JPWO2019004200A1 - ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品 - Google Patents

Abstract

特定の繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び特定の繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）０．１質量％以上１００質量％以下と、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）０質量％以上９９．９質量％以下とを含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びポリエステル系樹脂（Ｃ）１質量％以上５０質量％以下を含み、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が２０以上５０未満であり、３ｍｍプレートの全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。

Description

本発明はポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関する。

ポリカーボネート樹脂（以下、ＰＣ樹脂と略記することがある）は、エンジニアリングプラスチックの中でも非常に高い耐衝撃性を有し、耐熱性も良好な樹脂として知られている。そのため、ＯＡ機器、情報通信機器、家庭電化機器分野など種々の分野で用いられている。しかしながら、耐薬品性に劣るという欠点を有している。
ポリカーボネート樹脂の耐薬品性を改良させる手段の１つとして、該ポリカーボネート樹脂を、ポリブチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンテレフタレート樹脂に代表される熱可塑性ポリエステル樹脂等とポリマーアロイ化することが提案されている（特許文献１）。
特許文献１では、アロイ化したことによる物性低下を防ぐため、ホスフェート化合物を添加することを提案している。

特開平０３−０９７７５２号公報

しかしながら、特許文献１では透明性については特に改善が図られていない。さらに耐衝撃性は未だ十分ではなく、耐薬品性についても何ら言及されていない。

本発明者等は、より優れた耐衝撃性、耐薬品性及び透明性を有するポリカーボネート系樹脂組成物を得るべく検討した。その結果、特定のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂と、ポリエステル系樹脂とを含むポリカーボネート系樹脂組成物が上記課題を解決することを見出した。
すなわち、本発明は下記［１］〜［１３］に関する。
［１］下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）０．１質量％以上１００質量％以下と、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）０質量％以上９９．９質量％以下とを含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びポリエステル系樹脂（Ｃ）１質量％以上５０質量％以下を含み、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が２０以上５０未満であり、
３ｍｍプレートの全光線透過率が８０％以上である、ポリカーボネート系樹脂組成物。

［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
［２］前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、上記［１］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。

［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
［３］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が１質量％以上１２質量％以下である、上記［１］または［２］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［４］前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、上記［１］〜［３］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［５］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［１］〜［４］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［６］前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［１］〜［５］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［７］前記ポリエステル系樹脂（Ｃ）がポリエチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種である、上記［１］〜［６］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［８］前記ポリエステル系樹脂（Ｃ）がポリエチレンテレフタレートである、上記［７］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［９］フッ素を含有する難燃助剤を含まない、上記［１］〜［８］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１０］無機フィラーを含まない、上記［１］〜［９］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１１］上記［１］〜［１０］のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
［１２］電気及び電子機器用部品の外装及び内部部品である、上記［１１］に記載の成形品。
［１３］自動車及び建材の部品である、上記［１１］に記載の成形品。

本発明によれば、より優れた耐衝撃性、耐薬品性及び透明性を有するポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を得ることができる。

本発明者は鋭意検討の結果、以下の驚くべき結果を見出した。本発明で必要とする鎖長範囲のポリオルガノシロキサンブロックを有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は単独では、かかるポリオルガノシロキサンブロックを有さない一般的なポリカーボネート系樹脂と透明性は同等である。しかし、本発明において、特定の鎖長範囲を有するポリオルガノシロキサンブロックを有する前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体とポリエステル系樹脂とを含む樹脂組成物とすることで、優れた耐衝撃性、耐薬品性を有しながら、前記一般的なポリカーボネート系樹脂とポリエステル系樹脂とを含む樹脂組成物と比して、より優れた透明性をも得られることを見出した。以下、詳細に説明する。
本明細書において、「ＸＸ〜ＹＹ」の記載は、「ＸＸ以上ＹＹ以下」を意味する。また、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましい。

＜ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）（以下、「ＰＣ−ＰＯＳ共重合体」と略記することがある）は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含み、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が２０以上５０未満であることを特徴とする。

