxy (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and adamantan (adamantan). Alicyclic polymerizable compounds such as meta) acrylates and tricyclodecane acrylates; aromatic polymerizable compounds such as phenylhydroxypropyl acrylates, benzyl acrylates and phenolethylene oxide modified acrylates; tetrahydrofurfuryl (meth) acrylates, morpholine acrylates, N- Examples thereof include heterocyclic polymerizable compounds such as vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam.
These energy ray-polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

無溶剤型樹脂組成物(y1)中における、前記オリゴマーと、前記エネルギー線重合性モノマーとの含有量比[オリゴマー/エネルギー線重合性モノマー]は、質量比で、好ましくは20/80〜90/10、より好ましくは30/70〜85/15、更に好ましくは35/65〜80/20である。 The content ratio [oligomer / energy ray-polymerizable monomer] of the oligomer to the energy ray-polymerizable monomer in the solvent-free resin composition (y1) is preferably 20/80 to 90 / by mass ratio. 10, more preferably 30/70 to 85/15, still more preferably 35/65 to 80/20.

本発明の一態様において、無溶剤型樹脂組成物(y1)は、さらに光重合開始剤を配合してなることが好ましい。
光重合開始剤を含有することで、比較的低エネルギーのエネルギー線の照射によっても、十分に硬化反応を進行させることができる。
In one aspect of the present invention, the solvent-free resin composition (y1) is preferably further blended with a photopolymerization initiator.
By containing the photopolymerization initiator, the curing reaction can be sufficiently advanced even by irradiation with relatively low-energy energy rays.

光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロへキシル−フェニル−ケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロルニトリル、ジベンジル、ジアセチル、8−クロールアンスラキノン等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzylphenyl sulfate, tetramethylthium monosulfide, and azobisisobutyrol. Examples thereof include nitrile, dibenzyl, diacetyl, 8-chloranthraquinone and the like.
These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤の配合量は、前記オリゴマー及びエネルギー線重合性モノマーの全量(100質量部)に対して、好ましくは0.01〜5質量部、より好ましくは0.01〜4質量部、更に好ましくは0.02〜3質量部である。 The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 4 parts by mass, and further, based on the total amount (100 parts by mass) of the oligomer and the energy ray-polymerizable monomer. It is preferably 0.02 to 3 parts by mass.

<非熱膨張性基材層(Y1−2)>
基材(Y1)を構成する非熱膨張性基材層(Y1−2)の形成材料としては、例えば、紙材、樹脂、金属等が挙げられ、本発明の一態様の粘着性積層体の用途に応じて適宜選択することができる。
<Non-thermally expandable base material layer (Y1-2)>
Examples of the material for forming the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) constituting the base material (Y1) include paper materials, resins, metals, etc., and the adhesive laminate according to one aspect of the present invention. It can be appropriately selected according to the application.

紙材としては、例えば、薄葉紙、中質紙、上質紙、含浸紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙等が挙げられる。
樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリスチレン;アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体;三酢酸セルロース;ポリカーボネート;ポリウレタン、アクリル変性ポリウレタン等のウレタン樹脂;ポリメチルペンテン;ポリスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルスルホン;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルイミド、ポリイミド等のポリイミド系樹脂;ポリアミド系樹脂;アクリル樹脂;フッ素系樹脂等が挙げられる。
金属としては、例えば、アルミニウム、スズ、クロム、チタン等が挙げられる。
Examples of the paper material include thin paper, medium quality paper, high quality paper, impregnated paper, coated paper, art paper, sulfate paper, glassin paper and the like.
Examples of the resin include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-vinyl alcohol copolymer; polyethylene terephthalate and poly. Polyester resins such as butylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polystyrene; acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; cellulose triacetate; polycarbonate; urethane resins such as polyurethane and acrylic modified polyurethane; polymethylpentene; polysulfone; polyether ether ketone; Polyether sulfone; polyphenylene sulfide; polyimide resin such as polyetherimide and polyimide; polyamide resin; acrylic resin; fluorine resin and the like can be mentioned.
Examples of the metal include aluminum, tin, chromium, titanium and the like.

これらの形成材料は、1種から構成されていてもよく、2種以上を併用してもよい。
2種以上の形成材料を併用した非熱膨張性基材層(Y1−2)としては、紙材をポリエチレン等の熱可塑性樹脂でラミネートしたものや、樹脂を含む樹脂フィルム又はシートの表面に金属膜を形成したもの等が挙げられる。
なお、金属層の形成方法としては、例えば、上記金属を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等のPVD法により蒸着する方法、又は、上記金属からなる金属箔を一般的な粘着剤を用いて貼付する方法等が挙げられる。
These forming materials may be composed of one kind, or two or more kinds may be used in combination.
As the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) in which two or more kinds of forming materials are used in combination, a paper material laminated with a thermoplastic resin such as polyethylene, or a metal on the surface of a resin film or sheet containing the resin. Examples include those having a film formed.
As a method for forming the metal layer, for example, a method of vapor-depositing the metal by a PVD method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a method of attaching a metal foil made of the metal by using a general pressure-sensitive adhesive. The method of doing this can be mentioned.

なお、非熱膨張性基材層(Y1−2)と積層する他の層との層間密着性を向上させる観点から、非熱膨張性基材層(Y1−2)が樹脂を含む場合、非熱膨張性基材層(Y1−2)の表面に対しても、上述の熱膨張性基材層(Y1−1)と同様に、酸化法や凹凸化法等による表面処理、易接着処理、あるいはプライマー処理を施してもよい。 From the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) and other layers to be laminated, when the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) contains a resin, it is not. Similar to the above-mentioned heat-expandable base material layer (Y1-1), the surface of the heat-expandable base material layer (Y1-2) is also subjected to surface treatment by an oxidation method, an unevenness method, or the like, and easy-adhesion treatment. Alternatively, primer treatment may be performed.

また、非熱膨張性基材層(Y1−2)が樹脂を含む場合、当該樹脂と共に、樹脂組成物(y)にも含有し得る、上述の基材用添加剤を含有してもよい。 When the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) contains a resin, the above-mentioned base material additive that can be contained in the resin composition (y) may be contained together with the resin.

非熱膨張性基材層(Y1−2)は、上述の方法に基づき判断される、非熱膨張性層である。
そのため、上述の式から算出される非熱膨張性基材層(Y1−2)の体積変化率(%)としては、5%未満であるが、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満、更に好ましくは0.1%未満、より更に好ましくは0.01%未満である。
The non-thermally expandable base material layer (Y1-2) is a non-thermally expandable layer determined based on the above method.
Therefore, the volume change rate (%) of the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) calculated from the above formula is less than 5%, but preferably less than 2%, more preferably less than 1%. , More preferably less than 0.1%, even more preferably less than 0.01%.

また、非熱膨張性基材層(Y1−2)は、体積変化率が上記範囲である限り、熱膨張性粒子を含有してもよい。例えば、非熱膨張性基材層(Y1−2)に含まれる樹脂を選択することで、熱膨張性粒子が含まれていたとしても、体積変化率を上記範囲に調整することは可能である。
ただし、非熱膨張性基材層(Y1−2)中の熱膨張性粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
具体的な熱膨張性粒子の含有量としては、非熱膨張性基材層(Y1−2)の全質量(100質量%)に対して、通常3質量%未満、好ましくは1質量%未満、より好ましくは0.1質量%未満、更に好ましくは0.01質量%未満、より更に好ましくは0.001質量%未満である。一層好ましくは、非熱膨張性基材層(Y1−2)中に熱膨張性粒子が含まれないことである。
Further, the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) may contain thermally expandable particles as long as the volume change rate is within the above range. For example, by selecting the resin contained in the non-thermally expandable base material layer (Y1-2), it is possible to adjust the volume change rate within the above range even if the thermally expandable particles are contained. ..
However, the smaller the content of the heat-expandable particles in the non-heat-expandable base material layer (Y1-2), the more preferable.
The specific content of the heat-expandable particles is usually less than 3% by mass, preferably less than 1% by mass, based on the total mass (100% by mass) of the non-heat-expandable base material layer (Y1-2). It is more preferably less than 0.1% by mass, further preferably less than 0.01% by mass, and even more preferably less than 0.001% by mass. More preferably, the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) does not contain the thermally expandable particles.

<粘着剤層(X1)>
本発明の第一態様で用いる粘着シート(I)が有する粘着剤層(X1)は、粘着性樹脂を含む粘着剤組成物(x1)から形成することができる。
なお、粘着剤組成物(x1)は、必要に応じて、架橋剤、粘着付与剤、重合性化合物、重合開始剤等の粘着剤用添加剤を含有してもよい。
以下、粘着剤組成物(x1)に含まれる各成分について説明する。
なお、粘着シート(I)が、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)を有する場合においても、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)も、以下に示す各成分を含有する粘着剤組成物(x1)から形成することができる。
<Adhesive layer (X1)>
The pressure-sensitive adhesive layer (X1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) used in the first aspect of the present invention can be formed from the pressure-sensitive adhesive composition (x1) containing a pressure-sensitive adhesive resin.
The pressure-sensitive adhesive composition (x1) may contain additives for pressure-sensitive adhesives such as a cross-linking agent, a pressure-sensitive adhesive, a polymerizable compound, and a polymerization initiator, if necessary.
Hereinafter, each component contained in the pressure-sensitive adhesive composition (x1) will be described.
Even when the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (X12), the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) are also present. , Can be formed from the pressure-sensitive adhesive composition (x1) containing each of the following components.

(粘着性樹脂)
本発明の一態様で用いる粘着性樹脂としては、当該樹脂単独で粘着性を有し、質量平均分子量(Mw)が1万以上の重合体であればよい。
本発明の一態様で用いる粘着性樹脂の質量平均分子量(Mw)としては、粘着力の向上の観点から、好ましくは1万〜200万、より好ましくは2万〜150万、更に好ましくは3万〜100万である。
(Adhesive resin)
The adhesive resin used in one embodiment of the present invention may be a polymer having adhesiveness by itself and having a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 or more.
The mass average molecular weight (Mw) of the adhesive resin used in one embodiment of the present invention is preferably 10,000 to 2 million, more preferably 20,000 to 1.5 million, and further preferably 30,000 from the viewpoint of improving the adhesive strength. ~ 1 million.

具体的な粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリイソブチレン系樹脂等のゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂等が挙げられる。
これらの粘着性樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、これらの粘着性樹脂が、2種以上の構成単位を有する共重合体である場合、当該共重合体の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、及びグラフト共重合体のいずれであってもよい。
Specific examples of the adhesive resin include rubber resins such as acrylic resins, urethane resins, and polyisobutylene resins, polyester resins, olefin resins, silicone resins, and polyvinyl ether resins.
These adhesive resins may be used alone or in combination of two or more.
When these adhesive resins are copolymers having two or more kinds of structural units, the form of the copolymer is not particularly limited, and block copolymers, random copolymers, and graft copolymers are used. It may be any of the polymers.

本発明の一態様で用いる粘着性樹脂は、上記の粘着性樹脂の側鎖に重合性官能基を導入した、エネルギー線硬化型の粘着性樹脂であってもよい。
当該重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。
また、エネルギー線としては、紫外線や電子線が挙げられるが、紫外線が好ましい。
The adhesive resin used in one aspect of the present invention may be an energy ray-curable adhesive resin in which a polymerizable functional group is introduced into the side chain of the adhesive resin.
Examples of the polymerizable functional group include a (meth) acryloyl group and a vinyl group.
Further, examples of the energy ray include ultraviolet rays and electron beams, but ultraviolet rays are preferable.

本発明の一態様において、優れた粘着力を発現させる観点から、粘着性樹脂が、アクリル系樹脂を含むことが好ましい。
なお、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)を有する粘着シート(I)を用いる場合、樹脂膜形成用シート(II)と接触している第1粘着剤層(X11)にアクリル系樹脂が含まれることで、第1粘着剤層の表面に凹凸を形成させ易くすることができる。
In one aspect of the present invention, the adhesive resin preferably contains an acrylic resin from the viewpoint of exhibiting excellent adhesive strength.
When the pressure-sensitive adhesive sheet (I) having the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is used, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is in contact with the resin film-forming sheet (II). ) Contains an acrylic resin, which makes it easier to form irregularities on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer.

粘着性樹脂中のアクリル系樹脂の含有割合としては、粘着剤組成物(x1)又は粘着剤層(X1)に含まれる粘着性樹脂の全量(100質量%)に対して、好ましくは30〜100質量%、より好ましくは50〜100質量%、更に好ましくは70〜100質量%、より更に好ましくは85〜100質量%である。 The content ratio of the acrylic resin in the adhesive resin is preferably 30 to 100 with respect to the total amount (100% by mass) of the adhesive resin contained in the adhesive composition (x1) or the adhesive layer (X1). It is by mass, more preferably 50 to 100% by mass, still more preferably 70 to 100% by mass, and even more preferably 85 to 100% by mass.

(アクリル系樹脂)
本発明の一態様において、粘着性樹脂として使用し得る、アクリル系樹脂としては、例えば、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含む重合体、環状構造を有する(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含む重合体等が挙げられる。
(Acrylic resin)
In one aspect of the present invention, the acrylic resin that can be used as the adhesive resin includes, for example, a polymer containing a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group, and a cyclic structure. Examples thereof include polymers containing a structural unit derived from (meth) acrylate having.

アクリル系樹脂の質量平均分子量(Mw)としては、好ましくは10万〜150万、より好ましくは20万〜130万、更に好ましくは35万〜120万、より更に好ましくは50万〜110万である。 The mass average molecular weight (Mw) of the acrylic resin is preferably 100,000 to 1,500,000, more preferably 200,000 to 1,300,000, still more preferably 350,000 to 1,200,000, and even more preferably 500,000 to 1,100,000. ..

本発明の一態様で用いるアクリル系樹脂としては、アルキル(メタ)アクリレート(a1’)(以下、「モノマー(a1’)」ともいう)に由来する構成単位(a1)及び官能基含有モノマー(a2’)(以下、「モノマー(a2’)」ともいう)に由来する構成単位(a2)を有するアクリル系共重合体(A1)がより好ましい。 The acrylic resin used in one embodiment of the present invention includes a structural unit (a1) derived from an alkyl (meth) acrylate (a1') (hereinafter, also referred to as "monomer (a1')") and a functional group-containing monomer (a2). An acrylic copolymer (A1) having a structural unit (a2) derived from') (hereinafter, also referred to as "monomer (a2')") is more preferable.

モノマー(a1’)が有するアルキル基の炭素数としては、粘着特性の向上の観点から、好ましくは1〜24、より好ましくは1〜12、更に好ましくは2〜10、より更に好ましくは4〜8である。
なお、モノマー(a1’)が有するアルキル基は、直鎖アルキル基であってもよく、分岐鎖アルキル基であってもよい。
The number of carbon atoms of the alkyl group contained in the monomer (a1') is preferably 1 to 24, more preferably 1 to 12, still more preferably 2 to 10, and even more preferably 4 to 8 from the viewpoint of improving the adhesive properties. Is.
The alkyl group contained in the monomer (a1') may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

モノマー(a1’)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらのモノマー(a1’)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
モノマー(a1’)としては、ブチル(メタ)アクリレート及び2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the monomer (a1') include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and tridecyl (). Examples thereof include meta) acrylate and stearyl (meth) acrylate.
These monomers (a1') may be used alone or in combination of two or more.
As the monomer (a1'), butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferable.

構成単位(a1)の含有量は、アクリル系共重合体(A1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは50〜99.9質量%、より好ましくは60〜99.0質量%、更に好ましくは70〜97.0質量%、より更に好ましくは80〜95.0質量%である。 The content of the structural unit (a1) is preferably 50 to 99.9% by mass, more preferably 60 to 99.0% by mass, based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). %, More preferably 70 to 97.0% by mass, even more preferably 80 to 95.0% by mass.

モノマー(a2’)が有する官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。
つまり、モノマー(a2’)としては、例えば、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー等が挙げられる。
これらのモノマー(a2’)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、モノマー(a2’)としては、水酸基含有モノマー及びカルボキシ基含有モノマーが好ましい。
Examples of the functional group contained in the monomer (a2') include a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, an epoxy group and the like.
That is, examples of the monomer (a2') include a hydroxyl group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, an amino group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer.
These monomers (a2') may be used alone or in combination of two or more.
Among these, as the monomer (a2'), a hydroxyl group-containing monomer and a carboxy group-containing monomer are preferable.

水酸基含有モノマーとしては、例えば、上述した水酸基含有化合物と同じものが挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing monomer include the same hydroxyl group-containing compounds as described above.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸;フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和ジカルボン酸及びその無水物、2−(アクリロイルオキシ)エチルサクシネート、2−カルボキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the carboxy group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid, and their anhydrides. , 2- (Acryloyloxy) ethyl succinate, 2-carboxyethyl (meth) acrylate and the like.

構成単位(a2)の含有量は、アクリル系共重合体(A1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0.1〜40質量%、より好ましくは0.5〜35質量%、更に好ましくは1.0〜30質量%、より更に好ましくは3.0〜25質量%である。 The content of the structural unit (a2) is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 35% by mass, based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). %, More preferably 1.0 to 30% by mass, and even more preferably 3.0 to 25% by mass.

アクリル系共重合体(A1)は、さらにモノマー(a1’)及び(a2’)以外の他のモノマー(a3’)に由来の構成単位(a3)を有していてもよい。
なお、アクリル系共重合体(A1)において、構成単位(a1)及び(a2)の含有量は、アクリル系共重合体(A1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは70〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%、更に好ましくは90〜100質量%、より更に好ましくは95〜100質量%である。
The acrylic copolymer (A1) may further have a structural unit (a3) derived from a monomer (a3') other than the monomers (a1') and (a2').
In the acrylic copolymer (A1), the content of the structural units (a1) and (a2) is preferably 70 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). ~ 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, still more preferably 90 to 100% by mass, still more preferably 95 to 100% by mass.

モノマー(a3’)としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン等のオレフィン類;塩化ビニル、ビニリデンクロリド等のハロゲン化オレフィン類;ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン系モノマー類;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート等の環状構造を有する(メタ)アクリレート;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリロイルモルホリン、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。 Examples of the monomer (a3') include olefins such as ethylene, propylene and isobutylene; halogenated olefins such as vinyl chloride and vinylidene chloride; diene monomers such as butadiene, isoprene and chloroprene; cyclohexyl (meth) acrylates, It has a cyclic structure such as benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and imide (meth) acrylate. (Meta) Acrylate; Examples thereof include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, (meth) acryloylmorpholine, and N-vinylpyrrolidone.

また、アクリル系共重合体(A1)は、主鎖及び/又は側鎖に重合性官能基を導入した、エネルギー線硬化型のアクリル系共重合体としてもよい。
当該重合性官能基及び当該エネルギー線としては、上述のとおりである。
なお、重合性官能基は、上述の構成単位(a1)及び(a2)を有するアクリル系共重合体と、当該アクリル系共重合体の構成単位(a2)が有する官能基と結合可能な置換基と重合性官能基とを有する重合性化合物(Xa)とを反応させることで導入することができる。
重合性化合物(Xa)としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
Further, the acrylic copolymer (A1) may be an energy ray-curable acrylic copolymer in which a polymerizable functional group is introduced into the main chain and / or the side chain.
The polymerizable functional group and the energy ray are as described above.
The polymerizable functional group is a substituent capable of binding to the acrylic copolymer having the above-mentioned structural units (a1) and (a2) and the functional group having the structural unit (a2) of the acrylic copolymer. It can be introduced by reacting with a polymerizable compound (Xa) having a polymerizable functional group.
Examples of the polymerizable compound (Xa) include (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, allyl isocyanate, glycidyl (meth) acrylate, and (meth). Acrylic acid and the like can be mentioned.

(架橋剤)
本発明の一態様において、粘着剤組成物(x1)は、上述のアクリル系共重合体(A1)のように、官能基を有する粘着性樹脂を含有する場合、さらに架橋剤を含有することが好ましい。
当該架橋剤は、官能基を有する粘着性樹脂と反応して、当該官能基を架橋起点として、粘着性樹脂同士を架橋するものである。
(Crosslinking agent)
In one aspect of the present invention, when the pressure-sensitive adhesive composition (x1) contains a pressure-sensitive adhesive resin having a functional group like the above-mentioned acrylic copolymer (A1), it may further contain a cross-linking agent. preferable.
The cross-linking agent reacts with a tacky resin having a functional group and cross-links the tacky resins with the functional group as a cross-linking starting point.

架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。
これらの架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの架橋剤の中でも、凝集力を高めて粘着力を向上させる観点、及び入手し易さ等の観点から、イソシアネート系架橋剤が好ましい。
Examples of the cross-linking agent include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, and metal chelate-based cross-linking agents.
These cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.
Among these cross-linking agents, isocyanate-based cross-linking agents are preferable from the viewpoint of increasing the cohesive force to improve the adhesive force and the availability.

