JPWO2019049905A1 - 金属酸化物−多孔体複合体の製造方法及び多孔質炭素材料と金属酸化物との複合体 - Google Patents
金属酸化物−多孔体複合体の製造方法及び多孔質炭素材料と金属酸化物との複合体 Download PDFInfo
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Abstract
Description
関連出願の相互参照
本出願は、2017年9月5日出願の日本特願2017−170669号の優先権を主張し、その全記載は、ここに特に開示として援用される。
特許文献2:特表2016−538709号公報
特許文献3:特表2016−518023号公報
特許文献1〜3及び非特許文献1の全記載は、ここに特に開示として援用される。
[1]
多孔体の細孔内に金属酸化物を担持させて、金属酸化物-多孔体複合体を製造する方法であって、
多孔体を減圧下に置き、かつ金属酸化物の前駆体の分解温度まで加熱する工程(1)、
減圧下、かつ加熱下の多孔体に、液体状の金属酸化物の前駆体を断続的に繰り返し供給し、多孔体の細孔内に前駆体の分解物を析出させる工程(2)、及び
工程(2)における断続的繰り返し供給後に、細孔内に前駆体及び/又はその分解物が析出した多孔体を、減圧下又は不活性雰囲気下、工程(1)及び(2)より高い温度で加熱して、金属酸化物-多孔体複合体を調製する工程(3)、
を含む、前記方法。
[2]
工程(2)における断続的繰り返し供給の回数は10〜1000回の範囲である、[1]に記載の製造方法。
[3]
工程(2)における断続的繰り返し供給は、前駆体の供給時間と前駆体の供給停止時間との繰り返しからなり、前駆体の供給時間は0.01〜2秒の範囲、前駆体の供給停止時間は、1〜600秒の範囲である、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]
工程(1)、(2)及び(3)における減圧は、0.1hPa(10Pa)〜1kPa(1000Pa)の範囲である、[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]
前駆体は、金属アルコキシド又は金属塩化物である、[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]
金属酸化物-多孔体複合体を基準とした金属酸化物の担持量は、1〜90質量%の範囲である、[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]
金属酸化物の金属は、Ti、Si、Ni、V、Sn、Zr、Ta、及びGeからなる少なくとも1種である、[1]〜[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8]
多孔体は、細孔容積が0.1〜10cm3(g−carbon)-1の範囲であり、平均細孔径が1〜500nmの範囲である、[1]〜[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]
多孔体は、多孔質炭素材料である、[1]〜[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10]
多孔質炭素材料と金属酸化物との複合体であって、
金属酸化物の一部又は全部は、多孔質炭素材料の細孔内に存在する、前記複合体。
[11]
多孔質炭素材料は、細孔容積が0.1〜10cm3(g−carbon)-1の範囲であり、平均細孔径が1〜500nmの範囲であり、かつ複合体を基準とした金属酸化物の担持量は、1〜90質量%の範囲である、[10]に記載の複合体。
[12]
金属酸化物の金属は、Ti、Si、Ni、V、Sn、Zr、Ta、及びGeからなる少なくとも1種である、[10]又は[11]に記載の複合体。
[13]
金属酸化物がアナターゼ型二酸化チタンである[10]又は[11]に記載の複合体。
[14]
負極材料として用いられる[10]〜[13]のいずれかに記載の複合体。
[15]
リチウムイオンキャパシタ負極用の材料として用いられる[14]に記載の複合体。
[16]
触媒として用いられる[10]〜[13]のいずれかに記載の複合体。
