JPWO2018008341A1 - ヒダントイン環を有する化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ヒダントイン環を有する化合物の新規な製造方法を提供する。【解決手段】エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下、下記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、該式(1)で表される化合物1モル当量に対し該式(2)で表される化合物を3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程、及び前記溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後ろ過するイオン交換処理工程を有する、ヒダントイン環を有する化合物の製造方法。【化1】(式中、A1は三価の脂肪族基、又は芳香族環もしくは複素環を有する三価の基を表し、Z1は直接結合、−O−基又は−C(=O)O−基を表し、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。)【選択図】図2
Description
本発明は、トリグリシジル化合物1分子中の3つのエポキシ基全てがヒダントイン誘導体と反応した3置換体が優先的に得られる、ヒダントイン環を有する化合物の製造方法に関する。
窒素原子上の置換基としてヒドロキシアルキル構造を有するトリアジントリオン化合物を含む反射防止膜形成組成物が知られている(特許文献1参照)。同文献には、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート、及びエポキシ基と反応する置換基を有する化合物を、触媒の存在下、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン及びジメチルホルムアミドからなる群より選択される溶媒中で反応させる、該トリアジントリオン化合物の合成例が開示されている。
特許文献1に記載のトリアジントリオン化合物と類似する化合物を含む反射防止膜形成組成物は、特許文献2にも開示されている。特許文献2の実施例には、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート、及びエポキシ基と反応する置換基を有する化合物を、触媒の存在下、プロピレングリコールn−プロピルエーテル中で反応させる、反射防止膜形成組成物の製造工程が開示されている。
従来知られている、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレート、及びエポキシ基と反応する置換基を有する化合物を反応させる方法は、反応生成物の選択性が高くないため、目的とする化合物を得る方法として工業的に有用とはいえなかった。本発明は、トリグリシジル化合物1分子中の3つのエポキシ基全てがヒダントイン誘導体と反応した3置換体の新規な製造方法を提供する。
本発明の発明者は、特定のアルコール類を溶媒として用い、該アルコール類中で原料化合物を反応させることにより目的の3置換体が優先的に生成すること、その反応生成物にイオン交換処理を行うことにより該反応生成物に占める該3置換体の生成比率が高まること、を見出した。
すなわち本発明は、エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下、下記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、該式(1)で表される化合物1モル当量に対し該式(2)で表される化合物を3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程、及び前記溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後ろ過するイオン交換処理工程を有する、ヒダントイン環を有する化合物の製造方法である。
(式中、A1は三価の脂肪族基、又は芳香族環もしくは複素環を有する三価の基を表し、Z1は直接結合、−O−基又は−C(=O)O−基を表し、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。)
すなわち本発明は、エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下、下記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、該式(1)で表される化合物1モル当量に対し該式(2)で表される化合物を3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程、及び前記溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後ろ過するイオン交換処理工程を有する、ヒダントイン環を有する化合物の製造方法である。
(式中、A1は三価の脂肪族基、又は芳香族環もしくは複素環を有する三価の基を表し、Z1は直接結合、−O−基又は−C(=O)O−基を表し、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。)
前記式(1)で表される化合物及び前記式(3)で表される化合物において、A1が三価の複素環基を表すとき、該式(1)で表される化合物は例えば下記式(1a)で表される化合物であり、該式(3)で表される化合物は例えば下記式(3a)で表される化合物である。
(式(3a)中、R1、R2及びXはそれぞれ前記式(2)及び式(3)における定義と同義である。)
(式(3a)中、R1、R2及びXはそれぞれ前記式(2)及び式(3)における定義と同義である。)
前記反応工程により得られた溶液から前記アルコール類を留去し次いでこれに有機溶媒を加えた溶液に対し、前記イオン交換処理工程をおこなってもよい。該有機溶媒として、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、エチルラクテートが挙げられる。
本発明により、目的とする、トリグリシジル化合物1分子中の3つのエポキシ基全てがヒダントイン誘導体と反応した3置換体が優先的に得られ、且つ該3置換体を従来の方法よりも高い生成比率で得ることができる。
[式(1)で表される化合物]
前記式(1)で表される化合物はトリグリシジル化合物である。該トリグリシジル化合物の具体例として、前記式(1a)で表される化合物の他、例えば、下記式(1b)乃至式(1f)で表される化合物が挙げられる。
前記式(1)で表される化合物はトリグリシジル化合物である。該トリグリシジル化合物の具体例として、前記式(1a)で表される化合物の他、例えば、下記式(1b)乃至式(1f)で表される化合物が挙げられる。
[式(2)で表される化合物]
前記式(2)で表される化合物において、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基として、例えば、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基及び2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基が挙げられる。炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基として、例えば、メトキシメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチル基、1−メトキシプロピル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、1−メトキシ−1−メチルエチル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、エトキシメチル基、1−エトキシエチル基、2−エトキシエチル基、1−エトキシプロピル基、2−エトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、1−エトキシ−1−メチルエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル基、プロポキシメチル基、1−プロポキシエチル基、2−プロポキシエチル基、1−プロポキシ−1−メチルエチル基、2−プロポキシ−1−メチルエチル基、イソプロポキシメチル基、1−イソプロポキシエチル基、2−イソプロポキシエチル基、ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、及びtert−ブトキシメチル基が挙げられる。炭素原子数1乃至3のアルキル基として、メチル基、エチル基、n−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
