JPWO2019092833A1 - 光学素子及びレーザ照射装置 - Google Patents

光学素子及びレーザ照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2019092833A1
JPWO2019092833A1 JP2018544137A JP2018544137A JPWO2019092833A1 JP WO2019092833 A1 JPWO2019092833 A1 JP WO2019092833A1 JP 2018544137 A JP2018544137 A JP 2018544137A JP 2018544137 A JP2018544137 A JP 2018544137A JP WO2019092833 A1 JPWO2019092833 A1 JP WO2019092833A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
light
wavefront
laser beam
along
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018544137A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6496894B1 (ja
Inventor
隆俊 山田
Original Assignee
株式会社 彩世
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社 彩世 filed Critical 株式会社 彩世
Application granted granted Critical
Publication of JP6496894B1 publication Critical patent/JP6496894B1/ja
Publication of JPWO2019092833A1 publication Critical patent/JPWO2019092833A1/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0966Cylindrical lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/30Collimators
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/02Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G02B3/04Simple or compound lenses with non-spherical faces with continuous faces that are rotationally symmetrical but deviate from a true sphere, e.g. so called "aspheric" lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/02Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G02B3/06Simple or compound lenses with non-spherical faces with cylindrical or toric faces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

レーザ光の光強度の不均一を適切に抑制する。光学素子(22)は、所定の光強度分布を有するレーザ光(L1)が入射され、入射されたレーザ光(L1)の、進行方向に直交する第1方向の波面収差を、回折限界より大きくし、進行方向及び第1方向に直交する第2方向の波面収差を、回折限界以下とする。

