JPWO2019093334A1

JPWO2019093334A1 - 靭性を向上させた歯科用製品

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Publication number: JPWO2019093334A1
Application number: JP2019552815A
Authority: JP
Inventors: 祐大田嶋; 肇男榊原; 坂　清子; 清子坂
Original assignee: Kuraray Noritake Dental Inc
Current assignee: Kuraray Noritake Dental Inc
Priority date: 2017-11-07
Filing date: 2018-11-06
Publication date: 2020-11-19
Anticipated expiration: 2038-11-06
Also published as: CN111295172A; US20210169747A1; EP3708138A4; US11813341B2; WO2019093334A1; KR20200086265A; KR102651210B1; EP3708138A1; JP7319925B2

Abstract

本発明は、高い審美性を有しつつ、破壊靭性が向上し、陶材層のチッピング及びクラックの発生が抑制された、ジルコニア焼結体からなる基材を含む歯科用製品及びその製造方法を提供する。本発明は、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む歯科用製品であって、前記陶材の適正焼成温度が９００℃以上であり、且つ前記陶材層の破壊靭性値が１．２０ＭＰａ・ｍ０．５以上の歯科用製品に関する。

Description

本発明はジルコニア焼結体からなる歯科用製品及びその製造方法に関する。

従来、歯科用製品（例えば、代表的な被覆冠、歯冠、クラウン、差し歯等の補綴物や歯列矯正用製品、歯科インプラント用製品）としては、金属がよく用いられていた。しかしながら、金属は天然歯と色が明確に異なり、審美性に欠けるという欠点を有すると共に、金属の溶出によるアレルギーを発症することもあった。そこで、金属の使用に伴う問題を解決するため、金属の代替材料として、酸化アルミニウム（アルミナ）や酸化ジルコニウム（ジルコニア）等のセラミックス材料が歯科用製品に用いられてきている。特に、ジルコニアは、強度において優れ、審美性も比較的優れるため、特に近年の低価格化も相まって需要が高まっている。

一方、口腔内の審美性をより高めるためには、歯科用製品の外観を天然歯の外観に似せる必要がある。しかしながら、ジルコニア（焼結体）自体で、天然歯と同様の外観（特に透明度、光沢（艶））を再現することは困難である。そこで、ジルコニアを露出させるのではなく、ジルコニアで形成された基材の露出面に、陶材と呼ばれるセラミックス材料を焼き付けて、天然歯と同様の外観を再現しようとする歯科用補綴物、天然歯列との調和のとれた外観を再現した歯列矯正用製品及び歯科インプラント用製品などの歯科用製品が用いられている。このような歯科用製品として、例えば、特許文献１、２が提案されている。

国際公開２０１４／０３４７３６号特開２０１７−１２２０６４号公報

ジルコニア焼結体を前述の歯科用製品に用いた場合、ジルコニア焼結体からなる基材自体は高い破壊靭性を有する。しかしながら、ジルコニアと陶材の界面で陶材が破折又は脱落することがあり、ジルコニアと陶材を含む複合材料としては、破壊靭性が低い場合があった。

上記課題に対して、特許文献１には、ジルコニア粉末と高溶陶材とを所定の割合で混合し真空中にて放電プラズマ焼結を行なうことで、ジルコニア−陶材複合材料の基材を得る方法が開示されている。しかしながら、この方法では陶材が混合されているため、陶材がジルコニアの焼成過程にて結晶の粒成長を妨げ、ジルコニア結晶の隙間に陶材が存在することで、繰り返しの咀嚼行為に対して陶材にチッピング（いわゆる、欠け）又はクラックが発生することがある。さらに、陶材がジルコニア中に混合されていることで、ジルコニアの焼成過程にて結晶の粒成長を妨げられ、ジルコニア結晶粒界に陶材が存在することで、焼成後に得られる複合材料は不透明で白濁した外観になり、天然歯の外観に似せるべき審美性が得られないことが容易に想像できる。なお且つ、真空中での放電プラズマ焼結という特殊な条件下での焼成を行うため装置として特殊なものが必要であるという課題があった。

また、特許文献２には、陶材中の組成を調整し破壊靭性値を向上させた歯科用製品について記載されている。しかしながら、この陶材では、適正焼成温度が低いことに起因して、チッピング等が発生するおそれがあり、咀嚼運動による陶材層のチッピング、クラック又は剥離に対する耐性について改善の余地があった。

以上のことから、本発明は、高い審美性を有しつつ、破壊靭性が向上し、陶材層のチッピング及びクラックの発生が抑制された、ジルコニア焼結体からなる基材を含む歯科用製品及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定範囲の適正焼成温度を有する陶材層を用いること、又は特定範囲の温度にて前記陶材を焼成することによって、上記課題を解決できることを見出し、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下の発明に関する。
［１］ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む歯科用製品であって、前記陶材の適正焼成温度が９００℃以上であり、且つ前記陶材層の破壊靭性値が１．２０ＭＰａ・ｍ^０．５以上である、歯科用製品；
［２］前記陶材層の厚さが１０〜５００μｍである、前記［１］に記載の歯科用製品；
［３］前記ジルコニア焼結体からなる基材が安定化剤を含む、前記［１］又は［２］に記載の歯科用製品；
［４］前記安定化剤が、酸化イットリウム、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化ランタン、酸化エルビウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム及び酸化ツリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種である、前記［３］に記載の歯科用製品；
［５］前記陶材の適正焼成温度が１１００℃以上である、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の歯科用製品；
［６］以下の関係式を満たす、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の歯科用製品；
０＜｛（前記陶材の熱膨張係数）／（前記ジルコニア焼結体の熱膨張係数）｝＜１．０
［７］以下の関係式を満たす、前記［６］に記載の歯科用製品；
１．０×１０^−６Ｋ^−１≦（前記ジルコニア焼結体の熱膨張係数）−（前記陶材の熱膨張係数）≦４．５×１０^−６Ｋ^−１
［８］ジルコニア焼結体上に陶材層を成形し、１３５０℃以上の温度にて焼成する工程を含む、前記［１］〜［７］のいずれかに記載の歯科用製品の製造方法；
［９］ジルコニア仮焼体上に陶材層を成形し、前記ジルコニア仮焼体の適正焼成温度以上の温度にて、ジルコニア仮焼体を焼成し且つ陶材を焼成する工程を含む、［１］〜［７］のいずれかに記載の歯科用製品の製造方法；
［１０］歯科用補綴物、歯列矯正用製品、及び歯科インプラント用製品からなる群から選ばれる少なくとも１種である、［１］〜［７］のいずれかに記載の歯科用製品；