前記式(2)で表される化合物において、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基として、例えば、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基及び2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基が挙げられる。炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基として、例えば、メトキシメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチル基、1−メトキシプロピル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、1−メトキシ−1−メチルエチル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、エトキシメチル基、1−エトキシエチル基、2−エトキシエチル基、1−エトキシプロピル基、2−エトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、1−エトキシ−1−メチルエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル基、プロポキシメチル基、1−プロポキシエチル基、2−プロポキシエチル基、1−プロポキシ−1−メチルエチル基、2−プロポキシ−1−メチルエチル基、イソプロポキシメチル基、1−イソプロポキシエチル基、2−イソプロポキシエチル基、ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、及びtert−ブトキシメチル基が挙げられる。炭素原子数1乃至3のアルキル基として、メチル基、エチル基、n−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
[式(3)で表される化合物]
前記式(3)で表される化合物は、本発明が目的とする3置換体である。トリグリシジル化合物として前記式(1a)で表される化合物を用いて得られる該3置換体は、前記式(3a)で表される化合物である。該3置換体の具体例として、例えば下記式(3a−1)乃至式(3a−4)で表される化合物が挙げられる。
前記式(3)で表される化合物は、本発明が目的とする3置換体である。トリグリシジル化合物として前記式(1a)で表される化合物を用いて得られる該3置換体は、前記式(3a)で表される化合物である。該3置換体の具体例として、例えば下記式(3a−1)乃至式(3a−4)で表される化合物が挙げられる。
[反応工程]
本発明のヒダントイン環を有する化合物の製造方法における反応工程は、前記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、式(1)で表される化合物1モル当量に対し式(2)で表される化合物を3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程であって、エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下でおこなわれることを特徴とする。本工程において、反応温度は例えば60℃乃至80℃、反応時間は例えば12時間乃至30時間である。
本発明のヒダントイン環を有する化合物の製造方法における反応工程は、前記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、式(1)で表される化合物1モル当量に対し式(2)で表される化合物を3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程であって、エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下でおこなわれることを特徴とする。本工程において、反応温度は例えば60℃乃至80℃、反応時間は例えば12時間乃至30時間である。
本工程で使用するアルコール類は、前記エタノール、プロパノールの他、例えばメタノール又はブタノールをさらに含有してもよい。ここで、上記プロパノール及びブタノールは、全ての異性体、即ちn−プロピルアルコール及びイソプロパノール、並びにn−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール及びtert−ブチルアルコールを含む。前記アルコール類がメタノール又はブタノールを含有する場合、その含有量は、該アルコール類の質量に対し例えば1質量%乃至90質量%である。また、前記アルコール類は水を含有してもよい。該アルコール類が水を含有する場合、その含有量は、該アルコール類の質量に対し例えば0.1質量%乃至8質量%である。ここで、アルコール類中の水は、試薬中に当初から含有する水、保存中に吸湿して混入した水、及び意図的に添加された水、のいずれに由来するかは限定されない。
本工程で使用する触媒は、前記式(1)で表されるトリグリシジル化合物と前記式(2)で表される化合物との反応を促進するホスホニウム塩又はアンモニウム塩であればよい。例えば、ホスホニウム塩として、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド及びベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドが挙げられ、アンモニウム塩として、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド及びトリブチルメチルアンモニウムクロライドが挙げられる。本工程における上記触媒の使用量は、前記式(1)で表されるトリグリシジル化合物の質量に対し、例えば10質量%乃至30質量%、好ましくは15質量%乃至25質量%である。
前記反応工程により得られた溶液は、前記式(3)で表される化合物の他に、前記式(4)で表される化合物及び前記式(5)で表される化合物から選択される副生成物をさらに含む。該副生成物は主に、前記式(4)で表される化合物、すなわちトリグリシジル化合物1分子中の3つのエポキシ基のうち2つがヒダントイン誘導体と反応した2置換体から成る。
[イオン交換処理工程]
本発明のイオン交換処理工程は、前記反応工程後におこなわれる。すなわち、前記反応工程により得られた溶液を必要に応じて溶媒置換した後、該溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後、ろ過により該陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を除去することを特徴とする。前記撹拌をおこなう際、溶液の温度は例えば20℃乃至30℃、撹拌時間は例えば2時間乃至6時間である。本工程により、前記2置換体の生成比率は大幅に減少する。その理由は、残存したエポキシ部位が、イオン交換樹脂と相互作用することにより、開環し吸着するからである。本工程で使用する陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂は、例えば、陽イオン交換樹脂としてアンバーリスト[登録商標]15JWET、ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]650C及びアンバーリスト[登録商標]35WETが挙げられ、陰イオン交換樹脂としてダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、アンバーライト[登録商標]IRA96SB及びアンバーリスト[登録商標]A21が挙げられる。
