JPWO2018235317A1 - 波長可変レーザ装置および波長可変レーザ装置の製造方法 - Google Patents
波長可変レーザ装置および波長可変レーザ装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018235317A1 JPWO2018235317A1 JP2019525051A JP2019525051A JPWO2018235317A1 JP WO2018235317 A1 JPWO2018235317 A1 JP WO2018235317A1 JP 2019525051 A JP2019525051 A JP 2019525051A JP 2019525051 A JP2019525051 A JP 2019525051A JP WO2018235317 A1 JPWO2018235317 A1 JP WO2018235317A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor chip
- waveguides
- laser device
- tunable laser
- grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/0206—Substrates, e.g. growth, shape, material, removal or bonding
- H01S5/021—Silicon based substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
- H01S5/02255—Out-coupling of light using beam deflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0233—Mounting configuration of laser chips
- H01S5/0234—Up-side down mountings, e.g. Flip-chip, epi-side down mountings or junction down mountings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/042—Electrical excitation ; Circuits therefor
- H01S5/0425—Electrodes, e.g. characterised by the structure
- H01S5/04256—Electrodes, e.g. characterised by the structure characterised by the configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/0625—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
- H01S5/06255—Controlling the frequency of the radiation
- H01S5/06256—Controlling the frequency of the radiation with DBR-structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1028—Coupling to elements in the cavity, e.g. coupling to waveguides adjacent the active region, e.g. forward coupled [DFC] structures
- H01S5/1032—Coupling to elements comprising an optical axis that is not aligned with the optical axis of the active region
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
- H01S5/125—Distributed Bragg reflector [DBR] lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
- H01S5/141—External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
- H01S5/142—External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon which comprises an additional resonator
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/026—Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
- H01S5/0261—Non-optical elements, e.g. laser driver components, heaters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/0607—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature
- H01S5/0612—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature controlled by temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
Description
並列に配置された第1、第2導波路を有する第1半導体チップと、
前記第1、第2導波路に光学的に接続され、前記第1、第2導波路と協働して共振器を構成する光回路とを有する第2半導体チップとを備え、
前記第1、第2導波路は、それぞれ2つ以上の表面電極を有し、
前記第2半導体チップは、前記第1、第2導波路の前記表面電極に接合された複数の電極を有する。
[1.レーザ共振器]
図1Aは、本発明の実施の形態1に係る波長可変レーザ装置1を示す平面図であり、図1Bは、図1AをA−A線に沿って切って矢印の方向に見た断面図である。図示しているように、波長可変レーザ装置1は、第1半導体チップ2と第2半導体チップ3とを備えている。詳しくは後述するが、第1半導体チップ2は、フリップチップボンディングにより、第2半導体チップ3に接合されている。波長可変レーザ装置1では、第1半導体チップ2と第2半導体チップ3とが協働して共振器(光共振器)を構成している。以下、第1半導体チップ2と第2半導体チップ3の構成について、それぞれ詳しく説明する。