本発明は、高い審美性を有しつつ、破壊靭性が向上し、陶材層のチッピング及びクラックの発生が抑制された、ジルコニア焼結体からなる基材を含む歯科用製品及びその製造方法を提供することができる。これにより、高い審美性を持ちながら、耐チッピング性及び耐クラック性に優れた歯科用補綴物、歯列矯正用製品、歯科インプラント用製品を提供することができる。また、本発明の歯科用製品では、基材中に陶材の混合はないため、繰り返しの咀嚼行為に対して陶材にチッピング（いわゆる、欠け）又はクラックが発生することがない。

本発明の歯科用製品の製造方法の概要を示す模式図である。本発明の陶材の適正焼成温度の判断に関する陶材の外観の写真である。本発明のジルコニア仮焼体の適正焼成温度の判断に関するジルコニア仮焼体の外観の写真である。

本発明の歯科用製品は、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む歯科用製品であって、前記陶材の適正焼成温度が９００℃以上であり、且つ前記陶材層の破壊靭性値が１．２０ＭＰａ・ｍ^０．５以上であることを特徴とする。

まず、ジルコニア焼結体からなる基材について説明する。前記基材は、ジルコニア（ＺｒＯ₂；酸化ジルコニウム）を主成分（一番多い成分）とし、目的とする歯科用製品に応じて成形し、ジルコニアを焼成させたものを指す。例えば歯科用補綴物又は歯科インプラント用製品であれば、ジルコニア粉末を公知の技術をもってプレス成形をして得られたディスク又はブロックなどから作製することができる。

前記基材は、歯科用製品として繰り返しの咀嚼運動に耐えるだけの耐チッピング性、及び耐クラック性や、曲げ強度を必要とする点から、安定化剤を含むことが好ましい。すなわち、焼成前のジルコニアに安定化剤を含ませることが好ましい。これにより、基材となるジルコニア焼結体が、好ましくは、部分安定化ジルコニア及び完全安定化ジルコニアの少なくとも一方をマトリックス相として有することができる。前記ジルコニア焼結体において、ジルコニアの主たる結晶相は正方晶及び立方晶の少なくとも一方であり、正方晶及び立方晶の両方を含有してもよい。また、前記ジルコニア焼結体は単斜晶を実質的に含有しないものが好ましい。実質的に単斜晶を含有しないとは、ジルコニア焼結体における単斜晶の含有量が５．０質量％未満であり、好ましくは１．０質量％未満である。なお、安定化剤を添加して部分的に安定化させたジルコニアは、部分安定化ジルコニア（ＰＳＺ；Partially Stabilized Zirconia）と呼ばれ、完全に安定化させたジルコニアは完全安定化ジルコニアと呼ばれている。

前記安定化剤としては、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）（以下、「イットリア」という。）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化カルシウム（カルシア；ＣａＯ）、酸化マグネシウム（マグネシア；ＭｇＯ）、酸化セリウム（セリア；ＣｅＯ_２）、酸化アルミニウム（アルミナ；Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化スカンジウム（Ｓｃ_２Ｏ_３）、酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）、酸化エルビウム（Ｅｒ_２Ｏ_３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ_６Ｏ_１１）、酸化サマリウム（Ｓｍ_２Ｏ_３）、酸化ユウロピウム（Ｅｕ_２Ｏ_３）及び酸化ツリウム（Ｔｍ_２Ｏ_３）からなる群から選ばれた酸化物の少なくとも１種であることが好ましい。特に、高い透光性と強度向上の点から、安定化剤としてはイットリアが好ましい。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

安定化剤がイットリアを含有する場合、イットリアの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、２〜８モル％が好ましく、３〜６モル％がより好ましい。この含有量であれば、単斜晶への相転移を抑制すると共に、ジルコニア焼結体の透明性を高めることができる。

安定化剤として酸化チタンを含有する場合、酸化チタンの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化カルシウムを含有する場合、酸化カルシウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、２〜１５モル％が好ましく、２．１〜１２モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化マグネシウムを含有する場合、酸化マグネシウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、２〜１２モル％が好ましく、２．１〜１０モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化セリウムを含有する場合、酸化セリウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、２〜１８モル％が好ましく、２．１〜１２モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化アルミニウムを含有する場合、酸化アルミニウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化スカンジウムを含有する場合、酸化スカンジウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化ランタンを含有する場合、酸化ランタンの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、１〜１０モル％が好ましく、２〜７モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化エルビウムを含有する場合、酸化エルビウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化プラセオジムを含有する場合、酸化プラセオジムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化サマリウムを含有する場合、酸化サマリウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化ユウロピウムを含有する場合、酸化ユウロピウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