本発明のイオン交換処理工程は、前記反応工程後におこなわれる。すなわち、前記反応工程により得られた溶液を必要に応じて溶媒置換した後、該溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後、ろ過により該陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を除去することを特徴とする。前記撹拌をおこなう際、溶液の温度は例えば20℃乃至30℃、撹拌時間は例えば2時間乃至6時間である。本工程により、前記2置換体の生成比率は大幅に減少する。その理由は、残存したエポキシ部位が、イオン交換樹脂と相互作用することにより、開環し吸着するからである。本工程で使用する陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂は、例えば、陽イオン交換樹脂としてアンバーリスト[登録商標]15JWET、ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]650C及びアンバーリスト[登録商標]35WETが挙げられ、陰イオン交換樹脂としてダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、アンバーライト[登録商標]IRA96SB及びアンバーリスト[登録商標]A21が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明の製造方法を説明する。しかし、本発明は以下に挙げる実施例に限定されない。
[GPC分析方法]
下記実施例で得られた3置換体の生成比率は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略称する。)による測定で得られたクロマトグラムの各ピークを、図1及び図2に示すように分割し、該ピークそれぞれの面積を百分率で算出した結果である。GPCによる測定には東ソー(株)製GPC装置を用い、測定条件等は次のとおりである。
GPCカラム:KF−803L,KF−802,KF−801(昭和電工(株)製)
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/分
注入量:50μL
測定時間:35分
標準試料:ポリスチレン(昭和電工(株)製)
検出器:RI
下記実施例で得られた3置換体の生成比率は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略称する。)による測定で得られたクロマトグラムの各ピークを、図1及び図2に示すように分割し、該ピークそれぞれの面積を百分率で算出した結果である。GPCによる測定には東ソー(株)製GPC装置を用い、測定条件等は次のとおりである。
GPCカラム:KF−803L,KF−802,KF−801(昭和電工(株)製)
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/分
注入量:50μL
測定時間:35分
標準試料:ポリスチレン(昭和電工(株)製)
検出器:RI
[イオン交換樹脂の前処理方法]
陰イオン交換樹脂(2.0kg)にプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加え、これを4時間撹拌した後ろ過し、続いてそれに再度プロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを8時間撹拌した後ろ過した。更に、それにプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを4時間撹拌した後保管した。このプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて保管した陰イオン交換樹脂を、下記実施例及び比較例で使用する直前にろ過した。
陽イオン交換樹脂(2.0kg)にプロピレングリコールモノメチルエーテル(4.0kg)を加え、これを4時間撹拌した後ろ過し、続いてそれに再度プロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを8時間撹拌した後ろ過した。更に、それにプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを4時間撹拌した後保管した。このプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて保管した陽イオン交換樹脂を、下記実施例及び比較例で使用する直前にろ過した。
陰イオン交換樹脂(2.0kg)にプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加え、これを4時間撹拌した後ろ過し、続いてそれに再度プロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを8時間撹拌した後ろ過した。更に、それにプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを4時間撹拌した後保管した。このプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて保管した陰イオン交換樹脂を、下記実施例及び比較例で使用する直前にろ過した。
陽イオン交換樹脂(2.0kg)にプロピレングリコールモノメチルエーテル(4.0kg)を加え、これを4時間撹拌した後ろ過し、続いてそれに再度プロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを8時間撹拌した後ろ過した。更に、それにプロピレングリコールモノメチルエーテル(2.0kg)を加えこれを4時間撹拌した後保管した。このプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて保管した陽イオン交換樹脂を、下記実施例及び比較例で使用する直前にろ過した。
<実施例1>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)15.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)23.8g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド2.8g、及びエタノール97.1gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は86.7%であった。測定結果のクロマトグラムを図1に示す。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル166.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))62.4gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))62.4gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.6%であった。測定結果のクロマトグラムを図2に示す。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)15.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)23.8g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド2.8g、及びエタノール97.1gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は86.7%であった。測定結果のクロマトグラムを図1に示す。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル166.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))62.4gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))62.4gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.6%であった。測定結果のクロマトグラムを図2に示す。
<実施例2>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びイソプロパノール32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は87.9%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記イソプロパノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は94.0%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びイソプロパノール32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は87.9%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記イソプロパノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は94.0%であった。