［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示す。以下、明細書中同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位として前記アルキル基を有するものが挙げられる。

Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、アルキレン基としては上述したアルキレンが挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、アルキリデン基としては上述したアルキリデン基を挙げることができる。

ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０または１である。
中でも、ａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数１〜８のアルキレン基であるもの、またはａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキレン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ³またはＲ⁴で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ³及びＲ⁴としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。

上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は、より具体的には、下記一般式（ＩＩ−Ｉ）〜（ＩＩ−ＩＩＩ）で表される単位を有することが好ましい。

［式中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示し、複数のＲ³〜Ｒ⁶は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙは−Ｒ⁷Ｏ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−、−Ｒ⁷ＮＨ−、−Ｒ⁷ＮＲ⁸−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−Ｒ⁹−Ｏ−、または−Ｒ⁷Ｏ−Ｒ¹⁰−Ｏ−を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。前記Ｒ^７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ⁸は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ⁹は、ジアリーレン基を示す。Ｒ¹⁰は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、またはジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、またはジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｎはポリオルガノシロキサンの鎖長を示し、２０以上５０未満であることを有する。ｎ−１、及びｐとｑはそれぞれポリオルガノシロキサン単位の繰り返し数を示し、１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ−２である。］

Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ³〜Ｒ⁶としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基である。
一般式（ＩＩ−Ｉ）、（ＩＩ−ＩＩ）及び／または（ＩＩ−ＩＩＩ）中のＲ³〜Ｒ⁶がいずれもメチル基であることが好ましい。

Ｙが示す−Ｒ⁷Ｏ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−、−Ｒ⁷ＮＨ−、−Ｒ⁷ＮＲ⁸−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−Ｒ⁹−Ｏ−、または−Ｒ⁷Ｏ−Ｒ¹⁰−Ｏ−におけるＲ⁷が表す直鎖または分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基が挙げられる。Ｒ⁷が表す環状アルキレン基としては、炭素数５〜１５、好ましくは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が挙げられる。

Ｒ⁷が表すアリール置換アルキレン基としては、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式（ｉ）または（ｉｉ）の構造を示すことができる。ここで、Ｒ⁷がアリール置換アルキレン基を示す場合、アルキレン基がＳｉに結合している。

（式中ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である）

Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、または二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には−Ａｒ¹−Ｗ−Ａｒ²−で表わされる構造を有する基である。ここで、Ａｒ¹及びＡｒ²は、アリーレン基を示し、Ｗは単結合、または２価の有機基を示す。Ｗの示す２価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
Ｒ⁷、Ａｒ¹及びＡｒ²が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数６〜１４のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
Ｒ⁸が示すアルキル基としては炭素数１〜８、好ましくは１〜５の直鎖または分岐鎖のものである。Ｒ⁸が示すアルケニル基としては、炭素数２〜８、好ましくは２〜５の直鎖または分岐鎖のものが挙げられる。Ｒ⁸が示すアリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。Ｒ⁸が示すアラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
Ｒ¹⁰が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、Ｒ⁷と同様である。

Ｙとしては、好ましくは−Ｒ⁷Ｏ−であって、Ｒ⁷が、アリール置換アルキレン基であって、特にアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
なお、式（ＩＩ−ＩＩ）中のｐ及びｑについては、ｐ＝ｑであることが好ましい。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基またはジカルボン酸またはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（ｉｉｉ）〜（ｖｉｉ）で表される２価の基が挙げられる。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長ｎは２０以上５０未満であることを要する。式（ＩＩ−Ｉ）及び（ＩＩ−ＩＩＩ）中のｎが２０以上５０未満となり、（ＩＩ−ＩＩ）の場合にはｐとｑの和に２を足した数が上記範囲となる。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の平均鎖長が２０以上５０未満であれば、最終的に得られるポリカーボネート系樹脂組成物は耐衝撃性等に優れると共に、透明性にも優れる。
ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長は、好ましくは３０以上、より好ましくは３５以上である。また、好ましくは４９以下、より好ましくは４５以下である。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、好ましくは１質量％以上１２質量％以下であることが好ましい。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサン量が上記範囲内であれば、より優れた耐衝撃性及び透明性を得ることができる。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、より好ましくは２質量％以上、さらに好ましくは３質量％以上であり、特に好ましくは４質量％以上であり、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは９質量％以下、さらに好ましくは８質量％以下である。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整ことができる。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）の粘度平均分子量は、好ましくは９，０００以上５０，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。粘度平均分子量が５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）の粘度平均分子量は、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２２，０００以下、最も好ましくは２０，０００以下である。
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、下記Schnellの式から算出した値である。