安定化剤として酸化ツリウムを含有する場合、酸化ツリウムの含有量は、ジルコニアと安定化剤の合計１００モル％において、０．１〜１モル％が好ましく、０．１〜０．３モル％がより好ましい。

なお、ジルコニア焼結体中の安定化剤の含有量は、例えば、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Inductively Coupled Plasma）発光分光分析、蛍光Ｘ線分析等によって測定することができる。

前記基材の形状及び大きさ（寸法）は、用途、患者の口腔環境等に応じて適宜選択することができる。

次に、陶材について説明する。陶材とは、主に歯冠の作製に使用される焼き付け可能なセラミックス、ガラス、又はガラスセラミックス（結晶化ガラス）を主成分（一番多い成分）とする粉末材料を意味する。本発明の歯科用製品において、陶材は、ジルコニア焼結体からなる基材の少なくとも一部を被覆する陶材層として用いられる。

本発明における陶材は適正焼成温度が９００℃以上であり、好ましくは９５０℃以上であり、より好ましくは１０００℃以上であり、さらに好ましくは１０５０℃以上であり、特に好ましくは１１００℃以上であり、最も好ましくは１３００℃以上である。適正焼成温度が９００℃未満の場合は、後述の破壊靭性値が低くなり、チッピング又はクラックが発生する恐れがある。また、適正焼成温度が９００℃未満の陶材を使用すると、陶材層が白濁し、審美性において著しく劣る歯科用製品となる恐れがある。適正焼成温度の上限は特に限定されないが、例えば１６００℃以下が好ましい。該陶材の適正焼成温度は、後述する陶材の構成成分の組成により調整することができる。なお、本明細書における陶材の適正焼成温度は、実施例に記載の方法により測定できる。

前記陶材は、以下の方法にて製造される。まず、所望の組成を有するように、Ｓｉ元素、Ａｌ元素、Ｌｉ元素、Ｎａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素、Ｍｇ元素、Ｂａ元素、Ｚｎ元素、Ｂ元素、Ｃｅ元素、及びＦ元素等を含有する各化合物を混合して原料混合物を作製する。例えば、陶材を製造するための原料混合物は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２等の酸化物や、加熱分解してＦ_２を生成する化合物（例えばＡｌＦ_３又はＢａＦ_２）等を含有すると好ましい。

なお、陶材の原料混合物の組成は、上記化合物に限定されることはなく、目的の組成が得られるのであれば、各元素の炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、フッ化物等を使用することができ、原料混合物の質量組成は、使用する化合物に応じて適宜変更できる。原料混合物は、例えば、ボールミルを用いて各化合物を混合することにより得られる。

次に、前記した原料混合物（組成物）を加熱して熔解する。得られた熔融体を冷却、カレット化し、さらにカレットをボールミルを用いて粉砕する。得られた粉砕物を例えば＃２００メッシュの篩を通過させ、ふるい分けする。以上の工程によって、本発明における陶材を作製することができる。なお、熔解する際の温度としては、例えば、１４００℃〜１６００℃程度とすることができる。熔解の時間としては、２〜６時間程度とすることができる。

本発明における陶材を構成する成分としては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、及びＣａＯを含むものが好ましい。前記陶材中のＳｉＯ_２の含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、６５．０〜９０．０モル％が好ましく、６７．０〜８９．５モル％がより好ましく、６９．８〜８８．７モル％がさらに好ましい。前記陶材中のＡｌ_２Ｏ_３の含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、４．０〜１５．０モル％が好ましく、５．６〜１４．５モル％がより好ましく、５．７〜１２．７モル％がさらに好ましい。前記陶材中のＮａ_２Ｏの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．１〜１０．０モル％が好ましく、１．０〜７．０モル％がより好ましく、１．７〜３．８モル％がさらに好ましい。前記陶材中のＫ_２Ｏの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、１．０〜１０．０モル％が好ましく、２．５〜９．５モル％がより好ましく、３．６〜８．３モル％がさらに好ましい。前記陶材中のＣａＯの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０１〜１５．０モル％が好ましく、０．０５〜１３．５モル％がより好ましく、０．１〜１２．２モル％がさらに好ましい。各構成成分の含有量を前記範囲内で調整することで、陶材の適正焼成温度を適切な範囲とすることができる。なお、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣａＯは陶材の適正焼成温度を上昇させる傾向を有し、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏは陶材の適正焼成温度を降下させる傾向を有する。

また、本発明の陶材は、高い審美性を有しつつ、破壊靭性を向上させ、陶材層のチッピング及びクラックの発生を抑制できる点から、Ｋ_２Ｏの含有量（モル数）がＮａ_２Ｏの含有量（モル数）より多いことが好ましい。具体的には、本発明の陶材は、１．０＜｛（Ｋ_２Ｏのモル数）／（Ｎａ_２Ｏのモル数）｝を満たすことが好ましく、１．５＜｛（Ｋ_２Ｏのモル数）／（Ｎａ_２Ｏのモル数）｝を満たすことがより好ましく、２．０＜｛（Ｋ_２Ｏのモル数）／（Ｎａ_２Ｏのモル数）｝を満たすことがさらに好ましい。｛（Ｋ_２Ｏのモル数）／（Ｎａ_２Ｏのモル数）｝の値、すなわち、Ｋ_２ＯとＮａ_２Ｏのモル比の上限値は、特に限定されず、１００未満であってもよく、５０未満であってもよく、３０未満であってもよい。