Description

本発明は、光学素子及びレーザ照射装置に関する。
レーザ光は、光強度に分布を有しており、例えばシングルモードレーザは、ガウシアンプルファイルとなっている。ガウシアンプロファイルの場合、光強度は、光軸付近において高くなり、光軸から離れるに従って低くなる。しかし、用途によっては、均一な光強度を有するレーザが求められる場合がある。例えば特許文献1には、パウエルレンズを用いてトップハット変換を行うことにより、一方向に長いライン状のレーザ光の光強度を均一にする技術が記載されている。また、特許文献2には、DOE(Diffractive Optical Element 回折光学素子)を用いる旨も記載されている。DOEを用いた場合にも、レーザ光の光強度を均一にすることが可能となっている。
米国特許第4826299号公報 特表2002−520651号公報
しかし、パウエルレンズは、レーザ光を幾何光学的に絞り込むものであり、波動光学的に、すなわちレーザ光の回折などを考慮した設計となっていない。従って、レーザ光に回折が発生する場合においては、パウエルレンズでは適切に光強度を一様にできないおそれがある。レーザ光に回折が発生する場合とは、例えば、ライン状のレーザ光において、ラインに沿ったレーザ幅が、レンズの幅より短い場合などである。また、DOEは、回折が発生した場合でも機能するが、構造が微細であるため製造が難しく、また、光強度分布がレーザ光の波長変化に対して影響されやすいなど、改善の余地がある。
従って、本発明は、レーザ光の光強度の不均一を適切に抑制する光学素子及びレーザ照射装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る光学素子は、所定の光強度分布を有するレーザ光が入射され、前記入射されたレーザ光の、進行方向に直交する第1方向の波面収差を、回折限界より大きくし、前記進行方向及び前記第1方向に直交する第2方向の波面収差を、回折限界以下とする。
前記光学素子は、前記第1方向における波面収差の最大値と最小値との差が、前記レーザ光の波長以上となることが好ましい。
前記光学素子は、前記第1方向に沿った前記レーザ光の波面収差のプロファイルが、前記第1方向において連続することが好ましい。
前記光学素子は、前記第1方向に沿った前記レーザ光の波面収差の曲率プロファイルにおいて、曲率が、第1位置において極大値をとり、第2位置及び第3位置において、前記第1位置における極大値より小さい値をとり、前記第1位置は、前記第1方向に沿って前記第2位置と前記第3位置との間の位置であり、かつ、前記第2位置及び前記第3位置よりも、前記レーザ光の光軸に近い位置であることが好ましい。
前記光学素子は、前記レーザ光の前記第1方向に沿った長さが、前記光学素子の前記第1方向に沿った長さより短いレーザ光を出射することが好ましい。
また、前記光学素子は、非球面のシリンドリカルレンズ、又は、非球面のトーリックレンズであることが好ましい。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係るレーザ照射装置は、前記光学素子と、前記光学素子に前記レーザ光を射出する光源と、を有する。
本発明によれば、レーザ光の光強度の不均一を適切に抑制することができる。
図1は、本実施形態にかかるレーザ照射装置の模式図である。 図2は、本実施形態にかかるレーザ照射装置の模式図である。 図3は、本実施形態に係る光学素子の模式図である。 図4は、光軸方向から見たレーザ光の強度分布を示す模式図である。 図5は、比較例における波面を説明する説明図である。 図6は、本実施形態における波面を説明する説明図である。 図7は、本実施形態に係るレーザの光強度分布の一例を示す図である。 図8は、方向Xにおける波面とレーザの光強度分布を示す図である。 図9は、光学素子ユニットの他の例を示す模式図である。 図10は、実施例における波面の形状を示すグラフである。
以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施例を組み合わせて構成するものも含むものである。
(レーザ照射装置の構成)
図1及び図2は、本実施形態にかかるレーザ照射装置の模式図である。図1に示すように、本実施形態にかかるレーザ照射装置1は、光源10と、光学素子ユニット12とを有する。光源10は、レーザ光L1を発光し、発光したレーザ光L1を光学素子ユニット12に射出する。レーザ光L1は、所定の光強度分布を有する。本実施形態では、レーザ光L1は、シングルモードのレーザ光であり、光強度分布がガウス分布となっている。レーザ光L1の波長は、405nm以上660nm以下であるが、この範囲に限られず任意の波長であってもよい。なお、ガウス分布とは、例えば以下の式(1)を示す分布である。
Figure 2019092833
なお、式(1)において、D(x)が、X方向の所定位置におけるレーザ光の強度分布を指し、αは、係数である。
以下、レーザ光L1の進行方向を方向Zとし、方向Zに直交する平面に沿った1つの方向を、方向Xとし、方向Zに直交する平面に沿った他の1つの方向を、方向Yとする。すなわち、方向Yは、レーザ光L1の進行方向に直交する第1方向であり、方向Xは、方向Z及び方向Yに直交する第2方向である。また、以下、レーザ光L1の方向Zに沿った中心軸、すなわち光軸を、光軸AXとする。図1は、方向Yが紙面上方向を向いた図であり、図2は、方向Xが紙面上方向を向いた図である。
光学素子ユニット12は、複数の光学素子を有するユニットであり、光源10よりも方向Z側に設けられる。本実施形態では、光学素子ユニット12は、複数の光学素子として、コリメートレンズ20と、光学素子22と、収束レンズ24とを有する。コリメートレンズ20と、光学素子22と、収束レンズ24とは、光源10側から方向Zに沿ってこの順で配列している。
コリメートレンズ20は、光源10から出射されたレーザ光L1が入射し、入射したレーザ光L1を平行光に調整して出射する。光源10から出射されたレーザ光L1は、発散光である。コリメートレンズ20は、発散光であるレーザ光L1を、平行光に調整して出射する。平行光となってコリメートレンズ20から出射されてレーザ光L1は、方向Zに進行して、光学素子22に入射する。
図3は、本実施形態に係る光学素子の模式図である。図3に示すように、光学素子22は、レンズであり、透明なガラス又は樹脂などで構成されている。光学素子22は、レーザ光L1に所定の波面収差を付与する光学素子である。
光学素子22は、入射面30と出射面32とを有する。入射面30は、光学素子22のコリメートレンズ20側(光源10側)の表面であり、出射面32は、光学素子22の方向Z側の表面である。すなわち、出射面32は、方向Zにおいて入射面30と対向する面(入射面30の反対側の表面)である。
光学素子22は、コリメートレンズ20(光源10)からのレーザ光L1が、入射面30から入射される。入射面30から入射されたレーザ光L1は、光学素子22の内部31を進行して、出射面32からレーザ光L2として出射される。レーザ光L2は、方向Yに沿って所定のプロファイルの波面収差を有する。レーザ光L2の方向Yに沿った波面収差は、回折限界より大きい。一方、レーザ光L2は、方向Xに沿った波面収差が、回折限界以下である。言い換えれば、光学素子22は、コリメートレンズ20にコリメートされて入射面30から入射されたレーザ光L1を、出射面32からレーザ光L2として射出する。光学素子22は、このレーザ光L2を、方向Yにおいて所定の波面収差が生じ、方向Xにおいて回折限界性能を持つ(回折限界性能以下の波面収差となる)レーザ光にする特性を有する。なお、回折限界とは、言い換えれば、無収差である。ここでの無収差とは、波面収差が、マレシャルの許容値以下の値であることを意味する。すなわち、回折限界の値は、マレシャルの許容値であるといえる。マレシャルの許容値は、波面収差の二乗平均根(rms値)が、レーザ光L1の1波長の0.07倍以下の値を指す。光学素子22により付与される波面収差の詳細については、後述する。なお、図3におけるレーザ光L1は、入射面30から内部31に入射された際に、上記のようなレーザ光L2となるように位相が変化するが、屈折が無視できるほど小さくなっている。ただし、レーザ光L1は、入射面30から内部31に入射された際に、無視できるレベル以上に屈折してもよい。また、レーザ光L2の波長は、レーザ光L1の波長と同じままである。
本実施形態では、光学素子22は、入射面30が、非球面のシリンドリカル形状である。そして、光学素子22は、入射面30が、レーザ光L2に対し、方向Yにおける波面収差を回折限界より大きくし、方向Xにおける波面収差を回折限界以下とするような形状となっている。入射面30は、図1に示すように、方向Yに沿った軌跡が円弧に近い非球面の曲線状(凹形状)であり、図2に示すように、方向Xに沿った軌跡が直線状である。すなわち、入射面30は、軸方向が方向Xとなる非球面の円筒状である。また、光学素子22は、出射面32が、方向Zに直交する平面状となっている。
