JP5986871B2 - 酸化物超電導導体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
また、酸化物超電導層の超電導特性を向上させるためには、酸化物超電導層の下地となる中間層の結晶配向性を整えることが重要である。例えば、以下の特許文献2に記載されているように、基材上にイオンビームアシスト法により結晶配向性の良好な中間層を形成し、この中間層上に更に結晶配向性の良好なキャップ層を成膜し、このキャップ層上に酸化物超電導層を成膜した酸化物超電導導体が知られている。
また、RE−123系の酸化物超電導体は92K前後の特定の臨界温度(Tc)を示すので、液体窒素などの冷媒を用い、冷却して使用する。従って、基材上に複数の層を積層した構造とする場合、酸化物超電導層の臨界温度が低下しないような層構造を採用する必要がある。
酸化物超電導体の結晶粒の粒界にアルカリ土類金属元素が存在していると、結晶粒界においてキャリア濃度が向上し、結晶粒界における弱結合の発生を抑制して臨界電流値の向上に寄与する。また、酸化物超電導層を構成する酸化物超電導体の結晶粒の粒界にアルカリ土類金属元素を存在させていても、酸化物超電導層の臨界温度が低下することはないので、アルカリ土類金属元素を含んでいない酸化物超電導体と同じ優れた臨界温度を有しながら臨界電流値の高い酸化物超電導導体を提供できる。
酸化物超電導層と配向層との間に配するキャップ層をCeO2から構成すると、CeO2は配向性に優れた構造にできるので、その上に積層した酸化物超電導層の結晶構造を良好にすることができ、臨界電流値の優れた酸化物超電導層を提供できる。また、アルカリ土類金属元素としてCaとSrを選択するならば、酸化物超電導体の結晶粒の粒界に拡散させることができ、酸化物超電導層の臨界温度を維持しつつ臨界電流値を高くする効果を得ることができる。
アルカリ土類金属元素が酸化物超電導体の結晶粒の内部側に多く拡散すると、酸化物超電導体の結晶構造が崩れて酸化物超電導層の臨界電流値を低下させる要因となるので、アルカリ土類金属元素は結晶粒の粒界と該粒界に近い結晶粒内部領域に拡散されていることが好ましい。酸化物超電導体の結晶粒の内部において粒界に近い領域と粒界にアルカリ土類金属元素を存在させることで、臨界温度を低下させることなく臨界電流特性を向上できる。
酸素アニール処理によって保護層を介し酸化物超電導層の結晶に酸素を供給し、酸化物超電導層の結晶構造を整えて臨界電流特性を向上させる。この酸素アニール処理時にアルカリ土類金属元素をキャップ層から酸化物超電導層側に拡散させることで酸化物超電導層を構成する酸化物超電導体の結晶粒の粒界にアルカリ土類金属元素を拡散させることができる。アルカリ土類金属元素が酸化物超電導体の結晶粒の粒界に拡散する速度は、アルカリ土類金属元素が酸化物超電導体の結晶粒の内部側に拡散する速度よりも速いので、アルカリ土類金属元素は酸化物超電導体の結晶粒の粒界に主に拡散する。このため、酸化物超電導体の結晶粒の粒界においてキャリア濃度を向上させる効果が主に発揮され、臨界電流特性が向上する。
本発明において、前記CeO2のキャップ層を配向層上に成膜法により形成するとともに、前記成膜法を実施する場合のターゲットに前記アルカリ土類金属元素を含有させておくことができる。
CeO2のキャップ層であるならば結晶配向性に優れたキャップ層とすることができ、その上に成膜する酸化物超電導層の結晶配向性を良好にすることができる。
また、CeO2のキャップ層であるならばキャップ層をスパッタ法などの成膜法で形成する場合にそのターゲットにアルカリ土類金属元素を添加しておき、キャップ層の成膜と同時にアルカリ土類金属元素を含有したキャップ層を得ることができる。
