JPWO2018159789A1 - ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、それを含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品 - Google Patents

Abstract

特定の繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び特定の繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含み、式（Ｆ１ａ）を満たすことを特徴とする、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。［式中、ｗＭ１は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量を示す］

Description

本発明は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、それを含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関する。

ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（以下、「ＰＣ−ＰＯＳ共重合体」と略記することがある）は、その高い耐衝撃性、耐薬品性、及び難燃性等の優れた性質から注目されている。そのため、電気・電子機器分野、自動車分野等の様々な分野において幅広い利用が期待されている。特に、携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具、通信基地局、バッテリーなどの筐体、及びその他の日用品への利用が広がっている。
上記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体を含むポリカーボネート樹脂組成物において、耐衝撃性や難燃性をさらに向上させること、及び流動性等の他の特性を付与することについても検討が行われている。例えば特許文献１，２には、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（以下（「ＡＳ」ともいう）やアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（以下「ＡＢＳ」ともいう）、ポリシロキサン−ポリカーボネートコポリマー、及びリン含有難燃剤をそれぞれ所定量含有し、衝撃強さを実質的に悪化させることなく流動性や難燃性を向上した熱可塑性樹脂が開示されている。
特許文献３，４には、優れた難燃性を維持しながら、成形性、耐衝撃性、剛性を満足し、熱安定性に優れた成形体を成形可能なポリカーボネート樹脂組成物として、ポリカーボネート樹脂、スチレン系樹脂、及びポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体及び／又は官能基含有シリコーン化合物等を含有するポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。

特開２００６−５２４０１号公報 特表２００８−５１６０１３号公報 特開２０００−１９１８９８号公報 特開２００１−５５５００号公報

薄肉でかつ大型の成形体を成形することが可能なポリカーボネート樹脂組成物には、ＡＢＳ樹脂レベルの高い流動性が求められる。しかしながら、従来はＰＣ−ＰＯＳ共重合体を含むポリカーボネート樹脂組成物の流動性を向上させようとすると衝撃強度が低下する傾向にあり、高いレベルで流動性と衝撃強度とを両立させることは困難であった。
本発明は、流動性に優れ、かつ高い衝撃強度を有する成形体を得ることが可能なポリカーボネート系樹脂組成物を提供することを目的とする。

本発明者等は、特定の分子量域におけるポリオルガノシロキサンブロックの濃度が一定以上であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体とすることで、ポリオルガノシロキサンブロックの鎖長を伸ばす、あるいは含有量を増加させずとも、より優れた耐衝撃性を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、それを含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品が得られることを見出した。
すなわち、本発明は下記［１］〜［２８］に関する。
［１］下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含み、下記式（Ｆ１ａ）を満たすことを特徴とする、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｗＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］

［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
［２］下記式（Ｆ１ａ’）を満たすことを特徴とする、上記［１］に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｗＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］
［３］下記式（Ｆ１ｂ）を満たす、上記［１］または［２］に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｗＭ１は上記した通りであり、ｗＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。］
［４］下記式（Ｆ２）を満たす、上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｗＭ１およびｗＭ２は上記した通りである。］
［５］下記式（Ｆ３）を満たす、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｗＭ２は上記した通りであり、ｗＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。］
［６］前前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ４ａ）を満たす、上記［１］〜［５］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｎＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
［７］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ４ｂ）を満たす、上記［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｎＭ１は上記した通りであり、ｎＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
［８］下記式（Ｆ５）を満たす、上記［１］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｎＭ１は上記した通りであり、ｎＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
［９］下記式（Ｆ６）を満たす、上記［１］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｎＭ２は上記した通りであり、ｎＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
［１０］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ７ａ）を満たす、上記［１］〜［９］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｉＰＯＳは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の連結基の平均含有量（モル）を示す。また、ｉＰＣは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）の末端基の平均含有量（モル）を示す。］
［１１］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ７ｂ）を満たす、上記［１］〜［１０］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｉＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。また、ｉＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
［１２］下記式（Ｆ８）を満たす、上記［１］〜［１１］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｉＭ１は上記した通りであり、ｉＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
［１３］下記式（Ｆ９）を満たす、上記［１］〜［１２］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、ｉＭ２は上記した通りであり、ｉＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
［１４］前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、上記［１］〜［１３］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
［１５］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が３０以上５００以下である、上記［１］〜［１４］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１６］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が５５以上５００以下である、上記［１］〜［１５］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１７］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が５５以上８５以下である、上記［１］〜［１６］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１８］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が５質量％以上７０質量％以下である、上記［１］〜［１７］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１９］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［１］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
［２０］上記［１］〜［１９］のいずれかに記載の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計１００質量部に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）、並びに前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下である、ポリカーボネート系樹脂組成物。
［２１］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）の質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、０．１／９９．９〜９９．９／０．１である、上記［２０］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２２］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）の合計に対する前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、上記［２０］または［２１］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２３］前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）からなるポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、上記［２０］〜［２２］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２４］前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有する、上記［２０］〜［２３］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２５］前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体及びアクリロニトリル−スチレン共重合体から選ばれる少なくとも一つである、上記［２０］〜［２４］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２６］上記［２０］〜［２５］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
［２７］電気及び電子機器用筐体である、上記［２６］に記載の成形品。
［２８］自動車及び建材の部品である、上記［２６］に記載の成形品。

本発明によれば、より優れた耐衝撃性を有する、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、及び当該ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂及びスチレン系樹脂を含み、流動性に優れるポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を得ることが出来る。

ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を、ゲル浸透クロマトグラフ法により、リテンションタイムごとに５つに分画した図。 製造例１における、ゲル浸透クロマトグラフ法によるポリカーボネートを換算基準とした分子量ごとのポリオルガノシロキサンブロックの含有量を示す図。 ポリオルガノシロキサンブロック及びポリカーボネートブロックの連結基の一例並びに、ポリカーボネートブロックの末端基の一例を示す図。

本発明者等は、鋭意検討の結果、特定の分子量域におけるポリオルガノシロキサンブロックの濃度が一定以上であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体とすることで、ポリオルガノシロキサンブロックの鎖長を伸ばす、あるいは含有量を増加させずとも、より優れた耐衝撃性を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が得られることを見出した。また、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂にスチレン系樹脂を添加することで、流動性に優れ、より優れた耐衝撃性を有するポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品が得られることを見出した。以下、詳細に説明する。
なお、本明細書において、「ＸＸ〜ＹＹ」の記載は、「ＸＸ以上ＹＹ以下」を意味する。また、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましい。

＜ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体＞
本発明の第一の実施形態であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含み、下記式（Ｆ１ａ）を満たすことを特徴とする。

［式中、ｗＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］

［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、明細書中同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位として前記アルキル基を有するものが挙げられる。

Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、アルキレン基としては上述したアルキレンが挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、アルキリデン基としては上述したアルキリデン基を挙げることができる。

ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０または１である。
中でも、ａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数１〜８のアルキレン基であるもの、またはａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキレン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ³またはＲ⁴で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ³またはＲ⁴で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
なお、Ｒ³及びＲ⁴としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。

上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は、より具体的には、下記一般式（ＩＩ−Ｉ）〜（ＩＩ−ＩＩＩ）で表される単位を有することが好ましい。

［式中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示し、複数のＲ³〜Ｒ⁶は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙは−Ｒ⁷Ｏ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−、−Ｒ⁷ＮＨ−、−Ｒ⁷ＮＲ⁸−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−Ｒ⁹−Ｏ−、または−Ｒ⁷Ｏ−Ｒ¹⁰−Ｏ−を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。前記Ｒ⁷は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ⁸は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ⁹は、ジアリーレン基を示す。Ｒ¹⁰は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、またはジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、またはジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｎはポリオルガノシロキサンの鎖長を示す。ｎ−１、及びｐとｑはそれぞれポリオルガノシロキサン単位の繰り返し数を示し、１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ−２である。］

Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ³〜Ｒ⁶がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ³〜Ｒ⁶としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基である。
一般式（ＩＩ−Ｉ）、（ＩＩ−ＩＩ）及び／または（ＩＩ−ＩＩＩ）中のＲ³〜Ｒ⁶がいずれもメチル基であることが好ましい。

Ｙが示す−Ｒ⁷Ｏ−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−、−Ｒ⁷ＮＨ−、−Ｒ⁷ＮＲ⁸−、−Ｒ⁷ＣＯＯ−Ｒ⁹−Ｏ−、または−Ｒ⁷Ｏ−Ｒ¹⁰−Ｏ−におけるＲ⁷が表す直鎖または分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５〜１５、好ましくは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が挙げられる。

Ｒ⁷が表すアリール置換アルキレン基としては、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式（ｉ）または（ｉｉ）の構造を示すことができる。なお、アリール置換アルキレン基を有する場合、アルキレン基がＳｉに結合している。

（式中ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である）

Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、または二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には−Ａｒ¹−Ｗ−Ａｒ²−で表わされる構造を有する基である。ここで、Ａｒ¹及びＡｒ²は、アリーレン基を示し、Ｗは単結合、または２価の有機基を示す。Ｗの示す２価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
Ｒ⁷、Ａｒ¹及びＡｒ²が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数６〜１４のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
Ｒ⁸が示すアルキル基としては炭素数１〜８、好ましくは１〜５の直鎖または分岐鎖のものである。アルケニル基としては、炭素数２〜８、好ましくは２〜５の直鎖または分岐鎖のものが挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
Ｒ¹⁰が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、Ｒ⁷と同様である。

Ｙとしては、好ましくは−Ｒ⁷Ｏ−であって、Ｒ⁷が、アリール置換アルキレン基であって、特にアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
なお、式（ＩＩ−ＩＩ）中のｐ及びｑについては、ｐ＝ｑであることが好ましい。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基またはジカルボン酸またはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（ｉｉｉ）〜（ｖｉｉ）で表される２価の基が挙げられる。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上、より好ましくは３５以上、さらに好ましくは４０以上、よりさらに好ましくは５０以上、特に好ましくは５５以上、最も好ましくは６０以上である。また、好ましくは５００以下、より好ましくは４００以下、さらに好ましくは３００以下、よりさらに好ましくは２００以下、特に好ましくは１２０以下、最も好ましくは８５以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上５００以下の範囲であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。また、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長ｎが５５以上５００以下の範囲にあることも、より優れた耐衝撃性を得る観点から好ましい。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは６質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上、よりさらに好ましくは１４質量％以上、さらにより好ましくは１８質量％以上、特に好ましくは２１質量％以上であり、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４５質量％以下、特に好ましくは４０質量％以下である。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）中のポリオルガノシロキサン量が上記範囲内であれば、より優れた耐衝撃性を得ることができる。

ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整することができるが、好ましくは９，０００以上、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２２，０００以下、最も好ましくは２０，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、下記Ｓｃｈｎｅｌｌの式から算出した値である。

上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）は、界面重合法（ホスゲン法）、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法により製造することができる。特に界面重合法の場合に、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易となり、アルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄による各洗浄工程におけるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を含む有機相と水相との分離が容易となり、効率よくＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）が得られる。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を製造する方法として、例えば、特開２０１０−２４１９４３号公報等に記載の方法を参照することができる。