架橋剤の含有量は、粘着性樹脂が有する官能基の数により適宜調整されるものであるが、官能基を有する粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.03〜7質量部、更に好ましくは0.05〜5質量部である。 The content of the cross-linking agent is appropriately adjusted according to the number of functional groups of the adhesive resin, and is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive resin having functional groups. It is more preferably 0.03 to 7 parts by mass, and further preferably 0.05 to 5 parts by mass.

(粘着付与剤)
本発明の一態様において、粘着剤組成物(x1)は、粘着力をより向上させる観点から、さらに粘着付与剤を含有してもよい。
本明細書において、「粘着付与剤」とは、上述の粘着性樹脂の粘着力を補助的に向上させる成分であって、質量平均分子量(Mw)が1万未満のオリゴマーを指し、上述の粘着性樹脂とは区別されるものである。
粘着付与剤の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは400〜10000、より好ましくは500〜8000、更に好ましくは800〜5000である。
(Adhesive imparting agent)
In one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition (x1) may further contain a tackifier from the viewpoint of further improving the adhesive strength.
In the present specification, the "tackiness-imparting agent" refers to an oligomer having a mass average molecular weight (Mw) of less than 10,000, which is a component that supplementarily improves the adhesive strength of the above-mentioned adhesive resin, and refers to the above-mentioned adhesion. It is distinguished from the sex resin.
The mass average molecular weight (Mw) of the tackifier is preferably 400 to 10000, more preferably 500 to 8000, and even more preferably 800 to 5000.

粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、スチレン系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するペンテン、イソプレン、ピペリン、1,3−ペンタジエン等のC5留分を共重合して得られるC5系石油樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するインデン、ビニルトルエン等のC9留分を共重合して得られるC9系石油樹脂、及びこれらを水素化した水素化樹脂等が挙げられる。 As the tackifier, for example, it is obtained by copolymerizing a C5 distillate such as rosin resin, terpene resin, styrene resin, penten, isoprene, piperin, 1,3-pentadiene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha. Examples thereof include C5-based petroleum resins, C9-based petroleum resins obtained by copolymerizing C9 distillates such as inden and vinyl toluene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha, and hydrides obtained by hydrogenating these.

粘着付与剤の軟化点は、好ましくは60〜170℃、より好ましくは65〜160℃、更に好ましくは70〜150℃である。
なお、本明細書において、粘着付与剤の「軟化点」は、JIS K 2531に準拠して測定した値を意味する。
粘着付与剤は、単独で用いてもよく、軟化点や構造が異なる2種以上を併用してもよい。
そして、2種以上の複数の粘着付与剤を用いる場合、それら複数の粘着付与剤の軟化点の加重平均が、上記範囲に属することが好ましい。
The softening point of the tackifier is preferably 60 to 170 ° C, more preferably 65 to 160 ° C, and even more preferably 70 to 150 ° C.
In the present specification, the "softening point" of the tackifier means a value measured in accordance with JIS K 2531.
The tackifier may be used alone, or two or more kinds having different softening points and structures may be used in combination.
When two or more kinds of tackifiers are used, it is preferable that the weighted average of the softening points of the plurality of tackifiers belongs to the above range.

粘着付与剤の含有量は、粘着剤組成物(x1)の有効成分の全量(100質量%)又は粘着剤層(X1)の全質量(100質量%)に対して、好ましくは0.01〜65質量%、より好ましくは0.05〜55質量%、更に好ましくは0.1〜50質量%、より更に好ましくは0.5〜45質量%、更になお好ましくは1.0〜40質量%である。 The content of the tackifier is preferably 0.01 to 100% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the pressure-sensitive adhesive composition (x1) or the total mass (100% by mass) of the pressure-sensitive adhesive layer (X1). 65% by mass, more preferably 0.05 to 55% by mass, still more preferably 0.1 to 50% by mass, still more preferably 0.5 to 45% by mass, still more preferably 1.0 to 40% by mass. is there.

(光重合開始剤)
本発明の一態様において、粘着剤組成物(x1)が、粘着性樹脂として、エネルギー線硬化型の粘着性樹脂を含む場合、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。
エネルギー線硬化型の粘着性樹脂及び光重合開始剤を含有する粘着剤組成物とすることで、当該粘着剤組成物から形成される粘着剤層は、比較的低エネルギーのエネルギー線の照射によっても、十分に硬化反応を進行させ、粘着力を所望の範囲に調整することが可能となる。
なお、本発明の一態様で用いる光重合開始剤としては、上述の無溶剤型樹脂組成物(y1)に配合されるものと同じものが挙げられる。
(Photopolymerization initiator)
In one aspect of the present invention, when the pressure-sensitive adhesive composition (x1) contains an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin as the pressure-sensitive adhesive resin, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition (x1) further contains a photopolymerization initiator.
By preparing a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin and a photopolymerization initiator, the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition can be subjected to irradiation with relatively low-energy energy rays. , The curing reaction can be sufficiently advanced, and the adhesive strength can be adjusted to a desired range.
Examples of the photopolymerization initiator used in one embodiment of the present invention include the same photopolymerization initiators used in the above-mentioned solvent-free resin composition (y1).

光重合開始剤の含有量は、エネルギー線硬化型の粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.03〜5質量部、更に好ましくは0.05〜2質量部である。 The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and further preferably 0. It is 05 to 2 parts by mass.

(粘着剤用添加剤)
本発明の一態様において、粘着剤組成物(x1)は、本発明の効果を損なわない範囲で、上述の添加剤以外にも、一般的な粘着剤に使用される粘着剤用添加剤を含有していてもよい。
このような粘着剤用添加剤としては、例えば、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、防錆剤、顔料、染料、遅延剤、反応促進剤(触媒)、紫外線吸収剤等が挙げられる。
なお、これらの粘着剤用添加剤は、それぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Additives for adhesives)
In one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition (x1) contains an additive for a pressure-sensitive adhesive used in a general pressure-sensitive adhesive in addition to the above-mentioned additives as long as the effect of the present invention is not impaired. You may be doing it.
Examples of such additives for adhesives include antioxidants, softeners (plasticizers), rust preventives, pigments, dyes, retarders, reaction accelerators (catalysts), ultraviolet absorbers and the like.
These adhesive additives may be used alone or in combination of two or more.

これらの粘着剤用添加剤を含有する場合、それぞれの粘着剤用添加剤の含有量は、粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.0001〜20質量部、より好ましくは0.001〜10質量部である。 When these adhesive additives are contained, the content of each adhesive additive is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 with respect to 100 parts by mass of the adhesive resin. It is 10 parts by mass.

なお、図3に示す粘着性積層体2が有するような、上述の第2態様の粘着シート(I)を用いる場合、熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)は、さらに熱膨張性粒子を含有する熱膨張性粘着剤組成物(x11)から形成される。
当該熱膨張性粒子は、上述のとおりである。
熱膨張性粒子の含有量としては、熱膨張性粘着剤組成物(x11)の有効成分の全量(100質量%)又は熱膨張性粘着剤層の全質量(100質量%)に対して、好ましくは1〜70質量%、より好ましくは2〜60質量%、更に好ましくは3〜50質量%、より更に好ましくは5〜40質量%である。
When the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect described above, such as that of the pressure-sensitive adhesive laminate 2 shown in FIG. 3, is used, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, is further increased. It is formed from a heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition (x11) containing heat-expandable particles.
The heat-expandable particles are as described above.
The content of the heat-expandable particles is preferably based on the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition (x11) or the total mass (100% by mass) of the heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer. Is 1 to 70% by mass, more preferably 2 to 60% by mass, still more preferably 3 to 50% by mass, still more preferably 5 to 40% by mass.

一方、粘着剤層(X1)が非熱膨張性粘着剤層である場合、非熱膨張性粘着剤層の形成材料である非熱膨張性粘着剤組成物中の熱膨張性粒子の含有量は極力少ないほど好ましい。
熱膨張性粒子の含有量としては、非熱膨張性粘着剤組成物の有効成分の全量(100質量%)又は非熱膨張性粘着剤層の全質量(100質量%)に対して、好ましくは1質量%未満、より好ましくは0.1質量%未満、更に好ましくは0.01質量%未満、より更に好ましくは0.001質量%未満である。一層好ましくは、非熱膨張性粘着剤組成物又は非熱膨張性粘着剤層中に、熱膨張性粒子が含まれないことである。
On the other hand, when the pressure-sensitive adhesive layer (X1) is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, the content of the heat-expandable particles in the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition which is a material for forming the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer is It is preferable that the amount is as small as possible.
The content of the heat-expandable particles is preferably relative to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition or the total mass (100% by mass) of the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer. It is less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, still more preferably less than 0.01% by mass, still more preferably less than 0.001% by mass. More preferably, the non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive composition or the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer does not contain the heat-expandable particles.

なお、図2に示す粘着性積層体1c、1dのように、非熱膨張性粘着剤層である、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)を有する粘着シート(I)を用いる場合、23℃における、非熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)の貯蔵せん断弾性率G’(23)は、好ましくは1.0×10Pa以下、より好ましくは5.0×10Pa以下、更に好ましくは1.0×10Pa以下である。
非熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)の貯蔵せん断弾性率G’(23)が1.0×10Pa以下であれば、例えば、図2に示す粘着性積層体1c、1dのような構成とした際に、分離用加熱処理による熱膨張性基材層(Y1−1)中の熱膨張性粒子の膨張により、粘着シート(II)と接触している第1粘着剤層(X11)の表面に凹凸が形成され易くなる。その結果、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能となる粘着性積層体とすることができる。
なお、23℃における、非熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)の貯蔵せん断弾性率G’(23)は、好ましくは1.0×10Pa以上、より好ましくは5.0×10Pa以上、更に好ましくは1.0×10Pa以上である。
A pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (X12), which are non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layers, as shown in the pressure-sensitive adhesive laminates 1c and 1d shown in FIG. when using a), at 23 ° C., the storage shear modulus G of the first pressure-sensitive adhesive layer is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer (X11) '(23) is preferably not more than 1.0 × 10 8 Pa, more It is preferably 5.0 × 10 7 Pa or less, and more preferably 1.0 × 10 7 Pa or less.
If non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer a first pressure-sensitive adhesive layer is (X11) of the storage shear modulus G '(23) is less than 1.0 × 10 8 Pa, for example, adhesive laminated body shown in FIG. 2 When the configurations are 1c and 1d, the first is in contact with the pressure-sensitive adhesive sheet (II) due to the expansion of the heat-expandable particles in the heat-expandable base material layer (Y1-1) by the heat treatment for separation. Unevenness is likely to be formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X11). As a result, it is possible to obtain an adhesive laminate that can be easily separated at the interface P between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with a slight force.
The storage shear elastic modulus G'(23) of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer, at 23 ° C. is preferably 1.0 × 10 4 Pa or more, more preferably 5. It is 0.0 × 10 4 Pa or more, more preferably 1.0 × 10 5 Pa or more.

なお、本明細書において、粘着剤層の貯蔵せん断弾性率G’(23)は、実施例に記載の方法により測定された値を意味する。 In the present specification, the storage shear elastic modulus G'(23) of the pressure-sensitive adhesive layer means a value measured by the method described in the examples.

[粘着シート(II)の構成]
本発明の製造方法に用いる粘着性積層体が有する粘着シート(II)は、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有し、基材(Y2)は粘着シート(I)と直接積層する。
なお、基材(Y2)と粘着剤層(X2)との層間密着性を向上させる観点から、基材(Y2)の粘着剤層が積層する側の表面に、上述の酸化法や凹凸化法等による表面処理、易接着処理、あるいはプライマー処理を施してもよい。
また、本発明の一態様で用いる粘着性積層体において、粘着剤層(X2)の残渣が切削物及び/又は研削物に付着することを抑制する観点、バンプを有する半導体ウエハ等のように表面凹凸が大きな加工対象物に対して追従性を優れたものとする観点、及び粘着剤層(X2)の粘着力の経時安定性を優れたものとする観点から、粘着シート(II)は、基材(Y2)と粘着剤層(X2)との間に、中間層(Z2)を有することが好ましい。
また、例えば、基材(Y2)の粘着剤層(X2)側の表面は、帯電防止処理が施されていてもよい。中間層(Z2)を有する場合、基材(Y2)の中間層(Z2)側の表面は、帯電防止処理が施されていてもよい。
[Structure of adhesive sheet (II)]
The pressure-sensitive adhesive sheet (II) contained in the pressure-sensitive adhesive laminate used in the production method of the present invention has a base material (Y2) and a pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the base material (Y2) is directly laminated with the pressure-sensitive adhesive sheet (I). To do.
From the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the above-mentioned oxidation method or unevenness method is applied to the surface of the base material (Y2) on the side where the pressure-sensitive adhesive layer is laminated. Such as surface treatment, easy adhesion treatment, or primer treatment may be performed.
Further, in the adhesive laminate used in one aspect of the present invention, from the viewpoint of suppressing the residue of the adhesive layer (X2) from adhering to the cutting object and / or the ground object, the surface such as a semiconductor wafer having bumps or the like. The pressure-sensitive adhesive sheet (II) is based on the pressure-sensitive adhesive sheet (II) from the viewpoint of excellent followability to a work object having large irregularities and from the viewpoint of excellent stability of the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) over time. It is preferable to have an intermediate layer (Z2) between the material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2).
Further, for example, the surface of the base material (Y2) on the pressure-sensitive adhesive layer (X2) side may be subjected to antistatic treatment. When the intermediate layer (Z2) is provided, the surface of the base material (Y2) on the intermediate layer (Z2) side may be subjected to antistatic treatment.

粘着シート(I)との界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能とする観点から、基材(Y2)は、非熱膨張性基材であることが好ましい。
また、前記加熱処理の前後において、被着体との良好な密着性を保持する観点から、粘着剤層(X2)も、非熱膨張性粘着剤層であることが好ましい。
さらに、中間層(Z2)も、非熱膨張性層であることが好ましい。
そのため、上述の式から算出される基材(Y2)、粘着剤層(X2)、及び中間層(Z2)の体積変化率(%)としては、それぞれ独立に、5%未満であるが、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満、更に好ましくは0.1%未満、より更に好ましくは0.01%未満である。なお、一層好ましくは、基材(Y2)、粘着剤層(X2)、及び中間層(Z2)中に、熱膨張性粒子が含まれないことである。
以下、基材(Y2)、粘着剤層(X2)、及び中間層(Z2)について説明する。
The base material (Y2) is preferably a non-thermally expandable base material from the viewpoint that it can be easily separated collectively at the interface P with the pressure-sensitive adhesive sheet (I) with a slight force.
Further, from the viewpoint of maintaining good adhesion to the adherend before and after the heat treatment, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is also preferably a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer.
Further, the intermediate layer (Z2) is also preferably a non-thermally expandable layer.
Therefore, the volume change rate (%) of the base material (Y2), the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2) calculated from the above formula is independently less than 5%, but is preferable. Is less than 2%, more preferably less than 1%, even more preferably less than 0.1%, even more preferably less than 0.01%. More preferably, the base material (Y2), the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2) do not contain heat-expandable particles.
Hereinafter, the base material (Y2), the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2) will be described.

<基材(Y2)>
基材(Y2)の形成材料としては、上述の非熱膨張性基材層(Y1−2)の形成材料と同様のものが挙げられる。
なお、基材(Y2)は樹脂を含むことが好ましく、少なくとも粘着シート(I)と積層する側の基材(Y2)の表面には、樹脂を含む樹脂層が形成されていることがより好ましく、基材(Y2)が樹脂フィルム又は樹脂シートであることが更に好ましい。
また、樹脂フィルム又は樹脂シートの中でも、工程(4)における加工対象物の研削において、加工対象物を極薄に研削する際にも、加工対象物を安定に保持し得る性質を有しているとの観点から、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)フィルムがより好ましい。
なお、上述の樹脂フィルム又は樹脂シートは、公知のフィラー、着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、有機滑剤、触媒等を含有させてもよい。
また、樹脂フィルム又は樹脂シートは、透明なものであっても、所望により着色又は金属等が蒸着されていてもよい。
さらに、分離用加熱処理後に界面Pでわずかな力で一括して容易に分離可能とする観点から、粘着シート(I)に積層する側の基材(Y2)の表面は、剥離処理されていてもよい。
<Base material (Y2)>
Examples of the material for forming the base material (Y2) include the same materials as those for forming the non-thermally expandable base material layer (Y1-2) described above.
The base material (Y2) preferably contains a resin, and it is more preferable that a resin layer containing the resin is formed at least on the surface of the base material (Y2) on the side where the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is laminated. It is more preferable that the base material (Y2) is a resin film or a resin sheet.
Further, among the resin films or resin sheets, in the grinding of the object to be processed in the step (4), the object to be processed can be stably held even when the object to be processed is extremely thinly ground. From the above viewpoint, a polyethylene film, a polypropylene film, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) film, and a polyethylene terephthalate film are preferable, and an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) film is more preferable.
The above-mentioned resin film or resin sheet may contain known fillers, colorants, antistatic agents, antioxidants, organic lubricants, catalysts and the like.
Further, the resin film or the resin sheet may be transparent, or may be colored or metal-deposited as desired.
Further, from the viewpoint of enabling easy separation at the interface P with a slight force after the heat treatment for separation, the surface of the base material (Y2) to be laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is peeled off. May be good.

また、基材(Y2)は、加工対象物を粘着剤層(X2)に貼付する際の位置ズレを防止しやすいものとする観点、及び、加工対象物を貼付する際に、粘着剤層(X2)への過度な沈み込みを防止しやすいものとする観点から、23℃における貯蔵弾性率E’(23)が1.0×10Pa以上であることが好ましい。Further, the base material (Y2) has a viewpoint that it is easy to prevent misalignment when the object to be processed is attached to the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and when the object to be processed is attached, the adhesive layer ( from the viewpoint of those likely to prevent excessive sinking of the X2), it preferably has a storage elastic modulus E at 23 ℃ '(23) is 1.0 × 10 6 Pa or more.

なお、基材(Y2)は、体積変化率が上記範囲である限り、熱膨張性粒子を含有してもよいが、上記観点から、基材(Y2)中の熱膨張性粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
基材(Y2)中の熱膨張性粒子の含有量としては、基材(Y2)の全質量(100質量%)に対して、通常3質量%未満、好ましくは1質量%未満、より好ましくは0.1質量%未満、更に好ましくは0.01質量%未満、より更に好ましくは0.001質量%未満である。一層好ましくは、基材(Y2)中に熱膨張性粒子が含まれないことである。
The base material (Y2) may contain thermally expandable particles as long as the volume change rate is within the above range, but from the above viewpoint, the content of the thermally expandable particles in the base material (Y2) is , The smaller the number, the better.
The content of the heat-expandable particles in the base material (Y2) is usually less than 3% by mass, preferably less than 1% by mass, more preferably less than the total mass (100% by mass) of the base material (Y2). It is less than 0.1% by mass, more preferably less than 0.01% by mass, and even more preferably less than 0.001% by mass. More preferably, the base material (Y2) does not contain thermally expandable particles.

基材(Y2)の厚さは、好ましくは5〜500μm、より好ましくは15〜300μm、更に好ましくは20〜200μmである。
基材(Y2)の厚さが5μm以上であれば、高温での耐変形性(寸法安定性)に優れたものとしやすい。一方、基材の厚みが500μm以下であれば、粘着シート(II)に貼付している加工対象物に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す際に、振動による粘着シート(II)の変形を抑えることができるため、膜厚精度等の加工精度を向上させやすい。
The thickness of the base material (Y2) is preferably 5 to 500 μm, more preferably 15 to 300 μm, and even more preferably 20 to 200 μm.
When the thickness of the base material (Y2) is 5 μm or more, it is easy to make it excellent in deformation resistance (dimensional stability) at high temperature. On the other hand, if the thickness of the base material is 500 μm or less, the pressure-sensitive adhesive sheet (II) due to vibration when at least one of cutting and grinding is performed on the object to be processed attached to the pressure-sensitive adhesive sheet (II). Since it is possible to suppress the deformation of the material, it is easy to improve the processing accuracy such as the film thickness accuracy.

<粘着剤層(X2)>
樹脂膜形成用シート(II)が有する粘着剤層(X2)は、上述の粘着剤組成物(x1)を用いて形成することができ、好適な成分や各成分の含有量の好適範囲も、粘着剤組成物(x1)と同じである。
<Adhesive layer (X2)>
The pressure-sensitive adhesive layer (X2) contained in the resin film-forming sheet (II) can be formed by using the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition (x1). It is the same as the pressure-sensitive adhesive composition (x1).

ここで、本発明の一態様において、粘着剤層(X2)は、粘着性樹脂として、側鎖に重合性官能基が導入されたエネルギー線硬化型の粘着性樹脂を含む粘着剤組成物生物から形成された層であることが好ましく、エネルギー線硬化型のアクリル系重合体(B)(以下、「アクリル系重合体(B)」又は「(B)成分」ともいう)を含む粘着剤組成物から形成された層であることがより好ましい。
当該粘着剤組成物から形成された粘着剤層(X2)は、エネルギー線照射前は、加工対象物を十分に保持し得る優れた粘着力を有するが、エネルギー線照射後には、粘着力が低下する。したがって、加工品を粘着シート(II)から容易に分離しやすいものとできる。
Here, in one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is derived from a pressure-sensitive adhesive composition organism containing an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin in which a polymerizable functional group is introduced into a side chain as a pressure-sensitive adhesive resin. A pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable acrylic polymer (B) (hereinafter, also referred to as “acrylic polymer (B)” or “component (B)”), which is preferably a formed layer. It is more preferably a layer formed from.
The pressure-sensitive adhesive layer (X2) formed from the pressure-sensitive adhesive composition has an excellent adhesive strength capable of sufficiently holding an object to be processed before irradiation with energy rays, but the adhesive strength decreases after irradiation with energy rays. To do. Therefore, the processed product can be easily separated from the adhesive sheet (II).