図1(A)に示すように、本実施形態の酸化物超電導導体1は、基材2の一面(表面)上に、中間層5、酸化物超電導層6、保護層7および金属安定化層8がこの順に積層され、これらの周囲を絶縁材からなる被覆層10で覆って構成されている。なお、被覆層10は必須の構成ではなく、絶縁が不要な場合は略しても良い。
拡散防止層は、この層よりも上面側に他の層を形成する際に加熱処理した結果、基材2や他の層が熱履歴を受ける場合、基材2の構成元素の一部が拡散し、不純物として酸化物超電導層6側に混入することを抑制する機能を有する。拡散防止層の具体的な例として、上記機能を発現し得るものであれば特に限定されないが、不純物の混入を防止する効果が比較的高いAl2O3、Si3N4、又はGZO(Gd2Zr2O7)等から構成される単層構造あるいは複層構造が望ましい。
キャップ層3Cにアルカリ土類金属元素を含有させる手段は後述の製造方法において詳細に説明するようにキャップ層3Cを成膜する場合に用いるターゲットに予めアルカリ土類金属元素を含有させておき、成膜と同時に導入する方法を採用できる。このため、上述のキャップ層3Cを構成するCeO2、LMnO3等の材料からなる酸化物ターゲットを用いる場合に各ターゲットにそれぞれ必要量のアルカリ土類金属元素を含有させておくことが好ましい。
本実施形態の酸化物超電導層6には、前記キャップ層3Cに含有されているアルカリ土類金属元素の一部から拡散されたアルカリ土類金属元素が含有されている。酸化物超電導層6に含有されているアルカリ土類金属元素は主に酸化物超電導層6を構成する酸化物超電導体の結晶粒の粒界に拡散されている。また、前記アルカリ土類金属元素の一部は酸化物超電導体の結晶粒の粒界からわずかに酸化物超電導体の結晶粒の内部側にまで拡散されていてもよい。結晶粒において粒界側とは、粒界上から添加物濃度が一定になるまでの範囲を意味する。
金属安定化層8の構造は、他の層と同様に層構造であっても良く、基材2から保護層7まで積層した積層体を保護層7の表面側から積層体の裏面側を所定幅覆うように金属テープを折り曲げた横断面C型構造の金属安定化層であってもよい。また、金属安定化層8を金属めっきにより構成し、基材2から保護層7まで形成した積層体の全体をめっき層で覆った構造としても良い。
酸化物超電導層6を構成する酸化物超電導体の結晶粒の粒界に、アルカリ土類金属元素が存在すると、粒界部分におけるキャリア濃度が向上し、粒界に弱結合が生じ難くなり、この結果、超電導電流が粒界を流れる際の障害が少なくなり、臨界電流特性が向上する。
粒界に位置する酸化物超電導体の結晶に対しCaなどのアルカリ土類金属元素は2価であるため、RE123系の希土類酸化物超電導体のBa原子の位置と置換し、価数が変わり、電子の担い手が増加することによりキャリア濃度が向上して超電導電流が流れやすくなると推定できる。
まず、テープ状の基材2の表面上に、拡散防止層とベッド層からなる下地層3Aを形成する(下地層形成工程:S1)。
拡散防止層は、結晶性が特に問われないので、通常のスパッタ法等の成膜法により形成できる。また、拡散防止層の膜厚は通常10〜400nmとすればよい。ベッド層は、拡散防止層と同様に結晶性が特に問われないので、通常のスパッタ法等の成膜法により形成できる。また、ベッド層の膜厚は通常10〜100nmとすればよい。なお、拡散防止層とベッド層は必ずしも両方用いる必要はなく、これらの層のうち少なくとも1層を用いた構造になればよく、場合によっては両方の層を略しても良い。拡散防止層とベッド層の両方の層を略した場合、基材2の表面上に直接、以下に説明する配向層3Bを形成する。