図2は、第1半導体チップ2を示す断面図である。図2は、後述する図3AをB−B線に沿って切って矢印の方向に見た断面図である。図示しているように、第1半導体チップ2は、いわゆるダブルへテロ構造を有しており、N型基板4と、N型基板4の上に設けられ、平坦部5と2つのリッジ部6,7とを有するN型クラッド層(または下側クラッド層)8と、N型クラッド層8のリッジ部6の上に設けられた活性層9と、N型クラッド層8のリッジ部7の上に設けられた受動層10と、活性層9および受動層10の上にそれぞれ設けられたP型クラッド層11,12(または第1、第2の上側クラッド層)とを有している。第1半導体チップ2の例示的なチップサイズは、約500μm×1000μmである。
図5Aは、第2半導体チップ3を示す平面図であり、図5Bは、図5AをD−D線に沿って切って矢印の方向に見た断面図である。以下、第2半導体チップ3がシリコン系材料で作られている例について説明する。
次に、図6Aと図6Bを参照して、本発明の実施形態1に係る波長可変レーザ装置1の動作について説明する。
次に、図7から図11を参照して、波長可変レーザ装置1の発振波長の調整原理について説明する。以下の説明は、第1、第2反射グレーティング領域19,21にサンプルドグレーティング(SG)が設けられている例について説明するが、第1、第2反射グレーティング領域19,21に超周期構造グレーティング(SSG)が設けられている例でも発振波長は同様に調整されることが当業者により理解される。
図12は、本発明の実施の形態1に係る波長可変レーザ装置1の例示的な製造方法を示すフローチャートである。この製造方法は、第1半導体チップ2を準備するステップ、第2半導体チップ3を準備するステップ、および、第1半導体チップ2と第2半導体チップ3とを接合するステップとを含む。
図14は、本発明の実施の形態2に係る波長可変レーザ装置301を示す断面図である。以下、波長可変レーザ装置301の構成のうち、実施形態1に係る波長可変レーザ装置1と異なる部分についてのみ説明する。
以上、複数の実施形態を挙げて本発明について説明したが、各実施形態に記載された特徴は、自由に組み合わせられてよい。また、上述の実施形態には、種々の改良、設計上の変更および削除が加えられてよく、本発明にはさまざまな変形例が存在する。
次に、上述の実施形態で付した符号を用いて、本発明の第1の態様に係る波長可変レーザ装置および第2の態様に係る波長可変レーザ装置の製造方法について説明する。各構成要素に付している符号は、本発明の範囲を限定するものでないと理解すべきである。
Claims (8)
- 並列に配置された第1、第2導波路を有する第1半導体チップと、
前記第1、第2導波路に光学的に接続され、前記第1、第2導波路と協働して共振器を構成する光回路を有する第2半導体チップとを備え、
前記第1、第2導波路は、それぞれ2つ以上の表面電極を有し、
前記第2半導体チップは、前記第1、第2導波路の前記表面電極に接合された複数の電極を有する、
波長可変レーザ装置。 - 前記第1半導体チップには、前記第1、第2導波路を進む光を反射させて前記第2半導体チップの前記光回路に結合させるためのミラーが設けられている、
請求項1に記載の波長可変レーザ装置。 - 前記第1、第2導波路は、それぞれ、光学利得領域、反射グレーティング領域および位相領域のうち少なくとも2つを含んでいる、
請求項1または2に記載の波長可変レーザ装置。 - 前記光回路は、前記第1、第2導波路に光学的に接続された第1、第2グレーティングカプラを有している、
請求項1から3のいずれか1項に記載の波長可変レーザ装置。 - 前記第1、第2グレーティングカプラは、グレーティング周期または結合係数を空間的に変調したことを特徴とする、
請求項1から4のいずれか1項に記載の波長可変レーザ装置。 - 前記光回路は、単一モード導波路を介して前記第1、第2グレーティングカプラに接続された光入出力ポートを有する多モード干渉カプラと、前記多モード干渉カプラに光学的に接続された光出力取り出し用の第3グレーティングカプラと、前記多モード干渉カプラの出力ポートと第3グレーティングカプラとの間に設けられたループミラーとを有する、
請求項4または5に記載の波長可変レーザ装置。 - 前記第1半導体チップは、化合物半導体から作られており、
前記第2半導体チップは、シリコン系半導体から作られている、
請求項1から6のいずれか1項に記載の波長可変レーザ装置。 - 並列に配置された第1、第2導波路を有する第1半導体チップを準備するステップと、
光回路を有する第2半導体チップを準備するステップとを含み、
前記第1、第2導波路は、それぞれ2つ以上の表面電極を有し、
前記第2半導体チップは、複数の電極を有し、
前記第1、第2導波路の前記表面電極と前記第2半導体チップの前記複数の電極とをフリップチップボンディングにより接合することにより、前記第1、第2導波路と前記光回路とを光学的に接続して共振器を構成するステップをさらに含む、
波長可変レーザ装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017123172 | 2017-06-23 | ||
JP2017123172 | 2017-06-23 | ||
PCT/JP2017/047215 WO2018235317A1 (ja) | 2017-06-23 | 2017-12-28 | 波長可変レーザ装置および波長可変レーザ装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018235317A1 true JPWO2018235317A1 (ja) | 2019-12-26 |
JP6723451B2 JP6723451B2 (ja) | 2020-07-15 |
Family
ID=64737759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019525051A Active JP6723451B2 (ja) | 2017-06-23 | 2017-12-28 | 波長可変レーザ装置および波長可変レーザ装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11050215B2 (ja) |
JP (1) | JP6723451B2 (ja) |
CN (1) | CN110741517B (ja) |
WO (1) | WO2018235317A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210126428A1 (en) * | 2019-10-29 | 2021-04-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Semiconductor optical device |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11804694B2 (en) * | 2019-03-27 | 2023-10-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laser device and method of transforming laser spectrum |