また、本発明における陶材を構成する成分としては、Ｌｉ_２Ｏ、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２及びＦ_２からなる群から選ばれる少なくとも１種の成分をさらに含んでいてもよく、実質的に含まないものであってもよい。前記陶材中のＬｉ_２Ｏの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。ＭｇＯの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。ＢａＯの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。ＺｎＯの含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。Ｂ_２Ｏ_３の含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。一方で、本発明における陶材は、適正焼成温度の低下を抑制する点から、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないものが好ましい。ＣｅＯ_２の含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜３．５モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．２〜２．０モル％がさらに好ましい。Ｆ_２の含有量としては、各構成成分の合計１００モル％において、例えば、０．０〜５．０モル％が好ましく、０．１〜３．０モル％がより好ましく、０．１５〜２．５モル％がさらに好ましい。また、本発明の陶材は、ＳｒＯを含んでいてもよい。さらに、本発明における陶材は、各構成成分の合計１００モル％において、ＺｒＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２等の微量成分を０．１〜３．０モル％程度含んでいてもよく、実質的に含まないものであってもよい。なお、本明細書において、ある成分を「実質的に含まない」とは、該成分の含有量が０．１モル％未満、好ましくは０．０５モル％未満、特に好ましくは０．０１モル％未満であることを示す用語として使用する。

本発明における陶材層は前記陶材を主成分（一番多い成分）とし、前記ジルコニア焼結体からなる基材の少なくとも一部を被覆する。

本発明の陶材層の厚さは、１０〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましい。陶材層の厚さが１０〜５００μｍの場合、部分的にジルコニア焼結体からなる基材自体が歯科用製品の表面に露出することなく、均一な光沢が得られ、天然歯と同様の外観、特に透明度、光沢（艶）を再現することができる。なお、陶材層の厚さは、焼成後の陶材に対してマイクロメーターを用いることで測定することができる。

本発明における陶材層の破壊靭性値は１．２０ＭＰａ・ｍ^０．５以上である。陶材層の破壊靭性値は、好ましくは１．２５ＭＰａ・ｍ^０．５以上であり、より好ましくは１．３０ＭＰａ・ｍ^０．５であり、さらに好ましくは１．３５ＭＰａ・ｍ^０．５である。前記陶材層の破壊靭性値が１．２０ＭＰａ・ｍ^０．５以上であることにより、陶材層のチッピング、クラック又は剥離に対して優れた耐性を持つ歯科用製品を得ることができる。本明細書における陶材層の破壊靭性値は実施例に記載の方法により測定できる。

本発明の歯科用製品において、基材であるジルコニア焼結体の熱膨張係数（以下、ＣＴＥともいう。）より陶材の熱膨張係数の方が低いことが好ましい。すなわち、｛（陶材の焼成後のＣＴＥ）／（ジルコニア焼結体のＣＴＥ）｝＜１．０であることが好ましい。本明細書における陶材及びジルコニア焼結体の熱膨張係数は、焼成後の陶材について、ＩＳＯ６８７２：２０１５に準拠して解析温度範囲を２５℃〜５００℃として測定することができ、詳細は後述する実施例に記載する。

前記ジルコニア焼結体の熱膨張係数と陶材の熱膨張係数の差は、１．０×１０^−６Ｋ^−１〜４．５×１０^−６Ｋ^−１であることが好ましく、１．５×１０^−６Ｋ^−１〜４．５×１０^−６Ｋ^−１であることがより好ましく、２．０×１０^−６Ｋ^−１〜３．５×１０^−６Ｋ^−１であることがさらに好ましい。前述したように、本発明ではジルコニア焼結体の熱膨張係数が陶材の焼成後の熱膨張係数より高いことが好ましく、前記熱膨張係数の差とは、通常、（ジルコニア焼結体の熱膨張係数）−（陶材の焼成後の熱膨張係数）を表す。陶材の適正焼成温度として前記所定範囲を選択する等の構成と共に、ジルコニア焼結体と陶材の焼成後の熱膨張係数の差を１．０×１０^−６Ｋ^−１〜４．５×１０^−６Ｋ^−１とすることにより、ジルコニア焼結体の少なくとも一部を被覆する陶材層に対して、熱膨張係数の差により発生する圧縮応力がかかり、破壊靭性をさらに向上することができ、チッピング又はクラックの発生も抑制することができる。

一方、ジルコニア焼結体の熱膨張係数と陶材の熱膨張係数の差が１．０×１０^−６Ｋ^−１以上であると破壊靭性の向上の効果はより大きくなる。また、前記熱膨張係数の差が４．５×１０^−６Ｋ^−１以下であるとジルコニア焼結体と陶材の双方に過剰な応力がかかることがなく、得られる歯科用製品におけるクラックの発生をより抑制できる。ジルコニア焼結体の熱膨張係数は、例えば、イットリア等の安定化剤の含有量により変化するが、通常、歯科用途で使用されるイットリア含有量が２〜８モル％のジルコニア焼結体の場合、その熱膨張係数は、１０×１０^−６Ｋ^−１前後である。

本発明の歯科用製品の製造方法として、以下の２つ：
（１）ジルコニア焼結体の上に陶材層を成形し、１３５０℃以上の温度にて焼成する工程を含む製造方法；
（２）ジルコニア仮焼体の上に陶材層を成形し、前記ジルコニア仮焼体の適正焼成温度以上の温度にて、ジルコニア仮焼体を焼成し且つ陶材を焼成する工程を含む製造方法、
が挙げられる。図１を参照しながら製造方法について説明する。

