JPWO2017216865A1 - 平面導波路 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の特許文献1には、第1及び第2のクラッドとして、屈折率がコアの屈折率よりも低い材料を用いることで、コアに入射された光が、第1及び第2のクラッドとコアの界面で全反射するようにしている平面導波路が開示されている。
図1はこの発明の実施の形態1による平面導波路を示す構成図である。
図1において、平面導波路10はコア11、クラッド12及びクラッド13を備えている。
コア11は光である信号光21を伝搬する平板である。
コア11は信号光21に対して透明な材料であるガラスなどで形成されており、図1の例では、コア11の屈折率がn11、コア11の厚さがd11である。
図中、コア11の厚さ方向がx軸、コア11の側面方向がy軸、信号光21の伝搬方向である光軸がz軸である。
クラッド12は複数の膜が積層されている多層膜であり、例えば、薄膜12aと薄膜12bが交互に積層されている。
図1の例では、薄膜12aと薄膜12bのセットが、3セット積層されているが、1セット以上積層されていればよい。
薄膜12aと薄膜12bは、材質が異なる材料で形成されており、例えば、成膜が可能な誘電体材料であるSiO2,Ta2O5,MgO,Nb2O5,TiO2,CaF2,MgF2などの中から、2種類の誘電体材料が選択されて、薄膜12aと薄膜12bが形成されている。
図1の例では、薄膜12aの屈折率がn12a、薄膜12bの屈折率がn12bであり、薄膜12aの膜厚がd12a、薄膜12bの膜厚がd12bである。
薄膜12a,12bの屈折率n12a,n12bのうち、どちらかの屈折率、あるいは、両方の屈折率が、コア11の屈折率n11より高くてもよい。
クラッド13はyz平面に対して、クラッド12が線対称に配置された構造を有している。そのため、クラッド13はクラッド12と同様に、薄膜12aと薄膜12bが交互に積層されている。
クラッド12及びクラッド13は信号光21がコア11側からθ21の角度(以下、「伝搬角θ21」と称する)で入射された際、99%以上の反射率を有している。
また、薄膜12a,12bの厚さ方向と信号光21の伝搬方向を含む面に平行な信号光21の偏光をTM(Transverse Magnetic field)モードと称し、TMモードの偏光をTM偏光と称する。
したがって、図1の信号光21がy偏光であるときにTEモードとなり、x偏光であるときにTMモードとなる。
したがって、一般的な平面導波路では、コアに入射された光をクラッドとコアの界面で全反射させるために、屈折率がコアの屈折率よりも低い材料でクラッドを形成する必要があるが、この実施の形態1では、薄膜12a,12bの屈折率n12a,n12bをコア11の屈折率n11より低くする必要がないため、コア11の屈折率に制限がない。このため、任意の材料で形成されているコア11を用いて、平面導波路10を形成することが可能になる。
真空中でλ21の波長を有する信号光21は、コア11内を伝搬角θ21で伝搬される。
図2は信号光21の波数ベクトルを示す説明図である。
信号光21のx方向の波数として、コア11における波数の垂直成分をk2111、薄膜12aにおける波数の垂直成分をk2112a、薄膜12bにおける波数の垂直成分をk2112bとすると、波数の垂直成分k2111,k2112a,k2112bは、下記の式(1)〜(3)のように定義される。以下では、説明の簡単化のため、波数の垂直成分k2111,k2112a,k2112bを波数k2111,k2112a,k2112bのように簡略して表記する。
以下、伝搬角θ21が0次の信号光21(以下、「0次モード光」と称する)だけが伝搬可能な導波路をシングルモード導波路と称し、伝搬角θ21が低次の信号光21(以下、「低次モード光」と称する)の伝搬は可能であるが、高次の信号光21(以下、「高次モード光」と称する)の伝搬ができない導波路を低次モード導波路と称する。
図3は低次モード光と高次モード光を示す説明図である。
ただし、多層膜に含まれる薄膜12a,12bは、一般的なガラスと比較すると、散乱が大きいため、信号光21を伝搬する際の損失が大きくなることがある。このため、後述する条件を満足する薄膜12a,12bを用いる必要がある。
図4より、クラッドへの信号光21のしみ出し量が増えると導波路損失が増加し、しみ出し量と導波路損失が正比例する関係にあることが分かる。
しみ出し量は、伝搬する信号光21の全強度に対して、信号光21が多層膜に侵入する侵入量の割合を示しており、クラッド12が信号光21に対して100%の反射率を有する場合であっても、信号光21の一部は多層膜の内部で反射するため、多層膜の内部には一定のエネルギーが存在する。
このとき、コア11の内部に存在するエネルギーと、多層膜の内部に存在するエネルギーとの割合をしみ出し量と定義する。このしみ出し量は、モード毎に異なる。
コア11とクラッド12の界面で、信号光21の入射光と反射光の位相がπだけ変化しているとする仮定は、しみ出し量の少ない導波路において良く成立する。
あるモードにおいて、信号光21のしみ出し量が少なくなる条件は、下記の式(5)を満足する。式(5)において、lは任意の整数である。