<実施例3>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び86%エタノールIP(エタノール;85.0質量%〜87.0質量%,イソプロパノール;13.0質量%〜14.0質量%,1−ブタノール;1質量%)(和光純薬工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は88.3%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノールIPを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.6%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び86%エタノールIP(エタノール;85.0質量%〜87.0質量%,イソプロパノール;13.0質量%〜14.0質量%,1−ブタノール;1質量%)(和光純薬工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は88.3%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノールIPを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.6%であった。
<実施例4>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び99%メタノール変性アルコール(エタノール;89.84質量%,メタノール;10.16質量%)(今津薬品工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は87.6%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記99%メタノール変性アルコールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.2%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び99%メタノール変性アルコール(エタノール;89.84質量%,メタノール;10.16質量%)(今津薬品工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は87.6%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記99%メタノール変性アルコールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.2%であった。
<実施例5>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び99%IPA変性アルコール(エタノール;88.40質量%,イソプロパノール;10.49質量%,エチルメチルケトン1.11質量%)(今津薬品工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は88.1%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記99%IPA変性アルコールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は94.6%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及び99%IPA変性アルコール(エタノール;88.40質量%,イソプロパノール;10.49質量%,エチルメチルケトン1.11質量%)(今津薬品工業(株)製)32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は88.1%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記99%IPA変性アルコールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は94.6%であった。
<実施例6>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製) 7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール 16.2g、及びイソプロパノール16.2gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は89.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びイソプロパノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.3%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製) 7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール 16.2g、及びイソプロパノール16.2gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は89.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びイソプロパノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は95.3%であった。
<実施例7>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール9.7g、及びメタノール22.7gを仕込んだ。この溶液を69℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は82.1%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びメタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.7%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化学工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール9.7g、及びメタノール22.7gを仕込んだ。この溶液を69℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は82.1%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びメタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.7%であった。
<実施例8>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、イソプロパノール3.2g、及びメタノール29.1gを仕込んだ。この溶液を65℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は80.2%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記イソプロパノール及びメタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.5%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、イソプロパノール3.2g、及びメタノール29.1gを仕込んだ。この溶液を65℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は80.2%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記イソプロパノール及びメタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は96.5%であった。