本実施形態では、入射面30が、レーザ光L2に対し、方向Yにおける波面収差を回折限界より大きくし、方向Xにおける波面収差を回折限界以下とするような形状であったが、これに限られない。すなわち、入射面30が平面状である一方、出射面32が、レーザ光L2に対し、方向Yにおける波面収差を回折限界より大きくし、方向Xにおける波面収差を回折限界以下とするような形状(例えば非球面)であってもよい。また、入射面30及び出射面32の両方が平面状でなく非球面であり、これらの両方の面により、方向Yにおける波面収差を回折限界より大きくし、方向Xにおける波面収差を回折限界以下とするように設計してもよい。すなわち、光学素子22は、レーザが透過する表面(例えば入射面30及び出射面32の少なくともいずれか)が、レーザ光L2に対し、方向Yにおける波面収差を回折限界より大きくし、方向Xにおける波面収差を回折限界以下とするような形状であればよい。
収束レンズ24は、光学素子22から出射されたレーザ光L2が入射する。収束レンズ24は、入射したレーザ光L2を、レーザ光L3として、照射対象物100に焦点位置が合うように収束させて出射する。すなわち、収束レンズ24からのレーザ光L3は、焦点位置Pfにある照射対象物100に向けて照射される。焦点位置Pfは、レーザ光L3のビームウェストの位置(ビーム半径が最小となる位置)であるともいえる。レーザ照射装置1は、以上のような構成となっている。
図4は、光軸方向から見たレーザの強度分布を示す模式図である。図4は、光学素子22から出射されたレーザ光L3の強度分布を、方向Zから見た場合の模式図である。図4は、焦点位置Pfにおけるレーザ光L3の強度分布を示している。図4に示すように、焦点位置Pfにおけるレーザ光L3は、方向Yに沿った長さLYが、方向Xに沿った長さLXより大きい、ライン状となっている。レーザ光L3は、焦点位置において、方向Yの長さが、方向Xの長さよりも、3倍以上90倍以下であることが好ましい。ただし、レーザ光L3の方向X、Yにおける長さの比率は、これに限られない。なお、ここでのレーザ光L3の方向Xの長さとは、レーザ光L3の、光強度が所定値以上となる領域(例えば光軸における強度に対して1/2倍以上となる領域)の、方向Xに沿った最大長さである。同様に、ここでのレーザ光L3の方向Yの長さとは、レーザ光L3の、光強度が所定値以上となる領域(例えば光軸における強度に対して1/2倍以上となる領域)の、方向Yに沿った最大長さである。
また、長さLXは、光学素子22や収束レンズ24の方向Xに沿った長さ(方向Xに沿った射出瞳の長さ)より短く、長さLYも、光学素子22や収束レンズ24の方向Yに沿った長さ(方向Yに沿った射出瞳の長さ)より短い。すなわち、レーザ光L2は、収束レンズ24により、方向X及び方向Yの両方について絞られている。本実施形態での射出瞳位置は、収束レンズ24の出射面である。ただし、レーザ光L2は、方向Yにおいて絞られていなくてもよい。また、レーザ光L3は、必ずしもライン状でなくてもよい。
このように収束レンズ24から出射されたレーザ光L2は、レーザ光L3として、照射対象物100に照射される。照射対象物100は、レーザ照射装置1の用途により任意である。例えば、レーザ照射装置1が、フローサイトメータに用いられる場合、照射対象物100はサンプル(細胞)となる。この場合、レーザ照射装置1は、方向Xが鉛直方向に沿うように、レーザ光L3を照射する。すなわち、レーザ光L3は、鉛直方向に短く水平方向に長い形状となる。そして、鉛直方向上方から滴下される照射対象物100(蛍光物質が添加された細胞サンプル)に、鉛直方向に短く水平方向に長い形状のレーザ光L2が照射される。フローサイトメータは、サンプル中の蛍光物質によるレーザ光L2の散乱光を測定して、計測を実行する。ただし、レーザ照射装置1の用途は、フローサイトメータに限られず任意である。
(トップハット変換について)
ここで、光源10からのレーザ光L1は、所定の光強度分布(ここではガウス分布)を有しており、位置によって光強度が不均一となっている。しかし、レーザ光L2の方向Yに沿った光強度の分布を、トップハット変換により均一とすることが求められる場合がある。
従来のトップハット変換の技術としては、例えば照明用途において、照明光学系における拡散板のような素子に照明光を透過して、トップハット変換を行うものがある。しかし、この場合、エテンデューが大きくなり、レーザ光を絞ることができなくなったり、スペックル発生によってノイズが大きくなったりという問題があった。なお、エテンデューとは、発光面積と光の広がり角との積である。照明用途においては、スペックル発生が特に問題となる。また、レーザ加工などの分野においては、拡散板を用いると絞り込むことができないため、加工効率が低下するなども問題となる。
また、形状計測などの分野では、レーザ光をライン状にして用いる場合がある。このような場合、レーザ光のラインに沿った方向、すなわち図4の例での方向Yには、レーザ光の強度を出来るだけ均一にすることが求められる場合がある。また、レーザ光の幅方向(レーザ光のラインを横切る方向)、すなわち図4の例での方向Xには回折限界を保つ、すなわちガウシアンプロファイルのままであることが求められる場合がある。さらに、スペックルなどのノイズは、方向Yでのレーザ光の強度を均一にすること、及び方向Xでの回折限界を保つことを妨害しない程度に、低くすることが求められる場合がある。このような要求に対応するため、従来、例えばパウエルレンズが用いられていた。
パウエルレンズとは、1面が特殊な円筒面形状のレンズであり、上記要求を満たすことが可能である。しかし、パウエルレンズは、研磨加工上の限界があるため、照度分布のユニフォーミティ(Uniformity)がゼロにならなくなるという問題がある。これを解決するために、レンズを高次非球面化することがあるが、研磨で高次非球面形状を生成することができない。高次非球面形状を実現するには、研削加工された金型を使用したガラス又はプラスチック成型でレンズを製造する必要がある。また、研磨よりも研削の方が、装置規模が大きくなり、さらに、金型加工成形の評価などのプロセスが必要となる。従って、高次非球面化した場合は、通常のパウエルレンズよりも製造が困難となり、コストも高くなる。なお、ユニフォーミティ(Uniformity)とは、照度分布がどのくらい均一化を表す評価量であり、例えば、以下の式(2)に基づき表される。
U=(Lmax−Lmin)/(Lmax+Lmin) ・・・(2)
式(2)において、Uは、ユニフォーミティ(Uniformity)であり、Lmaxは、照度の最大値であり、Lminは、照度の最小値である。すなわち、式(2)の例において、ユニフォーミティは、照度の最大値と最小との差を、照度の最大値と最小値との和で除したものとなる。
さらに、従来のパウエルレンズや非球面レンズを用いたトップハット変換は、幾何光学的な基準に基づき設計されている。幾何光学的な基準に基づき設計した場合、光を、進行方向を向いた直線の束とみなす。そして、その直線に沿って光エネルギが運ばれ、焦点面の単位面積を通過する光エネルギを均一とするように、レンズの面形状が設計される。しかし、例えば、ライン幅(図4の例では方向Xに沿った長さ)やライン長さ(図4の例では方向Yに沿った長さ)が小さいレーザ光を生成する場合、幾何光学的な基準に基づいた設計では、トップハット変換が適切になされないおそれがある。具体的に説明すると、光のライン幅は、際限なく小さくできるわけではなく、回折限界という関係に基づいて下限がある。ここで、光の波長を波長λとし、ライン幅の半値を、半値幅wとし、絞り込み半角を絞り込み半角θとする。ライン幅の半値とは、光軸での光強度を1とした場合に、強度が1/eとなる光軸からの距離である。この場合、波長λと半値幅wと絞り込み半角θとは、以下の式(3)のような関係となる。式(3)によると、波長λが決まっている場合、ライン幅を小さくするには、絞り込み半角θを大きくする必要があることが分かる。
Figure 2019092833
また、射出瞳の径を射出瞳径φとし、光学系の出口からライン状の光が生成される位置までの距離を、距離WDとする。この場合、絞り込み半角θと射出瞳径φと距離WDとは、以下の式(4)のような関係がある。
{φ/(2・WD)>θ}・・・(4)
式(4)によると、距離WDを長くするためには射出瞳径φを大きくする必要がある。例えば、波長λを488nmとし、半値幅wを5μmとし、距離WDを30mmとすると、射出瞳径φは、1.86mm以上となる必要がある。この場合に光のライン長さを0.1mmとすると、ライン長さが射出瞳径φより短くなり、ライン長さ方向においても、光が絞り込まれる。このような場合、回折など、光の波としての性質を考慮する必要が生じる。しかし、幾何光学的な基準に基づくレンズ設計では、光の回折を考慮しない。従って、従来のパウエルレンズや非球面レンズを用いたトップハット変換では、回折により、光の分布を適切に制御できない可能性が生じる。また、パウエルレンズなどにおいて、射出瞳から出射された光は、広がりつつ進行することが前提となっている。従って、この場合、光のライン長さに沿った方向には、焦点位置がなく、この場合の光は、フレネル領域にあるといえる。フレネル領域とは、フラウンホーファー回折による計算と実際の光強度が一致しない領域である。そのため、パウエルレンズからの光は、レンズ表面の微細な傷や異物による光の位相や揺らぎが伝播してゆく過程で、広がってゆく。これがユニフォーミティ(Uniformity)に影響して、製造欠陥などを招く可能性も懸念される。