具体的には、後述する予め製造されたポリカーボネートオリゴマーと、ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステルまたはクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。

なお、本願のポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）を、例えばポリカーボネートオリゴマーとポリオルガノシロキサン原料とを有機溶媒中で反応させた後に二価フェノールと反応させる等して製造する場合には、上記有機溶媒とポリカーボネートオリゴマーとの混合溶液１Ｌ中におけるポリカーボネートオリゴマーの固形分重量（ｇ／Ｌ）が８０ｇ／Ｌ以上２００ｇ／Ｌ以下の範囲にあることが好ましい。より好ましくは９０ｇ／Ｌ以上、さらに好ましくは１００ｇ／Ｌ以上であり、より好ましくは１８０ｇ／Ｌ以下、さらに好ましくは１７０ｇ／Ｌ以下である。

原料となるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１）、（２）及び／または（３）に示すものを用いることができる。

式中、Ｒ³〜Ｒ⁶、Ｙ、β、ｎ−１、ｐ及びｑは上記した通りであり、具体例及び好ましいものも同様である。
Ｚは、水素原子またはハロゲン原子を示し、複数のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。

例えば、一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式（１−１）〜（１−１１）の化合物が挙げられる。

上記一般式（１−１）〜（１−１１）中、Ｒ³〜Ｒ⁶、ｎ及びＲ⁸は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式（１−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式（１−２）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、上記一般式（１−３）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
その他、ポリオルガノシロキサン原料として以下の一般式（４）を有するものを用いてもよい。

式中、Ｒ³及びＲ⁴は上述したものと同様である。一般式（４）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長は（ｒ×ｍ）となり、（ｒ×ｍ）の範囲は上記ｎと同一である。
上記（４）をポリオルガノシロキサン原料として用いた場合には、ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は下記一般式（ＩＩ−ＩＶ）で表わされる単位を有することが好ましい。

［式中のＲ³、Ｒ⁴、ｒ及びｍは上述した通りである］

ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）として、下記一般式（ＩＩ−Ｖ）で表される構造を有していてもよい。

［式中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１３のアルキル基である。Ｒ²²は炭素数１〜６のアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１４のアリール基である。Ｑ²は炭素数１〜１０の２価の脂肪族基である。ｎは平均鎖長を示し、３０〜７０である。］

一般式（ＩＩ−Ｖ）中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹がそれぞれ独立して示す炭素数１〜１３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、２−エチルヘキシル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基、各種トリデシル基が挙げられる。これらの中でも、Ｒ¹⁸〜Ｒ²¹としては、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
Ｒ²²が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ²²が示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ²²が示す炭素数１〜６のアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。また、Ｒ²²が示す炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
上記の中でも、Ｒ²²は水素原子、又は炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、水素原子又は炭素数１〜３のアルコキシ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
Ｑ²が示す炭素数１〜１０の２価の脂肪族基としては、炭素数１〜１０の、直鎖又は分岐鎖の２価の飽和脂肪族基が好ましい。当該飽和脂肪族基の炭素数は、好ましくは１〜８、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは３〜６、よりさらに好ましくは４〜６である。また、平均鎖長ｎは上記の通りである。

構成単位（ＩＩ−Ｖ）の好ましい態様としては、下記式（ＩＩ−ＶＩ）で表される構造を挙げることができる。

［式中、ｎは前記と同じである。］

上記一般式（ＩＩ−Ｖ）または（ＩＩ−ＶＩ）で表されるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）は、下記一般式（５）または（６）で表されるポリオルガノシロキサン原料を用いることにより得ることができる。

［式中、Ｒ¹⁸〜Ｒ²²、Ｑ²、及びｎは上記した通りである。］

［式中、ｎは上記した通りである。］

前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平１１−２１７３９０号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物（例えば２−アリルフェノール、４−アリルフェノール、オイゲノール、２−プロペニルフェノール等）等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第２６６２３１０号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸（酸性触媒）の存在下で反応させ、得られたα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下でフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその鎖長ｎを適宜調整して用いることもできるし、市販のα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。

上記ヒドロシリル化反応用触媒としては、遷移金属系触媒が挙げられるが、中でも反応速度及び選択性の点から白金系触媒が好ましく用いられる。白金系触媒の具体例としては、塩化白金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金のオレフィン錯体，白金とビニル基含有シロキサンとの錯体，白金担持シリカ，白金担持活性炭等が挙げられる。

粗ポリオルガノシロキサンを吸着剤と接触させることにより、粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる、上記ヒドロシリル化反応用触媒として使用された遷移金属系触媒に由来する遷移金属を、吸着剤に吸着させて除去することが好ましい。
吸着剤としては、例えば、１０００Å以下の平均細孔直径を有するものを用いることができる。平均細孔直径が１０００Å以下であれば、粗ポリオルガノシロキサン中の遷移金属を効率的に除去することができる。このような観点から、吸着剤の平均細孔直径は、好ましくは５００Å以下、より好ましくは２００Å以下、更に好ましくは１５０Å以下、より更に好ましくは１００Å以下である。また同様の観点から、吸着剤は多孔性吸着剤であることが好ましい。
吸着剤としては、上記の平均細孔直径を有するものであれば特に限定されないが、例えば活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ、シリカ−マグネシア系吸着剤、珪藻土、セルロース等を用いることができ、活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ及びシリカ−マグネシア系吸着剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる遷移金属を吸着剤に吸着させた後、吸着剤を任意の分離手段によってポリオルガノシロキサンから分離することができる。ポリオルガノシロキサンから吸着剤を分離する手段としては、例えばフィルタや遠心分離等が挙げられる。フィルタを用いる場合は、メンブランフィルタ、焼結金属フィルタ、ガラス繊維フィルタ等のフィルタを用いることができるが、特にメンブランフィルタを用いることが好ましい。
遷移金属の吸着後に吸着剤をポリオルガノシロキサンから分離する観点から、吸着剤の平均粒子径は、通常１μｍ以上４ｍｍ以下、好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。
前記吸着剤を使用する場合には、その使用量は特に限定されない。粗ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは２質量部以上であり、好ましくは３０質量部以下、より好ましくは２０質量部以下の範囲の量の多孔性吸着剤を使用することができる。

