JPWO2018167933A1 - 荷電粒子の供給制御方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
a) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、該溶出液の気化を促進するための気化促進ガスを送給するとともに、前記プローブ又は該プローブと前記荷電粒子導入開口の間に配置されたニードルに所定の荷電粒子化電圧を印加し、
b) 前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ、前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する
ことを特徴とする。
a) 前記成分分離部からの溶出液が導入されるプローブと、
b) 前記プローブに所定の荷電粒子化電圧を印加する電圧印加部と、
c) 前記プローブから流れ出す溶出液の気化を促進する気化促進ガスを送給する気化促進ガス送給部と、
d) 前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する荷電粒子導入妨害部と、
e) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、前記荷電粒子化電圧を印加するとともに前記気化促進ガスを送給し、前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害するように、前記電圧印加部、前記気化促進ガス送給部、及び前記荷電粒子導入妨害部を制御する分析制御部と
を備えることを特徴とする。
a) 前記成分分離部からの溶出液が導入されるプローブと、
b) 前記プローブと前記荷電粒子導入開口の間に配置された導電性のニードルと、
c) 前記ニードルに所定の荷電粒子化電圧を印加する電圧印加部と、
d) 前記プローブから流れ出す溶出液の気化を促進する気化促進ガスを送給する気化促進ガス送給部と、
e) 前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する荷電粒子導入妨害部と、
f) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、前記荷電粒子化電圧を印加するとともに前記気化促進ガスを送給し、前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害するように、前記電圧印加部、前記気化促進ガス送給部、及び前記荷電粒子導入妨害部を制御する分析制御部と
を備えることを特徴とする。
このイオン源20は、液体クロマトグラフ部10のカラム14からの溶出液(分離された試料成分と移動相の混合液)に含まれる試料成分をESI(エレクトロスプレーイオン化)法によりイオン化する装置(エレクトロスプレーイオン源)であり、カラム14からの溶出液が流通する試料送液管221と、試料送液管221の外周部を覆うように設けられたネブライザガス供給管222とを備え、先端に数kVの直流高電圧(ESI電圧)が印加されたESIプローブ(イオン化プローブ)22を備えている。ネブライザガス供給管222には、窒素ガス等のネブライザガスを送給するネブライザガス送給ライン223が接続されている。
使用者は、分析開始に先立ち、入力部60を介して分析実行条件(目的成分の名称、移動相の種類、移動相の流量、カラムの種類等)を入力する(ステップS1)。使用者による分析実行条件の入力が完了すると、分析制御部53は、該分析実行条件を記載したメソッドファイルを作成し、記憶部51に保存する。また、分析制御部53は、入力された分析実行条件に合致する情報を化合物データベース52から読み出し、該情報に含まれる当該目的成分の保持時間を取得する(ステップS2)。より正確には、目的成分がカラムから溶出されはじめる時間(溶出開始時間)とカラムからの溶出が終了する時間(溶出終了時間)を記憶する。
上記実施例では液体クロマトグラフとトリプル四重極型質量分析装置を組み合わせてなる液体クロマトグラフ質量分析装置を例に挙げて説明したが、試料に含まれる目的成分を他の成分から時間的に分離することが可能なものであれば、液体クロマトグラフ以外の成分分離部を用いてもよく、トリプル四重極型以外の質量分析装置や、イオン移動度分析装置等の他のイオン分析装置を用いてもよい。あるいはイオンを分析するものに限らず、荷電粒子の分析装置(分級装置等)においても上記同様の構成を採ることができる。
11、11a…移動相容器
12、12a…ポンプ
13、13a…インジェクタ
14、…カラム
20…イオン源
21…イオン化室
22…ESIプローブ
22a…ナノESIプローブ
22b…APCIプローブ
221、221a、221b…試料送液管
222、222b…ネブライザガス供給管
223…ネブライザガス送給ライン
224a…カラム
23…イオン導入開口
231…脱溶媒管
24…妨害ガス供給管
241…妨害ガス送給ライン
25…コロナニードル
26…吸気管
30…質量分析部
31…イオン輸送光学系
311…イオンレンズ
312…多重極イオンガイド
32…質量分離部
321…前段四重極マスフィルタ
322…コリジョンセル
323…多重極イオンガイド
324…後段四重極マスフィルタ
325…検出器
40…電源部
50…制御部
51…記憶部
52…化合物データベース