本発明の第一の態様は、多孔体の細孔内に金属酸化物を担持させて、金属酸化物-多孔体複合体を製造する方法である。この方法は、
多孔体を減圧下に置き、かつ金属酸化物の前駆体の分解温度まで加熱する工程(1)、
減圧下、かつ加熱下の多孔体に、液体状の金属酸化物の前駆体を断続的に繰り返し供給し、多孔体の細孔内に前駆体の分解物を析出させる工程(2)、及び
工程(2)における断続的繰り返し供給後に、細孔内に前駆体の分解物が析出した多孔体を、減圧下又は不活性雰囲気下、工程(1)及び(2)より高い温度で加熱して、金属酸化物-多孔体複合体を調製する工程(3)、
を含む。
本発明の第2の態様は、多孔質炭素材料と金属酸化物との複合体である。この複合体は、金属酸化物の少なくとも一部は、多孔質炭素材料の細孔内に存在する。多孔質炭素材料は、前記製造方法にて説明したものと同様である。金属酸化物の担持量は、特に限定はなく、所望の複合体に応じて適宜決定することができ、例えば、1〜90質量%の範囲であることができる。金属酸化物の金属は、例えば、Ti、Si、Ni、V、Sn、Zr、Ta、及びGeからなる少なくとも1種であることができる。本発明の複合体は、金属酸化物がチタン酸化物の場合、アナターゼ型チタン酸化物であることができる。
1.1 実験装置
実験装置の概略図を図1に示す。反応管として石英製の管を使用し、これを垂直に電気炉内へ挿入して温度調節を行った。反応管上部から電磁弁を介したシリンジを差し込み、反応管下部には真空ポンプを取り付けた。この装置では反応管が脱気状態において電磁弁を開放することで圧力差が推進力となり、シリンジ内の原料が反応管内に導入される。
内径:13 mm
長さ:600 mm
石英フィルターを上から25cmの位置に固定、この石英フィルターが電気炉の中心位置になるように設置
Ti源:チタンテトライソプロポキシド(和光純薬工業(株))
炭素担体:
メソ・マクロ孔性炭素 カーボンゲル(GC)
マクロ孔性炭素 CNovel MJ(4)150(東洋炭素(株))
メソ孔性炭素 CNovel MJ(4)030(東洋炭素(株))
メソ孔性炭素 CNovel MH(東洋炭素(株))
ミクロ孔性炭素 A-BAC PW15((株)クレハ)
無細孔性炭素 カーボンナノファイバー(CNF)(参考例)
試薬
R:レソルシノール(和光純薬工業株式会社)
F:ホルムアルデヒド液(和光純薬工業株式会社, 濃度36-38%)
C:炭酸ナトリウム(和光純薬工業株式会社)
TBA:t-ブチルアルコール(和光純薬工業株式会社)
(1)TiO2の析出
1)反応管の石英フィルター上に炭素試料(約200 mg)を設置。
2)反応管内を真空ポンプで脱気し、10℃ min-1の昇温速度で反応管を昇温した。
3)設定温度(180℃)まで昇温されているのを確認した後、電磁弁の開閉プログラム(60 s閉、0.1 s開)を開始し原料液の導入を行った。この条件での導入量は1回50μLずつ、100回(合計5 mL)である。これにより原料の断続的供給を行った。
4)真空ポンプを停止した後、温度調節器の電源を切り、反応管を冷却した。
5)100℃程度まで冷却したのを確認し、反応管を取り出し、反応管中心部にある石英フィルター上の生成物を回収した。
1)(1)の操作でTiO2を析出させた試料をセラミックスボートに載せ、横型管状炉(アサヒ理化製作所、ARF-30K)に設置した石英管(外径1インチ、長さ60 cm)内の中心部に導入した。
2)100 mL min-1で窒素を流通させながら、5℃min-1で700℃まで昇温し、この温度で1 h保持した。
3)室温まで冷却後、反応管から熱処理試料を回収した。
2.1 生成物の観察
得られた生成物は電界放出型走査電子顕微鏡(Field-Emission Scanning Electron Microscope: FE-SEM, JSM-6600F; JEOL)、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope: TEM, JEM-2010; JEOL)により観察した。
FE-SEM観察に向け、試料台にカーボンテープを貼り、その上に薄く試料をのせた。この試料台をFE-SEMに挿入し、印加電圧15.0 kVで観察を行った。