配向層3Bの形成方法には、真空蒸着法、レーザ蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法(IBAD法)等、数多くの方法を選択できるが、超電導層6やキャップ層3Cの結晶配向性をより高く制御できることから、IBAD法を用いることが好ましい。ここで、IBAD法とは、成膜時に、結晶の成膜面に対して所定の入射角度でArなどのイオンビームを照射することにより、結晶軸を配向させる方法である。また、配向層3Bは、前述した材料を一つ用いて単層構造としても良いし、複数用いて複層構造としても良い。
キャップ層3Cの形成には、アルカリ土類金属元素を所定量含むCeO2のターゲットを用いた成膜法を採用できる。この場合、パルスレーザ蒸着法(以下、PLD法と呼ぶことがある。)、スパッタリング法等の成膜手段を採用することができるが、大きな成膜速度を得られる点でPLD法を用いることが好ましい。また、キャップ層3Cの膜厚は、十分な配向性を得るには40nm以上積層することが好ましい。キャップ層3を配向層3B上に成膜することで配向層3Bの良好な結晶配向性を維持するか更に良好な結晶配向性を示す。
キャップ層3Cの形成に用いるターゲットに含まれるアルカリ土類金属元素は、1モル%〜50モル%の範囲を例示できる。アルカリ土類金属元素の含有量として、1〜40モル%の範囲が好ましく、1〜30モル%の範囲がより好ましい。このようなターゲットを用いることでターゲットに含まれているアルカリ土類金属元素とほぼ同等量のアルカリ土類金属元素をキャップ層3Cに含有させることができる。
上述の工程において、配向層3Bとキャップ層3Cを良好な配向性に制御しつつ成膜しておくならば、キャップ層3Cの上に成膜される酸化物超電導体の結晶粒も良好な配向性をもって配向し、良好な超電導特性を発揮する酸化物超電導層6が得られる。また、酸化物超電導層6の膜厚は、0.5〜5μm程度であって、均一な厚さであることが好ましい。
保護層7は、公知の成膜法で形成することができるが、DCスパッタ装置、RFスパッタ装置などの成膜装置を用いたスパッタ法で成膜することができる。また、保護層7の膜厚は、通常は1〜30μmであればよい。
したがって、加熱条件として、加熱炉内の雰囲気は、酸素ガスを含む雰囲気とすることが好ましい。酸素アニール時の加熱温度は、300〜500℃、数時間〜数10時間の範囲を選択することができる。
このように酸化物超電導体の結晶粒界にアルカリ土類金属元素を拡散させた超電導特性に優れた酸化物超電導層6を酸素アニール処理により形成できる。
なお、キャップ層3C上に酸化物超電導層6を成膜する場合、積層体を数100℃に加熱するのでキャップ層3C中のアルカリ土類金属元素の一部は成膜中の酸化物超電導層6側に一部拡散する。このように酸化物超電導層6を成膜する時の熱拡散に加え、前述の酸素アニール時の熱拡散とを合わせて、キャップ層3Cから酸化物超電導層6側に多くのアルカリ土類金属元素を拡散できる。
金属安定化層8の形成方法は、公知の方法であれば、特に限定されないが、半田を用いて金属テープを直接貼り合わせる方法やスパッタ法や蒸着法などで層として形成する方法あるいはめっきにより形成する方法を選択することが好ましい。また、金属安定化層8の膜厚は、特に限定されないが、適宜調整可能であるが、超電導導体1としての可撓性を考慮し、10〜300μmとすることが好ましい。
また、絶縁材からなる被覆層10の形成方法は、特に限定されないが、金属安定化層8までを形成した積層体の全周をテープ状、シート状、もしくは薄板状の絶縁被覆層で覆うことにより形成できる。
また、図3に示す超電導コイル17を必要数用いて超電導マグネットや超電導モーターなどの超電導機器を製造することができる。ここで、超電導機器は、前記酸化物超電導導体1を有するものであれば特に限定されず、例えば、超電導変圧器、超電導限流器、超電導電力貯蔵装置などを例示できる。勿論、前記酸化物超電導導体1をコイル化することなく複数本集合してケーブル構造とした超電導機器についても本実施形態に係る酸化物超電導導体1を適用できるのは勿論である。