（１）の製造方法において、例えば、ジルコニア粉末（好適には、前述の安定化剤を含むジルコニア粉末）を、所定の圧力で成形処理し、得られたジルコニア成形体を仮焼し、得られたジルコニア仮焼体１を焼成し、ジルコニア焼結体２を得ることができる。ジルコニア仮焼体１を焼成する温度については特に限定されないが、例えば、１３００〜１６００℃程度が挙げられる。ジルコニア仮焼体を焼成する時間は、例えば、３０分〜８時間程度が挙げられる。前述のようにして得られたジルコニア焼結体２の上に陶材層３を成形し、１３５０℃以上の温度で陶材層３を焼成することが好ましい。１３５０℃以上の温度で焼成することにより、高い審美性を有しつつ、陶材層３のチッピング、クラック及び剥離に対する優れた耐性を持つ歯科用製品を得ることができる。陶材の焼成温度の上限は、本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、例えば、１６００℃以下である。陶材の焼成時間は、例えば、３０秒〜８時間程度が挙げられる。なお、前記ジルコニア仮焼体１としては、後述の市販のものを用いることもできる。また、ジルコニア成形体の仮焼、ジルコニア仮焼体の焼成及び陶材の焼成には公知の技術や装置を用いることができる。

（２）の製造方法において、ジルコニア仮焼体１は上述の（１）の製造方法と同様にジルコニア粉末から得ることもできるが、市販のものも用いることができる。具体的には、クラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＫＴ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＳＴＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＵＴＭＬ、株式会社ニッシン製「ベレッツァハイトランスジルコニア」などが挙げられる。前記ジルコニア仮焼体１の上に陶材層３を成形し、前記ジルコニア仮焼体１の適正焼成温度以上の温度でジルコニア仮焼体１を焼成し、且つ陶材を焼成することが好ましい。前記ジルコニア仮焼体１の適正焼成温度以上の温度でジルコニア仮焼体１の焼成と陶材層３の焼成を同時に行うことにより、高い審美性を有しつつ、陶材層のチッピング、クラック及び剥離に対する優れた耐性を持つ歯科用製品を得ることができる。なお、本明細書におけるジルコニア仮焼体の適正焼成温度は、実施例に記載の方法により測定することができる。ジルコニア仮焼体を焼成し、且つ陶材を焼成する温度の上限は特に限定されないが、例えば、１６００℃以下である。ジルコニア仮焼体を焼成し、且つ陶材を焼成する時間は、例えば、３０分〜８時間程度が挙げられる。なお、ジルコニア仮焼体の焼成及び陶材の焼成は公知の技術や装置を用いることができる。

前述の製造方法（１）及び（２）で用いるジルコニア仮焼体１の製造方法について、以下に一例を記す。まず、安定化剤を含むジルコニア原料顆粒を用意し、これをブロックやディスクなどの形状にプレス成形する。次に、得られたジルコニア成形体に必要に応じてＣＩＰ（Cold Isostatic Pressing；冷間静水等方圧プレス）処理を施す。この際の加圧力は、例えば５０〜５００ＭＰａである。次いで、仮焼処理を施す。仮焼処理としては、室温から緩やかに８００〜１２００℃まで昇温し、１〜６時間程度係留することでジルコニア仮焼体を得ることができる。得られたジルコニア仮焼体は、製造方法（１）及び（２）それぞれにおける適正な温度で最終焼成され、ジルコニア焼結体となる。本発明のジルコニア焼結体には、成形したジルコニア粒子を常圧下ないし非加圧下において焼成させた焼結体のみならず、ＨＩＰ（Hot Isostatic Pressing；熱間静水等方圧プレス）処理等の高温加圧処理によって緻密化させた焼結体も含まれる。

前述の（１）及び（２）の製造方法における陶材層の成形方法は、例えば、筆等を用いた塗布法、噴霧法、ディッピング法などがあるが特に限定されず、公知の方法を使用することができる。例えば、陶材（粉末）を溶媒に分散させてスラリーを作製し、該スラリーを、製造方法（１）ではジルコニア焼結体上、製造方法（２）ではジルコニア仮焼体上に塗布する方法を用いることができる。前記溶媒としては、水、有機溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、２−フェノキシエタノール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、グリセリン等が挙げられる。

本発明の歯科用製品は、歯科用補綴物、歯列矯正用製品、及び歯科インプラント用製品等として用いることができる。歯科用補綴物としては、例えば、クラウン、クラウンブリッジ、義歯床、インレー、オンレー、ラミネートベニア等が挙げられる。歯列矯正用製品としては、例えば、ブラケット等が挙げられる。歯科インプラント用製品としては、例えば、インプラント、インプラントブリッジ等が挙げられる。

本発明は、本発明の効果を奏する限り、本発明の技術的思想の範囲内において、上記の構成を種々組み合わせた態様を含む。

次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で多くの変形が当分野において通常の知識を有する者により可能である。

［製造例１〜５：陶材の作製］
各実施例及び比較例に用いる陶材の製造方法として、まず、表１に記載の組成を有するように、Ｓｉ元素、Ａｌ元素、Ｌｉ元素、Ｎａ元素、Ｋ元素、Ｃａ元素、Ｍｇ元素、Ｚｎ元素、Ｂ元素、Ｃｅ元素をそれぞれ含有する、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２を用いて、各化合物を混合し原料混合物とした。次に、得られた原料混合物（組成物）を加熱して熔融し、得られた熔融体を冷却したうえでカレット化し、さらに得られたカレットを、ボールミルを用いて粉砕した。その後、得られた粉砕物を＃２００メッシュの篩を通過させ、ふるい分けすることによって、粉末状の陶材を作製した。前記熔融温度は１５００℃とし、また、熔融時間は１２０分とした。

