JPWO2019159586A1 - 排ガス浄化触媒 - Google Patents
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Abstract
Description
前記二次粒子の表面から中心に向かって、走査透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線のライン分析を行ったときに、前記二次粒子の表面側の触媒金属の担持密度が、前記二次粒子の中心部の触媒金属の担持密度よりも高い、
排ガス浄化触媒。
《態様2》前記二次粒子の平均粒径が1.5μmを超え、
前記触媒金属のうちの80%以上が、前記二次粒子の表面から600nmまでの範囲に担持されている、《態様1》に記載の排ガス浄化触媒。
《態様3》前記二次粒子の平均粒径が1.0μmを超え、
前記触媒金属のうちの80%以上が、前記二次粒子の表面から400nmまでの範囲に担持されている、《態様1》に記載の排ガス浄化触媒。
《態様4》前記触媒金属が、白金族、銅族、及び鉄族から選択される1種以上の金属である、《態様1》〜《態様3》のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒。
《態様5》前記無機酸化物が、アルミナ、セリア、及びジルコニアから選択される1種以上を含む酸化物である、《態様1》〜《態様4》のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒。
《態様6》基材と、基材上の触媒コート層とを含み、
前記触媒コート層が、《態様1》〜《態様5》のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、
排ガス浄化触媒装置。
《態様7》担体粒子を金属担持用調合液に浸漬させること、及び
塗工液に浸漬させた後の担体粒子を焼成すること
を含み、
前記担体粒子が無機酸化物の二次粒子から構成され、かつ、
前記金属担持用調合液が、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子を含む、
《態様1》〜《態様5》のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
《態様8》前記有機化合物が、チオグリコール酸、チオ乳酸、2−メルカプトコハク酸、2,3−ジメルカプトコハク酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、ペニシラミン、及びチオサリチル酸から選択される1種以上である、《態様7》に記載の方法。
《態様9》前記金属担持用調合液中の前記有機化合物の配合量が、前記金属前駆体1モルに対して、1モル以上50モル以下である、《態様7》又は《態様8》に記載の方法。
《態様10》前記前駆体粒子が、前記金属前駆体中の金属原子に、前記有機化合物が有するメルカプト基中の硫黄原子が配位して形成されたものである、《態様7》〜《態様9》のいずれか一項に記載の方法。
《態様11》前記前駆体粒子の平均粒子径が、動的光散乱光度計によって求めたメジアン径として、0.7nm以上10.0nm以下である、《態様7》〜《態様10》のいずれか一項に記載の方法。
本発明の排ガス浄化触媒は、
無機酸化物の二次粒子に触媒金属の粒子が担持された排ガス浄化触媒であって、
前記二次粒子の表面から中心に向かって、走査透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線のライン分析を行ったときに、前記二次粒子の表面側の触媒金属の担持密度が、前記二次粒子の中心側の触媒金属の担持密度よりも高い、
排ガス浄化触媒である。
本発明の排ガス浄化触媒では、二次粒子の表面側の触媒金属の担持密度が、二次粒子の中心部の触媒金属の担持密度よりも高い。
(1)二次粒子の平均粒径が1.5μmを超え、
触媒金属のうちの80%以上が、二次粒子の表面から600nmまでの範囲に担持されている排ガス浄化触媒(第1の排ガス浄化触媒)、及び
(2)二次粒子の平均粒径が1.0μmを超え、
触媒金属のうちの80%以上が、二次粒子の表面から400nmまでの範囲に担持されている排ガス浄化触媒(第2の排ガス浄化触媒)。
本発明の排ガス浄化触媒では、無機酸化物の二次粒子を担体とする。
触媒金属の粒子を構成する金属としては、所望の触媒金属を選択してよく、貴金属であっても卑金属であってもよい。具体的には、貴金属は、白金族、銅族等から選択される1種以上の金属であってよい。白金族は、例えば、パラジウム、白金、及びロジウムである。銅族は、例えば、銀、銅等である。卑金属は、例えば、鉄族の金属であってよく、例えば、コバルト、ニッケル、鉄等から選択して使用してよい。
