KR20200133209A - Processed product manufacturing method and adhesive laminate - Google Patents

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KR20200133209A
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다케히토 나카야마
나오야 오카모토
다카시 아쿠츠
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여 가공품을 제조하는 방법으로서, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하는 공정 (1) 상기 가공 대상물에 하나 이상의 가공을 실시하는 공정 (2) 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 이상에서의 가열에 의해, 상기 가공 대상물을 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 첩부한 상태를 유지하면서, 상기 점착성 적층체를 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면에서 분리하는 공정 (3) 을 순서대로 갖고, 추가로, 상기 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시하는 공정 (4) 를, 공정 (2) 에 있어서 또는 공정 (3) 후에 있어서 실시되는, 가공품의 제조 방법.It has a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), and a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles in any layer, and a pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a base material (Y2) and pressure-sensitive adhesive layer (X2) And, as a method of manufacturing a processed product using an adhesive laminate formed by directly laminating the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II), wherein the surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is a support A step of attaching an object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive layered body while sticking to (1) a step of performing one or more processing on the object to be processed (2) the thermal expansion start temperature of the thermally expandable particles While maintaining the state in which the object to be processed is affixed to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive laminate by heating in the above, the pressure-sensitive adhesive laminate is attached to the adhesive sheet (I) and the substrate of the adhesive sheet (II) ( Step of separating at the interface of Y2) in order (3), and further performing at least any of cutting and grinding on the surface opposite to the affixed surface of the object to be processed with the adhesive layer (X2) (4) The manufacturing method of a processed product performed in process (2) or after process (3).

Description

가공품의 제조 방법 및 점착성 적층체Processed product manufacturing method and adhesive laminate

본 발명은 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품의 제조 방법, 그리고, 당해 제조 방법에 사용되는 점착성 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a processed product in which at least any of cutting and grinding has been performed, and to an adhesive laminate used in the manufacturing method.

점착 시트는, 부재를 반영구적으로 고정시키는 용도뿐만 아니라, 건재, 내장재, 및 전자 부품 등을 가공하거나 검사하거나 할 때, 대상이 되는 부재를 가고정시키기 위한 가고정 용도에 사용되는 경우가 있다.The pressure-sensitive adhesive sheet may be used not only for semi-permanently fixing members, but also for temporary fixing applications for temporarily fixing target members when processing or inspecting building materials, interior materials, and electronic parts, and the like.

이와 같은 가고정 용도의 점착 시트에는, 사용시의 접착성과, 사용 후의 박리성의 양립이 요구된다.The adhesive sheet for such a temporary fixing application is required to have both adhesiveness during use and peelability after use.

예를 들어, 특허문헌 1 에는, 기재의 적어도 편면에, 열팽창성 미소구를 함유하는 열팽창성 점착층이 형성된, 전자 부품 절단시의 가고정용의 가열 박리형 점착 시트가 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a heat-release type pressure-sensitive adhesive sheet for temporary fixation at the time of cutting an electronic component, in which a thermally expandable adhesive layer containing thermally expandable microspheres is formed on at least one side of a substrate.

이 가열 박리형 점착 시트는, 열팽창성 점착층의 두께에 대해, 열팽창성 미소구의 최대 입경을 조정하여, 가열 전의 열팽창성 점착층의 표면의 중심선 평균 조도를 0.4 ㎛ 이하로 조정하고 있다.In this heat-removable adhesive sheet, the maximum particle diameter of the thermally expandable microspheres is adjusted with respect to the thickness of the thermally expandable adhesive layer, and the average roughness of the center line of the surface of the thermally expandable adhesive layer before heating is adjusted to 0.4 µm or less.

특허문헌 1 에는, 당해 가열 박리형 점착 시트는, 전자 부품 절단시에는, 피착체와의 접촉 면적을 확보할 수 있기 때문에, 칩 비산 등의 접착 문제를 방지할 수 있는 접착성을 발휘할 수 있고, 한편, 사용 후에는, 가열하여 열팽창성 미소구를 팽창시켜, 피착체와의 접촉 면적을 감소시킴으로써, 용이하게 박리할 수 있다는 취지의 기재가 있다.In Patent Literature 1, the heat-release type pressure-sensitive adhesive sheet can secure a contact area with an adherend when cutting an electronic component, and thus can exhibit adhesiveness that can prevent adhesion problems such as chip scattering, On the other hand, there is a description to the effect of being able to easily peel off after use by heating to expand the thermally expandable microspheres and reducing the contact area with the adherend.

일본 특허 제3594853호Japanese Patent No. 3594853

특허문헌 1 에 기재된 점착 시트를 사용한 가공의 공정에서는, 점착 시트를 사용하여 가공해야 할 대상물 (이하, 「가공 대상물」 이라고도 한다) 이 가고정되고, 가공 대상물에 소정의 가공이 실시된 후, 당해 가공 대상물이 점착 시트로부터 분리된다.In the process of processing using the pressure-sensitive adhesive sheet described in Patent Document 1, the object to be processed using the pressure-sensitive adhesive sheet (hereinafter, also referred to as ``processing object'') is temporarily fixed, and after a predetermined processing is performed on the object to be processed, the The object to be processed is separated from the adhesive sheet.

그런데, 특히 전자 부품 등의 제조에 있어서는, 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정 중 적어도 어느 공정을 포함하는, 복수의 가공 공정을 거치는 경우가 많다.By the way, especially in manufacture of an electronic component, etc., a plurality of processing steps including at least any of a step of cutting an object to be processed and a step of grinding are often performed.

그 때문에, 예를 들어, 점착 시트에 가고정된 가공 대상물에 대해, 당해 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정 중 적어도 어느 가공 공정이 실시된 후, 당해 가공 대상물이 점착 시트로부터 분리되고, 분리된 가공 대상물이 새로운 점착 시트에 첩부 (貼付) 되어, 다음 공정에 제공되는 경우가 있다.Therefore, for example, for the object to be processed temporarily fixed to the pressure-sensitive adhesive sheet, after at least any of the process of cutting and grinding the object to be processed is performed, the object to be processed is separated from the adhesive sheet and separated The processed object may be affixed to a new adhesive sheet and provided to the next step.

또, 점착 시트에 가고정된 가공 대상물에 대해, 당해 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정 이외의 가공 공정이 실시된 후, 가공 대상물이 점착 시트로부터 분리되고, 분리된 가공 대상물이 새로운 점착 시트에 첩부되고, 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정 중 적어도 어느 가공 공정이 실시되는 경우도 있다.In addition, for the object to be processed temporarily fixed to the adhesive sheet, after processing processes other than the process of cutting and grinding the object to be processed are performed, the object to be processed is separated from the adhesive sheet, and the separated object to be processed is a new adhesive sheet. It is affixed to, and at least any of the process of cutting the object to be processed and the process of grinding may be performed.

그러나, 상기와 같은 순서로 제품을 제조하면, 작업이 번잡해질 뿐만 아니라, 제품의 생산성의 저하로도 연결된다. 그래서, 작업의 번잡성을 억제하면서도, 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 수법의 확립이 요망된다.However, if a product is manufactured in the same order as described above, not only the work becomes complicated, but also leads to a decrease in productivity of the product. Therefore, it is desired to establish a method capable of improving the productivity of the product while suppressing the work complexity.

본 발명은, 가공 대상물을 지지체에 고정시키고, 당해 가공 대상물에 대한 가공을 실시한 후, 당해 가공 대상물을 약간의 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있고, 또한, 지지체로부터 분리한 당해 가공 대상물을 점착 시트에 첩부한 상태로 하여 다음 공정의 가공에 제공할 수 있고, 당해 가공 대상물의 지지체로부터의 분리 전후의 적어도 어느 타이밍으로 당해 가공 대상물의 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시할 수 있는, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품의 제조 방법, 그리고, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품의 제조를 위한 점착성 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.In the present invention, the object to be processed is fixed to a support body, and after processing the object to be processed, the object to be processed can be easily separated from the support body with a slight force, and the processing separated from the support body The object can be provided for processing in the next step while the object is affixed to the adhesive sheet, and at least any of the cutting and grinding of the object to be processed can be performed at at least any timing before and after separation of the object to be processed from the support. , A method of manufacturing a processed product in which at least any of cutting and grinding has been performed, and an adhesive laminate for manufacturing a processed product having at least any of cutting and grinding.

본 발명자들은, 기재 및 점착제층을 갖고, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는 층을 포함하는, 열팽창성의 점착 시트 (I) 와, 기재 및 점착제층을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내었다.The present inventors have a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) comprising a layer containing thermally expandable particles in a certain layer, and a pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, It has been found that the above problem can be solved by producing a processed product subjected to at least any processing of cutting and grinding using an adhesive laminate formed by directly laminating the substrate of the sheet (I) and the adhesive sheet (II).

즉, 본 발명은, 이하의 [1] ∼ [17] 에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [17].

[1] 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창 개시 온도 (t) 의 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하는 방법으로서,[1] A thermally expandable adhesive sheet (I) having a substrate (Y1) and an adhesive layer (X1) and containing thermally expandable particles having a thermal expansion initiation temperature (t) in any layer, and a substrate (Y2) and an adhesive layer (X2) ) Having a pressure-sensitive adhesive sheet (II), and at least any of cutting and grinding is performed using an adhesive laminate formed by directly laminating the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II). As a method of manufacturing a processed product,

하기 공정 (1) ∼ (3) 을 이 순서로 갖고,Having the following steps (1) to (3) in this order,

·공정 (1) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하는 공정Process (1): a step of affixing the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and affixing the object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate

·공정 (2) : 상기 가공 대상물에 하나 이상의 가공을 실시하는 공정Process (2): A process of performing one or more processing on the object to be processed

·공정 (3) : 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 이상에서의 가열에 의해, 상기 가공 대상물을 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 첩부한 상태를 유지하면서, 상기 점착성 적층체를 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리하는 공정Step (3): The adhesiveness while maintaining a state in which the object to be processed is affixed to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate by heating at or above the thermal expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles. Step of separating the laminate at the interface P of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II)

추가로, 하기 공정 (4) 를 갖고,In addition, it has the following process (4),

·공정 (4) : 상기 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시하는 공정Process (4): A process of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed on the opposite side of the surface to be adhered to the adhesive layer (X2)

상기 공정 (4) 는, 하기 (X) 및 (Y) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시되는, 가공품의 제조 방법.The said process (4) is performed in at least any one of following (X) and (Y), The manufacturing method of a processed product.

(X) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2) 에 있어서 실시된다(X): As the one or more processing, it is carried out in the step (2).

(Y) : 상기 공정 (3) 후에 있어서 실시된다(Y): It is implemented after the said process (3)

[2] 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 가 60 ∼ 270 ℃ 인, 상기 [1] 에 기재된 제조 방법.[2] The production method according to [1], wherein the thermal expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 60 to 270°C.

[3] 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 가, 상기 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 제조 방법.[3] The manufacturing method according to [1] or [2], wherein the substrate (Y1) of the adhesive sheet (I) has a thermally expandable base material layer (Y1-1) containing the thermally expandable particles.

[4] 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 가, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는, 상기 [3] 에 기재된 제조 방법.[4] The production method according to [3], wherein the base material (Y1) of the adhesive sheet (I) has a thermally expandable base material layer (Y1-1) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2).

[5] 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는, 상기 [3] 또는 [4] 에 기재된 제조 방법.[5] The above [3] or [4], wherein the thermally expandable substrate layer (Y1-1) of the substrate (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. The manufacturing method described in.

[6] 점착 시트 (I) 가, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 에 의해 기재 (Y1) 가 협지된 구성을 갖고, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖고, 점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 상기 지지체에 첩부되는 면인, 상기 [3] ∼ [5] 에 기재된 제조 방법.[6] The adhesive sheet (I) has a configuration in which the substrate (Y1) is sandwiched by the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12), and the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) ) And the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated, and the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is a surface that is affixed to the support. The production method according to [5].

[7] 제 1 점착제층 (X11) 이, 상기 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층이고,[7] The first adhesive layer (X11) is a thermally expandable adhesive layer containing the thermally expandable particles,

제 2 점착제층 (X12) 이, 비열팽창성 점착제층이고, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖는, 점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 상기 지지체에 첩부되는 면인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 제조 방법.The second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated. The production method according to [1] or [2], wherein the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of (I) is a surface affixed to the support.

[8] 기재 (Y1) 의 제 1 점착제층 (X11) 이 적층한 측의 표면이, 용이 접착 처리가 실시된 표면인, 상기 [6] 또는 [7] 에 기재된 제조 방법.[8] The manufacturing method according to [6] or [7], wherein the surface on the side of the substrate (Y1) on which the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) is laminated is a surface subjected to an easily adhesive treatment.

[9] 기재 (Y2) 의 점착 시트 (I) 가 적층한 측의 표면이, 박리 처리가 실시된 표면인, 상기 [1] ∼ [8] 에 기재된 제조 방법.[9] The manufacturing method according to the above [1] to [8], wherein the surface on the side on which the adhesive sheet (I) of the substrate (Y2) is laminated is a surface subjected to a peeling treatment.

[10] 점착 시트 (II) 가, 기재 (Y2) 와 점착제층 (X2) 사이에, 중간층 (Z2) 을 갖는, 상기 [1] ∼ [9] 에 기재된 제조 방법.[10] The production method according to [1] to [9], wherein the adhesive sheet (II) has an intermediate layer (Z2) between the substrate (Y2) and the adhesive layer (X2).

[11] 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 이, 에너지선 경화형의 점착제층인, 상기 [1] ∼ [10] 에 기재된 제조 방법.[11] The production method according to [1] to [10], wherein the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer.

[12] 점착 시트 (II) 가, 하기 요건 (α) ∼ (γ) 의 하나 이상을 만족시키는, 상기 [1] ∼ [11] 에 기재된 제조 방법.[12] The production method according to [1] to [11], wherein the pressure-sensitive adhesive sheet (II) satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ).

·요건 (α) : 기재 (Y2) 의 영률이 1.0 ㎫ 이상이다.-Requirement (α): The Young's modulus of the substrate (Y2) is 1.0 MPa or more.

·요건 (β) : 기재 (Y2) 의 두께가 5 ㎛ 이상이다. -Requirement (β): The thickness of the substrate (Y2) is 5 µm or more.

·요건 (γ) : 점착제층 (X2) 의 저장 탄성률 G' (23 ℃) 가 0.1 ㎫ 이상이다.Requirement (γ): The storage modulus G'(23°C) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.1 MPa or more.

[13] 상기 가공 대상물이 반도체 웨이퍼이고,[13] the object to be processed is a semiconductor wafer,

상기 공정 (2) 에 있어서의 상기 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-A) 를 포함하고,The one or more processing in the step (2) includes the following step (2-A),

·공정 (2-A) : 상기 반도체 웨이퍼에, 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 공정Process (2-A): A process of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer

상기 공정 (4) 가, 하기 공정 (4-A) 이고,The said process (4) is the following process (4-A),

·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-A): The process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

상기 공정 (4-A) 는, 하기 (X-A) 또는 (Y-A) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시되는, 상기 [1] ∼ [12] 에 기재된 제조 방법.The manufacturing method according to the above [1] to [12], wherein the step (4-A) is performed in at least any one of the following (X-A) or (Y-A).

(X-A) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2-A) 후에 실시된다(X-A): The one or more processing is performed after the step (2-A)

(Y-A) : 상기 공정 (3) 후에 실시된다(Y-A): It is carried out after the above step (3)

[14] 상기 가공 대상물이 반도체 칩이고,[14] the object to be processed is a semiconductor chip,

상기 공정 (2) 에 있어서의 상기 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-B) 를 포함하고,The one or more processing in the step (2) includes the following step (2-B),

·공정 (2-B) : 상기 반도체 칩과, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 상기 반도체 칩의 주변부를 봉지재 (封止材) 로 피복하고, 그 봉지재를 경화시켜, 상기 반도체 칩이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체를 얻는 공정Process (2-B): of the adhesive surfaces of the semiconductor chip and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the peripheral portion of the semiconductor chip is covered with a sealing material, the sealing material is cured, and the semiconductor chip Step of obtaining a cured encapsulant formed by encapsulating the cured encapsulant

상기 공정 (4) 는, 하기 (X-B) 및 (Y-B) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시되는, 상기 [1] ∼ [12] 에 기재된 제조 방법.The manufacturing method according to the above [1] to [12], wherein the step (4) is performed in at least any one of the following (X-B) and (Y-B).

(X-B) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2-B) 후에 실시된다(X-B): The one or more processing is performed after the step (2-B)

(Y-B) : 상기 공정 (3) 후에 실시된다(Y-B): It is carried out after the above step (3)

[15] 상기 가공 대상물이 분할 기점이 되는 개질 영역을 갖는 반도체 웨이퍼이고,[15] a semiconductor wafer having a modified region in which the object to be processed is a division starting point,

상기 공정 (4) 가 하기 공정 (4-A) 인, 상기 [1] ∼ [12] 에 기재된 제조 방법.The production method according to [1] to [12], wherein the step (4) is the following step (4-A).

·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-A): The process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

[16] 상기 가공 대상물이 분할 기점이 되는 절입 홈을 갖는 반도체 웨이퍼이고,[16] the object to be processed is a semiconductor wafer having a cut groove that becomes a division starting point,

상기 공정 (1) 이 하기 공정 (1-C) 이고, 상기 공정 (4) 가 하기 공정 (4-C) 인, 상기 [1] ∼ [12] 에 기재된 제조 방법.The production method according to [1] to [12], wherein the step (1) is the following step (1-C), and the step (4) is the following step (4-C).

·공정 (1-C) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 상기 반도체 웨이퍼의 절입 홈을 갖는 면을 첩부하는 공정Step (1-C): A surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is affixed to the support, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive laminate has a cutout groove of the semiconductor wafer Process of attaching

·공정 (4-C) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-C): A process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

[17] 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하기 위한, 점착성 적층체.[17] A pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a substrate (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles in a certain layer, and a substrate (Y2) and pressure-sensitive adhesive layer (X2) ), wherein the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are directly laminated to each other to produce a processed article subjected to at least any processing of cutting and grinding.

본 발명에 의하면, 가공 대상물을 지지체에 고정시키고, 당해 가공 대상물에 대한 가공을 실시한 후, 당해 가공 대상물을 약간의 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있고, 또한, 지지체로부터 분리한 당해 가공 대상물을 점착 시트에 첩부한 상태로 하여 다음 공정의 가공에 제공할 수 있고, 당해 가공 대상물의 지지체로부터의 분리 전후의 적어도 어느 타이밍으로 당해 가공 대상물의 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시할 수 있는, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품의 제조 방법, 그리고, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품의 제조를 위한 점착성 적층체를 제공할 수 있다.According to the present invention, after the object to be processed is fixed to the support body and the object to be processed is processed, the object to be processed can be easily separated from the support body with a slight force, and the object separated from the support body The object to be processed can be provided for processing in the next step while the object to be processed is affixed to the adhesive sheet, and at least any of the cutting and grinding of the object to be processed can be performed at at least any timing before and after separation of the object to be processed from the support. It is possible to provide a method for manufacturing a processed product in which at least any of cutting and grinding has been performed, and an adhesive laminate for manufacturing a processed product in which at least any of cutting and grinding has been performed.

도 1 은, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 1 양태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 당해 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 2 는, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 2 양태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 당해 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 3 은, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 3 양태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는, 당해 점착성 적층체의 단면 모식도이다.
도 4 는, 본 발명의 제조 방법의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 5 는, 본 발명의 제조 방법의 다른 예를 나타내는 개략도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of the adhesive laminate, showing the configuration of the adhesive laminate according to the first embodiment used in the production method of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view of the adhesive laminate, showing the configuration of the adhesive laminate according to the second aspect used in the production method of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of the adhesive laminate, showing the configuration of the adhesive laminate according to the third embodiment used in the production method of the present invention.
4 is a schematic diagram showing an example of the manufacturing method of the present invention.
5 is a schematic diagram showing another example of the manufacturing method of the present invention.

본 명세서에 있어서, 「층」 이 「비열팽창성층」 인지 「열팽창성층」 인지는, 이하와 같이 판단한다.In this specification, whether the "layer" is a "non-thermal expandable layer" or a "heat expandable layer" is determined as follows.

대상이 되는 층을, 열팽창성 입자를 포함하는 층에 포함되는 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 에서, 3 분간 가열 처리한다. 하기 식으로부터 산출되는 체적 변화율이 5 % 미만인 경우, 당해 층은 「비열팽창성층」 이라고 판단하고, 5 % 이상인 경우, 당해 층은 「열팽창성층」 이라고 판단한다.The target layer is heat-treated for 3 minutes at the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles contained in the layer containing the thermally expandable particles. When the volume change rate calculated from the following equation is less than 5%, the layer is judged as a "non-thermal expandable layer", and when it is 5% or more, the layer is judged as a "thermally expandable layer".

·체적 변화율 (%) = {(가열 처리 후의 상기 층의 체적 - 가열 처리 전의 상기 층의 체적)/가열 처리 전의 상기 층의 체적} × 100Volume change rate (%) = {(volume of the layer after heat treatment-volume of the layer before heat treatment)/volume of the layer before heat treatment} × 100

또한, 열팽창성 입자를 함유하지 않는 층은, 「비열팽창성층」 이라고 한다.In addition, a layer not containing thermally expandable particles is referred to as a "non-thermal expandable layer".

본 명세서에 있어서, 「유효 성분」 이란, 대상이 되는 조성물에 포함되는 성분 중, 희석 용매를 제외한 성분을 가리킨다.In this specification, the "active ingredient" refers to a component excluding a diluting solvent among components contained in a target composition.

본 명세서에 있어서, 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법으로 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 값이고, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 기초하여 측정한 값이다.In this specification, the mass average molecular weight (Mw) is a value in terms of standard polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method, and specifically, is a value measured based on the method described in Examples.

본 명세서에 있어서, 예를 들어, 「(메트)아크릴산」 이란, 「아크릴산」 과「메타크릴산」 의 쌍방을 나타내고, 다른 유사 용어도 동일하다.In this specification, for example, "(meth)acrylic acid" refers to both "acrylic acid" and "methacrylic acid", and other similar terms are also the same.

본 명세서에 있어서, 바람직한 수치 범위 (예를 들어, 함유량 등의 범위) 에 대하여, 단계적으로 기재된 하한값 및 상한값은, 각각 독립적으로 조합할 수 있다. 예를 들어, 「바람직하게는 10 ∼ 90, 보다 바람직하게는 30 ∼ 60」 이라는 기재로부터, 「바람직한 하한값 (10)」 과 「보다 바람직한 상한값 (60)」 을 조합하여, 「10 ∼ 60」 으로 할 수도 있다.In the present specification, with respect to a preferred numerical range (for example, a range of content, etc.), the lower limit and upper limit values described step by step can be independently combined. For example, from the description of "preferably 10 to 90, more preferably 30 to 60", a combination of "preferable lower limit value (10)" and "more preferable upper limit value (60)" to "10 to 60" You may.

[가공품의 제조 방법][Method of manufacturing processed products]

본 발명의 가공품의 제조 방법은, 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창 개시 온도 (t) 의 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고, 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하는 방법으로서,The manufacturing method of the processed article of this invention has a base material (Y1) and an adhesive layer (X1), and the thermally expandable adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles of the thermal expansion initiation temperature (t) in any layer, and the base material ( Cutting and grinding using an adhesive laminate comprising an adhesive sheet (II) having Y2) and an adhesive layer (X2), and directly laminating the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) As a method of manufacturing a processed product subjected to at least any of the processing,

하기 공정 (1) ∼ (3) 을 이 순서로 갖고,Having the following steps (1) to (3) in this order,

·공정 (1) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하는 공정Process (1): a step of affixing the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and affixing the object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate

·공정 (2) : 상기 가공 대상물에 하나 이상의 가공을 실시하는 공정Process (2): A process of performing one or more processing on the object to be processed

·공정 (3) : 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 이상에서의 가열에 의해, 상기 가공 대상물을 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 첩부한 상태를 유지하면서, 상기 점착성 적층체를 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리하는 공정Step (3): The adhesiveness while maintaining a state in which the object to be processed is affixed to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate by heating at or above the thermal expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles. Step of separating the laminate at the interface P of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II)

추가로, 하기 공정 (4) 를 갖고,In addition, it has the following process (4),

·공정 (4) : 상기 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시하는 공정Process (4): A process of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed on the opposite side of the surface to be adhered to the adhesive layer (X2)

상기 공정 (4) 는, 하기 (X) 및 (Y) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시된다.The said process (4) is implemented in at least any one of following (X) and (Y).

(X) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2) 에 있어서 실시된다(X): As the one or more processing, it is carried out in the step (2).

(Y) : 상기 공정 (3) 후에 있어서 실시된다(Y): It is implemented after the said process (3)

이하, 본 발명의 제조 방법에 사용되는 점착성 적층체에 대해 설명한 후, 공정 (1) ∼ (4) 를 포함하는 각 제조 공정에 대해 설명한다.Hereinafter, after describing the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention, each manufacturing process including the steps (1) to (4) will be described.

[점착성 적층체의 구성][Configuration of adhesive laminate]

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체는, 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는, 열팽창성의 점착 시트 (I) 와, 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지고, 가공 대상물에 소정의 가공을 실시할 때에 가공 대상물을 지지체에 고정시키기 위해 사용된다.The adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention has a substrate (Y1) and an adhesive layer (X1), and contains thermally expandable particles in a layer, a thermally expandable adhesive sheet (I), and a substrate (Y2), When the pressure-sensitive adhesive sheet (II) having the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is provided, the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated, and a predetermined processing is performed on the object to be processed. It is used to fix the object to be processed on the support.

본 명세서에 있어서, 소정의 가공이란, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 공정 (2) 의 가공을 의미하고 있다. 또한, 본 발명에서는, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서 공정 (4) 를 실시하는 경우도 있다. 따라서, 소정의 가공에는, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 공정 (4) 도 포함될 수 있다.In this specification, the predetermined processing means processing in the step (2) in the manufacturing method of the present invention. In addition, in the present invention, the step (4) may be performed as one of one or more processing in the step (2). Therefore, the predetermined processing can also include step (4) in the manufacturing method of the present invention.

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체에 있어서, 점착 시트 (I) 의 점착제층 (X1) 의 표면은, 지지체를 첩부하는 면이다. 점착 시트 (I) 가 제 1 점착제층 (X11) 과 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 경우, 제 2 점착제층 (X12) 의 표면이 지지체를 첩부하는 면이고, 제 1 점착제층 (X11) 의 표면은 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 측에 적층하는 면이다. 또, 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 의 표면은, 가공 대상물을 첩부하는 면이다.In the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention, the surface of the adhesive layer (X1) of the adhesive sheet (I) is a surface to which the support is attached. When the pressure-sensitive adhesive sheet (I) has a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and a second pressure-sensitive adhesive layer (X12), the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) is a surface to which the support is attached, and that of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) The surface is a surface laminated on the substrate (Y2) side of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). Moreover, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is a surface to which the object to be processed is affixed.

그리고, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체는, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도에서의 가열 처리에 의해, 점착 시트 (I) 와, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리 가능하다. 이후의 설명에서는, 당해 가열 처리를 「분리용 가열 처리」 라고도 한다.And the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention is heat-treated at a temperature equal to or higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles, so that the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) ) At the interface P. In the following description, the heat treatment is also referred to as "separation heat treatment".

도 1 ∼ 3 은, 각각, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 1 양태, 제 2 양태, 및 제 3 양태의 점착성 적층체의 구성을 나타내는 단면 모식도이다.1 to 3 are schematic cross-sectional views each showing the configuration of the adhesive laminate of the first aspect, the second aspect, and the third aspect used in the production method of the present invention.

<제 1 양태의 점착성 적층체><The adhesive laminate of the first aspect>

본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 1 양태의 점착성 적층체로는, 예를 들어 도 1(a), (b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1a, 1b) 를 들 수 있다.As the adhesive laminate of the first aspect to be used in the manufacturing method of the present invention, for example, the adhesive laminates 1a and 1b shown in Figs. 1(a) and (b) can be mentioned.

점착성 적층체 (1a, 1b) 는, 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖는 점착 시트 (I) 와, 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 와, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖는다.The adhesive laminate (1a, 1b) is provided with an adhesive sheet (I) having a substrate (Y1) and an adhesive layer (X1), and an adhesive sheet (II) having a substrate (Y2) and an adhesive layer (X2), The base material (Y1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) have a structure in which the base material (Y2) is directly laminated.

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체는, 분리용 가열 처리에 의해 계면 P 에서 분리할 수 있도록, 점착 시트 (I) 의 어느 층을, 열팽창성 입자를 포함하는 층으로 하고 있다.In the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention, any layer of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) is made into a layer containing thermally expandable particles so that it can be separated at the interface P by the heat treatment for separation.

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체는, 분리용 가열 처리에 의해, 열팽창성 입자가 팽창하여, 열팽창성 입자를 포함하는 층의 표면에 요철이 생긴다. 이로써, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention, thermally expandable particles are expanded by the heat treatment for separation, and irregularities are formed on the surface of the layer containing the thermally expandable particles. Thereby, the contact area between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) decreases.

그 결과, 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 의 표면 상에 가공 대상물을 첩부하고, 소정의 가공을 실시한 후, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리시킴으로써, 소정의 가공이 실시된, 점착 시트 (II) 에 첩부된 상태의 가공 대상물을 얻을 수 있다.As a result, after affixing the object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) and performing predetermined processing, the interface P of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) By separating at, the object to be processed in a state affixed to the pressure-sensitive adhesive sheet (II) can be obtained.

그 때문에, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 상기의 점착성 적층체를 개재하여 가공 대상물을 지지체에 고정시켜 소정의 가공을 실시할 수 있음과 함께, 소정의 가공이 실시된 가공 대상물을 약간의 힘으로 지지체로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다. 또한, 지지체로부터 분리한 가공 대상물은 점착 시트 (II) 에 첩부한 상태로 하여, 그대로 다음 공정에 제공할 수 있다.Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, a predetermined processing can be performed by fixing the object to be processed to a support through the above-described adhesive laminate, and the object to be processed is subjected to a predetermined processing with a slight force. It can be easily separated collectively from the support. In addition, the object to be processed separated from the support can be provided to the next step as it is while being affixed to the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

따라서, 소정의 가공이 실시된 분리 후의 가공 대상물을 새로운 점착 시트에 첩부하는 작업을 실시할 필요가 없어, 작업성 및 제품의 생산성이 향상될 수 있다.Accordingly, there is no need to perform the operation of affixing the object to be processed after separation on which the predetermined processing has been performed to a new adhesive sheet, and thus workability and productivity of the product can be improved.

본 발명의 제 1 양태에 있어서, 기재 (Y1) 는, 도 1 에 나타내는 점착성 적층체 (1a, 1b) 와 같이, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the substrate (Y1) has a thermally expandable base layer (Y1-1) containing thermally expandable particles, like the adhesive laminate (1a, 1b) shown in FIG. .

또한, 기재 (Y1) 는, 도 1(a) 에 나타내는 점착성 적층체 (1a) 와 같이, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 만을 갖는 단층 구성이어도 된다. 또, 기재 (Y1) 는, 도 1(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1b) 와 같이, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는 복층 구성이어도 된다.In addition, the base material (Y1) may have a single-layer configuration having only a thermally expandable base material layer (Y1-1) containing thermally expandable particles, like the adhesive laminate (1a) shown in Fig. 1(a). In addition, the base material (Y1) may be a multilayer structure having a thermally expandable base material layer (Y1-1) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2) as in the adhesive laminate (1b) shown in FIG. 1(b). .

도 1(a) 에 나타내는 점착성 적층체 (1a) 는, 분리용 가열 처리에 의해, 기재 (Y1) 를 구성하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 에 포함되는 열팽창성 입자가 팽창하여, 기재 (Y1) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에 요철이 생겨, 기재 (Y1) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive layered product 1a shown in FIG. 1(a), the heat-expandable particles contained in the thermally expandable base layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) expand by heat treatment for separation, and the base material ( The surface of the adhesive sheet (II) of Y1) is uneven, and the contact area between the substrate (Y1) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) decreases.

한편, 점착성 적층체 (1a) 가 갖는 점착제층 (X1) 은, 지지체와 첩부되어 있기 때문에, 기재 (Y1) 의 점착제층 (X1) 측의 표면에는 요철이 잘 형성되지 않는다. 이로써, 점착 시트 (II) 와 접하고 있는 기재 (Y1) 의 표면에 요철을 효율적으로 형성할 수 있다.On the other hand, since the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive layered product (1a) is affixed to the support, irregularities are hardly formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) side of the substrate (Y1). Thereby, the unevenness|corrugation can be formed efficiently on the surface of the base material (Y1) in contact with the adhesive sheet (II).

그 결과, 점착성 적층체 (1a) 는, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.As a result, the adhesive layered product 1a can be easily separated collectively at the interface P of the substrate Y1 of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate Y2 of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with a slight force.

또한, 점착성 적층체 (1a) 가 갖는 점착제층 (X1) 을, 지지체에 대한 점착력이 높아지는 점착제 조성물로 형성함으로써, 계면 P 에서, 보다 용이하게 분리 가능해지도록 설계할 수도 있다.In addition, by forming the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive layered product 1a from a pressure-sensitive adhesive composition having a high adhesive force to the support, it may be designed so that it can be more easily separated from the interface P.

또, 도 1(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1b) 는, 분리용 가열 처리에 의해, 기재 (Y1) 를 구성하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 에 포함되는 열팽창성 입자가 팽창하여, 기재 (Y1) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에 요철이 생겨, 기재 (Y1) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In addition, in the adhesive layered product 1b shown in FIG. 1(b), thermally expandable particles included in the thermally expandable base layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) are expanded by heat treatment for separation, Unevenness occurs on the surface of the substrate Y1 on the side of the pressure-sensitive adhesive sheet II, and the contact area between the substrate Y1 and the substrate Y2 of the pressure-sensitive adhesive sheet II decreases.

한편, 기재 (Y1) 를 구성하는 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 은, 가열 처리에 의한 팽창의 정도가 작기 때문에, 기재 (Y1) 의 점착제층 (X1) 측의 표면에는 요철이 잘 형성되지 않는다. 이로써, 기재 (Y1) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에 요철을 효율적으로 형성할 수 있다.On the other hand, since the non-thermal expandable substrate layer (Y1-2) constituting the substrate (Y1) has a small degree of expansion by heat treatment, irregularities are not well formed on the surface of the adhesive layer (X1) side of the substrate (Y1). Does not. Thereby, the unevenness|corrugation can be formed efficiently on the surface of the adhesive sheet (II) side of the base material (Y1).

그 결과, 점착성 적층체 (1b) 는, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.As a result, the adhesive layered product 1b can be easily separated collectively with a slight force at the interface P between the substrate Y1 of the adhesive sheet (I) and the substrate Y2 of the adhesive sheet (II).

또한, 점착성 적층체 (1a) 의 경우와 동일하게, 점착성 적층체 (1b) 가 갖는 점착제층 (X1) 을, 지지체에 대한 점착력이 높아지는 점착제 조성물로 형성함으로써, 계면 P 에서, 보다 용이하게 분리 가능해지도록 설계할 수도 있다.In addition, in the same manner as in the case of the adhesive laminate (1a), by forming the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate (1b) with a pressure-sensitive adhesive composition that increases the adhesion to the support, it is possible to more easily separate from the interface P. It can also be designed to fit.

상기 관점에서, 본 발명의 제 1 양태에 있어서, 도 1(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1b) 와 같이, 기재 (Y1) 가, 일방의 표면측에 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖고, 타방의 표면측에 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는 것임이 바람직하다.From the above point of view, in the first aspect of the present invention, like the adhesive laminate (1b) shown in Fig. 1(b), the substrate (Y1) has a thermally expandable substrate layer (Y1-1) on one surface side. It is preferable that it has, and has a non-thermal expandable base material layer (Y1-2) on the other surface side.

또, 본 발명의 제 1 양태에 있어서, 계면 P 에서 보다 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능한 점착성 적층체로 하는 관점에서, 점착성 적층체 (1a, 1b) 는, 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성인 것이 바람직하다.In addition, in the first aspect of the present invention, from the viewpoint of making the adhesive laminate that can be easily separated collectively with a slight force from the interface P, the adhesive laminate (1a, 1b) has It is preferable that it is a structure in which the heat-expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) and base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are laminated directly.

<제 2 양태의 점착성 적층체><Second aspect adhesive laminate>

본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 2 양태의 점착성 적층체로는, 예를 들어 도 2(a), (b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d) 를 들 수 있다.As the adhesive laminate of the second aspect to be used in the production method of the present invention, for example, the adhesive laminate (1c, 1d) shown in Figs. 2(a) and (b) can be mentioned.

점착성 적층체 (1c, 1d) 는, 점착 시트 (I) 가, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 에 의해 기재 (Y1) 가 협지된 구성을 갖고, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖는다.The adhesive laminate (1c, 1d) has a configuration in which the adhesive sheet (I) is sandwiched between the substrate (Y1) by the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12), and the adhesive sheet (I) The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are directly laminated.

또한, 점착성 적층체 (1c, 1d) 에 있어서, 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 지지체와 첩부되는 면이 된다.In addition, in the adhesive laminate (1c, 1d), the surface of the second adhesive layer (X12) becomes a surface to be affixed to the support.

본 발명의 제 2 양태에 있어서, 기재 (Y1) 는, 도 2 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d) 와 같이, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는 것이 바람직하다.In the second aspect of the present invention, it is preferable that the substrate (Y1) has a thermally expandable base layer (Y1-1) containing thermally expandable particles, like the adhesive laminate (1c, 1d) shown in FIG. .

또한, 기재 (Y1) 는, 도 2(a) 에 나타내는 점착성 적층체 (1c) 와 같이, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 만을 갖는 단층 구성이어도 된다.In addition, the base material (Y1) may have a single-layer configuration having only the thermally expandable base material layer (Y1-1) containing thermally expandable particles, as in the adhesive laminate (1c) shown in Fig. 2(a).