このように、パウエルレンズなどは、光の回折を考慮しないため、適切にトップハット変換できない可能性がある。
一方、回折を考慮する場合に、DOE(Diffractive Optical Element 回折光学素子)を用いる技術も提案されている。DOEは、例えば、表面に、光波長程度の高さの段差を複数設けた形状の素子である。DOEを用いた場合、射出瞳の大きさにあまり影響されずに、焦点面の大きさを決定でき、設計の自由度もパウエルレンズより高い。例えば、DOEを用いると、任意の光強度分布を設計できたり、光軸に対して傾斜した面や曲面に対しても設計可能であったりする。また、DOEを用いる場合の光は、フラウンホーファー領域にあるため、パウエルレンズのように、傷や異物の影響を受け難い。なお、フラウンホーファー領域とは、フラウンホーファー回折による計算と実際の光強度が一致する領域である。
しかし、DOEの製造には、例えば1μm以下の微細な加工が必要となり、その加工評価も必要とされ、加工や評価が困難となる。そのため、DOEは、製造コストも高くなる。また、DOEは、照度分布が、光の波長変化に対して敏感であり、不要回折光をゼロにできないという問題もある。不要回折光をゼロと出来ない場合、光の利用効率を高くできなかったり、スペックルが発生したりするおそれがある。特に、加工については、パターニングや高速エッチングが必要となり、評価については、ナノメートル単位の段差を測定する必要があるため、装置規模が大きくなり、コストが高くなる。
また、フラウンホーファー領域では、瞳と焦点面とがフーリエ変換で結ばれる関係となり、それを利用する技術も開示されている(米国特開20160266393号公報を参照)。この技術においては、焦点面での均一な強度分布を実現するための瞳面での分布を算出して、それに基づき光学素子の表面を設計している。この場合の光学素子の表面は、滑らかな面となっているため、DOEにおける問題は解消できる。しかし、逆フーリエ変換の場を作り出すために、複数の非球面光学素子が必要となり、また、必要な位相反転を得るための伝播距離や、絞り込みレンズも必要となる。また、調整についても、単一な光学素子に比べ困難となる。
このように、DOEを用いた場合、回折を考慮する場合でもトップハット変換が可能であるが、製造上や性能上での問題がある。また、フーリエ変換を利用する技術においても、より単純な構造が求められている。従って、製造をより容易としつつ、回折を考慮する場合でもトップハット変換を行うことができる技術が求められている。
そこで、本発明者は、光学素子22を用いて、レーザ光L2に対し方向Yに沿った波面収差を与えることにより、トップハット変換を行って、レーザ光L2の方向Yに沿った光強度分布を均一化できることを想起した。すなわち、ガウス分布のレーザに非点収差を与えると、そのレーザ光をライン状とすることが可能であるが、この場合、レーザ光の光強度分布は、方向Yに沿ってもガウス分布となり、不均一となる。従って、本発明者は、例えばこの非点収差に加えて、波面収差を付与することを想起した。
(波面収差について)
波面収差とは、基準となる理想波面に対する、光(ここではレーザ光L2)の波面のズレ量(収差)である。波面とは、等位相の光線(ここではレーザ光L2)の点を結ぶ面(光線に垂直な面)であり、図3の例では、波面Wとなる。ここでの理想波面は、平行光の波面となるため、理想波面は平面状である。すなわち、本実施形態における波面収差は、平面状の波面からのずれを示している。なお、波面収差は、光の位相から導出されるものであり、光の回折も考慮した収差といえる。
本実施形態で付与される波面収差を説明する前に、一般的な球面収差が発生した場合の波面について説明する。球面収差は、球面レンズなどで発生する収差である。図5は、比較例における波面を説明する説明図である。図5は、球面レンズによる球面収差が発生した場合の波面プロファイルの一例を示している。図5の左側のグラフの横軸は、方向Yの位置を示す。図5の左側のグラフの曲線M1は、球面収差が与えられた場合の、方向Yに沿ったレーザ光の波面のプロファイルの一例を示す。曲線M1に示すように、比較例のような球面収差が発生した場合の波面は、光軸AX上の位置Y0から離れるに従って、一定の低い値をとり、所定位置まで離れると大きくなっている。また、曲線M2は、曲線M1の波面の曲率の、方向Yに沿ったプロファイルである。曲線M2に示すように、球面収差が発生した場合の波面の曲率は、光軸AX上の位置Y0において最小となり、位置Y0から離れるに従って大きくなっている。すなわち、この場合のレーザ光の波面の曲率は、光軸AX上の位置Y0付近で小さくなり、その周囲が大きくなっている。
ここで、曲率とは、曲線や曲面の曲がり具合を指す量であり、曲率半径の逆数を指す。曲率半径とは、曲線や曲面の局所的な曲がり具合を近似した円の半径である。すなわち、波面(波面収差)の曲率半径は、波面のプロファイルの局所的な曲がり具合を近似した円の半径であり、波面の曲率は、その曲面半径の逆数である。ここで、τ(y)を、方向Yにおけるレーザ光の波面のプロファイルとし、方向Yにおけるτ(y)の曲率のプロファイルを、ρ(y)とする。この場合、波面の曲率であるρ(y)は、例えば、以下の式(5)のように表される。
Figure 2019092833
τ(y)は波面であり、その大きさは、レーザ光L2の波長のオーダーである。一方、yは、方向Yの位置であり、その大きさは、mm単位のオーダーである。従って、τ(y)の一階微分は小さくなる。そのため、τ(y)を表す式(5)は、次の式(6)のようにみなすことも可能である。
Figure 2019092833
ここで、通常のレンズでは、光軸付近においては収差が小さくなる。そして、例えば曲線M2に示すように、レンズを透過したレーザ光は、波面の曲率が、光軸付近で最小値となり、光軸から離れるに従って大きくなることが一般的である。また、収差が大きいと、レーザ光の位相のずれが大きくなる。従って、例えば曲線M1の位置Y0近傍のプロファイルが示すように、通常のレンズは、収差を小さくする領域を大きくするように設計されている。しかし、このような場合、レーザ光の光強度分布が不均一を解消できない場合がある。例えば、図5の右側のグラフの曲線M3は、曲線M1のような波面となるレーザ光の、焦点位置における光強度分布を示している。曲線M3に示すように、曲線M1のような波面となるレーザ光の光強度分布は、方向Yに沿って不均一となっている。
それに対し、発明者は、あえて波面収差を付与することにより、レーザ光の方向Yに沿った光強度の不均一を抑制することを想起した。すなわち、本実施形態における光学素子22は、方向Yに沿った強度分布の不均一を抑制するような波面となるように、レーザ光L2に波面収差を付与する。以下、方向Yに沿った強度分布の不均一を抑制する波面について説明する。
図6は、本実施形態における波面を説明する説明図である。図6の曲線A1は、光学素子22により方向Yに沿った波面収差を与えられたレーザ光L2の、方向Yに沿った波面のプロファイルの例を示している。曲線A2は、光学素子22により方向Yに沿った波面収差を与えられたレーザ光L2の、方向Yに沿った波面の曲率プロファイルを示している。曲線A0は、レーザ光L2の、射出瞳上(ここでは収束レンズ24の出射面上)における光強度分布を示している。なお、レーザ光L2は、射出瞳上では波面収差を付与済みであるが、光強度分布については、まだ均一となるように変化しておらず、ガウス分布のままとなっている。従って、レーザ光L2の射出瞳上における光強度分布は、光軸AX上の位置Y0において、光強度が最大値となり、位置Y0から離れるに従って、光強度が小さくなっている。
ここで、本実施形態におけるレーザ光L2の波面収差のプロファイルは、レーザ光L2のプロファイルから、平面状の理想波面のプロファイル、すなわち一定値を差し引いたものである。従って、曲線A1に示すレーザ光L2の波面のプロファイルは、レーザ光L2の波面収差のプロファイルということもできる。曲線A1に示すように、レーザ光L2の波面(波面収差)は、光軸AX上の位置Y0において極小値をとり、方向Yに沿った他の位置より小さく、位置Y0から離れるに従って大きくなっている。また、レーザ光L2の波面プロファイルは、光軸AXを隔てて線対称な形状となっている。また、レーザ光L2の波面(波面収差)のプロファイルは、方向Yに沿って連続、かつ、微分可能となっている。また、レーザ光L2の波面(波面収差)の最小値と最大値との差である値WA0は、レーザ光L2の1波長以上の長さとなっている。