なお、処理する粗ポリオルガノシロキサンの分子量が高いために液体状態でない場合は、吸着剤による吸着及び吸着剤の分離を行う際に、ポリオルガノシロキサンが液体状態となるような温度に加熱してもよい。または、塩化メチレンやヘキサン等の溶剤に溶かして行ってもよい。

所望の分子量分布のポリオルガノシロキサンは、例えば、複数のポリオルガノシロキサンを配合することにより分子量分布を調節して得られる。配合は、複数のα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを配合したあと、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下でフェノール性化合物等を付加反応させることで所望の分子量分布となる粗ポリオルガノシロキサンを得ることもできる。また、複数の粗ポリオルガノシロキサンを配合したのち、ヒドロシリル化反応触媒を除去させるなどの精製を行ってもよい。精製後の複数のポリオルガノシロキサンを配合してもよい。また、ポリオルガノシロキサン製造時の重合条件により適宜調整することもできる。また、既存のポリオルガノシロキサンから各種分離等の手段によって一部のみを分取する事で得ることも出来る。

ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。
二価フェノールとしては、下記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールを用いることが好ましい。

式中、Ｒ¹、Ｒ²、ａ、ｂ及びＸは上述した通りである。

上記一般式（ｖｉｉｉ）で表される二価フェノールとしては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、上記一般式（ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０のＰＣ−ＰＯＳ共重合体となる。

ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類としては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等が挙げられる。

ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類としては、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。

ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。

ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等が挙げられる。

上記以外の二価フェノールとしては、例えば４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタン等が挙げられる。

得られるＰＣ−ＰＯＳ共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤（分子量調節剤）を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ−クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｍ−ペンタデシルフェノール及びｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し［分離工程］、有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ）を得ることができる。

本発明の第一の実施形態におけるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、式（Ｆ１ａ）を満たすことを要する：

［式中、ｗＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］。

具体的には、ゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量は、耐衝撃性の観点から、１５質量％以上であり、好ましくは２０質量％以上、より好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは４０質量％以上である。

また、上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、下記式（Ｆ１ａ’）を満たすことがさらに望ましい。

［式中、ｗＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］

具体的には、ゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量は、耐衝撃性の観点から、好ましくは１３質量％以上、より好ましくは１８質量％以上、さらに好ましくは２２質量％以上、特に好ましくは２７質量％以上である。

また、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（ｗＡ）及び、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（ｗＭ１）は、下記式（Ｆ１ｂ）を満たすことが好ましい。

式中、ｗＭ１は上記した通りであり、ｗＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。ｗＭ１／ｗＡ×１００の値は、より好ましくは１１５以上、さらに好ましくは１３０以上、よりさらに好ましくは１４５以上、特に好ましくは１６０以上である。
ｗＭ１／ｗＡ×１００の値が上記範囲内であれば、より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）が多く偏在していることとなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量に対して、効率良く耐衝撃性を向上させることが出来る。

さらに、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が高いものほど、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量が高くなっていることが好ましい。具体的には、下記式（Ｆ２）及び／または（Ｆ３）を満たすことが好ましい。

［式中、ｗＭ１及びｗＭ２は上記した通りである。］

［式中、ｗＭ２は上記した通りであり、ｗＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。］

上記式（Ｆ２）は、分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（ｗＭ１）が、分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占めるもの（ｗＭ２）よりも大きいことを意味する。式（Ｆ３）は、分子量１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（ｗＭ２）が、分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占めるもの（ｗＭ３）よりも大きいことを意味する。
より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）がより多く偏在していることとなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量に対して、より効率良く耐衝撃性を向上させることが出来るからである。

前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長は、より高い耐衝撃性を得る観点から、以下の式（Ｆ４ａ）を満たすことが好ましい。

［式中、ｎＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
上記ｎＭ１は好ましくは５０以上、より好ましくは６０以上、さらに好ましくは７０以上である。

また、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長（ｎＡ）及び、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長（ｎＭ１）は、下記式（Ｆ４ｂ）を満たすことが好ましい。

式中、ｎＭ１／ｎＡ×１００の値は好ましくは１００超であり、より好ましくは１０５以上、さらに好ましくは１１０以上、よりさらに好ましくは１１５以上、特に好ましくは１２０以上である。
ｎＭ１／ｎＡ×１００の値が上記範囲内であれば、より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に、より鎖長の長い前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）が多く偏在していることとなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長に対して、効率良く耐衝撃性を向上させることが出来る。

さらに、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が高いものほど、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が長くなっていることが好ましい。
具体的には、下記式（Ｆ５）及び／または式（Ｆ６）を満たすことが好ましい。

［式中、ｎＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］

［式中、ｎＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］

式（Ｆ５）によれば、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長は、分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長より短いことが好ましい。
式（Ｆ６）によれば、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長は、分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長より短いことが好ましい。
すなわち、より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中には、より鎖長の長い前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）が多く偏在していることとなる。そのため、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長に対して、より効率良く耐衝撃性を向上させることが出来る。