上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）は、界面重合法（ホスゲン法）、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法により製造することができる。特に界面重合法を採用した場合には、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易であり、アルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄等の各洗浄工程におけるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と水相との分離が容易である。そのため、効率よくＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）が得られる。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を製造する方法として、例えば、特開２０１４−８０４６２号公報等に記載の方法を参照することができる。

具体的には、後述する予め製造されたポリカーボネートオリゴマーと、ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−tert−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステルまたはクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。

原料となるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１）、（２）及び／または（３）に示すものを用いることができる。

式中、Ｒ³〜Ｒ⁶、Ｙ、β、ｎ−１、ｐ及びｑは上記した通りであり、具体例及び好ましいものも同様である。
Ｚは、水素原子またはハロゲン原子を示し、複数のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。

例えば、一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１−１）〜（１−１１）の化合物が挙げられる。

上記一般式（１−１）〜（１−１１）中、Ｒ³〜Ｒ⁶、ｎ及びＲ⁸は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式（１−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式（１−２）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、上記一般式（１−３）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
その他、ポリオルガノシロキサン原料として以下の一般式（４）を有するものを用いてもよい。

式中、Ｒ³及びＲ⁴は上述したものと同様である。一般式（４）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長は（ｒ×ｍ）となり、（ｒ×ｍ）の範囲は上記ｎと同一である。
上記（４）をポリオルガノシロキサン原料として用いた場合には、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は下記一般式（ＩＩ−ＩＶ）で表わされる単位を有することが好ましい。

［式中のＲ³、Ｒ⁴、ｒ及びｍは上述した通りである］

ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）として、下記一般式（ＩＩ−Ｖ）で表される構造を有していてもよい。

［式中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１３のアルキル基である。Ｒ²²は炭素数１〜６のアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１４のアリール基である。Ｑ²は炭素数１〜１０の２価の脂肪族基である。ｎは平均鎖長を示し、上記の通りである。］

一般式（ＩＩ−Ｖ）中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹がそれぞれ独立して示す炭素数１〜１３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、２−エチルヘキシル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基、各種トリデシル基が挙げられる。中でも、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹は、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、いずれもメチル基を示すことがより好ましい。
Ｒ²²が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ²²が示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ²²が示す炭素数１〜６のアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ²²が示す炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、及びナフチル基などが挙げられる。
上記の中でも、Ｒ²²が水素原子、又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示すことが好ましく、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルコキシ基を、さらに好ましくは水素原子を示す。
Ｑ²が示す炭素数１〜１０の２価の脂肪族基としては、炭素数１以上１０以下の、直鎖又は分岐鎖の２価の飽和脂肪族基が好ましい。当該飽和脂肪族基の炭素数は、好ましくは１以上８以下、より好ましくは２以上６以下、さらに好ましくは３以上６以下、よりさらに好ましくは４以上６以下である。また、平均鎖長ｎは上記の通りである。

構成単位（ＩＩ−Ｖ）の好ましい態様としては、下記式（ＩＩ−ＶＩ）で表される構造を挙げることができる。

［式中、ｎは上記の通りである。］

上記一般式（ＩＩ−Ｖ）または（ＩＩ−ＶＩ）で表されるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は、下記一般式（５）または（６）で表されるポリオルガノシロキサン原料を用いることにより得ることができる。