粘着剤組成物中の(B)成分の含有量は、粘着剤組成物の全量(100質量%)に対して、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、また、好ましくは99.9質量%以下、より好ましくは99.0質量%以下、更に好ましくは98.0質量%以下である。 The content of the component (B) in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the pressure-sensitive adhesive composition. % Or more, preferably 99.9% by mass or less, more preferably 99.0% by mass or less, still more preferably 98.0% by mass or less.

粘着剤層(X2)の厚さは、良好な粘着力を有し、バンプ等を有する半導体ウエハ等のように、表面の凹凸差が大きい加工対象物に対する追従性の良好なものとする観点から、好ましくは1〜100μm、より好ましくは1〜75μm、更に好ましくは1〜50μmである。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is such that it has good adhesive strength and has good followability to a work object having a large difference in surface irregularities such as a semiconductor wafer having bumps and the like. It is preferably 1 to 100 μm, more preferably 1 to 75 μm, and further preferably 1 to 50 μm.

また、粘着剤層(X2)を形成する材料である粘着剤組成物が、エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(B)等のエネルギー線硬化型の粘着性樹脂を含む場合、更に架橋剤や光重合開始剤を含有することが好ましい。
架橋剤としては、上述のアクリル系樹脂に配合されるものと同様のものが挙げられ、含有量の範囲も上述のとおりであるが、粘着剤層(X2)のゲル分率を高めて、加工品を分離した際に当該加工品に糊残りが生じるのを抑制する観点から、官能基を有する粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.5〜15質量部、更に好ましくは1.0〜10質量部である。
光重合開始剤としては、上述の無溶剤型樹脂組成物(y1)に配合されるものと同様のものが挙げられ、含有量の範囲も上述のとおりである。
また、これら以外の他の添加剤を含有してもよい。
以下、粘着剤組成物中に含まれるエネルギー線硬化性のアクリル系重合体(B)について説明する。
Further, when the pressure-sensitive adhesive composition, which is a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer (X2), contains an energy ray-curable adhesive resin such as an energy ray-curable acrylic polymer (B), a cross-linking agent or a cross-linking agent or It preferably contains a photopolymerization initiator.
Examples of the cross-linking agent include the same as those blended in the acrylic resin described above, and the content range is as described above, but the adhesive layer (X2) is processed by increasing the gel content. From the viewpoint of suppressing the formation of adhesive residue on the processed product when the product is separated, it is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the adhesive resin having a functional group. It is 5 to 15 parts by mass, more preferably 1.0 to 10 parts by mass.
Examples of the photopolymerization initiator include the same as those blended in the solvent-free resin composition (y1) described above, and the range of the content is also as described above.
Moreover, you may contain other additives other than these.
Hereinafter, the energy ray-curable acrylic polymer (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition will be described.

((B)成分:エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(B))
本発明の一態様において用いられるエネルギー線硬化性のアクリル系重合体(B)は、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体の側鎖及び/又は主鎖に重合性官能基が導入されたアクリル系共重合体である。
非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体は、例えば、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有するアクリル系重合体、環状構造を有する(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有するアクリル系重合体等が挙げられる。
重合性官能基は、上述のとおりであるが、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体への導入の容易性の観点から、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
(Component (B): Energy ray-curable acrylic polymer (B))
The energy ray-curable acrylic polymer (B) used in one embodiment of the present invention is an acrylic in which a polymerizable functional group is introduced into the side chain and / or the main chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer. It is a system copolymer.
The non-energy ray-curable acrylic polymer may be, for example, an acrylic polymer having a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group, or a (meth) acrylate having a cyclic structure. Examples thereof include acrylic polymers having a structural unit from which they are derived.
The polymerizable functional group is as described above, but a (meth) acryloyl group is preferable from the viewpoint of ease of introduction into a non-energy ray-curable acrylic polymer.

(B)成分の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは10万〜150万、より好ましくは20万〜120万、より好ましくは25万〜100万、更に好ましくは30万〜90万、より更に好ましくは35万〜80万である。 The mass average molecular weight (Mw) of the component (B) is preferably 100,000 to 1,500,000, more preferably 200,000 to 1,200,000, more preferably 250,000 to 1,000,000, still more preferably 300,000 to 900,000, and even more. It is preferably 350,000 to 800,000.

(B)成分としては、エネルギー線の照射によって、粘着力が効果的に低下し得る粘着シートとする観点から、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート(b1’)(以下、「モノマー(b1’)」ともいう)に由来する構成単位(b1)及び官能基含有モノマー(b2’)(以下、「モノマー(b2’)」ともいう)に由来する構成単位(b2)を有するアクリル系共重合体(B0)と、重合性化合物(Xb)とを反応させて得られるエネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(B1)を含むことが好ましく、エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(B1)であることがより好ましい。
なお、アクリル系共重合体(B0)、(B1)の共重合の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
The component (B) is an alkyl (meth) acrylate (b1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter, from the viewpoint of forming a pressure-sensitive adhesive sheet whose adhesive strength can be effectively reduced by irradiation with energy rays). , A structural unit (b1) derived from a "monomer (b1')") and a functional unit (b2') derived from a functional group-containing monomer (b2') (hereinafter, also referred to as "monomer (b2')"). It is preferable to contain an energy ray-curable acrylic copolymer (B1) obtained by reacting the acrylic copolymer (B0) having the polymer with the polymerizable compound (Xb), and the energy ray-curable acrylic copolymer. It is more preferably a copolymer (B1).
The form of copolymerization of the acrylic copolymers (B0) and (B1) is not particularly limited, and may be any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

アクリル系共重合体(B1)の含有量は、粘着剤組成物中に含まれる(B)成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは70〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%、更に好ましくは90〜100質量%、より更に好ましくは100質量%である。 The content of the acrylic copolymer (B1) is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% with respect to the total amount (100% by mass) of the component (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition. It is by mass, more preferably 90 to 100% by mass, and even more preferably 100% by mass.

モノマー(b1’)が有するアルキル基の炭素数としては、好ましくは1〜18、より好ましくは1〜12、更に好ましくは1〜8、より更に好ましくは1〜6である。
モノマー(b1’)としては、上述のモノマー(a1’)として例示したものが挙げられるが、ブチル(メタ)アクリレート、又は2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましく、ブチル(メタ)アクリレートがより好ましい。
The number of carbon atoms of the alkyl group contained in the monomer (b1') is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 6.
Examples of the monomer (b1') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a1'), but butyl (meth) acrylate or 2-ethylhexyl (meth) acrylate is preferable, and butyl (meth) acrylate is more preferable.

アクリル系共重合体(B0)における、構成単位(b1)の含有量は、形成される粘着剤層の粘着力を向上させる観点から、アクリル系共重合体(B0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは50〜99.5質量%、より好ましくは60〜99質量%、更に好ましくは70〜98質量%、より更に好ましくは80〜96質量%である。 The content of the structural unit (b1) in the acrylic copolymer (B0) is the total structural unit (100 mass) of the acrylic copolymer (B0) from the viewpoint of improving the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer to be formed. %), It is preferably 50 to 99.5% by mass, more preferably 60 to 99% by mass, still more preferably 70 to 98% by mass, and even more preferably 80 to 96% by mass.

モノマー(b2’)としては、上述のモノマー(a2’)として例示したものが挙げられるが、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、及びエポキシ基含有モノマーから選ばれる1種以上が好ましく、水酸基含有モノマーがより好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが更に好ましい。 Examples of the monomer (b2') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a2'), but one or more selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer is preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is preferable. Is more preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is further preferable.

アクリル系共重合体(B0)における、構成単位(b2)の含有量は、アクリル系共重合体(B0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0.5〜40質量%、より好ましくは1〜30質量%、更に好ましくは2〜25質量%、より更に好ましくは3〜15質量%である。
構成単位(b2)の含有量が0.5質量%以上であれば、重合性化合物(Xb)との反応点となる官能基を有する構成単位(b2)の含有量を十分に確保でき、エネルギー線の照射により、硬化性の高い粘着剤層(X2)を形成することができるため、粘着剤層(X2)から切削物及び/又は研削物を剥離する際に、切削物及び/又は研削物への粘着剤層(X2)の残渣の発生を防止しながら、剥離することができる。
また、構成単位(b2)の含有量が40質量%以下であれば、粘着剤組成物の溶液を塗布し、粘着剤層(X2)を形成する際に、十分なポットライフを確保することができる。
なお、重合性化合物(Xb)とは、アクリル系共重合体(B0)の構成単位(b2)中の官能基と結合可能な置換基(以下、「反応性官能基」ともいう)と重合性官能基とを有する化合物を意味している。
The content of the structural unit (b2) in the acrylic copolymer (B0) is preferably 0.5 to 40% by mass with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (B0). , More preferably 1 to 30% by mass, still more preferably 2 to 25% by mass, and even more preferably 3 to 15% by mass.
When the content of the structural unit (b2) is 0.5% by mass or more, the content of the structural unit (b2) having a functional group serving as a reaction point with the polymerizable compound (Xb) can be sufficiently secured, and the energy can be sufficiently secured. Since a highly curable pressure-sensitive adhesive layer (X2) can be formed by irradiating with a line, the cut material and / or the ground product is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer (X2). It can be peeled off while preventing the generation of the residue of the adhesive layer (X2) on the surface.
Further, when the content of the structural unit (b2) is 40% by mass or less, a sufficient pot life can be secured when the solution of the pressure-sensitive adhesive composition is applied to form the pressure-sensitive adhesive layer (X2). it can.
The polymerizable compound (Xb) is polymerizable with a substituent (hereinafter, also referred to as “reactive functional group”) capable of binding to a functional group in the structural unit (b2) of the acrylic copolymer (B0). It means a compound having a functional group.

アクリル系共重合体(B0)は、上記モノマー(b1’)及び(b2’)以外の他のモノマー(b3’)に由来する構成単位(b3)を有していてもよい。
その他のモノマー(b3’)としては、上述のモノマー(a3’)として例示したものが挙げられる。
The acrylic copolymer (B0) may have a structural unit (b3) derived from a monomer (b3') other than the above-mentioned monomers (b1') and (b2').
Examples of the other monomer (b3') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a3').

アクリル系共重合体(B0)における、構成単位(b3)の含有量は、アクリル系共重合体(B0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0〜20質量%、より好ましくは0〜10質量%、更に好ましくは0〜5質量%、より更に好ましくは0〜1質量%である。
なお、上述のモノマー(b1’)〜(b3’)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
The content of the structural unit (b3) in the acrylic copolymer (B0) is preferably 0 to 20% by mass, based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (B0). It is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, and even more preferably 0 to 1% by mass.
The above-mentioned monomers (b1') to (b3') may be used alone or in combination of two or more.

エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(B1)は、上述の構成単位(b1)及び(b2)を有するアクリル系共重合体(B0)と、重合性化合物(Xb)を反応させることにより得られる。
重合性化合物(Xb)としては、上述の重合性化合物(Xa)として例示したものが挙げられるが、これらの中でも、反応性官能基を有するとともに、重合性官能基を1分子あたり1〜5個有する化合物であることが好ましい。
上記反応性置換基としては、例えば、イソシアネート基、カルボキシル基、エポキシ基等が挙げられ、イソシアネート基が好ましい。
上記重合性官能基としては、上述のとおり、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられ、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
具体的な重合性化合物(Xb)としては、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましい。
なお、重合性化合物(Xb)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The energy ray-curable acrylic copolymer (B1) is obtained by reacting the acrylic copolymer (B0) having the above-mentioned structural units (b1) and (b2) with the polymerizable compound (Xb). Be done.
Examples of the polymerizable compound (Xb) include those exemplified as the above-mentioned polymerizable compound (Xa). Among these, the polymerizable compound (Xb) has a reactive functional group and 1 to 5 polymerizable functional groups per molecule. It is preferably a compound having.
Examples of the reactive substituent include an isocyanate group, a carboxyl group, an epoxy group and the like, and an isocyanate group is preferable.
As described above, examples of the polymerizable functional group include a (meth) acryloyl group, a vinyl group and the like, and a (meth) acryloyl group is preferable.
As the specific polymerizable compound (Xb), (meth) acryloyloxyethyl isocyanate is preferable.
The polymerizable compound (Xb) may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系共重合体(B1)において、アクリル系共重合体(B0)が有する官能基数と重合性化合物(Xb)の配合量の関係について、エネルギー線照射前は適度な粘着力を有しつつも、エネルギー線照射後には、粘着力が効果的に低下し得る粘着シートを得る観点から、下記式(1)より算出されるαの値が、好ましくは0.5〜50、より好ましくは1.0〜40、更に好ましくは1.2〜35、より更に好ましくは1.5〜30である。
なお、上記αの値は、アクリル系共重合体(B1)が有する重合性官能基数に相当するものである。
式(1):α=〔P〕×〔Q〕×〔R〕/100
(式(1)中、〔P〕は、アクリル系共重合体(B0)の全構成単位100質量部に対する構成単位(b2)の含有量を示す。〔Q〕は、アクリル系共重合体(B0)が有する当該官能基含有モノマー由来の官能基100当量に対する、重合性化合物(Xb)の当量を示す。〔R〕は、重合性化合物(Xb)が有する重合性官能基数を示す。)
Regarding the relationship between the number of functional groups of the acrylic copolymer (B0) and the blending amount of the polymerizable compound (Xb) in the acrylic copolymer (B1), the acrylic copolymer (B1) has an appropriate adhesive strength before irradiation with energy rays. From the viewpoint of obtaining an adhesive sheet whose adhesive strength can be effectively reduced after irradiation with energy rays, the value of α calculated from the following formula (1) is preferably 0.5 to 50, more preferably 1. It is 0 to 40, more preferably 1.2 to 35, and even more preferably 1.5 to 30.
The value of α corresponds to the number of polymerizable functional groups of the acrylic copolymer (B1).
Equation (1): α = [P B] × [Q B] × [R B] / 100
(In the formula (1), [P B ] indicates the content of the structural unit (b2) with respect to 100 parts by mass of all the structural units of the acrylic copolymer (B0). [Q B ] is the acrylic copolymer weight. for functional group 100 equivalents from the functional group-containing monomer polymer of (B0) has,. shows the equivalent weight of the polymerizable compound (Xb) [R B] shows the polymerizable functional groups of the polymerizable compound (Xb) has .)

<中間層(Z2)>
本発明の一態様において、中間層(Z2)は、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(C)及びエネルギー線硬化性のアクリル系重合体(D)を含む中間層形成用組成物(z2)から形成される。
中間層(Z2)を設けることで、バンプを有する半導体ウエハ等のように表面凹凸が大きい加工対象物に対する追従性に優れた粘着シート(II)となる。したがって、当該粘着シート(II)を貼付した加工対象物に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を行う際に、加工対象物の破損を抑えるとともに、切削屑、研削屑、切削水、及び研削水等が、加工対象物の粘着シート(II)との貼付面に浸入するのを防止することができる。
なお、中間層(Z2)は、粘着性を有していてもよいし、粘着性を有していなくてもよい。
<Intermediate layer (Z2)>
In one aspect of the present invention, the intermediate layer (Z2) is a composition for forming an intermediate layer (z2) containing a non-energy ray-curable acrylic polymer (C) and an energy ray-curable acrylic polymer (D). ) Is formed from.
By providing the intermediate layer (Z2), the pressure-sensitive adhesive sheet (II) has excellent followability to a work object having large surface irregularities such as a semiconductor wafer having bumps. Therefore, when at least one of cutting and grinding is performed on the work object to which the adhesive sheet (II) is attached, damage to the work object is suppressed, and cutting chips, grinding chips, cutting water, and cutting water are suppressed. It is possible to prevent the grinding water or the like from entering the surface to be attached to the adhesive sheet (II) of the object to be processed.
The intermediate layer (Z2) may or may not have adhesiveness.

中間層(Z2)の厚さは、加工対象物の凹凸の程度、例えば加工対象物が半導体ウエハや半導体チップである場合には、当該半導体ウエハや半導体チップが有するバンプの高さにより適宜選択されるが、好ましくは10〜800μm、より好ましくは15〜600μm、更に好ましくは20〜400μmである。
中間層(Z2)の厚さが10μm以上であれば、凹凸差が大きい加工対象物に対する追従性を良好とすることができる。一方、中間層の厚さが800μm以下であれば、粘着シート(II)の変形を抑制しやすい。
The thickness of the intermediate layer (Z2) is appropriately selected depending on the degree of unevenness of the object to be processed, for example, when the object to be processed is a semiconductor wafer or a semiconductor chip, the height of the bumps of the semiconductor wafer or the semiconductor chip. However, it is preferably 10 to 800 μm, more preferably 15 to 600 μm, and even more preferably 20 to 400 μm.
When the thickness of the intermediate layer (Z2) is 10 μm or more, it is possible to improve the followability to a work object having a large difference in unevenness. On the other hand, when the thickness of the intermediate layer is 800 μm or less, it is easy to suppress the deformation of the adhesive sheet (II).

中間層(Z2)を形成する材料である中間層形成層組成物(z2)は、エネルギー線照射後における粘着シート(II)の中間層(Z2)と粘着剤層(X2)との密着性を良好なものとして、切削物及び/又は研削物を粘着シート(II)から剥離する際に、粘着剤層(X2)の破断や切削物及び/又は研削物表面への粘着剤層(X2)の残渣の発生を抑制する観点から、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(C)(以下、「アクリル系重合体(C)」又は「(C)成分」ともいう)と、及び質量平均分子量が5万〜25万のエネルギー線硬化性のアクリル系重合体(D)(以下、「アクリル系重合体(D)」又は「(D)成分」ともいう)とを含むことが好ましい。
また、エネルギー線照射後における中間層(Z2)と粘着剤層(X2)との密着性をより向上し得る観点から、中間層形成用組成物(z2)中の(D)成分の含有量は、(C)成分100質量部に対して、好ましくは25質量部以上、より好ましくは30質量部以上、更に好ましくは37質量部以上、より更に好ましくは40質量部以上である。
さらに、本発明の一態様において、粘着シート(II)の端部からの中間層(Z2)の一部の浸み出しを抑制する観点から、中間層形成用組成物(z2)中の(D)成分の含有量は、(C)成分100質量部に対して、好ましくは150質量部以下、より好ましくは140質量部以下、更に好ましくは130質量部以下である。
The intermediate layer forming layer composition (z2), which is a material for forming the intermediate layer (Z2), provides adhesion between the intermediate layer (Z2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays. As a good thing, when the cut object and / or the ground object is peeled off from the adhesive sheet (II), the adhesive layer (X2) is broken or the adhesive layer (X2) on the surface of the cut object and / or the ground object is formed. From the viewpoint of suppressing the generation of residues, a non-energy ray-curable acrylic polymer (C) (hereinafter, also referred to as "acrylic polymer (C)" or "component (C)") and mass average molecular weight. It is preferable to contain an energy ray-curable acrylic polymer (D) of 50,000 to 250,000 (hereinafter, also referred to as “acrylic polymer (D)” or “component (D)”).
Further, from the viewpoint of further improving the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays, the content of the component (D) in the intermediate layer forming composition (z2) is With respect to 100 parts by mass of the component (C), it is preferably 25 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, still more preferably 37 parts by mass or more, still more preferably 40 parts by mass or more.
Further, in one aspect of the present invention, (D) in the intermediate layer forming composition (z2) from the viewpoint of suppressing the exudation of a part of the intermediate layer (Z2) from the end portion of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). The content of the component () is preferably 150 parts by mass or less, more preferably 140 parts by mass or less, and further preferably 130 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the component (C).

中間層形成用組成物(z2)中の(C)成分及び(D)成分の合計含有量は、中間層形成用組成物(z2)の全量(100質量%)に対して、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、また、好ましくは99.9質量%以下、より好ましくは99.0質量%以下、更に好ましくは98.0質量%以下である。 The total content of the component (C) and the component (D) in the intermediate layer forming composition (z2) is preferably 70% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the intermediate layer forming composition (z2). % Or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and preferably 99.9% by mass or less, more preferably 99.0% by mass or less, still more preferably 98.0% by mass. It is as follows.