また、曲線A2に示すように、レーザ光L2の波面(波面収差)の曲率プロファイルにおいて、波面(波面収差)の曲率は、光軸AX付近、より詳しくは、光軸AX上における値が、それよりも光軸AXから離れた位置における値よりも、大きくなっている。また、波面(波面収差)の曲率は、Y方向に沿って滑らかに連続しており、微分可能である。また、レーザ光L2の波面(波面収差)の曲率プロファイルは、光軸AXを隔てて線対称な形状となっているが、それに限られない。ここで、図6に示すように、第1位置Y1を、方向Yにおいて第2位置Y2と第3位置Y3との間の位置とする。この第1位置Y1は、第2位置Y2及び第3位置Y3よりも、光軸AX(すなわち位置Y0)に近い。本実施形態では、第1位置Y1は、位置Y0、すなわち光軸AX上であり、第2位置Y2及び第3位置Y3は、第1位置Y1からの距離が等しい。この場合、曲線A2に示すように、レーザ光L2の波面(波面収差)の曲率は、第1位置Y1(ここでは位置Y0)において上に凸のピーク値(極大値)となり、第1位置Y1から離れるに従って、小さくなっている。また、波面の曲率は、第2位置Y2及び第3位置Y3における値が、第1位置Y1における値よりも小さくなっており、下に凸のピーク値(極小値)となっている。すなわち、レーザ光L2の波面の曲率プロファイルは、第1位置Y1においてピーク値(極大値)を有し、第1位置Y1から離れるに従って、第2位置Y2、第3位置Y3まで値が小さくなっている。そして、波面の曲率プロファイルは、第2位置Y2、第3位置Y3から、さらに第1位置Y1から離れるに従って、値が大きくなっている。このように、レーザ光L2の波面の曲率は、光軸AX付近の値が、周囲の値よりも大きくなっている。また、本実施形態では、第1位置Y1は、光軸AX上にあったが、第2位置Y2及び第3位置Y3よりも光軸AXに近ければ、光軸AX上になくてもよい。このような特徴を持った曲線A2を曲率とした波面プロファイルによると、方向Yに沿った光強度を均一にすることが可能になる。
ここで、レーザ光L2の射出瞳上における光強度分布(曲線A0)において、光強度が、位置Y0における光強度の1/e倍となる位置を、位置Ygとする。そして、位置Y0から位置Ygまでの方向Yに沿った長さを、長さDgとする。そして、位置Y0から第3位置Y3までの方向Yに沿った長さを、長さDmとする。また、位置Yhを、位置Y0(第1位置Y1)と第3位置Y3との間の位置であって、その位置Yhにおける曲率が、位置Y0(第1位置Y1)における曲率と第3位置Y3における曲率との平均値になる位置とする。そして、位置Y0(第1位置Y1)から位置Yhまでの長さを、長さDhとする。ここでの第3位置Y3は、曲率のピーク値(極値)をとる位置Y0以外の位置であって、位置Y0(光軸AX)に最も近い位置である。この場合、レーザ光L2の波面の曲率は、長さDhが、長さDgより小さいことが望ましい。
また、レーザ光L2の射出瞳上における光強度分布(曲線A0)において、光強度が、位置Y0における光強度の1/2倍となる位置を、位置Yfとする。そして、位置Y0から位置Yfまでの長さを、長さDfとする。また、射出瞳の位置、すなわち、光学素子22や収束レンズ24の、方向Yにおける端部の位置を、位置Yrとする。そして、位置Y0から位置Yrまでの長さを、長さDrとする。この場合、長さDfは、射出瞳位置におけるレーザ光L2の方向Yの長さを指す。そして、長さDrは、光学素子22や収束レンズ24の中心から端部までの長さ、すなわち半径を指す。この場合、長さDfは、長さDrより小さいことが好ましい。すなわち、この長さDfと長さDrとの関係は、レーザ光L2の強度が1/2倍以上となる領域の方向Yに沿った長さDfが、射出瞳の長さDrより小さくなるように、レーザ光L2が方向Yにおいて絞られることを意味している。
光学素子22は、レーザ光L2の波面プロファイルが曲線A1となるように、すなわち、レーザ光L2の波面の曲率プロファイルが曲線A2となるように、レーザ光L2に、方向Yに沿った波面収差を付与する。光学素子22は、このように波面収差を付与することで、レーザ光L2の方向Yに沿った光強度分布が不均一となることを抑制する。図7は、本実施形態に係るレーザの光強度分布の一例を示す図である。図7の曲線A3は、レーザ光L2の波面プロファイルが曲線A1の特徴を満たすように、レーザ光L2に波面収差を付与した場合の、レーザ光L2の方向Yに沿った光強度分布の一例を示している。さらに言えば、曲線A3は、焦点位置におけるレーザ光L2の光強度分布を示している。曲線A3に示すように、レーザ光L2は、焦点位置において、方向Yに沿った光強度分布の不均一性が抑制されていることが分かる。すなわち、レーザ光L2は、焦点位置における方向Yに沿った光強度分布が、レーザ光L1の光強度分布や、比較例に係るレーザの光強度分布(図5の曲線M3を参照)よりも、均一となっている。
光学素子22は、このように方向Yに沿ってレーザ光L2に波面収差を与えるが、上述のように、方向Xに沿っては波面収差を与えない(無収差とする)。図8は、方向Xにおける波面とレーザの光強度分布を示す図である。図8の横軸は、方向Xにおける位置であり、位置X0は、方向Xにおける光軸AX上の位置である。曲線B1は、光学素子22により方向Xに沿って無収差とされた場合のレーザ光L2の波面(波面収差)である。曲線B1に示すように、レーザ光L2の方向Xに沿った波面(波面収差)は、方向Xに沿って一定となっており、方向Xに沿った全ての位置において、小さな値(マレシャルの許容値以下の値)となっている。また、曲線B0は、レーザ光L2の方向Xに沿った光強度分布を示しており、焦点位置における光強度分布である。本実施形態では、レーザ光L2は、方向Xに沿っては波面収差を与えられないが、方向Yよりも絞られている。従って、レーザ光L2の方向Xに沿った光強度分布は、レーザ光L1と同じガウス分布から、絞られた分だけ幅が狭くなっている。
このように、光学素子22は、方向Yに沿って波面収差を与えつつ、方向Xに沿っては無収差とするように、レーザ光L2を出射している。レーザ光L2にこのような傾向の波面収差を与えるための表面(本実施形態では入射面30は、例えば以下の式(7)を満たすような形状となっている。
z=τ(y)/(1−n) ・・・(7)
ここで、zは、方向Zにおける入射面30の表面座標を示す。τ(y)は、方向Yにおける所定位置yにおける、レーザ光L2の波面(波面収差)を示す。nは、レーザ光L1(レーザ光L2)の波長での、光学素子22の屈折率を示す。すなわち、式(7)は、入射面30の方向Zにおける表面座標を、方向Yに沿った各位置において示すプロファイルを表している。また、入射面30の方向Zにおける表面座標は、方向Xに沿っては一定となっている。光学素子22は、入射面30がこのような表面形状となっている場合に、出射面32から出射するレーザ光L2を、方向Yに沿って波面収差を与えつつ、方向Xに沿っては無収差とすることができる。ただし、式(7)で規定される入射面30の表面形状は、一例である。入射面30の表面形状は、方向Yに沿って波面収差を与えつつ、方向Xに沿っては無収差とするものであれば、任意の形状であってよい。方向Yに沿って波面収差を与えつつ、方向Xに沿っては無収差とするような入射面30の表面形状は、一義的に定まるわけではなく、DLS(Dumped Least Square)法などの、非線形最適化手法を用いて決定してよい。すなわち、レーザ光L2にこのような傾向の波面収差を与えるための表面の形状は、複数挙げられる場合もある。
以上説明したように、本実施形態に係る光学素子22は、所定の光強度分布を有するレーザ光L1が入射される。そして、光学素子22は、入射されたレーザ光L1の、方向Zに直交する方向Y(第1方向)における波面収差を、回折限界より大きくし、方向Z及び方向Yに直交する方向X(第2方向)の波面収差を、回折限界以下とする。
ここで、レーザ光L2は、焦点位置における方向Yに沿った光強度分布の不均一を抑制することが求められる場合がある。本実施形態に係る光学素子22は、レーザ光L2に、方向Yにおいて回折限界より大きい所定の波面収差を付与し、方向Xにおいてレーザ光L2の波面収差を回折限界以下とした状態で、出射する。光学素子22は、レーザ光L2に方向Yに沿った波面収差を与えることで、レーザ光L2の焦点位置における光強度分布の不均一を抑制することができる。
また、光学素子22は、方向Yにおける波面収差(波面)の最大値と最小値との差が、レーザ光L2の波長以上となるように、レーザ光L2に波面収差を付与する。この光学素子22は、方向Yにおける波面収差を、このように大きくすることで、レーザ光L2の光強度分布の不均一をより好適に抑制することができる。
また、光学素子22は、方向Yに沿ったレーザ光L2の波面収差(波面)のプロファイルが、方向Yにおいて連続するように、レーザ光L2に波面収差を付与する。この光学素子22は、レーザ光L2の方向Yに沿った波面のプロファイルを連続させる(なめらかにする)ので、レーザ光L2の方向Yに沿った光強度分布の不均一を抑制しつつ、そのような波面を実現させるレンズの表面形状を、連続かつ微分可能なシンプルな形状とすることができる。