［式中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²²、Ｑ²、及びｎは上記した通りである。］

［式中、ｎは上記した通りである。］

前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平１１−２１７３９０号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物（例えば２−アリルフェノール、４−アリルフェノール、オイゲノール、２−プロペニルフェノール等）等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第２６６２３１０号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸（酸性触媒）の存在下で反応させ、得られたα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下でフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその鎖長ｎを適宜調整して用いることもできるし、市販のα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。具体的には、特開２０１６−０９８２９２号公報に記載されるものを用いることができる。

ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。
二価フェノールとしては、下記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールを用いることが好ましい。

式中、Ｒ¹、Ｒ²、ａ、ｂ及びＸは上述した通りである。

上記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールとしては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、上記一般式（Ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０のＰＣ−ＰＯＳ共重合体となる。

ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類としては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−tert−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等が挙げられる。

ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類としては、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。

ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。

ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等が挙げられる。

上記以外の二価フェノールとしては、例えば４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタン等が挙げられる。

得られるＰＣ−ＰＯＳ共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤（分子量調節剤）を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ−クレゾール、ｐ−tert−ブチルフェノール、ｐ−tert−オクチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｍ−ペンタデシルフェノール及びｐ−tert−アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し［分離工程］、有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、及び乾燥［乾燥工程］することによって、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を得ることができる。

＜芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）＞
芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）はＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）以外のポリカーボネート系樹脂であり、好ましくは主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有する。上記ポリカーボネート系樹脂としては、特に制限はなく種々の公知のポリカーボネート系樹脂を使用できる。

［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］

Ｒ³⁰及びＲ³¹が示す基の具体例は、前記Ｒ¹及びＲ²と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ³⁰及びＲ³¹は、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｄ及びｅは、それぞれ独立に、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。

上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）としては、具体的には、反応に不活性な有機溶媒とアルカリ水溶液との存在下で、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジンまたはピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等、従来のポリカーボネート樹脂の製造法により得られるものを使用できる。
上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
なお、上記二価フェノール系化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ’）で表されるものが挙げられる。

［式中、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｘ’、ｄ及びｅは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］

該二価フェノール系化合物の具体例としては、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の製造方法で上述したものを挙げることができ、好ましいものも同じである。中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と異なり、式（ＩＩ）で表されるようなポリオルガノシロキサンブロックを有さない構造であってもよい。例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）はホモポリカーボネート系樹脂であってもよい。

＜ポリエステル系樹脂（Ｃ）＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリエステル系樹脂（Ｃ）としては、芳香族ジカルボン酸またはその反応性誘導体と、ジオール、またはそのエステル誘導体とを主成分とする縮合反応により得られる重合体または共重合体を挙げることができる。

芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルメタンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルスルホンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルイソプロピリデンジカルボン酸、１，２−ビス（フェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボン酸、２，５−アントラセンジカルボン酸、２，６−アントラセンジカルボン酸、４，４’−ｐ−ターフェニレンジカルボン酸、２，５−ピリジンジカルボン酸等が挙げられ、これらの置換体（例えば、５−メチルイソフタル酸などのアルキル基置換体など）や反応性誘導体（例えばテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチルなどのアルキルエステル誘導体など）等を用いることもできる。
これらのうち、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸及びそれらのアルキルエステル誘導体がより好ましく、テレフタル酸及びそのアルキルエステル誘導体が特に好ましい。これら芳香族ジカルボン酸は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよく、該芳香族ジカルボン酸と共にアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸等の１種以上併用することも可能である。

ポリエステル系樹脂（Ｃ）の成分であるジオール類としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、トリエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、デカメチレングリコール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール等の脂肪族ジオール類；１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、トランス−又はシス−２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール等の脂環式ジオール類；ｐ−キシレンジオール、ビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ−ビス（２−ヒドロキシエチルエーテル）等の芳香族ジオール類等を挙げることができ、これらの置換体も使用することができる。
これらのうち、耐熱性及び寸法安定性等の点から、脂肪族ジオールが好ましく、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールがより好ましく、エチレングリコールが特に好ましい。ジオールは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、ジオール成分として、分子量４００以上６，０００以下の長鎖ジオール類、すなわちポリエチレングリコール、ポリ−１，３−プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の１種以上を上記ジオール類と併用して共重合させてもよい。

ポリエステル系樹脂（Ｃ）には、パラヒドロキシ安息香酸などのヒドロキシカルボン酸や、その他のカルボン酸、上記ジオール以外のアルコールを共重合させることができ、本発明ではこのような共重合樹脂を用いることもできる。しかしながら、このような共重合成分は少量であるのが好ましく、ポリエステル系樹脂（Ｃ）のうち８０質量％以上、さらに９０質量％以上が、芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールからの成分であるのが好ましい。また芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールは、それぞれその８０モル％以上、更には９０モル％以上を１種類の化合物が占めるのが好ましい。
ポリエステル系樹脂（Ｃ）は少量の分岐剤を導入することにより分岐させることができる。分岐剤の種類に制限はないがトリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられる。

具体的なポリエステル系樹脂（Ｃ）としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリへキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）、ポリエチレン−１，２−ビス（フェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボキシレート等の他、ポリエチレンイソフタレート／テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート／イソフタレート等の共重合ポリエステル樹脂が挙げられる。これらのうち、機械的性質等のバランスがとれたポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレートおよびこれらの混合物が好ましく使用できる。ポリエステル系樹脂（Ｃ）が材料の入手容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレートであることがさらに好ましい。なお併用する場合には、その比率はＰＥＴ：ＰＢＴ＝１：１〜１：８（質量比）が好ましい。

＜その他の成分＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の添加剤を含ませることができる。その他の添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、補強材、充填剤、耐衝撃性改良用のエラストマー、染料、顔料、帯電防止剤、ポリカーボネート系樹脂以外の樹脂等を挙げることができる。

＜ポリカーボネート系樹脂組成物＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）０．１質量％以上１００質量％以下と、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）０質量％以上９９．９質量％以下とを含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）を５０質量％以上９９質量％以下、及び前記ポリエステル系樹脂（Ｃ）を１質量％以上５０質量％以下含む。

上記ポリカーボネート系樹脂組成物において、ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の含有量は、耐衝撃性、透明性及び耐薬品性等の所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から０．１質量％以上１００質量％以下であることを要し、通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上であり、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは９５質量％以下である。
一方、ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の含有量は、得られる樹脂組成物の耐衝撃性の観点から０質量％以上９９．９質量％以下であることを要し、好ましくは１質量％以上であり、通常９５質量％以下、好ましくは９０質量％以下、より好ましくは８０質量％以下、さらに好ましくは７０質量％以下である。

上記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下である。ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が上記範囲にあれば、優れた耐衝撃特性を得ることができる。
ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、より好ましくは０．４質量％以上、より好ましくは０．８質量％以上、さらに好ましくは１質量％以上、特に好ましくは３質量％以上であり、より好ましくは８質量％以下、さらに好ましくは７質量％以下、特に好ましくは６質量％以下である。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物中には上記ポリエステル系樹脂（Ｃ）が１質量％以上５０質量％以下含まれる。ポリカーボネート系樹脂組成物中でのポリエステル系樹脂（Ｃ）の含有量は、好ましくは３質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上、特に好ましくは１５質量％以上、最も好ましくは２０質量％以上であり、好ましくは４５質量％以下、より好ましくは３５質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下、特に好ましくは２５質量％以下である。

上記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）と、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）とを含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整ことができる。ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量は、好ましくは９，０００以上５０，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量は、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２１，０００以下である。
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、下記Schnellの式から算出した値である。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記の各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
本発明の一態様において、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計含有量は、ポリカーボネート系樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは８０〜１００質量％、より好ましくは９５〜１００質量％、よりさらに好ましくは９７〜１００質量％、特に好ましくは９８〜１００質量％、最も好ましくは９９〜１００質量％である。
本発明の他の態様において、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び上記その他成分の合計含有量は、ポリカーボネート系樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは９０〜１００質量％、より好ましくは９５〜１００質量％、よりさらに好ましくは９７〜１００質量％、特に好ましくは９８〜１００質量％、最も好ましくは９９〜１００質量％である。