TiO2複合試料のTiO2含有量は熱重量分析(TGA, 島津製作所; TGA-50H)と(DTG, 島津製作所; DTA-50)により測定した。試料を白金製のセル(高さ3 mm, 直径6 mm)に10 mg程度のせ、20 mL min-1の空気流通下において昇温速度5℃min-1で800℃まで昇温した後800℃で1 h保持し、冷却後回収し残留していた重量をTiO2重量とした。
結晶構造の解析を粉末X線回折測定装置(試料水平型多目的X線回折装置Ultima IV: Rigaku)により行った。なお、詳細な測定条件は表1に示した。
試料の細孔構造の解析を吸着測定装置(マイクロトラック・ベル; BELSORP miniII)により行った。吸着測定前に試料の前処理として、窒素流通下、250℃で4 h保持し、試料中に含まれる水分等を除去した。なお、吸着測定温度は-196℃、吸着質はN2として測定を行った。
1)実施例1で作製した試料:カーボンブラック(電気化学工業(株) デンカブラック):ポリフッ化ビニリデン(クレハ(株), KFポリマーL #1120)が8:1:1となるように秤量した。
2)混合物に1-メチル-2-ピロリドン(和光純薬工業(株), 和光特級, 99.0%)を数滴加え、あわとり練太郎(シンキー(株), AR-100)を用いて3 min遊星混合しスラリーを作製した。
3)銅箔の上にこのスラリーをのせ、ベーカー式アプリケーター(テスター(株), SA-201)を用いて厚さ5 milに伸ばした。
4)スラリーを塗布した銅箔をホットプレート(アズワン(株), NINOS ND-2)で80℃、1 h空気中で乾燥し、電極打ち抜き器(宝泉, 直径16 mm)で円形に切り抜いた。
5)作製した電極をグローブボックスのパスボックス内で、10 h、120℃で真空乾燥した後、Ar雰囲気のグローブボックス内へ入れた。
6)グローブボックス内で三極式セルを組み立てた。
対極・参照極: 金属リチウム(本城金属(株), 厚さ0.2 mm)
セパレーター: CELGARD2400, ポリポア(株), 直径24 mmに切り抜いて使用
電解液: LiPF6 1 mol/L EC:DEC(1:1 v/v%), キシダ化学(株)
測定セル: 三極式セル, 東洋システム(株)
組み立てた三極式セルは電池充放電装置(北斗電工株式会社, HJ-1010mSM8(s))に接続し、25℃に保たれたインキュベーター内で1.0〜2.5 V(vs. Li/Li+)の電位範囲で定電流充放電測定を行った。
実施例1で用いた実験装置と同様の反応管の石英フィルター上に炭素試料であるCNovel MJ(4)150(約200 mg)を設置し、反応管内を設定温度(180℃)まで昇温した後、反応管上方から窒素を連続的に100mL/minで流通させ、反応管高温部にマイクロフィーダーにて原料液チタンテトライソプロポキシドを50μL/minで100分間導入した。その後、窒素100mL/min流通下において700℃で1時間熱処理し、石英フィルター上の生成物を回収した。生成物の観察及びTiO2含有量の測定は、実施例1の2.評価方法と同様に実施した。TEM写真及びTiO2-の担持量(含有量)を図9(A)に示す。比較として図9(C)に図4(a)のVLP-CVDで調製した本発明のTiO2-炭素材料複合体を示す。TEM写真ではTiO2の粒径が大きく (10〜20 nm) 凝集していることがわかる。
実施例1で用いた実験装置と同様の反応管の石英フィルター上に炭素試料であるCNovel MJ(4)150(約200 mg)を設置し、反応管内を設定温度(180℃)まで昇温した後、反応管下方から真空ボンプで脱気し、反応管高温部にマイクロフィーダーにて原料液チタンテトライソプロポキシドを50μL/minで100分間導入した。その後、連続的な窒素100mL/min流通下において700℃で1時間熱処理し、石英フィルター上の生成物を回収した。生成物の観察及びTiO2含有量の測定は、実施例1の2.評価方法と同様に実施した。TEM写真及びTiO2-の担持量(含有量)を図9(B)に示す。比較として図9(C)に図4(a)のVLP-CVDで調製した本発明のTiO2-炭素材料複合体を示す。TEM写真ではTiO2の粒径が大きく (10〜20 nm) 凝集していることがわかる。