触媒金属の粒子の粒径:1nm以上、2nm以上、3nm以上、4nm以上、又は5nm以上;20nm以下、15nm以下、又は10nm以下
触媒金属の担持量:無機酸化物の二次粒子の質量を基準として、0.1質量%以上、0.3質量%以上、0.5質量%以上、1.0質量%以上、2.0質量%以上、又は3.0質量%以上;20質量%以下、15質量%以下、10質量%以下、8質量%以下、7質量%以下、又は5質量%以下
本発明の排ガス浄化触媒は、例えば、
担体粒子を金属担持用調合液に浸漬させること(浸漬工程)、及び
塗工液に浸漬させた後の担体粒子を焼成すること(焼成工程)
を含み、
上記担体粒子が無機酸化物の二次粒子から構成され、かつ、
上記の調合液が、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子を含む、
排ガス浄化触媒の製造方法によって製造されてよい。
担体粒子は、無機酸化物の二次粒子から構成されており、本発明の排ガス浄化余触媒についての上記の記載を参照できる。無機酸化物の種類は、所望の触媒の担体粒子の種類に応じて選択されてよい。
本発明の排ガス浄化物触媒の製造方法に用いられる金属担持用調合液は、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子、並びに必要に応じて使用される任意成分が適当な溶媒中に溶解又は分散されている液状組成物である。
金属前駆体は、本発明の排ガス浄化触媒の製造方法のいずれかの工程(例えば後述の焼成工程)で還元されて、無機酸化物の二次粒子に担持される触媒金属を生成する化合物である。
メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物は、本発明の排ガス浄化物触媒の製造に際して、金属担持用調合液に配合された金属前駆体及び担体粒子と相互作用し、金属前駆体を担体粒子の表面付近に留め置く機能を有する。すなわち、この有機化合物の有するメルカプト基中の硫黄原子が金属前駆体中の金属原子に配位し、かつ、カルボキシル基が担体粒子の表面と相互作用することにより、金属前駆体を担体粒子の表面付近に留め置くと考えられる。このように金属前駆体が担体粒子の表面付近に留め置かれた状態で焼成することにより、触媒金属の粒子が担体粒子の表面付近に選択的に存在することになると考えられる。
金属担持用調合液は、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子、並びに後述の溶媒を含むが、これら以外に必要に応じてその他の任意成分を更に含んでもよい。任意成分は、例えば、pH調整剤、界面活性剤、増粘剤等であってよい。
金属担持用調合液に含まれる溶媒は、水性溶媒であってよく、例えば、水、又は水と水溶性有機溶媒との混合溶媒であってよい。この水溶性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール;1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル;アセトン等のケトン;酢酸エチル等のエステル;ジメチルホルムアミド等の極性溶媒等であってよい。
金属担持用調合液中で、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物中の硫黄原子は、金属前駆体中の金属原子に配位していると考えられる。硫黄原子が金属原子に配位しているかどうかは、例えば、X線光電子分光分析(XPS)により、確認することができる。硫黄原子が金属原子に配位すると、S2pの結合エネルギーが低エネルギー側にシフトする。例えば、2−メルカプトコハク酸が有するメルカプト基中の硫黄原子のS2p結合エネルギーは約163.5eVであるが、この硫黄原子がロジウムに配位すると、低エネルギー側の約162.5eVにシフトする。
金属担持用調合液中で、金属前駆体は、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とともに前駆体粒子を形成してよい。この前駆体粒子の粒径は、適当な粒径の触媒金属の粒子を得易くし、かつ該粒子の沈降を制限して調合液の取り扱い性を確保するために、例えば、0.1nm以上、0.3nm以上、0.5nm以上、1.0nm以上、1.5nm以上、又は2.0nm以上であってよく、例えば、50nm以下、30nm以下、20nm以下、15nm以下、12nm以下、又は10nm以下であってよい。
金属担持用調合液の液性は、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子が安定に分散する範囲で適宜に設定されてよい。調合液の液性は、pH値として、例えば、0.0以上、0.5以上、1.0以上、1.5以上、又は1.0以上であってよく、例えば、13.0以下、10.0以下、7.0以下、5.0以下、又は3.0以下であってよい。