なお、中間層形成用組成物(z2)は、上記(C)成分、(D)成分の他に、更に光重合開始剤や架橋剤を含有することが好ましい。また、これら以外の他の添加剤を含有してもよい。
架橋剤としては、上述のアクリル系樹脂に配合されるものと同様のものが挙げられ、含有量の範囲も上述のとおりである。
光重合開始剤としては、上述の無溶剤型樹脂組成物(y1)に配合されるものと同様のものが挙げられ、含有量の範囲も上述のとおりである。
また、これら以外の他の添加剤を含有してもよい。
以下、中間層形成用組成物(z2)中に含まれる非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(C)及びエネルギー線硬化性のアクリル系重合体(D)について説明する。
The intermediate layer forming composition (z2) preferably further contains a photopolymerization initiator and a cross-linking agent in addition to the above components (C) and (D). Moreover, you may contain other additives other than these.
Examples of the cross-linking agent include those similar to those blended in the above-mentioned acrylic resin, and the range of the content is also as described above.
Examples of the photopolymerization initiator include the same as those blended in the solvent-free resin composition (y1) described above, and the range of the content is also as described above.
Moreover, you may contain other additives other than these.
Hereinafter, the non-energy ray-curable acrylic polymer (C) and the energy ray-curable acrylic polymer (D) contained in the intermediate layer forming composition (z2) will be described.

((C)成分:非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(C))
非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(C)としては、例えば、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有する重合体、環状構造を有する(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有する重合体等が挙げられる。
(Component (C): Non-energy ray-curable acrylic polymer (C))
Examples of the non-energy ray-curable acrylic polymer (C) include a polymer having a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group, and having a cyclic structure (meth). Examples thereof include polymers having a structural unit derived from acrylate.

(C)成分の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは30万〜150万、より好ましくは35万〜130万、より好ましくは40万〜120万、更に好ましくは40万〜110万、より更に好ましくは45万〜90万である。 The mass average molecular weight (Mw) of the component (C) is preferably 300,000 to 1,500,000, more preferably 350,000 to 1,300,000, more preferably 400,000 to 1,200,000, still more preferably 400,000 to 1,100,000. It is preferably 450,000 to 900,000.

(C)成分としては、(D)成分との相溶性の観点から、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート(c1’)(以下、「モノマー(c1’)」ともいう)に由来する構成単位(c1)及び官能基含有モノマー(c2’)(以下、「モノマー(c2’)」ともいう)に由来する構成単位(c2)を有するアクリル系共重合体(C1)を含むことが好ましく、アクリル系共重合体(C1)であることがより好ましい。
なお、アクリル系共重合体(C1)の共重合の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
The component (C) is an alkyl (meth) acrylate (c1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter, also referred to as "monomer (c1')" from the viewpoint of compatibility with the component (D). ) And an acrylic copolymer (C1) having a functional group-containing monomer (c2') (hereinafter, also referred to as "monomer (c2')"). It is preferably contained, and more preferably an acrylic copolymer (C1).
The form of copolymerization of the acrylic copolymer (C1) is not particularly limited, and may be any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

アクリル系共重合体(C1)の含有量は、中間層形成用組成物(z2)中に含まれる(C)成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは70〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%、更に好ましくは90〜100質量%、より更に好ましくは100質量%である。 The content of the acrylic copolymer (C1) is preferably 70 to 100% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the component (C) contained in the intermediate layer forming composition (z2). It is preferably 80 to 100% by mass, more preferably 90 to 100% by mass, and even more preferably 100% by mass.

モノマー(c1’)が有するアルキル基の炭素数としては、(D)成分との相溶性の観点から、より好ましくは4〜12、更に好ましくは4〜8、より更に好ましくは4〜6である。 The number of carbon atoms of the alkyl group contained in the monomer (c1') is more preferably 4 to 12, still more preferably 4 to 8, still more preferably 4 to 6, from the viewpoint of compatibility with the component (D). ..

モノマー(c1’)としては、上述したモノマー(a1’)と同様のものが挙げられる。
これらの中でも、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましく、ブチル(メタ)アクリレートがより好ましい。
Examples of the monomer (c1') include those similar to the above-mentioned monomer (a1').
Among these, butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferable, and butyl (meth) acrylate is more preferable.

アクリル系共重合体(C1)における、構成単位(c1)の含有量は、アクリル系共重合体(C1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは50〜99.5質量%、より好ましくは60〜99質量%、更に好ましくは70〜95質量%、より更に好ましくは80〜93質量%である。
構成単位(c1)の含有量が50質量%以上であれば、凹凸差が大きい加工対象物に対する追従性が良好な粘着シートとすることができるため好ましい。
また、構成単位(c1)の含有量が99.5質量%以下であれば、構成単位(c2)の含有量を十分に確保し、(D)成分との相溶性を良好とすることができるため好ましい。
The content of the structural unit (c1) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 50 to 99.5% by mass with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). , More preferably 60 to 99% by mass, still more preferably 70 to 95% by mass, and even more preferably 80 to 93% by mass.
When the content of the structural unit (c1) is 50% by mass or more, it is preferable because an adhesive sheet having a large unevenness difference and having good followability to a work object can be obtained.
Further, when the content of the structural unit (c1) is 99.5% by mass or less, the content of the structural unit (c2) can be sufficiently secured and the compatibility with the component (D) can be improved. Therefore, it is preferable.

また、アクリル系共重合体(C1)は、構成単位(c1)として、炭素数4以上(好ましくは4〜12、より好ましくは4〜8、更に好ましくは4〜6)のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位(c11)を有することが好ましい。
構成単位(c1)中の構成単位(c11)の含有比率は、アクリル系共重合体(C1)が有する構成単位(c1)の全量(100質量%)に対して、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは80質量%以上、より更に好ましくは85質量%以上であり、また、好ましくは100質量%以下である。
Further, the acrylic copolymer (C1) is an alkyl having an alkyl group having 4 or more carbon atoms (preferably 4 to 12, more preferably 4 to 8, still more preferably 4 to 6) as a constituent unit (c1). It is preferable to have a structural unit (c11) derived from (meth) acrylate.
The content ratio of the structural unit (c11) in the structural unit (c1) is preferably 60% by mass or more with respect to the total amount (100% by mass) of the structural unit (c1) contained in the acrylic copolymer (C1). It is more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, still more preferably 85% by mass or more, and preferably 100% by mass or less.

モノマー(c2’)が有する官能基としては、上述したモノマー(a2’)が有する官能基と同様のものが挙げられる。
具体的なモノマー(c2’)についても、上述したモノマー(a2’)と同様のものが挙げられる。
これらの中でも、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、及びエポキシ基含有モノマーから選ばれる1種以上が好ましく、カルボキシ基含有モノマーがより好ましい。
水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、及びエポキシ基含有モノマーの具体例についても、上述したモノマー(a2’)と同様である。
Examples of the functional group contained in the monomer (c2') include the same functional groups as those contained in the monomer (a2') described above.
As the specific monomer (c2'), the same monomer (a2') as described above can be mentioned.
Among these, one or more selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer are preferable, and a carboxy group-containing monomer is more preferable.
Specific examples of the hydroxyl group-containing monomer, the carboxy group-containing monomer, and the epoxy group-containing monomer are the same as those of the above-mentioned monomer (a2').

アクリル系共重合体(C1)における、構成単位(c2)の含有量は、アクリル系共重合体(C1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0.5〜50質量%、より好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは5〜30質量%、より更に好ましくは7〜20質量%である。
構成単位(c2)の含有量が0.5質量%以上であれば、(D)成分との相溶性を良好とすることができるため好ましい。
また、構成単位(c2)の含有量が50質量%以下であれば、凹凸差が大きい被着体に対する追従性が良好な粘着シートとすることができるため好ましい。
The content of the structural unit (c2) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 0.5 to 50% by mass with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). , More preferably 1 to 40% by mass, still more preferably 5 to 30% by mass, and even more preferably 7 to 20% by mass.
When the content of the structural unit (c2) is 0.5% by mass or more, the compatibility with the component (D) can be improved, which is preferable.
Further, when the content of the structural unit (c2) is 50% by mass or less, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive sheet has good followability to an adherend having a large difference in unevenness.

アクリル系共重合体(C1)は、上記モノマー(c1’)及び(c2’)以外の他のモノマー(c3’)に由来する構成単位(c3)を有していてもよい。
他のモノマー(c3’)としては、上述したモノマー(a3’)と同様のものが挙げられる。
The acrylic copolymer (C1) may have a structural unit (c3) derived from a monomer (c3') other than the above-mentioned monomers (c1') and (c2').
Examples of the other monomer (c3') include those similar to the above-mentioned monomer (a3').

アクリル系共重合体(C1)における、構成単位(c3)の含有量は、アクリル系共重合体(C1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜10質量%、より更に好ましくは0〜5質量%である。
なお、上述のモノマー(c1’)〜(c3’)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
The content of the structural unit (c3) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 0 to 30% by mass, based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). It is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, and even more preferably 0 to 5% by mass.
The above-mentioned monomers (c1') to (c3') may be used alone or in combination of two or more.

((D)成分:エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(D))
エネルギー線硬化性のアクリル系重合体(D)としては、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体に対して、重合性官能基が導入されたアクリル系重合体である。
なお、上記重合性官能基は、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体の主鎖及び/又は側鎖に導入される。
中間層に(D)成分を含有することで、エネルギー線を照射した際、(D)成分と粘着剤層(X2)中の(B)成分とが反応して結合して、粘着シート(II)の中間層(Z2)と粘着剤層(X2)との密着性が向上すると考えられる。また、粘着剤層(X2)と中間層(Z2)が固くなって、糊残りを抑制することができると考えられる。そのため、粘着シート(II)からの切削物及び/又は研削物の剥離時に粘着剤層(X2)の残着を抑制することができる。
(Component (D): Energy ray-curable acrylic polymer (D))
The energy ray-curable acrylic polymer (D) is an acrylic polymer in which a polymerizable functional group is introduced into a non-energy ray-curable acrylic polymer.
The polymerizable functional group is introduced into the main chain and / or side chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer.
By containing the component (D) in the intermediate layer, when the energy ray is irradiated, the component (D) and the component (B) in the pressure-sensitive adhesive layer (X2) react and bond with each other to form a pressure-sensitive adhesive sheet (II). ), It is considered that the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is improved. Further, it is considered that the pressure-sensitive adhesive layer (X2) and the intermediate layer (Z2) are hardened, and the adhesive residue can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the residual residue of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) when the cut product and / or the ground product is peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体としては、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有するアクリル系重合体や、環状構造を有する(メタ)アクリレートに由来する構成単位を有するアクリル系重合体等が挙げられる。 Examples of the non-energy ray-curable acrylic polymer include an acrylic polymer having a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group, and a (meth) acrylate having a cyclic structure. Examples thereof include acrylic polymers having a structural unit from which they are derived.

重合性官能基は、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合を含む基であればよく、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、エネルギー線重合基の導入が容易であるとの観点から、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
なお、当該エネルギー線重合性基は、アルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基等を介して、非エネルギー線硬化性のアクリル系重合体の主鎖又は側鎖と結合されていてもよい。
The polymerizable functional group may be a group containing an energy ray-polymerizable carbon-carbon double bond, and examples thereof include a (meth) acryloyl group and a vinyl group. However, it is easy to introduce an energy ray-polymerizing group. From the viewpoint of existence, a (meth) acryloyl group is preferable.
The energy ray-polymerizable group may be bonded to the main chain or side chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer via an alkylene group, an alkyleneoxy group, a polyalkyleneoxy group, or the like.

(D)成分の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは5万〜25万であり、より好ましくは6万〜22万、更に好ましくは7万〜20万、より更に好ましくは8万〜18万、更になお好ましくは8.5万〜15万である。
(D)成分のMwが5万未満であると、得られる粘着シートの経時安定性が劣りやすい。つまり、当該粘着シートを長期間保管した際、(D)成分の一部が粘着剤層内へ移行し、当該粘着シートの粘着力が不安定になると共に、エネルギー線照射後に、粘着剤層(X2)が過度に硬化しやすい。その結果、当該粘着シートは、長期間保管後に使用した場合、もしくは加工対象物貼付した状態で長期間放置した場合、エネルギー線照射後における中間層(Z2)と粘着剤層(X2)との密着性が不十分となるために、当該粘着シートを剥離する際に粘着剤層(X2)の破断や切削物及び/又は研削物に粘着剤層(X2)の残渣が付着する場合がある。
一方、(D)成分のMwが25万を超えると、エネルギー線照射後における中間層(Z2)と粘着剤層(X2)との密着性が劣りやすく、切削物・検索物を粘着シート(II)から剥離する際に、粘着剤層(X2)の破断や切削物及び/又は研削物に粘着剤層(X2)の残渣が付着する場合がある。
The mass average molecular weight (Mw) of the component (D) is preferably 50,000 to 250,000, more preferably 60,000 to 220,000, still more preferably 70,000 to 200,000, and even more preferably 80,000 to 180,000. Even more preferably, it is 85,000 to 150,000.
When the Mw of the component (D) is less than 50,000, the stability of the obtained adhesive sheet with time tends to be inferior. That is, when the pressure-sensitive adhesive sheet is stored for a long period of time, a part of the component (D) moves into the pressure-sensitive adhesive layer, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet becomes unstable, and after irradiation with energy rays, the pressure-sensitive adhesive layer ( X2) tends to cure excessively. As a result, when the adhesive sheet is used after long-term storage, or when it is left for a long period of time with the object to be processed attached, the intermediate layer (Z2) and the adhesive layer (X2) adhere to each other after irradiation with energy rays. Due to insufficient properties, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) may be broken when the pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off, or the residue of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) may adhere to the cut object and / or the ground product.
On the other hand, when the Mw of the component (D) exceeds 250,000, the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays tends to be inferior, and the cut object / searched object is a pressure-sensitive adhesive sheet (II). ), The adhesive layer (X2) may be broken or the residue of the adhesive layer (X2) may adhere to the cut object and / or the ground object.

(D)成分としては、経時安定性に優れた粘着シートとする観点、並びに、形成される中間層(Z2)と粘着剤層(X2)とのエネルギー線照射後における密着性を向上させた粘着シートとする観点から、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート(d1’)(以下、「モノマー(d1’)」ともいう)に由来する構成単位(d1)及び官能基含有モノマー(d2’)(以下、「モノマー(d2’)」ともいう)に由来する構成単位(d2)を有するアクリル系共重合体(D0)と、重合性化合物(Xd)とを反応させて得られるエネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(D1)を含むことが好ましく、エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(D1)であることがより好ましい。
なお、アクリル系共重合体(D0)、(D1)の共重合の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
As the component (D), from the viewpoint of forming an adhesive sheet having excellent stability over time, and adhesion with improved adhesion between the formed intermediate layer (Z2) and the adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays. From the viewpoint of making a sheet, it contains a structural unit (d1) and a functional group derived from an alkyl (meth) acrylate (d1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter, also referred to as "monomer (d1')"). Obtained by reacting an acrylic copolymer (D0) having a structural unit (d2) derived from a monomer (d2') (hereinafter, also referred to as "monomer (d2')") with a polymerizable compound (Xd). It is preferable to contain the energy ray-curable acrylic copolymer (D1) to be obtained, and more preferably the energy ray-curable acrylic copolymer (D1).
The form of copolymerization of the acrylic copolymers (D0) and (D1) is not particularly limited, and may be any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

アクリル系共重合体(D1)の含有量は、中間層形成用組成物(z2)中に含まれる(D)成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは70〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%、更に好ましくは90〜100質量%、より更に好ましくは100質量%である。 The content of the acrylic copolymer (D1) is preferably 70 to 100% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the component (D) contained in the intermediate layer forming composition (z2). It is preferably 80 to 100% by mass, more preferably 90 to 100% by mass, and even more preferably 100% by mass.

モノマー(d1’)が有するアルキル基の炭素数としては、より好ましくは4〜12、更に好ましくは4〜8、より更に好ましくは4〜6である。
モノマー(d1’)としては、上述のモノマー(a1’)として例示したものが挙げられる。
これらの中でも、ブチル(メタ)アクリレート又は2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましく、ブチル(メタ)アクリレートがより好ましい。
The number of carbon atoms of the alkyl group contained in the monomer (d1') is more preferably 4 to 12, still more preferably 4 to 8, and even more preferably 4 to 6.
Examples of the monomer (d1') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a1').
Among these, butyl (meth) acrylate or 2-ethylhexyl (meth) acrylate is preferable, and butyl (meth) acrylate is more preferable.

アクリル系共重合体(D0)における、構成単位(d1)の含有量は、アクリル系共重合体(D0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは50〜99質量%、より好ましくは55〜95質量%、更に好ましくは60〜90質量%、より更に好ましくは65〜85質量%である。
構成単位(d1)の含有量が50質量%以上であれば、形成される中間層(Z2)の形状を十分に維持することができるため好ましい。
また、構成単位(d1)の含有量が99質量%以下であれば、重合性化合物(Xd)との反応点となる官能基を有する構成単位(d2)の含有量を十分に確保でき、形成される中間層(Z2)と粘着剤層(X2)とのエネルギー線照射後の密着性を向上させることができるため好ましい。
The content of the structural unit (d1) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 50 to 99% by mass with respect to the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is preferably 55 to 95% by mass, more preferably 60 to 90% by mass, and even more preferably 65 to 85% by mass.
When the content of the structural unit (d1) is 50% by mass or more, the shape of the intermediate layer (Z2) to be formed can be sufficiently maintained, which is preferable.
Further, when the content of the structural unit (d1) is 99% by mass or less, the content of the structural unit (d2) having a functional group serving as a reaction point with the polymerizable compound (Xd) can be sufficiently secured and formed. It is preferable because the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays can be improved.

モノマー(d2’)としては、上述のモノマー(a2’)として例示したものが挙げられるが、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、及びエポキシ基含有モノマーから選ばれる1種以上が好ましく、水酸基含有モノマーがより好ましく、ヒドロキシアクリル(メタ)アクリレートが更に好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがより更に好ましい。 Examples of the monomer (d2') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a2'), but one or more selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer are preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is preferable. Is more preferable, hydroxyacrylic (meth) acrylate is further preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is even more preferable.

アクリル系共重合体(D0)における、構成単位(d2)の含有量は、アクリル系共重合体(D0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜45質量%、更に好ましくは10〜40質量%、より更に好ましくは15〜35量%である。
構成単位(d2)の含有量が1質量%以上であれば、形成される中間層(Z2)と粘着剤層(X2)とのエネルギー線照射後の密着性を向上させるために十分な重合性化合物(Xd)との反応点を確保できるため好ましい。
また、構成単位(d2)の含有量が50質量%以下であれば、形成される中間層(Z2)の形状を十分に維持することができるため好ましい。
The content of the structural unit (d2) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 50% by mass, based on the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is preferably 5 to 45% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and even more preferably 15 to 35% by mass.
When the content of the structural unit (d2) is 1% by mass or more, the polymerizability is sufficient to improve the adhesion between the formed intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays. It is preferable because a reaction point with the compound (Xd) can be secured.
Further, when the content of the structural unit (d2) is 50% by mass or less, the shape of the formed intermediate layer (Z2) can be sufficiently maintained, which is preferable.

アクリル系共重合体(D0)は、上記モノマー(d1’)及び(d2’)以外の他のモノマー(d3’)に由来する構成単位(b3)を有していてもよい。
他のモノマー(d3’)としては、上述のモノマー(a3’)として例示したものが挙げられる。
The acrylic copolymer (D0) may have a structural unit (b3) derived from a monomer (d3') other than the above-mentioned monomers (d1') and (d2').
Examples of the other monomer (d3') include those exemplified as the above-mentioned monomer (a3').

アクリル系共重合体(D0)における、構成単位(d3)の含有量は、アクリル系共重合体(D0)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜10質量%、より更に好ましくは0〜5質量%である。
なお、上述のモノマー(d1’)〜(d3’)は、単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
The content of the structural unit (d3) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 0 to 30% by mass, based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, and even more preferably 0 to 5% by mass.
The above-mentioned monomers (d1') to (d3') may be used alone or in combination of two or more.

エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体(D1)は、このアクリル系共重合体(D0)の構成単位(d2)中の官能基と、重合性化合物(Xd)とが反応し、重合性化合物(Xd)が有する重合性官能基が、アクリル系共重合体(D0)の主鎖及び側鎖の少なくとも一方に導入されたものである。 In the energy ray-curable acrylic copolymer (D1), the functional group in the structural unit (d2) of the acrylic copolymer (D0) reacts with the polymerizable compound (Xd) to form a polymerizable compound. The polymerizable functional group of (Xd) is introduced into at least one of the main chain and the side chain of the acrylic copolymer (D0).

重合性化合物(Xd)は、重合性官能基を有する化合物であって、反応性官能基を有する化合物であれば、特に制限されない。
なお、重合性化合物(Xd)の中でも、上記反応性置換基を有すると共に、重合性官能基を1分子あたり1〜5個有する化合物であることが好ましい。
上記反応性置換基としては、例えば、イソシアネート基、カルボキシル基、エポキシ基等が挙げられ、イソシアネート基が好ましい。
上記重合性官能基としては、上述のとおり、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられ、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The polymerizable compound (Xd) is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable functional group and has a reactive functional group.
Among the polymerizable compounds (Xd), it is preferable that the compound has the above-mentioned reactive substituents and 1 to 5 polymerizable functional groups per molecule.
Examples of the reactive substituent include an isocyanate group, a carboxyl group, an epoxy group and the like, and an isocyanate group is preferable.
As described above, examples of the polymerizable functional group include a (meth) acryloyl group, a vinyl group and the like, and a (meth) acryloyl group is preferable.