前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ７ａ）を満たすことが好ましい。

式中、ｉＰＯＳは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の連結基の平均含有量（モル）を示す。また、ｉＰＣは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）の末端基の平均含有量（モル）を示す。

また、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率であるｉＡ（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）及び、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率であるｉＭ１（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）は、下記式（Ｆ７ｂ）を満たすことが好ましい。

ここで、ｉＭ１／ｉＡ×１００の値は好ましくは１００超であり、より好ましくは１３０以上、さらに好ましくは１５０以上、よりさらに好ましくは２００以上、特に好ましくは２５０以上である。
ｉＭ１／ｉＡ×１００の値が上記範囲内であれば、より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）からなる分子鎖が多く偏在していることとなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）からなる分子鎖の平均本数に対して、効率良く耐衝撃性を向上させることが出来る。

さらに、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が高いものほど、前記ｉＰＯＳ／ｉＰＣの値が高くなっていることが好ましい。

具体的には、下記式（Ｆ８）及び／または式（Ｆ９）を満たすことが好ましい。

［式中、ｉＭ１は上記した通りであり、ｉＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］

［式中、ｉＭ２は上記した通りであり、ｉＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］

ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、より高い分子量を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）からなる分子鎖がより多く偏在していることとなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体全体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）からなる分子鎖の平均本数に対して、より効率良く耐衝撃性を向上させることが出来るからである。

＜ポリカーボネート系樹脂組成物＞
本発明の第二の実施形態であるポリカーボネート系樹脂組成物は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計１００質量部に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）、並びに前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下である。

［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］

上記ポリカーボネート系樹脂組成物において、上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計量に占めるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の含有量は、耐衝撃性等の所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から、通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、通常９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、さらに好ましくは２５質量％以下、特に好ましくは１７質量％以下、最も好ましくは１３質量％以下である。

上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計量に占める芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の含有量は、得られる樹脂組成物の耐衝撃性等所望の性質を有する樹脂組成物を得る観点から、通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上であり、通常９９．９質量％以下、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは９８質量％以下、さらに好ましくは９５質量％以下、特に好ましくは９０質量％以下である。

なお、本実施形態の１つの側面においては、上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計量は、１００質量％である。
本実施形態においては、得られる樹脂組成物の耐衝撃性の観点から、上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と、上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）との質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、通常０．１／９９．９〜９９．９／０．１，好ましくは１／９９〜９９／１，より好ましくは２／９８〜５０／５０，さらに好ましくは５／９５〜２０／８０である。

上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）からなるポリカーボネート系樹脂中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率は、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．４質量％以上、さらに好ましくは０．８質量％以上、さらにより好ましくは１質量％以上、特に好ましくは３質量％以上であり、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは７質量％以下、さらに好ましくは６質量％以下、特に好ましくは５質量％以下、最も好ましくは４質量％以下である。ポリカーボネート系樹脂中のポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が上記範囲にあれば、優れた耐衝撃特性を得ることができる。

上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）からなるポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調節剤（末端停止剤）等を用いることにより適宜調整ことができる。上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）からなるポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量は、好ましくは９，０００以上、より好ましくは１２，０００以上、さらに好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２２，０００以下である。粘度平均分子量が９，０００以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。５０，０００以下であれば、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、下記Ｓｃｈｎｅｌｌの式から算出した値である。

＜（Ｂ）芳香族ポリカーボネート系樹脂＞
上記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有する。上記ポリカーボネート系樹脂としては、特に制限はなく種々の公知のポリカーボネート系樹脂を使用できる。

［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］

Ｒ³⁰及びＲ³¹の具体例としては、前記Ｒ¹及びＲ²と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ³⁰及びＲ³¹としては、より好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｄ及びｅは、それぞれ独立に、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。

上記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）としては、具体的には、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジンまたはピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来のポリカーボネートの製造法により得られるものを使用できる。
上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
なお、上記二価フェノール系化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ’）で表されるものが挙げられる。

［式中、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｘ’、ｄ及びｅは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］

該二価フェノール系化合物の具体例としては、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の製造方法で上述したものを挙げることができ、好ましいものも同じである。中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
上記芳香族ポリカーボネート系樹脂は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｂ）は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）と異なり、式（ＩＩ）で表されるようなポリオルガノシロキサンブロックを有さない構造であってもよい。例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）はホモポリカーボネート樹脂であってもよい。

＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるスチレン形樹脂（Ｃ）は、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有することが好ましく、ブタジエン、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有することがより好ましく、非晶質スチレン系樹脂及び結晶性スチレン系樹脂を用いることができる。本発明においては、スチレン系樹脂（Ｃ）として、スチレン系樹脂を１種用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記ポリカーボネート系樹脂組成物中のスチレン系樹脂（Ｃ）の配合量は、ポリカーボネート系樹脂組成物の成形加工性及び流動性を改善する観点から、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）、並びに前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％中、好ましくは１質量％以上５０質量％以下、より好ましくは３質量％以上４５質量％以下、更に好ましくは１５質量％以上４０質量％以下、特に好ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。

非晶質スチレン系樹脂としては、スチレン、α−メチルスチレン等のモノビニル系芳香族単量体２０質量％以上１００質量％以下、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体０質量％以上６０質量％以下、及びこれらと共重合可能なマレイミド、（メタ）アクリル酸メチル等の他のビニル系単量体０質量％以上５０質量％以下からなる単量体、又は単量体混合物を重合して得られる結晶構造を有さない重合体が挙げられる。
これらの重合体としては、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等がある。