金属担持用調合液の濃度は、担体粒子への触媒金属の担持を容易かつ確実とし、一方で調合液の均一性を確保する要請から、調合液中の溶媒以外の全成分の合計質量が調合液の全質量に占める割合として、例えば、0.5質量%以上、1質量%以上、2質量%以上、又は3質量%以上であってよく、例えば、30質量%以下、20質量%以下、10質量%以下、又は5質量%以下であってよい。
金属担持用調合液は、所定の溶媒中に、金属前駆体、並びにメルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物、並びに必要に応じて使用される任意成分を投入し、混合することにより、調製されてよい。溶媒中への各成分の投入は、同時に行ってもよいし、逐次的に行ってもよい。
浸漬工程では、担体粒子を金属担持用調合液に浸漬させる。
次いで、焼成工程において、塗工液に浸漬させた後の担体粒子を焼成することにより、本発明の排ガス浄化触媒を得ることができる。
本発明の排ガス浄化触媒は、基材上に形成されたコート層に含まれる触媒成分として、排ガスの浄化に適用されてよい。
本発明の排ガス浄化触媒は、適当な基材上に、本発明の排ガス浄化触媒を含むコート層を有する、排ガス浄化触媒装置として使用することができる。
(1)金属担持用調合液の調製
金属前駆体として水酸化ロジウム(III)0.50gをイオン交換水50mLに添加して撹拌した後、有機化合物として、メルカプト基及びカルボキシル基を有するDL−メルカプトコハク酸を、金属前駆体:有機化合物のモル比が1:12になるように添加して、70℃において4時間撹拌することにより、Rh担持用調合液を調製した。得られた調合液のpHは2.4であった。この調合液について動的光散乱(DLS)光度計によって求めた金属前駆体粒子の粒径(D50)は、2.0nmであった。
上記で得られた金属担持用調合液を試料として、以下の条件にてXPS分析を行った。得られたXPSチャートを図3に示す。図3には、DL−メルカプトコハク酸を試料として得られたXPSチャートも併記した。
測定装置:ULVAC−PHI,Inc.製、「PHOI5000Versa−Probe II」
X線:Monochromated Al Kα
光学系条件:下記表1参照
エネルギー軸補正:Al2p(74.1eV)
解析ソフトウエア:ULVAC−PHI,Inc.製、「Multipak」
アルミナ粉末(平均粒径:20μm)と、アルミナ粉末に対して金属換算で4質量%相当の金属原子を含む金属担持用調合液とを混合し、空気中、110℃において8時間加熱して乾燥することにより、焼成前の金属(Rh)担持アルミナ触媒を調製した。
上記で得られたRh担持アルミナ触媒を試料として、以下の条件にて、二次粒子の表面から中心に向かって、STEM−EDXのライン分析を行った。Rhカウントの累積値が全体の80%となる深さは、触媒表面から0.3867μm(約400nm)の深さであった。得られたEDSチャートを図4に示す。
STEM測定装置:日本電子(株)製、「JEM−ARM200F」
加速電圧:200kV
EDX分析装置:日本電子(株)製、「JED−2300T」
ライン分析範囲(深さ方向):0〜8.5μm
金属前駆体及び有機化合物の種類及び量を、それぞれ、表2に記載のとおりとした他は、実験例1と同様にして金属担持用調合液を調製し、これを用いて焼成前の金属担持アルミナ触媒を調製し、STEM−EDX分析を行った。結果を表2に示す。また、比較調製例1及び比較調製例2の焼成前の金属担持アルミナ触媒について得られたEDSチャートを、図5及び図6にそれぞれ示す。
Rh(OH)3:水酸化ロジウム(III)
Pt(NO2)2(NH3)2:ジニトロジアミン白金(II)
Co(OH)2:水酸化コバルト(II)
Pd(OH)2:水酸化パラジウム(II)
Fe(OH)2:水酸化鉄(II)
Cu(OH)2:水酸化銅(II)
Ni(OH)2:水酸化ニッケル(II)
Rh(NO3)3:硝酸ロジウム(III)
DL−MSA:DL−メルカプトコハク酸
L−Cys:L−システイン
TMAH:水酸化テトラメチルアンモニウム
(5)排ガス浄化触媒装置の製造
(5−1)触媒コート層(上層)形成用塗工液の調製
調製例1で得た焼成前のRh担持アルミナ触媒(Rh/AlO)(粒径20μmに分級したもの)50質量部と、セリア−ジルコニア複合酸化物(CeO2:ZrO2=1:1(質量比)、粒径20μm)の粒子50質量部とを、イオン交換水中に分散して、触媒コート層(上層)形成用塗工液を調製した。