또, 기재 (Y1) 는, 도 2(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1d) 와 같이, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는 복층 구성이어도 된다.In addition, the base material (Y1) may be a multilayer structure having a thermally expandable base material layer (Y1-1) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2) as in the adhesive laminate (1d) shown in FIG. 2(b). .

또, 기재 (Y1) 가, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는 복층 구성인 경우, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 은 점착 시트 (II) 측에 배치되고, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 은 제 2 점착제층 (X12) 측에 배치되는 것이 바람직하다.Moreover, when the base material (Y1) is a multilayered structure having a thermally expandable base material layer (Y1-1) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2), the thermally expandable base material layer (Y1-1) is an adhesive sheet (II) It is arranged on the side, and it is preferable that the non-thermal expandable base material layer (Y1-2) is arranged on the side of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12).

도 2(a) 에 나타내는 점착성 적층체 (1c) 는, 분리용 가열 처리에 의해, 기재 (Y1) 를 구성하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 중의 열팽창성 입자가 팽창하여, 기재 (Y1) 의 제 1 점착제층 (X11) 측의 표면에 요철이 생긴다. 그리고, 기재 (Y1) 의 표면에 생긴 요철에 의해 제 1 점착제층 (X11) 도 밀어 올려져, 제 1 점착제층 (X11) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에도 요철이 형성된다. 이로써, 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive laminate (1c) shown in Fig. 2(a), the thermally expandable particles in the thermally expandable base layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) expand by heat treatment for separation, and the base material (Y1) The unevenness is formed on the surface of the 1st adhesive layer (X11) side of. And the 1st adhesive layer X11 is also pushed up by the unevenness|corrugation generated on the surface of the base material Y1, and the unevenness|corrugation is also formed in the surface of the adhesive sheet II side of the 1st adhesive layer X11. Thereby, the contact area between the 1st adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) decreases.

한편, 제 2 점착제층 (X12) 에는, 지지체가 첩부되기 때문에, 기재 (Y1) 의 제 2 점착제층 (X12) 측의 표면에는 요철이 잘 형성되지 않는다. 그 때문에, 기재 (Y1) 의 제 1 점착층 (X11) 측의 표면에 효율적으로 요철이 형성되고, 제 1 점착층 (X11) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에 효율적으로 요철이 형성된다.On the other hand, since the support is affixed to the second pressure-sensitive adhesive layer X12, irregularities are hardly formed on the surface of the second pressure-sensitive adhesive layer X12 side of the substrate Y1. Therefore, irregularities are efficiently formed on the surface of the first adhesive layer (X11) side of the substrate (Y1), and irregularities are efficiently formed on the surface of the first adhesive layer (X11) on the adhesive sheet (II) side.

그 결과, 점착성 적층체 (1c) 는, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.As a result, the adhesive laminate (1c) is easily separated collectively with a slight force at the interface P between the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II). It becomes possible.

또한, 점착성 적층체 (1c) 가 갖는 제 2 점착제층 (X12) 을, 지지체에 대한 점착력이 높아지는 점착제 조성물로 형성함으로써, 계면 P 에서 보다 용이하게 분리 가능해지도록 설계할 수도 있다.Further, by forming the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) of the pressure-sensitive adhesive layered product 1c from a pressure-sensitive adhesive composition that increases the adhesive strength to the support, it may be designed so that it can be more easily separated from the interface P.

또, 도 2(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1d) 는, 분리용 가열 처리에 의해, 기재 (Y1) 를 구성하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 에 포함되는 열팽창성 입자가 팽창하여, 기재 (Y1) 의 제 1 점착제층 (X11) 측의 표면에 요철이 생긴다. 그리고, 기재 (Y1) 의 표면에 생긴 요철에 의해 제 1 점착제층 (X11) 도 밀어 올려져, 제 1 점착제층 (X11) 의 점착 시트 (II) 측의 표면에도 요철이 형성된다. 이로써, 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In addition, in the adhesive laminate (1d) shown in FIG. 2(b), thermally expandable particles included in the thermally expandable base layer (Y1-1) constituting the base material (Y1) expand by heat treatment for separation, Unevenness is generated on the surface of the substrate (Y1) on the side of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11). And the 1st adhesive layer X11 is also pushed up by the unevenness|corrugation generated on the surface of the base material Y1, and the unevenness|corrugation is also formed in the surface of the adhesive sheet II side of the 1st adhesive layer X11. Thereby, the contact area between the 1st adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) decreases.

한편, 기재 (Y1) 를 구성하는 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 은, 가열 처리에 의한 팽창의 정도가 작기 때문에, 기재 (Y1) 의 제 2 점착제층 (X12) 측의 표면에는 요철이 잘 형성되지 않는다. 이로써, 기재 (Y1) 의 제 1 점착제층 (X11) 측의 표면에 요철을 효율적으로 형성할 수 있다.On the other hand, since the non-thermal expandable base layer (Y1-2) constituting the base material (Y1) has a small degree of expansion due to heat treatment, the surface of the base material (Y1) on the side of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) has good irregularities. Is not formed. Thereby, the unevenness|corrugation can be formed efficiently on the surface of the 1st adhesive layer (X11) side of the base material (Y1).

그 결과, 점착성 적층체 (1d) 는, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.As a result, the adhesive laminated body 1d can be easily separated collectively with a slight force at the interface P between the base material Y1 of the adhesive sheet (I) and the base material Y2 of the adhesive sheet (II).

또한, 점착성 적층체 (1c) 의 경우와 동일하게, 점착성 적층체 (1d) 가 갖는 제 2 점착제층 (X12) 을, 지지체에 대한 점착력이 높아지는 점착제 조성물로 형성함으로써, 계면 P 에서, 보다 용이하게 분리 가능해지도록 설계할 수도 있다.In addition, in the same manner as in the case of the adhesive laminate (1c), by forming the second adhesive layer (X12) of the adhesive laminate (1d) from a pressure-sensitive adhesive composition that increases the adhesive strength to the support, at the interface P, more easily It can also be designed to be detachable.

여기서, 본 발명의 제 2 양태에 있어서도, 계면 P 에서 보다 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능한 점착성 적층체로 하는 관점에서, 점착성 적층체 (1c, 1d) 는, 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 제 1 점착제층 (X11) 이 직접 적층한 구성인 것이 바람직하다. 이 경우, 또한, 제 1 점착제층 (X11) 과 수지막 형성용 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성인 것이 보다 바람직하다.Here, also in the second aspect of the present invention, from the viewpoint of making the adhesive laminate that can be easily separated collectively with a slight force than at the interface P, the adhesive laminate (1c, 1d) has the adhesive sheet (I). It is preferable that it is a structure in which the thermally expandable base material layer (Y1-1) of the base material (Y1) and the 1st adhesive layer (X11) were laminated directly. In this case, it is more preferable that the first adhesive layer (X11) and the substrate (Y2) of the resin film-forming sheet (II) are directly laminated.

<제 3 양태의 점착성 적층체><3rd aspect adhesive laminate>

본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 1 양태의 점착성 적층체 (1a, 1b), 제 2 양태의 점착성 적층체 (1c, 1d) 는, 모두, 기재 (Y1) 를 구성하는 층의 하나로서, 열팽창성 입자를 포함하는 층이 포함되는 것이다.The adhesive laminates (1a, 1b) of the first aspect and the adhesive laminates (1c, 1d) of the second aspect used in the production method of the present invention are all one of the layers constituting the substrate (Y1), and are thermally expanded. It includes a layer containing sexual particles.

한편, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 제 3 양태의 점착성 적층체로서, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 의 계면 P 측의 표면에, 상기 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층을 형성하고, 기재 (Y1) 의 타방의 표면에, 비열팽창성 점착제층을 형성한 구성이어도 된다.On the other hand, as the adhesive laminate of the third aspect to be used in the production method of the present invention, a thermally expandable adhesive layer containing the thermally expandable particles is formed on the surface of the interface P side of the substrate (Y1) of the adhesive sheet (I). It may be a configuration in which a non-thermal expandable pressure-sensitive adhesive layer is formed on the other surface of the substrate (Y1).

이와 같은 양태로는, 예를 들어 도 3 에 나타내는 점착성 적층체 (2) 와 같이, 점착 시트 (I) 가, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 에 의해 기재 (Y1) 가 협지된 구성을 갖고, 제 1 점착제층 (X11) 이, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층이고, 제 2 점착제층 (X12) 이, 비열팽창성 점착제층이고, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖는 것을 들 수 있다.In such an aspect, for example, like the adhesive laminated body 2 shown in FIG. 3, the adhesive sheet (I) is the base material (Y1) by the 1st adhesive layer (X11) and the 2nd adhesive layer (X12). The first adhesive layer (X11) is a thermally expandable adhesive layer containing thermally expandable particles, and the second adhesive layer (X12) is a non-thermal expandable adhesive layer, and the adhesive sheet (I) What has a structure in which the 1 adhesive layer (X11) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) laminated directly is mentioned.

또한, 점착성 적층체 (2) 와 같은 상기 구성에 있어서, 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 지지체와 첩부되는 면이다.In addition, in the above-described configuration as in the adhesive layered product 2, the surface of the second adhesive layer X12 is a surface to be affixed to the support.

또, 점착성 적층체 (2) 와 같은 상기 구성에 있어서, 기재 (Y1) 는, 비열팽창성 기재인 것이 바람직하다.Moreover, in the above-described configuration as in the adhesive laminate (2), the substrate (Y1) is preferably a non-thermal expandable substrate.

도 3 에 나타내는 점착성 적층체 (2) 에 있어서는, 분리용 가열 처리에 의해, 제 1 점착제층 (X11) 인 열팽창성 점착제층의 표면에 요철이 생겨, 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 접촉 면적이 감소한다.In the adhesive laminate (2) shown in FIG. 3, by the heat treatment for separation, irregularities are formed on the surface of the thermally expandable adhesive layer, which is the first adhesive layer (X11), and the first adhesive layer (X11) and the adhesive sheet ( The contact area of the substrate (Y2) of II) decreases.

한편, 제 1 점착제층 (X11) 의 기재 (Y1) 측의 표면은, 비열팽창성 기재인 기재 (Y1) 가 적층하고 있기 때문에, 요철은 잘 생기지 않는다. 그 때문에, 제 1 점착제층 (X11) 의, 점착 시트 (II) 측의 표면에 효율적으로 요철이 형성된다.On the other hand, on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) on the side of the substrate (Y1), since the substrate (Y1), which is a non-thermal expandable substrate, is laminated, irregularities are hardly generated. Therefore, the unevenness|corrugation is formed efficiently on the surface of the adhesive sheet (II) side of 1st adhesive layer (X11).

그 결과, 점착성 적층체 (2) 는, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.As a result, the adhesive laminate (2) is easily separated collectively with a slight force at the interface P between the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II). It becomes possible.

<박리재를 갖는 점착성 적층체의 구성><Configuration of adhesive laminate with peeling material>

본 발명의 제조 방법에 사용하는 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 지지체를 첩부하는 점착제층 (X1) 의 표면 및 가공 대상물을 첩착 (貼着) 하는 점착제층 (X2) 의 표면의 일방 또는 쌍방에, 추가로 박리재를 적층한 구성으로 해도 된다.In one aspect of the adhesive laminate used in the production method of the present invention, on one or both of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) to which the support is affixed and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) to which the object to be processed is adhered In addition, it may be a configuration in which a release material is laminated.

또, 예를 들어 도 1(a), (b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1a, 1b) 에 있어서, 점착제층 (X1) 및 점착제층 (X2) 의 일방의 점착 표면에, 양면에 박리 처리가 실시된 박리재가 적층한 것을, 롤상으로 감은 구성으로 해도 된다. 도 2(a), (b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d), 도 3 에 나타내는 점착성 적층체 (2) 에 대해서도, 동일하게 롤상으로 감은 구성으로 해도 된다.In addition, for example, in the adhesive laminate (1a, 1b) shown in Figs. 1(a) and (b), peeling treatment is performed on both surfaces on one of the adhesive surfaces of the adhesive layer (X1) and the adhesive layer (X2). What is laminated|stacked by the implemented release material may be made into the structure wound up in a roll shape. The adhesive laminate (1c, 1d) shown in Figs. 2(a) and (b) and the adhesive laminate (2) shown in Fig. 3 may be similarly wound in a roll shape.

[점착성 적층체의 각종 물성][Various properties of adhesive laminate]

본 발명의 제조 방법에 사용하는 일 양태의 점착성 적층체는, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도에서의 가열 처리에 의해, 점착 시트 (I) 와, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해진다.The adhesive laminate of one aspect used in the manufacturing method of the present invention is heat-treated at a temperature equal to or higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles, so that the adhesive sheet (I) and the base material of the adhesive sheet (II) ( At the interface P of Y2), it becomes possible to easily separate all at once with a slight force.

여기서, 본 발명의 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도에서의 가열 처리에 의해, 계면 P 에서 분리할 때의 박리력 (F1) 으로는, 통상 0 ∼ 2000 mN/25 ㎜, 바람직하게는 0 ∼ 1000 mN/25 ㎜, 보다 바람직하게는 0 ∼ 150 mN/25 ㎜, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 100 mN/25 ㎜, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 50 mN/25 ㎜ 이다.Here, in the adhesive laminate of one aspect of the present invention, by heat treatment at a temperature equal to or higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles, the peel force (F 1 ) when separating at the interface P is usually 0 to 2000 mN/25 mm, preferably 0 to 1000 mN/25 mm, more preferably 0 to 150 mN/25 mm, still more preferably 0 to 100 mN/25 mm, even more preferably 0 to It is 50 mN/25 mm.

또한, 박리력 (F1) 이 0 mN/25 ㎜ 인 경우에는, 실시예에 기재된 방법으로 박리력을 측정하고자 해도, 박리력이 지나치게 작기 때문에 측정 불가가 되는 경우도 포함된다.In addition, when the peeling force (F 1 ) is 0 mN/25 mm, even if the peeling force is to be measured by the method described in Examples, the peeling force is too small, and thus the measurement is impossible.

또, 가열 처리 전에 있어서, 가공 대상물을 충분히 고정시켜, 가공 작업에 악영향을 미치지 않게 하는 관점에서, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 층간 밀착성은 높은 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of sufficiently fixing the object to be processed before heat treatment so as not to adversely affect the processing operation, it is preferable that the interlayer adhesiveness between the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) is high.

상기 관점에서, 본 발명의 제조 방법에 사용하는 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 가열 처리를 실시하기 전에 있어서의, 계면 P 에서 분리할 때의 박리력 (F0) 으로는, 바람직하게는 100 mN/25 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 300 mN/25 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 500 mN/25 ㎜ 이상이고, 또, 바람직하게는 50000 mN/25 ㎜ 이하이다.From the above point of view, in the adhesive laminate of one aspect to be used in the production method of the present invention, the peeling force (F 0 ) at the time of separation at the interface P before heat treatment is preferably 100 It is mN/25 mm or more, more preferably 300 mN/25 mm or more, still more preferably 500 mN/25 mm or more, and preferably 50000 mN/25 mm or less.

본 발명의 제조 방법에 사용하는 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 박리력 (F0) 은 박리력 (F1) 보다 크다. 구체적으로는, 박리력 (F1) 과 박리력 (F0) 의 비 [(F1)/(F0)] 는, 바람직하게는 0 ∼ 0.9, 보다 바람직하게는 0 ∼ 0.8, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 0.5, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 0.2 이다.In one aspect of the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention, the peel force (F 0 ) is greater than the peel force (F 1 ). Specifically, the ratio of the peeling force (F 1 ) and the peeling force (F 0 ) [(F 1 )/(F 0 )] is preferably 0 to 0.9, more preferably 0 to 0.8, further preferably Is 0 to 0.5, and even more preferably 0 to 0.2.

또한, 박리력 (F1) 을 측정할 때의 온도 조건으로는, 팽창 개시 온도 (t) 이상이며, 열팽창성 입자가 팽창하는 온도이면 된다.In addition, as a temperature condition when measuring the peeling force (F 1 ), it is not less than the expansion initiation temperature (t), and may be a temperature at which the thermally expandable particles expand.

또, 박리력 (F0) 을 측정할 때의 온도 조건으로는, 팽창 개시 온도 (t) 미만이면 되지만, 기본적으로는, 실온 (23 ℃) 이다.Moreover, as a temperature condition when measuring the peeling force (F 0 ), it just needs to be less than the expansion start temperature (t), but it is basically room temperature (23 degreeC).

단, 박리력 (F1) 및 박리력 (F0) 의 보다 구체적인 측정 조건 및 측정 방법은, 실시예에 기재된 방법에 기초한다.However, more specific measurement conditions and measurement methods of peeling force (F 1 ) and peeling force (F 0 ) are based on the methods described in Examples.

본 발명의 제조 방법에 사용하는 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 실온 (23 ℃) 에 있어서의, 점착 시트 (I) 가 갖는 점착제층 (X1) (제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12)) 의 점착력, 및 점착 시트 (II) 가 갖는 점착제층 (X2) 의 점착력으로는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 0.1 ∼ 10.0 N/25 ㎜, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 8.0 N/25 ㎜, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 6.0 N/25 ㎜, 보다 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 4.0 N/25 ㎜ 이다.In the pressure-sensitive adhesive laminate of one aspect used in the production method of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) at room temperature (23°C) (the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive The adhesive force of the layer (X12)) and the adhesive force of the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II) are each independently, preferably 0.1 to 10.0 N/25 mm, more preferably 0.2 to 8.0 N/ It is 25 mm, more preferably 0.4 to 6.0 N/25 mm, and even more preferably 0.5 to 4.0 N/25 mm.

점착 시트 (I) 가 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 경우, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 의 점착력은, 각각 상기 범위인 것이 바람직하지만, 지지체와의 밀착성을 향상시키고, 계면 P 에서 일괄적으로 보다 용이하게 분리 가능하게 하는 관점에서, 지지체와 첩부되는 제 2 점착제층 (X12) 의 점착력이, 제 1 점착제층 (X11) 의 점착력보다 높은 것이 보다 바람직하다.When the adhesive sheet (I) has a first adhesive layer (X11) and a second adhesive layer (X12), the adhesive strength of the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12) is preferably in the above range, respectively. However, from the viewpoint of improving the adhesion with the support and making it possible to separate more easily collectively at the interface P, the adhesive strength of the second adhesive layer (X12) affixed to the support is the adhesive force of the first adhesive layer (X11) It is more preferable to be higher.

점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 및 점착 시트 (II) 가 갖는 기재 (Y2) 는, 비점착성의 기재이다.The substrate (Y1) of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) are non-adhesive substrates.

본 발명에 있어서, 비점착성의 기재인지 여부의 판단은, 대상이 되는 기재의 표면에 대해, JIS Z0237 : 1991 에 준거하여 측정한 프로브 택값이 50 mN/5 ㎜φ 미만이면, 당해 기재를 「비점착성의 기재」 라고 판단한다.In the present invention, the determination of whether or not a non-adhesive substrate is performed when the probe tack value measured in accordance with JIS Z0237: 1991 is less than 50 mN/5 mmφ with respect to the surface of the target substrate. It is judged to be an adhesive substrate”.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 및 점착 시트 (II) 가 갖는 기재 (Y2) 의 표면에 있어서의 프로브 택값은, 각각 독립적으로, 통상 50 mN/5 ㎜φ 미만이지만, 바람직하게는 30 mN/5 ㎜φ 미만, 보다 바람직하게는 10 mN/5 ㎜φ 미만, 더욱 바람직하게는 5 mN/5 ㎜φ 미만이다.The probe tack value on the surface of the substrate (Y1) of the adhesive sheet (I) used in the embodiment of the present invention and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) are each independently, usually 50 mN/5 mm It is less than φ, but is preferably less than 30 mN/5 mmφ, more preferably less than 10 mN/5 mmφ, and still more preferably less than 5 mN/5 mmφ.

또한, 본 명세서에 있어서, 열팽창성 기재의 표면에 있어서의 프로브 택값의 구체적인 측정 방법은, 실시예에 기재된 방법에 의한다.In addition, in this specification, the specific measuring method of the probe tack value on the surface of a thermally expandable base material is according to the method described in Examples.

이하, 본 발명의 점착성 적층체를 구성하는 각 층에 대해 설명한다.Hereinafter, each layer constituting the adhesive laminate of the present invention will be described.

[점착 시트 (I) 의 구성][Configuration of adhesive sheet (I)]

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체가 갖는 점착 시트 (I) 는, 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 분리용 가열 처리에 의해, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 와의 계면에서 분리할 수 있도록, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는, 열팽창성의 점착 시트이다.The adhesive sheet (I) of the adhesive laminate used in the manufacturing method of the present invention has a substrate (Y1) and an adhesive layer (X1), and is separated from the adhesive sheet (II) with the substrate (Y2) by heating treatment for separation. It is a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet containing thermally expandable particles in a certain layer so that it can be separated at the interface.

본 발명에 일 양태에 있어서, 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 는, 바람직하게는 60 ∼ 270 ℃ 이다.In one aspect of the present invention, the thermal expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is preferably 60 to 270°C.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착 시트 (I) 로는, 이하의 양태의 것이 바람직하다.As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) used in one aspect of the present invention, the ones of the following aspects are preferable.

·제 1 양태의 점착 시트 (I) : 기재 (Y1) 로서, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는 점착 시트 (I).PSA sheet (I) of first aspect: PSA sheet (I) having a thermally expandable base material layer (Y1-1) containing thermally expandable particles as a base material (Y1).

·제 2 양태의 점착 시트 (I) : 기재 (Y1) 의 양면측에, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 과, 비열팽창성 점착제층인 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 점착 시트 (I).PSA sheet (I) of the second aspect: On both sides of the substrate (Y1), a first PSA layer (X11) as a thermally expandable PSA layer containing thermally expandable particles, and a second PSA layer that is a non-heat expandable PSA layer ( The adhesive sheet (I) having X12).

·기재 (Y1) 가 비열팽창성 기재인, 점착 시트 (I).-The adhesive sheet (I) in which the base material (Y1) is a non-thermal expandable base material.

이하, 본 발명의 일 양태에서 사용하는, 제 1 양태 및 제 2 양태의 점착 시트 (I) 에 대해 설명한다.Hereinafter, the adhesive sheet (I) of the first aspect and the second aspect used in one aspect of the present invention will be described.

<제 1 양태의 점착 시트 (I)><Adhesive sheet (I) of the first aspect>

제 1 양태의 점착 시트 (I) 로는, 도 1 ∼ 2 에 나타내는 바와 같이, 기재 (Y1) 가, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는 것을 들 수 있다.As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, as shown in Figs. 1-2, the substrate (Y1) has a thermally expandable base material layer (Y1-1) containing thermally expandable particles.

제 1 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능하게 하는 관점에서, 점착제층 (X1) 은, 비열팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, from the viewpoint of enabling easy separation at the interface P between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) with a slight force, the pressure-sensitive adhesive layer (X1) It is preferable that it is a non-thermal expandable adhesive layer.

구체적으로는, 도 1 에 나타내는 점착성 적층체 (1a, 1b) 가 갖는 점착 시트 (I) 에 있어서는, 점착제층 (X1) 이, 비열팽창성 점착제층인 것이 바람직하다. 또, 도 2 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d) 가 갖는 점착 시트 (I) 에 있어서는, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 모두가, 비열팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.Specifically, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the pressure-sensitive adhesive laminates 1a and 1b shown in FIG. 1, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer (X1) is a non-heat expandable pressure-sensitive adhesive layer. Moreover, in the adhesive sheet (I) which the adhesive laminated body (1c, 1d) shown in FIG. 2 has, it is preferable that both the 1st adhesive layer (X11) and the 2nd adhesive layer (X12) are a non-thermal expandable adhesive layer. .

제 1 양태의 점착 시트 (I) 의 분리용 가열 처리 전의 기재 (Y1) 의 두께는, 바람직하게는 10 ∼ 1000 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 700 ㎛, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 500 ㎛, 보다 더욱 바람직하게는 30 ∼ 300 ㎛ 이다.The thickness of the substrate (Y1) before the heat treatment for separation of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect is preferably 10 to 1000 µm, more preferably 20 to 700 µm, still more preferably 25 to 500 µm, more More preferably, it is 30 to 300 micrometers.

제 1 양태의 점착 시트 (I) 의 분리용 가열 처리 전의 점착제층 (X1) 의 두께는, 바람직하게는 1 ∼ 60 ㎛, 보다 바람직하게는 2 ∼ 50 ㎛, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 40 ㎛, 보다 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎛ 이다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) before heat treatment for separation of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect is preferably 1 to 60 µm, more preferably 2 to 50 µm, still more preferably 3 to 40 µm, Even more preferably, it is 5 to 30 micrometers.

또한, 본 명세서에 있어서, 예를 들어, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 점착 시트 (I) 가, 복수의 점착제층을 갖는 경우, 상기의 「점착제층 (X1) 의 두께」 는, 각각의 점착제층의 두께 (도 2 에서는, 점착제층 (X11) 및 (X12) 의 각각의 두께) 를 의미한다.In addition, in this specification, for example, as shown in FIG. 2, when the adhesive sheet (I) has a plurality of adhesive layers, the "thickness of the adhesive layer (X1)" is the respective adhesive layers It means the thickness (in FIG. 2, each thickness of the adhesive layer (X11) and (X12)).

또, 본 명세서에 있어서, 점착성 적층체를 구성하는 각 층의 두께는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the thickness of each layer constituting an adhesive laminate means a value measured by the method described in Examples.

제 1 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 분리용 가열 처리 전에 있어서의, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 점착제층 (X1) 의 두께비 [(Y1-1)/(X1)] 로는, 바람직하게는 1000 이하, 보다 바람직하게는 200 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하, 보다 더욱 바람직하게는 30 이하이다.In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, as the thickness ratio [(Y1-1)/(X1)] of the thermally expandable base layer (Y1-1) and the pressure-sensitive adhesive layer (X1) before the heat treatment for separation, It is preferably 1000 or less, more preferably 200 or less, still more preferably 60 or less, and even more preferably 30 or less.

당해 두께비가 1000 이하이면, 가열 처리에 의해, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해지는 점착성 적층체로 할 수 있다.If the said thickness ratio is 1000 or less, it can be heat-processed at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) at the interface P, and it can be set as an adhesive laminate that can be easily separated in one batch with a slight force. .

또한, 당해 두께비는, 바람직하게는 0.2 이상, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더욱 바람직하게는 1.0 이상, 보다 더욱 바람직하게는 5.0 이상이다.In addition, the thickness ratio is preferably 0.2 or more, more preferably 0.5 or more, still more preferably 1.0 or more, and even more preferably 5.0 or more.

또, 제 1 양태의 점착 시트 (I) 에서는, 기재 (Y1) 가, 도 1(a) 에 나타내는 바와 같은, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 만으로 구성된 것이어도 되고, 도 1(b) 에 나타내는 바와 같은, 점착 시트 (II) 측에 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖고, 점착제층 (X1) 측에 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는 것이어도 된다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the substrate (Y1) may be composed of only the thermally expandable substrate layer (Y1-1) as shown in FIG. 1(a), and in FIG. 1(b) As shown, it may have a thermally expandable base material layer (Y1-1) on the side of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2) on the side of the pressure-sensitive adhesive layer (X1).

제 1 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 분리용 가열 처리 전에 있어서의, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 두께비 [(Y1-1)/(Y1-2)] 로는, 바람직하게는 0.02 ∼ 200, 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 150, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 100 이다.In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the first aspect, the thickness ratio of the thermally expandable base layer (Y1-1) and the non-thermal expandable base layer (Y1-2) before heat treatment for separation [(Y1-1)/(Y1 As -2)], Preferably it is 0.02 to 200, More preferably, it is 0.03 to 150, More preferably, it is 0.05 to 100.

<제 2 양태의 점착 시트 (I)><Adhesive sheet (I) of the second aspect>

제 2 양태의 점착 시트 (I) 로는, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 기재 (Y1) 의 양면측에, 각각, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 과, 비열팽창성 점착제층인 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 것을 들 수 있다.As the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, as shown in FIG. 3, on both sides of the substrate (Y1), respectively, a first pressure-sensitive adhesive layer (X11) which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer containing thermally expandable particles, and a specific heat What has the 2nd adhesive layer (X12) which is an expandable adhesive layer is mentioned.

또한, 제 2 양태의 점착 시트 (I) 는, 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 접촉한다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the first pressure-sensitive adhesive layer (X11), which is a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) are in direct contact with each other.

또한, 제 2 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 기재 (Y1) 는, 비열팽창성 기재층인 것이 바람직하다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, it is preferable that the base material (Y1) is a non-thermal expandable base material layer.

제 2 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 분리용 가열 처리 전에 있어서의, 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 과, 비열팽창성 점착제층인 제 2 점착제층 (X12) 의 두께비 [(X11)/(X12)] 로는, 바람직하게는 0.1 ∼ 80, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 50, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 15 이다.In the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the thickness ratio of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) as a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) as a non-thermal expandable pressure-sensitive adhesive layer before heat treatment for separation [( As X11)/(X12)], preferably 0.1 to 80, more preferably 0.3 to 50, and still more preferably 0.5 to 15.

또, 제 2 양태의 점착 시트 (I) 에 있어서, 분리용 가열 처리 전에 있어서의, 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 과, 기재 (Y1) 의 두께비 [(X11)/(Y1)] 로는, 바람직하게는 0.05 ∼ 20, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 10, 더욱 바람직하게는 0.2 ∼ 3 이다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the second aspect, the thickness ratio of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) as a thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer and the base material (Y1) before heat treatment for separation [(X11)/(Y1) ] As, Preferably it is 0.05-20, More preferably, it is 0.1-10, More preferably, it is 0.2-3.

이하, 점착 시트 (I) 를 구성하는 어느 층에 포함되는 열팽창성 입자에 대해 설명한 후에, 기재 (Y1) 를 구성하는 열팽창성 기재층 (Y1-1), 비열팽창성 기재층 (Y1-2), 및 점착제층 (X1) 에 관해 상세히 서술한다.Hereinafter, after explaining the thermally expandable particles included in any layer constituting the pressure-sensitive adhesive sheet (I), the thermally expandable base layer (Y1-1) constituting the base material (Y1), the non-thermal expandable base material layer (Y1-2), And the pressure-sensitive adhesive layer (X1) will be described in detail.

<열팽창성 입자><Thermal expandable particles>

본 발명에서 사용하는 열팽창성 입자는, 가열에 의해 팽창하는 입자이면 되지만, 팽창 개시 온도 (t) 가 60 ∼ 270 ℃ 로 조정된 입자인 것이 바람직하다. 팽창 개시 온도 (t) 는, 점착성 적층체의 용도에 따라 적절히 선택된다.The thermally expandable particles used in the present invention may be particles that expand by heating, but are preferably particles whose expansion start temperature (t) is adjusted to 60 to 270°C. The expansion start temperature (t) is appropriately selected depending on the use of the adhesive laminate.

예를 들어, 본 발명의 제조 방법에 있어서, 공정 (1) 및 공정 (2) 에서 점착성 적층체가 고온 환경하에 노출되는 일이 없는 경우 (예를 들어, 반도체 웨이퍼 내부에 분할 기점으로서의 개질 영역을 형성하는 가공을 실시하는 경우 등), 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도는, 상기 온도 범위 내에서 가능한 한 낮은 것이 바람직하다. 이로써, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (1I) 를 분리할 때에 필요로 하는 가열 에너지를 작은 것으로 하여, 절삭물 및/또는 연삭물의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. 또, 가공 대상물에 과잉인 열이력을 부여하는 일 없이, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (1I) 를 분리할 수 있다.For example, in the manufacturing method of the present invention, when the adhesive laminate is not exposed to a high-temperature environment in steps (1) and (2) (for example, a modified region as a division starting point is formed inside the semiconductor wafer) In the case of performing such processing, etc.), it is preferable that the expansion start temperature of the thermally expandable particles is as low as possible within the above temperature range. Thereby, heating energy required when separating the adhesive sheet I and the adhesive sheet 1I can be made small, and the manufacturing cost of a cut product and/or a grinding object can be reduced. Moreover, the adhesive sheet (I) and the adhesive sheet (1I) can be separated without giving an excessive thermal history to the object to be processed.

본 명세서에 있어서, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 는, 이하의 방법에 기초하여 측정된 값을 의미한다.In this specification, the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles means a value measured based on the following method.

(열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 의 측정법)(Measurement method of expansion start temperature (t) of thermally expandable particles)

직경 6.0 ㎜ (내경 5.65 ㎜), 깊이 4.8 ㎜ 의 알루미늄 컵에, 측정 대상이 되는 열팽창성 입자 0.5 ㎎ 을 첨가하고, 그 위에서부터 알루미늄 덮개 (직경 5.6 ㎜, 두께 0.1 ㎜) 를 올린 시료를 제조한다.To an aluminum cup with a diameter of 6.0 mm (inner diameter 5.65 mm) and a depth of 4.8 mm, 0.5 mg of thermally expandable particles to be measured were added, and a sample with an aluminum cover (diameter 5.6 mm, thickness 0.1 mm) raised from the top was prepared. .

동적 점탄성 측정 장치를 사용하여, 그 시료에 알루미늄 덮개 상부로부터, 가압자에 의해 0.01 N 의 힘을 가한 상태에서, 시료의 높이를 측정한다. 그리고, 가압자에 의해 0.01 N 의 힘을 가한 상태에서, 20 ℃ 에서 300 ℃ 까지 10 ℃/분의 승온 속도로 가열하고, 가압자의 수직 방향에 있어서의 변위량을 측정하고, 정방향으로의 변위 개시 온도를 팽창 개시 온도 (t) 로 한다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device, the height of the sample is measured while a force of 0.01 N is applied from the top of the aluminum cover to the sample by a pressurizer. Then, in a state where a force of 0.01 N is applied by a pressurizer, heating is performed from 20°C to 300°C at a heating rate of 10°C/min, and the amount of displacement in the vertical direction of the pressurizer is measured, and the displacement start temperature in the positive direction Is taken as the expansion start temperature (t).

열팽창성 입자로는, 열가소성 수지로 구성된 외각과, 당해 외각에 내포되고, 또한 소정의 온도까지 가열되면 기화되는 내포 성분으로 구성되는, 마이크로 캡슐화 발포제인 것이 바람직하다.The thermally expandable particles are preferably microencapsulated foaming agents composed of an outer shell made of a thermoplastic resin and an inner shell component that is enclosed in the outer shell and vaporized when heated to a predetermined temperature.

마이크로 캡슐화 발포제의 외각을 구성하는 열가소성 수지로는, 예를 들어, 염화비닐리덴-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리염화비닐리덴, 폴리술폰 등을 들 수 있다.As a thermoplastic resin constituting the outer shell of the microencapsulated foaming agent, for example, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride Liden, polysulfone, etc. are mentioned.

외각에 내포된 내포 성분으로는, 예를 들어, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 이소부탄, 이소펜탄, 이소헥산, 이소헵탄, 이소옥탄, 이소노난, 이소데칸, 시클로프로판, 시클로부탄, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄, 네오펜탄, 도데칸, 이소도데칸, 시클로트리데칸, 헥실시클로헥산, 트리데칸, 테트라데칸, 펜타데칸, 헥사데칸, 헵타데칸, 옥타데칸, 나노데칸, 이소트리데칸, 4-메틸도데칸, 이소테트라데칸, 이소펜타데칸, 이소헥사데칸, 2,2,4,4,6,8,8-헵타메틸노난, 이소헵타데칸, 이소옥타데칸, 이소나노데칸, 2,6,10,14-테트라메틸펜타데칸, 시클로트리데칸, 헵틸시클로헥산, n-옥틸시클로헥산, 시클로펜타데칸, 노닐시클로헥산, 데실시클로헥산, 펜타데실시클로헥산, 헥사데실시클로헥산, 헵타데실시클로헥산, 옥타데실시클로헥산 등을 들 수 있다.Inclusion components contained in the outer shell include, for example, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, isobutane, isopentane, isohexane, isoheptane, isooctane, isononane, isodecane, cyclo Propane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, neopentane, dodecane, isododecane, cyclotridecane, hexylcyclohexane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane , Octadecane, nanodecane, isotridecane, 4-methyldodecane, isotetradecane, isopentadecane, isohexadecane, 2,2,4,4,6,8,8-heptamethylnonane, isoheptadecane , Isooctadecane, isonanodecane, 2,6,10,14-tetramethylpentadecane, cyclotridecane, heptylcyclohexane, n-octylcyclohexane, cyclopentadecane, nonylcyclohexane, decylcyclohexane, penta Decylcyclohexane, hexadecylcyclohexane, heptadecylcyclohexane, octadecylcyclohexane, etc. are mentioned.

이들의 내포 성분은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These encapsulation components may be used alone or in combination of two or more.

열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 는, 내포 성분의 종류를 적절히 선택함으로써 조정 가능하다.The expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles can be adjusted by appropriately selecting the type of the inclusion component.

본 발명의 일 양태에서 사용하는, 열팽창성 입자의 23 ℃ 에 있어서의 팽창 전의 평균 입자경은, 바람직하게는 3 ∼ 100 ㎛, 보다 바람직하게는 4 ∼ 70 ㎛, 더욱 바람직하게는 6 ∼ 60 ㎛, 보다 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50 ㎛ 이다.The average particle diameter before expansion at 23° C. of the thermally expandable particles used in one aspect of the present invention is preferably 3 to 100 μm, more preferably 4 to 70 μm, still more preferably 6 to 60 μm, Even more preferably, it is 10-50 micrometers.

또한, 열팽창성 입자의 팽창 전의 평균 입자경이란, 체적 중위 입자경 (D50) 이고, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 (예를 들어, Malvern 사 제조, 제품명 「마스터사이저 3000」) 를 사용하여 측정한, 팽창 전의 열팽창성 입자의 입자 분포에 있어서, 팽창 전의 열팽창성 입자의 입자경이 작은 쪽에서부터 계산한 누적 체적 빈도가 50 % 에 상당하는 입자경을 의미한다.In addition, the average particle diameter before expansion of the thermally expandable particles is the volume median particle diameter (D 50 ), which is measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device (e.g., Malvern, product name ``Mastersizer 3000''). , In the particle distribution of the thermally expandable particles before expansion, the cumulative volume frequency calculated from the smaller particle size of the thermally expandable particles before expansion is a particle diameter corresponding to 50%.

본 발명의 일 양태에서 사용하는, 열팽창성 입자의 23 ℃ 에 있어서의 팽창 전의 90 % 입자경 (D90) 으로는, 바람직하게는 10 ∼ 150 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 90 ㎛, 보다 더욱 바람직하게는 30 ∼ 80 ㎛ 이다.The 90% particle diameter (D 90 ) before expansion at 23° C. of the thermally expandable particles used in one aspect of the present invention is preferably 10 to 150 μm, more preferably 20 to 100 μm, and still more preferably Is 25 to 90 µm, even more preferably 30 to 80 µm.

또한, 열팽창성 입자의 팽창 전의 90 % 입자경 (D90) 이란, 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 (예를 들어, Malvern 사 제조, 제품명 「마스터사이저 3000」) 를 사용하여 측정한, 팽창 전의 열팽창성 입자의 입자 분포에 있어서, 팽창 전의 열팽창성 입자의 입자경이 작은 쪽에서부터 계산한 누적 체적 빈도가 90 % 에 상당하는 입자경을 의미한다.In addition, the 90% particle diameter before expansion of the thermally expandable particles (D 90 ) means thermal expansion before expansion measured using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (for example, Malvern's product name ``Mastersizer 3000''). In the particle distribution of the star particles, the cumulative volume frequency calculated from the smaller the particle diameter of the thermally expandable particles before expansion corresponds to 90%.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도까지 가열했을 때의 체적 최대 팽창률은, 바람직하게는 1.5 ∼ 100 배, 보다 바람직하게는 2 ∼ 80 배, 더욱 바람직하게는 2.5 ∼ 60 배, 보다 더욱 바람직하게는 3 ∼ 40 배이다.The maximum volume expansion rate when heated to a temperature equal to or higher than the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles used in one aspect of the present invention is preferably 1.5 to 100 times, more preferably 2 to 80 times, and even more preferably Is 2.5 to 60 times, and even more preferably 3 to 40 times.

<열팽창성 기재층 (Y1-1)><Thermal expandable substrate layer (Y1-1)>

본 발명의 일 양태의 점착성 적층체에 있어서, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y1) 가, 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는 경우, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 은, 하기 요건 (1) 을 만족시키는 것임이 바람직하다.In the adhesive laminate of one aspect of the present invention, when the substrate (Y1) of the adhesive sheet (I) has a thermally expandable base layer (Y1-1) containing thermally expandable particles, the thermally expandable base layer (Y1- It is preferable that 1) satisfy|fills the following requirement (1).

·요건 (1) : 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 에 있어서의, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 저장 탄성률 E'(t) 가 1.0 × 107 ㎩ 이하이다.Requirement (1): The storage elastic modulus E'(t) of the thermally expandable base layer (Y1-1) at the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 1.0×10 7 Pa or less.

또한, 본 명세서에 있어서, 소정의 온도에 있어서의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 저장 탄성률 E' 는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the storage modulus E'of the thermally expandable base material layer (Y1-1) at a predetermined temperature means a value measured by the method described in Examples.

상기 요건 (1) 은, 열팽창성 입자가 팽창하기 직전의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 강성을 나타내는 지표라고 할 수 있다.The requirement (1) can be said to be an index indicating the rigidity of the thermally expandable base layer (Y1-1) just before the thermally expandable particles expand.

열팽창성 입자의 팽창 전에 있어서, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 저장 탄성률 E' 는 승온에 수반하여 저하된다. 그러나, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 에 도달하기 전후에서, 열팽창성 입자가 팽창하기 시작함으로써, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 저장 탄성률 E' 의 저하가 억제된다.Before expansion of the thermally expandable particles, the storage modulus E'of the thermally expandable base layer (Y1-1) decreases with increasing temperature. However, before and after the expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles is reached, the thermally expandable particles start to expand, thereby suppressing a decrease in the storage modulus E'of the thermally expandable base layer (Y1-1).

한편으로, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 약간의 힘으로 용이하게 분리 가능하게 하기 위해서는, 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도까지 가열함으로써, 점착 시트 (I) 의 기재 (Y2) 와 적층하고 있는 측의 표면에, 요철이 형성되기 쉽게 할 필요가 있다.On the other hand, in order to enable easy separation with a slight force at the interface P of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II), by heating to a temperature equal to or higher than the expansion initiation temperature (t), the adhesive sheet ( It is necessary to make it easy to form unevenness|corrugation on the surface of the side which is laminated|stacked with the base material (Y2) of I).

요컨대, 상기 요건 (1) 을 만족시키는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 은, 팽창 개시 온도 (t) 에서 열팽창성 입자가 팽창하여 충분히 커져, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 와 적층하고 있는 측의 점착 시트 (I) 의 표면에 요철이 형성되기 쉽다.In short, the thermally expandable base material layer (Y1-1) that satisfies the above requirement (1), the thermally expandable particles expand sufficiently at the expansion initiation temperature (t) to become sufficiently large, and laminated with the base material (Y2) of the adhesive sheet (II), Unevenness is likely to be formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) on the side.

그 결과, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해지는 점착성 적층체가 될 수 있다.As a result, at the interface P between the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II), it can be a pressure-sensitive adhesive laminate that can be easily separated collectively with a slight force.

본 발명에서 사용하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 요건 (1) 에서 규정하는 저장 탄성률 E'(t) 는, 상기 관점에서, 바람직하게는 9.0 × 106 ㎩ 이하, 보다 바람직하게는 8.0 × 106 ㎩ 이하, 더욱 바람직하게는 6.0 × 106 ㎩ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 4.0 × 106 ㎩ 이하이다.The storage modulus E'(t) specified in the requirement (1) of the thermally expandable base layer (Y1-1) used in the present invention is from the above viewpoint, preferably 9.0 × 10 6 Pa or less, more preferably 8.0 It is × 10 6 Pa or less, more preferably 6.0 × 10 6 Pa or less, and even more preferably 4.0 × 10 6 Pa or less.

또, 팽창한 열팽창성 입자의 유동을 억제하고, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 와 적층하고 있는 측의 점착 시트 (I) 의 표면에 형성되는 요철의 형상 유지성을 향상시키고, 계면 P 에서 약간의 힘으로 보다 용이하게 분리 가능하게 하는 관점에서, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 요건 (1) 에서 규정하는 저장 탄성률 E'(t) 는, 바람직하게는 1.0 × 103 ㎩ 이상, 보다 바람직하게는 1.0 × 104 ㎩ 이상, 더욱 바람직하게는 1.0 × 105 ㎩ 이상이다.In addition, the flow of the expanded thermally expandable particles is suppressed, the shape retention of the irregularities formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) on the side to be laminated with the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is improved, and at the interface P From the viewpoint of enabling easier separation with a slight force, the storage elastic modulus E'(t) specified in the requirement (1) of the thermally expandable base layer (Y1-1) is preferably 1.0×10 3 Pa or more, It is more preferably 1.0 × 10 4 Pa or more, and still more preferably 1.0 × 10 5 Pa or more.

상기 요건 (1) 을 만족시키는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 으로 하는 관점에서, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 중의 열팽창성 입자의 함유량은, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 35 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 30 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 15 ∼ 25 질량% 이다.From the viewpoint of making the thermally expandable base layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1), the content of the thermally expandable particles in the thermally expandable base layer (Y1-1) is the whole of the thermally expandable base layer (Y1-1). The mass (100 mass%) is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 35 mass%, still more preferably 10 to 30 mass%, and even more preferably 15 to 25 mass%.

또한, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 적층하는 다른 층의 층간 밀착성을 향상시키는 관점에서, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 표면에 대해, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 용이 접착 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 된다.In addition, from the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the thermally expandable base layer (Y1-1) and the other layer to be laminated, the surface of the thermally expandable base layer (Y1-1) is subjected to surface treatment by an oxidation method or an uneven method, and easy adhesion. Treatment or primer treatment may be performed.

산화법으로는, 예를 들어, 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬산 처리 (습식), 열풍 처리, 오존, 및 자외선 조사 처리 등을 들 수 있고, 요철화법으로는, 예를 들어, 샌드 블라스트법, 용제 처리법 등을 들 수 있다.Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromic acid treatment (wet), hot air treatment, ozone, and ultraviolet irradiation treatment, and as the unevenness method, for example, a sand blast method, The solvent treatment method etc. are mentioned.

열팽창성 기재층 (Y1-1) 은, 수지 및 열팽창성 입자를 포함하는 수지 조성물 (y) 로 형성하는 것이 바람직하다.It is preferable to form the thermally expandable base material layer (Y1-1) from a resin composition (y) containing a resin and thermally expandable particles.

또한, 수지 조성물 (y) 에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 필요에 따라, 기재용 첨가제를 함유해도 된다.In addition, the resin composition (y) may contain, if necessary, an additive for a substrate within a range that does not impair the effects of the present invention.

기재용 첨가제로는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 광 안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 슬립제, 안티 블로킹제, 착색제 등을 들 수 있다.Examples of the additive for the substrate include an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, a slip agent, an anti-blocking agent, and a colorant.

또한, 이들 기재용 첨가제는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.In addition, these additives for substrates may be used alone or in combination of two or more.

이들 기재용 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 기재용 첨가제의 함유량은, 상기 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.0001 ∼ 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.001 ∼ 10 질량부이다.In the case of containing these additives for substrates, the content of each additive for substrates is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin.

열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 형성 재료인 수지 조성물 (y) 에 포함되는 열팽창성 입자에 대해서는, 상기 서술한 바와 같다.About the thermally expandable particles contained in the resin composition (y) which is a material for forming the thermally expandable base layer (Y1-1), it is as described above.

열팽창성 입자의 함유량은, 수지 조성물 (y) 의 유효 성분의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 35 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 30 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 15 ∼ 25 질량% 이다.The content of the thermally expandable particles is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5 to 35 mass%, still more preferably 10 with respect to the total amount (100 mass%) of the active ingredient of the resin composition (y). It is-30 mass %, More preferably, it is 15-25 mass %.

열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 형성 재료인 수지 조성물 (y) 에 포함되는 수지로는, 비점착성 수지이어도 되고, 점착성 수지이어도 된다.The resin contained in the resin composition (y) which is a material for forming the thermally expandable base layer (Y1-1) may be a non-adhesive resin or an adhesive resin.

요컨대, 수지 조성물 (y) 에 포함되는 수지가 점착성 수지이어도 되고, 수지 조성물 (y) 로부터 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 형성하는 과정에 있어서, 당해 점착성 수지가 중합성 화합물과 중합 반응하여, 얻어지는 수지가 비점착성 수지가 되고, 당해 수지를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 이 비점착성이 되면 된다.In short, the resin contained in the resin composition (y) may be an adhesive resin, and in the process of forming the thermally expandable base layer (Y1-1) from the resin composition (y), the adhesive resin undergoes a polymerization reaction with a polymerizable compound. , The obtained resin becomes a non-adhesive resin, and the thermally expandable base layer (Y1-1) containing the resin may have non-adhesive properties.

수지 조성물 (y) 에 포함되는 상기 수지의 질량 평균 분자량 (Mw) 으로는, 바람직하게는 1000 ∼ 100 만, 보다 바람직하게는 1000 ∼ 70 만, 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 50 만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the resin contained in the resin composition (y) is preferably 1000 to 1 million, more preferably 1000 to 700,000, and still more preferably 1000 to 500,000.

또, 당해 수지가 2 종 이상의 구성 단위를 갖는 공중합체인 경우, 당해 공중합체의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 및 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.Further, when the resin is a copolymer having two or more structural units, the form of the copolymer is not particularly limited, and any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer may be used.

수지의 함유량은, 수지 조성물 (y) 의 유효 성분의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 95 질량%, 더욱 바람직하게는 65 ∼ 90 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 70 ∼ 85 질량% 이다.The content of the resin is preferably 50 to 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, further preferably 65 to 90 with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the resin composition (y). It is mass %, More preferably, it is 70 to 85 mass %.

또한, 상기 요건 (1) 을 만족시키는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 형성하는 관점에서, 수지 조성물 (y) 에 포함되는 상기 수지로는, 아크릴우레탄계 수지 및 올레핀계 수지에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, from the viewpoint of forming the thermally expandable base layer (Y1-1) that satisfies the above requirement (1), the resin included in the resin composition (y) is one selected from acrylic urethane resins and olefin resins. It is preferable to include the above.

또, 상기 아크릴우레탄계 수지로는, 이하의 수지 (U1) 가 바람직하다.Moreover, as said acrylic urethane-type resin, the following resin (U1) is preferable.

·우레탄 프레폴리머 (UP) 와, (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 비닐 화합물을 중합하여 이루어지는 아크릴우레탄계 수지 (U1).An acrylic urethane resin (U1) obtained by polymerizing a urethane prepolymer (UP) and a vinyl compound containing a (meth)acrylic acid ester.

(아크릴우레탄계 수지 (U1))(Acrylic urethane resin (U1))

아크릴우레탄계 수지 (U1) 의 주사슬이 되는 우레탄 프레폴리머 (UP) 로는, 폴리올과 다가 이소시아네이트의 반응물을 들 수 있다.Examples of the urethane prepolymer (UP) serving as the main chain of the acrylic urethane resin (U1) include a reaction product of a polyol and a polyvalent isocyanate.

또한, 우레탄 프레폴리머 (UP) 는, 추가로 사슬 연장제를 사용한 사슬 연장 반응을 실시하여 얻어진 것임이 바람직하다.In addition, it is preferable that the urethane prepolymer (UP) is obtained by further carrying out a chain extension reaction using a chain extender.

우레탄 프레폴리머 (UP) 의 원료가 되는 폴리올로는, 예를 들어, 알킬렌형 폴리올, 에테르형 폴리올, 에스테르형 폴리올, 에스테르아미드형 폴리올, 에스테르·에테르형 폴리올, 카보네이트형 폴리올 등을 들 수 있다.Examples of the polyol used as the raw material of the urethane prepolymer (UP) include an alkylene type polyol, an ether type polyol, an ester type polyol, an esteramide type polyol, an ester/ether type polyol, and a carbonate type polyol.

이들의 폴리올은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These polyols may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 폴리올로는, 디올이 바람직하고, 에스테르형 디올, 알킬렌형 디올 및 카보네이트형 디올이 보다 바람직하고, 에스테르형 디올, 카보네이트형 디올이 더욱 바람직하다.As the polyol used in one aspect of the present invention, a diol is preferable, an ester type diol, an alkylene type diol and a carbonate type diol are more preferable, and an ester type diol and a carbonate type diol are still more preferable.

에스테르형 디올로는, 예를 들어, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올 등의 알칸디올 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜 ; 등의 디올류에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상과, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 4,4-디페닐디카르복실산, 디페닐메탄-4,4'-디카르복실산, 숙신산, 아디프산, 아젤라산, 세바크산, 헤트산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시클로헥산-1,3-디카르복실산, 시클로헥산-1,4-디카르복실산, 헥사하이드로프탈산, 헥사하이드로이소프탈산, 헥사하이드로테레프탈산, 메틸헥사하이드로프탈산 등의 디카르복실산 및 이들의 무수물에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 축중합체를 들 수 있다.Examples of the ester-type diol include alkanedols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; Alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; One or two or more selected from diols such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4-diphenyldicarboxylic acid, diphenylmethane-4,4'-dicar Acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, hetic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid, cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid , Dicarboxylic acids such as hexahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, and methylhexahydrophthalic acid, and one or more condensation polymers selected from anhydrides thereof.

구체적으로는, 폴리에틸렌아디페이트디올, 폴리부틸렌아디페이트디올, 폴리헥사메틸렌아디페이트디올, 폴리헥사메틸렌이소프탈레이트디올, 폴리네오펜틸아디페이트디올, 폴리에틸렌프로필렌아디페이트디올, 폴리에틸렌부틸렌아디페이트디올, 폴리부틸렌헥사메틸렌아디페이트디올, 폴리디에틸렌아디페이트디올, 폴리(폴리테트라메틸렌에테르)아디페이트디올, 폴리(3-메틸펜틸렌아디페이트)디올, 폴리에틸렌아젤레이트디올, 폴리에틸렌세바케이트디올, 폴리부틸렌아젤레이트디올, 폴리부틸렌세바케이트디올 및 폴리네오펜틸테레프탈레이트디올 등을 들 수 있다.Specifically, polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyhexamethylene isophthalate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene propylene adipate diol, polyethylene butylene adipate diol, Polybutylenehexamethylene adipate diol, polydiethylene adipate diol, poly(polytetramethylene ether) adipate diol, poly(3-methylpentylene adipate) diol, polyethylene azelate diol, polyethylene sebacate diol, poly Butylene azelate diol, polybutylene sebacate diol, polyneopentyl terephthalate diol, and the like.

알킬렌형 디올로는, 예를 들어, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올 등의 알칸디올 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜 ; 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜 ; 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리옥시알킬렌글리콜 ; 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene diol include alkanedols such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, and 1,6-hexanediol; Alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; Polyalkylene glycol, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol; Polyoxyalkylene glycols such as polytetramethylene glycol; And the like.

카보네이트형 디올로는, 예를 들어, 1,4-테트라메틸렌카보네이트디올, 1,5-펜타메틸렌카보네이트디올, 1,6-헥사메틸렌카보네이트디올, 1,2-프로필렌카보네이트디올, 1,3-프로필렌카보네이트디올, 2,2-디메틸프로필렌카보네이트디올, 1,7-헵타메틸렌카보네이트디올, 1,8-옥타메틸렌카보네이트디올, 1,4-시클로헥산카보네이트디올 등을 들 수 있다.As a carbonate type diol, for example, 1,4-tetramethylene carbonate diol, 1,5-pentamethylene carbonate diol, 1,6-hexamethylene carbonate diol, 1,2-propylene carbonate diol, 1,3-propylene Carbonate diol, 2,2-dimethylpropylene carbonate diol, 1,7-heptamethylene carbonate diol, 1,8-octamethylene carbonate diol, 1,4-cyclohexane carbonate diol, and the like.

우레탄 프레폴리머 (UP) 의 원료가 되는 다가 이소시아네이트로는, 방향족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트, 지환식 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyvalent isocyanate used as the raw material for the urethane prepolymer (UP) include aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates.

이들 다가 이소시아네이트는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These polyhydric isocyanates may be used alone or in combination of two or more.

또, 이들 다가 이소시아네이트는, 트리메틸올프로판 어덕트형 변성체, 물과 반응시킨 뷰렛형 변성체, 이소시아누레이트 고리를 함유시킨 이소시아누레이트형 변성체이어도 된다.Further, these polyvalent isocyanates may be trimethylolpropane adduct-type modified products, biuret-type modified products reacted with water, and isocyanurate-type modified products containing an isocyanurate ring.

이들 중에서도, 본 발명의 일 양태에서 사용하는 다가 이소시아네이트로는, 디이소시아네이트가 바람직하고, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 (MDI), 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 (2,4-TDI), 2,6-톨릴렌디이소시아네이트 (2,6-TDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트 (HMDI), 및 지환식 디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상이 보다 바람직하다.Among these, as the polyvalent isocyanate used in one aspect of the present invention, diisocyanate is preferable, and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI) , 2,6-tolylene diisocyanate (2,6-TDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), and at least one selected from alicyclic diisocyanate is more preferable.

지환식 디이소시아네이트로는, 예를 들어, 3-이소시아네이트메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트 (이소포론디이소시아네이트, IPDI), 1,3-시클로펜탄디이소시아네이트, 1,3-시클로헥산디이소시아네이트, 1,4-시클로헥산디이소시아네이트, 메틸-2,4-시클로헥산디이소시아네이트, 메틸-2,6-시클로헥산디이소시아네이트 등을 들 수 있지만, 이소포론디이소시아네이트 (IPDI) 가 바람직하다.As the alicyclic diisocyanate, for example, 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate, IPDI), 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane Diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,4-cyclohexane diisocyanate, methyl-2,6-cyclohexane diisocyanate, etc. are mentioned, but isophorone diisocyanate (IPDI) is preferable.

본 발명의 일 양태에 있어서, 아크릴우레탄계 수지 (U1) 의 주사슬이 되는 우레탄 프레폴리머 (UP) 로는, 디올과 디이소시아네이트의 반응물이고, 양 말단에 에틸렌성 불포화기를 갖는 직사슬 우레탄 프레폴리머가 바람직하다.In one aspect of the present invention, the urethane prepolymer (UP) serving as the main chain of the acrylic urethane resin (U1) is a reaction product of a diol and a diisocyanate, and a linear urethane prepolymer having ethylenic unsaturated groups at both ends is preferable. Do.

당해 직사슬 우레탄 프레폴리머의 양 말단에 에틸렌성 불포화기를 도입하는 방법으로는, 디올과 디이소시아네이트 화합물을 반응하여 이루어지는 직사슬 우레탄 프레폴리머의 말단의 NCO 기와, 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트를 반응시키는 방법을 들 수 있다.As a method of introducing ethylenically unsaturated groups at both ends of the linear urethane prepolymer, the NCO group at the terminal of the linear urethane prepolymer obtained by reacting a diol and a diisocyanate compound, and a hydroxyalkyl (meth)acrylate are reacted. A method to let you do is mentioned.

하이드록시알킬(메트)아크릴레이트로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As hydroxyalkyl (meth)acrylate, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2- Hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, etc. are mentioned.

아크릴우레탄계 수지 (U1) 의 측사슬이 되는 비닐 화합물로는, 적어도 (메트)아크릴산에스테르를 포함한다.As a vinyl compound which becomes the side chain of the acrylic urethane resin (U1), (meth)acrylic acid ester is contained at least.

(메트)아크릴산에스테르로는, 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하고, 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트를 병용하는 것이 보다 바람직하다.As the (meth)acrylic acid ester, at least one selected from alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate is preferable, and alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate are used in combination. It is more preferable to do it.

알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트를 병용하는 경우, 알킬(메트)아크릴레이트 100 질량부에 대한, 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트의 배합 비율로는, 바람직하게는 0.1 ∼ 100 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 30 질량부, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 20 질량부, 보다 더욱 바람직하게는 1.5 ∼ 10 질량부이다.When using alkyl (meth) acrylate and hydroxyalkyl (meth) acrylate in combination, the blending ratio of hydroxyalkyl (meth) acrylate to 100 parts by mass of alkyl (meth) acrylate is preferably 0.1 It is -100 parts by mass, more preferably 0.5 to 30 parts by mass, still more preferably 1.0 to 20 parts by mass, even more preferably 1.5 to 10 parts by mass.

당해 알킬(메트)아크릴레이트가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ∼ 24, 보다 바람직하게는 1 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 8, 보다 더욱 바람직하게는 1 ∼ 3 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate is preferably 1 to 24, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 3.

또, 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트로는, 상기 서술한 직사슬 우레탄 프레폴리머의 양 말단에 에틸렌성 불포화기를 도입하기 위해서 사용되는 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트와 동일한 것을 들 수 있다.Moreover, as a hydroxyalkyl (meth)acrylate, the thing similar to the hydroxyalkyl (meth)acrylate used to introduce ethylenic unsaturated groups to both ends of the linear urethane prepolymer mentioned above is mentioned.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 비닐 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 탄화수소계 비닐 화합물 ; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르 등의 비닐에테르류 ; 아세트산비닐, 프로피온산비닐, (메트)아크릴로니트릴, N-비닐피롤리돈, (메트)아크릴산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 메타(아크릴아미드) 등의 극성기 함유 모노머 ; 등을 들 수 있다.Examples of vinyl compounds other than (meth)acrylic acid ester include aromatic hydrocarbon-based vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and vinyl toluene; Vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; Polar group-containing monomers, such as vinyl acetate, vinyl propionate, (meth)acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, (meth)acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and meth(acrylamide); And the like.

이들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used alone or in combination of two or more.

비닐 화합물 중의 (메트)아크릴산에스테르의 함유량으로는, 당해 비닐 화합물의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 40 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 65 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량% 이다.The content of the (meth)acrylic acid ester in the vinyl compound is preferably 40 to 100% by mass, more preferably 65 to 100% by mass, and even more preferably based on the total amount (100% by mass) of the vinyl compound. It is 80 to 100 mass%, More preferably, it is 90 to 100 mass%.

비닐 화합물 중의 알킬(메트)아크릴레이트 및 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트의 합계 함유량으로는, 당해 비닐 화합물의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 40 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 65 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량% 이다.The total content of alkyl (meth)acrylate and hydroxyalkyl (meth)acrylate in the vinyl compound is preferably 40 to 100% by mass, more preferably based on the total amount (100% by mass) of the vinyl compound. Is 65 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, and even more preferably 90 to 100% by mass.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 아크릴우레탄계 수지 (U1) 는, 우레탄 프레폴리머 (UP) 와, (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 비닐 화합물을 혼합하여, 양자를 중합함으로써 얻어진다.The acrylic urethane resin (U1) used in one aspect of the present invention is obtained by mixing a urethane prepolymer (UP) and a vinyl compound containing a (meth)acrylic acid ester, and polymerizing both.

당해 중합에 있어서는, 추가로 라디칼 개시제를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다.In the polymerization, it is preferable to further add a radical initiator to carry out.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 아크릴우레탄계 수지 (U1) 에 있어서, 우레탄 프레폴리머 (UP) 에서 유래하는 구성 단위 (u11) 와, 비닐 화합물에서 유래하는 구성 단위 (u12) 의 함유량비 [(u11)/(u12)] 로는, 질량비로, 바람직하게는 10/90 ∼ 80/20, 보다 바람직하게는 20/80 ∼ 70/30, 더욱 바람직하게는 30/70 ∼ 60/40, 보다 더욱 바람직하게는 35/65 ∼ 55/45 이다.In the acrylic urethane resin (U1) used in one aspect of the present invention, the content ratio of the structural unit (u11) derived from the urethane prepolymer (UP) and the structural unit (u12) derived from the vinyl compound [(u11) As /(u12)], in a mass ratio, preferably 10/90 to 80/20, more preferably 20/80 to 70/30, still more preferably 30/70 to 60/40, even more preferably It is 35/65-55/45.

(올레핀계 수지)(Olefin resin)

수지 조성물 (y) 에 포함되는 수지로서 바람직한, 올레핀계 수지로는, 올레핀 모노머에서 유래하는 구성 단위를 적어도 갖는 중합체이다.As the resin contained in the resin composition (y), as an olefin-based resin, which is preferable, it is a polymer having at least a structural unit derived from an olefin monomer.

상기 올레핀 모노머로는, 탄소수 2 ∼ 8 의 α-올레핀이 바람직하고, 구체적으로는, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 1-헥센 등을 들 수 있다.As the olefin monomer, an α-olefin having 2 to 8 carbon atoms is preferable, and specifically, ethylene, propylene, butylene, isobutylene, 1-hexene and the like are exemplified.

이들 중에서도, 에틸렌 및 프로필렌이 바람직하다.Among these, ethylene and propylene are preferable.

구체적인 올레핀계 수지로는, 예를 들어, 초저밀도 폴리에틸렌 (VLDPE, 밀도 : 880 ㎏/㎥ 이상 910 ㎏/㎥ 미만), 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE, 밀도 : 910 ㎏/㎥ 이상 915 ㎏/㎥ 미만), 중밀도 폴리에틸렌 (MDPE, 밀도 : 915 ㎏/㎥ 이상 942 ㎏/㎥ 미만), 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE, 밀도 : 942 ㎏/㎥ 이상), 직사슬형 저밀도 폴리에틸렌 등의 폴리에틸렌 수지 ; 폴리프로필렌 수지 (PP) ; 폴리부텐 수지 (PB) ; 에틸렌-프로필렌 공중합체 ; 올레핀계 엘라스토머 (TPO) ; 폴리(4-메틸-1-펜텐) (PMP) ; 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 (EVA) ; 에틸렌-비닐알코올 공중합체 (EVOH) ; 에틸렌-프로필렌-(5-에틸리덴-2-노르보르넨) 등의 올레핀계 삼원 공중합체 ; 등을 들 수 있다.As a specific olefin resin, for example, ultra-low density polyethylene (VLDPE, density: 880 kg/m 3 or more and less than 910 kg/m 3 ), low density polyethylene (LDPE, density: 910 kg/m 3 or more and less than 915 kg/m 3), Polyethylene resins such as medium-density polyethylene (MDPE, density: 915 kg/m3 or more and less than 942 kg/m3), high-density polyethylene (HDPE, density: 942 kg/m3 or more), and linear low-density polyethylene; Polypropylene resin (PP); Polybutene resin (PB); Ethylene-propylene copolymer; Olefin elastomer (TPO); Poly(4-methyl-1-pentene) (PMP); Ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA); Ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH); Olefinic terpolymers such as ethylene-propylene-(5-ethylidene-2-norbornene); And the like.

본 발명의 일 양태에 있어서, 올레핀계 수지는, 추가로 산 변성, 수산기 변성, 및 아크릴 변성에서 선택되는 1 종 이상의 변성을 실시한 변성 올레핀계 수지이어도 된다.In one aspect of the present invention, the olefin-based resin may be a modified olefin-based resin further subjected to one or more modifications selected from acid modification, hydroxyl group modification, and acrylic modification.

예를 들어, 올레핀계 수지에 대해 산 변성을 실시하여 이루어지는 산 변성 올레핀계 수지로는, 상기 서술한 무변성의 올레핀계 수지에, 불포화 카르복실산 또는 그 무수물을, 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.For example, examples of the acid-modified olefin-based resin obtained by performing acid modification on an olefin-based resin include a modified polymer obtained by graft polymerization of an unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof to the above-described unmodified olefin-based resin. I can.

상기의 불포화 카르복실산 또는 그 무수물로는, 예를 들어, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 글루타콘산, 테트라하이드로프탈산, 아코니트산, (메트)아크릴산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 글루타콘산, 무수 시트라콘산, 무수 아코니트산, 노르보르넨디카르복실산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated carboxylic acid or anhydride thereof include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, glutaconic acid, tetrahydrophthalic acid, aconitic acid, (meth)acrylic acid, maleic anhydride, and anhydride. Itaconic acid, glutaconic anhydride, citraconic anhydride, aconitic anhydride, norbornenedicarboxylic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, etc. are mentioned.

또한, 불포화 카르복실산 또는 그 무수물은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Moreover, unsaturated carboxylic acid or its anhydride may be used individually and may use 2 or more types together.

올레핀계 수지에 대해 아크릴 변성을 실시하여 이루어지는 아크릴 변성 올레핀계 수지로는, 주사슬인 상기 서술한 무변성의 올레핀계 수지에, 측사슬로서, 알킬(메트)아크릴레이트를 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.As the acrylic-modified olefin-based resin obtained by performing acrylic modification on the olefin-based resin, a modified polymer obtained by graft polymerization of alkyl (meth)acrylate as a side chain to the above-described unmodified olefin-based resin as a main chain is used. Can be lifted.

상기의 알킬(메트)아크릴레이트가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ∼ 20, 보다 바람직하게는 1 ∼ 16, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 12 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 16, and still more preferably 1 to 12.

상기의 알킬(메트)아크릴레이트로는, 예를 들어, 후술하는 모노머 (a1') 로서 선택 가능한 화합물과 동일한 것을 들 수 있다.As said alkyl (meth)acrylate, the same thing as the compound selectable as a monomer (a1') mentioned later is mentioned, for example.

올레핀계 수지에 대해 수산기 변성을 실시하여 이루어지는 수산기 변성 올레핀계 수지로는, 주사슬인 상기 서술한 무변성의 올레핀계 수지에, 수산기 함유 화합물을 그래프트 중합시켜 이루어지는 변성 중합체를 들 수 있다.Examples of the hydroxyl group-modified olefin-based resin obtained by subjecting the olefin-based resin to hydroxyl group modification include a modified polymer obtained by graft polymerization of a hydroxyl group-containing compound to the above-described unmodified olefin-based resin as the main chain.

상기의 수산기 함유 화합물로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트류 ; 비닐알코올, 알릴알코올 등의 불포화 알코올류 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxyl group-containing compound include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxybutyl Hydroxyalkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Unsaturated alcohols, such as vinyl alcohol and allyl alcohol, etc. are mentioned.

(아크릴우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지)(Resin other than acrylic urethane resin and olefin resin)

본 발명의 일 양태에 있어서, 수지 조성물 (y) 에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 아크릴우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지를 함유해도 된다.In one aspect of the present invention, the resin composition (y) may contain resins other than the acrylic urethane-based resin and the olefin-based resin within a range that does not impair the effects of the present invention.

그러한 수지로는, 예를 들어, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올 등의 비닐계 수지 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 ; 폴리스티렌 ; 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 ; 삼아세트산셀룰로오스 ; 폴리카보네이트; 아크릴우레탄계 수지에는 해당하지 않는 폴리우레탄 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르에테르케톤 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리페닐렌술파이드 ; 폴리에테르이미드, 폴리이미드 등의 폴리이미드계 수지 ; 폴리아미드계 수지 ; 아크릴 수지 ; 불소계 수지 등을 들 수 있다.Examples of such resins include vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polyvinyl alcohol; Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polystyrene; Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; Cellulose triacetate; Polycarbonate; Polyurethane which does not correspond to acrylic urethane resin; Polysulfone; Polyether ether ketone; Polyethersulfone; Polyphenylene sulfide; Polyimide resins such as polyetherimide and polyimide; Polyamide resin; Acrylic resin; Fluorine-based resins and the like.

단, 상기 요건 (1) 을 만족시키는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 형성하는 관점에서, 수지 조성물 (y) 중의 아크릴우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지의 함유 비율은, 적은 편이 바람직하다.However, from the viewpoint of forming the thermally expandable base layer (Y1-1) that satisfies the above requirement (1), the content ratio of resins other than the acrylic urethane-based resin and olefin-based resin in the resin composition (y) is preferably small. .

아크릴우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 이외의 수지의 함유 비율로는, 수지 조성물 (y) 중에 포함되는 수지의 전체량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 30 질량부 미만, 보다 바람직하게는 20 질량부 미만, 보다 바람직하게는 10 질량부 미만, 더욱 바람직하게는 5 질량부 미만, 보다 더욱 바람직하게는 1 질량부 미만이다.The content ratio of resins other than the acrylic urethane resin and the olefin resin is preferably less than 30 parts by mass, more preferably less than 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin contained in the resin composition (y). , More preferably less than 10 parts by mass, still more preferably less than 5 parts by mass, and even more preferably less than 1 part by mass.

(무용제형 수지 조성물 (y1))(Solvent-free resin composition (y1))

본 발명의 일 양태에서 사용하는 수지 조성물 (y) 의 일 양태로서, 질량 평균 분자량 (Mw) 이 50000 이하인 에틸렌성 불포화기를 갖는 올리고머와, 에너지선 중합성 모노머와, 상기 서술한 열팽창성 입자를 배합하여 이루어지고, 용제를 배합하지 않는, 무용제형 수지 조성물 (y1) 을 들 수 있다.As an aspect of the resin composition (y) used in one aspect of the present invention, an oligomer having an ethylenically unsaturated group having a mass average molecular weight (Mw) of 50000 or less, an energy ray polymerizable monomer, and the above-described thermally expandable particles are blended. Solvent-free resin composition (y1) which is formed and does not contain a solvent can be mentioned.

무용제형 수지 조성물 (y1) 에서는, 용제를 배합하지 않지만, 에너지선 중합성 모노머가, 상기 올리고머의 가소성의 향상에 기여하는 것이다.In the solvent-free resin composition (y1), no solvent is blended, but the energy ray polymerizable monomer contributes to the improvement of the plasticity of the oligomer.

무용제형 수지 조성물 (y1) 로 형성한 도막에 대해, 에너지선을 조사함으로써, 상기 요건 (1) 을 만족시키는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 형성하기 쉽다.It is easy to form the thermally expandable base layer (Y1-1) satisfying the above requirement (1) by irradiating the coating film formed with the solvent-free resin composition (y1) with energy rays.

또한, 무용제형 수지 조성물 (y1) 에 배합되는 열팽창성 입자의 종류나 형상, 배합량 (함유량) 에 대해서는, 상기 서술한 바와 같다.In addition, the kind and shape of the thermally expandable particles to be blended in the solvent-free resin composition (y1), and the blending amount (content) are as described above.

무용제형 수지 조성물 (y1) 에 포함되는 상기 올리고머의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 50000 이하이지만, 바람직하게는 1000 ∼ 50000, 보다 바람직하게는 2000 ∼ 40000, 더욱 바람직하게는 3000 ∼ 35000, 보다 더욱 바람직하게는 4000 ∼ 30000 이다.The mass average molecular weight (Mw) of the oligomer contained in the solvent-free resin composition (y1) is 50000 or less, but preferably 1000 to 50000, more preferably 2000 to 40000, still more preferably 3000 to 35000, even more Preferably it is 4000 to 30000.

또, 상기 올리고머로는, 상기 서술한 수지 조성물 (y) 에 포함되는 수지 중, 질량 평균 분자량이 50000 이하인 에틸렌성 불포화기를 갖는 것이면 되지만, 상기 서술한 우레탄 프레폴리머 (UP) 가 바람직하다.Further, as the oligomer, it is sufficient to have an ethylenically unsaturated group having a mass average molecular weight of 50000 or less among the resins contained in the resin composition (y) described above, but the urethane prepolymer (UP) described above is preferable.

또한, 당해 올리고머로는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 변성 올레핀계 수지도 사용할 수 있다.Further, as the oligomer, a modified olefin-based resin having an ethylenically unsaturated group can also be used.

무용제형 수지 조성물 (y1) 중에 있어서의, 상기 올리고머 및 에너지선 중합성 모노머의 합계 함유량은, 무용제형 수지 조성물 (y1) 의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 95 질량%, 더욱 바람직하게는 65 ∼ 90 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 70 ∼ 85 질량% 이다.The total content of the oligomer and the energy ray polymerizable monomer in the solvent-free resin composition (y1) is preferably 50 to 99 mass% with respect to the total amount (100 mass%) of the solvent-free resin composition (y1). , More preferably, they are 60 to 95 mass%, still more preferably 65 to 90 mass%, and even more preferably 70 to 85 mass%.