また、非晶質スチレン系樹脂としてはゴム状重合体で強化されたゴム変性スチレン系樹脂が好ましく利用できる。このゴム変性スチレン系樹脂としては、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体であることが好ましく、例えば、ポリブタジエン等のゴムにスチレンが重合した耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）、ポリブタジエンにアクリロニトリルとスチレンとが重合したアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリブタジエンにメタクリル酸メチルとスチレンが重合したメタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）等があり、ゴム変性スチレン系樹脂は、２種以上を併用することができると共に、前記のゴム未変性である非晶質スチレン系樹脂との混合物としても使用できる。

ゴム変性スチレン系樹脂中のゴムの含有量は、好ましくは２質量％以上５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上３０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以上１５質量％以下である。ゴムの割合が２質量％以上であれば、耐衝撃性が充分であり、又、５０質量％以下であれば、熱安定性の低下、溶融流動性の低下、ゲルの発生、着色等の問題が生じない。
上記ゴムの具体例としては、ポリブタジエン、アクリレート及び／又はメタクリレートを含有するゴム質重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンゴム（ＳＢＳ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエン−アクリルゴム、イソプレンゴム、イソプレン−スチレンゴム、イソプレン−アクリルゴム、エチレン−プロピレンゴム等が挙げられる。このうち、特に好ましいものは、ポリブタジエンである。ここで用いるポリブタジエンは、１，４−シス結合含有量の低いポリブタジエン（例えば、１，２−ビニル結合を１モル％以上３０モル％以下、１，４−シス結合を３０モル％以上４２モル％以下含有するもの）、１，４−シス結合含有量の高いポリブタジエン（例えば、１，２−ビニル結合を２０モル％以下、１，４−シス結合を７８モル％以上含有するもの）のいずれを用いてもよく、また、これらの混合物であってもよい。

また、結晶性スチレン系樹脂としては、シンジオタクチック構造、アイソタクチック構造を有するスチレン系（共）重合体が挙げられるが、本発明では流動性をより改善する目的から、非晶質スチレン系樹脂を用いることが好ましい。さらに非晶質スチレン系樹脂の中でも、２００℃、５ｋｇ荷重におけるメルトフローレート（ＭＦＲ）が、好ましくは０．５ｇ／１０分以上１００ｇ／１０分以下、より好ましくは２ｇ／１０分以上８０ｇ／１０分以下、さらに好ましくは２ｇ／１０分以上５０ｇ／１０分以下のものが用いられる。メルトフローレート（ＭＦＲ）が５ｇ／１０分以上であれば十分な流動性となり、１００ｇ／１０分以下であれば、ポリカーボネート系樹脂組成物の耐衝撃性が良好になる。

さらに非晶質スチレン系樹脂の中でも、耐衝撃性ポリスチレン樹脂（ＨＩＰＳ）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂）、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＡＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−（エチレン／プロピレン／ジエン共重合体）−スチレン共重合体（ＡＥＳ樹脂）が好ましく、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、及びメタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＭＢＳ樹脂）がより好ましく、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）及びアクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）がよりさらに好ましい。

＜その他の成分＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の添加剤を含ませることができる。その他の添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、補強材、充填剤、耐衝撃性改良用のエラストマー、染料、顔料、帯電防止剤、ポリカーボネート以外の他樹脂等を挙げることができる。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記の各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
本発明の一態様において、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計含有量は、ポリカーボネート樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは８０〜１００質量％、より好ましくは９５〜１００質量％である。
本発明の他の態様において、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び上記その他成分の合計含有量は、ポリカーボネート樹脂組成物の全量（１００質量％）基準で、好ましくは９０〜１００質量％、より好ましくは９５〜１００質量％である。

配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、２４０℃以上３２０℃以下の範囲で適宜選択される。この溶融混練としては、押出機、特に、ベント式の押出機の使用が好ましい。

［成形品］
上記の溶融混練した本発明のポリカーボネート系樹脂組成物、または得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により各種成形体を製造することができる。特に、溶融混練により得られたペレットを用いて、射出成形及び射出圧縮成形による射出成形体の製造に好適に用いることができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成型品は、例えば、テレビ、ラジオ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ、通信基地局、バッテリー等の電気・電子機器用部品の筐体等、並びに自動車及び建材の部品として好適に用いることができる。

次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、各例における特性値、評価結果は、以下の要領に従って求めた。

（１）ポリジメチルシロキサン鎖長および含有率
ＮＭＲ測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比により算出した。なお、本明細書においては、ポリジメチルシロキサンをＰＤＭＳと略記することがある。
＜ポリジメチルシロキサンの鎖長の定量方法＞
¹Ｈ−ＮＭＲ測定条件
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＥＣＡ５００
プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：３０〜４０ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
積算回数：２５６回
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．５０〜２．７５付近に観測されるアリルフェノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
オイゲノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．４０〜２．７０付近に観測されるオイゲノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）

＜ポリジメチルシロキサン含有率の定量方法＞
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したＰＴＢＰ末端ポリカーボネート中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＥＣＡ−５００
プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
積算回数：２５６回
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：３０〜４０ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
Ａ：δ１．５〜１．９付近に観測されるＢＰＡ部のメチル基の積分値
Ｂ：δ−０．０２〜０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｃ：δ１．２〜１．４付近に観測されるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル部のブチル基の積分値
ａ＝Ａ／６
ｂ＝Ｂ／６
ｃ＝Ｃ／９
Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ
ｆ＝ａ／Ｔ×１００
ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
ＴＷ＝ｆ×２５４＋ｇ×７４．１＋ｈ×１４９
ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００