具体的な重合性化合物(Xd)としては、上述した重合性化合物(Xb)と同様の化合物が挙げられる。
重合性化合物(Xd)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、上記反応性置換基として好適なイソシアネート基を有しており、且つアクリル系共重合体(D0)とエネルギー線重合性基との距離が適当となる化合物であるとの観点から、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましい。
Specific examples of the polymerizable compound (Xd) include the same compounds as the above-mentioned polymerizable compound (Xb).
The polymerizable compound (Xd) may be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoint that the compound has an isocyanate group suitable as the reactive substituent and the distance between the acrylic copolymer (D0) and the energy ray-polymerizable group is appropriate, it is a compound. (Meta) acryloyloxyethyl isocyanate is preferred.

アクリル系共重合体(D1)において、アクリル系共重合体(D0)が有する官能基数と重合性化合物(Xd)の配合量の関係について、形成される中間層(Z2)と粘着剤層(X2)とのエネルギー線照射後の密着性を向上させる観点から、下記式(2)より算出されるβの値が、好ましくは1〜50、より好ましくは2〜40、更に好ましくは3〜35、より更に好ましくは5〜30である。
なお、上記βの値は、アクリル系共重合体(D1)が有するエネルギー線重合性基数に相当するものである。
式(2):β=〔P〕×〔Q〕×〔R〕/100
(式(2)中、〔P〕は、アクリル系共重合体(D0)の全構成単位100質量部に対する構成単位(d2)の含有量を示す。〔Q〕は、アクリル系共重合体(D0)が有する当該官能基含有モノマー由来の官能基100当量に対する、重合性化合物(Xd)の当量を示す。〔R〕は、重合性化合物(Xd)が有する重合性官能基数を示す。)
Regarding the relationship between the number of functional groups of the acrylic copolymer (D0) and the blending amount of the polymerizable compound (Xd) in the acrylic copolymer (D1), the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are formed. ), The value of β calculated from the following formula (2) is preferably 1 to 50, more preferably 2 to 40, still more preferably 3 to 35, from the viewpoint of improving the adhesion after irradiation with energy rays. Even more preferably, it is 5 to 30.
The value of β corresponds to the number of energy ray-polymerizable groups of the acrylic copolymer (D1).
Equation (2): β = [P d ] × [Q d ] × [R d ] / 100
(In the formula (2), [P d ] indicates the content of the structural unit (d2) with respect to 100 parts by mass of all the structural units of the acrylic copolymer (D0). [Q d ] is the acrylic common weight. The equivalent amount of the polymerizable compound (Xd) to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer of the coalescence (D0) is shown. [R d ] indicates the number of polymerizable functional groups of the polymerizable compound (Xd). .)

(中間層形成用組成物中に含まれる他の添加剤)
中間層形成用組成物(z2)には、本発明の効果を損なわない範囲において、他の添加剤を含有してもよい。
他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、充填剤、防錆剤、顔料、染料、粘着付与剤等が挙げられる。
これらの添加剤を含有する場合、それぞれの添加剤の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは0.01〜6質量部、より好ましくは0.01〜2質量部である。
(Other additives contained in the composition for forming an intermediate layer)
The intermediate layer forming composition (z2) may contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other additives include antioxidants, softeners (plasticizers), fillers, rust preventives, pigments, dyes, tackifiers and the like.
When these additives are contained, the content of each additive is preferably 0.01 to 6 parts by mass, more preferably 0.01 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). is there.

<剥離材>
本発明の一態様の粘着性積層体は、加工対象物と貼付する粘着剤層(X1)及び(X2)の表面に、さらに剥離材を積層してもよい。
剥離材としては、両面剥離処理をされた剥離シートや、片面剥離処理された剥離シート等が用いられ、剥離材用の基材上に剥離剤を塗布したもの等が挙げられる。
<Release material>
In the adhesive laminate of one aspect of the present invention, a release material may be further laminated on the surfaces of the pressure-sensitive adhesive layers (X1) and (X2) to be attached to the object to be processed.
Examples of the release material include a release sheet that has undergone double-sided release treatment, a release sheet that has undergone single-sided release treatment, and the like, in which a release agent is applied onto a base material for the release material.

剥離材用基材としては、例えば、上質紙、グラシン紙、クラフト紙等の紙類;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のオレフィン樹脂フィルム等のプラスチックフィルム;等が挙げられる。 Examples of the base material for the release material include papers such as high-quality paper, glassin paper, and kraft paper; polyester resin films such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene naphthalate resin, and olefins such as polypropylene resin and polyethylene resin. Plastic films such as resin films; etc. may be mentioned.

剥離剤としては、例えば、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。 Examples of the release agent include rubber-based elastomers such as silicone-based resins, olefin-based resins, isoprene-based resins, and butadiene-based resins, long-chain alkyl-based resins, alkyd-based resins, and fluorine-based resins.

剥離材の厚さは、特に制限ないが、好ましくは10〜200μm、より好ましくは25〜170μm、更に好ましくは35〜80μmである。 The thickness of the release material is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm, more preferably 25 to 170 μm, and even more preferably 35 to 80 μm.

<粘着シート(II)の物性>
本発明の一態様において、工程(4)における切削、研削をより行い易くする観点から、粘着シート(II)は、下記要件(α)〜(γ)の1以上を満たすことが好ましく、下記要件(α)〜(γ)のいずれか二つを満たすことがより好ましく、要件(α)〜(γ)の全てを満たすことが更に好ましい。
・要件(α):基材(Y2)のヤング率が1.0MPa以上である。
・要件(β):基材(Y2)の厚さが5μm以上である。
・要件(γ):粘着剤層(X2)の貯蔵弾性率G’(23℃)が0.10MPa以上である。
なお、工程(4)における切削、研削をさらに行い易くする観点から、要件(α)で規定される基材(Y2)のヤング率は1.0〜1000MPaであることが好ましく、1.5〜800MPaであることがより好ましく、2.0〜500MPaであることが更に好ましい。
また、工程(4)における切削、研削をさらに行い易くする観点から、要件(β)で規定される基材(Y2)の厚さは5〜250μmであることが好ましく、10〜230μmであることがより好ましく、20〜210μmであることが更に好ましい。
さらに、工程(4)における切削、研削をさらに行い易くする観点から、要件(γ)で規定される粘着剤層(X2)の貯蔵弾性率G’(23℃)は0.10〜1MPaであることが好ましく、0.12〜0.9MPaであることがより好ましく、0.14〜0.8MPaであることが更に好ましい。
<Physical characteristics of adhesive sheet (II)>
In one aspect of the present invention, the adhesive sheet (II) preferably satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ) from the viewpoint of facilitating cutting and grinding in the step (4), and the following requirements. It is more preferable to satisfy any two of (α) to (γ), and it is further preferable to satisfy all of the requirements (α) to (γ).
-Requirement (α): Young's modulus of the base material (Y2) is 1.0 MPa or more.
-Requirement (β): The thickness of the base material (Y2) is 5 μm or more.
-Requirement (γ): The storage elastic modulus G'(23 ° C.) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.10 MPa or more.
From the viewpoint of facilitating cutting and grinding in the step (4), the Young's modulus of the base material (Y2) defined by the requirement (α) is preferably 1.0 to 1000 MPa, preferably 1.5 to 1000 MPa. It is more preferably 800 MPa, and even more preferably 2.0 to 500 MPa.
Further, from the viewpoint of facilitating cutting and grinding in the step (4), the thickness of the base material (Y2) defined by the requirement (β) is preferably 5 to 250 μm, preferably 10 to 230 μm. Is more preferable, and 20 to 210 μm is even more preferable.
Further, from the viewpoint of facilitating cutting and grinding in the step (4), the storage elastic modulus G'(23 ° C.) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) defined by the requirement (γ) is 0.10 to 1 MPa. It is preferably 0.12 to 0.9 MPa, more preferably 0.14 to 0.8 MPa.

[加工品の製造方法の各工程]
次に、本発明の加工品の製造方法の各工程について詳細に説明する。
本発明の加工品の製造方法は、基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張開始温度(t)の熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造する方法であって、
下記工程(1)〜(3)をこの順で有し、
・工程(1):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付する工程
・工程(2):前記加工対象物に一以上の加工を施す工程
・工程(3):前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)以上での加熱によって、前記加工対象物を前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に貼付した状態を維持しながら、前記粘着性積層体を粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する工程
さらに、下記工程(4)を有し、
・工程(4):前記加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの処理を実施する工程
前記工程(4)は、下記(X)及び(Y)の少なくともいずれかにおいて実施される。
(X):前記一以上の加工として前記工程(2)において実施される
(Y):前記工程(3)の後において実施される
[Each process of manufacturing method of processed products]
Next, each step of the method for producing a processed product of the present invention will be described in detail.
The method for producing a processed product of the present invention has a base material (Y1) and an adhesive layer (X1), and one of the layers contains thermally expandable particles having a thermal expansion start temperature (t). The sheet (I) and the pressure-sensitive adhesive sheet (II) having the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are provided, and the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. It is a method of manufacturing a processed product which has been subjected to at least one of cutting and grinding using the adhesive laminate.
The following steps (1) to (3) are performed in this order.
Step (1): A step of attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and attaching the object to be processed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. -Step (2): A step of performing one or more processing on the processing object-Step (3): By heating the heat-expandable particles at a thermal expansion start temperature (t) or higher, the processing object is adhered to the adhesive. The adhesive laminate is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) while maintaining the state of being attached to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Steps to be performed Further, it has the following step (4).
Step (4): A step of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached. It is carried out in at least one of the following (X) and (Y).
(X): Performed in the step (2) as the one or more processes (Y): Performed after the step (3)

本発明の製造方法では、上述の粘着性積層体を用いる。具体的には、粘着性積層体の粘着シート(I)の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、粘着性積層体の粘着シート(II)の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付して用いる。したがって、加工対象物を支持体に固定した状態で所定の加工を実施することができる。しかも、当該所定の加工を実施した後は、当該所定の加工を施した加工対象物が貼付されている粘着シート(II)を、わずかな力で粘着シート(I)から一括して容易に分離することができる。つまり、当該所定の加工を施した加工対象物が貼付されている粘着シート(II)を支持体から容易に分離することができる。したがって、当該所定の加工を施した加工対象物を新たな粘着シートに貼付することなく、次工程に供することができる。
以下、本発明の製造方法の各工程について、図4及び図5を適宜参照しながら説明する。
In the production method of the present invention, the above-mentioned adhesive laminate is used. Specifically, the surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate is attached to the support, and the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II) of the adhesive laminate is attached. It is used by sticking the object to be processed on the surface. Therefore, a predetermined process can be performed with the object to be processed fixed to the support. Moreover, after the predetermined processing is performed, the adhesive sheet (II) to which the processed object to which the predetermined processing has been applied is attached can be easily separated from the adhesive sheet (I) at once with a slight force. can do. That is, the pressure-sensitive adhesive sheet (II) to which the processed object subjected to the predetermined processing is attached can be easily separated from the support. Therefore, the processed object that has undergone the predetermined processing can be used in the next step without being attached to a new pressure-sensitive adhesive sheet.
Hereinafter, each step of the production method of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5 as appropriate.

<工程(1)>
図4(a)及び図5(a)は、粘着性積層体を介して、支持体に加工対象物を貼付した状態を示す、断面模式図である。
工程(1)では、図4(a)及び図5(a)に示すように、上記第一態様の粘着性積層体1aを介して、支持体50に加工対象物60、70を貼付し、前記支持体、前記粘着性積層体、及び前記加工対象物をこの順で積層する。
なお、図4及び図5においては、図1(a)に示す粘着性積層体1aを用いた例を示しているが、他の構成を有する本発明の粘着性積層体を用いる場合においても、同様に、前記支持体、前記粘着性積層体、及び前記加工対象物をこの順で積層する。
<Process (1)>
4 (a) and 5 (a) are schematic cross-sectional views showing a state in which the object to be processed is attached to the support via the adhesive laminate.
In the step (1), as shown in FIGS. 4 (a) and 5 (a), the objects to be processed 60 and 70 are attached to the support 50 via the adhesive laminate 1a of the first aspect. The support, the adhesive laminate, and the object to be processed are laminated in this order.
Although FIGS. 4 and 5 show an example in which the adhesive laminate 1a shown in FIG. 1A is used, the adhesive laminate of the present invention having another configuration is also used. Similarly, the support, the adhesive laminate, and the object to be processed are laminated in this order.

図4(a)及び図5(a)に示すように、工程(1)において、前記粘着性積層体が有する粘着シート(II)の粘着剤層(X2)に加工対象物60、70を貼付し、前記粘着性積層体が有する粘着シート(I)の粘着剤層(X1)と支持体50とを貼付する。 As shown in FIGS. 4 (a) and 5 (a), in the step (1), the objects to be processed 60 and 70 are attached to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) contained in the pressure-sensitive adhesive laminate. Then, the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the support 50 of the pressure-sensitive adhesive laminate are attached.

なお、粘着性積層体に貼付される加工対象物としては、例えば、半導体チップ、半導体ウエハ、化合物半導体、半導体パッケージ、電子部品、サファイア基板、ディスプレイ、パネル用基板等が挙げられる。
また、加工対象物は、表面に切り込み溝が形成された半導体ウエハ等であってもよく、当該切り込み溝の形成面側を粘着シート(II)の粘着剤層(X2)と貼り合せてもよい。また、加工対象物は、レーザー光照射により内部に予め改質領域が形成された半導体ウエハ等であってもよい。これらの場合、工程(4)において研削を行うことで、切り込み溝又は改質領域が分割起点となり、加工対象物を分割することができる。
すなわち、加工対象物が、表面に切り込み溝が形成された半導体ウエハである場合、本発明の一態様の製造方法は、工程(1)が下記工程(1−C)であり、前記工程(4)が下記工程(4−C)である。
・工程(1−C):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に前記半導体ウエハの切り込み溝を有する面を貼付する工程
・工程(4−C):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
また、加工対象物が、分割起点となる改質領域を有する半導体ウエハである場合、本発明の一態様の製造方法は、工程(4)が下記工程(4−A)である。
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
Examples of the object to be processed to be attached to the adhesive laminate include semiconductor chips, semiconductor wafers, compound semiconductors, semiconductor packages, electronic components, sapphire substrates, displays, and panel substrates.
Further, the object to be processed may be a semiconductor wafer or the like having a notch groove formed on the surface, and the surface side on which the notch groove is formed may be bonded to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). .. Further, the object to be processed may be a semiconductor wafer or the like in which a modified region is formed in advance by irradiation with laser light. In these cases, by performing grinding in step (4), the cutting groove or the modified region becomes the division starting point, and the object to be processed can be divided.
That is, when the object to be processed is a semiconductor wafer in which a notch groove is formed on the surface, the manufacturing method of one aspect of the present invention comprises the following step (1-C) in step (1) and said step (4). ) Is the following step (4-C).
Step (1-C): The surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is attached to the support, and the semiconductor wafer is cut into the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Step / Step (4-C) of attaching the grooved surface: A process of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the attachment surface with the pressure-sensitive adhesive layer (X2). In the case of a semiconductor wafer having a modified region serving as a division starting point, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer on the side opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached.

前記支持体は、工程(2)において加工対象物を固定し、加工の精度を高めるために用いられる。
前記支持体は、粘着性積層体の粘着剤層(X1)の粘着表面の全面に貼付されることが好ましい。
したがって、支持体は、板状であることが好ましい。また、図4及び図5に示すように、粘着剤層(X1)の粘着表面122aと貼付される側の支持体50の表面の面積は、粘着剤層(X1)の粘着表面122aの面積以上であることが好ましい。
The support is used in step (2) to fix the object to be processed and improve the accuracy of processing.
The support is preferably attached to the entire surface of the adhesive surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate.
Therefore, the support is preferably plate-shaped. Further, as shown in FIGS. 4 and 5, the area of the adhesive surface 122a of the adhesive layer (X1) and the surface of the support 50 on the side to be attached is equal to or larger than the area of the adhesive surface 122a of the adhesive layer (X1). Is preferable.

前記支持体を構成する材質としては、加工対象物の種類や、工程(2)で施される加工に応じて、機械強度や耐熱性等の要求される特性を考慮の上、適宜選択される。
具体的な支持体を構成する材質としては、例えば、SUS等の金属材料;ガラス、シリコンウエハ等の非金属無機材料;エポキシ樹脂、ABS樹脂、アクリル樹脂、エンジニアリングプラスチック、スーパーエンジニアリングプラスチック、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の樹脂材料;ガラスエポキシ樹脂等の複合材料等が挙げられ、これらの中でも、SUS、ガラス、及びシリコンウエハ等が好ましい。
なお、エンジニアリングプラスチックとしては、ナイロン、ポリカーボネート(PC)、及びポリエチレンテレフタレート(PET)等が挙げられる。
スーパーエンジニアリングプラスチックとしては、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリエーテルサルフォン(PES)、及びポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等が挙げられる。
The material constituting the support is appropriately selected in consideration of required characteristics such as mechanical strength and heat resistance according to the type of the object to be processed and the processing performed in the process (2). ..
Specific materials constituting the support include metal materials such as SUS; non-metallic inorganic materials such as glass and silicon wafers; epoxy resins, ABS resins, acrylic resins, engineering plastics, super engineering plastics, and polyimide resins. Resin materials such as polyamideimide resin; composite materials such as glass epoxy resin are mentioned, and among these, SUS, glass, silicon wafer and the like are preferable.
Examples of engineering plastics include nylon, polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), and the like.
Examples of super engineering plastics include polyphenylene sulfide (PPS), polyethersulfone (PES), and polyetheretherketone (PEEK).

支持体の厚さは、要求される特性等を考慮して適宜選択されるが、好ましくは20μm以上50mm以下であり、より好ましくは60μm以上20mm以下である。 The thickness of the support is appropriately selected in consideration of required characteristics and the like, but is preferably 20 μm or more and 50 mm or less, and more preferably 60 μm or more and 20 mm or less.

工程(1)における温度条件としては、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)未満であればよい。 The temperature condition in the step (1) may be less than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles.

<工程(2)>
工程(2)では、工程(1)で本発明の粘着性積層体の粘着剤層(X2)に貼付した前記加工対象物に対して、一以上の加工を施す。
工程(2)で施す加工処理としては、例えば、加工対象物に対する樹脂を用いた封止処理、加工対象物に分割起点となる改質領域を形成する処理、回路形成処理、エッチング処理、めっき処理、スパッタリング処理、蒸着処理、保護膜形成処理、別途用意した粘着シートを用いたラミネート処理等が挙げられる。
また、工程(2)で施す加工処理は、加工対象物に対する切削及び研削の少なくともいずれかの加工処理であってもよい。
すなわち、工程(2)で施す加工処理は、加工対象物を切削する工程及び研削する工程の少なくともいずれかの工程を含む加工であってもよいし、加工対象物を切削する工程及び研削する工程を含まない加工であってもよい。
工程(2)における温度条件も、工程(1)と同様、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)未満であればよい。
以下、工程(2)として、加工対象物に分割起点となる改質領域を形成する処理(工程(2−A))を行う場合、加工対象物に対する樹脂を用いた封止処理(工程(2−B))を行う場合を例に挙げて説明する。
<Process (2)>
In the step (2), one or more processes are performed on the object to be processed, which is attached to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate of the present invention in the step (1).
The processing performed in the step (2) includes, for example, a sealing process using a resin on the processing target, a processing of forming a modified region as a division starting point on the processing target, a circuit forming process, an etching process, and a plating process. , Sputtering treatment, vapor deposition treatment, protective film forming treatment, laminating treatment using a separately prepared adhesive sheet, and the like.
Further, the processing performed in the step (2) may be at least one of cutting and grinding of the object to be processed.
That is, the processing performed in the step (2) may be a process including at least one of a step of cutting the object to be processed and a process of grinding, or a step of cutting the object to be processed and a step of grinding. It may be a process that does not include.
The temperature condition in the step (2) may be less than the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles as in the step (1).
Hereinafter, as step (2), when a process (step (2-A)) of forming a modified region serving as a division starting point is performed on the object to be processed, a sealing process (step (2)) using a resin is applied to the object to be processed. -B)) will be described as an example.

