JPWO2017217487A1 - 酸化物超電導線材及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2016年6月16日に日本に出願された特願2016−119838号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
特許文献1には、不純物を含まない第一超電導膜と不純物を含む第二超電導膜とが交互に積層された構造が開示されている。
特許文献2には、Baを含む柱状結晶が超電導層中の膜厚方向に不連続に並んだ構造が開示されている。
特許文献3には、GdBCO超電導層の内部に、柱状又は棒状のBZOの結晶が、超電導結晶のc軸に対して傾き、かつ、隣接する前記結晶の長手方向がねじれる状態で分散している構造が開示されている。
本発明の第3の態様は、前記前記第1又は第2の態様の酸化物超電導線材において、前記人工ピンロッドが、BaMO3(ただし、Mは4価金属)又はRe2O3(ただし、REは希土類元素)から構成されている。
希薄ゾーン32は、超電導体33のみから構成された層でもよく、超電導体33中に密集ゾーン31より低密度で人工ピンロッド34を含む層でもよい。基板20に接する層は、密集ゾーン31でも希薄ゾーン32でもよい。超電導層30の厚さ方向に、密集ゾーン31及び希薄ゾーン32がそれぞれ2つ以上交互に配置されてもよい。
超電導材料ターゲット22は、超電導材料を含み、人工ピン材料を含まないターゲットである。超電導材料ターゲット22は、純粋な(不可避の不純物を含み得る)超電導材料から構成されてもよい。なお、「超電導材料ターゲット22が人工ピン材料を含まない」とは、人工ピン材料を含んでいない状態と同視できる程度の微量の人工ピン材料が超電導材料ターゲット22に含まれる場合、すなわち実質的に人工ピン材料が含まれない場合を含む。
図2の例でいえば、基板20がレーンA側の位置にあるときは、レーザー24が人工ピン材料含有ターゲット21上を照射したときに人工ピン材料がレーンA側に多く到達し、レーザー24が超電導材料ターゲット22上を照射したときに超電導材料がレーンA側に到達しにくいので、多くの人工ピンロッドが成長しやすいが、一部の人工ピンロッドの成長は停止することもある。
また、基板20がレーンC付近にあるときは、人工ピン材料含有ターゲット21上を照射したときには人工ピン材料がレーンC付近に到達し、レーザー24が超電導材料ターゲット22上を照射したときには超電導材料がレーンC付近に到達することで、成長する人工ピンロッドと、成長が停止する人工ピンロッドとがそれぞれ相当の割合で混在し得る。
また、基板20がレーンE側の位置にあるときは、レーザー24が人工ピン材料含有ターゲット21上を照射したときに人工ピン材料がレーンE側に到達しにくく、レーザー24が超電導材料ターゲット22上を照射したときに超電導材料がレーンE側に多く到達するので、多くの人工ピンロッドの成長が停止しやすいが、一部の人工ピンロッドは成長し続けることもある。
このように、本実施形態の製造方法によれば、レーンごとに基板20上に堆積する材料の種類、割合や、人工ピンロッドの成長または成長停止の程度などを変化させることができる。これにより、人工ピンロッドの長さや、厚さ方向の成長開始または成長停止の位置がばらつきやすくなり、長さが異なる人工ピンロッドが基板20の幅方向、長さ方向、厚さ方向のそれぞれにわたって分散した構造を容易に得ることができる。
保護層14の材質としては、例えば銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、金と銀との合金、その他の銀合金、銅合金、金合金などが挙げられる。保護層14は、少なくとも酸化物超電導層13の表面(厚さ方向で、金属基板11側に対する反対側の面)を覆っている。さらに保護層14は、酸化物超電導層13の側面、中間層12の側面、金属基板11の側面、金属基板11の裏面11bから選択される領域の一部または全部を覆ってもよい。
また、レーザー24の走査方向26における照射範囲を変更して、プルーム25の組成を変更することも可能である。例えば、超電導材料ターゲット22に比べて人工ピン材料含有ターゲット21をより広く照射するようにレーザー24の照射範囲を設定すれば、発生するプルーム25における人工ピン材料の含有率を向上できる。一方、人工ピン材料含有ターゲット21に比べて超電導材料ターゲット22をより広く照射するようにレーザー24の照射範囲を設定すれば、発生するプルーム25における人工ピン材料の含有率を低減できる。また、例えば、基板20の1つのレーンでの走行が終了する毎に、レーザー24の照射範囲をこのように変更することで、プルーム25の組成を変更し、人工ピンロッドの成長をばらつかせるようにしてもよい。
なお、超電導層30の希薄ゾーン32を形成する場合には、レーザー24の照射範囲を超電導材料ターゲット22上のみ、又は超電導材料ターゲット22上の照射領域を人工ピン材料含有ターゲット21上の照射領域と比べて著しく大きく設定してもよい。
比較例1では、GdBCO(BaHfO3を含まない)から構成されたターゲットを用いた。
比較例2では、GdBCOに3.5mol%のBaHfO3が均一に混合されたターゲットを用いた。
11 金属基板
11a 一方の面
11b 裏面
12 中間層
13 酸化物超電導層
14 保護層
15 積層体
20 基板
21 人工ピン材料含有ターゲット(第1ターゲット)
22 超電導材料ターゲット(第2ターゲット)
23 ターゲット
24 レーザー
25 プルーム
26 レーザーの走査方向
27 ターゲットの駆動方向
30 超電導層
31 密集ゾーン
32 希薄ゾーン
33 超電導体
34 人工ピンロッド
35 基板面
Claims (4)
- 基板上に形成された超電導層を有する酸化物超電導線材であって、
前記超電導層は、長さが異なる複数の人工ピンロッドが前記基板の基板面に平行な面上に分散した構造を有する酸化物超電導線材。 - 前記超電導層が、前記基板面に平行な面における前記人工ピンロッドの密度が高い層と前記密度が低い層とが前記基板面に垂直な方向に交互に積層された構造を有する請求項1に記載の酸化物超電導線材。
- 前記人工ピンロッドが、BaMO3(ただし、Mは4価金属)又はRe2O3(ただし、REは希土類元素)から構成されている請求項1又は2に記載の酸化物超電導線材。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記基板を所定の方向に走行させつつ、一体又は別体に並置された、人工ピンロッドを構成する材料を含む第1ターゲットと、酸化物超電導体を構成する材料を含むが人工ピンロッドを構成する材料を含まない第2ターゲットと、の間でレーザーの照射位置を前記基板の走行方向に交差する方向に走査して、パルスレーザー蒸着(PLD)法により前記基板上に前記超電導層を形成する工程を備える酸化物超電導線材の製造方法。
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