配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、２４０℃以上３２０℃以下の範囲で適宜選択される。この溶融混練としては、押出機、特に、ベント式の押出機の使用が好ましい。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、優れた耐薬品性及び耐衝撃性を有すると共に、透明性にも優れることを特徴とする。具体的には、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、３ｍｍプレートとした際の全光線透過率が８０％以上であることを要する。全光線透過率は、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定される値である。上記全光線透過率は、好ましくは８３％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは８７％以上である。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、フッ素を含有する難燃助剤及び／または無機フィラーを含まないことが好ましい。フッ素を含有する難燃助剤や無機フィラーを含まないことにより、より高い全光線透過率を得ることができる。

［成形品］
上記の溶融混練した本発明のポリカーボネート系樹脂組成物、または得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により各種成形体を製造することができる。特に、溶融混練により得られたペレットを用いて、射出成形及び射出圧縮成形による射出成形体の製造に好適に用いることができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品は、例えば、テレビ、ラジオ、カメラ、ビデオカメラ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、スマートフォン、トランシーバー、ディスプレイ、コンピュータ、タブレット端末、携帯ゲーム機器、据置ゲーム機器、装着型電子機器、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ、通信基地局、バッテリー、ロボット等の電気・電子機器用部品の外装及び内部部品等、並びに自動車、鉄道、船舶、航空機、宇宙産業用機器、医療機器の外装及び内部部品並びに建材の部品として好適に用いることができる。

次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、各例における特性値、評価結果は、以下の要領に従って求めた。

（１）ポリジメチルシロキサン鎖長および含有率
ＮＭＲ測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比により算出した。なお、本明細書においては、ポリジメチルシロキサンをＰＤＭＳと略記することがある。
＜ポリジメチルシロキサンの鎖長の定量方法＞
¹Ｈ−ＮＭＲ測定条件
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＥＣＡ−５００
プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：３０〜４０ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
積算回数：２５６回
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．５０〜２．７５付近に観測されるアリルフェノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
オイゲノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．４０〜２．７０付近に観測されるオイゲノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）

＜ポリジメチルシロキサン含有率の定量方法＞
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したＰＴＢＰ末端ポリカーボネート樹脂中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＥＣＡ−５００
プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
積算回数：２５６回
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：３０〜４０ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
Ａ：δ１．５〜１．９付近に観測されるＢＰＡ部のメチル基の積分値
Ｂ：δ−０．０２〜０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｃ：δ１．２〜１．４付近に観測されるｐ−tert−ブチルフェニル部のブチル基の積分値
ａ＝Ａ／６
ｂ＝Ｂ／６
ｃ＝Ｃ／９
Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ
ｆ＝ａ／Ｔ×１００
ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
ＴＷ＝ｆ×２５４＋ｇ×７４．１＋ｈ×１４９
ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００

（２）粘度平均分子量
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Schnellの式）にて算出した。

＜製造例１：ポリカーボネートオリゴマーの製造＞
５．６質量％の水酸化ナトリウム水溶液に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（後から溶解する）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加えた。これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％となるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒ、及びホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液を、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％のトリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３４１ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７１ｍｏｌ／Ｌであった。

＜ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ１）＞
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に、上記製造例１で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン１０．１Ｌ、ポリジメチルシロキサンの平均鎖長ｎが３７であるｏ−アリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）４０７ｇ及びトリエチルアミン８．４ｍＬを仕込み、攪拌下でここに水酸化ナトリウム８５ｇを純水９８０ｍＬに溶かした水酸化ナトリウム水溶液１０６５ｇを加え、２０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−tert−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ７０．４ｇを塩化メチレン１．０Ｌに溶解したもの）、ビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液（水酸化ナトリウム６１８ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．１ｇを純水９．０Ｌに溶解した水溶液にビスフェノールＡ１０９３ｇを溶解させたもの）を添加し、４０分間重合反応を行った。
希釈のため塩化メチレン１３Ｌを加え２０分間攪拌した後、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体）を含む有機相と過剰のビスフェノールＡ及び水酸化ナトリウムを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液、０．２モル／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が５μＳ／ｃｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥し、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体（Ａ１）を製造した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体（Ａ１）のＮＭＲにより求めたＰＤＭＳブロック部分の含有量は６．０質量％、粘度平均分子量Ｍｖは１７，７００であった。