(工程(2−A))
工程(2−A)は、加工対象物が半導体ウエハであり、当該半導体ウエハに、分割起点となる改質領域を形成する工程である。
具体的には、図4(b)に示すように、半導体ウエハの粘着シート(II)との貼付面とは反対側の面をレーザー光入射面とし、レーザー光の集光点が半導体ウエハの内部になるようにレーザー光を照射することにより多光子吸収等による改質領域71を形成する。改質領域71は、工程(4)において研削を行うことで半導体ウエハの分割起点として機能する。
なお、図4に示す製造例では、工程(3)の後に工程(4)を実施するようにしているが、工程(2−A)の後に、工程(2)における一以上の加工の一つとして工程(4)の研削を実施するようにしてもよい。この場合、個片化された半導体ウエハを粘着シート(II)から分離することなく、個片化された半導体ウエハを粘着シート(II)に貼付したままの状態で次工程に供することができる。
すなわち、本発明の一態様の製造方法は、加工対象物が半導体ウエハであり、工程(2)における一以上の加工が、下記工程(2−A)を含み、
・工程(2−A):前記半導体ウエハに、分割起点となる改質領域を形成する工程
工程(4)が、下記工程(4−A)であり、
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
工程(4−A)は、下記(X−A)又は(Y−A)において実施される。
(X−A):一以上の加工として工程(2―A)の後に実施される
(Y−A):工程(3)の後に実施される
(Step (2-A))
The step (2-A) is a step in which the object to be processed is a semiconductor wafer and a modified region serving as a division starting point is formed on the semiconductor wafer.
Specifically, as shown in FIG. 4B, the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the adhesive sheet (II) is attached is the laser light incident surface, and the laser light condensing point is the semiconductor wafer. By irradiating the laser beam so as to be inside, the modified region 71 by multiphoton absorption or the like is formed. The modified region 71 functions as a division starting point of the semiconductor wafer by performing grinding in the step (4).
In the production example shown in FIG. 4, the step (4) is performed after the step (3), but one of the one or more processes in the step (2) after the step (2-A). The grinding of the step (4) may be carried out. In this case, the fragmented semiconductor wafer can be used in the next step in a state of being attached to the pressure-sensitive adhesive sheet (II) without separating the fragmented semiconductor wafer from the pressure-sensitive adhesive sheet (II).
That is, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the object to be processed is a semiconductor wafer, and one or more processes in the step (2) include the following steps (2-A).
Step (2-A): Step of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer Step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached. Or it is carried out in (YA).
(XA): Performed after step (2-A) as one or more processes (YA): Performed after step (3)

(工程(2−B))
工程(2−B)は、加工対象物が半導体チップであり、当該半導体チップと、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、前記半導体チップの周辺部と、を封止材で被覆し、該封止材を硬化させて、前記半導体チップが硬化封止材に封止されてなる硬化封止体を得る工程である。
(Step (2-B))
In the step (2-B), the object to be processed is a semiconductor chip, and the semiconductor chip and the peripheral portion of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are covered with a sealing material. This is a step of curing the encapsulant to obtain a cured encapsulant obtained by encapsulating the semiconductor chip in the cured encapsulant.

図5に示すように、本発明の製造方法が工程(2−B)を有する場合、工程(1)では、加工対象物として半導体チップ60が用いられる。
半導体チップ60は、従来公知のものを使用することができ、その回路面には、トランジスタ、抵抗、コンデンサー等の回路素子から構成される集積回路が形成されている。
そして、半導体チップ60の回路面が、粘着シート(II)の粘着剤層(X2)の粘着表面で覆われるように載置されることが好ましい。半導体チップの載置には、フリップチップボンダー、ダイボンダー等の公知の装置を用いることができる。
半導体チップ60の配置のレイアウト、配置数等は、目的とするパッケージの形態、生産数等に応じて適宜決定すればよい。
As shown in FIG. 5, when the manufacturing method of the present invention has a step (2-B), the semiconductor chip 60 is used as a processing target in the step (1).
As the semiconductor chip 60, a conventionally known one can be used, and an integrated circuit composed of circuit elements such as a transistor, a resistor, and a capacitor is formed on the circuit surface thereof.
Then, it is preferable that the circuit surface of the semiconductor chip 60 is placed so as to be covered with the adhesive surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II). A known device such as a flip chip bonder or a die bonder can be used for mounting the semiconductor chip.
The layout of the arrangement of the semiconductor chips 60, the number of arrangements, and the like may be appropriately determined according to the form of the target package, the number of production, and the like.

ここで、本発明の一態様の製造方法としては、FOWLP、FOPLP等のように、半導体チップ60をチップサイズよりも大きな領域で封止材により覆い、半導体チップ60の回路面だけではなく、封止材の表面領域においても再配線層を形成するパッケージに適用されることが好ましい。
そのため、半導体チップ60は、粘着剤層(X2)の粘着表面の一部に載置されるものであり、複数の半導体チップ60が、一定の間隔を空けて整列された状態で、当該粘着表面に載置されることが好ましく、複数の半導体チップ60が、一定の間隔を空けて、複数行かつ複数列のマトリックス状に整列された状態で当該粘着表面に載置されることがより好ましい。
半導体チップ60同士の間隔は、目的とするパッケージの形態等に応じて適宜決定すればよい。
Here, as a manufacturing method of one aspect of the present invention, the semiconductor chip 60 is covered with a sealing material in a region larger than the chip size, as in FOWLP, FOPLP, etc., and not only the circuit surface of the semiconductor chip 60 but also the sealing material is sealed. It is preferable that it is applied to a package that forms a rewiring layer also in the surface region of the stop material.
Therefore, the semiconductor chip 60 is placed on a part of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the adhesive surface is in a state where a plurality of semiconductor chips 60 are aligned at regular intervals. It is preferable that the plurality of semiconductor chips 60 are placed on the adhesive surface in a state of being arranged in a matrix of a plurality of rows and a plurality of columns at regular intervals.
The distance between the semiconductor chips 60 may be appropriately determined according to the form of the target package and the like.

そして、工程(2−B)では、前記半導体チップ60と、当該半導体チップ60の少なくとも周辺部の粘着剤層(X1)の粘着表面と、を封止材で被覆し(以下、「被覆工程」ともいう)、当該封止材を硬化させて、前記半導体チップ60が硬化封止材に封止されてなる硬化封止体61を得る(以下、「硬化工程」ともいう)。
半導体チップ60が、粘着剤層(X2)の粘着表面の一部に載置されることにより、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、半導体チップ60の周辺部が形成される。
つまり、半導体チップ60の周辺部とは、複数の半導体チップ60のうち、隣接する半導体チップ60同士の間隙に相当する粘着剤層(X2)の粘着表面を指す。
Then, in the step (2-B), the semiconductor chip 60 and the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) at least in the peripheral portion of the semiconductor chip 60 are coated with a sealing material (hereinafter, "coating step"). The encapsulant is cured to obtain a cured encapsulant 61 in which the semiconductor chip 60 is sealed in the cured encapsulant (hereinafter, also referred to as “curing step”).
By placing the semiconductor chip 60 on a part of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2), a peripheral portion of the semiconductor chip 60 is formed in the pressure-sensitive adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2).
That is, the peripheral portion of the semiconductor chip 60 refers to the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) corresponding to the gap between the adjacent semiconductor chips 60 among the plurality of semiconductor chips 60.

工程(2−B)の被覆工程においては、まず、半導体チップ60と、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、半導体チップ60の周辺部と、を封止材で被覆する。封止材は、半導体チップCPの表出している面全体を覆いつつ、複数の半導体チップCP同士の間隙にも充填される。 In the coating step of the step (2-B), first, the semiconductor chip 60 and the peripheral portion of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the semiconductor chip 60 are coated with a sealing material. The encapsulant covers the entire exposed surface of the semiconductor chip CP and is also filled in the gaps between the plurality of semiconductor chip CPs.

封止材は、半導体チップCP及びそれに付随する要素を外部環境から保護する機能を有するものである。
封止材としては、半導体封止材料として使用されているものの中から、任意のものを適宜選択して用いることができる、例えば、熱硬化性樹脂を含む封止材や、エネルギー線硬化性樹脂を含む封止材等が挙げられる。
また、封止材は、室温で、顆粒状、シート状等の固形であっても、組成物の形態となった液状であってもよいが、作業性の観点から、シート状の封止材が好ましい。
The encapsulant has a function of protecting the semiconductor chip CP and its associated elements from the external environment.
As the sealing material, any material can be appropriately selected and used from those used as semiconductor sealing materials, for example, a sealing material containing a thermosetting resin or an energy ray-curable resin. Examples thereof include a sealing material containing.
Further, the encapsulant may be a solid such as granules or sheets at room temperature or a liquid in the form of a composition, but from the viewpoint of workability, the encapsulant may be a sheet. Is preferable.

封止材を用いて、半導体チップ60及びその周辺部を被覆する方法としては、従来、半導体封止工程に適用されている方法の中から、封止材の種類に応じて適宜選択して適用することができ、例えば、ロールラミネート法、真空プレス法、真空ラミネート法、スピンコート法、ダイコート法、トランスファーモールディング法、圧縮成形モールド法等を適用することができる。 As a method of coating the semiconductor chip 60 and its peripheral portion with a sealing material, an appropriate method is selected and applied according to the type of the sealing material from the methods conventionally applied to the semiconductor sealing step. For example, a roll laminating method, a vacuum pressing method, a vacuum laminating method, a spin coating method, a die coating method, a transfer molding method, a compression molding molding method, or the like can be applied.

そして、被覆工程を行った後、封止材を硬化させて、半導体チップ60が硬化封止材に封止されてなる硬化封止体61を得ることができる。
なお、工程(2−B)の被覆工程及び硬化工程は、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)未満の温度条件で行われることが好ましい。
また、被覆工程と硬化工程とは、別々に実施してもよいが、被覆工程において封止材を加熱する場合には、当該加熱によって、そのまま封止材を硬化させ、被覆工程と硬化工程とを同時に実施してもよい。
なお、図5に示す製造例では、工程(3)の後に工程(4)を実施するようにしているが、工程(2−B)の後に、工程(2)における一以上の加工の一つとして工程(4)を実施するようにしてもよい。この場合、硬化封止体を粘着シート(II)から分離することなく、硬化封止体を粘着シート(II)に貼付したままの状態で次工程に供することができる。
すなわち、本発明の一態様の製造方法は、加工対象物が半導体チップであり、工程(2)における一以上の加工が、下記工程(2−B)を含み、
・工程(2−B):前記半導体チップと、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、前記半導体チップの周辺部と、を封止材で被覆し、該封止材を硬化させて、前記半導体チップが硬化封止材に封止されてなる硬化封止体を得る工程
工程(4)は、下記(X−B)及び(Y−B)の少なくともいずれかにおいて実施される。
(X−B):前記一以上の加工として前記工程(2―B)の後に実施される
(Y−B):前記工程(3)の後に実施される
Then, after performing the coating step, the sealing material is cured to obtain a cured sealing body 61 in which the semiconductor chip 60 is sealed by the cured sealing material.
The coating step and the curing step of the step (2-B) are preferably performed under temperature conditions lower than the expansion start temperature (t) of the heat-expandable particles.
Further, the coating step and the curing step may be carried out separately, but when the encapsulant is heated in the coating step, the encapsulant is cured as it is by the heating, and the coating step and the curing step are performed. May be carried out at the same time.
In the production example shown in FIG. 5, the step (4) is performed after the step (3), but after the step (2-B), one or more processes in the step (2). The step (4) may be carried out. In this case, the cured encapsulant can be subjected to the next step in a state of being attached to the adhesive sheet (II) without being separated from the adhesive sheet (II).
That is, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the object to be processed is a semiconductor chip, and one or more processes in the step (2) include the following steps (2-B).
Step (2-B): The semiconductor chip and the peripheral portion of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are covered with a sealing material, and the sealing material is cured. Step of obtaining a cured encapsulant obtained by encapsulating the semiconductor chip in a cured encapsulant Step (4) is carried out in at least one of the following (XB) and (YB).
(XB): Performed after the step (2-B) as the one or more processes (YB): Performed after the step (3)

<工程(3)>
工程(3)では、膨張開始温度(t)以上の温度での加熱処理(分離用加熱処理)によって、前記粘着性積層体の粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する。
図4(c)及び図5(c)は、分離用加熱処理によって、界面Pで分離した状態を示す断面模式図である。
図4(c)及び図5(c)では、分離用加熱処理によって、所定の加工を施した加工対象物が粘着シート(II)上に積層した状態で分離した状態を示している。
<Process (3)>
In the step (3), the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are subjected to heat treatment (heat treatment for separation) at a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t). Separate at the interface P with.
4 (c) and 5 (c) are schematic cross-sectional views showing a state of being separated at the interface P by the heat treatment for separation.
FIGS. 4 (c) and 5 (c) show a state in which the processed objects that have undergone the predetermined processing are separated on the adhesive sheet (II) by the separation heat treatment.

工程(3)における、分離用加熱処理の際の「膨張開始温度(t)以上の温度」としては、「膨張開始温度(t)+10℃」以上「膨張開始温度(t)+60℃」以下であることが好ましく、「膨張開始温度(t)+15℃」以上「膨張開始温度(t)+40℃」以下であることがより好ましい。 In the step (3), the "expansion start temperature (t) or higher" during the separation heat treatment is "expansion start temperature (t) + 10 ° C." or higher and "expansion start temperature (t) + 60 ° C." or lower. It is preferably present, and more preferably "expansion start temperature (t) + 15 ° C." or more and "expansion start temperature (t) + 40 ° C." or less.

このようにして、工程(2)において所定の加工が施された加工対象物が積層(貼付)した状態で、粘着シート(II)を粘着シート(I)から分離して支持体から分離することができるため、分離後の加工対象物を粘着シートに貼付する作業を省略して、次工程に供することができる。 In this way, the adhesive sheet (II) is separated from the adhesive sheet (I) and separated from the support in a state where the objects to be processed that have been subjected to the predetermined processing in the step (2) are laminated (pasted). Therefore, the work of attaching the separated object to be processed to the adhesive sheet can be omitted and the process can be used in the next step.

<工程(4)>
工程(4)では、加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す。
例えば、当該加工対象物に対して、切削が施されることで、当該加工対象物を所望の大きさに分割することができる。また、研削が施されることで、当該加工対象物を所望の厚みに調整することができる。なお、切削と研削の双方の加工を行い、加工対象物の分割と厚みの調整を行うこともできる。
<Process (4)>
In the step (4), at least one of cutting and grinding is performed on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached.
For example, by cutting the object to be processed, the object to be processed can be divided into a desired size. Further, by performing grinding, the object to be processed can be adjusted to a desired thickness. It is also possible to perform both cutting and grinding, divide the object to be machined, and adjust the thickness.

また、例えば、図4(d)に示すように、分割起点となる改質領域がレーザー光照射により形成された半導体ウエハの、粘着シート(II)との貼付面とは反対側の面を研削することにより、半導体ウエハを薄くして割断されやすい状態とした後、研削砥石等の加工圧力で改質領域71を分割起点として間隙72を生じさせることで、半導体ウエハを所定の大きさに個片化し、半導体チップとすることができる。 Further, for example, as shown in FIG. 4D, the surface of the semiconductor wafer in which the modified region serving as the division starting point is formed by irradiation with laser light is ground on the side opposite to the surface to which the adhesive sheet (II) is attached. By doing so, the semiconductor wafer is made thin so that it can be easily cut, and then a gap 72 is generated with the modified region 71 as the division starting point by the processing pressure of a grinding wheel or the like, so that the semiconductor wafer is made into a predetermined size. It can be separated into a semiconductor chip.

また、図5(d)に示すように、硬化封止体61を切削することにより、硬化封止体61を半導体チップCP単位で個片化した硬化封止体の個片化物61aを得ることができる。硬化封止体61を個片化させるための切削方法は、特に限定されず、例えばダイシングソー等の切断手段等が挙げられる。
また、図示省略しているが、半導体チップの回路表面を露出させる目的で硬化封止体61を研削するようにしてもよい。
Further, as shown in FIG. 5 (d), by cutting the cured encapsulant 61, an individualized product 61a of the cured encapsulant obtained by individualizing the cured encapsulant 61 in units of semiconductor chip CP can be obtained. Can be done. The cutting method for individualizing the cured sealant 61 is not particularly limited, and examples thereof include cutting means such as a dicing saw.
Further, although not shown, the cured sealant 61 may be ground for the purpose of exposing the circuit surface of the semiconductor chip.

なお、工程(1)〜(4)の間、工程(1)の前、工程(4)の後に、さらに他の工程を有していてもよい。例えば、再配線形成工程等を有していてもよい。 It should be noted that there may be further other steps between steps (1) and (4), before step (1), and after step (4). For example, it may have a rewiring forming step and the like.

また、工程(4)は、上記のとおり、工程(2)における一以上の加工の一つとして実施するようにしてもよいし、あるいは、工程(3)の後に実施するようにしてもよい。さらには、工程(4)は、工程(2)における一以上の加工の一つとして実施すると共に、工程(3)の後に実施するようにしてもよい。
例えば、工程(2)における一以上の加工の一つとして、加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を行い、工程(3)の後に切削を行うことも可能である。
また、工程(2)における一以上の加工の一つとして、加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面の一方向(例えば加工対象物のXY平面のうちのX軸方向)にのみ切削を行って加工対象物を短冊状に分割し、工程(3)の後に別方向(例えば加工対象物のXY平面のうちのY軸方向)にのみ切削を行って短冊状に分割された加工対象物をさらに細かく(例えば正方形状に)分割するようにしてもよい。
Further, as described above, the step (4) may be carried out as one or more of the processes in the step (2), or may be carried out after the step (3). Further, the step (4) may be carried out as one or more processes in the step (2) and may be carried out after the step (3).
For example, as one or more processes in the step (2), grinding is performed on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached, and the surface is cut after the step (3). It is also possible to do.
Further, as one or more processes in the step (2), one direction of the surface opposite to the surface to be attached to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the object to be processed (for example, in the XY plane of the object to be processed). Cutting only in the X-axis direction) to divide the work object into strips, and after step (3), cut only in another direction (for example, the Y-axis direction of the XY plane of the work object) to make a strip. The workpiece divided into shapes may be further divided into smaller parts (for example, in a square shape).

本発明について、以下の実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下の製造例及び実施例における物性値は、以下の方法により測定した値である。 The present invention will be specifically described with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples. The physical property values in the following production examples and examples are values measured by the following methods.

<質量平均分子量(Mw)>
ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー株式会社製、製品名「HLC−8020」)を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
(測定条件)
・カラム:「TSK guard column HXL−L」「TSK gel G2500HXL」「TSK gel G2000HXL」「TSK gel G1000HXL」(いずれも東ソー株式会社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1.0mL/min
<Mass average molecular weight (Mw)>
It was measured under the following conditions using a gel permeation chromatograph device (manufactured by Tosoh Corporation, product name "HLC-8020"), and the value measured in terms of standard polystyrene was used.
(Measurement condition)
-Column: "TSK guard volume HXL-L""TSK gel G2500HXL""TSK gel G2000HXL""TSK gel G1000HXL" (all manufactured by Tosoh Corporation) are connected in sequence.-Column temperature: 40 ° C.
-Development solvent: tetrahydrofuran-Flow velocity: 1.0 mL / min

<各層の厚さの測定>
株式会社テクロック製の定圧厚さ測定器(型番:「PG−02J」、標準規格:JIS K6783、Z1702、Z1709に準拠)を用いて測定した。
<Measurement of thickness of each layer>
The measurement was performed using a constant pressure thickness measuring instrument (model number: "PG-02J", standard: JIS K6783, Z1702, Z1709 compliant) manufactured by Teclock Co., Ltd.

<熱膨張性粒子の平均粒子径(D50)、90%粒子径(D90)>
レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて、23℃における膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布を測定した。
そして、粒子分布の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が50%及び90%に相当する粒子径を、それぞれ「熱膨張性粒子の平均粒子径(D50)」及び「熱膨張性粒子の90%粒子径(D90)」とした。
<Average particle size of thermally expandable particles (D 50 ), 90% particle size (D 90 )>
The particle distribution of the thermally expandable particles before expansion at 23 ° C. was measured using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (for example, manufactured by Malvern, product name “Mastersizer 3000”).
Then, the particle diameters corresponding to the cumulative volume frequencies of 50% and 90% calculated from the smaller particle diameter of the particle distribution are set to "average particle diameter of thermally expandable particles (D 50 )" and "thermally expandable particles", respectively. 90% particle size (D 90 ) ”.

<熱膨張性基材層(Y1−1)の貯蔵弾性率E’>
形成した熱膨張性基材層(Y1−1)を、縦5mm×横30mm×厚さ200μmの大きさとし、剥離材を除去したものを試験サンプルとした。
動的粘弾性測定装置(TAインスツルメント社製,製品名「DMAQ800」)を用いて、試験開始温度0℃、試験終了温度300℃、昇温速度3℃/分、振動数1Hz、振幅20μmの条件で、所定の温度における、当該試験サンプルの貯蔵弾性率E’を測定した。
<Storing elastic modulus E'of the heat-expandable base material layer (Y1-1)>
The formed heat-expandable base material layer (Y1-1) had a size of 5 mm in length × 30 mm in width × 200 μm in thickness, and the one from which the release material was removed was used as a test sample.
Using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments, product name "DMAQ800"), the test start temperature is 0 ° C, the test end temperature is 300 ° C, the temperature rise rate is 3 ° C / min, the frequency is 1 Hz, and the amplitude is 20 μm. The storage elastic modulus E'of the test sample at a predetermined temperature was measured under the conditions of.