53…分析制御部
60…入力部
70…表示部
Claims (9)
- 液体試料に含まれる成分を時間的に分離する成分分離部から溶出する溶出液をプローブに導入して荷電粒子化し、荷電粒子導入開口を通じてその後段に設けられた荷電粒子分析部に送出する方法であって、
a) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、該溶出液の気化を促進するための気化促進ガスを送給するとともに、前記プローブ又は該プローブと前記荷電粒子導入開口の間に配置されたニードルに所定の荷電粒子化電圧を印加し、
b) 前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ、前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する
ことを特徴とする荷電粒子の供給制御方法。 - 前記溶出液に対して妨害ガスを吹き付けることにより該溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子の供給制御方法。
- 前記溶出液を吸引排気することにより該溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子の供給制御方法。
- 液体試料に含まれる成分を時間的に分離する成分分離部から溶出する溶出液を荷電粒子化し、荷電粒子導入開口を通じてその後段に設けられた荷電粒子分析部に送出する装置であって、
a) 前記成分分離部からの溶出液が導入されるプローブと、
b) 前記プローブに所定の荷電粒子化電圧を印加する電圧印加部と、
c) 前記プローブから流れ出す溶出液の気化を促進する気化促進ガスを送給する気化促進ガス送給部と、
d) 前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する荷電粒子導入妨害部と、
e) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、前記荷電粒子化電圧を印加するとともに前記気化促進ガスを送給し、前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ該溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害するように、前記電圧印加部、前記気化促進ガス送給部、及び前記荷電粒子導入妨害部を制御する分析制御部と
を備えることを特徴とする荷電粒子の供給制御装置。 - 液体試料に含まれる成分を時間的に分離する成分分離部から溶出する溶出液を荷電粒子化し、荷電粒子導入開口を通じてその後段に設けられた荷電粒子分析部に送出する装置であって、
a) 前記成分分離部からの溶出液が導入されるプローブと、
b) 前記プローブと前記荷電粒子導入開口の間に配置された導電性のニードルと、
c) 前記ニードルに所定の荷電粒子化電圧を印加する電圧印加部と、
d) 前記プローブから流れ出す溶出液の気化を促進する気化促進ガスを送給する気化促進ガス送給部と、
e) 前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する荷電粒子導入妨害部と、
f) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、前記荷電粒子化電圧を印加するとともに前記気化促進ガスを送給し、前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ該溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害するように、前記電圧印加部、前記気化促進ガス送給部、及び前記荷電粒子導入妨害部を制御する分析制御部と
を備えることを特徴とする荷電粒子の供給制御装置。 - 液体試料に含まれる成分を時間的に分離する成分分離部から溶出する溶出液を荷電粒子化し、荷電粒子導入開口を通じてその後段に設けられた荷電粒子分析部に送出する装置であって、
a) 前記成分分離部と一体的に構成されたプローブと、
b) 前記プローブに所定の荷電粒子化電圧を印加する電圧印加部と、
c) 前記プローブから噴霧された前記溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害する荷電粒子導入妨害部と
を備えることを特徴とする荷電粒子の供給制御。 - さらに、
d) 前記プローブに前記溶出液が導入されている間、前記荷電粒子化電圧を印加するとともに前記気化促進ガスを送給し、前記プローブに目的成分が含まれた溶出液が導入される時間帯以外の時間帯にのみ該溶出液が前記荷電粒子導入開口に向かうのを妨害するように、前記電圧印加部、前記気化促進ガス送給部、及び前記荷電粒子導入妨害部を制御する分析制御部
を備えることを特徴とする請求項6に記載の荷電粒子の供給制御装置。 - 前記導入妨害部が、前記溶出液に対して妨害ガスを吹き付ける妨害ガス送給部であることを特徴とする請求項4から6のいずれかに記載の荷電粒子の供給制御装置。
- 前記荷電粒子導入妨害部が、前記溶出液を吸引排気する吸気部であることを特徴とする請求項4から6のいずれかに記載の荷電粒子の供給制御装置。
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