<比較例1>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は80.1%であった。そこへプロピレングリコールモノメチルエーテル23.1gと陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は89.0%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は80.1%であった。そこへプロピレングリコールモノメチルエーテル23.1gと陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は89.0%であった。
<比較例2>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びメタノール32.4gを仕込んだ。この溶液を64℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は61.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記メタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は82.5%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びメタノール32.4gを仕込んだ。この溶液を64℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は61.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記メタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は82.5%であった。
<比較例3>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びメタノール32.4gを仕込んだ。この溶液を64℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は61.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記メタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は82.5%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びメタノール32.4gを仕込んだ。この溶液を64℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は61.7%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記メタノールを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は82.5%であった。
<比較例4>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びジクロロエタン32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は77.5%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記ジクロロエタンを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は83.3%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、及びジクロロエタン32.4gを仕込んだ。この溶液を78℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は77.5%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記ジクロロエタンを留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は83.3%であった。
<比較例5>
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール3.2g、及びメタノール29.1gを仕込んだ。この溶液を69℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は71.5%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びメタノール溶媒を留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は93.5%であった。
窒素雰囲気下、200mL反応フラスコにイソシアヌル酸トリグリシジル(日産化学工業(株)製)5.0g、1−ヒドロキシメチル−5,5−ジメチルヒダントイン(東京化成工業(株)製)7.9g、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド0.9g、エタノール3.2g、及びメタノール29.1gを仕込んだ。この溶液を69℃にて加熱還流を行い24時間反応させた。得られた生成物のGPC測定を行ったところ3置換体の生成比率は71.5%であった。引き続き、濃縮により反応溶液から前記エタノール及びメタノール溶媒を留去し、次いでこれにプロピレングリコールモノメチルエーテル55.5gを加えた。そこへ陰イオン交換樹脂(製品名:ダウエックス[登録商標] MONOSPHERE[登録商標]550A、ムロマチテクノス(株))20.8gと陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト[登録商標]15JWET、オルガノ(株))20.8gを加え、続いてこれを25℃乃至30℃で4時間撹拌した後ろ過した。得られた生成物のGPC測定を行ったところ、イオン交換処理後の3置換体の生成比率は93.5%であった。
本発明により製造された3置換体は、例えば、リソグラフィー用反射防止膜形成組成物、レジスト下層膜形成組成物、レジスト上層膜形成組成物、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、平坦化膜形成組成物、接着剤組成物、その他の組成物に適用することができる。
Claims (5)
- エタノールを少なくとも30質量%及び/又はプロパノールを少なくとも10質量%含むアルコール類中で、触媒の存在下、下記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物とを、該式(1)で表される化合物1モル当量に対し該式(2)で表される化合物3モル当量の割合で反応させ下記式(3)で表される化合物を含む溶液を得る反応工程、及び
前記溶液に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を加え続いてこれを撹拌した後ろ過するイオン交換処理工程を有する、ヒダントイン環を有する化合物の製造方法。
(式中、A1は三価の脂肪族基、又は芳香族環もしくは複素環を有する三価の基を表し、Z1は直接結合、−O−基又は−C(=O)O−基を表し、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Xは炭素原子数1乃至3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至5のアルコキシアルキル基又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表す。) - 前記アルコール類はメタノール又はブタノールをさらに含む、請求項1又は請求項2に記載のヒダントイン環を有する化合物の製造方法。
- 前記反応工程により得られた溶液から前記アルコール類を留去し次いでこれに有機溶媒を加えた溶液に対し前記イオン交換処理工程をおこなう、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のヒダントイン環を有する化合物の製造方法。
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