에너지선 중합성 모노머로는, 예를 들어, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 아다만탄(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸아크릴레이트 등의 지환식 중합성 화합물 ; 페닐하이드록시프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 페놀에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트 등의 방향족 중합성 화합물 ; 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 모르폴린아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐 등의 복소 고리형 중합성 화합물 등을 들 수 있다.As an energy ray polymerizable monomer, for example, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxy (meth)acrylate , Cyclohexyl (meth)acrylate, adamantane (meth)acrylate, and alicyclic polymerizable compounds such as tricyclodecane acrylate; Aromatic polymerizable compounds such as phenylhydroxypropyl acrylate, benzyl acrylate, and phenol ethylene oxide-modified acrylate; Heterocyclic polymerizable compounds, such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, morpholine acrylate, N-vinylpyrrolidone, and N-vinyl caprolactam, etc. are mentioned.

이들 에너지선 중합성 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These energy ray polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

무용제형 수지 조성물 (y1) 중에 있어서의, 상기 올리고머와, 상기 에너지선 중합성 모노머의 함유량비 [올리고머/에너지선 중합성 모노머] 는, 질량비로, 바람직하게는 20/80 ∼ 90/10, 보다 바람직하게는 30/70 ∼ 85/15, 더욱 바람직하게는 35/65 ∼ 80/20 이다.The content ratio of the oligomer and the energy ray polymerizable monomer [oligomer/energy ray polymerizable monomer] in the solvent-free resin composition (y1) is a mass ratio, preferably 20/80 to 90/10, more It is preferably 30/70 to 85/15, more preferably 35/65 to 80/20.

본 발명의 일 양태에 있어서, 무용제형 수지 조성물 (y1) 은, 추가로 광 중합 개시제를 배합하여 이루어지는 것이 바람직하다.In one aspect of the present invention, it is preferable that the solvent-free resin composition (y1) is formed by further mixing a photopolymerization initiator.

광 중합 개시제를 함유함으로써, 비교적 저에너지의 에너지선의 조사에 의해서도, 충분히 경화 반응을 진행시킬 수 있다.By containing the photoinitiator, the curing reaction can be sufficiently advanced even by irradiation of relatively low energy energy rays.

광 중합 개시제로는, 예를 들어, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤질페닐술파이드, 테트라메틸티우람모노술파이드, 아조비스이소부티로니트릴, 디벤질, 디아세틸, 8-클로르안트라퀴논 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, for example, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzyl phenyl sulfide, tetramethyl thiuram mono Sulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, 8-chloranthraquinone, and the like.

이들 광 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These photoinitiators may be used independently and may use 2 or more types together.

광 중합 개시제의 배합량은, 상기 올리고머 및 에너지선 중합성 모노머의 전체량 (100 질량부) 에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 4 질량부, 더욱 바람직하게는 0.02 ∼ 3 질량부이다.The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 4 parts by mass, still more preferably 0.02 with respect to the total amount (100 parts by mass) of the oligomer and the energy ray polymerizable monomer. It is-3 parts by mass.

<비열팽창성 기재층 (Y1-2)><Non-thermal expandable substrate layer (Y1-2)>

기재 (Y1) 를 구성하는 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 형성 재료로는, 예를 들어, 지재 (紙材), 수지, 금속 등을 들 수 있고, 본 발명의 일 양태의 점착성 적층체의 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.As a material for forming the non-thermal expandable substrate layer (Y1-2) constituting the substrate (Y1), for example, a paper material, a resin, a metal, etc. can be mentioned, and the adhesive laminate of one aspect of the present invention It can be appropriately selected according to the use of.

지재로는, 예를 들어, 박엽지, 중질지, 상질지, 함침지, 코트지, 아트지, 황산지, 글라신지 등을 들 수 있다.Examples of the paper material include thin paper, heavy paper, fine paper, impregnated paper, coated paper, art paper, sulfuric acid paper, glassine paper, and the like.

수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지 ; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 등의 비닐계 수지 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 ; 폴리스티렌 ; 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 ; 삼아세트산셀룰로오스 ; 폴리카보네이트; 폴리우레탄, 아크릴 변성 폴리우레탄 등의 우레탄 수지 ; 폴리메틸펜텐 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르에테르케톤 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리페닐렌술파이드 ; 폴리에테르이미드, 폴리이미드 등의 폴리이미드계 수지 ; 폴리아미드계 수지 ; 아크릴 수지 ; 불소계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the resin include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; Vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-vinyl alcohol copolymer; Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polystyrene; Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; Cellulose triacetate; Polycarbonate; Urethane resins such as polyurethane and acrylic-modified polyurethane; Polymethylpentene; Polysulfone; Polyether ether ketone; Polyethersulfone; Polyphenylene sulfide; Polyimide resins such as polyetherimide and polyimide; Polyamide resin; Acrylic resin; Fluorine-based resins and the like.

금속으로는, 예를 들어, 알루미늄, 주석, 크롬, 티탄 등을 들 수 있다.Examples of the metal include aluminum, tin, chromium, and titanium.

이들 형성 재료는, 1 종으로 구성되어 있어도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These forming materials may be constituted by one type or may be used in combination of two or more types.

2 종 이상의 형성 재료를 병용한 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 으로는, 지재를 폴리에틸렌 등의 열가소성 수지로 라미네이트한 것이나, 수지를 포함하는 수지 필름 또는 시트의 표면에 금속막을 형성한 것 등을 들 수 있다.As the non-thermal expandable substrate layer (Y1-2) in which two or more types of forming materials are used in combination, the paper material is laminated with a thermoplastic resin such as polyethylene, or a resin film containing a resin or a metal film is formed on the surface of the sheet. Can be lifted.

또한, 금속층의 형성 방법으로는, 예를 들어, 상기 금속을 진공 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅 등의 PVD 법에 의해 증착하는 방법, 또는 상기 금속으로 이루어지는 금속박을 일반적인 점착제를 사용하여 첩부하는 방법 등을 들 수 있다.In addition, as a method of forming a metal layer, for example, a method of depositing the metal by a PVD method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a method of affixing a metal foil made of the metal using a general adhesive. Can be mentioned.

또한, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 과 적층하는 다른 층의 층간 밀착성을 향상시키는 관점에서, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 이 수지를 포함하는 경우, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 표면에 대해서도, 상기 서술한 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 동일하게, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 용이 접착 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 된다.In addition, from the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the non-thermal expandable base layer (Y1-2) and the other layer to be laminated, when the non-thermal expandable base layer (Y1-2) contains a resin, the non-thermal expandable base layer (Y1-2) Also on the surface of the thermally expandable base layer (Y1-1) described above, a surface treatment by an oxidation method or an uneven method, an easy adhesion treatment, or a primer treatment may be performed.

또, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 이 수지를 포함하는 경우, 당해 수지와 함께, 수지 조성물 (y) 에도 함유할 수 있는, 상기 서술한 기재용 첨가제를 함유해도 된다.Moreover, when the non-thermal expandable base material layer (Y1-2) contains a resin, you may contain the above-mentioned additive for base materials which can also be contained in the resin composition (y) together with the said resin.

비열팽창성 기재층 (Y1-2) 은, 상기 서술한 방법에 기초하여 판단되는, 비열팽창성층이다.The non-thermal expandable base layer (Y1-2) is a non-thermal expandable layer judged based on the method described above.

그 때문에, 상기 서술한 식으로부터 산출되는 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 체적 변화율 (%) 로는, 5 % 미만이지만, 바람직하게는 2 % 미만, 보다 바람직하게는 1 % 미만, 더욱 바람직하게는 0.1 % 미만, 보다 더욱 바람직하게는 0.01 % 미만이다.Therefore, the volume change ratio (%) of the non-thermal expandable base layer (Y1-2) calculated from the above-described formula is less than 5%, but is preferably less than 2%, more preferably less than 1%, and more preferably Is less than 0.1%, even more preferably less than 0.01%.

또, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 은, 체적 변화율이 상기 범위인 한, 열팽창성 입자를 함유해도 된다. 예를 들어, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 에 포함되는 수지를 선택함으로써, 열팽창성 입자가 포함되어 있었다고 해도, 체적 변화율을 상기 범위로 조정하는 것은 가능하다.In addition, the non-thermal expandable base material layer (Y1-2) may contain thermally expandable particles as long as the volume change ratio is within the above range. For example, by selecting the resin contained in the non-thermal expandable base layer (Y1-2), even if the thermally expandable particles were contained, it is possible to adjust the volume change rate to the above range.

단, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 중의 열팽창성 입자의 함유량은, 적을수록 바람직하다.However, the smaller the content of the thermally expandable particles in the non-thermal expandable base layer (Y1-2), the more preferable.

구체적인 열팽창성 입자의 함유량으로는, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 통상 3 질량% 미만, 바람직하게는 1 질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 미만, 더욱 바람직하게는 0.01 질량% 미만, 보다 더욱 바람직하게는 0.001 질량% 미만이다. 한층 바람직하게는, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 중에 열팽창성 입자가 포함되지 않는 것이다.The specific content of the thermally expandable particles is usually less than 3% by mass, preferably less than 1% by mass, more preferably 0.1% by mass with respect to the total mass (100% by mass) of the non-thermally expandable substrate layer (Y1-2). It is less than, more preferably less than 0.01% by mass, and even more preferably less than 0.001% by mass. More preferably, thermally expandable particles are not contained in the non-thermally expandable base layer (Y1-2).

<점착제층 (X1)><Adhesive layer (X1)>

본 발명의 제 1 양태에서 사용하는 점착 시트 (I) 가 갖는 점착제층 (X1) 은, 점착성 수지를 포함하는 점착제 조성물 (x1) 로 형성할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) used in the first aspect of the present invention can be formed from the pressure-sensitive adhesive composition (x1) containing an adhesive resin.

또한, 점착제 조성물 (x1) 은, 필요에 따라, 가교제, 점착 부여제, 중합성 화합물, 중합 개시제 등의 점착제용 첨가제를 함유해도 된다.Moreover, the adhesive composition (x1) may contain additives for adhesives, such as a crosslinking agent, a tackifier, a polymeric compound, and a polymerization initiator, as needed.

이하, 점착제 조성물 (x1) 에 포함되는 각 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, each component contained in the pressure-sensitive adhesive composition (x1) will be described.

또한, 점착 시트 (I) 가, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 경우에 있어서도, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 도, 이하에 나타내는 각 성분을 함유하는 점착제 조성물 (x1) 로 형성할 수 있다.In addition, when the adhesive sheet (I) has a first adhesive layer (X11) and a second adhesive layer (X12), the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12) are also shown below. It can be formed from the pressure-sensitive adhesive composition (x1) containing each component.

(점착성 수지)(Adhesive resin)

본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착성 수지로는, 당해 수지 단독으로 점착성을 갖고, 질량 평균 분자량 (Mw) 이 1 만 이상인 중합체이면 된다.As the adhesive resin used in one aspect of the present invention, the resin alone may have adhesiveness and a polymer having a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 or more.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착성 수지의 질량 평균 분자량 (Mw) 으로는, 점착력의 향상의 관점에서, 바람직하게는 1 만 ∼ 200 만, 보다 바람직하게는 2 만 ∼ 150 만, 더욱 바람직하게는 3 만 ∼ 100 만이다.As the mass average molecular weight (Mw) of the adhesive resin used in one aspect of the present invention, from the viewpoint of improving the adhesive strength, preferably 10,000 to 2 million, more preferably 20,000 to 1.5 million, even more preferably It is between 30,000 and 1 million.

구체적인 점착성 수지로는, 예를 들어, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리이소부틸렌계 수지 등의 고무계 수지, 폴리에스테르계 수지, 올레핀계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지 등을 들 수 있다.Examples of specific adhesive resins include rubber resins such as acrylic resins, urethane resins, and polyisobutylene resins, polyester resins, olefin resins, silicone resins, and polyvinyl ether resins.

이들 점착성 수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These adhesive resins may be used alone or in combination of two or more.

또, 이들 점착성 수지가, 2 종 이상의 구성 단위를 갖는 공중합체인 경우, 당해 공중합체의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 및 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.Moreover, when these adhesive resins are a copolymer which has 2 or more types of structural units, the form of the said copolymer is not specifically limited, Any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer may be sufficient.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착성 수지는, 상기의 점착성 수지의 측사슬에 중합성 관능기를 도입한, 에너지선 경화형의 점착성 수지이어도 된다.The adhesive resin used in one aspect of the present invention may be an energy ray-curable adhesive resin in which a polymerizable functional group is introduced into the side chain of the adhesive resin.

당해 중합성 관능기로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있다. As said polymerizable functional group, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc. are mentioned.

또, 에너지선으로는, 자외선이나 전자선을 들 수 있지만, 자외선이 바람직하다.Moreover, although ultraviolet rays and electron beams are mentioned as an energy ray, ultraviolet rays are preferable.

본 발명의 일 양태에 있어서, 우수한 점착력을 발현시키는 관점에서, 점착성 수지가, 아크릴계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In one aspect of the present invention, from the viewpoint of expressing excellent adhesive force, it is preferable that the adhesive resin contains an acrylic resin.

또한, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 점착 시트 (I) 를 사용하는 경우, 수지막 형성용 시트 (II) 와 접촉하고 있는 제 1 점착제층 (X11) 에 아크릴계 수지가 포함됨으로써, 제 1 점착제층의 표면에 요철을 형성시키기 쉽게 할 수 있다.In addition, when using the pressure-sensitive adhesive sheet (I) having the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12), the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) in contact with the resin film-forming sheet (II) By containing the resin, it can be made easy to form irregularities on the surface of the first pressure-sensitive adhesive layer.

점착성 수지 중의 아크릴계 수지의 함유 비율로는, 점착제 조성물 (x1) 또는 점착제층 (X1) 에 포함되는 점착성 수지의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 30 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 85 ∼ 100 질량% 이다.As the content ratio of the acrylic resin in the adhesive resin, with respect to the total amount (100% by mass) of the adhesive resin contained in the adhesive composition (x1) or the adhesive layer (X1), preferably 30 to 100% by mass, more preferably Is 50 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass, and even more preferably 85 to 100% by mass.

(아크릴계 수지)(Acrylic resin)

본 발명의 일 양태에 있어서, 점착성 수지로서 사용할 수 있는 아크릴계 수지로는, 예를 들어, 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 중합체, 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 중합체 등을 들 수 있다.In one aspect of the present invention, as an acrylic resin that can be used as the adhesive resin, for example, a polymer containing a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate having a linear or branched alkyl group, cyclic And polymers containing structural units derived from (meth)acrylates having a structure.

아크릴계 수지의 질량 평균 분자량 (Mw) 으로는, 바람직하게는 10 만 ∼ 150 만, 보다 바람직하게는 20 만 ∼ 130 만, 더욱 바람직하게는 35 만 ∼ 120 만, 보다 더욱 바람직하게는 50 만 ∼ 110 만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the acrylic resin is preferably 100,000 to 1.5 million, more preferably 200,000 to 1.3 million, still more preferably 350,000 to 1.2 million, and even more preferably 500,000 to 110. Only.

본 발명의 일 양태에서 사용하는 아크릴계 수지로는, 알킬(메트)아크릴레이트 (a1') (이하, 「모노머 (a1')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (a1) 및 관능기 함유 모노머 (a2') (이하, 「모노머 (a2')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (a2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (A1) 가 보다 바람직하다.As the acrylic resin used in one aspect of the present invention, a structural unit (a1) derived from an alkyl (meth)acrylate (a1') (hereinafter also referred to as ``monomer (a1')'') and a functional group-containing monomer (a2) The acrylic copolymer (A1) having the structural unit (a2) derived from') (hereinafter, also referred to as "monomer (a2')") is more preferable.

모노머 (a1') 가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 점착 특성의 향상의 관점에서, 바람직하게는 1 ∼ 24, 보다 바람직하게는 1 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10, 보다 더욱 바람직하게는 4 ∼ 8 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the monomer (a1') is preferably 1 to 24, more preferably 1 to 12, still more preferably 2 to 10, and even more preferably 4 from the viewpoint of improving adhesion properties. It is ∼ 8.

또한, 모노머 (a1') 가 갖는 알킬기는, 직사슬 알킬기이어도 되고, 분기 사슬 알킬기이어도 된다.In addition, the alkyl group which the monomer (a1') has may be a linear alkyl group or a branched chain alkyl group.

모노머 (a1') 로는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As the monomer (a1'), for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and Uryl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and the like.

이들 모노머 (a1') 는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These monomers (a1') may be used alone or in combination of two or more.

모노머 (a1') 로는, 부틸(메트)아크릴레이트 및 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 바람직하다.As the monomer (a1'), butyl (meth)acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate are preferable.

구성 단위 (a1) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99.9 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99.0 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 97.0 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 95.0 질량% 이다.The content of the structural unit (a1) is preferably 50 to 99.9% by mass, more preferably 60 to 99.0% by mass, and even more preferably based on the total structural unit (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). It is 70 to 97.0 mass%, More preferably, it is 80 to 95.0 mass%.

모노머 (a2') 가 갖는 관능기로는, 예를 들어, 수산기, 카르복시기, 아미노기, 에폭시기 등을 들 수 있다.As a functional group which the monomer (a2') has, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, etc. are mentioned, for example.

요컨대, 모노머 (a2') 로는, 예를 들어, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머 등을 들 수 있다.In short, examples of the monomer (a2') include a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer.

이들 모노머 (a2') 는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These monomers (a2') may be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 모노머 (a2') 로는, 수산기 함유 모노머 및 카르복시기 함유 모노머가 바람직하다.Among these, as the monomer (a2'), a hydroxyl group-containing monomer and a carboxy group-containing monomer are preferable.

수산기 함유 모노머로는, 예를 들어, 상기 서술한 수산기 함유 화합물과 동일한 것을 들 수 있다.As a hydroxyl group-containing monomer, the thing similar to the hydroxyl group-containing compound mentioned above is mentioned, for example.

카르복시기 함유 모노머로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산 등의 에틸렌성 불포화 모노카르복실산 ; 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 디카르복실산 및 그 무수물, 2-(아크릴로일옥시)에틸숙시네이트, 2-카르복시에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; Ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid, and anhydrides thereof, 2-(acryloyloxy)ethyl succinate, 2-carboxyethyl (meth)acrylate, and the like. .

구성 단위 (a2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 35 질량%, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 30 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 3.0 ∼ 25 질량% 이다.The content of the constituent unit (a2) is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 35% by mass, still more preferably with respect to the total constituent units (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). It is 1.0 to 30 mass %, More preferably, it is 3.0 to 25 mass %.

아크릴계 공중합체 (A1) 는, 추가로 모노머 (a1') 및 (a2') 이외의 다른 모노머 (a3') 에서 유래하는 구성 단위 (a3) 를 가지고 있어도 된다.The acrylic copolymer (A1) may further have a structural unit (a3) derived from a monomer (a3') other than the monomers (a1') and (a2').

또한, 아크릴계 공중합체 (A1) 에 있어서, 구성 단위 (a1) 및 (a2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (A1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 95 ∼ 100 질량% 이다.In addition, in the acrylic copolymer (A1), the content of the structural units (a1) and (a2) is preferably 70 to 100% by mass with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (A1). , More preferably, it is 80 to 100% by mass, still more preferably 90 to 100% by mass, and even more preferably 95 to 100% by mass.

모노머 (a3') 로는, 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소부틸렌 등의 올레핀류 ; 염화비닐, 비닐리덴클로라이드 등의 할로겐화올레핀류 ; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 디엔계 모노머류 ; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이미드(메트)아크릴레이트 등의 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 포름산비닐, 아세트산비닐, 아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the monomer (a3') include olefins such as ethylene, propylene, and isobutylene; Halogenated olefins such as vinyl chloride and vinylidene chloride; Diene-based monomers such as butadiene, isoprene, and chloroprene; Cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ( (Meth)acrylates having a cyclic structure such as meth)acrylate and imide (meth)acrylate; Styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, (meth)acrylamide, (meth)acrylonitrile, (meth)acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, etc. Can be lifted.

또, 아크릴계 공중합체 (A1) 는, 주사슬 및/또는 측사슬에 중합성 관능기를 도입한, 에너지선 경화형의 아크릴계 공중합체로 해도 된다.Further, the acrylic copolymer (A1) may be an energy ray-curable acrylic copolymer in which a polymerizable functional group is introduced into the main chain and/or the side chain.

당해 중합성 관능기 및 당해 에너지선으로는, 상기 서술한 바와 같다.The polymerizable functional group and the energy ray are as described above.

또한, 중합성 관능기는, 상기 서술한 구성 단위 (a1) 및 (a2) 를 갖는 아크릴계 공중합체와, 당해 아크릴계 공중합체의 구성 단위 (a2) 가 갖는 관능기와 결합 가능한 치환기와 중합성 관능기를 갖는 중합성 화합물 (Xa) 을 반응시킴으로써 도입할 수 있다.In addition, the polymerizable functional group is a polymerization having an acrylic copolymer having the structural units (a1) and (a2) described above, and a substituent and a polymerizable functional group capable of bonding with the functional group of the structural unit (a2) of the acrylic copolymer. It can be introduced by reacting the sexual compound (Xa).

중합성 화합물 (Xa) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트, (메트)아크릴로일이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산 등을 들 수 있다.As the polymerizable compound (Xa), for example, (meth)acryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, (meth)acryloyl isocyanate, allyl isocyanate, glycidyl (Meth)acrylate, (meth)acrylic acid, etc. are mentioned.

(가교제)(Crosslinking agent)

본 발명의 일 양태에 있어서, 점착제 조성물 (x1) 은, 상기 서술한 아크릴계 공중합체 (A1) 와 같이, 관능기를 갖는 점착성 수지를 함유하는 경우, 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.In one aspect of the present invention, when the pressure-sensitive adhesive composition (x1) contains a pressure-sensitive adhesive resin having a functional group, like the acrylic copolymer (A1) described above, it is preferable to further contain a crosslinking agent.

당해 가교제는, 관능기를 갖는 점착성 수지와 반응하고, 당해 관능기를 가교 기점으로 하여, 점착성 수지끼리를 가교하는 것이다.The crosslinking agent reacts with an adhesive resin having a functional group, and crosslinks the adhesive resins by using the functional group as a crosslinking starting point.

가교제로는, 예를 들어, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다.As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, etc. are mentioned, for example.

이들 가교제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.

이들 가교제 중에서도, 응집력을 높여 점착력을 향상시키는 관점, 및 입수하기 쉬움 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하다.Among these crosslinking agents, isocyanate-based crosslinking agents are preferred from the viewpoints of increasing cohesive strength and improving adhesive strength, and from the viewpoints of availability and the like.

가교제의 함유량은, 점착성 수지가 갖는 관능기의 수에 따라 적절히 조정되는 것이지만, 관능기를 갖는 점착성 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 7 질량부, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 5 질량부이다.The content of the crosslinking agent is appropriately adjusted according to the number of functional groups in the adhesive resin, but with respect to 100 parts by mass of the adhesive resin having a functional group, preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 7 parts by mass, further It is preferably 0.05 to 5 parts by mass.

(점착 부여제)(Adhesion imparting agent)

본 발명의 일 양태에 있어서, 점착제 조성물 (x1) 은, 점착력을 보다 향상시키는 관점에서, 추가로 점착 부여제를 함유해도 된다.In one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition (x1) may further contain a tackifier from the viewpoint of further improving the adhesive strength.

본 명세서에 있어서, 「점착 부여제」 란, 상기 서술한 점착성 수지의 점착력을 보조적으로 향상시키는 성분으로서, 질량 평균 분자량 (Mw) 이 1 만 미만인 올리고머를 가리키고, 상기 서술한 점착성 수지와는 구별되는 것이다.In the present specification, the term ``tackifier'' refers to an oligomer having a mass average molecular weight (Mw) of less than 10,000 as a component that auxiliaryly improves the adhesive strength of the above-described adhesive resin, and is distinguished from the above-described adhesive resin. will be.

점착 부여제의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 400 ∼ 10000, 보다 바람직하게는 500 ∼ 8000, 더욱 바람직하게는 800 ∼ 5000 이다.The mass average molecular weight (Mw) of the tackifier is preferably 400 to 10000, more preferably 500 to 8000, and still more preferably 800 to 5000.

점착 부여제로는, 예를 들어, 로진계 수지, 테르펜계 수지, 스티렌계 수지, 석유 나프타의 열분해로 생성되는 펜텐, 이소프렌, 피페린, 1,3-펜타디엔 등의 C5 유분을 공중합하여 얻어지는 C5 계 석유 수지, 석유 나프타의 열분해로 생성되는 인덴, 비닐톨루엔 등의 C9 유분을 공중합하여 얻어지는 C9 계 석유 수지, 및 이들을 수소화한 수소화 수지 등을 들 수 있다.As a tackifier, for example, a rosin resin, a terpene resin, a styrene resin, C5 obtained by copolymerizing a C5 fraction such as pentene, isoprene, piperine, and 1,3-pentadiene produced by pyrolysis of petroleum naphtha. Petroleum resins, C9 petroleum resins obtained by copolymerizing C9 fractions such as indene and vinyl toluene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha, and hydrogenated resins obtained by hydrogenating these.

점착 부여제의 연화점은, 바람직하게는 60 ∼ 170 ℃, 보다 바람직하게는 65 ∼ 160 ℃, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 150 ℃ 이다.The softening point of the tackifier is preferably 60 to 170°C, more preferably 65 to 160°C, and still more preferably 70 to 150°C.

또한, 본 명세서에 있어서, 점착 부여제의 「연화점」 은, JIS K 2531 에 준거하여 측정한 값을 의미한다.In addition, in this specification, the "softening point" of a tackifier means a value measured in conformity with JIS K 2531.

점착 부여제는, 단독으로 사용해도 되고, 연화점이나 구조가 상이한 2 종 이상을 병용해도 된다.The tackifier may be used alone, or two or more types having different softening points and structures may be used in combination.

그리고, 2 종 이상의 복수의 점착 부여제를 사용하는 경우, 그것들 복수의 점착 부여제의 연화점의 가중 평균이, 상기 범위에 속하는 것이 바람직하다.And when using a plurality of tackifiers of two or more types, it is preferable that the weighted average of the softening points of the plurality of tackifiers fall within the above range.

점착 부여제의 함유량은, 점착제 조성물 (x1) 의 유효 성분의 전체량 (100 질량%) 또는 점착제층 (X1) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 65 질량%, 보다 바람직하게는 0.05 ∼ 55 질량%, 더욱 바람직하게는 0.1 ∼ 50 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 45 질량%, 나아가 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 40 질량% 이다.The content of the tackifier is preferably 0.01 to 65% by mass, and more with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the pressure-sensitive adhesive composition (x1) or the total mass (100% by mass) of the pressure-sensitive adhesive layer (X1). It is preferably 0.05 to 55% by mass, still more preferably 0.1 to 50% by mass, even more preferably 0.5 to 45% by mass, and even more preferably 1.0 to 40% by mass.

(광 중합 개시제)(Photopolymerization initiator)

본 발명의 일 양태에 있어서, 점착제 조성물 (x1) 이, 점착성 수지로서, 에너지선 경화형의 점착성 수지를 포함하는 경우, 추가로 광 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.In one aspect of the present invention, when the pressure-sensitive adhesive composition (x1) contains an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin as the pressure-sensitive adhesive resin, it is preferable to further contain a photopolymerization initiator.

에너지선 경화형의 점착성 수지 및 광 중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물로 함으로써, 당해 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 비교적 저에너지의 에너지선의 조사에 의해서도, 충분히 경화 반응을 진행시켜, 점착력을 원하는 범위로 조정하는 것이 가능해진다.By setting the pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin and a photopolymerization initiator, the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition sufficiently advances the curing reaction even by irradiation of relatively low energy energy rays, and adjusts the adhesive force to a desired range. It becomes possible to do.

또한, 본 발명의 일 양태에서 사용하는 광 중합 개시제로는, 상기 서술한 무용제형 수지 조성물 (y1) 에 배합되는 것과 동일한 것을 들 수 있다.In addition, as the photoinitiator used in one aspect of the present invention, the same as those blended in the above-described solvent-free resin composition (y1) can be mentioned.

광 중합 개시제의 함유량은, 에너지선 경화형의 점착성 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 5 질량부, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 2 질량부이다.The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and still more preferably 0.05 to 2 parts by mass per 100 parts by mass of the energy ray-curable adhesive resin.

(점착제용 첨가제)(Additive for adhesive)

본 발명의 일 양태에 있어서, 점착제 조성물 (x1) 은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 상기 서술한 첨가제 이외에도, 일반적인 점착제에 사용되는 점착제용 첨가제를 함유하고 있어도 된다.In one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition (x1) may contain, in addition to the additives described above, an additive for a pressure-sensitive adhesive used for a general pressure-sensitive adhesive within a range that does not impair the effect of the present invention.

이와 같은 점착제용 첨가제로는, 예를 들어, 산화 방지제, 연화제 (가소제), 방청제, 안료, 염료, 지연제, 반응 촉진제 (촉매), 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.Examples of such additives for pressure-sensitive adhesives include antioxidants, softeners (plasticizers), rust inhibitors, pigments, dyes, retarders, reaction accelerators (catalysts), and ultraviolet absorbers.

또한, 이들 점착제용 첨가제는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.In addition, these adhesive additives may be used individually, respectively, and may use 2 or more types together.

이들 점착제용 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 점착제용 첨가제의 함유량은, 점착성 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.0001 ∼ 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.001 ∼ 10 질량부이다.In the case of containing these additives for pressure-sensitive adhesives, the content of each of the additives for pressure-sensitive adhesives is preferably 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive resin.

또한, 도 3 에 나타내는 점착성 적층체 (2) 가 갖는, 상기 서술한 제 2 양태의 점착 시트 (I) 를 사용하는 경우, 열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 은, 추가로 열팽창성 입자를 함유하는 열팽창성 점착제 조성물 (x11) 로 형성된다.In addition, when using the adhesive sheet (I) of the 2nd aspect mentioned above which the adhesive laminated body (2) shown in FIG. 3 has, the 1st adhesive layer (X11) which is a thermally expandable adhesive layer is additionally thermally expandable It is formed from a thermally expandable pressure-sensitive adhesive composition (x11) containing particles.

당해 열팽창성 입자는 상기 서술한 바와 같다.The thermally expandable particles are as described above.

열팽창성 입자의 함유량으로는, 열팽창성 점착제 조성물 (x11) 의 유효 성분의 전체량 (100 질량%) 또는 열팽창성 점착제층의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 70 질량%, 보다 바람직하게는 2 ∼ 60 질량%, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 50 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 5 ∼ 40 질량% 이다.The content of the thermally expandable particles is preferably 1 to 70% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the thermally expandable adhesive composition (x11) or the total mass (100% by mass) of the thermally expandable adhesive layer. , More preferably, it is 2 to 60 mass%, More preferably, it is 3 to 50 mass%, Even more preferably, it is 5 to 40 mass%.

한편, 점착제층 (X1) 이 비열팽창성 점착제층인 경우, 비열팽창성 점착제층의 형성 재료인 비열팽창성 점착제 조성물 중의 열팽창성 입자의 함유량은 최대한 적을수록 바람직하다.On the other hand, when the pressure-sensitive adhesive layer (X1) is a non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, the content of the heat-expandable particles in the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition as a material for forming the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer is preferably as small as possible.

열팽창성 입자의 함유량으로는, 비열팽창성 점착제 조성물의 유효 성분의 전체량 (100 질량%) 또는 비열팽창성 점착제층의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 1 질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 미만, 더욱 바람직하게는 0.01 질량% 미만, 보다 더욱 바람직하게는 0.001 질량% 미만이다. 한층 바람직하게는, 비열팽창성 점착제 조성물 또는 비열팽창성 점착제층 중에, 열팽창성 입자가 포함되지 않는 것이다.The content of the thermally expandable particles is preferably less than 1% by mass, more preferably with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredient of the non-thermal expandable pressure-sensitive adhesive composition or the total mass (100% by mass) of the non-thermally expandable pressure-sensitive adhesive layer. Is less than 0.1 mass%, more preferably less than 0.01 mass%, and even more preferably less than 0.001 mass%. More preferably, heat-expandable particles are not contained in the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive composition or the non-heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer.

또한, 도 2 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d) 와 같이, 비열팽창성 점착제층인, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 을 갖는 점착 시트 (I) 를 사용하는 경우, 23 ℃ 에 있어서의, 비열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 의 저장 전단 탄성률 G' (23) 는, 바람직하게는 1.0 × 108 ㎩ 이하, 보다 바람직하게는 5.0 × 107 ㎩ 이하, 더욱 바람직하게는 1.0 × 107 ㎩ 이하이다.In addition, when using the PSA sheet (I) having the first PSA layer (X11) and the second PSA layer (X12), which is a non-thermal expandable PSA layer, as in the PSA laminate (1c, 1d) shown in FIG. 2, The storage shear modulus G'(23) of the first adhesive layer (X11) which is a non-thermal expandable adhesive layer at 23°C is preferably 1.0 × 10 8 Pa or less, more preferably 5.0 × 10 7 Pa or less, More preferably, it is 1.0 × 10 7 Pa or less.

비열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 의 저장 전단 탄성률 G' (23) 가 1.0 × 108 ㎩ 이하이면, 예를 들어, 도 2 에 나타내는 점착성 적층체 (1c, 1d) 와 같은 구성으로 했을 때, 분리용 가열 처리에 의한 열팽창성 기재층 (Y1-1) 중의 열팽창성 입자의 팽창에 의해, 점착 시트 (II) 와 접촉하고 있는 제 1 점착제층 (X11) 의 표면에 요철이 형성되기 쉬워진다. 그 결과, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능해지는 점착성 적층체로 할 수 있다.If the storage shear modulus G'(23) of the first adhesive layer (X11) as a non-thermal expandable adhesive layer is 1.0 × 10 8 Pa or less, for example, it has the same configuration as the adhesive laminates (1c, 1d) shown in FIG. In the case of, unevenness is formed on the surface of the first adhesive layer (X11) in contact with the adhesive sheet (II) due to the expansion of the thermally expandable particles in the thermally expandable base layer (Y1-1) by the separation heat treatment. It gets easier. As a result, at the interface P between the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II), it is possible to obtain an adhesive laminate that can be easily separated collectively with a slight force.

또한, 23 ℃ 에 있어서의 비열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 의 저장 전단 탄성률 G' (23) 는, 바람직하게는 1.0 × 104 ㎩ 이상, 보다 바람직하게는 5.0 × 104 ㎩ 이상, 더욱 바람직하게는 1.0 × 105 ㎩ 이상이다.In addition, the storage shear modulus G'(23) of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) which is a non-thermal expandable pressure-sensitive adhesive layer at 23°C is preferably 1.0 × 10 4 Pa or more, more preferably 5.0 × 10 4 Pa or more. , More preferably 1.0×10 5 Pa or more.

또한, 본 명세서에 있어서, 점착제층의 저장 전단 탄성률 G' (23) 는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.In addition, in this specification, the storage shear modulus G'(23) of an adhesive layer means a value measured by the method described in Examples.

[점착 시트 (II) 의 구성][Configuration of adhesive sheet (II)]

본 발명의 제조 방법에 사용하는 점착성 적층체가 갖는 점착 시트 (II) 는, 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖고, 기재 (Y2) 는 점착 시트 (I) 와 직접 적층한다.The adhesive sheet (II) of the adhesive laminate used in the production method of the present invention has a base (Y2) and an adhesive layer (X2), and the base (Y2) is directly laminated with the adhesive sheet (I).

또한, 기재 (Y2) 와 점착제층 (X2) 의 층간 밀착성을 향상시키는 관점에서, 기재 (Y2) 의 점착제층이 적층하는 측의 표면에, 상기 서술한 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 용이 접착 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시해도 된다.In addition, from the viewpoint of improving the interlayer adhesion between the substrate (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the surface treatment by the above-described oxidation method or the uneven method, etc., is easily adhered to the surface on the side where the pressure-sensitive adhesive layer of the substrate (Y2) is laminated. Treatment or primer treatment may be performed.

또, 본 발명의 일 양태에서 사용하는 점착성 적층체에 있어서, 점착제층 (X2) 의 잔류물이 절삭물 및/또는 연삭물에 부착되는 것을 억제하는 관점, 범프를 갖는 반도체 웨이퍼 등과 같이 표면 요철이 큰 가공 대상물에 대해 추종성을 우수한 것으로 하는 관점, 및 점착제층 (X2) 의 점착력의 시간 경과적 안정성을 우수한 것으로 하는 관점에서, 점착 시트 (II) 는, 기재 (Y2) 와 점착제층 (X2) 사이에, 중간층 (Z2) 을 갖는 것이 바람직하다.In addition, in the adhesive laminate used in one aspect of the present invention, from the viewpoint of suppressing the adhesion of the residue of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) to the cutting object and/or the grinding object, surface irregularities such as a semiconductor wafer having bumps, etc. From the viewpoint of having excellent followability with respect to a large object to be processed, and from the viewpoint of having excellent stability over time of the adhesive force of the adhesive layer (X2), the adhesive sheet (II) is between the substrate (Y2) and the adhesive layer (X2). Eh, it is preferable to have an intermediate layer (Z2).

또, 예를 들어, 기재 (Y2) 의 점착제층 (X2) 측의 표면은, 대전 방지 처리가 실시되어 있어도 된다. 중간층 (Z2) 을 갖는 경우, 기재 (Y2) 의 중간층 (Z2) 측의 표면은, 대전 방지 처리가 실시되어 있어도 된다.Moreover, for example, the surface of the adhesive layer X2 side of the base material Y2 may be subjected to antistatic treatment. In the case of having the intermediate layer Z2, the surface of the substrate Y2 on the intermediate layer Z2 side may be subjected to antistatic treatment.

점착 시트 (I) 와의 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능하게 하는 관점에서, 기재 (Y2) 는, 비열팽창성 기재인 것이 바람직하다.It is preferable that the base material Y2 is a non-thermal expandable base material from the viewpoint of enabling easy separation at the interface P with the pressure-sensitive adhesive sheet (I) at once with a slight force.

또, 상기 가열 처리의 전후에 있어서, 피착체와의 양호한 밀착성을 유지하는 관점에서, 점착제층 (X2) 도, 비열팽창성 점착제층인 것이 바람직하다.In addition, before and after the heat treatment, from the viewpoint of maintaining good adhesion to the adherend, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is also preferably a non-heat expandable pressure-sensitive adhesive layer.

또한 중간층 (Z2) 도, 비열팽창성층인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the intermediate layer (Z2) is also a non-thermal expandable layer.

그 때문에, 상기 서술한 식으로부터 산출되는 기재 (Y2), 점착제층 (X2), 및 중간층 (Z2) 의 체적 변화율 (%) 로는, 각각 독립적으로, 5 % 미만이지만, 바람직하게는 2 % 미만, 보다 바람직하게는 1 % 미만, 더욱 바람직하게는 0.1 % 미만, 보다 더욱 바람직하게는 0.01 % 미만이다. 또한, 한층 바람직하게는, 기재 (Y2), 점착제층 (X2), 및 중간층 (Z2) 중에, 열팽창성 입자가 포함되지 않는 것이다.Therefore, as the volume change ratio (%) of the base material (Y2), the adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2) calculated from the above-described formula, each independently, is less than 5%, preferably less than 2%, It is more preferably less than 1%, still more preferably less than 0.1%, and even more preferably less than 0.01%. Moreover, more preferably, thermally expandable particles are not contained in the substrate (Y2), the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2).

이하, 기재 (Y2), 점착제층 (X2), 및 중간층 (Z2) 에 대해 설명한다.Hereinafter, the base material (Y2), the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and the intermediate layer (Z2) will be described.

<기재 (Y2)><Description (Y2)>

기재 (Y2) 의 형성 재료로는, 상기 서술한 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 의 형성 재료와 동일한 것을 들 수 있다.As the material for forming the base material (Y2), the same material as the material for forming the non-thermal expandable base layer (Y1-2) described above can be mentioned.

또한, 기재 (Y2) 는 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 적어도 점착 시트 (I) 와 적층하는 측의 기재 (Y2) 의 표면에는, 수지를 포함하는 수지층이 형성되어 있는 것이 보다 바람직하고, 기재 (Y2) 가 수지 필름 또는 수지 시트인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, it is preferable that the base material (Y2) contains a resin, and it is more preferable that a resin layer containing a resin is formed on the surface of the base material (Y2) on the side to be laminated with the adhesive sheet (I) at least, and the base material It is more preferable that (Y2) is a resin film or a resin sheet.

또, 수지 필름 또는 수지 시트 중에서도, 공정 (4) 에 있어서의 가공 대상물의 연삭에 있어서, 가공 대상물을 극박으로 연삭할 때에도, 가공 대상물을 안정적으로 유지할 수 있는 성질을 가지고 있다는 관점에서, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 (EVA) 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 바람직하고, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 (EVA) 필름이 보다 바람직하다.In addition, from the viewpoint of having a property capable of stably holding the object to be processed, even when grinding the object to be processed ultrathin in the grinding of the object to be processed in step (4), among a resin film or a resin sheet, a polyethylene film, A polypropylene film, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) film, and a polyethylene terephthalate film are preferable, and an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) film is more preferable.

또한, 상기 서술한 수지 필름 또는 수지 시트는, 공지된 필러, 착색제, 대전 방지제, 산화 방지제, 유기 활제, 촉매 등을 함유시켜도 된다.In addition, the resin film or resin sheet described above may contain a known filler, a colorant, an antistatic agent, an antioxidant, an organic lubricant, a catalyst, and the like.

또, 수지 필름 또는 수지 시트는, 투명한 것이어도 되고, 원하는 바에 따라 착색 또는 금속 등이 증착되어 있어도 된다.Moreover, a resin film or a resin sheet may be transparent, and color or metal etc. may be deposited as desired.

또한 분리용 가열 처리 후에 계면 P 에서 약간의 힘으로 일괄적으로 용이하게 분리 가능하게 하는 관점에서, 점착 시트 (I) 에 적층하는 측의 기재 (Y2) 의 표면은, 박리 처리되어 있어도 된다.Further, from the viewpoint of enabling easy separation at the interface P at once with a slight force after the heat treatment for separation, the surface of the substrate Y2 on the side to be laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet I may be subjected to a peeling treatment.

또, 기재 (Y2) 는, 가공 대상물을 점착제층 (X2) 에 첩부할 때의 위치 어긋남을 방지하기 쉬운 것으로 하는 관점, 및 가공 대상물을 첩부할 때, 점착제층 (X2) 으로의 과도한 가라앉음을 방지하기 쉬운 것으로 하는 관점에서, 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 E' (23) 가 1.0 × 106 ㎩ 이상인 것이 바람직하다.In addition, the base material (Y2) is a viewpoint of making it easy to prevent positional shift when affixing the object to be processed to the pressure-sensitive adhesive layer (X2), and excessive sinking into the pressure-sensitive adhesive layer (X2) when affixing the object to be processed. From the viewpoint of making it easy to prevent, it is preferable that the storage elastic modulus E'(23) at 23°C is 1.0×10 6 Pa or more.

또한, 기재 (Y2) 는, 체적 변화율이 상기 범위인 한, 열팽창성 입자를 함유해도 되지만, 상기 관점에서, 기재 (Y2) 중의 열팽창성 입자의 함유량은, 적을수록 바람직하다.In addition, the base material (Y2) may contain thermally expandable particles as long as the volume change rate is within the above range, but from the above viewpoint, the content of the thermally expandable particles in the base material (Y2) is more preferably smaller.

기재 (Y2) 중의 열팽창성 입자의 함유량으로는, 기재 (Y2) 의 전체 질량 (100 질량%) 에 대하여, 통상 3 질량% 미만, 바람직하게는 1 질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 미만, 더욱 바람직하게는 0.01 질량% 미만, 보다 더욱 바람직하게는 0.001 질량% 미만이다. 한층 바람직하게는, 기재 (Y2) 중에 열팽창성 입자가 포함되지 않는 것이다.The content of the thermally expandable particles in the substrate (Y2) is usually less than 3% by mass, preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass with respect to the total mass (100% by mass) of the substrate (Y2). , More preferably less than 0.01% by mass, even more preferably less than 0.001% by mass. More preferably, the thermally expandable particles are not contained in the substrate (Y2).

기재 (Y2) 의 두께는, 바람직하게는 5 ∼ 500 ㎛, 보다 바람직하게는 15 ∼ 300 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 200 ㎛ 이다.The thickness of the substrate (Y2) is preferably 5 to 500 µm, more preferably 15 to 300 µm, and still more preferably 20 to 200 µm.

기재 (Y2) 의 두께가 5 ㎛ 이상이면, 고온에서의 내변형성 (치수 안정성) 이 우수한 것으로 하기 쉽다. 한편, 기재의 두께가 500 ㎛ 이하이면, 점착 시트 (II) 에 첩부되어 있는 가공 대상물에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시할 때, 진동에 의한 점착 시트 (II) 의 변형을 억제할 수 있기 때문에, 막두께 정밀도 등의 가공 정밀도를 향상시키기 쉽다.When the thickness of the substrate (Y2) is 5 µm or more, it is easy to make it excellent in deformation resistance (dimensional stability) at high temperature. On the other hand, when the thickness of the substrate is 500 µm or less, deformation of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) due to vibration can be suppressed when at least any of cutting and grinding is performed on the object to be processed attached to the pressure-sensitive adhesive sheet (II). Therefore, it is easy to improve processing precision such as film thickness precision.

<점착제층 (X2)><Adhesive layer (X2)>

수지막 형성용 시트 (II) 가 갖는 점착제층 (X2) 은, 상기 서술한 점착제 조성물 (x1) 을 사용하여 형성할 수 있고, 바람직한 성분이나 각 성분의 함유량의 바람직한 범위도, 점착제 조성물 (x1) 과 동일하다.The pressure-sensitive adhesive layer (X2) included in the resin film-forming sheet (II) can be formed using the pressure-sensitive adhesive composition (x1) described above, and a preferable component and a preferable range of the content of each component are also included in the pressure-sensitive adhesive composition (x1). Is the same as

여기서, 본 발명의 일 양태에 있어서, 점착제층 (X2) 은, 점착성 수지로서, 측사슬에 중합성 관능기가 도입된 에너지선 경화형의 점착성 수지를 포함하는 점착제 조성물로 형성된 층인 것이 바람직하고, 에너지선 경화형의 아크릴계 중합체 (B) (이하, 「아크릴계 중합체 (B)」 또는 「(B) 성분」 이라고도 한다) 를 포함하는 점착제 조성물로 형성된 층인 것이 보다 바람직하다.Here, in one aspect of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is preferably a layer formed of a pressure-sensitive adhesive composition comprising an energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin in which a polymerizable functional group is introduced into the side chain as the pressure-sensitive adhesive resin. It is more preferable that it is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing a curable acrylic polymer (B) (hereinafter, also referred to as "acrylic polymer (B)" or "component (B)").

당해 점착제 조성물로 형성된 점착제층 (X2) 은, 에너지선 조사 전은, 가공 대상물을 충분히 유지할 수 있는 우수한 점착력을 갖지만, 에너지선 조사 후에는, 점착력이 저하된다. 따라서, 가공품을 점착 시트 (II) 로부터 용이하게 분리하기 쉬운 것으로 할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer (X2) formed from the pressure-sensitive adhesive composition has an excellent adhesive force capable of sufficiently holding the object to be processed before irradiation with energy rays, but the adhesive strength decreases after irradiation with energy rays. Accordingly, the processed product can be easily separated from the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

점착제 조성물 중의 (B) 성분의 함유량은, 점착제 조성물의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 또, 바람직하게는 99.9 질량% 이하, 보다 바람직하게는 99.0 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 98.0 질량% 이하이다.The content of the component (B) in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more with respect to the total amount (100% by mass) of the pressure-sensitive adhesive composition. And, preferably, it is 99.9 mass% or less, More preferably, it is 99.0 mass% or less, More preferably, it is 98.0 mass% or less.

점착제층 (X2) 의 두께는, 양호한 점착력을 갖고, 범프 등을 갖는 반도체 웨이퍼 등과 같이, 표면의 요철차가 큰 가공 대상물에 대한 추종성이 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 1 ∼ 100 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ∼ 75 ㎛, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 50 ㎛ 이다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is preferably 1 to 100 μm, more preferably 1 to 100 μm, more preferably from the viewpoint of having good adhesion and good followability to an object to be processed having a large difference in surface irregularities, such as a semiconductor wafer having bumps or the like. Preferably, it is 1 to 75 µm, more preferably 1 to 50 µm.

또, 점착제층 (X2) 을 형성하는 재료인 점착제 조성물이, 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (B) 등의 에너지선 경화형의 점착성 수지를 포함하는 경우, 추가로 가교제나 광 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, when the pressure-sensitive adhesive composition as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer (X2) contains an energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin such as an energy-ray-curable acrylic polymer (B), it is preferable to further contain a crosslinking agent or a photopolymerization initiator. Do.

가교제로는, 상기 서술한 아크릴계 수지에 배합되는 것과 동일한 것을 들 수 있고, 함유량의 범위도 상기 서술한 바와 같지만, 점착제층 (X2) 의 겔 분율을 높이고, 가공품을 분리했을 때에 당해 가공품에 풀 잔존이 생기는 것을 억제하는 관점에서, 관능기를 갖는 점착성 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 15 질량부, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 10 질량부이다.Examples of the crosslinking agent include those that are the same as those blended in the acrylic resin described above, and the range of the content is also as described above, but the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is increased, and the paste remains in the processed product when the processed product is separated. From the viewpoint of suppressing the occurrence of this, it is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 15 parts by mass, and still more preferably 1.0 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the adhesive resin having a functional group.

광 중합 개시제로는, 상기 서술한 무용제형 수지 조성물 (y1) 에 배합되는 것과 동일한 것을 들 수 있고, 함유량의 범위도 상기 서술한 바와 같다.As a photoinitiator, the same thing as what is blended in the above-mentioned solvent-free resin composition (y1) is mentioned, and the range of content is also as above-mentioned.

또, 이들 이외의 다른 첨가제를 함유해도 된다.Moreover, you may contain other additives other than these.

이하, 점착제 조성물 중에 포함되는 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (B) 에 대해 설명한다.Hereinafter, the energy ray-curable acrylic polymer (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition will be described.

((B) 성분 : 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (B))((B) component: energy ray-curable acrylic polymer (B))

본 발명의 일 양태에 있어서 사용되는 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (B) 는, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체의 측사슬 및/또는 주사슬에 중합성 관능기가 도입된 아크릴계 공중합체이다.The energy ray-curable acrylic polymer (B) used in one aspect of the present invention is an acrylic copolymer in which a polymerizable functional group is introduced into the side chain and/or the main chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer.

비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체는, 예를 들어, 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체, 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체 등을 들 수 있다.Non-energy ray-curable acrylic polymers are, for example, acrylic polymers having structural units derived from alkyl (meth)acrylates having a linear or branched chain alkyl group, and (meth)acrylates having a cyclic structure. And acrylic polymers having constitutional units described above.

중합성 관능기는, 상기 서술한 바와 같지만, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체로의 도입의 용이성의 관점에서, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.Although the polymerizable functional group is as described above, a (meth)acryloyl group is preferable from the viewpoint of ease of introduction into a non-energy ray-curable acrylic polymer.

(B) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 10 만 ∼ 150 만, 보다 바람직하게는 20 만 ∼ 120 만, 보다 바람직하게는 25 만 ∼ 100 만, 더욱 바람직하게는 30 만 ∼ 90 만, 보다 더욱 바람직하게는 35 만 ∼ 80 만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the component (B) is preferably 100,000 to 1.5 million, more preferably 200,000 to 1.2 million, more preferably 250,000 to 1 million, still more preferably 300,000 to 90 However, it is more preferably 350,000 to 800,000.

(B) 성분으로는, 에너지선의 조사에 의해, 점착력이 효과적으로 저하될 수 있는 점착 시트로 하는 관점에서, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (b1') (이하, 「모노머 (b1')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (b1) 및 관능기 함유 모노머 (b2') (이하, 「모노머 (b2')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (b2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (B0) 와, 중합성 화합물 (Xb) 을 반응시켜 얻어지는 에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (B1) 를 포함하는 것이 바람직하고, 에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (B1) 인 것이 보다 바람직하다.As the component (B), from the viewpoint of making a pressure-sensitive adhesive sheet capable of effectively reducing adhesive strength by irradiation with energy rays, an alkyl (meth)acrylate (b1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter, referred to as ``monomer (b1')") derived from a structural unit (b1) and a functional group-containing monomer (b2') (hereinafter also referred to as ``monomer (b2')'') derived from an acrylic copolymer having a structural unit (b2) derived from It is preferable to contain an energy ray-curable acrylic copolymer (B1) obtained by reacting (B0) with a polymerizable compound (Xb), and it is more preferable that it is an energy ray-curable acrylic copolymer (B1).

또한, 아크릴계 공중합체 (B0), (B1) 의 공중합의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.In addition, the form of the copolymerization of the acrylic copolymer (B0) and (B1) is not particularly limited, and any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer may be used.

아크릴계 공중합체 (B1) 의 함유량은, 점착제 조성물 중에 포함되는 (B) 성분의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.The content of the acrylic copolymer (B1) is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, furthermore, based on the total amount (100% by mass) of the component (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition. It is preferably 90 to 100% by mass, even more preferably 100% by mass.

모노머 (b1') 가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ∼ 18, 보다 바람직하게는 1 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 8, 보다 더욱 바람직하게는 1 ∼ 6 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the monomer (b1') is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 6.

모노머 (b1') 로는, 상기 서술한 모노머 (a1') 로서 예시한 것을 들 수 있지만, 부틸(메트)아크릴레이트, 또는 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 부틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.Examples of the monomer (b1') include those exemplified as the above-described monomer (a1'), but butyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate is preferable, and butyl (meth)acrylate Is more preferable.

아크릴계 공중합체 (B0) 에 있어서의 구성 단위 (b1) 의 함유량은, 형성되는 점착제층의 점착력을 향상시키는 관점에서, 아크릴계 공중합체 (B0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99.5 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 98 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 96 질량% 이다.The content of the structural unit (b1) in the acrylic copolymer (B0) is preferably based on the total structural units (100 mass%) of the acrylic copolymer (B0) from the viewpoint of improving the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer to be formed. Is 50 to 99.5% by mass, more preferably 60 to 99% by mass, still more preferably 70 to 98% by mass, and even more preferably 80 to 96% by mass.

모노머 (b2') 로는, 상기 서술한 모노머 (a2') 로서 예시한 것을 들 수 있지만, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 및 에폭시기 함유 모노머에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하고, 수산기 함유 모노머가 보다 바람직하고, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트가 더욱 바람직하다.Examples of the monomer (b2') include those exemplified as the above-described monomer (a2'), but at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer is preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is more It is preferred, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate is more preferred.

아크릴계 공중합체 (B0) 에 있어서의 구성 단위 (b2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (B0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0.5 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 질량%, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 25 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 3 ∼ 15 질량% 이다.The content of the structural unit (b2) in the acrylic copolymer (B0) is preferably 0.5 to 40% by mass, more preferably 1 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (B0). It is -30 mass%, More preferably, it is 2-25 mass%, More preferably, it is 3-15 mass%.

구성 단위 (b2) 의 함유량이 0.5 질량% 이상이면, 중합성 화합물 (Xb) 과의 반응점이 되는 관능기를 갖는 구성 단위 (b2) 의 함유량을 충분히 확보할 수 있고, 에너지선의 조사에 의해, 경화성이 높은 점착제층 (X2) 을 형성할 수 있기 때문에, 점착제층 (X2) 으로부터 절삭물 및/또는 연삭물을 박리할 때, 절삭물 및/또는 연삭물로의 점착제층 (X2) 의 잔류물의 발생을 방지하면서, 박리할 수 있다.When the content of the structural unit (b2) is 0.5% by mass or more, the content of the structural unit (b2) having a functional group serving as a reaction point with the polymerizable compound (Xb) can be sufficiently secured, and curability is Since the high pressure-sensitive adhesive layer (X2) can be formed, when peeling the cutting material and/or the grinding material from the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the occurrence of the residual of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) to the cutting material and/or the grinding material is prevented. It can be peeled off while preventing.

또, 구성 단위 (b2) 의 함유량이 40 질량% 이하이면, 점착제 조성물의 용액을 도포하여, 점착제층 (X2) 을 형성할 때, 충분한 포트 라이프를 확보할 수 있다.In addition, when the content of the structural unit (b2) is 40% by mass or less, a sufficient pot life can be ensured when forming the pressure-sensitive adhesive layer (X2) by applying the solution of the pressure-sensitive adhesive composition.

또한, 중합성 화합물 (Xb) 이란, 아크릴계 공중합체 (B0) 의 구성 단위 (b2) 중의 관능기와 결합 가능한 치환기 (이하, 「반응성 관능기」 라고도 한다) 와 중합성 관능기를 갖는 화합물을 의미하고 있다.In addition, the polymerizable compound (Xb) means a compound having a functional group bondable to a functional group in the constituent unit (b2) of the acrylic copolymer (B0) (hereinafter, also referred to as a "reactive functional group") and a polymerizable functional group.

아크릴계 공중합체 (B0) 는, 상기 모노머 (b1') 및 (b2') 이외의 다른 모노머 (b3') 에서 유래하는 구성 단위 (b3) 를 가지고 있어도 된다.The acrylic copolymer (B0) may have a structural unit (b3) derived from a monomer (b3') other than the monomers (b1') and (b2').

그 밖의 모노머 (b3') 로는, 상기 서술한 모노머 (a3') 로서 예시한 것을 들 수 있다.As other monomer (b3'), what was illustrated as the above-mentioned monomer (a3') is mentioned.

아크릴계 공중합체 (B0) 에 있어서의 구성 단위 (b3) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (B0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 20 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 1 질량% 이다.The content of the structural unit (b3) in the acrylic copolymer (B0) is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (B0). It is 10 mass%, more preferably 0-5 mass%, and even more preferably 0-1 mass%.

또한, 상기 서술한 모노머 (b1') ∼ (b3') 는, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.In addition, the above-described monomers (b1') to (b3') may be used alone or in combination of two or more.

에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (B1) 는, 상기 서술한 구성 단위 (b1) 및 (b2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (B0) 와, 중합성 화합물 (Xb) 을 반응시킴으로써 얻어진다.The energy ray-curable acrylic copolymer (B1) is obtained by reacting the acrylic copolymer (B0) having the above-described structural units (b1) and (b2) with a polymerizable compound (Xb).

중합성 화합물 (Xb) 로는, 상기 서술한 중합성 화합물 (Xa) 로서 예시한 것을 들 수 있지만, 이들 중에서도, 반응성 관능기를 가짐과 함께, 중합성 관능기를 1 분자당 1 ∼ 5 개 갖는 화합물인 것이 바람직하다.Examples of the polymerizable compound (Xb) include those exemplified as the polymerizable compound (Xa) described above, but among these, a compound having a reactive functional group and 1 to 5 polymerizable functional groups per molecule desirable.

상기 반응성 치환기로는, 예를 들어, 이소시아네이트기, 카르복실기, 에폭시기 등을 들 수 있고, 이소시아네이트기가 바람직하다.As said reactive substituent, an isocyanate group, a carboxyl group, an epoxy group, etc. are mentioned, for example, and an isocyanate group is preferable.

상기 중합성 관능기로는, 상기 서술한 바와 같이, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있고, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.As said polymerizable functional group, as mentioned above, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc. are mentioned, and a (meth)acryloyl group is preferable.

구체적인 중합성 화합물 (Xb) 로는, (메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 바람직하다.As a specific polymerizable compound (Xb), (meth)acryloyloxyethyl isocyanate is preferable.

또한, 중합성 화합물 (Xb) 은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.In addition, the polymerizable compound (Xb) may be used alone or in combination of two or more.

아크릴계 공중합체 (B1) 에 있어서, 아크릴계 공중합체 (B0) 가 갖는 관능기수와 중합성 화합물 (Xb) 의 배합량의 관계에 대해, 에너지선 조사 전은 적당한 점착력을 가지면서도, 에너지선 조사 후에는, 점착력이 효과적으로 저하될 수 있는 점착 시트를 얻는 관점에서, 하기 식 (1) 로부터 산출되는 α 의 값이, 바람직하게는 0.5 ∼ 50, 보다 바람직하게는 1.0 ∼ 40, 더욱 바람직하게는 1.2 ∼ 35, 보다 더욱 바람직하게는 1.5 ∼ 30 이다.In the acrylic copolymer (B1), regarding the relationship between the number of functional groups in the acrylic copolymer (B0) and the blending amount of the polymerizable compound (Xb), while having an appropriate adhesive strength before irradiation with energy rays, after irradiation with energy rays, From the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive sheet whose adhesive strength can be effectively lowered, the value of α calculated from the following formula (1) is preferably 0.5 to 50, more preferably 1.0 to 40, further preferably 1.2 to 35, Even more preferably, it is 1.5-30.

또한, 상기 α 의 값은, 아크릴계 공중합체 (B1) 가 갖는 중합성 관능기수에 상당하는 것이다.In addition, the value of α corresponds to the number of polymerizable functional groups contained in the acrylic copolymer (B1).

식 (1) : α = [PB] × [QB] × [RB]/100Equation (1): α = [P B ] × [Q B ] × [R B ]/100

(식 (1) 중, [PB] 는, 아크릴계 공중합체 (B0) 의 전체 구성 단위 100 질량부에 대한 구성 단위 (b2) 의 함유량을 나타낸다. [QB] 는, 아크릴계 공중합체 (B0) 가 갖는 당해 관능기 함유 모노머 유래의 관능기 100 당량에 대한, 중합성 화합물 (Xb) 의 당량을 나타낸다. [RB] 는, 중합성 화합물 (Xb) 이 갖는 중합성 관능기수를 나타낸다.) (In formula (1), [P B ] represents the content of the structural unit (b2) with respect to 100 parts by mass of all the structural units of the acrylic copolymer (B0). [Q B ] is the acrylic copolymer (B0) Represents the equivalent of the polymerizable compound (Xb) with respect to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer possessed by [R B ] represents the number of polymerizable functional groups that the polymerizable compound (Xb) has.)

<중간층 (Z2)><Intermediate layer (Z2)>

본 발명의 일 양태에 있어서, 중간층 (Z2) 은, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (C) 및 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (D) 를 포함하는 중간층 형성용 조성물 (z2) 로 형성된다.In one aspect of the present invention, the intermediate layer (Z2) is formed of an intermediate layer-forming composition (z2) containing a non-energy ray-curable acrylic polymer (C) and an energy ray-curable acrylic polymer (D).

중간층 (Z2) 을 형성함으로써, 범프를 갖는 반도체 웨이퍼 등과 같이 표면 요철이 큰 가공 대상물에 대한 추종성이 우수한 점착 시트 (II) 가 된다. 따라서, 당해 점착 시트 (II) 를 첩부한 가공 대상물에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시할 때, 가공 대상물의 파손을 억제함과 함께, 절삭 부스러기, 연삭 부스러기, 절삭수, 및 연삭수 등이, 가공 대상물의 점착 시트 (II) 와의 첩부면에 침입하는 것을 방지할 수 있다.By forming the intermediate layer Z2, it becomes the adhesive sheet II excellent in followability with respect to the object to be processed with large surface irregularities, such as a semiconductor wafer having bumps. Therefore, when performing at least any of cutting and grinding on the object to be processed to which the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is affixed, while suppressing the damage of the object to be processed, cutting debris, grinding debris, cutting water, grinding water, etc. This can prevent intrusion into the affixed surface of the object to be processed with the adhesive sheet (II).

또한, 중간층 (Z2) 은, 점착성을 가지고 있어도 되고, 점착성을 가지고 있지 않아도 된다.In addition, the intermediate layer (Z2) may or may not have adhesiveness.

중간층 (Z2) 의 두께는, 가공 대상물의 요철의 정도, 예를 들어 가공 대상물이 반도체 웨이퍼나 반도체 칩인 경우에는, 당해 반도체 웨이퍼나 반도체 칩이 갖는 범프의 높이에 따라 적절히 선택되지만, 바람직하게는 10 ∼ 800 ㎛, 보다 바람직하게는 15 ∼ 600 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 400 ㎛ 이다.The thickness of the intermediate layer Z2 is appropriately selected depending on the degree of irregularities of the object to be processed, for example, when the object to be processed is a semiconductor wafer or semiconductor chip, the height of the bumps of the semiconductor wafer or semiconductor chip. It is -800 µm, more preferably 15-600 µm, still more preferably 20-400 µm.

중간층 (Z2) 의 두께가 10 ㎛ 이상이면, 요철차가 큰 가공 대상물에 대한 추종성을 양호하게 할 수 있다. 한편, 중간층의 두께가 800 ㎛ 이하이면, 점착 시트 (II) 의 변형을 억제하기 쉽다.When the thickness of the intermediate layer Z2 is 10 µm or more, it is possible to improve the followability to the object to be processed having a large difference in irregularities. On the other hand, when the thickness of the intermediate layer is 800 µm or less, it is easy to suppress the deformation of the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

중간층 (Z2) 을 형성하는 재료인 중간층 형성층 조성물 (z2) 은, 에너지선 조사 후에 있어서의 점착 시트 (II) 의 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 밀착성을 양호한 것으로 하여, 절삭물 및/또는 연삭물을 점착 시트 (II) 로부터 박리할 때, 점착제층 (X2) 의 파단이나 절삭물 및/또는 연삭물 표면으로의 점착제층 (X2) 의 잔류물의 발생을 억제하는 관점에서, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (C) (이하, 「아크릴계 중합체 (C)」 또는 「(C) 성분」 이라고도 한다) 와, 및 질량 평균 분자량이 5 만 ∼ 25 만인 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (D) (이하, 「아크릴계 중합체 (D)」 또는 「(D) 성분」 이라고도 한다) 를 포함하는 것이 바람직하다.The intermediate layer-forming layer composition (z2), which is a material for forming the intermediate layer (Z2), has good adhesion between the intermediate layer (Z2) of the adhesive sheet (II) and the adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays, Alternatively, from the viewpoint of suppressing the breakage of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) or the occurrence of residues of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) on the surface of the cut and/or the grinding material when the grinding material is peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet (II), a specific energy ray Curable acrylic polymer (C) (hereinafter, also referred to as "acrylic polymer (C)" or "component (C)"), and energy ray-curable acrylic polymer (D) having a mass average molecular weight of 50,000 to 250,000 (hereinafter , It is preferable to contain "acrylic polymer (D)" or "(D) component").

또, 에너지선 조사 후에 있어서의 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 밀착성을 보다 향상시킬 수 있는 관점에서, 중간층 형성용 조성물 (z2) 중의 (D) 성분의 함유량은, (C) 성분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 25 질량부 이상, 보다 바람직하게는 30 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 37 질량부 이상, 보다 더욱 바람직하게는 40 질량부 이상이다.In addition, from the viewpoint of further improving the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays, the content of the component (D) in the composition for forming an intermediate layer (z2) is (C) component 100 With respect to mass parts, it is preferably 25 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, still more preferably 37 parts by mass or more, and even more preferably 40 parts by mass or more.

또한 본 발명의 일 양태에 있어서, 점착 시트 (II) 의 단부로부터의 중간층 (Z2) 의 일부의 침출을 억제하는 관점에서, 중간층 형성용 조성물 (z2) 중의 (D) 성분의 함유량은, (C) 성분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 150 질량부 이하, 보다 바람직하게는 140 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 130 질량부 이하이다.In addition, in one aspect of the present invention, from the viewpoint of suppressing leaching of a part of the intermediate layer (Z2) from the end of the pressure-sensitive adhesive sheet (II), the content of the component (D) in the composition for forming an intermediate layer (z2) is (C ) Based on 100 parts by mass of the component, it is preferably 150 parts by mass or less, more preferably 140 parts by mass or less, and still more preferably 130 parts by mass or less.

중간층 형성용 조성물 (z2) 중의 (C) 성분 및 (D) 성분의 합계 함유량은, 중간층 형성용 조성물 (z2) 의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 또, 바람직하게는 99.9 질량% 이하, 보다 바람직하게는 99.0 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 98.0 질량% 이하이다.The total content of the component (C) and the component (D) in the composition for forming an intermediate layer (z2) is preferably 70% by mass or more, more preferably, based on the total amount (100% by mass) of the composition for forming an intermediate layer (z2). Preferably, it is 80 mass% or more, more preferably 90 mass% or more, more preferably 99.9 mass% or less, more preferably 99.0 mass% or less, still more preferably 98.0 mass% or less.

또한, 중간층 형성용 조성물 (z2) 은, 상기 (C) 성분, (D) 성분 외에, 추가로 광 중합 개시제나 가교제를 함유하는 것이 바람직하다. 또, 이들 이외의 다른 첨가제를 함유해도 된다.Moreover, it is preferable that the composition for intermediate layer formation (z2) further contains a photoinitiator and a crosslinking agent in addition to the said (C) component and (D) component. Moreover, you may contain other additives other than these.

가교제로는, 상기 서술한 아크릴계 수지에 배합되는 것과 동일한 것을 들 수 있고, 함유량의 범위도 상기 서술한 바와 같다.Examples of the crosslinking agent include those which are the same as those blended in the acrylic resin described above, and the range of the content is also as described above.

광 중합 개시제로는, 상기 서술한 무용제형 수지 조성물 (y1) 에 배합되는 것과 동일한 것을 들 수 있고, 함유량의 범위도 상기 서술한 바와 같다.As a photoinitiator, the same thing as what is blended in the above-mentioned solvent-free resin composition (y1) is mentioned, and the range of content is also as above-mentioned.

또, 이들 이외의 다른 첨가제를 함유해도 된다.Moreover, you may contain other additives other than these.

이하, 중간층 형성용 조성물 (z2) 중에 포함되는 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (C) 및 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (D) 에 대해 설명한다.Hereinafter, the non-energy ray-curable acrylic polymer (C) and the energy ray-curable acrylic polymer (D) contained in the intermediate layer-forming composition (z2) will be described.

((C) 성분 : 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (C))((C) component: non-energy ray-curable acrylic polymer (C))

비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (C) 로는, 예를 들어, 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 중합체, 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 중합체 등을 들 수 있다.As the non-energy ray-curable acrylic polymer (C), for example, a polymer having a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate having a linear or branched alkyl group, and a (meth)acrylate having a cyclic structure And polymers having a structural unit derived from.

(C) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 30 만 ∼ 150 만, 보다 바람직하게는 35 만 ∼ 130 만, 보다 바람직하게는 40 만 ∼ 120 만, 더욱 바람직하게는 40 만 ∼ 110 만, 보다 더욱 바람직하게는 45 만 ∼ 90 만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the component (C) is preferably 300,000 to 1.5 million, more preferably 350,000 to 1.3 million, more preferably 400,000 to 1.2 million, still more preferably 400,000 to 110. However, more preferably, they are 450,000 to 900,000.

(C) 성분으로는, (D) 성분과의 상용성의 관점에서, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (c1') (이하, 「모노머 (c1')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (c1) 및 관능기 함유 모노머 (c2') (이하, 「모노머 (c2')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (c2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (C1) 를 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 공중합체 (C1) 인 것이 보다 바람직하다.As the component (C), from the viewpoint of compatibility with the component (D), an alkyl (meth)acrylate (c1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter, also referred to as "monomer (c1')") It is preferable to include an acrylic copolymer (C1) having a structural unit (c2) derived from the derived structural unit (c1) and a functional group-containing monomer (c2') (hereinafter also referred to as ``monomer (c2')''), , It is more preferable that it is an acrylic copolymer (C1).

또한, 아크릴계 공중합체 (C1) 의 공중합의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.In addition, the form of the copolymerization of the acrylic copolymer (C1) is not particularly limited, and any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer may be used.

아크릴계 공중합체 (C1) 의 함유량은, 중간층 형성용 조성물 (z2) 중에 포함되는 (C) 성분의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.The content of the acrylic copolymer (C1) is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the component (C) contained in the intermediate layer-forming composition (z2). It is 100 mass%, more preferably 90 to 100 mass%, and even more preferably 100 mass%.

모노머 (c1') 가 갖는 알킬기의 탄소수로는, (D) 성분과의 상용성의 관점에서, 보다 바람직하게는 4 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 8, 보다 더욱 바람직하게는 4 ∼ 6 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the monomer (c1') is more preferably 4 to 12, still more preferably 4 to 8, and even more preferably 4 to 6 from the viewpoint of compatibility with the component (D).

모노머 (c1') 로는, 상기 서술한 모노머 (a1') 와 동일한 것을 들 수 있다.As the monomer (c1'), the same thing as the above-mentioned monomer (a1') is mentioned.

이들 중에서도, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 부틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.Among these, butyl (meth)acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate are preferable, and butyl (meth)acrylate is more preferable.

아크릴계 공중합체 (C1) 에 있어서의 구성 단위 (c1) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (C1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99.5 질량%, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99 질량%, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 95 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 80 ∼ 93 질량% 이다.The content of the structural unit (c1) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 50 to 99.5% by mass, more preferably 60, based on the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). It is -99 mass%, More preferably, it is 70-95 mass%, More preferably, it is 80-93 mass%.

구성 단위 (c1) 의 함유량이 50 질량% 이상이면, 요철차가 큰 가공 대상물에 대한 추종성이 양호한 점착 시트로 할 수 있기 때문에 바람직하다.When the content of the structural unit (c1) is 50% by mass or more, it is preferable because it is possible to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet having good followability with respect to an object having a large difference in irregularities.

또, 구성 단위 (c1) 의 함유량이 99.5 질량% 이하이면, 구성 단위 (c2) 의 함유량을 충분히 확보하고, (D) 성분과의 상용성을 양호하게 할 수 있기 때문에 바람직하다.Moreover, if the content of the structural unit (c1) is 99.5% by mass or less, it is preferable because the content of the structural unit (c2) can be sufficiently secured and compatibility with the component (D) can be improved.

또, 아크릴계 공중합체 (C1) 는, 구성 단위 (c1) 로서, 탄소수 4 이상 (바람직하게는 4 ∼ 12, 보다 바람직하게는 4 ∼ 8, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 6) 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위 (c11) 를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the acrylic copolymer (C1) is an alkyl group having an alkyl group having 4 or more carbon atoms (preferably 4 to 12, more preferably 4 to 8, still more preferably 4 to 6) as the structural unit (c1) ( It is preferable to have a structural unit (c11) derived from meth)acrylate.

구성 단위 (c1) 중의 구성 단위 (c11) 의 함유 비율은, 아크릴계 공중합체 (C1) 가 갖는 구성 단위 (c1) 의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 60 질량% 이상, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 80 질량% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 85 질량% 이상이고, 또, 바람직하게는 100 질량% 이하이다.The content ratio of the structural unit (c11) in the structural unit (c1) is preferably 60% by mass or more, more preferably, based on the total amount (100% by mass) of the structural unit (c1) of the acrylic copolymer (C1). Preferably, it is 70 mass% or more, more preferably 80 mass% or more, even more preferably 85 mass% or more, and preferably 100 mass% or less.

모노머 (c2') 가 갖는 관능기로는, 상기 서술한 모노머 (a2') 가 갖는 관능기와 동일한 것을 들 수 있다.As the functional group which the monomer (c2') has, the same functional group as the functional group of the above-described monomer (a2') can be mentioned.

구체적인 모노머 (c2') 에 대해서도, 상기 서술한 모노머 (a2') 와 동일한 것을 들 수 있다.Also about the specific monomer (c2'), the thing similar to the above-mentioned monomer (a2') is mentioned.

이들 중에서도, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 및 에폭시기 함유 모노머에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하고, 카르복시기 함유 모노머가 보다 바람직하다.Among these, at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer is preferable, and a carboxyl group-containing monomer is more preferable.

수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 및 에폭시기 함유 모노머의 구체예에 대해서도, 상기 서술한 모노머 (a2') 와 동일하다.The specific examples of the hydroxyl group-containing monomer, the carboxyl group-containing monomer, and the epoxy group-containing monomer are also the same as those of the above-described monomer (a2').

아크릴계 공중합체 (C1) 에 있어서의 구성 단위 (c2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (C1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0.5 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 40 질량%, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 7 ∼ 20 질량% 이다.The content of the structural unit (c2) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 0.5 to 50% by mass, more preferably 1 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). It is -40 mass%, More preferably, it is 5-30 mass%, More preferably, it is 7-20 mass%.

구성 단위 (c2) 의 함유량이 0.5 질량% 이상이면, (D) 성분과의 상용성을 양호하게 할 수 있기 때문에 바람직하다.When the content of the structural unit (c2) is 0.5% by mass or more, it is preferable because compatibility with the component (D) can be improved.

또, 구성 단위 (c2) 의 함유량이 50 질량% 이하이면, 요철차가 큰 피착체에 대한 추종성이 양호한 점착 시트로 할 수 있기 때문에 바람직하다.Moreover, when the content of the structural unit (c2) is 50% by mass or less, it is preferable because it can be a pressure-sensitive adhesive sheet having good followability to an adherend having a large difference in irregularities.

아크릴계 공중합체 (C1) 는, 상기 모노머 (c1') 및 (c2') 이외의 다른 모노머 (c3') 에서 유래하는 구성 단위 (c3) 를 가지고 있어도 된다.The acrylic copolymer (C1) may have a structural unit (c3) derived from a monomer (c3') other than the monomers (c1') and (c2').

다른 모노머 (c3') 로는, 상기 서술한 모노머 (a3') 와 동일한 것을 들 수 있다.As another monomer (c3'), the same thing as the above-mentioned monomer (a3') is mentioned.

아크릴계 공중합체 (C1) 에 있어서의 구성 단위 (c3) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (C1) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 30 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량% 이다.The content of the structural unit (c3) in the acrylic copolymer (C1) is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (C1). It is 20 mass%, more preferably 0-10 mass%, and even more preferably 0-5 mass%.

또한, 상기 서술한 모노머 (c1') ∼ (c3') 는, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.In addition, the above-described monomers (c1') to (c3') may be used alone or in combination of two or more.

((D) 성분 : 에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (D))((D) component: energy ray-curable acrylic polymer (D))

에너지선 경화성의 아크릴계 중합체 (D) 로는, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체에 대하여, 중합성 관능기가 도입된 아크릴계 중합체이다.The energy ray-curable acrylic polymer (D) is an acrylic polymer into which a polymerizable functional group is introduced with respect to a non-energy ray-curable acrylic polymer.

또한, 상기 중합성 관능기는, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체의 주사슬 및/또는 측사슬에 도입된다.Further, the polymerizable functional group is introduced into the main chain and/or the side chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer.

중간층에 (D) 성분을 함유함으로써, 에너지선을 조사했을 때, (D) 성분과 점착제층 (X2) 중의 (B) 성분이 반응하여 결합하여, 점착 시트 (II) 의 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 밀착성이 향상되는 것으로 생각된다. 또, 점착제층 (X2) 과 중간층 (Z2) 이 단단해져, 풀 잔존을 억제할 수 있는 것으로 생각된다. 그 때문에, 점착 시트 (II) 로부터의 절삭물 및/또는 연삭물의 박리시에 점착제층 (X2) 의 잔착 (殘着) 을 억제할 수 있다.By containing the component (D) in the intermediate layer, when irradiated with energy rays, the component (D) and the component (B) in the pressure-sensitive adhesive layer (X2) react and bond, and the intermediate layer (Z2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) and the pressure-sensitive adhesive It is thought that the adhesiveness of the layer (X2) improves. Moreover, it is thought that the adhesive layer (X2) and the intermediate layer (Z2) become hard, and the residual of the paste can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress residual adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) at the time of peeling of the cut material and/or the grinding material from the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체로는, 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체나, 고리형 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체 등을 들 수 있다.As a non-energy ray-curable acrylic polymer, an acrylic polymer having a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate having a linear or branched chain alkyl group, or a constitution derived from a (meth)acrylate having a cyclic structure And an acrylic polymer having a unit.

중합성 관능기는, 에너지선 중합성의 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 기이면 되고, 예를 들어, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있지만, 에너지선 중합기의 도입이 용이하다는 관점에서, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.The polymerizable functional group may be a group containing an energy ray polymerizable carbon-carbon double bond, and examples thereof include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc., but the viewpoint of easy introduction of an energy ray polymerization group In, (meth)acryloyl group is preferable.

또한, 당해 에너지선 중합성기는, 알킬렌기, 알킬렌옥시기, 폴리알킬렌옥시기 등을 개재하여, 비에너지선 경화성의 아크릴계 중합체의 주사슬 또는 측사슬과 결합되어 있어도 된다.Further, the energy ray polymerizable group may be bonded to the main chain or side chain of the non-energy ray-curable acrylic polymer via an alkylene group, an alkyleneoxy group, a polyalkyleneoxy group, or the like.

(D) 성분의 질량 평균 분자량 (Mw) 은, 바람직하게는 5 만 ∼ 25 만이고, 보다 바람직하게는 6 만 ∼ 22 만, 더욱 바람직하게는 7 만 ∼ 20 만, 보다 더욱 바람직하게는 8 만 ∼ 18 만, 나아가 더욱 바람직하게는 8.5 만 ∼ 15 만이다.The mass average molecular weight (Mw) of the component (D) is preferably 50,000 to 250,000, more preferably 60,000 to 220,000, still more preferably 70,000 to 200,000, even more preferably 80,000 It is 180,000 to 180,000, further preferably, it is 8.5 to 150,000.

(D) 성분의 Mw 가 5 만 미만이면, 얻어지는 점착 시트의 시간 경과적 안정성이 떨어지기 쉽다. 요컨대, 당해 점착 시트를 장기간 보관했을 때, (D) 성분의 일부가 점착제층 내로 이행하여, 당해 점착 시트의 점착력이 불안정해짐과 함께, 에너지선 조사 후에, 점착제층 (X2) 이 과도하게 경화되기 쉽다. 그 결과, 당해 점착 시트는, 장기간 보관 후에 사용했을 경우, 혹은 가공 대상물을 첩부한 상태에서 장기간 방치했을 경우, 에너지선 조사 후에 있어서의 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 밀착성이 불충분해지기 때문에, 당해 점착 시트를 박리할 때에 점착제층 (X2) 의 파단이나 절삭물 및/또는 연삭물에 점착제층 (X2) 의 잔류물이 부착되는 경우가 있다.When Mw of the component (D) is less than 50,000, the stability over time of the obtained pressure-sensitive adhesive sheet is likely to be deteriorated. In short, when the pressure-sensitive adhesive sheet is stored for a long time, part of the component (D) migrates into the pressure-sensitive adhesive layer, and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet becomes unstable, and after irradiation with energy rays, the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is excessively cured. easy. As a result, when the PSA sheet is used after long-term storage, or when the object is left affixed for a long period of time, the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the PSA layer (X2) after irradiation with energy rays becomes insufficient. For this reason, when peeling off the said adhesive sheet, the residue of the adhesive layer (X2) may adhere to the fracture|rupture of the adhesive layer (X2), a cut product, and/or a grinding product.

한편, (D) 성분의 Mw 가 25 만을 초과하면, 에너지선 조사 후에 있어서의 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 밀착성이 떨어지기 쉽고, 절삭물·연삭물을 점착 시트 (II) 로부터 박리할 때, 점착제층 (X2) 의 파단이나 절삭물 및/또는 연삭물에 점착제층 (X2) 의 잔류물이 부착되는 경우가 있다.On the other hand, when the Mw of the component (D) exceeds 250,000, the adhesion between the intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays tends to be poor, and the cutting and grinding material are peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet (II). In this case, there are cases where the residue of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) adheres to the breakage of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) or the cut and/or grinding material.

(D) 성분으로는, 시간 경과적 안정성이 우수한 점착 시트로 하는 관점, 그리고, 형성되는 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 에너지선 조사 후에 있어서의 밀착성을 향상시킨 점착 시트로 하는 관점에서, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 (d1') (이하, 「모노머 (d1')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (d1) 및 관능기 함유 모노머 (d2') (이하, 「모노머 (d2')」 라고도 한다) 에서 유래하는 구성 단위 (d2) 를 갖는 아크릴계 공중합체 (D0) 와, 중합성 화합물 (Xd) 을 반응시켜 얻어지는 에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (D1) 를 포함하는 것이 바람직하고, 에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (D1) 인 것이 보다 바람직하다.As the component (D), from the viewpoint of making a pressure-sensitive adhesive sheet excellent in stability over time, and from the viewpoint of making a pressure-sensitive adhesive sheet having improved adhesion between the formed intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays. , A structural unit (d1) derived from an alkyl (meth)acrylate (d1') having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter also referred to as ``monomer (d1')'') and a functional group-containing monomer (d2') (hereinafter , An acrylic copolymer (D0) having a structural unit (d2) derived from (also referred to as "monomer (d2')") and an energy ray-curable acrylic copolymer (D1) obtained by reacting a polymerizable compound (Xd) It is preferable to include, and it is more preferable that it is an energy ray-curable acrylic copolymer (D1).

또한, 아크릴계 공중합체 (D0), (D1) 의 공중합의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 블록 공중합체, 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.Further, the form of the copolymerization of the acrylic copolymers (D0) and (D1) is not particularly limited, and any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer may be used.

아크릴계 공중합체 (D1) 의 함유량은, 중간층 형성용 조성물 (z2) 중에 포함되는 (D) 성분의 전체량 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 70 ∼ 100 질량%, 보다 바람직하게는 80 ∼ 100 질량%, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 100 질량% 이다.The content of the acrylic copolymer (D1) is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the component (D) contained in the intermediate layer-forming composition (z2). It is 100 mass%, more preferably 90 to 100 mass%, and even more preferably 100 mass%.

모노머 (d1') 가 갖는 알킬기의 탄소수로는, 보다 바람직하게는 4 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 8, 보다 더욱 바람직하게는 4 ∼ 6 이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of the monomer (d1') is more preferably 4 to 12, still more preferably 4 to 8, and even more preferably 4 to 6.

모노머 (d1') 로는, 상기 서술한 모노머 (a1') 로서 예시한 것을 들 수 있다.Examples of the monomer (d1') include those illustrated as the above-described monomer (a1').

이들 중에서도, 부틸(메트)아크릴레이트 또는 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 부틸(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.Among these, butyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate is preferable, and butyl (meth)acrylate is more preferable.

아크릴계 공중합체 (D0) 에 있어서의 구성 단위 (d1) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (D0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 50 ∼ 99 질량%, 보다 바람직하게는 55 ∼ 95 질량%, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 90 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 65 ∼ 85 질량% 이다.The content of the structural unit (d1) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 50 to 99% by mass, more preferably 55 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is -95 mass%, More preferably, it is 60-90 mass%, More preferably, it is 65-85 mass%.

구성 단위 (d1) 의 함유량이 50 질량% 이상이면, 형성되는 중간층 (Z2) 의 형상을 충분히 유지할 수 있기 때문에 바람직하다.When the content of the structural unit (d1) is 50% by mass or more, it is preferable because the shape of the intermediate layer (Z2) to be formed can be sufficiently maintained.

또, 구성 단위 (d1) 의 함유량이 99 질량% 이하이면, 중합성 화합물 (Xd) 과의 반응점이 되는 관능기를 갖는 구성 단위 (d2) 의 함유량을 충분히 확보할 수 있고, 형성되는 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 에너지선 조사 후의 밀착성을 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다.Moreover, if the content of the structural unit (d1) is 99% by mass or less, the content of the structural unit (d2) having a functional group serving as a reaction point with the polymerizable compound (Xd) can be sufficiently secured, and the intermediate layer (Z2) to be formed It is preferable because the adhesiveness after energy ray irradiation of the over-adhesive layer (X2) can be improved.

모노머 (d2') 로는, 상기 서술한 모노머 (a2') 로서 예시한 것을 들 수 있지만, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 및 에폭시기 함유 모노머에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하고, 수산기 함유 모노머가 보다 바람직하고, 하이드록시아크릴(메트)아크릴레이트가 더욱 바람직하고, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트가 보다 더욱 바람직하다.Examples of the monomer (d2') include those exemplified as the above-described monomer (a2'), but at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer is preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is more It is preferable, hydroxyacryl (meth)acrylate is more preferable, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate is even more preferable.

아크릴계 공중합체 (D0) 에 있어서의 구성 단위 (d2) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (D0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 45 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 15 ∼ 35량 % 이다.The content of the structural unit (d2) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5, based on the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is -45 mass %, More preferably, it is 10 to 40 mass %, More preferably, it is 15 to 35 mass %.

구성 단위 (d2) 의 함유량이 1 질량% 이상이면, 형성되는 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 에너지선 조사 후의 밀착성을 향상시키기 위해서 충분한 중합성 화합물 (Xd) 과의 반응점을 확보할 수 있기 때문에 바람직하다.When the content of the constituent unit (d2) is 1% by mass or more, a sufficient reaction point with the polymerizable compound (Xd) can be secured in order to improve the adhesion between the formed intermediate layer (Z2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after irradiation with energy rays. It is preferable because there is.

또, 구성 단위 (d2) 의 함유량이 50 질량% 이하이면, 형성되는 중간층 (Z2) 의 형상을 충분히 유지할 수 있기 때문에 바람직하다.Moreover, when the content of the structural unit (d2) is 50 mass% or less, it is preferable because the shape of the intermediate layer (Z2) to be formed can be sufficiently maintained.

아크릴계 공중합체 (D0) 는, 상기 모노머 (d1') 및 (d2') 이외의 다른 모노머 (d3') 에서 유래하는 구성 단위 (b3) 를 가지고 있어도 된다.The acrylic copolymer (D0) may have a structural unit (b3) derived from a monomer (d3') other than the monomers (d1') and (d2').

다른 모노머 (d3') 로는, 상기 서술한 모노머 (a3') 로서 예시한 것을 들 수 있다.As another monomer (d3'), what was illustrated as the above-mentioned monomer (a3') is mentioned.

아크릴계 공중합체 (D0) 에 있어서의 구성 단위 (d3) 의 함유량은, 아크릴계 공중합체 (D0) 의 전체 구성 단위 (100 질량%) 에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 30 질량%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 질량%, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 10 질량%, 보다 더욱 바람직하게는 0 ∼ 5 질량% 이다.The content of the structural unit (d3) in the acrylic copolymer (D0) is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 with respect to the total structural units (100% by mass) of the acrylic copolymer (D0). It is 20 mass%, more preferably 0-10 mass%, and even more preferably 0-5 mass%.

또한, 상기 서술한 모노머 (d1') ∼ (d3') 는, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.In addition, the above-described monomers (d1') to (d3') may be used alone or in combination of two or more.

에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 (D1) 는, 이 아크릴계 공중합체 (D0) 의 구성 단위 (d2) 중의 관능기와, 중합성 화합물 (Xd) 이 반응하여, 중합성 화합물 (Xd) 이 갖는 중합성 관능기가, 아크릴계 공중합체 (D0) 의 주사슬 및 측사슬의 적어도 일방에 도입된 것이다.In the energy ray-curable acrylic copolymer (D1), the functional group in the structural unit (d2) of this acrylic copolymer (D0) is reacted with the polymerizable compound (Xd), and the polymerizable functional group possessed by the polymerizable compound (Xd) A is introduced into at least one of the main chain and side chain of the acrylic copolymer (D0).

중합성 화합물 (Xd) 은, 중합성 관능기를 갖는 화합물로서, 반응성 관능기를 갖는 화합물이면, 특별히 제한되지 않는다.The polymerizable compound (Xd) is a compound having a polymerizable functional group and is not particularly limited as long as it is a compound having a reactive functional group.

또한, 중합성 화합물 (Xd) 중에서도, 상기 반응성 치환기를 가짐과 함께, 중합성 관능기를 1 분자당 1 ∼ 5 개 갖는 화합물인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is a compound which has the said reactive substituent and has 1-5 polymerizable functional groups per molecule among polymerizable compounds (Xd).

상기 반응성 치환기로는, 예를 들어, 이소시아네이트기, 카르복실기, 에폭시기 등을 들 수 있고, 이소시아네이트기가 바람직하다.As said reactive substituent, an isocyanate group, a carboxyl group, an epoxy group, etc. are mentioned, for example, and an isocyanate group is preferable.

상기 중합성 관능기로는, 상기 서술한 바와 같이, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있고, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.As said polymerizable functional group, as mentioned above, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc. are mentioned, and a (meth)acryloyl group is preferable.

구체적인 중합성 화합물 (Xd) 로는, 상기 서술한 중합성 화합물 (Xb) 과 동일한 화합물을 들 수 있다.As a specific polymerizable compound (Xd), the same compound as the polymerizable compound (Xb) mentioned above is mentioned.

중합성 화합물 (Xd) 은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The polymerizable compound (Xd) may be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 상기 반응성 치환기로서 바람직한 이소시아네이트기를 가지고 있고, 또한 아크릴계 공중합체 (D0) 와 에너지선 중합성기의 거리가 적당해지는 화합물이라는 관점에서, (메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 바람직하다.Among these, (meth)acryloyloxyethyl isocyanate is preferable from the viewpoint of a compound having an isocyanate group preferable as the reactive substituent and having an appropriate distance between the acrylic copolymer (D0) and the energy ray polymerizable group.

아크릴계 공중합체 (D1) 에 있어서, 아크릴계 공중합체 (D0) 가 갖는 관능기수와 중합성 화합물 (Xd) 의 배합량의 관계에 대해, 형성되는 중간층 (Z2) 과 점착제층 (X2) 의 에너지선 조사 후의 밀착성을 향상시키는 관점에서, 하기 식 (2) 로부터 산출되는 β 의 값이, 바람직하게는 1 ∼ 50, 보다 바람직하게는 2 ∼ 40, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 35, 보다 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 이다.In the acrylic copolymer (D1), with respect to the relationship between the number of functional groups in the acrylic copolymer (D0) and the blending amount of the polymerizable compound (Xd), the intermediate layer (Z2) to be formed and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) after energy ray irradiation From the viewpoint of improving adhesion, the value of β calculated from the following formula (2) is preferably 1 to 50, more preferably 2 to 40, still more preferably 3 to 35, and even more preferably 5 to It is 30.

또한, 상기 β 의 값은, 아크릴계 공중합체 (D1) 가 갖는 에너지선 중합성기수에 상당하는 것이다.In addition, the value of β corresponds to the number of energy ray polymerizable groups in the acrylic copolymer (D1).

식 (2) : β = [Pd] × [Qd] × [Rd]/100Equation (2): β = [P d ] × [Q d ] × [R d ]/100

(식 (2) 중, [Pd] 는, 아크릴계 공중합체 (D0) 의 전체 구성 단위 100 질량부에 대한 구성 단위 (d2) 의 함유량을 나타낸다. [Qd] 는, 아크릴계 공중합체 (D0) 가 갖는 당해 관능기 함유 모노머 유래의 관능기 100 당량에 대한, 중합성 화합물 (Xd) 의 당량을 나타낸다. [Rd] 는, 중합성 화합물 (Xd) 이 갖는 중합성 관능기수를 나타낸다.)(Formula (2) of, [P d] shows the content of the constituent unit (d2) with respect to 100 parts by mass of all the structural units of the acrylic copolymer (D0). [Q d], the acrylic copolymer (D0) Represents the equivalent of the polymerizable compound (Xd) with respect to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer possessed by [R d ] represents the number of polymerizable functional groups contained in the polymerizable compound (Xd).)

(중간층 형성용 조성물 중에 포함되는 다른 첨가제)(Other additives contained in the composition for forming an intermediate layer)

중간층 형성용 조성물 (z2) 에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 다른 첨가제를 함유해도 된다.In the intermediate layer forming composition (z2), other additives may be contained within a range that does not impair the effects of the present invention.

다른 첨가제로는, 예를 들어, 산화 방지제, 연화제 (가소제), 충전제, 방청제, 안료, 염료, 점착 부여제 등을 들 수 있다.Other additives include, for example, antioxidants, softeners (plasticizers), fillers, rust inhibitors, pigments, dyes, tackifiers, and the like.

이들 첨가제를 함유하는 경우, 각각의 첨가제의 함유량은, (A) 성분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 6 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 2 질량부이다.When these additives are contained, the content of each additive is preferably 0.01 to 6 parts by mass, more preferably 0.01 to 2 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A).

<박리재><Park Lee Jae>

본 발명의 일 양태의 점착성 적층체는, 가공 대상물과 첩부하는 점착제층 (X1) 및 (X2) 의 표면에, 추가로 박리재를 적층해도 된다.In the adhesive laminate of one aspect of the present invention, a release material may be further laminated on the surfaces of the pressure-sensitive adhesive layers (X1) and (X2) to be adhered to the object to be processed.

박리재로는, 양면 박리 처리를 한 박리 시트나, 편면 박리 처리된 박리 시트 등이 사용되고, 박리재용의 기재 상에 박리제를 도포한 것 등을 들 수 있다.As the release material, a release sheet subjected to a double-sided release treatment, a release sheet subjected to a single-sided release treatment, and the like are used, and the release agent may be applied onto a substrate for a release material.

박리재용 기재로는, 예를 들어, 상질지, 글라신지, 크라프트지 등의 지류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르 수지 필름, 폴리프로필렌 수지, 폴리에틸렌 수지 등의 올레핀 수지 필름 등의 플라스틱 필름 ; 등을 들 수 있다.Examples of the substrate for a release material include papers such as high-quality paper, glassine paper, and kraft paper; Plastic films such as polyester resin films such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene naphthalate resin, and olefin resin films such as polypropylene resin and polyethylene resin; And the like.

박리제로는, 예를 들어, 실리콘계 수지, 올레핀계 수지, 이소프렌계 수지, 부타디엔계 수지 등의 고무계 엘라스토머, 장사슬 알킬계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있다.Examples of the release agent include rubber-based elastomers such as silicone-based resins, olefin-based resins, isoprene-based resins, and butadiene-based resins, long-chain alkyl-based resins, alkyd-based resins, and fluorine-based resins.

박리재의 두께는, 특별히 제한 없지만, 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎛, 보다 바람직하게는 25 ∼ 170 ㎛, 더욱 바람직하게는 35 ∼ 80 ㎛ 이다.The thickness of the release material is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 µm, more preferably 25 to 170 µm, and still more preferably 35 to 80 µm.

<점착 시트 (II) 의 물성><Physical properties of adhesive sheet (II)>

본 발명의 일 양태에 있어서, 공정 (4) 에 있어서의 절삭, 연삭을 보다 실시하기 쉽게 하는 관점에서, 점착 시트 (II) 는, 하기 요건 (α) ∼ (γ) 의 하나 이상을 만족시키는 것이 바람직하고, 하기 요건 (α) ∼ (γ) 중 어느 2 개를 만족시키는 것이 보다 바람직하고, 요건 (α) ∼ (γ) 모두를 만족시키는 것이 더욱 바람직하다.In one aspect of the present invention, from the viewpoint of making it easier to perform cutting and grinding in the step (4), the pressure-sensitive adhesive sheet (II) satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ). It is preferable, and it is more preferable to satisfy any two of the following requirements (α) to (γ), and even more preferably to satisfy all of the requirements (α) to (γ).

·요건 (α) : 기재 (Y2) 의 영률이 1.0 ㎫ 이상이다.-Requirement (α): The Young's modulus of the substrate (Y2) is 1.0 MPa or more.

·요건 (β) : 기재 (Y2) 의 두께가 5 ㎛ 이상이다.-Requirement (β): The thickness of the substrate (Y2) is 5 µm or more.

·요건 (γ) : 점착제층 (X2) 의 저장 탄성률 G' (23 ℃) 가 0.10 ㎫ 이상이다.Requirement (γ): The storage modulus G'(23°C) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.10 MPa or more.

또한, 공정 (4) 에 있어서의 절삭, 연삭을 더욱 실시하기 쉽게 하는 관점에서, 요건 (α) 에서 규정되는 기재 (Y2) 의 영률은 1.0 ∼ 1000 ㎫ 인 것이 바람직하고, 1.5 ∼ 800 ㎫ 인 것이 보다 바람직하고, 2.0 ∼ 500 ㎫ 인 것이 더욱 바람직하다.In addition, from the viewpoint of making it easier to perform cutting and grinding in the step (4), the Young's modulus of the base material (Y2) specified in the requirement (α) is preferably 1.0 to 1000 MPa, and 1.5 to 800 MPa. It is more preferable and it is still more preferable that it is 2.0-500 MPa.

또, 공정 (4) 에 있어서의 절삭, 연삭을 더욱 실시하기 쉽게 하는 관점에서, 요건 (β) 에서 규정되는 기재 (Y2) 의 두께는 5 ∼ 250 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 230 ㎛ 인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 210 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다.In addition, from the viewpoint of making it easier to perform cutting and grinding in the step (4), the thickness of the substrate (Y2) specified in the requirement (β) is preferably 5 to 250 µm, and 10 to 230 µm. It is more preferable and it is still more preferable that it is 20-210 micrometers.

또한, 공정 (4) 에 있어서의 절삭, 연삭을 더욱 실시하기 쉽게 하는 관점에서, 요건 (γ) 에서 규정되는 점착제층 (X2) 의 저장 탄성률 G' (23 ℃) 는 0.10 ∼ 1 ㎫ 인 것이 바람직하고, 0.12 ∼ 0.9 ㎫ 인 것이 보다 바람직하고, 0.14 ∼ 0.8 ㎫ 인 것이 더욱 바람직하다.In addition, from the viewpoint of making it easier to perform cutting and grinding in step (4), the storage elastic modulus G'(23°C) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) specified in the requirement (γ) is preferably 0.10 to 1 MPa. And, it is more preferable that it is 0.12 to 0.9 MPa, and it is still more preferable that it is 0.14 to 0.8 MPa.

[가공품의 제조 방법의 각 공정][Each process of manufacturing method of processed product]

다음으로, 본 발명의 가공품의 제조 방법의 각 공정에 대해 상세하게 설명한다.Next, each step of the method for manufacturing a processed product of the present invention will be described in detail.

본 발명의 가공품의 제조 방법은, 기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창 개시 온도 (t) 의 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고, 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하는 방법으로서,The manufacturing method of the processed article of this invention has a base material (Y1) and an adhesive layer (X1), and the thermally expandable adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles of the thermal expansion initiation temperature (t) in any layer, and the base material ( Cutting and grinding using an adhesive laminate comprising an adhesive sheet (II) having Y2) and an adhesive layer (X2), and directly laminating the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) As a method of manufacturing a processed product subjected to at least any of the processing,

하기 공정 (1) ∼ (3) 을 이 순서로 갖고,Having the following steps (1) to (3) in this order,

·공정 (1) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하는 공정Process (1): a step of affixing the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and affixing the object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate

·공정 (2) : 상기 가공 대상물에 하나 이상의 가공을 실시하는 공정Process (2): A process of performing one or more processing on the object to be processed

·공정 (3) : 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 이상에서의 가열에 의해, 상기 가공 대상물을 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 첩부한 상태를 유지하면서, 상기 점착성 적층체를 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리하는 공정Step (3): The adhesiveness while maintaining a state in which the object to be processed is affixed to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate by heating at or above the thermal expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles. Step of separating the laminate at the interface P of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II)

추가로, 하기 공정 (4) 를 갖고,In addition, it has the following process (4),

·공정 (4) : 상기 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 처리를 실시하는 공정Step (4): A step of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object to be processed on the side opposite to the affixed surface with the adhesive layer (X2)

상기 공정 (4) 는, 하기 (X) 및 (Y) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시된다.The said process (4) is implemented in at least any one of following (X) and (Y).

(X) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2) 에 있어서 실시된다(X): As the one or more processing, it is carried out in the step (2).

(Y) : 상기 공정 (3) 후에 있어서 실시된다(Y): It is implemented after the said process (3)

본 발명의 제조 방법에서는, 상기 서술한 점착성 적층체를 사용한다. 구체적으로는, 점착성 적층체의 점착 시트 (I) 의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 점착성 적층체의 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하여 사용한다. 따라서, 가공 대상물을 지지체에 고정시킨 상태에서 소정의 가공을 실시할 수 있다. 또한, 당해 소정의 가공을 실시한 후에는, 당해 소정의 가공을 실시한 가공 대상물이 첩부되어 있는 점착 시트 (II) 를, 약간의 힘으로 점착 시트 (I) 로부터 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있다. 요컨대, 당해 소정의 가공을 실시한 가공 대상물이 첩부되어 있는 점착 시트 (II) 를 지지체로부터 용이하게 분리할 수 있다. 따라서, 당해 소정의 가공을 실시한 가공 대상물을 새로운 점착 시트에 첩부하는 일 없이, 다음 공정에 제공할 수 있다.In the production method of the present invention, the above-described adhesive laminate is used. Specifically, while affixing the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the pressure-sensitive adhesive laminate to the support, the object to be processed is formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) of the pressure-sensitive adhesive laminate. Attach it to use. Therefore, predetermined processing can be performed while the object to be processed is fixed to the support. In addition, after performing the predetermined processing, the pressure-sensitive adhesive sheet (II) on which the object to be processed, which has been subjected to the predetermined processing, is affixed can be easily removed collectively from the pressure-sensitive adhesive sheet (I) with a slight force. In short, the pressure-sensitive adhesive sheet (II) on which the object to be processed that has undergone the predetermined processing is affixed can be easily separated from the support. Therefore, it is possible to provide the object to be processed, which has been subjected to the predetermined processing, to the next step without affixing it to a new adhesive sheet.

이하, 본 발명의 제조 방법의 각 공정에 대해, 도 4 및 도 5 를 적절히 참조하면서 설명한다.Hereinafter, each step of the manufacturing method of the present invention will be described with appropriate reference to FIGS. 4 and 5.

<공정 (1)><Step (1)>

도 4(a) 및 도 5(a) 는, 점착성 적층체를 개재하여, 지지체에 가공 대상물을 첩부한 상태를 나타내는 단면 모식도이다.4(a) and 5(a) are cross-sectional schematic diagrams showing a state in which an object to be processed is affixed to a support through an adhesive laminate.

공정 (1) 에서는, 도 4(a) 및 도 5(a) 에 나타내는 바와 같이, 상기 제 1 양태의 점착성 적층체 (1a) 를 개재하여, 지지체 (50) 에 가공 대상물 (60, 70) 을 첩부하고, 상기 지지체, 상기 점착성 적층체, 및 상기 가공 대상물을 이 순서로 적층한다.In step (1), as shown in Figs. 4 (a) and 5 (a), through the adhesive laminate 1a of the first aspect, the object to be processed 60, 70 is provided to the support 50. After affixing, the support, the adhesive laminate, and the object to be processed are laminated in this order.

또한, 도 4 및 도 5 에 있어서는, 도 1(a) 에 나타내는 점착성 적층체 (1a) 를 사용한 예를 나타내고 있지만, 다른 구성을 갖는 본 발명의 점착성 적층체를 사용하는 경우에 있어서도, 동일하게, 상기 지지체, 상기 점착성 적층체, 및 상기 가공 대상물을 이 순서로 적층한다.In addition, in Figs. 4 and 5, an example in which the adhesive laminate 1a shown in Fig. 1(a) is used is shown, but also in the case of using the adhesive laminate of the present invention having a different configuration, similarly, The support, the adhesive laminate, and the object to be processed are laminated in this order.

도 4(a) 및 도 5(a) 에 나타내는 바와 같이, 공정 (1) 에 있어서, 상기 점착성 적층체가 갖는 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 에 가공 대상물 (60, 70) 을 첩부하고, 상기 점착성 적층체가 갖는 점착 시트 (I) 의 점착제층 (X1) 과 지지체 (50) 를 첩부한다.4(a) and 5(a), in the step (1), the object to be processed 60, 70 is affixed to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) of the pressure-sensitive adhesive laminate. , The pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and the support 50 are affixed.

또한, 점착성 적층체에 첩부되는 가공 대상물로는, 예를 들어, 반도체 칩, 반도체 웨이퍼, 화합물 반도체, 반도체 패키지, 전자 부품, 사파이어 기판, 디스플레이, 패널용 기판 등을 들 수 있다.Further, examples of the object to be processed to be affixed to the adhesive laminate include semiconductor chips, semiconductor wafers, compound semiconductors, semiconductor packages, electronic components, sapphire substrates, displays, and panel substrates.

또, 가공 대상물은, 표면에 절입 홈이 형성된 반도체 웨이퍼 등이어도 되고, 당해 절입 홈의 형성면측을 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 과 첩합 (貼合) 해도 된다. 또, 가공 대상물은, 레이저 광 조사에 의해 내부에 미리 개질 영역이 형성된 반도체 웨이퍼 등이어도 된다. 이들의 경우, 공정 (4) 에 있어서 연삭을 실시함으로써, 절입 홈 또는 개질 영역이 분할 기점이 되어, 가공 대상물을 분할할 수 있다.In addition, the object to be processed may be a semiconductor wafer or the like in which the cut grooves are formed on the surface, and the side of the formation surface of the cut grooves may be bonded to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II). Further, the object to be processed may be a semiconductor wafer or the like in which a modified region has been previously formed therein by irradiation with laser light. In these cases, by grinding in the step (4), the cut groove or the modified region becomes the starting point for division, and the object to be processed can be divided.

즉, 가공 대상물이, 표면에 절입 홈이 형성된 반도체 웨이퍼인 경우, 본 발명의 일 양태의 제조 방법은, 공정 (1) 이 하기 공정 (1-C) 이고, 상기 공정 (4) 가 하기 공정 (4-C) 이다.That is, when the object to be processed is a semiconductor wafer having cutout grooves formed on the surface, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the step (1) is the following step (1-C), and the step (4) is the following step ( 4-C).

·공정 (1-C) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 상기 반도체 웨이퍼의 절입 홈을 갖는 면을 첩부하는 공정Step (1-C): A surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is affixed to the support, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive laminate has a cutout groove of the semiconductor wafer Process of attaching

·공정 (4-C) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-C): A process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

또, 가공 대상물이, 분할 기점이 되는 개질 영역을 갖는 반도체 웨이퍼인 경우, 본 발명의 일 양태의 제조 방법은, 공정 (4) 가 하기 공정 (4-A) 이다.In addition, when the object to be processed is a semiconductor wafer having a modified region serving as a division starting point, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the step (4) is the following step (4-A).

·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-A): The process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

상기 지지체는, 공정 (2) 에 있어서 가공 대상물을 고정시켜, 가공의 정밀도를 높이기 위해서 사용된다.The support is used in order to fix the object to be processed in step (2) and to increase the precision of processing.

상기 지지체는, 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 점착 표면의 전체면에 첩부되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said support is affixed to the whole surface of the adhesive surface of the adhesive layer (X1) of an adhesive laminated body.

따라서, 지지체는, 판상인 것이 바람직하다. 또, 도 4 및 도 5 에 나타내는 바와 같이, 점착제층 (X1) 의 점착 표면 (122a) 과 첩부되는 측의 지지체 (50) 의 표면의 면적은, 점착제층 (X1) 의 점착 표면 (122a) 의 면적 이상인 것이 바람직하다.Therefore, it is preferable that the support body has a plate shape. In addition, as shown in FIGS. 4 and 5, the area of the surface of the adhesive surface 122a of the adhesive layer (X1) and the surface of the support body 50 on the affixed side is of the adhesive surface (122a) of the adhesive layer (X1). It is preferable that it is more than an area.

상기 지지체를 구성하는 재질로는, 가공 대상물의 종류나, 공정 (2) 에서 실시되는 가공에 따라, 기계 강도나 내열성 등이 요구되는 특성을 고려 후, 적절히 선택된다.As the material constituting the support, depending on the type of the object to be processed or the processing performed in the step (2), it is appropriately selected after considering characteristics requiring mechanical strength and heat resistance.

구체적인 지지체를 구성하는 재질로는, 예를 들어, SUS 등의 금속 재료 ; 유리, 실리콘 웨이퍼 등의 비금속 무기 재료 ; 에폭시 수지, ABS 수지, 아크릴 수지, 엔지니어링 플라스틱, 슈퍼 엔지니어링 플라스틱, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지 등의 수지 재료 ; 유리 에폭시 수지 등의 복합 재료 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, SUS, 유리, 및 실리콘 웨이퍼 등이 바람직하다.As a material constituting a specific support, for example, a metal material such as SUS; Non-metallic inorganic materials such as glass and silicon wafers; Resin materials such as epoxy resin, ABS resin, acrylic resin, engineering plastic, super engineering plastic, polyimide resin, and polyamideimide resin; And composite materials such as glass epoxy resins, and among them, SUS, glass, and silicon wafers are preferred.

또한, 엔지니어링 플라스틱으로는, 나일론, 폴리카보네이트 (PC), 및 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 등을 들 수 있다.Further, examples of engineering plastics include nylon, polycarbonate (PC), and polyethylene terephthalate (PET).

슈퍼 엔지니어링 플라스틱으로는, 폴리페닐렌술파이드 (PPS), 폴리에테르술폰 (PES), 및 폴리에테르에테르케톤 (PEEK) 등을 들 수 있다.Examples of super engineering plastics include polyphenylene sulfide (PPS), polyether sulfone (PES), and polyether ether ketone (PEEK).

지지체의 두께는, 요구되는 특성 등을 고려하여 적절히 선택되지만, 바람직하게는 20 ㎛ 이상 50 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 60 ㎛ 이상 20 ㎜ 이하이다.The thickness of the support is appropriately selected in consideration of required characteristics and the like, but is preferably 20 µm or more and 50 mm or less, and more preferably 60 µm or more and 20 mm or less.