参考例1及び2において調製したTiO2-炭素材料複合体を用いて、実施例2と同様に電極を作製し、実施例2と同様の条件で定電流充放電測定を行った。図10(A)に充放電カーブを示し、(B)にレート特性評価結果を示す。これらの結果から、参考例1及び2に示す一般的な連続導入CVDで得られたTiO2/Cナノ複合体と比べて、VLP-CVD法で作製した本発明のTiO2/Cナノ複合体は高容量で高速充放電可能であることが分かる。
3.1 実験操作
(1)SnO2の析出
1)反応管の石英フィルター上に炭素試料であるCNovel MJ(4)030またはCNovel MJ(4)150(約200 mg)を設置。
2)反応管内を真空ポンプで脱気して管内圧力を500 Paとし、10℃ min-1の昇温速度で反応管を昇温した。
3)設定温度(80℃または100℃)まで昇温されているのを確認した後、電磁弁の開閉プログラム(60 s閉、0.1 s開)を開始し原料液であるスズ(IV)イソプロポキシドの導入を行った。この条件での導入量は1回50μLずつ、50回または100回(合計2.5mLまたは5 mL)である。
4)真空ポンプを停止した後、温度調節器の電源を切り、反応管を冷却した。
5)100℃程度まで冷却したのを確認し、反応管を取り出し、反応管中心部にある石英フィルター上の生成物を回収した。
1)(1)の操作でSnO2を析出させた試料をセラミックスボートに載せ、横型管状炉(アサヒ理化製作所、ARF-30K)に設置した石英管(外径1インチ、長さ60 cm)内の中心部に導入した。
2)100 mL min-1で窒素を流通させながら、5℃min-1で700℃まで昇温し、この温度で1 h保持した。
3)室温まで冷却後、反応管から熱処理試料を回収した。
生成物の観察及びSnO2含有量の測定は、実施例1の2.評価方法と同様に実施した。昇温設定温度を100℃とし、かつスズ(IV)イソプロポキシドの導入量を合計5 mLとして得られたSnO2-炭素材料複合体のTEM写真及びSnO2-の担持量(含有量)を図11に示す。(A)細孔径150 nmの多孔質炭素および(B)30 nmの多孔質炭素の細孔内にそれぞれ10 nm以下の微小なSnO2ナノ粒子が均一に担持された複合体が得られた。
3.1において調製したSnO2-炭素材料複合体を用いて、実施例2と同様に電極を作製し、実施例2と同様の条件で定電流充放電測定を行った。図12に電気化学的評価結果を示す。(A) は異なる多孔質炭素から得られた複合体の充放電特性(反応温度:100oC、原料導入量:5 mL)であり、(B) は異なる反応温度で得られた複合体の充放電特性(多孔質炭素:CNovel150、原料導入量:2.5 mL)である。(A)の結果は、いずれの複合体もSnO2の容量を活用できている細孔径の大きいCNovel150を担体に用いた場合、SnO2担持量は少ないにも関わらず高容量かつ高レート特性であることを示す。(B)の結果は、反応温度が100℃よりも80℃の方が担持量が多く、高容量が得られることを示す。(A)(に示すように、実施例1で行った窒素雰囲気での加熱処理により、放電容量が向上することが分かる。本発明のVLP-CVD法によれば、SnO2ナノ粒子の担持も可能であり、SnO2ナノ粒子担持炭素材料複合体は、リチウムイオン電池の高容量負極材料としての活用が期待できる。
4.1 実験操作
(1)V2O5の析出
1)反応管の石英フィルター上に炭素試料であるCNovel MJ(4)150(約200 mg)を設置。
2)反応管内を真空ポンプで脱気して管内圧力を500 Paとし、10℃ min-1の昇温速度で反応管を昇温した。
3)設定温度(100℃)まで昇温されているのを確認した後、電磁弁の開閉プログラム(60 s閉、0.1 s開)を開始し原料液であるバナジウム(V) オキシトリイソプロポキシドの導入を行った。この条件での導入量は1回50μLずつ、20回合計1 mLである。
4)真空ポンプを停止した後、温度調節器の電源を切り、反応管を冷却した。
5)100℃程度まで冷却したのを確認し、反応管を取り出し、反応管中心部にある石英フィルター上の生成物を回収した。