［陶材の適正焼成温度の評価］
まず、前述の製造例１〜５により得られた粉末状の陶材に対して、精製水を使用しスラリーを作製した。次に、各陶材のスラリーを直径約１３ｍｍ、厚さ約１．５ｍｍの金型に流し込み、乾燥させることで円柱状の固形物の試料を作製した。作製した固形物の試料をＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「セラフュージョンＢＸ」を使用して焼成を行った。円柱状の焼成後の各陶材の外観を、株式会社ハイロックス製「デジタルマイクロスコープＫＨ−７７００」を用いて観察した。焼成後の各陶材の表面の粗さと透明度に基づき、以下の基準により各陶材の適正焼成温度を決定した。図２の左側の陶材のように、表面が滑沢で、透明度が高く背景が透過する状態は、陶材が十分に焼成されているとみなすことができる。一方、図２の右側の陶材のように、表面が粗造で透明度の低い状態は、焼成不足と判断できる。本発明において、図２の左側の陶材のように十分に焼成されているとみなすことができる最低の温度を陶材の適正焼成温度と判断した。製造例１〜５における陶材の適正焼成温度を表１に示す。

［陶材の熱膨張係数の測定］
ＩＳＯ６８７２：２０１５に準拠して熱膨張係数を測定した。まず、前述の製造例１〜５により得られた粉末状の陶材に対して、精製水を使用しスラリーを作製した。次に、各スラリーを前記ＩＳＯ規格に従ったサイズの金型に流し込み、乾燥させることで角柱状試料を作製した。作製した角柱状試料をＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「セラフュージョンＢＸ」を使用して、表１に示す各適正焼成温度で１分間の条件の下で焼成を行った。焼成後の角柱状試料を前記ＩＳＯ規格に従い寸法調整をし、熱膨張係数測定の試料とした。熱膨張係数の解析温度範囲は２５℃〜５００℃とした。測定は、１０Ｋ／分の昇温させて行った。測定装置は、熱機械分析装置（商品名：ＴｈｅｒｍｏｐｌｕｓＴＭＡ８３１０、株式会社リガク製）を使用した。製造例１〜５における各陶材の熱膨張係数を表１に示す。

［ジルコニア仮焼体の適正焼成温度の評価］
ジルコニア仮焼体を、厚さが約１．５ｍｍの試料に切り出し、ＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「ノリタケカタナ（登録商標）Ｆ−１Ｎ」を使用して焼成を行った。試料の形状は、四角形でも円形でもよい。焼成後の厚さが約１．２ｍｍになるように、各ジルコニア仮焼体からなる試料を製造した。得られた試料の外観を目視にて観察し、試料の透明度に基づき以下の基準により各ジルコニア仮焼体の適正焼成温度を決定した。図３の左側の試料のように、透明度が高く背景が透過する状態は、ジルコニア仮焼体が十分に焼成されているとみなすことができる。一方、図３の右側の試料のように、透明度の低い状態あるいは白濁した状態は、焼成不足と判断できる。本発明において、図３の左側の試料のように十分に焼成されているとみなすことができる最低の温度をジルコニア仮焼体の適正焼成温度と判断した。本実施例及び比較例で用いたジルコニア仮焼体と、その適正焼成温度はそれぞれ、クラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＫＴ（適正焼成温度：１３７５℃）、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬ（適正焼成温度：１５００℃）、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＳＴＭＬ（適正焼成温度：１５５０℃）、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＵＴＭＬ（適正焼成温度：１５５０℃）、株式会社ニッシン製「ベレッツァハイトランスジルコニア」（適正焼成温度：１４５０℃）である。

［ジルコニア焼結体からなる基材の熱膨張係数の測定］
ジルコニア焼結体について、ＩＳＯ６８７２：２０１５に準拠して熱膨張係数を測定した。熱膨張係数の解析温度範囲は２５℃〜５００℃とした。以下に、試料の作製方法を説明する。ジルコニアの仮焼体として、ジルコニアディスクであるクラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＳＴＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＵＴＭＬ、及び株式会社ニッシン製「ベレッツァハイトランスジルコニア」、また、ジルコニアブロックであるクラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＫＴ（２０．０ｍｍ×４０．０ｍｍ×７５．０ｍｍ）を準備した。各ジルコニアの仮焼体をそれぞれの適正焼成温度で１２０分焼成してジルコニア焼結体を作製し、熱膨張係数測定の試料とした。熱膨張係数の測定は、上記した陶材の熱膨張係数の測定と同様に行った。測定結果を表２に示す。

［実施例１〜９及び比較例１〜５：陶材層の破壊靭性値の測定、及びチッピング発生有無の評価］
陶材層の破壊靭性値の測定は、本発明の歯科用製品に相当する、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む複合体の試料を作製して行った。まず、安定化剤としてイットリアを含有する市販製品のジルコニア仮焼体として、クラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬを用いて、平板状（縦：約２０ｍｍ、横：約２０ｍｍ、厚さ：約１．５ｍｍ）に切り出した。次に、ＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「ノリタケカタナ（登録商標）Ｆ−１Ｎ」を使用して室温より昇温し、各ジルコニア仮焼体の適正焼成温度で１２０分間焼成をして、各ジルコニア焼結体を作製した。次に、５０μｍのアルミナ粒子を用いて０．２ＭＰａの圧力で、得られたジルコニア焼結体の一方の面をサンドブラスト処理して、ジルコニア焼結体上に陶材層を形成するための前準備を行った。このサンドブラスト処理によって、処理面はつや消し状態となった。次に、アセトン中で基材を超音波洗浄した後、乾燥させた。