また、光学素子22は、方向Yに沿ったレーザ光L2の波面収差(波面)の曲率プロファイルにおいて、曲率が、第1位置Y1において極大値をとり、第2位置Y2及び第3位置Y3において、第1位置Y1における極大値より小さい値をとるように、レーザ光L2に波面収差を付与する。ここで、第1位置Y1は、方向Yに沿って第2位置Y2と第3位置Y3との間の位置であり、かつ、第2位置Y2及び第3位置Y3よりも、レーザ光L2の光軸AXに近い位置である。光学素子22は、光軸AXに近い位置において、波面の曲率をこのように大きくすることで、レーザ光L2の光強度分布の不均一をより好適に抑制することができる。
また、光学素子22は、レーザ光L2の方向Yに沿った長さが、光学素子22の方向Yに沿った長さより短いレーザ光L2を出射する。この光学素子22は、出射するレーザ光L2が、方向Yに沿って絞られている。この場合、レーザ光L2は、回折の影響が顕著となる。それに対し、この光学素子22は、回折の影響も考慮された波面収差を、レーザ光L2に付与している。従って、この光学素子22は、レーザ光L2が絞られている場合に、レーザ光L2の光強度分布の不均一を好適に抑制することができる。また、レーザ光L2は、方向Yに沿った長さが、方向Xに沿った長さより長い。すなわち、光学素子22は、ライン状のレーザ光L2において、長軸方向である方向Yにおいて波面収差を与えることで、長軸方向におけるレーザ光L2の光強度分布の不均一を好適に抑制することができる。
また、光学素子22は、非球面のシリンドリカルレンズである。非球面とは、球面でない曲面を指す。光学素子22は、非球面のシリンドリカルレンズであるため、レーザ光L2の光強度分布の不均一を抑制した状態で、ライン状のレーザ光L2を適切に出射することができる。なお、非球面のレンズの曲面Eのプロファイルは、例えば、次の式(8)のように表されるが、この式は一例である。
Figure 2019092833
なお、式(8)において、yは、方向を指し、α、α、α、α、及びkは、係数である。
このように、本実施形態に係る光学素子22は、表面が連続しており微分可能な、なめらかな面となっている。また、ライン状のレーザ光を生成するための光学素子として、光学素子22を1つだけ有していればよく、さらに言えば、ライン状とするための光学面(本実施形態の例では入射面30)が1つだけであればよい。また、光学素子22は、レーザ光L2の長さLYを、方向Yに沿った射出瞳の長さ以下とすることが可能である。すなわち、光学素子22は、回折の影響を考慮して、トップハット変換を行うことができる。また、光学素子22は、表面がなめらかな面であるため、不要光が発生せず、光の利用効率の低下やスペックルの発生を抑制できる。また、光学素子22は、表面がなめらかな面であるため、DOEに比べて、光の波長に対する敏感さを小さくすることができ、製造装置の規模を小さくしたりできる。すなわち、光学素子22は、製造を容易に行うことができる。また、光学素子22からの光をフラウンホーファー領域とするため、傷や異物の影響を受け難い。このように、光学素子22は、従来のパウエルレンズや非球面レンズが持つ問題と、DOEが持つ問題とを解決でき、さらに両者が持つ利点を両方備えることができる。
なお、光学素子22は、非球面のシリンドリカルレンズに限られない。例えば、光学素子ユニット12は、コリメートレンズ20を有さない場合がある。この場合、光学素子22にコリメート、すなわち発散光を平行光に調整する機能を付与する。この場合の光学素子22は、トーリック形状となる。トーリック形状とは、方向X及び方向Yの両方において曲面であり、曲率が異なる形状を指す。すなわち、この場合、光学素子22は、非球面のトーリックレンズとなる。光学素子22を非球面のトーリックレンズとすることで、適切にコリメートしつつ、レーザ光L2の光強度分布の不均一を抑制することができる。
また、図9は、光学素子ユニットの他の例を示す模式図である。光学素子ユニットは、コリメートレンズ20を有さない例以外にも、他の構造を採ることができる。図9は、収束レンズ24を有さず、光学素子22Aに収束機能を付与した場合を示している。図9に示す光学素子ユニット12Aは、コリメートレンズ20と、光学素子22Aとを有する。光学素子22Aは、コリメートレンズ20で平行光とされたレーザ光L1が、入射面30から入射する。光学素子22Aは、出射面32Aが、平面でなく凸形状となっている。従って、光学素子22Aは、波面収差を付与したレーザ光L2を、出射面32Aにおいて収束させることができる。また、収束レンズ24を有さない場合でも、収束機能を有さない光学素子22(出射面32が平面状の光学素子22)を用いてもよい。この場合、コリメートレンズ20から出射されたレーザ光L1を収束光とすることで、焦点位置に適切にレーザ光L2を照射することができる。すなわち、光学素子ユニット12は、波面収差を付与する光学素子22を有していればよく、さらに、コリメート機能及び収束機能が付与されていればより好ましい。
(実施例)
次に、実施例について説明する。本実施例では、以下の目標値を満たし、かつ、方向Yに沿って本実施形態のような波面収差を付与してX方向には回折限界以下の波面収差とした場合の、波面プロファイルの例を説明する。本実施例では、レーザ光の波長が532nmであり、光学系の出口からライン状の光が生成される位置までの距離WDが、40mmであるとする。また、焦点位置Pfにおけるレーザ光の方向Xに沿った長さLXの目標値を、10μmとし、焦点位置Pfにおけるレーザ光の方向Yに沿った長さLYの目標値を、0.2mm以上とする。また、照度分布のユニフォーミティ(Uniformity)の目標値を、0.1%以下とし、結合効率の目標値を、50%以上とする。結合効率とは、光源の出力に対する利用可能な光量の比を指すが、光学素子ユニット12から射出される光量と利用可能な光量との比であってもよい。なお、これらの条件は、レーザ光L2の1/e幅における値である。
また、光源からのレーザ光の方向Xに沿った発散角を、10°とし、方向Yに沿ったレーザ光の発散角を、5°とする。これらの発散角は、半値全幅における値である。このような発散角のレーザ光を、方向Yに沿って絞りこみ、上述のような目標値を達成し、かつ、本実施形態のような波面収差を付与する。
この場合、方向Zに沿った各位置における、ビームウェスト以外のレーザ光の半径w(z)は、次の式(9)となる。
Figure 2019092833
ここで、zは、光軸AXに沿ったビームウェストの距離であり、wは、ビームウェストの半径である。式(9)において、λを532mmとし、wを5μmとし、zを40mmとすると、射出瞳での半径w(z)は、約1.35mmとなる。また、レーザ光の発散角が10°であるため、コリメートレンズ20の焦点距離も、約9mmとなる。また、コリメートレンズ20の有効半径Rを、2mmとする。
本実施例においては、この場合の波面(波面収差)のプロファイルであるτ(y)を、次の式(10)のように、偶数次のベキで表す。ここで、波面の位相の係数Φ(y)は、次の式(11)であるとする。
Figure 2019092833
Figure 2019092833
図10は、実施例における波面の形状を示すグラフである。これらの式(10)、(11)を用いた非線形最適化の結果、各次における係数a2nは、次のようになる。すなわち、係数aが、8.79864となり、係数aが、−5.86365となり、係数aが、3.78267となり、係数aが、−1.62899となり、係数a10が、0.436826となり、係数a12が、−0.0644682となり、係数a14が、0.00397361となる。本実施例では、この係数を持つ波面と波面の曲率とを算出した。本実施例における波面は、図10の曲線C1のようになり、波面の曲率は、図10の曲線C2のようになる。また、図10の曲線C1は、ガウス分布である。
図10の曲線C1に示すように、本実施例での波面プロファイルは、図6に示す曲線A1のプロファイルと同様の形状になっている。また、曲線C1の最小値と最大値との差は、レーザ光L2の15波長分程度の長さとなっている。また、図10の曲線C2に示すように、本実施例での波面の曲率プロファイルは、図6に示す曲線A2のプロファイルと同様の形状になっている。また、長さDhは、約0.39mmとなり、長さDgは、約0.67mmとなる。また、長さDmは、約0.872mmとなる。
実施例においては、曲線C2のような曲率プロファイルを有する波面収差を付与するため、Y方向に沿った光強度分布が、図7のようになり、レーザ光の光強度分布の不均一を抑制していることが分かる。また、X方向に沿った光強度分布が、図8のようになる。また、実施例によると、焦点位置Pfにおけるレーザ光の長さLXの算出値が、10μmとなり、焦点位置Pfにおけるレーザ光の長さLYの算出値が、2.8mmとなり、ユニフォーミティ(Uniformity)の算出値が、0.04%となり、結合効率の算出値が、60%となった。このように、実施例によると、各目標値も達成できていることが分かる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
1 レーザ照射装置
10 光源
12 光学素子ユニット
20 コリメートレンズ
22 光学素子
24 収束レンズ
30 入射面
32 出射面
L1、L2、L3 レーザ光