1)(1)の操作でV2O5を析出させた試料をセラミックスボートに載せ、横型管状炉(アサヒ理化製作所、ARF-30K)に設置した石英管(外径1インチ、長さ60 cm)内の中心部に導入した。
2)100 mL min-1で窒素を流通させながら、5℃min-1で700℃まで昇温し、この温度で1 h保持した。
3)室温まで冷却後、反応管から熱処理試料を回収した。
生成物の観察及びV2O5含有量の測定は、実施例1の2.評価方法と同様に実施した。得られたSnO2-炭素材料複合体のTEM写真及びV2O5-の担持量(含有量)を図13に示す。細孔径150 nmの多孔質炭素の細孔内にそれぞれ10 nm以下の微小なV2O5ナノ粒子が均一に担持された複合体が得られた。得られた複合体は、触媒としての利用が期待される。
Claims (16)
- 多孔体の細孔内に金属酸化物を担持させて、金属酸化物-多孔体複合体を製造する方法であって、
多孔体を減圧下に置き、かつ金属酸化物の前駆体の分解温度まで加熱する工程(1)、
減圧下、かつ加熱下の多孔体に、液体状の金属酸化物の前駆体を断続的に繰り返し供給し、多孔体の細孔内に前駆体の分解物を析出させる工程(2)、及び
工程(2)における断続的繰り返し供給後に、細孔内に前駆体及び/又はその分解物が析出した多孔体を、減圧下又は不活性雰囲気下、工程(1)及び(2)より高い温度で加熱して、金属酸化物-多孔体複合体を調製する工程(3)、
を含む、前記方法。 - 工程(2)における断続的繰り返し供給の回数は10〜1000回の範囲である、請求項1に記載の製造方法。
- 工程(2)における断続的繰り返し供給は、前駆体の供給時間と前駆体の供給停止時間との繰り返しからなり、前駆体の供給時間は0.01〜2秒の範囲、前駆体の供給停止時間は、1〜600秒の範囲である、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 工程(1)、(2)及び(3)における減圧は、0.1hPa(10Pa)〜1kPa(1000Pa)の範囲である、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 前駆体は、金属アルコキシド又は金属塩化物である、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 金属酸化物-多孔体複合体を基準とした金属酸化物の担持量は、1〜90質量%の範囲である、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- 金属酸化物の金属は、Ti、Si、Ni、V、Sn、Zr、Ta、及びGeからなる少なくとも1種である、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 多孔体は、細孔容積が0.1〜10cm3(g−carbon)-1の範囲であり、平均細孔径が1〜500nmの範囲である、請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 多孔体は、多孔質炭素材料である、請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 多孔質炭素材料と金属酸化物との複合体であって、
金属酸化物の一部又は全部は、多孔質炭素材料の細孔内に存在する、前記複合体。 - 多孔質炭素材料は、細孔容積が0.1〜10cm3(g−carbon)-1の範囲であり、平均細孔径が1〜500nmの範囲であり、かつ複合体を基準とした金属酸化物の担持量は、1〜90質量%の範囲である、請求項10に記載の複合体。
- 金属酸化物の金属は、Ti、Si、Ni、V、Sn、Zr、Ta、及びGeからなる少なくとも1種である、請求項10又は11に記載の複合体。
- 金属酸化物がアナターゼ型二酸化チタンである請求項10又は11に記載の複合体。
- 負極材料として用いられる請求項10〜13のいずれかに記載の複合体。
- リチウムイオンキャパシタ負極用の材料として用いられる請求項14に記載の複合体。
- 触媒として用いられる請求項10〜13のいずれかに記載の複合体。
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