＜ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ２）＞
ポリジメチルシロキサンの平均鎖長ｎが８８であるｏ−アリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを用いたこと以外は、上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ１）と同様にして、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体（Ａ２）を製造した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体（Ａ２）の核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めたＰＤＭＳブロック部分の含有量は６．０質量％、粘度平均分子量Ｍｖは１７，７００であった。

＜芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）＞
芳香族ホモポリカーボネート樹脂（Ｂ１）［出光興産（株）製，タフロンＦＮ２５００（商品名），粘度平均分子量＝２３，５００］
芳香族ホモポリカーボネート樹脂（Ｂ２）［出光興産（株）製，タフロンＦＮ２２００（商品名），粘度平均分子量＝２１，３００］
芳香族ホモポリカーボネート樹脂（Ｂ３）［出光興産（株）製，タフロンＦＮ１９００（商品名），粘度平均分子量＝１９，３００］
芳香族ホモポリカーボネート樹脂（Ｂ４）［出光興産（株）製，タフロンＦＮ１７００（商品名），粘度平均分子量＝１７，７００］

＜ポリエステル系樹脂（Ｃ）＞
ポリエチレンテレフタレート（Ｃ１）：「三井ＰＥＴ Ｊ０５５」［三井化学（株）製］
ポリエチレンテレフタレート（Ｃ２）：「三井ＰＥＴ Ｊ１２５」［三井化学（株）製］
ポリエチレンテレフタレート（Ｃ３）：「クラペット ＫＳ７６０Ｋ−１２」［（株）クラレ製］
ポリブチレンテレフタレート（Ｃ４）：「ジュラネックス ２００２ ＥＦ２００１」［ウィンテックポリマー（株）製］
＜その他成分＞
酸化防止剤：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名）」［トリス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製］
酸化防止剤：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（商品名）」［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシル，ＢＡＳＦジャパン株式会社製］

実施例１〜１１、比較例１−１〜１０−２，参考例１〜２
上記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ１）および（Ａ２）、並びにその他の各成分を表１〜表３に示す配合割合で混合し、ベント式二軸押出機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ３５Ｂ）に供給し、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈｒ、樹脂温度２９５〜３００℃にて溶融混練し、評価用ペレットサンプルを得た。この評価用ペレットサンプルを１００℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形してＩｚｏｄ試験を行うための試験片（６３×１３×３．２ｍｍ試験片２個）及びＨＤＴ試験片（１２６×１３×３．２ｍｍ）を作成した。さらに乾燥した評価用ペレットサンプルを射出成形機（株式会社ニイガタマシンテクノ製、ＭＤ５０ＸＢ、スクリュー径３０ｍｍφ）を用いて全光線透過率の測定を行うための試験片（３段プレート９０ｍｍ×５０ｍｍ、３ｍｍ厚部分４５ｍｍ×５０ｍｍ、２ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ、１ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ）を作成した

［評価試験］
＜全光線透過率：Ｔｔ（％）＞
全光線透過率は、厚み３ｍｍの試験片について、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定した。測定装置としては、日本電色工業株式社製のＮＤＨ２０００を用いた。試験片は、上述した透明性の評価試験用の試験片を用いた。
＜ヘイズ値＞
厚み３ｍｍの試験片について、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定した。ヘイズ値が小さいほど透明性が高くなる。
ヘイズ（％）＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００
（式中、Ｔｄ：拡散透過率，Ｔｔ：全光線透過率）
＜ＹＩ値＞
厚み３ｍｍの試験片について、分光光度計「Ｕ−４１００」（日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用い、Ｃ光源、２度視野の条件でＹＩ値を測定した。