Claims (7)

  1. 所定の光強度分布を有するレーザ光が入射され、前記入射されたレーザ光の、進行方向に直交する第1方向の波面収差を、回折限界より大きくし、前記進行方向及び前記第1方向に直交する第2方向の波面収差を、回折限界以下とする、光学素子。
  2. 前記第1方向における波面収差の最大値と最小値との差が、前記レーザ光の波長以上である、請求項1に記載の光学素子。
  3. 前記第1方向に沿った前記レーザ光の波面収差のプロファイルが、前記第1方向において連続する、請求項1又は請求項2に記載の光学素子。
  4. 前記第1方向に沿った前記レーザ光の波面収差の曲率プロファイルにおいて、曲率が、第1位置において極大値をとり、第2位置及び第3位置において、前記第1位置における極大値より小さい値をとり、
    前記第1位置は、前記第1方向に沿って前記第2位置と前記第3位置との間の位置であり、かつ、前記第2位置及び前記第3位置よりも、前記レーザ光の光軸に近い位置である、請求項3に記載の光学素子。
  5. 前記レーザ光の前記第1方向に沿った長さが、前記光学素子の前記第1方向に沿った長さより短いレーザ光を出射する、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学素子。
  6. 非球面のシリンドリカルレンズ、又は、非球面のトーリックレンズである、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学素子。
  7. 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の前記光学素子と、
    前記光学素子に前記レーザ光を射出する光源と、を有する、レーザ照射装置。
JP2018544137A 2017-11-09 2017-11-09 光学素子及びレーザ照射装置 Active JP6496894B1 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2017/040448 WO2019092833A1 (ja) 2017-11-09 2017-11-09 光学素子及びレーザ照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6496894B1 JP6496894B1 (ja) 2019-04-10
JPWO2019092833A1 true JPWO2019092833A1 (ja) 2019-11-14