式(5)を満足する多層膜では、図6に示すように、信号光21が、多層膜に含まれる複数の薄膜うち、1組の薄膜12a,12bを1往復する際の光路が2πの位相に相当する。そして、膜界面における反射光と強め合う干渉を起こすため、多層膜の層数が少ない場合でも、高い反射率を実現することができる。
図6は1組の薄膜12a,12bを1往復する際の光路が2πの位相に相当する旨を示す説明図である。
したがって、薄膜12a,12bの膜厚d12a,d12bは、下記の式(6)を満足するように決定される。
ここでは、厚さd11が10μmで屈折率n11が1.42のコア11と、膜厚d12aが238nmで屈折率n12aが2.16の薄膜12aと、膜厚d12bが1278nmで屈折率n12bが1.45の薄膜12bとが交互に積層された多層膜であるクラッド12と、クラッド12と対称な多層膜であるクラッド13とを備えた平面導波路10において、信号光21が真空中で波長1.55μmの光である場合を考える。
式(4)及び式(1)によれば、0次モード光の伝搬角θ21は、1.5162radとなり、薄膜12aにおける波数k2112aは6.61×106m−1、薄膜12bにおける波数k2112bは1.23×106m−1となる。
したがって、薄膜12a,12bにおける光路長は、位相に換算すると、共に約π/2になるため、式(7)を満足する。
図7において、横軸は平面導波路10の厚さ方向の位置を示しており、コア11における厚さ方向の中心が0μmである。縦軸はパワー密度である。図7では強度と表記している。
図7の例では、シミュレーションなどによって計算すると、0次モード光のしみ出し量は0.07%、1次モード光のしみ出し量は0.31%、2次モード光のしみ出し量は0.84%となる。
図4の成膜装置(1)を使用した場合、モード毎の損失についても、シミュレーションなどによって計算すると、0次モード光の損失が0.67dB/mm、1次モード光の損失が2.97dB/mm、2次モード光の損失が8.05dB/mmとなる。
したがって、設計で考慮した0次モード光の損失は、1次モード光や2次モード光と比べて、低い値に抑えられており、低次モード化が可能な平面導波路10になっている。
多種の薄膜が積層されている多層膜である場合、低屈折率層から高屈折率層に光が入射される界面から、次の低屈折率層から高屈折率層に光が入射される界面までの光路長を位相に換算した値をφとするとき、下記の式(7)を満足するように設計する。
なお、コア11の材料として、低屈折率のガラスなどを用いる必要がない場合には、クラッド12又はクラッド13として、屈折率がコア11の屈折率よりも低いクラッドを用いるようにしてもよい。
上記実施の形態1では、コア11によって信号光21が伝搬されるものを示したが、この実施の形態2では、信号光21及び励起光31がコア11に導光されるものについて説明する。
励起光源32は励起光31を放射する光源である。
光学系33は励起光源32から放射された励起光31をコア11に導光するための光学系である。
ただし、励起光源32をコア11に近接して配置することで、励起光31をコア11に導光することが可能である場合には、光学系33を省略することが可能である。
例えば、Er,Yb,Tm,Ndなどの希土類元素が添加されているガラス、Nd:YVO4のような希土類が添加されている結晶、Yb:YAGのような希土類元素が添加されている結晶を原料としているセラミック、あるいは、Cr:YAGやTi:Sapphireなどの遷移金属が添加されている結晶が、励起光31を吸収して反転分布を形成することで、輻射遷移によって利得を発生する利得発生部材を使用する。
コア11は、上記のような利得発生部材で形成されている場合、励起光31を吸収することで、信号光21を増幅する機能を備える。
また、真空中でλ21の波長を有する信号光21は、コア11内を伝搬角θ21で伝搬される。
励起光31のx方向の波数として、コア11における波数の垂直成分をk3111、薄膜12aにおける波数の垂直成分をk3112a、薄膜12bにおける波数の垂直成分をk3112bとすると、波数の垂直成分k3111,k3112a,k3112bは、下記の式(8)〜(10)のように定義される。以下では、説明の簡単化のため、波数の垂直成分k3111,k3112a,k3112bを波数k3111,k3112a,k3112bのように簡略して表記する。
ある導波モードにおいて、励起光31のしみ出し量が少なくなる条件は、信号光21と同様に、下記の式(12)のように記述することができる。
ここでは、厚さd11が10μmで屈折率n11が1.42のコア11と、膜厚d12aが718nmで屈折率n12aが2.16の薄膜12aと、膜厚d12bが965nmで屈折率n12bが1.45の薄膜12bとが交互に積層された多層膜であるクラッド12と、クラッド12と対称な多層膜であるクラッド13とを備えた平面導波路10において、信号光21が真空中で波長1.55μmの光であり、励起光31が真空中で波長940μmの光である場合を考える。
したがって、薄膜12aにおける光路長は、位相に換算すると4.74radになり、薄膜12bにおける光路長は、位相に換算すると1.19radになり、合計で5.93radになるため、式(7)を満足する。
励起光31に関しては、式(11)及び式(8)によれば、0次モード光の伝搬角θ31は、1.538radとなり、薄膜12aにおける波数k3112aは10.9×106m−1、薄膜12bにおける波数k3112bは2.0×106m−1となる。
したがって、薄膜12aにおける光路長は、位相に換算すると7.81radになり、薄膜12bにおける光路長は、位相に換算すると1.92radになり、合計で9.73radになるため、式(12)を満足する。
励起光31における0次モード光のしみ出し量は0.03%、1次モード光のしみ出し量は0.14%、2次モード光のしみ出し量は0.36%となる。
したがって、信号光21及び励起光31における0次モード光の損失は、1次モード光や2次モード光と比べて、低い値に抑えられており、低次モード化が可能な平面導波路10になっている。
また、上記の設計例では、信号光21と比べて、励起光31を高次モードまで伝搬可能であるが、これは励起光源32として、マルチモードの励起光源を使用することが可能であることを意味している。
シングルモード光源よりもマルチモード光源の方が、高出力化が可能で、価格が安く、高出力なレーザ光源を構成することができる。
多種の薄膜が積層されている多層膜である場合、低屈折率層から高屈折率層に光が入射される界面から、次の低屈折率層から高屈折率層に光が入射される界面までの光路長を位相に換算した値をφとするとき、下記の式(13)を満足するように設計する。
なお、コア11の材料として、低屈折率のガラスなどを用いる必要がない場合には、クラッド12又はクラッド13として、屈折率がコア11の屈折率よりも低いクラッドを用いるようにしてもよい。
さらに、この実施の形態2では、利得導波路としての平面導波路10ではなく、信号光21をy方向にも閉じ込めたレーザとしてもよい。
上記実施の形態1,2では、信号光21がコア11によって伝搬されるものを示したが、この実施の形態3では、直線偏光光源22から放射された信号光21がコア11によって伝搬されるものについて説明する。
直線偏光光源22は信号光21を放射する信号光源である。
光学系34は励起光源32から放射された励起光31と、直線偏光光源22から放射された信号光21とを混合し、信号光21及び励起光31をコア11に導光するための光学系である。
この実施の形態3では、0次モード光の伝搬角θ21,θ31に対して、式(6)及び式(12)を満足する膜厚d12a,d12bの薄膜12a,12bを含む多層膜であるクラッド12,13を備えることで、信号光21及び励起光31における0次モード光のしみ出しを抑制して、導波路損失を低減することができるが、さらに、信号光21のTE偏光とTM偏光のしみ出し量を制御することで、TE偏光とTM偏光の伝搬定数を制御して、信号光21の偏光が保持されるようにしてもよい。
ここでは、厚さd11が10μmで屈折率n11が1.42のコア11と、膜厚d12aが718nmで屈折率n12aが2.16の薄膜12aと、膜厚d12bが965nmで屈折率n12bが1.45の薄膜12bとが交互に積層された多層膜であるクラッド12と、クラッド12と対称な多層膜であるクラッド13とを備えた平面導波路10において、信号光21が真空中で波長1.55μmの光であり、励起光31が真空中で波長940μmの光である場合を考える。
この場合、上記実施の形態2で示している設計例と同様であるため、式(6)及び式(12)を満足し、低次モードのしみ出し量を低く抑えることができるため、信号光21及び励起光31が低次モードで伝搬される。
信号光21のクラッド12における位相回転量をφ2112、クラッド13における位相回転量をφ2113とすると、上記の式(4)は、正確には下記の式(14)のように表される。式(14)において、m=0,1,2,3,・・・である。
例えば、偏光保持光ファイバでは、応力などによって、偏光毎に屈折率を変えることで、伝搬定数を変化させて、偏光を保持しているが、この実施の形態3では、クラッド12,13へのしみ出し量を変化させることで伝搬定数を制御する。
上記の設計例では、シミュレーションなどによって計算すると、φ2112=φ2113≒0.016radとなる。
そして、TEモードでは、k2111d11≒πとなるが、TMモードでは0.03rad程度のずれが生じるため、伝搬定数を1%程度変化させることができる。
また、この実施の形態3では、クラッド13である多層膜が、クラッド12である多層膜と対称な多層膜である例を示したが、クラッド13である多層膜は、式(6)及び式(12)を満足する多層膜であればよく、クラッド12である多層膜と材料や膜厚が異なっていてもよい。
コア11の材料として、低屈折率のガラスなどを用いる必要がない場合には、クラッド12又はクラッド13として、屈折率がコア11の屈折率よりも低いクラッドを用いるようにしてもよい。
さらに、この実施の形態3では、利得導波路としての平面導波路10ではなく、信号光21をy方向にも閉じ込めたレーザとしてもよい。
図9の例では、励起光源32と直線偏光光源22が、図中、平面導波路10の左側に配置されているが、図中、平面導波路10の右側に配置されていてもよいし、図中、平面導波路10の上側や下側に配置されていてもよい。ただし、直線偏光光源22と光学系34又はコア11の間に、入射光学系が必要になる場合がある。