（２）粘度平均分子量
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Ｓｃｈｎｅｌｌ式）にて算出した。

（３）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネート共重合体のＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
試験機器：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ ８２２０
溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫ−ＧＥＬ ＭＵＬＴＩＰＯＲＥ ＨＸＬ−Ｍ×２、
Ｓｈｏｄｅｘ ＫＲ８０１
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍＬ／分
検出器：日本分光（株）製 ＵＶ−２０７５ Ｐｌｕｓ（２５４ｎｍ）
注入濃度：１０ｍｇ／ｍＬ
注入量：０．１ｍＬ
フラクションコレクター：ＡＤＶＡＮＴＥＣ製 ＣＨＦ１２２ＳＣ
検量線の作製には、東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いた。

上記条件の下、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネート共重合体をリテンションタイムごとに５分画し、分画物を得た。以上の操作を１００回繰り返した。
得られた分画物について、上記¹Ｈ−ＮＭＲ測定により、各分画物ごとに、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量、平均鎖長、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の連結基の平均含有量及び前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）の末端基の平均含有量を求めた。
なお、上記ＧＰＣ測定において、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が３６０以上１，３００以下の領域では、環状オルガノシロキサンを検知してしまうため、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量および平均鎖長が見かけ上、高く見える。

＜ポリカーボネートオリゴマーの製造＞
５．６質量％の水酸化ナトリウム水溶液に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（後から溶解する）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加えた。これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％となるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒ、及びホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液を、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％のトリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３４１ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７１ｍｏｌ／Ｌであった。

製造例１
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１ａ）＞
以下に記載する（ｉ）〜（ｘｉｖ）の値は、表１に示すとおりである。
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記の通り製造したポリカーボネートオリゴマー溶液（ＰＣＯ）（ｉ）Ｌ、塩化メチレン（ＭＣ）（ｉｉ）Ｌおよび、平均鎖長ｎ＝（ｉｉｉ）のアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ｉｖ）ｇを塩化メチレン（ＭＣ）（ｖ）Ｌに溶解したもの、ならびに、トリエチルアミン（ＴＥＡ）（ｖｉ）ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨａｑ）（ｖｉｉ）ｇを加え、２０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ（ｖｉｉｉ）ｇを塩化メチレン（ＭＣ）（ｉｘ）Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ（ｘ）ｇと亜二チオン酸ナトリウム（Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₄）（ｘｉ）ｇとを水（ｘｉｉ）Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ（ｘｉｉｉ）ｇを溶解させたもの）を添加し４０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン（ＭＣ）（ｘｉｖ）Ｌを加え１０分間攪拌した後、ＰＣ−ＰＯＳを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたＰＣ−ＰＯＳの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で順次洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥し、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ１）〜（Ａ１７）を得た。得られたフレークのＰＤＭＳ含有率、未反応ＰＤＭＳ量、粘度平均分子量及びＧＰＣによる各種測定を行った。ｉＭ１の値は３．２、ｉＭ２の値は２．３、ｉＭ３の値は０．７、ｉＭ１／ｉＡ×１００の値は２８７であった。その他の結果を表１に示す。

製造例２
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１ｂ）＞
前記（ｉ）〜（ｘｉｖ）の値を上記表１に記載の通りに変更した以外は、製造例１と同様の方法で製造と測定を行った。

＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−２）＞
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体Ａ−２：「ＦＧ１７００」［ＰＣ−ＰＯＳ共重合体、ポリオルガノシロキサンブロック鎖長８８、ポリオルガノシロキサン含有量６質量％、粘度平均分子量Ｍｖ１７，７００］（表１参照）
＜芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）＞
芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ−１：「ＦＮ２５００」［粘度平均分子量Ｍｖ２３，５００］
芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ−２：「ＦＮ２２００」［粘度平均分子量Ｍｖ２１，３００］
芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ−３：「ＦＮ１９００」［粘度平均分子量Ｍｖ１９，３００］
芳香族ポリカーボネート系樹脂Ｂ−４：「ＦＮ１７００」［粘度平均分子量Ｍｖ１７，７００］

＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
「クラスチックＳＸＨ−３３０」［アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン三元共重合体（ＡＢＳ），ＫＵＭＨＯＰＥＴＲＯＣＨＥＭＩＣＡＬ社製、ブタジエンに由来する構成単位の含有量：６０質量％］
「サンタックＡＴ−０５」［アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン３元共重合体（ＡＢＳ），日本エイアンドエル（株）製，ブタジエンに由来する構成単位の含有量：１４質量％］
「キビサンＰＮ−１１７Ｃ」［アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ），奇美実業社製，アクリロニトリルに由来する構成単位の含有量：２４質量％］

＜その他の成分＞
酸化防止剤：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名）」［トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製］
酸化防止剤：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（商品名）」［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ピロピオン酸オクタデシル，ＢＡＳＦジャパン株式会社製］

実施例ａ〜ｂ、実施例１〜２７、比較例１〜２２
製造例１及び２で得られたＰＣ−ＰＯＳ共重合体Ａ１およびＡ２、並びにその他の各成分を表２〜表６に示す配合割合で混合し、ベント式二軸押出機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ３５Ｂ）に供給し、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈｒ、樹脂温度２７８〜３００℃にて溶融混練し、評価用ペレットサンプルを得た。ＰＣ系樹脂組成物の組成と評価項目を表２〜表６に示す。

［評価試験］
＜流動性評価＞（ＭＦＲ）
上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０−１：２０１４に準拠し、３００℃、１．２ｋｇの荷重下にて、直径２．０９５±０．００５ｍｍ、長さ８．０００±０．０２５ｍｍのダイから流出する溶融樹脂量（ｇ／１０分）を測定した。
＜Ｑ値（流れ値）〔単位；１０⁻²ｍＬ／秒〕＞
上記ペレットを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７２１０−１：２０１４：付属書ＪＡに準拠し、高架式フローテスターを用いて、２８０℃、１６０ｋｇｆの圧力下にて、直径１．００ｍｍ、長さ１０．００ｍｍのノズルより流出する溶融樹脂量（ｍＬ／ｓｅｃ）を測定した。Ｑ値は単位時間当たりの流出量を表しており、数値が高いほど、流動性が良いことを示す。