前記ジルコニア焼結体上に陶材層を成形するため、各製造例で得られた粉末状の陶材をスラリー化し、焼成後の厚さが「表２に記載の陶材厚さ＋１００μｍ以上」となるように該スラリーをジルコニア焼結体上に塗布し、表２に記載の通りの試験時焼成温度、及び試験時係留時間の条件で焼成した。次に、焼成した陶材層を表２に記載の厚さになるように寸法調整した後に、最終仕上げとして表面を２０００番のサンドペーパーで研磨処理し、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む複合体の試料を作製した。得られた試料を用いて、陶材層の破壊靭性値を、試験荷重を４９Ｎとして、ＪＩＳＲ１６０７：２０１５に準拠して圧子圧入法（ＩＦ法）によって測定した。陶材層の破壊靭性値を測定することにより、歯科用製品として十分な耐久性を有するかどうかを確認した。また、上記測定後の試料表面を目視にて観察し、チッピング発生の有無を評価した。結果を表２に示す。

［実施例１〜９及び比較例１〜５：審美性の評価、及びクラック発生有無の評価］
次に審美性及びクラック発生有無の評価用ジルコニア焼結体フレームを作製した。まず、印象材と呼ばれる型取り材を用い、支台歯、その対合歯及び支台歯周囲の歯列のメス型を採った。次に、そこへ石膏を流し込みオス型の石膏模型を作製し、支台歯、その対合歯及び支台歯周囲の歯列を再現した。次に、ワックスを用いて、石膏模型の支台歯上に、噛み合わせ、形状、寸法等を合わせたワックス冠を形成した。このワックス冠は、フレーム形成の基礎となるものである。次に、ワックス冠において、フレームに陶材を塗布する領域の表面を深さ約０．２ｍｍ削り落とした。次に、石膏模型の支台歯及びワックス冠を、クラレノリタケデンタル株式会社製「カタナ（登録商標）デンタルスキャナーＤ７５０」を用いて光学スキャンして、支台歯及びワックス冠のデジタル化した３次元データを得た。なお、本実施例では、石膏模型を光学スキャンしたが、口腔内スキャナにより直接口腔内を光学スキャンしてもよい。また、ワックス冠を用いずに、石膏模型を光学スキャンした後、３次元ＣＡＤソフトを用いて仮想的なフレーム形状に基づく３次元データを作製してもよい。

次に、ジルコニア仮焼体として、ジルコニアディスクである、クラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬを用いて、得られた前記３次元データに基づき、「ノリタケカタナ（登録商標）ＤＷＸ−５０Ｎ」により加工することで、各ジルコニア仮焼体からなるフレームを作製した。その後、それぞれの適正焼成温度で１２０分間焼成をして、ジルコニア焼結体フレームを作製した。次に、５０μｍのアルミナ粒子を用いて０．２ＭＰａの圧力でジルコニア焼結体の一方の面をサンドブラスト処理して、ジルコニア焼結体上に陶材層を形成するための前準備を行った。このサンドブラスト処理によって、処理面はつや消し状態となった。その後、アセトン中で基材を超音波洗浄した後、乾燥させた。

前記ジルコニア焼結体フレーム上に陶材層を成形するために、各製造例で得られた粉末状の陶材をスラリー化し、焼成後の厚さが「表２に記載の陶材厚さ＋１００μｍ以上」となるように該スラリーをジルコニア焼結体フレーム上に塗布し、ＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「ノリタケカタナ（登録商標）Ｆ−１Ｎ」を使用して、表２に記載の試験時焼成温度、及び試験時係留時間の条件で焼成し、試料を作製した。試料表面を目視にて観察し、審美性とクラック発生の有無を評価した。なお、審美性は、焼成後の試料に白濁が見られないものを「良好」、明確な白濁が見られるものを「不良」と判断した。結果を表２に示す。

[実施例１０〜１８及び比較例６〜７：陶材層の破壊靭性値の測定、及びチッピング発生有無の評価]
陶材層の破壊靭性値の測定は、本発明の歯科用製品に相当する、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む複合体の試料を作製して行った。まず、安定化剤としてイットリアを含有する市販製品のジルコニア仮焼体として、クラレノリタケデンタル株式会社製「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＫＴ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＨＴ／ＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＳＴＭＬ、「ノリタケカタナ（登録商標）ジルコニア」ＵＴＭＬ、及び株式会社ニッシン製「ベレッツァハイトランスジルコニア」を用いて、平板状（縦：約２０ｍｍ、横：約２０ｍｍ、厚さ：約１．５ｍｍ）に切り出した。切り出した各ジルコニア仮焼体上に、各製造例で得られた粉末状の陶材をスラリー化し、焼成後の厚さが「表２に記載の陶材厚さ＋１００μｍ以上」となるように該スラリーを塗布して陶材層を成形し、ＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「ノリタケカタナ（登録商標）Ｆ−１Ｎ」を使用して室温より昇温し、各ジルコニア仮焼体の適正焼成温度以上して表２に記載の温度で、いずれも１２０分間焼成をすることで、ジルコニア仮焼体を焼成させ、且つ陶材層も同時に焼成を行った。ジルコニア焼結体上で焼成した陶材層を表２に記載の厚さになるように寸法調整した後に、最終仕上げとして表面を２０００番のサンドペーパーで研磨処理し、ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む複合体の試料を作製した。得られた試料を用いて、陶材層の破壊靭性値を、試験荷重を４９Ｎとして、ＪＩＳＲ１６０７：２０１５に準拠して圧子圧入法（ＩＦ法）によって測定した。陶材層の破壊靭性値を測定することにより、歯科用製品として十分な耐久性を有するかどうかを確認した。また、上記測定後の試料表面を目視にて観察し、チッピング発生の有無を評価した。結果を表２に示す。