Claims (10)
- 光を伝搬する平板であるコアと、
前記コアの上面に接合された状態で、前記光を反射する平板である第1のクラッドと、
前記コアの下面に接合された状態で、前記光を反射する平板である第2のクラッドとを備え、
前記第1及び第2のクラッドは、材質が異なる複数の膜が積層されている多層膜であることを特徴とする平面導波路。 - 前記複数の膜は、前記コアの屈折率よりも高い屈折率を有していることを特徴とする請求項1記載の平面導波路。
- 前記多層膜は、材質が異なる複数の膜の組が1つ以上積層されていることを特徴とする請求項1記載の平面導波路。
- 同じ組に属している複数の膜における膜厚は、前記複数の膜における波数と、前記光が同じ組に属している複数の膜を1往復する際の光路との関係から決定されていることを特徴とする請求項3記載の平面導波路。
- 前記2つの膜における膜厚は、前記コアから前記第1及び第2のクラッドに対して前記光が入射される角度である伝搬角のうち、0次の伝搬角について、前記条件式を満たす膜厚に決定されていることを特徴とする請求項5記載の平面導波路。
- 前記コアは、励起光を吸収して反転分布を形成することで、前記伝搬する光である信号光を増幅する利得発生部材であり、
前記2つの膜における膜厚は、前記励起光の波長から決まる波数及び前記信号光の波長から決まる波数の双方について、前記条件式を満たす膜厚に決定されていることを特徴とする請求項5記載の平面導波路。 - 励起光を放射する励起光源を備え、
前記励起光源から放射された励起光が前記コアに導光されることを特徴とする請求項1記載の平面導波路。 - 前記多層膜では、前記光におけるTE偏光の位相変化量と、前記光におけるTM偏光の位相変化量とが異なっていることを特徴とする請求項1記載の平面導波路。
- 前記コアは、励起光を吸収して反転分布を形成することで、前記伝搬する光である信号光を増幅する利得発生部材であることを特徴とする請求項9記載の平面導波路。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2016/067653 WO2017216865A1 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | 平面導波路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6218977B1 JP6218977B1 (ja) | 2017-10-25 |
JPWO2017216865A1 true JPWO2017216865A1 (ja) | 2018-06-21 |
Family
ID=60156863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016574191A Active JP6218977B1 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | 平面導波路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10422951B2 (ja) |
EP (1) | EP3460545B1 (ja) |
JP (1) | JP6218977B1 (ja) |
CN (1) | CN109313310B (ja) |
WO (1) | WO2017216865A1 (ja) |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2856525B2 (ja) * | 1990-09-18 | 1999-02-10 | 科学技術振興事業団 | 光導波路型偏光子 |
US6807353B1 (en) * | 2001-12-19 | 2004-10-19 | Sandia Corporation | Microfabricated bragg waveguide |
US6832037B2 (en) * | 2002-08-09 | 2004-12-14 | Eastman Kodak Company | Waveguide and method of making same |
JP4213020B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2009-01-21 | 日本電信電話株式会社 | 光回路 |
JP4383815B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2009-12-16 | 日本電信電話株式会社 | ホログラフィック波動伝達媒体の製造方法 |
WO2004059354A1 (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-15 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | 波動伝達媒体および導波回路 |
US7006747B2 (en) * | 2003-01-17 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Optical devices incorporating photo reactive polymers |