＜流動性評価：ＭＦＲ＞
上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０−１：２０１４に準拠し、３００℃、１．２ｋｇの荷重下にて、直径２．０９５±０．００５ｍｍ、長さ８．０００±０．０２５ｍｍのダイから流出する溶融樹脂量（ｇ／１０分）を測定した。
＜Ｑ値（流れ値）〔単位；１０^-2ｍＬ／秒〕＞
上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０−１：２０１４：付属書ＪＡに準拠し、高架式フローテスターを用いて、２８０℃、１６０ｋｇｆの圧力下にて、直径１．００ｍｍ、長さ１０．００ｍｍのノズルより流出する溶融樹脂量（１０^-2ｍＬ／秒）を測定した。Ｑ値は単位時間当たりの流出量を表しており、数値が高いほど、流動性が良いことを示す。

＜耐衝撃性＞
上記得られたペレットを１００℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形してＩＺＯＤ試験片（長さ６３．５ｍｍ、幅１２．７ｍｍ，厚さ３．２ｍｍ）を作成した。この試験片に後加工でノッチ（ｒ＝０．２５ｍｍ±０．０５ｍｍ）を付与した試験片を用いて、ＡＳＴＭ規格Ｄ−２５６に準拠して、−４０℃、−３０℃、−２０℃、−１０℃、０℃及び２３℃におけるノッチ付きアイゾット衝撃強度を測定した。

＜荷重たわみ温度：ＨＤＴ（単位；℃）＞
上記得られたペレットを１００℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形して試験片（長さ１２７ｍｍ、幅１２．７ｍｍ、厚み３．２ｍｍ）を得た。この試験片を用い、ＡＳＴＭ規格Ｄ−６４８に準拠して、昇温速度１２０℃／ｈ、支点間距離１００ｍｍ、１．８３ＭＰａの荷重を掛けて、エッジワイズによる試験片のたわみが０．２６ｍｍに達した時の温度を記録した。

＜酢酸イソブチルに対する耐薬品性＞
長さ１２７ｍｍ、幅１２．７ｍｍ、厚み３．２ｍｍの試験片を成形温度２８０℃、金型温度８０℃で射出成形し、スパン距離８０ｍｍの３点曲げ試験法にて、１．０％の歪みをかけた後、綿棒を使って酢酸イソブチルを塗付し、２３℃で２分放置した後に、外観変化を確認し、次の基準に従い評価した。
外観変化がない、又は微細なクラックが表面に発生したものを「Ａ」とした。
クラックが厚み方向にサンプルの表面から反対に達したものを「Ｂ」とした。

本発明で得られるポリカーボネート系樹脂組成物は、耐衝撃性に優れるため、電気・電子機器用部品の筐体等、自動車及び建材の部品等として好適に用いることができる。

Claims (13)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）０．１質量％以上１００質量％以下と、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）０質量％以上９９．９質量％以下とを含むポリカーボネート系樹脂（Ｓ）５０質量％以上９９質量％以下、及びポリエステル系樹脂（Ｃ）１質量％以上５０質量％以下を含み、
   前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が２０以上５０未満であり、
   ３ｍｍプレートの全光線透過率が８０％以上である、ポリカーボネート系樹脂組成物。
   

   

   
   ［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
2. 前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、請求項１に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
   

   

   
   ［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
3. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が１質量％以上１２質量％以下である、請求項１または２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
4. 前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
5. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
6. 前記ポリカーボネート系樹脂（Ｓ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
7. 前記ポリエステル系樹脂（Ｃ）がポリエチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレートから選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
8. 前記ポリエステル系樹脂（Ｃ）がポリエチレンテレフタレートである、請求項７に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
9. フッ素を含有する難燃助剤を含まない、請求項１〜８のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
10. 無機フィラーを含まない、請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
12. 電気及び電子機器用部品の外装及び内部部品である、請求項１１に記載の成形品。
13. 自動車及び建材の部品である、請求項１１に記載の成形品。