CN110911958A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-03-24 | 上海交通大学 | 基于二维材料可饱和吸收体的硅基被动锁模外腔激光器 |
US11143821B1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-10-12 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Integrated grating coupler system |
TWI782350B (zh) * | 2020-11-03 | 2022-11-01 | 國立中山大學 | 光模態轉換裝置及其製造方法 |
JP2022080906A (ja) * | 2020-11-19 | 2022-05-31 | 住友電気工業株式会社 | 半導体光素子およびその製造方法 |
US20220187536A1 (en) * | 2020-12-16 | 2022-06-16 | Intel Corporation | Hybrid manufacturing for integrating photonic and electronic components |
US11791902B2 (en) * | 2020-12-16 | 2023-10-17 | Mellanox Technologies, Ltd. | Heterogeneous integration of frequency comb generators for high-speed transceivers |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012151327A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置及びその製造方法 |
JP2012156335A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体レーザ |
WO2015193997A1 (ja) * | 2014-06-18 | 2015-12-23 | 富士通株式会社 | レーザ装置 |
WO2016011002A1 (en) * | 2014-07-14 | 2016-01-21 | Biond Photonics Inc. | 3d photonic integration with light coupling elements |
JP2017092262A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 富士通株式会社 | 光集積素子及びその製造方法並びに光通信装置 |
JP2017098362A (ja) * | 2015-11-20 | 2017-06-01 | 富士通株式会社 | 光集積素子及び光通信装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5070509A (en) * | 1990-08-09 | 1991-12-03 | Eastman Kodak Company | Surface emitting, low threshold (SELTH) laser diode |
JP3180743B2 (ja) * | 1997-11-17 | 2001-06-25 | 日本電気株式会社 | 窒化化合物半導体発光素子およびその製法 |
US7023886B2 (en) * | 2001-11-08 | 2006-04-04 | Intel Corporation | Wavelength tunable optical components |
US7480429B1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-20 | International Business Machines Corporation | Chip to Chip optical interconnect |
JP5240095B2 (ja) | 2008-09-03 | 2013-07-17 | 日本電気株式会社 | 波長可変レーザ光源、及びその駆動方法 |
JP5764875B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2015-08-19 | 富士通株式会社 | 半導体光装置 |
JP2012156414A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ素子および半導体レーザ装置 |
CN104170189B (zh) | 2012-03-28 | 2016-11-09 | 富士通株式会社 | 光半导体器件 |
JPWO2014034458A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-08 | 日本電気株式会社 | 光モジュールと光コネクタとの接続構造 |
US20150357791A1 (en) * | 2013-06-13 | 2015-12-10 | Applied Optoelectronics, Inc. | Tunable laser with multiple in-line sections |
GB2522410A (en) * | 2014-01-20 | 2015-07-29 | Rockley Photonics Ltd | Tunable SOI laser |
GB2522252B (en) * | 2014-01-20 | 2016-04-20 | Rockley Photonics Ltd | Tunable SOI laser |
KR20150104385A (ko) * | 2014-03-05 | 2015-09-15 | 한국전자통신연구원 | 코히어런트 파장 가변 레이저 장치 |
CN105322438B (zh) * | 2015-12-11 | 2018-09-18 | 武汉邮电科学研究院 | 一种基于硅基的窄线宽可调外腔激光器 |
US10921525B2 (en) * | 2018-11-30 | 2021-02-16 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Grating coupler and integrated grating coupler system |