공정 (1) 에 있어서의 온도 조건으로는, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 미만이면 된다.The temperature conditions in the step (1) may be less than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles.

<공정 (2)><Step (2)>

공정 (2) 에서는, 공정 (1) 에서 본 발명의 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 에 첩부한 상기 가공 대상물에 대해, 하나 이상의 가공을 실시한다.In step (2), one or more processing is performed on the object to be processed, which is affixed to the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate of the present invention in step (1).

공정 (2) 에서 실시하는 가공 처리로는, 예를 들어, 가공 대상물에 대한 수지를 사용한 봉지 처리, 가공 대상물에 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 처리, 회로 형성 처리, 에칭 처리, 도금 처리, 스퍼터링 처리, 증착 처리, 보호막 형성 처리, 별도로 준비한 점착 시트를 사용한 라미네이트 처리 등을 들 수 있다.The processing treatment performed in the step (2) includes, for example, a sealing treatment using a resin for the object to be processed, a treatment for forming a modified region serving as a division starting point in the object to be processed, a circuit formation treatment, an etching treatment, a plating treatment, and A sputtering treatment, a vapor deposition treatment, a protective film formation treatment, and a lamination treatment using a separately prepared pressure-sensitive adhesive sheet may be mentioned.

또, 공정 (2) 에서 실시하는 가공 처리는, 가공 대상물에 대한 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공 처리이어도 된다.In addition, the machining treatment performed in the step (2) may be at least any machining treatment of cutting and grinding on the object to be processed.

즉, 공정 (2) 에서 실시하는 가공 처리는, 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정 중 적어도 어느 공정을 포함하는 가공이어도 되고, 가공 대상물을 절삭하는 공정 및 연삭하는 공정을 포함하지 않는 가공이어도 된다.That is, the machining treatment performed in step (2) may be a machining that includes at least any of the steps of cutting the object to be processed and the step of grinding, or even if it does not include the step of cutting the object to be processed and the step of grinding. do.

공정 (2) 에 있어서의 온도 조건도, 공정 (1) 과 동일하게, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 미만이면 된다.The temperature conditions in step (2) may also be less than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles, similarly to the step (1).

이하, 공정 (2) 로서, 가공 대상물에 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 처리 (공정 (2-A)) 를 실시하는 경우, 가공 대상물에 대한 수지를 사용한 봉지 처리 (공정 (2-B)) 를 실시하는 경우를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, as step (2), when performing a treatment (step (2-A)) of forming a modified region serving as a division starting point in an object to be processed, sealing treatment using a resin for the object to be processed (step (2-B) ) Will be described as an example.

(공정 (2-A))(Step (2-A))

공정 (2-A) 는, 가공 대상물이 반도체 웨이퍼이고, 당해 반도체 웨이퍼에, 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 공정이다.Step (2-A) is a step in which the object to be processed is a semiconductor wafer, and a modified region serving as a division starting point is formed on the semiconductor wafer.

구체적으로는, 도 4(b) 에 나타내는 바와 같이, 반도체 웨이퍼의 점착 시트 (II) 와의 첩부면과는 반대측의 면을 레이저 광 입사면으로 하고, 레이저 광의 집광점이 반도체 웨이퍼의 내부가 되도록 레이저 광을 조사함으로써 다광자 흡수 등에 의한 개질 영역 (71) 을 형성한다. 개질 영역 (71) 은, 공정 (4) 에 있어서 연삭을 실시함으로써 반도체 웨이퍼의 분할 기점으로서 기능한다.Specifically, as shown in Fig. 4(b), the surface of the semiconductor wafer opposite to the affixed surface of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is the laser light incident surface, and the laser light so that the condensing point of the laser light is inside the semiconductor wafer. By irradiation, a modified region 71 due to multiphoton absorption or the like is formed. The modified region 71 functions as a starting point for dividing the semiconductor wafer by grinding in the step (4).

또한, 도 4 에 나타내는 제조예에서는, 공정 (3) 후에 공정 (4) 를 실시하도록 하고 있지만, 공정 (2-A) 후에, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서 공정 (4) 의 연삭을 실시하도록 해도 된다. 이 경우, 개편화 (個片化) 된 반도체 웨이퍼를 점착 시트 (II) 로부터 분리하는 일 없이, 개편화된 반도체 웨이퍼를 점착 시트 (II) 에 첩부한 상태에서 다음 공정에 제공할 수 있다.In addition, in the manufacturing example shown in FIG. 4, the process (4) is performed after the process (3), but after the process (2-A), the process (4) is one of one or more processes in the process (2). You may make it grind. In this case, without separating the semiconductor wafer into pieces from the pressure-sensitive adhesive sheet (II), the pieced semiconductor wafer can be provided to the next step while affixed to the pressure-sensitive adhesive sheet (II).

즉, 본 발명의 일 양태의 제조 방법은, 가공 대상물이 반도체 웨이퍼이고, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-A) 를 포함하고,That is, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the object to be processed is a semiconductor wafer, and at least one processing in the step (2) includes the following step (2-A),

·공정 (2-A) : 상기 반도체 웨이퍼에, 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 공정Process (2-A): A process of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer

공정 (4) 가, 하기 공정 (4-A) 이고,Step (4) is the following step (4-A),

·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정Process (4-A): The process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)

공정 (4-A) 는, 하기 (X-A) 또는 (Y-A) 에 있어서 실시된다.Step (4-A) is implemented in the following (X-A) or (Y-A).

(X-A) : 하나 이상의 가공으로서 공정 (2-A) 후에 실시된다(X-A): One or more processing is performed after step (2-A)

(Y-A) : 공정 (3) 후에 실시된다(Y-A): Implemented after step (3)

(공정 (2-B))(Step (2-B))

공정 (2-B) 는, 가공 대상물이 반도체 칩이고, 당해 반도체 칩과, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 상기 반도체 칩의 주변부를 봉지재로 피복하고, 그 봉지재를 경화시켜, 상기 반도체 칩이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체를 얻는 공정이다.In step (2-B), the object to be processed is a semiconductor chip, and among the adhesion surfaces of the semiconductor chip and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the peripheral portion of the semiconductor chip is covered with a sealing material, and the sealing material is cured, This is a step of obtaining a cured encapsulant obtained by encapsulating a semiconductor chip in a cured encapsulant.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 제조 방법이 공정 (2-B) 를 갖는 경우, 공정 (1) 에서는, 가공 대상물로서 반도체 칩 (60) 이 사용된다.As shown in FIG. 5, when the manufacturing method of the present invention has the step (2-B), in the step (1), the semiconductor chip 60 is used as the object to be processed.

반도체 칩 (60) 은, 종래 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 회로면에는, 트랜지스터, 저항, 콘덴서 등의 회로 소자로 구성되는 집적 회로가 형성되어 있다.As the semiconductor chip 60, a conventionally known one can be used, and an integrated circuit composed of circuit elements such as a transistor, a resistor, and a capacitor is formed on the circuit surface.

그리고, 반도체 칩 (60) 의 회로면이, 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 의 점착 표면에서 덮이도록 재치 (載置) 되는 것이 바람직하다. 반도체 칩의 재치에는, 플립칩 본더, 다이 본더 등의 공지된 장치를 사용할 수 있다.And it is preferable to mount so that the circuit surface of the semiconductor chip 60 may be covered by the adhesive surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II). For mounting the semiconductor chip, known devices such as a flip chip bonder and a die bonder can be used.

반도체 칩 (60) 의 배치의 레이아웃, 배치수 등은, 목적으로 하는 패키지의 형태, 생산수 등에 따라 적절히 결정하면 된다.The layout of the arrangement of the semiconductor chips 60, the number of arrangements, etc. may be appropriately determined according to the shape of the target package and the number of productions.

여기서, 본 발명의 일 양태의 제조 방법으로는, FOWLP, FOPLP 등과 같이, 반도체 칩 (60) 을 칩 사이즈보다 큰 영역에서 봉지재에 의해 덮고, 반도체 칩 (60) 의 회로면뿐만 아니라, 봉지재의 표면 영역에 있어서도 재배선층을 형성하는 패키지에 적용되는 것이 바람직하다.Here, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the semiconductor chip 60 is covered with an encapsulant in a region larger than the chip size, such as FOWLP and FOPLP, and not only the circuit surface of the semiconductor chip 60 but also the encapsulant Also in the surface area, it is preferably applied to a package forming a redistribution layer.

그 때문에, 반도체 칩 (60) 은, 점착제층 (X2) 의 점착 표면의 일부에 재치되는 것이고, 복수의 반도체 칩 (60) 이, 일정한 간격을 두고 정렬된 상태에서, 당해 점착 표면에 재치되는 것이 바람직하고, 복수의 반도체 칩 (60) 이, 일정한 간격을 두고, 복수행 또한 복수열의 매트릭스상으로 정렬된 상태에서 당해 점착 표면에 재치되는 것이 보다 바람직하다.Therefore, the semiconductor chip 60 is placed on a part of the adhesive surface of the adhesive layer X2, and a plurality of semiconductor chips 60 are placed on the adhesive surface in a state that is aligned at regular intervals. It is preferable that the plurality of semiconductor chips 60 are placed on the adhesive surface in a state in which a plurality of semiconductor chips 60 are arranged in a matrix form of a plurality of rows and columns at regular intervals.

반도체 칩 (60) 끼리의 간격은, 목적으로 하는 패키지의 형태 등에 따라 적절히 결정하면 된다.The spacing between the semiconductor chips 60 may be appropriately determined in accordance with the shape of the intended package or the like.

그리고, 공정 (2-B) 에서는, 상기 반도체 칩 (60) 과, 당해 반도체 칩 (60) 의 적어도 주변부의 점착제층 (X1) 의 점착 표면을 봉지재로 피복하고 (이하, 「피복 공정」 이라고도 한다), 당해 봉지재를 경화시켜, 상기 반도체 칩 (60) 이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체 (61) 를 얻는다 (이하, 「경화 공정」 이라고도 한다).And in step (2-B), the adhesive surface of the said semiconductor chip 60 and the adhesive layer (X1) of at least the peripheral part of the said semiconductor chip 60 is covered with a sealing material (hereinafter, also referred to as a ``coating step''). Then) the said sealing material is hardened, and the hardened sealing body 61 obtained by sealing the said semiconductor chip 60 by the hardening sealing material is obtained (it is also called "hardening process" hereafter).

반도체 칩 (60) 이, 점착제층 (X2) 의 점착 표면의 일부에 재치됨으로써, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 반도체 칩 (60) 의 주변부가 형성된다.By placing the semiconductor chip 60 on a part of the adhesive surface of the adhesive layer (X2), a peripheral portion of the semiconductor chip 60 is formed in the adhesive surface of the adhesive layer (X2).

요컨대, 반도체 칩 (60) 의 주변부란, 복수의 반도체 칩 (60) 중, 인접하는 반도체 칩 (60) 끼리의 간극에 상당하는 점착제층 (X2) 의 점착 표면을 가리킨다.In short, the peripheral portion of the semiconductor chip 60 refers to the adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer X2 corresponding to the gap between the adjacent semiconductor chips 60 among the plurality of semiconductor chips 60.

공정 (2-B) 의 피복 공정에 있어서는, 먼저, 반도체 칩 (60) 과, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 반도체 칩 (60) 의 주변부를 봉지재로 피복한다. 봉지재는, 반도체 칩 (CP) 의 표출되어 있는 면 전체를 덮으면서, 복수의 반도체 칩 (CP) 끼리의 간극에도 충전된다.In the covering step of step (2-B), first, among the adhesive surfaces of the semiconductor chip 60 and the adhesive layer X2, the peripheral portion of the semiconductor chip 60 is covered with a sealing material. The sealing material is also filled in the gap between the plurality of semiconductor chips CP while covering the entire surface of the semiconductor chip CP.

봉지재는, 반도체 칩 (CP) 및 그것에 부수하는 요소를 외부 환경으로부터 보호하는 기능을 갖는 것이다.The encapsulant has a function of protecting the semiconductor chip CP and an element accompanying it from an external environment.

봉지재로는, 반도체 봉지 재료로서 사용되고 있는 것 중에서, 임의의 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있는, 예를 들어, 열경화성 수지를 포함하는 봉지재나, 에너지선 경화성 수지를 포함하는 봉지재 등을 들 수 있다.Examples of the sealing material include a sealing material containing a thermosetting resin and a sealing material containing an energy ray-curable resin that can be appropriately selected and used from among those used as a semiconductor sealing material. .

또, 봉지재는, 실온에서, 과립상, 시트상 등의 고형이어도 되고, 조성물의 형태로 된 액상이어도 되지만, 작업성의 관점에서, 시트상의 봉지재가 바람직하다.Further, the sealing material may be a solid material such as granular or sheet form at room temperature, or may be a liquid form in the form of a composition, but a sheet-like sealing material is preferable from the viewpoint of workability.

봉지재를 사용하여, 반도체 칩 (60) 및 그 주변부를 피복하는 방법으로는, 종래, 반도체 봉지 공정에 적용되고 있는 방법 중에서, 봉지재의 종류에 따라 적절히 선택하여 적용할 수 있고, 예를 들어, 롤 라미네이트법, 진공 프레스법, 진공 라미네이트법, 스핀 코트법, 다이 코트법, 트랜스퍼 몰딩법, 압축 성형 몰드법 등을 적용할 수 있다.As a method of covering the semiconductor chip 60 and its periphery using an encapsulant, it can be appropriately selected and applied according to the type of encapsulant from among methods conventionally applied to the semiconductor encapsulation process, for example, A roll lamination method, a vacuum press method, a vacuum lamination method, a spin coating method, a die coating method, a transfer molding method, a compression molding method, and the like can be applied.

그리고, 피복 공정을 실시한 후, 봉지재를 경화시켜, 반도체 칩 (60) 이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체 (61) 를 얻을 수 있다.And after performing the coating process, the sealing material is hardened, and the hardened sealing body 61 obtained by sealing the semiconductor chip 60 by the hard sealing material can be obtained.

또한, 공정 (2-B) 의 피복 공정 및 경화 공정은, 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (t) 미만의 온도 조건으로 실시되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the coating step and the curing step of the step (2-B) are performed under a temperature condition of less than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles.

또, 피복 공정과 경화 공정은, 따로따로 실시해도 되지만, 피복 공정에 있어서 봉지재를 가열하는 경우에는, 당해 가열에 의해, 그대로 봉지재를 경화시켜, 피복 공정과 경화 공정을 동시에 실시해도 된다.Moreover, although the coating process and the curing process may be performed separately, when heating the sealing material in the coating process, the sealing material may be cured as it is by the heating, and the coating process and the curing process may be simultaneously performed.

또한, 도 5 에 나타내는 제조예에서는, 공정 (3) 후에 공정 (4) 를 실시하도록 하고 있지만, 공정 (2-B) 후에, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서 공정 (4) 를 실시하도록 해도 된다. 이 경우, 경화 봉지체를 점착 시트 (II) 로부터 분리하는 일 없이, 경화 봉지체를 점착 시트 (II) 에 첩부한 상태에서 다음 공정에 제공할 수 있다.In addition, in the manufacturing example shown in FIG. 5, the process (4) is performed after the process (3), but after the process (2-B), the process (4) is one of one or more processes in the process (2). You may do it. In this case, the cured encapsulant can be provided to the next step without separating the cured encapsulant from the adhesive sheet (II), while the cured encapsulant is affixed to the adhesive sheet (II).

즉, 본 발명의 일 양태의 제조 방법은, 가공 대상물이 반도체 칩이고, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-B) 를 포함하고,That is, in the manufacturing method of one aspect of the present invention, the object to be processed is a semiconductor chip, and at least one processing in the step (2) includes the following step (2-B),

·공정 (2-B) : 상기 반도체 칩과, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 상기 반도체 칩의 주변부를 봉지재로 피복하고, 그 봉지재를 경화시켜, 상기 반도체 칩이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체를 얻는 공정Process (2-B): of the adhesive surfaces of the semiconductor chip and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the periphery of the semiconductor chip is covered with a sealing material, the sealing material is cured, and the semiconductor chip is applied to the cured sealing material. Process of obtaining a cured sealing body formed by sealing

공정 (4) 는, 하기 (X-B) 및 (Y-B) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시된다.Step (4) is implemented in at least any one of the following (X-B) and (Y-B).

(X-B) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2-B) 후에 실시된다(X-B): The one or more processing is performed after the step (2-B)

(Y-B) : 상기 공정 (3) 후에 실시된다(Y-B): It is carried out after the above step (3)

<공정 (3)><Step (3)>

공정 (3) 에서는, 팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도에서의 가열 처리 (분리용 가열 처리) 에 의해, 상기 점착성 적층체의 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리된다.In step (3), the interface between the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) by heat treatment (heat treatment for separation) at a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) Separated from P.

도 4(c) 및 도 5(c) 는, 분리용 가열 처리에 의해, 계면 P 에서 분리된 상태를 나타내는 단면 모식도이다.4(c) and 5(c) are cross-sectional schematic diagrams showing a state separated at the interface P by the separation heat treatment.

도 4(c) 및 도 5(c) 에서는, 분리용 가열 처리에 의해, 소정의 가공을 실시한 가공 대상물이 점착 시트 (II) 상에 적층한 상태에서 분리된 상태를 나타내고 있다.4(c) and 5(c) show a state in which the object to be processed, which has been subjected to a predetermined processing, is laminated on the pressure-sensitive adhesive sheet II by the heat treatment for separation and separated.

공정 (3) 에 있어서의, 분리용 가열 처리시의 「팽창 개시 온도 (t) 이상의 온도」 로는, 「팽창 개시 온도 (t) + 10 ℃」 이상 「팽창 개시 온도 (t) + 60 ℃」 이하인 것이 바람직하고, 「팽창 개시 온도 (t) + 15 ℃」 이상 「팽창 개시 온도 (t) + 40 ℃」 이하인 것이 보다 바람직하다.The "expansion initiation temperature (t) or higher temperature" in the heat treatment for separation in the step (3) is equal to or higher than the "expansion initiation temperature (t) + 10°C" and not more than the "expansion initiation temperature (t) + 60°C" It is preferable, and it is more preferable that it is "expansion initiation temperature (t) + 15 degreeC" or more and "expansion initiation temperature (t) + 40 degreeC" or less.

이와 같이 하여, 공정 (2) 에 있어서 소정의 가공이 실시된 가공 대상물이 적층 (첩부) 한 상태에서, 점착 시트 (II) 를 점착 시트 (I) 로부터 분리하여 지지체로부터 분리할 수 있기 때문에, 분리 후의 가공 대상물을 점착 시트에 첩부하는 작업을 생략하고, 다음 공정에 제공할 수 있다.In this way, since the adhesive sheet (II) can be separated from the adhesive sheet (I) and separated from the support body in a state in which the object to be processed, which has been subjected to the predetermined processing in the step (2), is stacked (attached). The operation of affixing the object to be processed later to the pressure-sensitive adhesive sheet can be omitted, and the process can be provided.

<공정 (4)><Step (4)>

공정 (4) 에서는, 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시한다.In step (4), at least any one of cutting and grinding is performed on the surface of the object to be processed on the side opposite to the affixed surface with the adhesive layer (X2).

예를 들어, 당해 가공 대상물에 대해, 절삭이 실시됨으로써, 당해 가공 대상물을 원하는 크기로 분할할 수 있다. 또, 연삭이 실시됨으로써, 당해 가공 대상물을 원하는 두께로 조정할 수 있다. 또한, 절삭과 연삭의 쌍방의 가공을 실시하여, 가공 대상물의 분할과 두께의 조정을 실시할 수도 있다.For example, by cutting the object to be processed, the object to be processed can be divided into a desired size. Moreover, by performing grinding, the object to be processed can be adjusted to a desired thickness. Moreover, it is also possible to perform both cutting and grinding, and to divide the object to be processed and adjust the thickness.

또, 예를 들어, 도 4(d) 에 나타내는 바와 같이, 분할 기점이 되는 개질 영역이 레이저 광 조사에 의해 형성된 반도체 웨이퍼의, 점착 시트 (II) 와의 첩부면과는 반대측의 면을 연삭함으로써, 반도체 웨이퍼를 얇게 하여 할단 (割斷) 되기 쉬운 상태로 한 후, 연삭 지석 등의 가공 압력으로 개질 영역 (71) 을 분할 기점으로 하여 간극 (72) 을 발생시킴으로써, 반도체 웨이퍼를 소정의 크기로 개편화하여, 반도체 칩으로 할 수 있다.In addition, for example, as shown in Fig. 4(d), by grinding the surface of the semiconductor wafer on the side opposite to the affixed surface of the adhesive sheet (II) of the semiconductor wafer in which the modified region serving as the division starting point is formed by laser light irradiation The semiconductor wafer is divided into a predetermined size by thinning the semiconductor wafer to make it easy to be split, and then generating a gap 72 using the modified region 71 as a division starting point under a processing pressure such as a grinding grindstone. Thus, it can be set as a semiconductor chip.

또, 도 5(d) 에 나타내는 바와 같이, 경화 봉지체 (61) 를 절삭함으로써, 경화 봉지체 (61) 를 반도체 칩 (CP) 단위로 개편화한 경화 봉지체의 개편화물 (61a) 을 얻을 수 있다. 경화 봉지체 (61) 를 개편화시키기 위한 절삭 방법은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 다이싱소 등의 절단 수단 등을 들 수 있다.In addition, as shown in Fig. 5(d), by cutting the coin sealing body 61, a piece 61a of the coin sealing body in which the coin sealing body 61 is divided in units of semiconductor chips (CP) is obtained. I can. The cutting method for separating the hardened sealing body 61 into pieces is not particularly limited, and examples thereof include cutting means such as a dicing saw.

또, 도시 생략하고 있지만, 반도체 칩의 회로 표면을 노출시킬 목적으로 경화 봉지체 (61) 를 연삭하도록 해도 된다.Further, although not shown, the cured encapsulant 61 may be ground for the purpose of exposing the circuit surface of the semiconductor chip.

또한, 공정 (1) ∼ (4) 사이, 공정 (1) 전, 공정 (4) 후에, 추가로 다른 공정을 가지고 있어도 된다. 예를 들어, 재배선 형성 공정 등을 가지고 있어도 된다.Moreover, you may have another process further between processes (1)-(4), before process (1), and after process (4). For example, you may have a rewiring formation process, etc.

또, 공정 (4) 는, 상기와 같이, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서 실시하도록 해도 되고, 혹은, 공정 (3) 후에 실시하도록 해도 된다. 나아가서는, 공정 (4) 는, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서 실시함과 함께, 공정 (3) 후에 실시하도록 해도 된다.In addition, step (4) may be performed as one of one or more processing in step (2) as described above, or may be performed after step (3). Furthermore, the process (4) may be carried out as one of one or more processing in the process (2) and after the process (3).

예를 들어, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서, 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하고, 공정 (3) 후에 절삭을 실시하는 것도 가능하다.For example, as one of one or more processing in step (2), grinding is performed on the surface of the object to be processed on the opposite side to the affixed surface of the adhesive layer (X2), and cutting is performed after step (3). It is also possible to do.

또, 공정 (2) 에 있어서의 하나 이상의 가공의 하나로서, 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면의 일방향 (예를 들어 가공 대상물의 XY 평면 중 X 축 방향) 으로만 절삭을 실시하여 가공 대상물을 단책상 (短冊狀) 으로 분할하고, 공정 (3) 후에 다른 방향 (예를 들어 가공 대상물의 XY 평면 중 Y 축 방향) 으로만 절삭을 실시하여 단책상으로 분할된 가공 대상물을 더욱 미세하게 (예를 들어 정방형상으로) 분할하도록 해도 된다.In addition, as one of the one or more processing in step (2), in one direction of the surface opposite to the affixing surface of the object to be processed with the adhesive layer (X2) (for example, the X-axis direction of the XY plane of the object to be processed) After the process (3), cutting is performed only in the other direction (e.g., the Y-axis direction of the XY plane of the object to be processed) to divide the object to be processed into strips. The object to be processed may be further finely divided (for example, in a square shape).

실시예Example

본 발명에 대해, 이하의 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 제조예 및 실시예에 있어서의 물성값은, 이하의 방법에 의해 측정한 값이다.Although the present invention is specifically described by the following examples, the present invention is not limited to the following examples. In addition, the physical property values in the following Production Examples and Examples are values measured by the following method.

<질량 평균 분자량 (Mw)><Mass average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래프 장치 (토소 주식회사 제조, 제품명 「HLC-8020」) 를 사용하여, 하기의 조건하에서 측정하고, 표준 폴리스티렌 환산으로 측정한 값을 사용하였다.Using a gel permeation chromatography apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, product name "HLC-8020"), it was measured under the following conditions, and the value measured in terms of standard polystyrene was used.

(측정 조건)(Measuring conditions)

·칼럼 : 「TSK guard column HXL-L」 「TSK gel G2500HXL」 「TSK gel G2000HXL」 「TSK gel G1000HXL」 (모두 토소 주식회사 제조) 을 순차 연결한 것Column: ``TSK guard column HXL-L'' ``TSK gel G2500HXL'' ``TSK gel G2000HXL'' and ``TSK gel G1000HXL'' (all manufactured by Tosoh Corporation) in sequence

·칼럼 온도 : 40 ℃·Column temperature: 40 ℃

·전개 용매 : 테트라하이드로푸란·Development solvent: tetrahydrofuran

·유속 : 1.0 ㎖/분·Flow rate: 1.0 ml/min

<각 층의 두께의 측정><Measurement of the thickness of each layer>

주식회사 테크락 제조의 정압 두께 측정기 (형번 : 「PG-02J」, 표준 규격 : JIS K6783, Z1702, Z1709 에 준거) 를 사용하여 측정하였다.It measured using a static pressure thickness measuring device (model number: "PG-02J", standard standard: JIS K6783, Z1702, and Z1709 compliant) manufactured by Techrak Co., Ltd.

<열팽창성 입자의 평균 입자경 (D50), 90 % 입자경 (D90)><Average particle diameter of thermally expandable particles (D 50 ), 90% particle diameter (D 90 )>

레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 (예를 들어, Malvern 사 제조, 제품명 「마스터사이저 3000」) 를 사용하여, 23 ℃ 에 있어서의 팽창 전의 열팽창성 입자의 입자 분포를 측정하였다.The particle distribution of the thermally expandable particles before expansion at 23°C was measured using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (for example, the product name "Mastersizer 3000" manufactured by Malvern).

그리고, 입자 분포의 입자경이 작은 쪽에서부터 계산한 누적 체적 빈도가 50 % 및 90 % 에 상당하는 입자경을, 각각 「열팽창성 입자의 평균 입자경 (D50)」 및 「열팽창성 입자의 90 % 입자경 (D90)」 으로 하였다.And the particle diameters corresponding to the cumulative volume frequency of 50% and 90% calculated from the smaller particle diameter of the particle distribution, respectively, "average particle diameter of thermally expandable particles (D 50 )" and "90% particle diameter of thermally expandable particles ( D 90 )".

<열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 저장 탄성률 E'><Storage modulus E'of the thermally expandable base layer (Y1-1)>

형성한 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을, 세로 5 ㎜ × 가로 30 ㎜ × 두께 200 ㎛ 의 크기로 하고, 박리재를 제거한 것을 시험 샘플로 하였다.The formed thermally expandable base layer (Y1-1) was set to have a size of 5 mm in length × 30 mm in width × 200 µm in thickness, and the release material was removed as a test sample.

동적 점탄성 측정 장치 (TA 인스트루먼트사 제조, 제품명 「DMAQ800」) 를 사용하여, 시험 개시 온도 0 ℃, 시험 종료 온도 300 ℃, 승온 속도 3 ℃/분, 진동수 1 ㎐, 진폭 20 ㎛ 의 조건으로, 소정의 온도에 있어서의, 당해 시험 샘플의 저장 탄성률 E' 를 측정하였다.Using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments, product name "DMAQ800"), the test start temperature is 0°C, the test end temperature is 300°C, the temperature rise rate is 3°C/min, the frequency is 1 Hz, and the amplitude is 20 μm. The storage modulus E'of the test sample at a temperature of was measured.

<제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 그리고 점착제층 (X2) 의 저장 전단 탄성률 G'><Storage shear modulus G'of the first adhesive layer (X11), the second adhesive layer (X12), and the adhesive layer (X2)>

형성한 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 그리고 점착제층 (X2) 을, 직경 8 ㎜ 의 원형으로 절단한 것을, 박리재를 제거하고, 중첩하여, 두께 3 ㎜ 로 한 것을 시험 샘플로 하였다.The formed 1st adhesive layer (X11), the 2nd adhesive layer (X12), and the adhesive layer (X2) were cut into a circular shape with a diameter of 8 mm, and the peeling material was removed, overlapped, and the thickness was 3 mm. It was set as a test sample.

점탄성 측정 장치 (Anton Paar 사 제조, 장치명 「MCR300」) 를 사용하여, 시험 개시 온도 0 ℃, 시험 종료 온도 300 ℃, 승온 속도 3 ℃/분, 진동수 1 ㎐ 의 조건으로, 비틀림 전단법에 의해, 소정의 온도에 있어서의, 시험 샘플의 저장 전단 탄성률 G' 를 측정하였다.Using a viscoelasticity measuring device (manufactured by Anton Paar, device name "MCR300"), under conditions of a test start temperature of 0°C, a test end temperature of 300°C, a temperature increase rate of 3°C/min, and a frequency of 1 Hz, by a torsional shear method, The storage shear modulus G'of the test sample at a predetermined temperature was measured.

<프로브 택값><Probe tack value>

측정 대상이 되는 기재를 한 변 10 ㎜ 의 정방형으로 절단한 후, 23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서 24 시간 가만히 정지시킨 것을 시험 샘플로 하였다.The base material to be measured was cut into a square having 10 mm on one side, and then stopped still in an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity) for 24 hours as a test sample.

23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서, 태킹 시험기 (닛폰 특수 측기 주식회사 제조, 제품명 「NTS-4800」) 를 사용하여, 시험 샘플의 표면에 있어서의 프로브 택값을, JIS Z0237 : 1991 에 준거하여 측정하였다.In an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity), using a tacking tester (manufactured by Nippon Special Instruments Co., Ltd., product name "NTS-4800"), the probe tack value on the surface of the test sample was determined in JIS Z0237: 1991. It was measured according to.

구체적으로는, 직경 5 ㎜ 의 스테인리스강제의 프로브를, 1 초간, 접촉 하중 0.98 N/㎠ 로 시험 샘플의 표면에 접촉시킨 후, 당해 프로브를 10 ㎜/초의 속도로, 시험 샘플의 표면으로부터 떼어놓는 데에 필요한 힘을 측정하고, 얻어진 값을, 그 시험 샘플의 프로브 택값으로 하였다.Specifically, a probe made of stainless steel having a diameter of 5 mm is brought into contact with the surface of the test sample for 1 second with a contact load of 0.98 N/cm 2, and then the probe is separated from the surface of the test sample at a rate of 10 mm/sec. The force required for it was measured, and the obtained value was made into the probe tack value of the test sample.

<분리용 가열 처리 전의 점착제층의 점착력의 측정><Measurement of adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer before heat treatment for separation>

박리 필름 상에 형성한 점착제층의 점착 표면 상에, 두께 50 ㎛ 의 PET 필름 (토요보 주식회사 제조, 제품명 「코스모샤인 A4100」) 을 적층하고, 기재 부착 점착 시트로 하였다.On the adhesion surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release film, a PET film with a thickness of 50 µm (manufactured by Toyobo Corporation, product name "Cosmoshine A4100") was laminated to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet with a substrate.

그리고, 박리 필름을 제거하고, 표출된 점착제층의 점착 표면을, 피착체인 스테인리스 강판 (SUS304 360 번 연마) 에 첩부하고, 23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서, 24 시간 가만히 정지시킨 후, 동일한 환경하에서, JIS Z0237 : 2000 에 기초하여, 180°박리법에 의해, 인장 속도 300 ㎜/분으로, 23 ℃ 에 있어서의 점착력을 측정하였다.Then, the release film was removed, and the adhesive surface of the exposed pressure-sensitive adhesive layer was affixed to a stainless steel plate (SUS304 No. 360 polishing) as an adherend, and allowed to stand still for 24 hours in an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity). Then, under the same environment, the adhesive force in 23 degreeC was measured by the 180 degree peeling method based on JIS Z0237:2000 at a tensile speed of 300 mm/min.

이하의 실시예에서의 각 층의 형성에서 사용한 점착성 수지, 첨가제, 열팽창성 입자, 및 박리재의 자세한 것은 이하와 같다.Details of the adhesive resin, additives, thermally expandable particles, and release material used in the formation of each layer in the following examples are as follows.

<점착성 수지><adhesive resin>

·아크릴계 공중합체 (i) : 2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA)/2-하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA) = 80.0/20.0 (질량비) 으로 이루어지는 원료 모노머에서 유래하는 구성 단위를 갖는, Mw60 만의 아크릴계 공중합체.Acrylic copolymer (i): 2-ethylhexyl acrylate (2EHA)/2-hydroxyethyl acrylate (HEA) = 80.0/20.0 (mass ratio) having a structural unit derived from a raw material monomer, Mw60 only acrylic Copolymer.

·아크릴계 공중합체 (ii) : n-부틸아크릴레이트 (BA)/메틸메타크릴레이트 (MMA)/2-하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA)/아크릴산 = 86.0/8.0/5.0/1.0 (질량비) 으로 이루어지는 원료 모노머에서 유래하는 구성 단위를 갖는, Mw60 만의 아크릴계 공중합체.Acrylic copolymer (ii): consisting of n-butyl acrylate (BA)/methyl methacrylate (MMA)/2-hydroxyethyl acrylate (HEA)/acrylic acid = 86.0/8.0/5.0/1.0 (mass ratio) An acrylic copolymer of only Mw60, which has a structural unit derived from a raw material monomer.

<첨가제><Additive>

·이소시아네이트 가교제 (i) : 토소 주식회사 제조, 제품명 「콜로네이트 L」, 고형분 농도 : 75 질량%.-Isocyanate crosslinking agent (i): Tosoh Corporation make, product name "Colonate L", solid content concentration: 75 mass%.

·광 중합 개시제 (i) : BASF 사 제조, 제품명 「이르가큐어 184」, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤.Photoinitiator (i): BASF company make, product name "Irgacure 184", 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone.

<열팽창성 입자><Thermal expandable particles>

·열팽창성 입자 (i) : 닛폰 필라이트 주식회사, 제품명 「Expancel 031DU40」, 팽창 개시 온도 (t) = 90 ℃, 평균 입자경 (D50) = 22 ㎛, 90 % 입자경 (D90) = 30 ㎛.-Thermally expandable particles (i): Nippon Phillite Co., Ltd., product name "Expancel 031DU40", expansion start temperature (t) = 90°C, average particle diameter (D 50 ) = 22 µm, 90% particle size (D 90 ) = 30 µm.

<박리재><Park Lee Jae>

·중박리 필름 : 린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET382150」, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름의 편면에, 실리콘계 박리제로 형성한 박리제층을 형성한 것, 두께 : 38 ㎛.· Middle peeling film: Lintec Co., Ltd. product name "SP-PET382150", a release agent layer formed by a silicone-based release agent on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, thickness: 38 µm.

·경박리 필름 : 린텍 주식회사 제조, 제품명 「SP-PET381031」, PET 필름의 편면에, 실리콘계 박리제로 형성한 박리제층을 형성한 것, 두께 : 38 ㎛.· Light release film: Lintec Co., Ltd. product name "SP-PET381031", a release agent layer formed on one side of a PET film with a silicone release agent, thickness: 38 µm.

[실시예 1][Example 1]

도 2(b) 에 나타내는 점착성 적층체 (1d) 에 있어서, 점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 및 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 상에, 추가로 박리재를 적층한 구성을 갖고, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 와 점착제층 (X2) 사이에 중간층 (Z2) 을 형성한 점착성 적층체를, 이하의 순서로 제조하였다.In the adhesive laminate (1d) shown in Fig. 2(b), a release material is further laminated on the second adhesive layer (X12) of the adhesive sheet (I) and the adhesive layer (X2) of the adhesive sheet (II). An adhesive laminate having one configuration and having an intermediate layer (Z2) formed between the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) and the adhesive layer (X2) was manufactured in the following procedure.

[1] 점착 시트 (I) 의 제조[1] Preparation of adhesive sheet (I)

(1-1) 제 1 점착제층 (X11) 의 형성(1-1) Formation of the first adhesive layer (X11)

점착성 수지인, 상기 아크릴계 공중합체 (i) 의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제 (i) 5.0 질량부 (고형분비) 를 배합하고, 톨루엔으로 희석시키고, 균일하게 교반하여, 고형분 농도 (유효 성분 농도) 25 질량% 의 점착제 조성물을 조제하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (i), which is an adhesive resin, 5.0 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate-based crosslinking agent (i) is blended, diluted with toluene, and uniformly stirred, and the solid content concentration (effective Component concentration) A pressure-sensitive adhesive composition of 25% by mass was prepared.

그리고, 상기 중박리 필름의 박리제층의 표면에, 당해 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 당해 도막을 100 ℃ 에서 60 초간 건조시켜, 두께 5 ㎛ 의 비열팽창성 점착제층인 제 1 점착제층 (X11) 을 형성하였다.Then, the pressure-sensitive adhesive composition was applied to the surface of the release agent layer of the heavy peeling film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 60 seconds, and the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) was a non-thermal expandable pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 μm. ) Was formed.

또한, 23 ℃ 에 있어서의 제 1 점착제층 (X11) 의 저장 전단 탄성률 G' (23) 는, 2.5 × 105 ㎩ 이었다.In addition, the storage shear modulus G'(23) of the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) at 23°C was 2.5×10 5 Pa.

또, 상기 방법에 기초하여 측정한 제 1 점착제층 (X11) 의 점착력은, 0.3 N/25 ㎜ 이었다.Moreover, the adhesive force of the 1st adhesive layer (X11) measured based on the said method was 0.3 N/25 mm.