「実施例1」
ハステロイ(商品名ハステロイC−276、米国ヘインズ社製)からなる幅10mm、厚さ0.1mm、長さ2000mmのテープ状の基材を用意し、表面粗さRaが4〜5nmとなるまで研磨した後、アルコール及び有機溶剤によって洗浄した。
次に、以下の形成条件により、テープ状の基材の一面上に、拡散防止層、ベッド層、配向層およびキャップ層をこの順に積層した。
まず、イオンビームスパッタ法により、テープ状の基材の上にAl2O3からなる膜厚100nmの拡散防止層を形成し、次に、イオンビームスパッタ法により、拡散防止層の上にY2O3からなる膜厚20nmのベッド層を形成した。
次に、IBAD法により、ベッド層の上にMgOからなる膜厚10nmの配向層を形成した。
PLD法による成膜温度は700〜900℃の範囲に設定できるが、この例では800℃で成膜した。CeO2ターゲットに含有させるCa量の影響を比較するため、CeO2ターゲットに含まれるCaの含有量を1モル%〜50モル%の間で以下の表1に示すように適宜変更した複数のターゲットを用意し、各ターゲットを使い分けてキャップ層に含まれるCa量の異なる積層体試料を複数準備した。
次に、PLD法により、各積層体試料のキャップ層上にGdBa2Cu3O7−xなる組成の膜厚2μmの酸化物超電導層を順次形成し、DCスパッタ法により、酸化物超電導層の上にAgからなる膜厚5μmの保護層を成膜した。
次に、保護層までの各層を形成した積層体を、500℃で10時間、酸素を満たした加熱炉内で酸素アニールした。その後、加熱炉から取り出し、テープ状の酸化物超電導導体試料を得た。各酸化物超電導導体試料のCa添加量(キャップ層に対する添加量)と臨界電流値(Ic/Ic0;Ca無添加の酸化物超電導層を備えた酸化物超電導導体のIc値をIc0とした場合、得られた各酸化物超電導導体試料のIcの相対値)と臨界温度(Tc:K)を測定し、以下の表1に示す。Ic値の測定は、各超電導導体試料の保護層の外面に端子を装着して行う4端子法により、77Kにおいて測定した。また、表1に合否欄を設けてIc/Ic0の値が1.2以上の試料を二重丸◎印、1.0〜1.2未満の試料を○印、1.0未満の試料を△印で示した。
表1のCa含有量は、ターゲットに対するCa含有量であるが、ターゲットからキャップ層側に全ての元素が移行したと仮定すると、キャップ層と酸化物超電導層に含まれているCaの総量はターゲットに含有させたCa量とほぼ同等と見なすことができる。このため、キャップ層と酸化物超電導層の両方に含まれているCa量(アルカリ土類金属元素量)として、表1に示す結果から、1モル%以上、50モル%未満の範囲ならば良好な臨界電流値と優れた臨界温度を兼ね備えた酸化物超電導導体を製造できたこととなる。また、Ca量の範囲として、表1に示す結果から、1モル%以上、40モル%以下の範囲がより好ましく、1モル%以上、30モル%以下の範囲が最も好ましいと思われる。
なお、比較のために、表1に示すNo.4のCa添加量5モル%の試料作成時、酸化物超電導層を生成するためのターゲットにCaを5モル%含有させて酸化物超電導層を形成した比較例の酸化物超電導導体試料を作成した。この酸化物超電導導体試料のIc/Ic0の値は0.8、臨界温度Tcは90Kを示した。この試料によれば、酸化物超電導層を作成する際にCaが酸化物超電導層の結晶内部に侵入し、酸化物超電導層の結晶そのものの生成に影響を及ぼした結果と思われる。このため、この比較例試料の合否は△に相当する。