-
2017
- 2017-12-28 WO PCT/JP2017/047215 patent/WO2018235317A1/ja active Application Filing
- 2017-12-28 US US16/619,253 patent/US11050215B2/en active Active
- 2017-12-28 JP JP2019525051A patent/JP6723451B2/ja active Active
- 2017-12-28 CN CN201780091994.4A patent/CN110741517B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012151327A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置及びその製造方法 |
JP2012156335A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体レーザ |
WO2015193997A1 (ja) * | 2014-06-18 | 2015-12-23 | 富士通株式会社 | レーザ装置 |
WO2016011002A1 (en) * | 2014-07-14 | 2016-01-21 | Biond Photonics Inc. | 3d photonic integration with light coupling elements |
JP2017092262A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 富士通株式会社 | 光集積素子及びその製造方法並びに光通信装置 |
JP2017098362A (ja) * | 2015-11-20 | 2017-06-01 | 富士通株式会社 | 光集積素子及び光通信装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210126428A1 (en) * | 2019-10-29 | 2021-04-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Semiconductor optical device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200176949A1 (en) | 2020-06-04 |
JP6723451B2 (ja) | 2020-07-15 |
CN110741517A (zh) | 2020-01-31 |
US11050215B2 (en) | 2021-06-29 |
CN110741517B (zh) | 2021-03-09 |
WO2018235317A1 (ja) | 2018-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6723451B2 (ja) | 波長可変レーザ装置および波長可変レーザ装置の製造方法 | |
JP6684094B2 (ja) | 波長可変レーザ素子およびレーザモジュール | |
US9318868B2 (en) | Tunable hybrid laser with carrier-induced phase control | |
JP5387671B2 (ja) | 半導体レーザ及び集積素子 | |
JP4505470B2 (ja) | 光導波路デバイス及び半導体デバイス | |
US9728938B2 (en) | Optical semiconductor device, optical semiconductor device array, and optical transmitter module | |
JP2017098362A (ja) | 光集積素子及び光通信装置 | |
JP6425631B2 (ja) | 半導体レーザおよびこれを備える光集積光源 | |
WO2016056498A1 (ja) | 半導体光集積素子およびその製造方法 | |
JP2008010484A (ja) | 半導体光素子及び光送信モジュール | |
US20100142885A1 (en) | Optical module | |
US11909174B2 (en) | Reflection filter device and wavelength-tunable laser device | |
JP5728964B2 (ja) | 光半導体装置及びその製造方法 | |
WO2007080891A1 (ja) | 半導体レーザ、モジュール、及び、光送信機 | |
US10277008B1 (en) | Tunable laser device and method for manufacturing the same | |
WO2016152274A1 (ja) | 波長可変レーザ素子およびレーザモジュール | |
US20170237226A1 (en) | Temperature Insensitive Integrated Electro-Absorption Modulator and Laser | |
US20180013512A1 (en) | Optical element | |
US9601906B2 (en) | Wavelength-tunable light source and wavelength-tunable light source module | |
JP2021077772A (ja) | 半導体光素子およびその製造方法 | |
JP6610834B2 (ja) | 波長可変レーザ装置 | |
US11909173B2 (en) | Wavelength-tunable laser and optical module | |
US20170194766A1 (en) | Optical device and optical module | |
WO2021117263A1 (ja) | 直接変調レーザ | |
JP2018046144A (ja) | 波長可変レーザ、波長可変レーザ装置及びその制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190903 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200526 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200623 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6723451 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |