JPWO2019106962A1 - レーザ脱離イオン化法及び質量分析方法 - Google Patents
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Abstract
Description
最初に、第1実施形態〜第4実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法に用いられる試料支持体について説明する。図1及び図2に示されるように、試料支持体1は、基板2と、フレーム3と、導電層4と、を備えている。基板2は、互いに対向する第1表面2a及び第2表面2bを有している。基板2には、複数の貫通孔2cが一様に(均一な分布で)形成されている。各貫通孔2cは、基板2の厚さ方向(第1表面2a及び第2表面2bに垂直な方向)に沿って延在しており、第1表面2a及び第2表面2bに開口している。
次に、第2実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法について説明する。第2実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法は、試料及び溶媒が複数の貫通孔2cに導入される第2工程において、スライドグラス6の載置面6aに試料支持体1が載置された後に、試料支持体1に対して混合液80が滴下される点で、第1実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と主に相違している。第2実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法のその他は、第1実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と同様であるため、詳細な説明については省略する。図8及び図9においては、試料支持体1における貫通孔2c、導電層4及び接着層5の図示が省略されている。また、図1及び図2に示される試料支持体1と図8及び図9に示される試料支持体1とでは、図示の便宜上、寸法の比率等が異なっている。
次に、第3実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法について説明する。第3実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法は、第2工程において、試料及び溶媒が混合液として試料支持体1の貫通孔2cに導入されない点で、第1実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と主に相違している。第3実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法のその他は、第1実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と同様であるため、詳細な説明については省略する。図10〜図12においては、試料支持体1における貫通孔2c、導電層4及び接着層5の図示が省略されている。また、図1及び図2に示される試料支持体1と図10〜図12に示される試料支持体1とでは、図示の便宜上、寸法の比率等が異なっている。
次に、第4実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法について説明する。第4実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法は、第2工程において、試料支持体1の貫通孔2cに溶媒81が導入された後に、溶媒81が導入された試料支持体1が試料S上に配置される点で、第3実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と主に相違している。第4実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法のその他は、第3実施形態のレーザ脱離イオン化法及び質量分析方法と同様であるため、詳細な説明については省略する。図13及び図14においては、試料支持体1における貫通孔2c、導電層4及び接着層5の図示が省略されている。また、図1及び図2に示される試料支持体1と図13及び図14に示される試料支持体1とでは、図示の便宜上、寸法の比率等が異なっている。
Claims (13)
- 互いに対向する第1表面及び第2表面に開口する複数の貫通孔が形成された基板と、少なくとも前記第1表面に設けられた導電層と、を備える試料支持体が用意される第1工程と、
試料、及び真空中で難揮発性を有する溶媒が前記複数の貫通孔に導入される第2工程と、
前記導電層に電圧が印加されつつ前記第1表面に対してレーザ光が照射されることにより、前記試料の成分がイオン化される第3工程と、を備えるレーザ脱離イオン化法。 - 前記第2工程においては、前記試料と前記溶媒との混合液が載置部の載置面に滴下され、前記混合液に前記第2表面が接触するように前記混合液上に前記試料支持体が配置され、
前記第3工程においては、前記導電層に前記電圧が印加されつつ前記第1表面に対して前記レーザ光が照射されることにより、前記第2表面側から前記貫通孔を介して前記第1表面側に移動した前記混合液中の前記試料の成分がイオン化される、請求項1に記載のレーザ脱離イオン化法。 - 前記第2工程においては、載置部の載置面に前記第2表面が対向するように前記載置面上に前記試料支持体が載置され、前記第1表面側から前記複数の貫通孔に対して前記試料と前記溶媒との混合液が滴下され、
前記第3工程においては、前記導電層に前記電圧が印加されつつ前記第1表面に対して前記レーザ光が照射されることにより、前記第1表面側に留まっている前記混合液中の前記試料の成分がイオン化される、請求項1に記載のレーザ脱離イオン化法。 - 前記第2工程においては、前記試料が載置部の載置面に載置され、前記試料に前記第2表面が接触するように前記試料上に前記試料支持体が配置された後、前記溶媒が前記複数の貫通孔に導入され、
前記第3工程においては、前記載置部と前記試料支持体との間に前記試料が配置された状態で、前記導電層に前記電圧が印加されつつ前記第1表面に対して前記レーザ光が照射されることにより、前記溶媒と混合すると共に前記第2表面側から前記貫通孔を介して前記第1表面側に移動した前記試料の成分がイオン化される、請求項1に記載のレーザ脱離イオン化法。 - 前記第2工程においては、前記溶媒が前記複数の貫通孔に導入され、前記試料が載置部の載置面に載置された後、前記試料に前記第2表面が接触するように前記試料上に前記試料支持体が配置され、
前記第3工程においては、前記載置部と前記試料支持体との間に前記試料が配置された状態で、前記導電層に前記電圧が印加されつつ前記第1表面に対して前記レーザ光が照射されることにより、前記溶媒と混合すると共に前記第2表面側から前記貫通孔を介して前記第1表面側に移動した前記試料の成分がイオン化される、請求項1に記載のレーザ脱離イオン化法。 - 前記第2工程においては、前記溶媒が前記第1表面側から前記複数の貫通孔に対して滴下される、請求項4に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 前記第2工程においては、前記溶媒が前記第1表面側又は前記第2表面側から前記複数の貫通孔に対して滴下される、請求項5に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 前記第2工程においては、前記試料支持体が前記溶媒に浸漬される、請求項5に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 前記第2工程においては、前記溶媒が加熱されて蒸発した状態で前記複数の貫通孔に導入される、請求項5に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 前記試料は、乾燥試料である、請求項4〜9の何れか一項に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 導電性を有し、互いに対向する第1表面及び第2表面に開口する複数の貫通孔が形成された基板を備える試料支持体が用意される第1工程と、
試料、及び真空中で難揮発性を有する溶媒が前記複数の貫通孔に導入される第2工程と、
前記基板に電圧が印加されつつ前記第1表面に対してレーザ光が照射されることにより、前記試料の成分がイオン化される第3工程と、を備えるレーザ脱離イオン化法。 - 前記溶媒は、グリセリン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ニトロベンジルアルコール、ニトロフェニルオクチルエーテル、チオグリセロール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、流動パラフィン、スルホラン、ジチオトレイトール、ジチオトレイトールとチオグリセロールとの混合物、ジチオトレイトールとニトロベンジルアルコールとの混合物、及びジチオトレイトールとジチオエリスリトールとの混合物から選択される少なくとも一つである、請求項1〜11の何れか一項に記載のレーザ脱離イオン化法。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載のレーザ脱離イオン化法の各工程と、
前記第3工程においてイオン化された前記成分が検出される第4工程と、を備える質量分析方法。
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