容量約1Lのハニカム基材上に、Pd担持アルミナ触媒50質量%とセリア−ジルコニア複合酸化物(CeO2:ZrO2=1:1(質量比))の粒子50質量%とを含む触媒コート層(下層)を形成した。下層中のPdの担持量は、Pd金属換算で0.4g/L−基材であった。
上記で得られた下層を有する基材上に、触媒コート層(上層)形成用塗工液を塗布し、400℃にて2時間焼成することにより、基材上に下層及び上層を有する排ガス浄化触媒装置を製造した。この排ガス浄化触媒装置の上層中のRhの担持量は、Rh金属換算で0.2g/L−基材であった。
(6−1)耐久
得られた排ガス浄化触媒装置をV型8気筒エンジンの排気系に装着し、触媒コート層の温度を900℃に設定し、ストイキ雰囲気及びリーン雰囲気の排ガスを一定時間ずつ交互に繰り返して流す方法により、40時間の耐久を行った。各排ガスの繰り返しごとの流通時間は、ストイキ雰囲気の排ガス8秒間、及びリーン雰囲気の排ガス3秒間とした。
耐久後の排ガス浄化触媒装置をL4エンジンの排気系に装着して、排ガスの浄化能を評価した。具体的には、排ガス浄化触媒装置に対して、SV=14万h−1かつGa=40g/秒の排ガスを供給し、炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、及び窒素酸化物(NOx)の浄化率がそれぞれ50%に到達する温度(50%到達温度)T50を調べた。評価結果は表3に示す。
調製例1で得たRh担持アルミナ触媒の代わりに比較調製例1で得たRh担持アルミナ触媒(Rh/AlO)を使用した他は、実施例1と同様にして排ガス浄化触媒装置を製造し、その排ガス浄化能を評価した。評価結果は表3に示す。
10 二次粒子
20 触媒金属の粒子
100、200 排ガス浄化触媒
Claims (11)
- 無機酸化物の二次粒子に触媒金属の粒子が担持された排ガス浄化触媒であって、
前記二次粒子の表面から中心に向かって、走査透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線のライン分析を行ったときに、前記二次粒子の表面側の触媒金属の担持密度が、前記二次粒子の中心部の触媒金属の担持密度よりも高い、
排ガス浄化触媒。 - 前記二次粒子の平均粒径が1.5μmを超え、
前記触媒金属のうちの80%以上が、前記二次粒子の表面から600nmまでの範囲に担持されている、
請求項1に記載の排ガス浄化触媒。 - 前記二次粒子の平均粒径が1.0μmを超え、
前記触媒金属のうちの80%以上が、前記二次粒子の表面から400nmまでの範囲に担持されている、
請求項1に記載の排ガス浄化触媒。 - 前記触媒金属が、白金族、銅族、及び鉄族から選択される1種以上の金属である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒。
- 前記無機酸化物が、アルミナ、セリア、及びジルコニアから選択される1種以上を含む酸化物である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒。
- 基材と、基材上の触媒コート層とを含み、
前記触媒コート層が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒を含む、
排ガス浄化触媒装置。 - 担体粒子を金属担持用調合液に浸漬させること、及び
塗工液に浸漬させた後の担体粒子を焼成すること
を含み、
前記担体粒子が無機酸化物の二次粒子から構成され、かつ、
前記金属担持用調合液が、金属前駆体と、メルカプト基及びカルボキシル基を有する有機化合物とから構成される前駆体粒子を含む、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒の製造方法。 - 前記有機化合物が、チオグリコール酸、チオ乳酸、2−メルカプトコハク酸、2,3−ジメルカプトコハク酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、ペニシラミン、及びチオサリチル酸から選択される1種以上である、請求項7に記載の方法。
- 前記金属担持用調合液中の前記有機化合物の配合量が、前記金属前駆体1モルに対して、1モル以上50モル以下である、請求項7又は8に記載の方法。
- 前記前駆体粒子が、前記金属前駆体中の金属原子に、前記有機化合物が有するメルカプト基中の硫黄原子が配位して形成されたものである、請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記前駆体粒子の平均粒子径が、動的光散乱光度計によって求めたメジアン径として、0.7nm以上10.0nm以下である、請求項7〜10のいずれか一項に記載の方法。
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