実施例1とほぼ同等の製造工程を経て酸化物超電導導体を製造した。実施例1の製造工程と異なる点は、Caを含むCeO2ターゲットを用いる代わりに、Srを含むCeO2ターゲットを用いて配向層上にSrを含むCeO2からなる膜厚300nmのキャップ層を形成し、このキャップ層からSrを拡散させた点にある。このキャップ層を用いることでSrを結晶粒界に拡散させた酸化物超電導層を備えた酸化物超電導導体を製造した。その他の製造条件は実施例1と同等にして酸化物超電導導体試料を複数得た。
表2に示す各酸化物超電導導体試料のSr添加量(キャップ層に対する添加量)と臨界電流値(Ic/Ic0;Ca無添加の酸化物超電導層を備えた酸化物超電導導体のIc値をIc0とした場合の各酸化物超電導導体試料のIcの相対値)と臨界温度(Tc:K)を測定した。Ic値の測定は、各超電導導体試料の保護層の外面に端子を装着して行う4端子法により、77Kにおいて測定した。
表2のSr含有量は、ターゲットに対するSr含有量であるが、ターゲットからキャップ層側に全ての元素が移行したと仮定すると、キャップ層と酸化物超電導層に含まれているSrの総量はターゲットに含有させたSr量と同等と見なすことができる。このため、キャップ層と酸化物超電導層の両方に含まれているSr量(アルカリ土類金属元素量)として、表2に示す結果から、1モル%以上、50モル%以下の範囲ならば良好な臨界電流値と優れた臨界温度を兼ね備えた酸化物超電導導体を製造できたこととなる。また、Sr量の範囲として、表2から、1モル%以上、30モル%以下の範囲がより好ましいと思われる。
以上説明の如く、本実施例の酸化物超電導層は、それを構成する酸化物超電導体の結晶粒界に主にアルカリ土類金属元素であるCaあるいはSrを拡散させた構造となっているので、先の表1、表2に示すように、優れた臨界温度を有しつつ、優れた臨界電流値を発揮できることが判明した。
Claims (6)
- 基材と、前記基材上に形成された配向層とキャップ層および酸化物超電導層と、前記酸化物超電導層上に形成された保護層とを有し、前記キャップ層にアルカリ土類金属元素が含有され、前記アルカリ土類金属元素がCaまたはSrであり、前記酸化物超電導層を構成する酸化物超電導体は、REBa 2 Cu 3 O 7−x (REは希土類元素、xは酸素欠損を表す。)の結晶粒の粒界に前記アルカリ土類金属元素が含まれたことを特徴とする酸化物超電導導体。
- 前記キャップ層がCeO2からなることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導導体。
- 前記酸化物超電導層を構成する前記酸化物超電導体の結晶粒において粒界側に前記アルカリ土類金属元素が含まれたことを特徴とする請求項1または2に記載の酸化物超電導導体。
- 基材上に配向層を形成する配向層形成工程と、前記配向層上にCaまたはSrであるアルカリ土類金属元素を含有するキャップ層を形成するキャップ層形成工程と、前記キャップ層上にREBa 2 Cu 3 O 7−x (REは希土類元素、xは酸素欠損を表す。)からなる酸化物超電導層を形成する酸化物超電導層形成工程と、前記酸化物超電導層上に保護層を形成して積層体を得る保護層形成工程と、前記積層体を酸素アニール処理して前記キャップ層に含まれている前記アルカリ土類金属元素を、前記酸化物超電導層を構成する酸化物超電導体の結晶粒の粒界に拡散させる酸素アニール工程、を含むことを特徴とする酸化物超電導導体の製造方法。
- 前記キャップ層をCeO2から構成することを特徴とする請求項4に記載の酸化物超電導導体の製造方法。
- 前記キャップ層を配向層上に成膜法により形成するとともに、前記成膜法を実施する場合のターゲットに前記アルカリ土類金属元素を含有させることを特徴とする請求項4または5記載の酸化物超電導導体の製造方法。
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