<第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)並びに粘着剤層(X2)の貯蔵せん断弾性率G’>
形成した第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)並びに粘着剤層(X2)を、直径8mmの円形に切断したものを、剥離材を除去し、重ね合わせて、厚さ3mmとしたものを試験サンプルとした。
粘弾性測定装置(Anton Paar社製、装置名「MCR300」)を用いて、試験開始温度0℃、試験終了温度300℃、昇温速度3℃/分、振動数1Hzの条件で、ねじりせん断法によって、所定の温度における、試験サンプルの貯蔵せん断弾性率G’を測定した。
<Storage shear modulus G'of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), the second pressure-sensitive adhesive layer (X12), and the pressure-sensitive adhesive layer (X2)>
The formed first pressure-sensitive adhesive layer (X11), second pressure-sensitive adhesive layer (X12), and pressure-sensitive adhesive layer (X2) were cut into a circle with a diameter of 8 mm, and the release material was removed and overlapped to obtain a thickness. The test sample was 3 mm.
A torsional shearing method using a viscoelasticity measuring device (manufactured by Antonio Par, device name "MCR300") under the conditions of a test start temperature of 0 ° C., a test end temperature of 300 ° C., a temperature rise rate of 3 ° C./min, and a frequency of 1 Hz. Measured the storage shear viscoelasticity G'of the test sample at a predetermined temperature.

<プローブタック値>
測定対象となる基材を一辺10mmの正方形に切断した後、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で24時間静置したものを試験サンプルとした。
23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、タッキング試験機(日本特殊測器株式会社製,製品名「NTS−4800」)を用いて、試験サンプルの表面におけるプローブタック値を、JIS Z0237:1991に準拠して測定した。
具体的には、直径5mmのステンレス鋼製のプローブを、1秒間、接触荷重0.98N/cmで試験サンプルの表面に接触させた後、当該プローブを10mm/秒の速度で、試験サンプルの表面から離すのに必要な力を測定し、得られた値を、その試験サンプルのプローブタック値とした。
<Probe tack value>
A test sample was prepared by cutting the base material to be measured into a square having a side of 10 mm and then allowing it to stand for 24 hours in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity).
In an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity), use a tacking tester (manufactured by Nippon Special Instruments Co., Ltd., product name "NTS-4800") to determine the probe tack value on the surface of the test sample. Measured according to Z0237: 1991.
Specifically, a stainless steel probe having a diameter of 5 mm is brought into contact with the surface of the test sample for 1 second with a contact load of 0.98 N / cm 2 , and then the probe is brought into contact with the surface of the test sample at a speed of 10 mm / sec. The force required to separate from the surface was measured, and the obtained value was used as the probe tack value of the test sample.

<分離用加熱処理前の粘着剤層の粘着力の測定>
剥離フィルム上に形成した粘着剤層の粘着表面上に、厚さ50μmのPETフィルム(東洋紡株式会社製、製品名「コスモシャインA4100」)を積層し、基材付き粘着シートとした。
そして、剥離フィルムを除去し、表出した粘着剤層の粘着表面を、被着体であるステンレス鋼板(SUS304 360番研磨)に貼付し、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、24時間静置した後、同じ環境下で、JIS Z0237:2000に基づき、180°引き剥がし法により、引っ張り速度300mm/分にて、23℃における粘着力を測定した。
<Measurement of adhesive strength of adhesive layer before heat treatment for separation>
A PET film having a thickness of 50 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name “Cosmo Shine A4100”) was laminated on the adhesive surface of the adhesive layer formed on the release film to obtain an adhesive sheet with a base material.
Then, the release film is removed, and the adhesive surface of the exposed adhesive layer is attached to a stainless steel plate (SUS304 No. 360 polishing) as an adherend, and in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity). After standing for 24 hours, the adhesive strength at 23 ° C. was measured at a tensile speed of 300 mm / min by a 180 ° peeling method based on JIS Z0237: 2000 under the same environment.

以下の実施例での各層の形成で使用した粘着性樹脂、添加剤、熱膨張性粒子、及び剥離材の詳細は以下のとおりである。 Details of the adhesive resin, additives, heat-expandable particles, and release material used in the formation of each layer in the following examples are as follows.

<粘着性樹脂>
・アクリル系共重合体(i):2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)/2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)=80.0/20.0(質量比)からなる原料モノマーに由来の構成単位を有する、Mw60万のアクリル系共重合体。
・アクリル系共重合体(ii):n−ブチルアクリレート(BA)/メチルメタクリレート(MMA)/2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)/アクリル酸=86.0/8.0/5.0/1.0(質量比)からなる原料モノマーに由来の構成単位を有する、Mw60万のアクリル系共重合体。
<Adhesive resin>
Acrylic copolymer (i): It has a structural unit derived from a raw material monomer composed of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) / 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) = 80.0 / 20.0 (mass ratio). Acrylic copolymer with Mw 600,000.
-Acrylic copolymer (ii): n-butyl acrylate (BA) / methyl methacrylate (MMA) / 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) / acrylic acid = 86.0 / 8.0 / 5.0 / 1. An acrylic copolymer of Mw 600,000 having a structural unit derived from a raw material monomer consisting of 0 (mass ratio).

<添加剤>
・イソシアネート架橋剤(i):東ソー株式会社製、製品名「コロネートL」、固形分濃度:75質量%。
・光重合開始剤(i):BASF社製、製品名「イルガキュア184」、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン。
<Additives>
-Isocyanate cross-linking agent (i): manufactured by Tosoh Corporation, product name "Coronate L", solid content concentration: 75% by mass.
-Photopolymerization initiator (i): manufactured by BASF, product name "Irgacure 184", 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone.

<熱膨張性粒子>
・熱膨張性粒子(i):日本フィライト株式会社、製品名「Expancel 031DU40」、膨張開始温度(t)=90℃、平均粒子径(D50)=22μm、90%粒子径(D90)=30μm。
<Thermal expandable particles>
-Thermal expandable particles (i): Nippon Philite Co., Ltd., product name "Expancel 031DU40", expansion start temperature (t) = 90 ° C., average particle size (D 50 ) = 22 μm, 90% particle size (D 90 ) = 30 μm.

<剥離材>
・重剥離フィルム:リンテック株式会社製、製品名「SP−PET382150」、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面に、シリコーン系剥離剤から形成した剥離剤層を設けたもの、厚さ:38μm。
・軽剥離フィルム:リンテック株式会社製、製品名「SP−PET381031」、PETフィルムの片面に、シリコーン系剥離剤から形成した剥離剤層を設けたもの、厚さ:38μm。
<Release material>
-Heavy release film: manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET382150", polyethylene terephthalate (PET) film provided with a release agent layer formed from a silicone-based release agent on one side, thickness: 38 μm.
-Light release film: manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031", PET film provided with a release agent layer formed from a silicone-based release agent on one side, thickness: 38 μm.

[実施例1]
図2(b)に示す粘着性積層体1dにおいて、粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)及び粘着シート(II)の粘着剤層(X2)上に、さらに剥離材を積層した構成を有し、粘着シート(II)の基材(Y2)と粘着剤層(X2)との間に中間層(Z2)を設けた粘着性積層体を、以下の手順にて作製した。
[Example 1]
In the adhesive laminate 1d shown in FIG. 2B, a release material was further laminated on the second adhesive layer (X12) of the adhesive sheet (I) and the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II). An adhesive laminate having a structure and provided with an intermediate layer (Z2) between the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) and the adhesive layer (X2) was produced by the following procedure.

[1]粘着シート(I)の作製
(1−1)第1粘着剤層(X11)の形成
粘着性樹脂である、上記アクリル系共重合体(i)の固形分100質量部に、上記イソシアネート系架橋剤(i)5.0質量部(固形分比)を配合し、トルエンで希釈し、均一に撹拌して、固形分濃度(有効成分濃度)25質量%の粘着剤組成物を調製した。
そして、上記重剥離フィルムの剥離剤層の表面に、当該粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を100℃で60秒間乾燥して、厚さ5μmの非熱膨張性粘着剤層である第1粘着剤層(X11)を形成した。
なお、23℃における、第1粘着剤層(X11)の貯蔵せん断弾性率G’(23)は、2.5×10Paであった。
また、上記方法に基づき測定した、第1粘着剤層(X11)の粘着力は、0.3N/25mmであった。
[1] Preparation of Adhesive Sheet (I) (1-1) Formation of First Adhesive Layer (X11) The isocyanate is added to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (i), which is an adhesive resin. A pressure-sensitive adhesive composition having a solid content concentration (active ingredient concentration) of 25% by mass was prepared by blending 5.0 parts by mass (solid content ratio) of the system cross-linking agent (i), diluting with toluene, and stirring uniformly. ..
Then, the pressure-sensitive adhesive composition is applied to the surface of the release agent layer of the heavy-release film to form a coating film, and the coating film is dried at 100 ° C. for 60 seconds to have a non-thermal expansion property having a thickness of 5 μm. A first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a pressure-sensitive adhesive layer, was formed.
Incidentally, at 23 ° C., the storage shear modulus G of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) '(23) was 2.5 × 10 5 Pa.
The adhesive strength of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) measured based on the above method was 0.3 N / 25 mm.

(1−2)第2粘着剤層(X12)の形成
粘着性樹脂である、上記アクリル系共重合体(ii)の固形分100質量部に、上記イソシアネート系架橋剤(i)0.8質量部(固形分比)を配合し、トルエンで希釈し、均一に撹拌して、固形分濃度(有効成分濃度)25質量%の粘着剤組成物を調製した。
そして、上記軽剥離フィルムの剥離剤層の表面に、当該粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を100℃で60秒間乾燥して、厚さ10μmの第2粘着剤層(X12)を形成した。
なお、23℃における、第2粘着剤層(X12)の貯蔵せん断弾性率G’(23)は、9.0×10Paであった。
また、上記方法に基づき測定した、第2粘着剤層(X12)の粘着力は、1.0N/25mmであった。
(1-2) Formation of Second Adhesive Layer (X12) To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (ii), which is an adhesive resin, 0.8 mass of the isocyanate-based cross-linking agent (i) Parts (solid content ratio) were blended, diluted with toluene, and uniformly stirred to prepare a pressure-sensitive adhesive composition having a solid content concentration (active ingredient concentration) of 25% by mass.
Then, the pressure-sensitive adhesive composition is applied to the surface of the release agent layer of the light release film to form a coating film, and the coating film is dried at 100 ° C. for 60 seconds to obtain a second pressure-sensitive adhesive having a thickness of 10 μm. A layer (X12) was formed.
The storage shear elastic modulus G'(23) of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) at 23 ° C. was 9.0 × 10 4 Pa.
The adhesive strength of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) measured based on the above method was 1.0 N / 25 mm.

(1−3)基材(Y1)の作製
(1−3−1)組成物(y1−1)の調製
エステル型ジオールと、イソホロンジイソシアネート(IPDI)を反応させて得られた末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させて、質量平均分子量(Mw)5000の2官能のアクリルウレタン系オリゴマーを得た。
そして、上記で合成したアクリルウレタン系オリゴマー40質量%(固形分比)に、エネルギー線重合性モノマーとして、イソボルニルアクリレート(IBXA)40質量%(固形分比)、及びフェニルヒドロキシプロピルアクリレート(HPPA)20質量%(固形分比)を配合し、アクリルウレタン系オリゴマー及びエネルギー線重合性モノマーの全量(100質量部)に対して、さらに光重合開始剤(i)を2.0質量部(固形分比)、及び、添加剤として、フタロシアニン系顔料0.2質量部(固形分比)を配合し、エネルギー線硬化性組成物を調製した。
そして、当該エネルギー線硬化性組成物に、上記熱膨張性粒子(i)を配合し、溶媒を含有しない、無溶剤型の組成物(y1−1)を調製した。
なお、組成物(y1−1)の全量(100質量%)に対する、熱膨張性粒子(i)の含有量は20質量%であった。
(1-3) Preparation of base material (Y1) (1-3-1) Preparation of composition (y1-1) Terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting ester-type diol with isophorone diisocyanate (IPDI) 2-Hydroxyethyl acrylate was reacted with the bifunctional acrylic urethane-based oligomer having a mass average molecular weight (Mw) of 5000.
Then, 40% by mass (solid content ratio) of the acrylic urethane-based oligomer synthesized above, 40% by mass (solid content ratio) of isobornyl acrylate (IBXA) as an energy ray-polymerizable monomer, and phenylhydroxypropyl acrylate (HPPA). ) 20 parts by mass (solid content ratio) is blended, and 2.0 parts by mass (solid) of the photopolymerization initiator (i) is further added to the total amount (100 parts by mass) of the acrylic urethane-based oligomer and the energy ray-polymerizable monomer. A phthalocyanine-based pigment (0.2 parts by mass (solid content ratio)) was blended as an additive to prepare an energy ray-curable composition.
Then, the heat-expandable particles (i) were blended with the energy ray-curable composition to prepare a solvent-free composition (y1-1) containing no solvent.
The content of the heat-expandable particles (i) was 20% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the composition (y1-1).

(1−3−2)基材(Y1)の作製
非熱膨張性基材である、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡株式会社製、製品名「コスモシャインA4300」、プローブタック値:0mN/5mmφ)の表面上に、調製した組成物(y1−1)を塗布して塗膜を形成した。
そして、紫外線照射装置(アイグラフィクス社製、製品名「ECS−401GX」)及び高圧水銀ランプ(アイグラフィクス社製、製品名「H04−L41」)を用いて、照度160mW/cm、光量500mJ/cmの条件で紫外線照射し、当該塗膜を硬化させ、厚さ50μmの熱膨張性基材(Y−1)を形成した。なお、紫外線照射時の上記の照度及び光量は、照度・光量計(EIT社製、製品名「UV Power Puck II」)を用いて測定した値である。
また、上記の非熱膨張性基材であるPETフィルムは、非熱膨張性基材層(Y1−2)に相当する。
なお、熱膨張性基材層(Y1−1)の物性値を測定するサンプルとして、上記軽剥離フィルムの剥離剤層の表面に、当該樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を100℃で120秒間乾燥して、厚さ50μmの熱膨張性基材層(Y1−1)を同様に形成した。
そして、上述の測定方法に基づき、熱膨張性基材層(Y1−1)の各温度における貯蔵弾性率及びプローブタック値を測定した。当該測定結果は、以下のとおりであった。
・23℃における貯蔵弾性率E’(23)=5.0×10Pa
・100℃における貯蔵弾性率E’(100)=4.0×10Pa
・208℃における貯蔵弾性率E’(208)=4.0×10Pa
・プローブタック値=2mN/5mmφ
(1-3-2) Preparation of base material (Y1) Polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 50 μm, which is a non-thermally expandable base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name “Cosmo Shine A4300”, probe tack value The prepared composition (y1-1) was applied onto the surface of (0 mN / 5 mmφ) to form a coating film.
Then, using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Eye Graphics, product name "ECS-401GX") and a high-pressure mercury lamp (manufactured by Eye Graphics, product name "H04-L41"), the illuminance is 160 mW / cm 2 , and the light intensity is 500 mJ /. The coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays under the condition of cm 2 , and a heat-expandable substrate (Y-1) having a thickness of 50 μm was formed. The above-mentioned illuminance and light amount at the time of ultraviolet irradiation are values measured using an illuminance / light amount meter (manufactured by EIT, product name "UV Power Pack II").
Further, the PET film which is the above-mentioned non-thermally expandable base material corresponds to the non-heat-expandable base material layer (Y1-2).
As a sample for measuring the physical property value of the heat-expandable base material layer (Y1-1), the resin composition is applied to the surface of the release agent layer of the light release film to form a coating film, and the coating is applied. The film was dried at 100 ° C. for 120 seconds to form a heat-expandable substrate layer (Y1-1) having a thickness of 50 μm in the same manner.
Then, based on the above-mentioned measuring method, the storage elastic modulus and the probe tack value at each temperature of the heat-expandable base material layer (Y1-1) were measured. The measurement results were as follows.
-Storage modulus at 23 ° C. E'(23) = 5.0 × 10 8 Pa
Storage elastic modulus at 100 ° C. E'(100) = 4.0 × 10 6 Pa
-Storage modulus at 208 ° C. E'(208) = 4.0 × 10 5 Pa
・ Probe tack value = 2mN / 5mmφ

(1−4)各層の積層
上記(1−3)で作製した基材(Y1)の非熱膨張性基材層(Y1−2)と、上記(1−2)で形成した第2粘着剤層(X12)とを貼り合わせると共に、熱膨張性基材層(Y1−1)と、上記(1−2)で形成した第2粘着剤層(X12)とを貼り合せた。
そして、軽剥離フィルム/第2粘着剤層(X12)/非熱膨張性基材層(Y1−2)/熱膨張性基材層(Y1−1)/第1粘着剤層(X11)/重剥離フィルムをこの順で積層してなる、粘着シート(I)を作製した。
(1-4) Lamination of Each Layer The non-thermally expandable base material layer (Y1-2) of the base material (Y1) prepared in the above (1-3) and the second pressure-sensitive adhesive formed in the above (1-2). The layer (X12) was bonded together, and the heat-expandable base material layer (Y1-1) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) formed in the above (1-2) were bonded together.
Then, the light release film / second pressure-sensitive adhesive layer (X12) / non-thermally expandable base material layer (Y1-2) / heat-expandable base material layer (Y1-1) / first pressure-sensitive adhesive layer (X11) / heavy An adhesive sheet (I) was prepared by laminating the release films in this order.

[2]粘着シート(II)の作製
(2−1)粘着剤層(X2)の形成
粘着性樹脂である、上記アクリル系共重合体(ii)の固形分100質量部に、上記イソシアネート系架橋剤(i)8質量部(固形分比)を配合し、トルエンで希釈し、均一に撹拌して、固形分濃度(有効成分濃度)25質量%の粘着剤組成物を調製した。
そして、上記重剥離フィルムの剥離剤層の表面に、当該粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を100℃で60秒間乾燥して、厚さ20μmの粘着剤層(X2)を形成した。
また、上記方法に基づき測定した、粘着剤層(X2)の粘着力は、0.5N/25mmであった。
[2] Preparation of adhesive sheet (II) (2-1) Formation of adhesive layer (X2) The isocyanate-based cross-linking is applied to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (ii), which is an adhesive resin. Agent (i) 8 parts by mass (solid content ratio) was blended, diluted with toluene, and uniformly stirred to prepare a pressure-sensitive adhesive composition having a solid content concentration (active ingredient concentration) of 25% by mass.
Then, the pressure-sensitive adhesive composition is applied to the surface of the release agent layer of the heavy-release film to form a coating film, and the coating film is dried at 100 ° C. for 60 seconds to obtain a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 μm. X2) was formed.
The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) measured based on the above method was 0.5 N / 25 mm.

(2−2)基材(Y2)
基材(Y2)は、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡株式会社製、製品名「コスモシャインA4300」、プローブタック値:0mN/5mmφ)とした。
(2-2) Base material (Y2)
The base material (Y2) was a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 μm (manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd., product name “Cosmo Shine A4300”, probe tack value: 0 mN / 5 mmφ).

(2−3)中間層(Z2)
(1)中間層形成用組成物の調製
非エネルギー線硬化性アクリル系共重合体C1を100質量部、エネルギー線硬化性アクリル系共重合体D1を68質量部、トリレンジイソシアネート系架橋剤(商品名:BHS 8515、トーヨーケム社製)を2.8質量部、及び上記の光重合開始剤(i)を2.7質量部添加し、酢酸エチルで希釈して、固形分濃度(有効成分濃度)35質量%の中間層形成用組成物の溶液を調製した。
(2-3) Intermediate layer (Z2)
(1) Preparation of composition for forming intermediate layer 100 parts by mass of non-energy ray-curable acrylic copolymer C1, 68 parts by mass of energy ray-curable acrylic copolymer D1, tolylene diisocyanate-based cross-linking agent (commodity) Name: BHS 8515, manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was added in an amount of 2.8 parts by mass, and the above-mentioned photopolymerization initiator (i) was added in an amount of 2.7 parts by mass, diluted with ethyl acetate, and solid content concentration (active ingredient concentration). A 35% by mass solution of the composition for forming an intermediate layer was prepared.

(2)非エネルギー線硬化性アクリル系共重合体C1の調製
ブチルアクリレート(BA)90質量部、及びアクリル酸(AAc)10質量部を、酢酸エチル溶媒中に添加し、重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を1.0質量部添加して、溶液重合を進行させて、非エネルギー線硬化性のアクリル系共重合体C1(Mw:50万)を得た。
(2) Preparation of non-energy ray-curable acrylic copolymer C1 90 parts by mass of butyl acrylate (BA) and 10 parts by mass of acrylic acid (AAc) are added to an ethyl acetate solvent, and azo is used as a polymerization initiator. 1.0 part by mass of bisisobutyronitrile (AIBN) was added and solution polymerization was allowed to proceed to obtain a non-energy ray-curable acrylic copolymer C1 (Mw: 500,000).