Family

ID=66092519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018544137A Active JP6496894B1 (ja) 2017-11-09 2017-11-09 光学素子及びレーザ照射装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11460710B2 (ja)
EP (1) EP3709074A4 (ja)
JP (1) JP6496894B1 (ja)
CN (1) CN111316154A (ja)
WO (1) WO2019092833A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11784022B2 (en) * 2019-01-28 2023-10-10 Hitachi High-Tech Corporation Electron beam apparatus

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4826299A (en) 1987-01-30 1989-05-02 Canadian Patents And Development Limited Linear deiverging lens
JP3614294B2 (ja) * 1998-03-09 2005-01-26 富士通株式会社 光強度変換素子及び光学装置及び情報記憶装置
US6072631A (en) 1998-07-09 2000-06-06 3M Innovative Properties Company Diffractive homogenizer with compensation for spatial coherence
JP4693027B2 (ja) 2004-08-05 2011-06-01 株式会社オプセル ビームホモジナイザ
JP4394631B2 (ja) 2005-10-24 2010-01-06 株式会社日立製作所 欠陥検査方法およびその装置
US7629572B2 (en) 2005-10-28 2009-12-08 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical devices and related systems and methods
JP5909369B2 (ja) 2012-01-16 2016-04-26 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光整形用光学部品の設計方法、及び、レーザ光整形用光学部品の製造方法
EP2972216A4 (en) * 2013-03-14 2016-10-26 Abbott Lab BEAMING OPTICS OF FLOW CYTOMETER SYSTEMS AND RELATED METHODS
GB2536276B (en) 2015-03-12 2019-11-13 Powerphotonic Ltd Field mapper
US9927620B2 (en) 2015-09-21 2018-03-27 Intel Corporation System for flat-top intensity laser sheet beam generation
US10670523B2 (en) 2016-04-19 2020-06-02 Intel Corporation Particulate matter measurement using light sheet generation and scattering analysis

Also Published As

Publication number Publication date
JP6496894B1 (ja) 2019-04-10
US11460710B2 (en) 2022-10-04
WO2019092833A1 (ja) 2019-05-16
EP3709074A4 (en) 2021-06-16
US20200241309A1 (en) 2020-07-30
CN111316154A (zh) 2020-06-19
EP3709074A1 (en) 2020-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7400457B1 (en) Rectangular flat-top beam shaper
JP6424418B2 (ja) 光学素子、投影装置および計測装置並びに製造方法
US20140003456A1 (en) Device For Converting The Profile of a Laser Beam Into a Laser Beam With a Rotationally Symmetrical Intensity Distribution
US8031414B1 (en) Single lens laser beam shaper
JP2006500621A (ja) 光線成形及び均一化のためのランダムマイクロレンズアレイ
JP6467353B2 (ja) レーザビームを均質化するための装置
US20200182773A1 (en) One Dimensional Beam Homogenization with a Single Aspheric Lens for Accurate Particle Sizing Instrumentation
CN213399085U (zh) 大变倍比激光整形缩束准直镜头
Wang et al. Analytical model of microlens array system homogenizer
KR20150096760A (ko) 경사면들에서의 스팟 어레이의 발생
WO2013108450A1 (ja) レーザ光整形用光学部品の設計方法、レーザ光整形用光学部品の製造方法、及び、レーザ光整形用光学系
US20210389229A1 (en) Optical system and flow cytometer
JP6496894B1 (ja) 光学素子及びレーザ照射装置
WO2013097479A1 (zh) 匀光元件及光源系统
JP6586647B2 (ja) ビーム強度変換光学系
CN104953465A (zh) 基于空间频谱分割处理的激光二极管阵列光束的匀化装置
JP2002139696A (ja) ビーム強度分布変換光学系を備えた照明装置
JP6364265B2 (ja) 有効光強度分布を最適化する方法
WO2020059664A1 (ja) 合波光学系
JP6146745B2 (ja) 入射光ビームを変換するための光学配置、光ビームをラインフォーカスに変換する方法、及びそのための光学デバイス
JP3988733B2 (ja) Doeホモジナイザ転写光学系およびレーザビーム照射方法
JP2005148344A (ja) レーザ光強度分布変換光学系
Tsai Uniformity and collimation of incoherence Gaussian beam with divergence based on only one Fresnel surface
US20170176757A1 (en) Projection system for generating spatially modulated laser radiation and optical arrangement for transforming laser radiation
US20220413309A1 (en) Laser system for generating a linear laser marking

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180820

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180820

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180820

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20181016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181030

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181225

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6496894

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150