＜耐衝撃性＞
上記得られたペレットを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形してＩＺＯＤ試験片（長さ６３．５ｍｍ、幅１２．７ｍｍ，厚さ３．２ｍｍ）を作成した。この試験片に後加工でノッチ（ｒ＝０．２５ｍｍ±０．０５ｍｍ）を付与した試験片を用いて、ＡＳＴＭ規格Ｄ−２５６に準拠して、−４０℃、−３０℃、−２０℃、−１０℃、０℃及び２３℃におけるノッチ付きアイゾット衝撃強度を測定した。

＜荷重たわみ温度（単位；℃）＞
上記得られたペレットを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍφ）を用いて、シリンダ温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形して試験片（長さ１２７ｍｍ、幅１２．７ｍｍ、厚み３．２ｍｍ）を得た。この試験片を用い、ＡＳＴＭ規格Ｄ−６４８に準拠して、昇温速度１２０℃／ｈ、支点間距離１００ｍｍ、１．８ＭＰａの荷重を掛けて、エッジワイズによる試験片のたわみが０．２６ｍｍに達した時の温度を記録した。

本発明で得られるポリカーボネート樹脂は、耐衝撃性に優れるため、電気・電子機器用部品の筐体等、自動車及び建材の部品等として好適に用いることができる。

Claims (28)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）を含み、下記式（Ｆ１ａ）を満たすことを特徴とする、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｗＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］
   

   

   
   ［式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
2. 下記式（Ｆ１ａ’）を満たすことを特徴とする、請求項１に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｗＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す］
3. 下記式（Ｆ１ｂ）を満たす、請求項１または２に記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｗＭ１は上記した通りであり、ｗＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。］
4. 下記式（Ｆ２）を満たす、請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｗＭ１およびｗＭ２は上記した通りである。］
5. 下記式（Ｆ３）を満たす、請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｗＭ２は上記した通りであり、ｗＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中に占める前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均含有量（質量％）を示す。］
6. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ４ａ）を満たす、請求項１〜５のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｎＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
7. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ４ｂ）を満たす、請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｎＭ１は上記した通りであり、ｎＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
8. 下記式（Ｆ５）を満たす、請求項１〜７のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｎＭ１は上記した通りであり、ｎＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
9. 下記式（Ｆ６）を満たす、請求項１〜８のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
   

   

   
   ［式中、ｎＭ２は上記した通りであり、ｎＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中における前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長を示す。］
10. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ７ａ）を満たす、請求項１〜９のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
    

    

    
    ［式中、ｉＰＯＳは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）及び前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の連結基の平均含有量（モル）を示す。また、ｉＰＣは、前記ポリカーボネートブロック（Ａ−１）の末端基の平均含有量（モル）を示す。］
11. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記式（Ｆ７ｂ）を満たす、請求項１〜１０のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
    

    

    
    ［式中、ｉＭ１は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が５６，０００以上２００，０００以下であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。また、ｉＡは、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
12. 下記式（Ｆ８）を満たす、請求項１〜１１のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
    

    

    
    ［式中、ｉＭ１は上記した通りであり、ｉＭ２は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量が１６，０００以上５６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
13. 下記式（Ｆ９）を満たす、請求項１〜１２のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
    

    

    
    ［式中、ｉＭ２は上記した通りであり、ｉＭ３は、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフ法により分離することで得られるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のうち、ポリカーボネートを換算基準とした分子量４，５００以上１６，０００未満であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体におけるｉＰＣに対するｉＰＯＳの比率（ｉＰＯＳ／ｉＰＣ）を示す。］
14. 前記芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）は、主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロックを含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
    

    

    
    ［式中、Ｒ³⁰及びＲ³¹は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−またはＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
15. 前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が３０以上５００以下である、請求項１〜１４のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
16. 前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が５５以上５００以下である、請求項１〜１５のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
17. 前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の平均鎖長が５５以上８５以下である、請求項１〜１６のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
18. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が５質量％以上７０質量％以下である、請求項１〜１７のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
19. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項１〜１８のいずれかに記載のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体。
20. 請求項１〜１９のいずれかに記載の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）以外の芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の合計１００質量部に対して、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合してなり、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）、並びに前記スチレン系樹脂（Ｃ）の合計量１００質量％に占める前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び芳香族ポリカーボネート系樹脂（Ｂ）の割合が５０質量％以上９９質量％以下である、ポリカーボネート系樹脂組成物。
21. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）の質量比率（Ａ）／（Ｂ）が、０．１／９９．９〜９９．９／０．１である、請求項２０に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
22. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）の合計に対する前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ−２）の含有率が０．１質量％以上１０質量％以下である、請求項２０または２１のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
23. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）及び前記芳香族ポリカーボネート（Ｂ）からなるポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）が９，０００以上５０，０００以下である、請求項２０〜２２のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
24. 前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル及びスチレンに由来する構成単位を有する、請求項２０〜２３のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
25. 前記スチレン系樹脂（Ｃ）が、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体及びアクリロニトリル−スチレン共重合体から選ばれる少なくとも一つである、請求項２０〜２４のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
26. 請求項２０〜２５のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形品。
27. 電気及び電子機器用筐体である、請求項２６に記載の成形品。
28. 自動車及び建材の部品である、請求項２６に記載の成形品。

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