(3)エネルギー線硬化性アクリル系共重合体D1の調製
ブチルアクリレート(BA)62質量部、メチルメタクリレート(MMA)10質量部、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)28質量部を、酢酸エチル溶媒中に添加し、重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を1.0質量部添加して、溶液重合を進行させ、一定時間経過後、アクリル系共重合体(BA/MMA/HEA=62/10/28(質量%))を得た。
続いて、当該アクリル系共重合体に対し、添加したHEA中の全水酸基数100当量に対するイソシアネート基数が80当量となる量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネートを添加して反応させ、側鎖にエネルギー線重合性基を有する、エネルギー線硬化性アクリル系共重合体D1(Mw:10万)を得た。エネルギー線硬化性アクリル系共重合体D1における、上記式(2)から算出されるβの値は22.4である。
(3) Preparation of Energy Ray Curable Acrylic Copolymer D1 62 parts by mass of butyl acrylate (BA), 10 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) are used in an ethyl acetate solvent. Azobisisobutyronitrile (AIBN) was added in an amount of 1.0 part by mass as a polymerization initiator to allow solution polymerization to proceed, and after a certain period of time, an acrylic copolymer (BA / MMA /) was added. HEA = 62/10/28 (mass%)) was obtained.
Subsequently, methacryloyloxyethyl isocyanate is added to the acrylic copolymer in an amount such that the number of isocyanate groups is 80 equivalents with respect to 100 equivalents of the total number of hydroxyl groups in the added HEA, and the reaction is carried out. An energy ray-curable acrylic copolymer D1 (Mw: 100,000) having a group was obtained. The value of β calculated from the above formula (2) in the energy ray-curable acrylic copolymer D1 is 22.4.

(4)中間層(Z2)の作製
剥離シート(リンテック社製、商品名「SP−PET381031」、シリコーン剥離処理を行ったポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ:38μm)の剥離処理がされた面上に、上記のとおり調製した中間層形成用組成物の溶液を、乾燥後の厚さが45μmとなるように塗布し塗布膜を形成した。次いで、当該塗布膜を100℃で2分間乾燥させて、中間層(Z2)を形成し、中間層付き剥離シートを作製した。
なお、当該中間層付き剥離シートについては、同じものを2枚作製し、2枚の中間層付き剥離シートの中間層同士を貼り合わせて、厚さ90μmの中間層(Z2)が2枚の剥離シートで狭持された積層シートを得た。
(4) Preparation of Intermediate Layer (Z2) On the peeled surface of the peeling sheet (manufactured by Lintec Corporation, trade name "SP-PET38131", polyethylene terephthalate film subjected to silicone peeling treatment, thickness: 38 μm). The solution of the intermediate layer forming composition prepared as described above was applied so as to have a thickness of 45 μm after drying to form a coating film. Next, the coating film was dried at 100 ° C. for 2 minutes to form an intermediate layer (Z2) to prepare a release sheet with an intermediate layer.
As for the release sheet with an intermediate layer, two identical sheets are prepared, and the intermediate layers of the two release sheets with an intermediate layer are bonded to each other, and two intermediate layers (Z2) having a thickness of 90 μm are peeled off. A laminated sheet sandwiched between sheets was obtained.

(2−4)各層の積層
厚さ90μmの中間層(Z2)が2枚の剥離シートで狭持された積層シートの一方の剥離シートを除去し、表出した中間層(Z2)の面上に、基材(Y2)を積層した。
また、他方の剥離シートも除去し、表出した中間層(Z2)の面上に、上記(2−1)で形成した粘着剤層(X2)を貼り合わせ、基材(Y2)/中間層(Z2)/粘着剤層(X2)/重剥離フィルムをこの順で積層してなる、粘着シート(II)を作製した。
(2-4) Lamination of Each Layer An intermediate layer (Z2) having a thickness of 90 μm is sandwiched between two release sheets. One release sheet of the laminated sheet is removed, and the exposed intermediate layer (Z2) is on the surface. The base material (Y2) was laminated on the surface.
Further, the other release sheet is also removed, and the adhesive layer (X2) formed in the above (2-1) is adhered on the surface of the exposed intermediate layer (Z2) to form a base material (Y2) / intermediate layer. An adhesive sheet (II) was prepared by laminating (Z2) / adhesive layer (X2) / heavy release film in this order.

[3]粘着性積層体の作製
上記[1]で作製した粘着シート(I)の重剥離フィルムを除去し、表出した第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とを貼り合せ、粘着性積層体を得た。
[3] Preparation of Adhesive Laminated Body The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) exposed by removing the heavy-release film of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) prepared in the above [1] and the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). (Y2) was bonded to obtain an adhesive laminate.

当該粘着性積層体について、加熱処理前及び加熱処理後の、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する際の剥離力(F)、(F)を下記方法に基づき測定した。
その結果、剥離力(F)=0.5N/25mm、剥離力(F)=0mN/25mmとなり、剥離力(F)と剥離力(F)との比〔(F)/(F)〕は0であった。
The adhesive laminate is separated at the interface P between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) before and after the heat treatment. The peeling force (F 0 ) and (F 1 ) at the time were measured based on the following method.
As a result, the peeling force (F 0 ) = 0.5 N / 25 mm and the peeling force (F 1 ) = 0 mN / 25 mm, and the ratio of the peeling force (F 1 ) to the peeling force (F 0 ) [(F 1 ) / (F 0 )] was 0.

<剥離力(F)の測定>
作製した粘着性積層体を23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、24時間静置した後、粘着性積層体の粘着シート(II)が有する重剥離フィルムを除去し、表出した粘着剤層(X2)をステンレス板(SUS304、360番研磨)に貼付した。
次いで、粘着性積層体が貼付されたステンレス板の端部を、万能引張試験機(オリエンテック社製,製品名「テンシロン UTM−4−100」)の下部チャックへ固定した。
また、粘着性積層体の粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで剥離するように、万能引張試験機の上部チャックで粘着性積層体の粘着シート(I)を固定した。
そして、上記と同じ環境下で、JIS Z0237:2000に基づき、180°引き剥がし法により、引張速度300mm/分で、界面Pで剥離した際に測定された剥離力を「剥離力(F)」とした。
<Measurement of peeling force (F 0)>
The prepared adhesive laminate was allowed to stand for 24 hours in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity), and then the heavy release film contained in the adhesive sheet (II) of the adhesive laminate was removed and exposed. The adhesive layer (X2) was attached to a stainless steel plate (SUS304, 360 polishing).
Next, the end of the stainless steel plate to which the adhesive laminate was attached was fixed to the lower chuck of a universal tensile tester (manufactured by Orientec, product name "Tencilon UTM-4-100").
Further, the upper chuck of the universal tensile tester is peeled off at the interface P between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the pressure-sensitive adhesive laminate and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). The adhesive sheet (I) of the adhesive laminate was fixed with.
Then, under the same environment as above, the peeling force measured when peeling at the interface P at a tensile speed of 300 mm / min by the 180 ° peeling method based on JIS Z0237: 2000 is referred to as "peeling force (F 0 )". ".

<剥離力(F)の測定>
作製した粘着性積層体の粘着シート(II)が有する重剥離フィルムを除去し、表出した粘着剤層(X2)をステンレス板(SUS304、360番研磨)に貼付した。
そして、ステンレス鋼板及び粘着性積層体を、240℃で3分間加熱し、粘着性積層体の熱膨張性基材層(Y1−2)中の熱膨張性粒子を膨張させた。
その後は、上述の剥離力(F)の測定と同様にし、上記条件にて、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで剥離した際に測定された剥離力を「剥離力(F)」とした。
なお、剥離力(F)の測定において、万能引張試験機の上部チャックで、粘着性積層体の粘着シート(I)を固定しようとした際、界面Pで粘着シート(I)が完全に分離してしまい、固定ができない場合には、測定を終了し、その際の剥離力(F)は「0mN/25mm」とした。
<Measurement of peeling force (F 1)>
The heavy-release film contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (II) of the produced pressure-sensitive adhesive laminate was removed, and the exposed pressure-sensitive adhesive layer (X2) was attached to a stainless steel plate (SUS304, No. 360 polishing).
Then, the stainless steel plate and the adhesive laminate were heated at 240 ° C. for 3 minutes to expand the thermally expandable particles in the thermally expandable base material layer (Y1-2) of the adhesive laminate.
After that, in the same manner as the above-mentioned measurement of the peeling force (F 0 ), under the above conditions, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are combined. The peeling force measured when peeling at the interface P was defined as "peeling force (F 1 )".
In the measurement of the peeling force (F 1 ), when the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate was to be fixed by the upper chuck of the universal tensile tester, the adhesive sheet (I) was completely separated at the interface P. If it could not be fixed, the measurement was terminated and the peeling force (F 1 ) at that time was set to "0 mN / 25 mm".

[実施例2]
以下の手順により、加工対象物が貼付された状態の粘着シート(II)を作製した。
(1)半導体ウエハの固定
実施例1で作製した粘着性積層体が有する軽剥離フィルムを除去し、表出した粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)の粘着表面を支持体(ガラス)と貼付した。
そして、パターンが形成された回路面を有する半導体ウエハの回路面側の表面と粘着シート(II)の粘着剤層(X2)とを貼り合せ、実施例1で作製した粘着性積層体を介して支持体に半導体ウエハを固定した。
[Example 2]
An adhesive sheet (II) to which the object to be processed was attached was prepared by the following procedure.
(1) Fixing the semiconductor wafer The light release film of the adhesive laminate produced in Example 1 is removed, and the adhesive surface of the second adhesive layer (X12) of the exposed adhesive sheet (I) is supported (1). Glass) and pasted.
Then, the surface of the semiconductor wafer having the circuit surface on which the pattern is formed on the circuit surface side and the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II) are bonded to each other, and the adhesive laminate produced in Example 1 is used. A semiconductor wafer was fixed to the support.

(2)改質領域の形成
ステルスレーザー照射装置(東京精密社製、装置名「ML300PlusWH」)を用いて、半導体ウエハの回路形成面とは反対側の面からステルスレーザー照射を行って、半導体ウエハ内部に分割起点となる改質領域を形成した。
(2) Formation of modified region Using a stealth laser irradiation device (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., device name "ML300PlusWH"), stealth laser irradiation is performed from the surface opposite to the circuit forming surface of the semiconductor wafer to perform stealth laser irradiation. A modified region serving as a division starting point was formed inside.

(3)界面Pでの分離
上記(2)の後、粘着性積層体を熱膨張性粒子の膨張開始温度(90℃)以上となる120℃で3分間の加熱処理を行った。そして、粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pにて、一括して容易に分離することができた。
そして、分離後に、内部に改質領域が形成された半導体ウエハが貼付された状態の粘着シート(II)を得た。
(3) Separation at Interface P After the above (2), the adhesive laminate was heat-treated at 120 ° C., which is equal to or higher than the expansion start temperature (90 ° C.) of the heat-expandable particles, for 3 minutes. Then, at the interface P between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II), it was possible to easily separate them all at once.
Then, after separation, a pressure-sensitive adhesive sheet (II) in which a semiconductor wafer having a modified region formed therein was attached was obtained.

1a、1b、1c、1d、2 粘着性積層体
(I) 粘着シート
(X1) 粘着剤層
(X11) 第1粘着剤層
(X12) 第2粘着剤層
(Y1) 基材
(Y1−1) 熱膨張性基材層
(Y1−2) 非熱膨張性基材層
(II) 粘着シート
(X2) 粘着剤層
(Z2) 中間層
(Y2) 基材
50 支持体
60、70 加工対象物
61 硬化封止体
61a 硬化封止体の個片化物
71 改質領域
72 間隙
1a, 1b, 1c, 1d, 2 Adhesive laminate (I) Adhesive sheet (X1) Adhesive layer (X11) First adhesive layer (X12) Second adhesive layer (Y1) Base material (Y1-1) Thermally expandable base material layer (Y1-2) Non-heat expandable base material layer (II) Adhesive sheet (X2) Adhesive layer (Z2) Intermediate layer (Y2) Base material 50 Supports 60, 70 Processed object 61 Hardened Encapsulant 61a Individual fragment of cured encapsulant 71 Modified region 72 Gap

Claims (17)

基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張開始温度(t)の熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる粘着性積層体を用いて、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造する方法であって、
下記工程(1)〜(3)をこの順で有し、
・工程(1):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に加工対象物を貼付する工程
・工程(2):前記加工対象物に一以上の加工を施す工程
・工程(3):前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)以上での加熱によって、前記加工対象物を前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に貼付した状態を維持しながら、前記粘着性積層体を粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)との界面Pで分離する工程
さらに、下記工程(4)を有し、
・工程(4):前記加工対象物の粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して切削及び研削の少なくともいずれかの加工を施す工程
前記工程(4)は、下記(X)及び(Y)の少なくともいずれかにおいて実施される、加工品の製造方法。
(X):前記一以上の加工として前記工程(2)において実施される
(Y):前記工程(3)の後において実施される
A heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material (Y1) and an adhesive layer (X1) and containing heat-expandable particles having a thermal expansion start temperature (t) in any of the layers, and a base material ( Using an adhesive laminate having an adhesive sheet (II) having Y2) and an adhesive layer (X2) and directly laminating the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II). , A method of manufacturing a processed product that has been subjected to at least one of cutting and grinding.
The following steps (1) to (3) are performed in this order.
Step (1): A step of attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and attaching the object to be processed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. -Step (2): A step of performing one or more processing on the processing object-Step (3): By heating the heat-expandable particles at a thermal expansion start temperature (t) or higher, the processing object is adhered to the adhesive. The adhesive laminate is separated at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) while maintaining the state of being attached to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Steps to be performed Further, it has the following step (4).
Step (4): A step of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached. The step (4) is as follows. A method for producing a processed product, which is carried out in at least one of (X) and (Y).
(X): Performed in the step (2) as the one or more processes (Y): Performed after the step (3)
前記熱膨張性粒子の熱膨張開始温度(t)が60〜270℃である、請求項1に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein the thermal expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 60 to 270 ° C. 粘着シート(I)が有する基材(Y1)が、前記熱膨張性粒子を含む熱膨張性基材層(Y1−1)を有する、請求項1又は2に記載の製造方法。 The production method according to claim 1 or 2, wherein the base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) containing the heat-expandable particles. 粘着シート(I)が有する基材(Y1)が、熱膨張性基材層(Y1−1)と非熱膨張性基材層(Y1−2)とを有する、請求項3に記載の製造方法。 The production method according to claim 3, wherein the base material (Y1) contained in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a heat-expandable base material layer (Y1-1) and a non-heat-expandable base material layer (Y1-2). .. 粘着シート(I)が有する基材(Y1)の熱膨張性基材層(Y1−1)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる、請求項3又は4に記載の製造方法。 Claim 3 or 4 in which the heat-expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. The manufacturing method described in. 粘着シート(I)が、第1粘着剤層(X11)及び第2粘着剤層(X12)により基材(Y1)が挟持された構成を有し、
粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有し、
粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)の表面は、前記支持体に貼付される面である、請求項3〜5のいずれか一項に記載の製造方法。
The pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a structure in which the base material (Y1) is sandwiched between the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12).
It has a structure in which the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.
The manufacturing method according to any one of claims 3 to 5, wherein the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is a surface to be attached to the support.
第1粘着剤層(X11)が、前記熱膨張性粒子を含む熱膨張性粘着剤層であり、
第2粘着剤層(X12)が、非熱膨張性粘着剤層であり、
粘着シート(I)の第1粘着剤層(X11)と、粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層した構成を有する、
粘着シート(I)の第2粘着剤層(X12)の表面は、前記支持体に貼付される面である、請求項1又は2に記載の製造方法。
The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing the heat-expandable particles.
The second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is a non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer.
The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.
The manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is a surface to be attached to the support.
基材(Y1)の第1粘着剤層(X11)が積層した側の表面が、易接着処理が施された表面である、請求項6又は7に記載の製造方法。 The production method according to claim 6 or 7, wherein the surface on the side where the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the base material (Y1) is laminated is the surface to which the easy-adhesion treatment is applied. 基材(Y2)の粘着シート(I)が積層した側の表面が、剥離処理が施された表面である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 8, wherein the surface on the side where the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the base material (Y2) is laminated is the surface to which the peeling treatment has been performed. 粘着シート(II)が、基材(Y2)と粘着剤層(X2)との間に、中間層(Z2)を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 9, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet (II) has an intermediate layer (Z2) between the base material (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2). 粘着シート(II)の粘着剤層(X2)が、エネルギー線硬化型の粘着剤層である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 10, wherein the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer. 粘着シート(II)が、下記要件(α)〜(γ)の1以上を満たす、請求項1〜11のいずれか一項に記載の製造方法。
・要件(α):基材(Y2)のヤング率が1.0MPa以上である。
・要件(β):基材(Y2)の厚さが5μm以上である。
・要件(γ):粘着剤層(X2)の貯蔵弾性率G’(23℃)が0.1MPa以上である。
The production method according to any one of claims 1 to 11, wherein the adhesive sheet (II) satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ).
-Requirement (α): Young's modulus of the base material (Y2) is 1.0 MPa or more.
-Requirement (β): The thickness of the base material (Y2) is 5 μm or more.
-Requirement (γ): The storage elastic modulus G'(23 ° C.) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.1 MPa or more.
前記加工対象物が半導体ウエハであり、
前記工程(2)における前記一以上の加工が、下記工程(2−A)を含み、
・工程(2−A):前記半導体ウエハに、分割起点となる改質領域を形成する工程
前記工程(4)が、下記工程(4−A)であり、
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
前記工程(4−A)は、下記(X−A)又は(Y−A)において実施される、請求項1〜12のいずれか一項に記載の製造方法。
(X−A):前記一以上の加工として前記工程(2―A)の後に実施される
(Y−A):前記工程(3)の後に実施される
The object to be processed is a semiconductor wafer.
The one or more processes in the step (2) include the following steps (2-A).
Step (2-A): A step of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer. The step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached. ) Or (YA), the manufacturing method according to any one of claims 1 to 12.
(XA): Performed after the step (2-A) as the one or more processes (YA): Performed after the step (3)
前記加工対象物が半導体チップであり、
前記工程(2)における前記一以上の加工が、下記工程(2−B)を含み、
・工程(2−B):前記半導体チップと、粘着剤層(X2)の粘着表面のうち、前記半導体チップの周辺部と、を封止材で被覆し、該封止材を硬化させて、前記半導体チップが硬化封止材に封止されてなる硬化封止体を得る工程
前記工程(4)は、下記(X−B)及び(Y−B)の少なくともいずれかにおいて実施される、請求項1〜12のいずれか一項に記載の製造方法。
(X−B):前記一以上の加工として前記工程(2―B)の後に実施される
(Y−B):前記工程(3)の後に実施される
The object to be processed is a semiconductor chip,
The one or more processes in the step (2) include the following steps (2-B).
Step (2-B): The semiconductor chip and the peripheral portion of the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) are covered with a sealing material, and the sealing material is cured. Step of obtaining a cured encapsulant obtained by encapsulating the semiconductor chip in a cured encapsulant The step (4) is carried out in at least one of the following (XB) and (YB). Item 2. The production method according to any one of Items 1 to 12.
(XB): Performed after the step (2-B) as the one or more processes (YB): Performed after the step (3)
前記加工対象物が分割起点となる改質領域を有する半導体ウエハであり、
前記工程(4)が下記工程(4−A)である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の製造方法。
・工程(4−A):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
A semiconductor wafer in which the object to be processed has a modified region as a starting point for division.
The production method according to any one of claims 1 to 12, wherein the step (4) is the following step (4-A).
Step (4-A): A step of grinding the surface of the semiconductor wafer on the side opposite to the surface to which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is attached.
前記加工対象物が分割起点となる切り込み溝を有する半導体ウエハであり、
前記工程(1)が下記工程(1−C)であり、前記工程(4)が下記工程(4−C)である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の製造方法。
・工程(1−C):前記粘着性積層体の粘着剤層(X1)の表面を支持体に貼付するとともに、前記粘着性積層体の粘着剤層(X2)の表面に前記半導体ウエハの切り込み溝を有する面を貼付する工程
・工程(4−C):前記半導体ウエハの粘着剤層(X2)との貼付面とは反対側の表面に対して研削を実施する工程
A semiconductor wafer in which the object to be processed has a notch groove as a division starting point.
The production method according to any one of claims 1 to 12, wherein the step (1) is the following step (1-C), and the step (4) is the following step (4-C).
Step (1-C): The surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is attached to the support, and the semiconductor wafer is cut into the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate. Step / Step (4-C) of attaching the grooved surface: A step of grinding the surface of the semiconductor wafer opposite to the surface to which the adhesive layer (X2) is attached.
基材(Y1)及び粘着剤層(X1)を有し、いずれかの層に熱膨張性粒子を含む熱膨張性の粘着シート(I)、並びに、基材(Y2)及び粘着剤層(X2)を有する粘着シート(II)を備え、粘着シート(I)と粘着シート(II)の基材(Y2)とが直接積層してなる、切削及び研削の少なくともいずれかの加工が施された加工品を製造するための、粘着性積層体。 A heat-expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) having a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1) and containing heat-expandable particles in any of the layers, and a base material (Y2) and a pressure-sensitive adhesive layer (X2). ) Is provided, and the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated, and is processed by at least one of cutting and grinding. Adhesive laminate for manufacturing products.
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