［実施例１０〜１８及び比較例６〜７：審美性及びクラック発生有無の評価］
審美性及びクラック発生有無の評価については、前述の実施例１〜９及び比較例１〜５の方法と同様にして、歯科用製品の下部構造となるジルコニア仮焼体のフレームを作製する。但し、この時点では焼成は行わず、該フレーム上に、各製造例で得られた粉末状の陶材をスラリー化し、焼成後の厚さが「表２に記載の陶材厚さ＋１００μｍ以上」となるように該スラリーをジルコニア仮焼体のフレーム上に塗布した。その後、ＳＫメディカル電子株式会社製の焼成炉「ノリタケカタナ（登録商標）Ｆ−１Ｎ」を使用して、表２に記載の試験時焼成温度、及び試験時係留時間の条件で、ジルコニア仮焼体を焼成し、且つ陶材層を焼成し、試料を作製した。試料表面を目視にて観察し、審美性とクラック発生の有無を評価した。なお、審美性は、焼成後の試料に白濁が見られないものを「良好」、明確な白濁が見られるものを「不良」と判断した。結果を表２に示す。

実施例１〜９によれば、焼成時の係留時間に関わらず、ジルコニア焼結体上に陶材層を成形し、１３５０℃以上の温度にて該陶材層を焼成することで、１．３８〜２．５３ＭＰａ・ｍ^０．５と良好な破壊靭性値と審美性を持ち、且つチッピングもクラックも発生しない歯科用製品を得ることができた。

実施例１０〜１５によれば、ジルコニア仮焼体の適正焼成温度の違いに関わらず、ジルコニア仮焼体の適正焼成温度以上の温度で、ジルコニア仮焼体の焼成と、ジルコニア仮焼体の上に成形された陶材層の焼成を同時に行うことで、１．２５〜２．６７ＭＰａ・ｍ^０．５と良好な破壊靭性値と審美性を持ち、且つチッピングもクラックも発生しない歯科用製品を得ることができた。

実施例１６〜１８によれば、ジルコニア仮焼体の焼成と、ジルコニア仮焼体の上に成形される陶材層の焼成とを同時に行う歯科用製品の製造方法において、前記陶材層の適正焼成温度が１２００〜１４５０℃の範囲の陶材を用いることで、１．９７〜２．６７ＭＰａ・ｍ^０．５と良好な破壊靭性値と審美性を持ち、且つチッピングもクラックも発生しない歯科用製品を得ることができた。

比較例１において、試験陶材層のクラックの発生や白濁の審美不良は見られなかったものの、陶材層の破壊靭性値は低く、且つ陶材層にチッピングの発生を確認したため、歯科用製品として不適である。

比較例２において、試験陶材層のクラックの発生は見られなかったものの、白濁の審美不良が見られた。また、陶材層の破壊靭性値は非常に低く、且つ陶材層にチッピングの発生を確認したため、歯科用製品として不適である。

比較例３〜４においては、試験陶材層のクラックの発生はなかったが、白濁の審美不良が見られた。また、チッピング発生は確認されなかったものの、陶材層の破壊靭性値が低いため、歯科用製品として不適である。

特許文献２（特開２０１７−１２２０６４号公報）に相当する製造例５を用いた比較例５において、試験陶材層にクラックの発生はなかったが、白濁の審美不良が見られた。また、陶材層において破壊靭性値の測定ができないほど顕著なチッピングの発生を確認したため、歯科用製品として不適である。

比較例６において、陶材層のチッピング発生が確認されず、陶材層の破壊靭性値は良好な値を示したものの、試験後の歯科用製品に白濁の審美不良が見られ、且つ陶材層にクラックの発生が確認されたため、歯科用製品として不適である。

特許文献２（特開２０１７−１２２０６４号公報）に相当する製造例５を用いた比較例７において、試験陶材層にクラックの発生及び破折が確認され、白濁の審美不良も見られた。また、陶材層に破壊靭性値の測定ができないほど顕著なチッピングの発生を確認したため、歯科用製品として不適である。

本発明の歯科用製品は、高い審美性を有し、陶材層の破壊靭性が高く、耐チッピング性、耐剥離性、耐クラック性に優れるため、歯科用補綴物、歯列矯正用製品、及び歯科インプラント用製品からなる群から選ばれた少なくとも１種として用いることができる。

１ジルコニア仮焼体
２ジルコニア焼結体
３陶材層

Claims

ジルコニア焼結体からなる基材と陶材層を含む歯科用製品であって、前記陶材の適正焼成温度が９００℃以上であり、且つ前記陶材層の破壊靭性値が１．２０ＭＰａ・ｍ^０．５以上である、歯科用製品。
前記陶材層の厚さが１０〜５００μｍである、請求項１に記載の歯科用製品。
前記ジルコニア焼結体からなる基材が安定化剤を含む、請求項１又は２に記載の歯科用製品。
前記安定化剤が、酸化イットリウム、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化ランタン、酸化エルビウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム及び酸化ツリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項３に記載の歯科用製品。
前記陶材の適正焼成温度が１１００℃以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の歯科用製品。
以下の関係式を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載の歯科用製品。
０＜｛（前記陶材の熱膨張係数）／（前記ジルコニア焼結体の熱膨張係数）｝＜１．０
以下の関係式を満たす、請求項６に記載の歯科用製品。
１．０×１０^−６Ｋ^−１≦（前記ジルコニア焼結体の熱膨張係数）−（前記陶材の熱膨張係数）≦４．５×１０^−６Ｋ^−１
ジルコニア焼結体上に陶材層を成形し、１３５０℃以上の温度にて焼成する工程を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の歯科用製品の製造方法。
ジルコニア仮焼体上に陶材層を成形し、前記ジルコニア仮焼体の適正焼成温度以上の温度にて、ジルコニア仮焼体を焼成し且つ陶材を焼成する工程を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の歯科用製品の製造方法。
歯科用補綴物、歯列矯正用製品、及び歯科インプラント用製品からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の歯科用製品。