US7266284B2 (en) * | 2003-04-17 | 2007-09-04 | University Of Rochester | Method for controlling one or more temperature dependent optical properties of a structure and a system and product thereof |
US20060140239A1 (en) * | 2004-04-23 | 2006-06-29 | Negro Luca D | Silicon rich nitride CMOS-compatible light sources and Si-based laser structures |
US7901870B1 (en) * | 2004-05-12 | 2011-03-08 | Cirrex Systems Llc | Adjusting optical properties of optical thin films |
JP4370433B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2009-11-25 | 独立行政法人情報通信研究機構 | 電磁波のスラブ導波路 |
US7412144B2 (en) * | 2005-07-22 | 2008-08-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Photonic crystal-based optical waveguide modulator |
JP4875094B2 (ja) * | 2005-10-21 | 2012-02-15 | 01 コミュニーク ラボラトリー インコーポレイテッド | デジタル信号をコンピュータに遠隔的に送信するためのシステム、方法、及びコンピュータプログラム |
JP2007333756A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Fujitsu Ltd | 光導波路デバイスおよび光変調器 |
US7903338B1 (en) * | 2006-07-08 | 2011-03-08 | Cirrex Systems Llc | Method and system for managing light at an optical interface |
US7460238B2 (en) * | 2007-04-24 | 2008-12-02 | Corporation De L'ecole Polytechnique De Montreal | Plasmon excitation by the gaussian-like core mode of a photonic crystal waveguide |
WO2009016703A1 (ja) | 2007-07-27 | 2009-02-05 | Mitsubishi Electric Corporation | 平面導波路型レーザ装置 |
JP6253672B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-12-27 | 三菱電機株式会社 | 平面導波路型レーザ装置 |
-
2016
- 2016-06-14 WO PCT/JP2016/067653 patent/WO2017216865A1/ja unknown
- 2016-06-14 US US16/302,032 patent/US10422951B2/en active Active
- 2016-06-14 JP JP2016574191A patent/JP6218977B1/ja active Active
- 2016-06-14 CN CN201680086108.4A patent/CN109313310B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-06-14 EP EP16905420.2A patent/EP3460545B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109313310B (zh) | 2020-06-16 |
US20190219764A1 (en) | 2019-07-18 |
CN109313310A (zh) | 2019-02-05 |
EP3460545A1 (en) | 2019-03-27 |
US10422951B2 (en) | 2019-09-24 |
EP3460545A4 (en) | 2019-06-19 |
EP3460545B1 (en) | 2022-05-18 |
JP6218977B1 (ja) | 2017-10-25 |
WO2017216865A1 (ja) | 2017-12-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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