(1-2) 제 2 점착제층 (X12) 의 형성(1-2) Formation of the second pressure-sensitive adhesive layer (X12)

점착성 수지인, 상기 아크릴계 공중합체 (ii) 의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제 (i) 0.8 질량부 (고형분비) 를 배합하고, 톨루엔으로 희석시키고, 균일하게 교반하여, 고형분 농도 (유효 성분 농도) 25 질량% 의 점착제 조성물을 조제하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (ii), which is an adhesive resin, 0.8 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate-based crosslinking agent (i) is blended, diluted with toluene, and uniformly stirred, and the solid content concentration (effective Component concentration) A pressure-sensitive adhesive composition of 25% by mass was prepared.

그리고, 상기 경박리 필름의 박리제층의 표면에, 당해 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 당해 도막을 100 ℃ 에서 60 초간 건조시켜, 두께 10 ㎛ 의 제 2 점착제층 (X12) 을 형성하였다.Then, the pressure-sensitive adhesive composition was applied to the surface of the release agent layer of the light-release film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 60 seconds to form a second pressure-sensitive adhesive layer (X12) having a thickness of 10 μm.

또한, 23 ℃ 에 있어서의 제 2 점착제층 (X12) 의 저장 전단 탄성률 G' (23) 는, 9.0 × 104 ㎩ 이었다.Moreover, the storage shear elastic modulus G'(23) of the 2nd adhesive layer (X12) in 23 degreeC was 9.0 x 10 4 Pa.

또, 상기 방법에 기초하여 측정한 제 2 점착제층 (X12) 의 점착력은, 1.0 N/25 ㎜ 이었다.Moreover, the adhesive force of the 2nd adhesive layer (X12) measured based on the said method was 1.0 N/25 mm.

(1-3) 기재 (Y1) 의 제조(1-3) Preparation of base material (Y1)

(1-3-1) 조성물 (y1-1) 의 조제(1-3-1) Preparation of composition (y1-1)

에스테르형 디올과, 이소포론디이소시아네이트 (IPDI) 를 반응시켜 얻어진 말단 이소시아네이트우레탄 프레폴리머에, 2-하이드록시에틸아크릴레이트를 반응시켜, 질량 평균 분자량 (Mw) 5000 의 2 관능의 아크릴우레탄계 올리고머를 얻었다.2-hydroxyethyl acrylate was reacted with the terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting an ester-type diol and isophorone diisocyanate (IPDI) to obtain a bifunctional acrylic urethane oligomer having a mass average molecular weight (Mw) of 5000 .

그리고, 상기에서 합성한 아크릴우레탄계 올리고머 40 질량% (고형분비) 에, 에너지선 중합성 모노머로서, 이소보르닐아크릴레이트 (IBXA) 40 질량% (고형분비), 및 페닐하이드록시프로필아크릴레이트 (HPPA) 20 질량% (고형분비) 를 배합하고, 아크릴우레탄계 올리고머 및 에너지선 중합성 모노머의 전체량 (100 질량부) 에 대하여, 추가로 광 중합 개시제 (i) 를 2.0 질량부 (고형분비), 및 첨가제로서, 프탈로시아닌계 안료 0.2 질량부 (고형분비) 를 배합하여, 에너지선 경화성 조성물을 조제하였다.In addition, to 40 mass% (solid content ratio) of the acrylic urethane-based oligomer synthesized above, as an energy ray polymerizable monomer, isobornyl acrylate (IBXA) 40 mass% (solid content ratio), and phenylhydroxypropyl acrylate (HPPA ) 20 mass% (solid content ratio) is blended, and with respect to the total amount (100 mass parts) of the acrylic urethane oligomer and the energy ray polymerizable monomer, further 2.0 mass parts (solid content ratio) of the photoinitiator (i), and As an additive, 0.2 parts by mass (solid content ratio) of a phthalocyanine pigment was blended to prepare an energy ray-curable composition.

그리고, 당해 에너지선 경화성 조성물에, 상기 열팽창성 입자 (i) 를 배합하여, 용매를 함유하지 않는, 무용제형의 조성물 (y1-1) 을 조제하였다.And the said thermally expandable particle (i) was blended with the said energy ray-curable composition, and the solvent-free composition (y1-1) which does not contain a solvent was prepared.

또한, 조성물 (y1-1) 의 전체량 (100 질량%) 에 대한, 열팽창성 입자 (i) 의 함유량은 20 질량% 이었다.In addition, the content of the thermally expandable particles (i) with respect to the total amount (100 mass%) of the composition (y1-1) was 20 mass%.

(1-3-2) 기재 (Y1) 의 제조(1-3-2) Preparation of base material (Y1)

비열팽창성 기재인, 두께 50 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (토요보 주식회사 제조, 제품명 「코스모샤인 A4300」, 프로브 택값 : 0 mN/5 ㎜φ) 의 표면 상에, 조제한 조성물 (y1-1) 을 도포하여 도막을 형성하였다.On the surface of a 50 µm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toyobo Corporation, product name "Cosmoshine A4300", probe tack value: 0 mN/5 mmφ), which is a non-thermal expandable substrate, the prepared composition (y1-1 ) Was applied to form a coating film.

그리고, 자외선 조사 장치 (아이그래픽스사 제조, 제품명 「ECS-401GX」) 및 고압 수은 램프 (아이그래픽스사 제조, 제품명 「H04-L41」) 를 사용하여, 조도 160 ㎽/㎠, 광량 500 mJ/㎠ 의 조건으로 자외선 조사하고, 당해 도막을 경화시켜, 두께 50 ㎛ 의 열팽창성 기재 (Y-1) 를 형성하였다. 또한, 자외선 조사시의 상기의 조도 및 광량은, 조도·광량계 (EIT 사 제조, 제품명 「UV Power Puck II」) 를 사용하여 측정한 값이다.Then, using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Eye Graphics, product name "ECS-401GX") and a high-pressure mercury lamp (manufactured by Eye Graphics, product name "H04-L41"), illuminance 160 mW/cm 2, light quantity 500 mJ/cm 2 UV irradiation was performed under the conditions of, and the coating film was cured to form a thermally expandable substrate (Y-1) having a thickness of 50 µm. In addition, the said illuminance and light quantity at the time of ultraviolet irradiation are values measured using an illuminance/photometer (manufactured by EIT, product name "UV Power Puck II").

또, 상기의 비열팽창성 기재인 PET 필름은, 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 에 상당한다. Moreover, the PET film which is the said non-thermal expandable base material corresponds to the non-thermal expandable base material layer (Y1-2).

또한, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 물성값을 측정하는 샘플로서, 상기 경박리 필름의 박리제층의 표면에, 당해 수지 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 당해 도막을 100 ℃ 에서 120 초간 건조시켜, 두께 50 ㎛ 의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 동일하게 형성하였다.In addition, as a sample for measuring the physical property value of the thermally expandable substrate layer (Y1-1), the resin composition was applied to the surface of the release agent layer of the light-release film to form a coating film, and the coating film was dried at 100°C for 120 seconds. Then, a 50 µm-thick thermally expandable base layer (Y1-1) was formed in the same manner.

그리고, 상기 서술한 측정 방법에 기초하여, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 의 각 온도에 있어서의 저장 탄성률 및 프로브 택값을 측정하였다. 당해 측정 결과는, 이하와 같았다.And the storage modulus and probe tack value at each temperature of the thermally expandable base material layer (Y1-1) were measured based on the measurement method mentioned above. The measurement result was as follows.

·23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 E' (23) = 5.0 × 108Storage modulus E'(23) at 23°C = 5.0 × 10 8 Pa

·100 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 E' (100) = 4.0 × 106Storage modulus E'(100) at 100°C = 4.0 × 10 6 Pa

·208 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 E' (208) = 4.0 × 105Storage modulus E'(208) at 208°C = 4.0 × 10 5 Pa

·프로브 택값 = 2 mN/5 ㎜φ·Probe tack value = 2 mN/5 ㎜φ

(1-4) 각 층의 적층(1-4) Lamination of each layer

상기 (1-3) 에서 제조한 기재 (Y1) 의 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 과, 상기 (1-2) 에서 형성한 제 2 점착제층 (X12) 을 첩합함과 함께, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 상기 (1-2) 에서 형성한 제 2 점착제층 (X12) 을 첩합하였다.While bonding the non-thermal expandable base layer (Y1-2) of the base material (Y1) prepared in (1-3) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) formed in (1-2), the thermally expandable base material The layer (Y1-1) and the second pressure-sensitive adhesive layer (X12) formed in the above (1-2) were bonded together.

그리고, 경박리 필름/제 2 점착제층 (X12)/비열팽창성 기재층 (Y1-2)/열팽창성 기재층 (Y1-1)/제 1 점착제층 (X11)/중박리 필름을 이 순서로 적층하여 이루어지는, 점착 시트 (I) 를 제조하였다.And the light peeling film/second adhesive layer (X12)/non-thermal expandable base layer (Y1-2)/thermal expandable base layer (Y1-1)/first adhesive layer (X11)/heavy release film were laminated in this order. The thus obtained adhesive sheet (I) was produced.

[2] 점착 시트 (II) 의 제조[2] Preparation of adhesive sheet (II)

(2-1) 점착제층 (X2) 의 형성(2-1) Formation of pressure-sensitive adhesive layer (X2)

점착성 수지인, 상기 아크릴계 공중합체 (ii) 의 고형분 100 질량부에, 상기 이소시아네이트계 가교제 (i) 8 질량부 (고형분비) 를 배합하고, 톨루엔으로 희석시키고, 균일하게 교반하여, 고형분 농도 (유효 성분 농도) 25 질량% 의 점착제 조성물을 조제하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic copolymer (ii), which is an adhesive resin, 8 parts by mass (solid content ratio) of the isocyanate-based crosslinking agent (i) is blended, diluted with toluene, and stirred uniformly, and the solid content concentration (effective Component concentration) A pressure-sensitive adhesive composition of 25% by mass was prepared.

그리고, 상기 중박리 필름의 박리제층의 표면에, 당해 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 당해 도막을 100 ℃ 에서 60 초간 건조시켜, 두께 20 ㎛ 의 점착제층 (X2) 을 형성하였다.Then, the pressure-sensitive adhesive composition was applied to the surface of the release agent layer of the heavy peeling film to form a coating film, and the coating film was dried at 100° C. for 60 seconds to form a pressure-sensitive adhesive layer (X2) having a thickness of 20 μm.

또, 상기 방법에 기초하여 측정한 점착제층 (X2) 의 점착력은, 0.5 N/25 ㎜ 이었다.Moreover, the adhesive force of the adhesive layer (X2) measured based on the said method was 0.5 N/25 mm.

(2-2) 기재 (Y2)(2-2) Description (Y2)

기재 (Y2) 는, 두께 50 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (토요보 주식회사 제조, 제품명 「코스모샤인 A4300」, 프로브 택값 : 0 mN/5 ㎜φ) 으로 하였다.The substrate (Y2) was a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 50 µm (manufactured by Toyobo Corporation, product name "Cosmoshine A4300", probe tack value: 0 mN/5 mmφ).

(2-3) 중간층 (Z2)(2-3) Intermediate layer (Z2)

(1) 중간층 형성용 조성물의 조제(1) Preparation of the composition for forming an intermediate layer

비에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 C1 을 100 질량부, 에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 D1 을 68 질량부, 톨릴렌디이소시아네이트계 가교제 (상품명 : BHS 8515, 토요켐사 제조) 를 2.8 질량부, 및 상기의 광 중합 개시제 (i) 를 2.7 질량부 첨가하고, 아세트산에틸로 희석시켜, 고형분 농도 (유효 성분 농도) 35 질량% 의 중간층 형성용 조성물의 용액을 조제하였다.100 parts by mass of the non-energy ray-curable acrylic copolymer C1, 68 parts by mass of the energy ray-curable acrylic copolymer D1, 2.8 parts by mass of a tolylene diisocyanate crosslinking agent (trade name: BHS 8515, manufactured by Toyochem), and the above photopolymerization 2.7 parts by mass of the initiator (i) was added and diluted with ethyl acetate to prepare a solution of the composition for intermediate layer formation having a solid content concentration (active ingredient concentration) of 35% by mass.

(2) 비에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 C1 의 조제(2) Preparation of non-energy ray-curable acrylic copolymer C1

부틸아크릴레이트 (BA) 90 질량부, 및 아크릴산 (AAc) 10 질량부를, 아세트산에틸 용매 중에 첨가하고, 중합 개시제로서, 아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 을 1.0 질량부 첨가하고, 용액 중합을 진행시켜, 비에너지선 경화성의 아크릴계 공중합체 C1 (Mw : 50 만) 을 얻었다.90 parts by mass of butyl acrylate (BA) and 10 parts by mass of acrylic acid (AAc) were added in an ethyl acetate solvent, and 1.0 parts by mass of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added as a polymerization initiator, and solution polymerization was proceeded. Then, a specific energy ray-curable acrylic copolymer C1 (Mw: 500,000) was obtained.

(3) 에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 D1 의 조제(3) Preparation of energy ray-curable acrylic copolymer D1

부틸아크릴레이트 (BA) 62 질량부, 메틸메타크릴레이트 (MMA) 10 질량부, 및 2-하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA) 28 질량부를, 아세트산에틸 용매 중에 첨가하고, 중합 개시제로서, 아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 을 1.0 질량부 첨가하여, 용액 중합을 진행시키고, 일정 시간 경과 후, 아크릴계 공중합체 (BA/MMA/HEA = 62/10/28 (질량%)) 를 얻었다.62 parts by mass of butyl acrylate (BA), 10 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) were added in an ethyl acetate solvent, and as a polymerization initiator, azobisiso 1.0 mass part of butyronitrile (AIBN) was added, solution polymerization was advanced, and the acrylic copolymer (BA/MMA/HEA = 62/10/28 (mass %)) was obtained after a certain period of time.

계속해서, 당해 아크릴계 공중합체에 대해, 첨가한 HEA 중의 전체 수산기수 100 당량에 대한 이소시아네이트기수가 80 당량이 되는 양의 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트를 첨가하고 반응시켜, 측사슬에 에너지선 중합성기를 갖는, 에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 D1 (Mw : 10 만) 을 얻었다. 에너지선 경화성 아크릴계 공중합체 D1 에 있어서의, 상기 식 (2) 로부터 산출되는 β 의 값은 22.4 이다.Subsequently, to the acrylic copolymer, methacryloyloxyethyl isocyanate in an amount such that 80 equivalents of isocyanate groups per 100 equivalents of the total number of hydroxyl groups in the added HEA was added and reacted, and an energy ray polymerizable group in the side chain The energy ray-curable acrylic copolymer D1 (Mw: 100,000) was obtained. In the energy ray-curable acrylic copolymer D1, the value of β calculated from the formula (2) is 22.4.

(4) 중간층 (Z2) 의 제조(4) Preparation of intermediate layer (Z2)

박리 시트 (린텍사 제조, 상품명 「SP-PET381031」, 실리콘 박리 처리를 실시한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 두께 : 38 ㎛) 의 박리 처리가 된 면 상에, 상기와 같이 조제한 중간층 형성용 조성물의 용액을, 건조 후의 두께가 45 ㎛ 가 되도록 도포하여 도포막을 형성하였다. 이어서, 당해 도포막을 100 ℃ 에서 2 분간 건조시키고, 중간층 (Z2) 을 형성하여, 중간층 형성 박리 시트를 제조하였다.A solution of the composition for forming an intermediate layer prepared as described above was prepared on the side of the release sheet (manufactured by Lintec, brand name "SP-PET381031", a polyethylene terephthalate film subjected to a silicone release treatment, thickness: 38 µm), The coating film was formed by coating so that the thickness after drying was 45 µm. Next, the coating film was dried at 100° C. for 2 minutes to form an intermediate layer (Z2) to prepare an intermediate layer-forming release sheet.

또한, 당해 중간층 형성 박리 시트에 대해서는, 동일한 것을 2 장 제조하고, 2 장의 중간층 형성 박리 시트의 중간층끼리를 첩합하여, 두께 90 ㎛ 의 중간층 (Z2) 이 2 장의 박리 시트로 협지된 적층 시트를 얻었다.In addition, about the said intermediate|middle layer formation release sheet, two identical pieces were manufactured, and the intermediate layers of the two intermediate|middle layer formation release sheets were bonded together, and the intermediate layer (Z2) of 90 micrometers in thickness obtained a laminated sheet sandwiched by two release sheets. .

(2-4) 각 층의 적층(2-4) Lamination of each layer

두께 90 ㎛ 의 중간층 (Z2) 이 2 장의 박리 시트로 협지된 적층 시트의 일방의 박리 시트를 제거하고, 표출된 중간층 (Z2) 의 면 상에, 기재 (Y2) 를 적층하였다.The 90-micrometer-thick intermediate layer (Z2) removed one release sheet of the laminated sheet sandwiched by two release sheets, and the substrate (Y2) was laminated on the surface of the exposed intermediate layer (Z2).

또, 타방의 박리 시트도 제거하고, 표출된 중간층 (Z2) 의 면 상에, 상기 (2-1) 에서 형성한 점착제층 (X2) 을 첩합하여, 기재 (Y2)/중간층 (Z2)/점착제층 (X2)/중박리 필름을 이 순서로 적층하여 이루어지는, 점착 시트 (II) 를 제조하였다.Further, the other release sheet was also removed, and on the surface of the exposed intermediate layer (Z2), the adhesive layer (X2) formed in the above (2-1) was bonded to each other, and the substrate (Y2)/intermediate layer (Z2)/adhesive agent The adhesive sheet (II) obtained by laminating the layer (X2)/intermediate release film in this order was prepared.

[3] 점착성 적층체의 제조[3] Preparation of adhesive laminate

상기 [1] 에서 제조한 점착 시트 (I) 의 중박리 필름을 제거하고, 표출된 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 를 첩합하여, 점착성 적층체를 얻었다.The heavy peeling film of the adhesive sheet (I) prepared in the above [1] was removed, the exposed first adhesive layer (X11) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) were bonded to each other to obtain an adhesive laminate. .

당해 점착성 적층체에 대해, 가열 처리 전 및 가열 처리 후의, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리할 때의 박리력 (F0), (F1) 을 하기 방법에 기초하여 측정하였다.Peeling force when separating from the interface P of the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) before and after heat treatment with respect to the adhesive laminate (F 0 ) and (F 1 ) were measured based on the following method.

그 결과, 박리력 (F0) = 0.5 N/25 ㎜, 박리력 (F1) = 0 mN/25 ㎜ 가 되어, 박리력 (F1) 과 박리력 (F0) 의 비 [(F1)/(F0)] 는 0 이었다.As a result, peel force (F 0 ) = 0.5 N/25 mm, peel force (F 1 ) = 0 mN/25 mm, and the ratio of peel force (F 1 ) and peel force (F 0 ) [(F 1 )/(F 0 )] was 0.

<박리력 (F0) 의 측정><Measurement of peeling force (F 0 )>

제조한 점착성 적층체를 23 ℃, 50 %RH (상대습도) 의 환경하에서, 24 시간 가만히 정지시킨 후, 점착성 적층체의 점착 시트 (II) 가 갖는 중박리 필름을 제거하고, 표출된 점착제층 (X2) 을 스테인리스판 (SUS304, 360 번 연마) 에 첩부하였다.The produced adhesive laminate was stopped still for 24 hours in an environment of 23°C and 50% RH (relative humidity), and then the heavy peeling film of the adhesive sheet (II) of the adhesive laminate was removed, and the exposed adhesive layer ( X2) was affixed to a stainless steel plate (SUS304, No. 360 polishing).

이어서, 점착성 적층체가 첩부된 스테인리스판의 단부를, 만능 인장 시험기 (오리엔텍사 제조, 제품명 「텐실론 UTM-4-100」) 의 하부 척에 고정시켰다.Next, the end of the stainless steel plate to which the adhesive laminate was affixed was fixed to the lower chuck of a universal tensile tester (manufactured by Orientec, product name "Tensilon UTM-4-100").

또, 점착성 적층체의 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 박리되도록, 만능 인장 시험기의 상부 척에서 점착성 적층체의 점착 시트 (I) 를 고정시켰다.In addition, the adhesive sheet of the adhesive laminate in the upper chuck of the universal tensile tester so as to be peeled off at the interface P of the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) (I) was fixed.

그리고, 상기와 동일한 환경하에서, JIS Z0237 : 2000 에 기초하여, 180°박리법에 의해, 인장 속도 300 ㎜/분으로, 계면 P 에서 박리했을 때에 측정된 박리력을 「박리력 (F0)」 으로 하였다.And under the same environment as above, based on JIS Z0237:2000, the peeling force measured at the time of peeling at the interface P at a tensile speed of 300 mm/min by a 180° peeling method was referred to as “peel force (F 0 )”. I did it.

<박리력 (F1) 의 측정><Measurement of peeling force (F 1 )>

제조한 점착성 적층체의 점착 시트 (II) 가 갖는 중박리 필름을 제거하고, 표출된 점착제층 (X2) 을 스테인리스판 (SUS304, 360 번 연마) 에 첩부하였다.The heavy peeling film of the PSA sheet (II) of the produced PSA laminate was removed, and the exposed PSA layer (X2) was affixed to a stainless steel plate (SUS304, No. 360 polishing).

그리고, 스테인리스 강판 및 점착성 적층체를, 240 ℃ 에서 3 분간 가열하여, 점착성 적층체의 열팽창성 기재층 (Y1-2) 중의 열팽창성 입자를 팽창시켰다.Then, the stainless steel sheet and the adhesive laminate were heated at 240° C. for 3 minutes to expand the thermally expandable particles in the thermally expandable base layer (Y1-2) of the adhesive laminate.

그 후에는, 상기 서술한 박리력 (F0) 의 측정과 동일하게 하여, 상기 조건으로, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 박리했을 때에 측정된 박리력을 「박리력 (F1)」 으로 하였다.After that, in the same manner as in the measurement of the peeling force (F 0 ) described above, under the conditions described above, the interface between the first adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) The peeling force measured when peeling from P was made into "peeling force (F 1 )".

또한, 박리력 (F1) 의 측정에 있어서, 만능 인장 시험기의 상부 척에서, 점착성 적층체의 점착 시트 (I) 를 고정시키고자 했을 때, 계면 P 에서 점착 시트 (I) 가 완전히 분리되어 버려, 고정을 할 수 없는 경우에는, 측정을 종료하고, 그 때의 박리력 (F1) 은 「0 mN/25 ㎜」 로 하였다.In addition, in the measurement of the peel force (F 1 ), when trying to fix the adhesive sheet (I) of the adhesive laminate in the upper chuck of the universal tensile tester, the adhesive sheet (I) is completely separated at the interface P. When it was impossible to fix, the measurement was terminated, and the peeling force (F 1 ) at that time was set to "0 mN/25 mm".

[실시예 2][Example 2]

이하의 순서에 의해, 가공 대상물이 첩부된 상태의 점착 시트 (II) 를 제조하였다.By the following procedure, the adhesive sheet (II) in the state in which the object to be processed was affixed was produced.

(1) 반도체 웨이퍼의 고정(1) Fixing of semiconductor wafers

실시예 1 에서 제조한 점착성 적층체가 갖는 경박리 필름을 제거하고, 표출된 점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 의 점착 표면을 지지체 (유리) 와 첩부하였다.The light peeling film of the adhesive laminate prepared in Example 1 was removed, and the adhesive surface of the 2nd adhesive layer (X12) of the adhesive sheet (I) exposed was affixed with a support body (glass).

그리고, 패턴이 형성된 회로면을 갖는 반도체 웨이퍼의 회로면측의 표면과 점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 을 첩합하고, 실시예 1 에서 제조한 점착성 적층체를 개재하여 지지체에 반도체 웨이퍼를 고정시켰다.Then, the surface on the circuit surface side of the semiconductor wafer having the patterned circuit surface and the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) were bonded, and the semiconductor wafer was fixed to the support through the pressure-sensitive adhesive laminate prepared in Example 1. Made it.

(2) 개질 영역의 형성(2) formation of modified regions

스텔스 레이저 조사 장치 (도쿄 정밀사 제조, 장치명 「ML300PlusWH」) 를 사용하여, 반도체 웨이퍼의 회로 형성면과는 반대측의 면으로부터 스텔스 레이저 조사를 실시하여, 반도체 웨이퍼 내부에 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하였다.Using a stealth laser irradiation device (manufactured by Tokyo Precision Co., Ltd., device name "ML300PlusWH"), stealth laser irradiation is performed from the side opposite to the circuit formation surface of the semiconductor wafer to form a modified region that serves as the starting point for division inside the semiconductor wafer. I did.

(3) 계면 P 에서의 분리(3) Separation at the interface P

상기 (2) 후, 점착성 적층체를 열팽창성 입자의 팽창 개시 온도 (90 ℃) 이상이 되는 120 ℃ 에서 3 분간의 가열 처리를 실시하였다. 그리고, 점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서, 일괄적으로 용이하게 분리할 수 있었다.After the above (2), the adhesive laminate was subjected to a heat treatment for 3 minutes at 120° C. at which the expansion start temperature of the thermally expandable particles (90° C.) or higher. And, at the interface P of the 1st adhesive layer (X11) of the adhesive sheet (I), and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II), it could be easily separated collectively.

그리고, 분리 후에, 내부에 개질 영역이 형성된 반도체 웨이퍼가 첩부된 상태의 점착 시트 (II) 를 얻었다.Then, after separation, a pressure-sensitive adhesive sheet (II) in a state in which a semiconductor wafer having a modified region formed therein was affixed was obtained.

1a, 1b, 1c, 1d, 2 점착성 적층체
(I) 점착 시트
(X1) 점착제층
(X11) 제 1 점착제층
(X12) 제 2 점착제층
(Y1) 기재
(Y1-1) 열팽창성 기재층
(Y1-2) 비열팽창성 기재층
(II) 점착 시트
(X2) 점착제층
(Z2) 중간층
(Y2) 기재
50 지지체
60, 70 가공 대상물
61 경화 봉지체
61a 경화 봉지체의 개편화물
71 개질 영역
72 간극
1a, 1b, 1c, 1d, 2 adhesive laminate
(I) adhesive sheet
(X1) adhesive layer
(X11) 1st adhesive layer
(X12) 2nd adhesive layer
(Y1) description
(Y1-1) Thermally expandable substrate layer
(Y1-2) Non-thermal expandable base layer
(II) adhesive sheet
(X2) adhesive layer
(Z2) middle layer
(Y2) description
50 support
60, 70 object to be processed
61 Hardened Encapsulant
Reorganized cargo of 61a hardened encapsulant
71 modified area
72 gap

Claims (17)

기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창 개시 온도 (t) 의 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는 점착성 적층체를 사용하여, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하는 방법으로서,
하기 공정 (1) ∼ (3) 을 이 순서대로 갖고,
·공정 (1) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 가공 대상물을 첩부하는 공정
·공정 (2) : 상기 가공 대상물에 하나 이상의 가공을 실시하는 공정
·공정 (3) : 상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 이상에서의 가열에 의해, 상기 가공 대상물을 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 첩부한 상태를 유지하면서, 상기 점착성 적층체를 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 의 계면 P 에서 분리하는 공정
추가로, 하기 공정 (4) 를 갖고,
·공정 (4) : 상기 가공 대상물의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공을 실시하는 공정
상기 공정 (4) 는, 하기 (X) 및 (Y) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시되는, 가공품의 제조 방법.
(X) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2) 에 있어서 실시된다
(Y) : 상기 공정 (3) 후에 있어서 실시된다
Having a substrate (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles having a thermal expansion initiation temperature (t) in any layer, and a substrate (Y2) and pressure-sensitive adhesive layer (X2) Using an adhesive laminate comprising an adhesive sheet (II) and directly laminating the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) to produce a processed product subjected to at least any processing of cutting and grinding As a way to do it,
Having the following steps (1) to (3) in this order,
Process (1): a step of affixing the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate to the support and affixing the object to be processed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the adhesive laminate
Process (2): A process of performing one or more processing on the object to be processed
Step (3): The adhesiveness while maintaining a state in which the object to be processed is affixed to the surface of the adhesive layer (X2) of the adhesive laminate by heating at or above the thermal expansion initiation temperature (t) of the thermally expandable particles. Step of separating the laminate at the interface P of the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II)
In addition, it has the following process (4),
Process (4): A process of performing at least one of cutting and grinding on the surface of the object on the opposite side to the adhesive layer (X2) of the object to be applied.
The said process (4) is performed in at least any one of following (X) and (Y), The manufacturing method of a processed product.
(X): As the one or more processing, it is carried out in the step (2).
(Y): It is implemented after the said process (3)
제 1 항에 있어서,
상기 열팽창성 입자의 열팽창 개시 온도 (t) 가 60 ∼ 270 ℃ 인, 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method, wherein the thermal expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 60 to 270°C.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 가, 상기 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 기재층 (Y1-1) 을 갖는, 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The manufacturing method in which the base material (Y1) of the adhesive sheet (I) has a thermally expandable base material layer (Y1-1) containing the thermally expandable particles.
제 3 항에 있어서,
점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 가, 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과 비열팽창성 기재층 (Y1-2) 을 갖는, 제조 방법.
The method of claim 3,
The manufacturing method in which the base material (Y1) which the adhesive sheet (I) has has a thermally expandable base material layer (Y1-1) and a non-thermal expandable base material layer (Y1-2).
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
점착 시트 (I) 가 갖는 기재 (Y1) 의 열팽창성 기재층 (Y1-1) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는, 제조 방법.
The method according to claim 3 or 4,
A manufacturing method in which the thermally expandable base layer (Y1-1) of the base material (Y1) of the adhesive sheet (I) and the base material (Y2) of the adhesive sheet (II) are directly laminated.
제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
점착 시트 (I) 가, 제 1 점착제층 (X11) 및 제 2 점착제층 (X12) 에 의해 기재 (Y1) 가 협지된 구성을 갖고,
점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖고,
점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 상기 지지체에 첩부되는 면인, 제조 방법.
The method according to any one of claims 3 to 5,
The adhesive sheet (I) has a configuration in which the substrate (Y1) is sandwiched by the first adhesive layer (X11) and the second adhesive layer (X12),
The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) have a structure in which they are directly laminated,
The production method, wherein the surface of the second adhesive layer (X12) of the adhesive sheet (I) is a surface affixed to the support.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
제 1 점착제층 (X11) 이, 상기 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성 점착제층이고,
제 2 점착제층 (X12) 이, 비열팽창성 점착제층이고,
점착 시트 (I) 의 제 1 점착제층 (X11) 과, 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층한 구성을 갖고,
점착 시트 (I) 의 제 2 점착제층 (X12) 의 표면은, 상기 지지체에 첩부되는 면인, 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The first adhesive layer (X11) is a thermally expandable adhesive layer containing the thermally expandable particles,
The second adhesive layer (X12) is a non-thermal expandable adhesive layer,
The first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the pressure-sensitive adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) have a structure in which they are directly laminated,
The manufacturing method, wherein the surface of the second adhesive layer (X12) of the adhesive sheet (I) is a surface affixed to the support.
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
기재 (Y1) 의 제 1 점착제층 (X11) 이 적층한 측의 표면이, 용이 접착 처리가 실시된 표면인, 제조 방법.
The method according to claim 6 or 7,
The manufacturing method, wherein the surface on the side on which the first pressure-sensitive adhesive layer (X11) of the substrate (Y1) is laminated is a surface subjected to an easy adhesion treatment.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
기재 (Y2) 의 점착 시트 (I) 가 적층한 측의 표면이, 박리 처리가 실시된 표면인, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The manufacturing method in which the surface on the side where the adhesive sheet (I) of the base material (Y2) is laminated is a surface subjected to a peeling treatment.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
점착 시트 (II) 가, 기재 (Y2) 와 점착제층 (X2) 사이에, 중간층 (Z2) 을 갖는, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 9,
The manufacturing method in which the pressure-sensitive adhesive sheet (II) has an intermediate layer (Z2) between the substrate (Y2) and the pressure-sensitive adhesive layer (X2).
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
점착 시트 (II) 의 점착제층 (X2) 이, 에너지선 경화형의 점착제층인, 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 10,
The manufacturing method in which the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive sheet (II) is an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
점착 시트 (II) 가, 하기 요건 (α) ∼ (γ) 의 하나 이상을 만족시키는, 제조 방법.
·요건 (α) : 기재 (Y2) 의 영률이 1.0 ㎫ 이상이다.
·요건 (β) : 기재 (Y2) 의 두께가 5 ㎛ 이상이다.
·요건 (γ) : 점착제층 (X2) 의 저장 탄성률 G' (23 ℃) 가 0.1 ㎫ 이상이다.
The method according to any one of claims 1 to 11,
The production method in which the pressure-sensitive adhesive sheet (II) satisfies one or more of the following requirements (α) to (γ).
-Requirement (α): The Young's modulus of the substrate (Y2) is 1.0 MPa or more.
-Requirement (β): The thickness of the substrate (Y2) is 5 µm or more.
Requirement (γ): The storage modulus G'(23°C) of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) is 0.1 MPa or more.
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가공 대상물이 반도체 웨이퍼이고,
상기 공정 (2) 에 있어서의 상기 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-A) 를 포함하고,
·공정 (2-A) : 상기 반도체 웨이퍼에, 분할 기점이 되는 개질 영역을 형성하는 공정
상기 공정 (4) 가, 하기 공정 (4-A) 이고,
·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정
상기 공정 (4-A) 는, 하기 (X-A) 또는 (Y-A) 에 있어서 실시되는, 제조 방법.
(X-A) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2-A) 후에 실시된다
(Y-A) : 상기 공정 (3) 후에 실시된다
The method according to any one of claims 1 to 12,
The object to be processed is a semiconductor wafer,
The one or more processing in the step (2) includes the following step (2-A),
Process (2-A): A process of forming a modified region serving as a division starting point on the semiconductor wafer
The said process (4) is the following process (4-A),
Process (4-A): A process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)
The production method, wherein the step (4-A) is carried out in the following (XA) or (YA).
(XA): The one or more processing is performed after the step (2-A)
(YA): It is carried out after the above step (3)
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가공 대상물이 반도체 칩이고,
상기 공정 (2) 에 있어서의 상기 하나 이상의 가공이, 하기 공정 (2-B) 를 포함하고,
·공정 (2-B) : 상기 반도체 칩과, 점착제층 (X2) 의 점착 표면 중, 상기 반도체 칩의 주변부를 봉지재로 피복하고, 그 봉지재를 경화시켜, 상기 반도체 칩이 경화 봉지재에 봉지되어 이루어지는 경화 봉지체를 얻는 공정
상기 공정 (4) 는, 하기 (X-B) 및 (Y-B) 중 적어도 어느 것에 있어서 실시되는, 제조 방법.
(X-B) : 상기 하나 이상의 가공으로서 상기 공정 (2-B) 후에 실시된다
(Y-B) : 상기 공정 (3) 후에 실시된다
The method according to any one of claims 1 to 12,
The object to be processed is a semiconductor chip,
The one or more processing in the step (2) includes the following step (2-B),
Process (2-B): of the adhesive surfaces of the semiconductor chip and the pressure-sensitive adhesive layer (X2), the periphery of the semiconductor chip is covered with a sealing material, the sealing material is cured, and the semiconductor chip is applied to the cured sealing material. Process of obtaining a cured sealing body formed by sealing
The said process (4) is performed in at least any one of following (XB) and (YB), The manufacturing method.
(XB): The one or more processing is carried out after the step (2-B)
(YB): It is implemented after the said process (3)
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가공 대상물이 분할 기점이 되는 개질 영역을 갖는 반도체 웨이퍼이고,
상기 공정 (4) 가 하기 공정 (4-A) 인, 제조 방법.
·공정 (4-A) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정
The method according to any one of claims 1 to 12,
A semiconductor wafer having a modified region in which the object to be processed is a division starting point,
The manufacturing method, wherein the step (4) is the following step (4-A).
Process (4-A): The process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가공 대상물이 분할 기점이 되는 절입 홈을 갖는 반도체 웨이퍼이고,
상기 공정 (1) 이 하기 공정 (1-C) 이고, 상기 공정 (4) 가 하기 공정 (4-C) 인, 제조 방법.
·공정 (1-C) : 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X1) 의 표면을 지지체에 첩부함과 함께, 상기 점착성 적층체의 점착제층 (X2) 의 표면에 상기 반도체 웨이퍼의 절입 홈을 갖는 면을 첩부하는 공정
·공정 (4-C) : 상기 반도체 웨이퍼의 점착제층 (X2) 과의 첩부면과는 반대측의 표면에 대해 연삭을 실시하는 공정
The method according to any one of claims 1 to 12,
The object to be processed is a semiconductor wafer having a cutout groove serving as a division starting point,
The manufacturing method, wherein the step (1) is the following step (1-C), and the step (4) is the following step (4-C).
Step (1-C): A surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X1) of the adhesive laminate is affixed to the support, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (X2) of the pressure-sensitive adhesive laminate has a cutout groove of the semiconductor wafer Process of attaching
Process (4-C): A process of grinding the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the adhesive layer (X2)
기재 (Y1) 및 점착제층 (X1) 을 갖고, 어느 층에 열팽창성 입자를 포함하는 열팽창성의 점착 시트 (I), 그리고 기재 (Y2) 및 점착제층 (X2) 을 갖는 점착 시트 (II) 를 구비하고, 점착 시트 (I) 와 점착 시트 (II) 의 기재 (Y2) 가 직접 적층하여 이루어지는, 절삭 및 연삭 중 적어도 어느 가공이 실시된 가공품을 제조하기 위한, 점착성 적층체.It has a base material (Y1) and a pressure-sensitive adhesive layer (X1), and a thermally expandable pressure-sensitive adhesive sheet (I) containing thermally expandable particles in any layer, and a pressure-sensitive adhesive sheet (II) having a base material (Y2) and pressure-sensitive adhesive layer (X2) And, the adhesive laminated body for producing a processed article which has been subjected to at least any of cutting and grinding, wherein the adhesive sheet (I) and the substrate (Y2) of the adhesive sheet (II) are directly laminated.
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