JPWO2017163885A1 - カバーアセンブリ、ハードディスク装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、特許文献1〜3には、ハードディスク装置のカバーに一体的に設けられたガスケットが記載されている。また、これらの文献には、ディスクの厚み方向にガスケット材が積層された多層構造のガスケットも記載されている。
ハードディスク装置用のガスケットにおいてシール性能を低下させる要因は様々であるが、例えば一般的なガスケットにおいては、ベースにバリが残存していた場合、バリに由来する塵埃の噛み込みによりシール性能が低下する可能性がある。また、特許文献1〜3に記載されるガスケットは、カバーからベース側へ突出した形状を有するため、ベースにカバーが組み付けられる際、ガスケットに作用する押付け力によってガスケットが適正な姿勢を維持できず、シール性能が低下する可能性がある。特に、ガスケットが多層構造である場合、その押付け力によってガスケットが倒れ込み易く、適正な姿勢を維持することは難しい。また、ガスケットが適正な姿勢を維持できない場合、ガスケットがディスクに接触してハードディスク装置の動作不良を引き起こす可能性もある。
そのため、こういったガスケットのシール性能低下を引き起こす問題を解消し、より高いシール性能を維持し得るハードディスク装置が求められている。
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースと、
前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に設けられ、前記ベースとともに内部空間を形成するカバーと、
前記内部空間に設けられる少なくとも一枚のディスクと、
前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間に設けられるガスケットと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の前記上面は、
面取りされた内周縁部と、
前記内周縁部の外周側に位置し、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部と、
を含み、
前記ガスケットの前記ベース側の部位の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置する。
また、上記したようにベースの側壁部が面取りされている場合、ベースにカバーが組み付けられた状態でガスケットに作用する押付け力に起因してガスケットが変形する際、ガスケットがディスク側(すなわち面取りされた内周縁部側)に倒れ込む可能性がある。この点、上記(1)の構成によれば、ガスケットのベース側の部位の幅方向中心が、側壁部の上面の平坦面部上に位置するようにしたので、ガスケットがディスク側に倒れ込みにくくなる。したがって、ガスケットを適正な位置に保持することができる。
このように、側壁部の面取りによって、バリ由来の塵埃に起因したシール性能低下及び動作不良の発生を回避しながら、ガスケットを適正な位置に保持することができ、シール性能をより一層高く維持することができる。また、ガスケットを適正な位置に保持することで、ガスケットとディスクとの干渉を回避可能であり、これによってもハードディスク装置の動作不良の発生を抑制できる。
前記ガスケットは、前記カバーの前記下面に積層された複数のエラストマ層を含み、
前記複数のエラストマ層のうち前記ベースに最も近い第1エラストマ層の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置する。
この点、上記(2)の構成によれば、複数のエラストマ層のうちベースに最も近い第1エラストマ層の幅方向中心が、ベース上面のうち平坦面部上に位置することで、複数のエラストマ層を積層したガスケットの倒れ込みを効果的に抑制できる。
前記第1エラストマ層の前記幅方向中心は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の幅方向中心に対して外周側に位置する。
前記第1エラストマ層の外周側の側面は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の外周側の側面と一致する位置、または、前記第2エラストマ層の外周側の側面に対して外周側にずれた位置に存在する。
前記第1エラストマ層は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層よりも幅が小さい。
また、カバーの下面に結合される第2エラストマ層の幅を比較的大きくすることができるため、ガスケット全体としての剛性を確保してガスケットの倒れ込みを抑制し、ガスケットを安定して適正な位置に保持することができる。よって、シール性能をより一層向上できるとともに、ハードディスク装置の動作不良の発生を効果的に回避できる。
前記第2エラストマ層は、前記ベースの前記側壁部の前記上面のうち面取りされた前記前記内周縁部の幅方向全域に亘って延在している。
なお、上記(2)の構成を採用する場合、ベース上面と接触するのは、第2エラストマ層ではなく、複数のエラストマ層のうち最もベースに近い第1エラストマ層である。このため、上記(6)のように、ベースのうち面取りされた内周縁部とオーバーラップするような内周側の位置まで第2エラストマ層を延在させても、第2エラストマ層とベースの面取りされた内周縁部とが接触してガスケットが倒れ込むような事態は回避可能である。
前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記ガスケットは、前記ベースへの前記カバーの組み付け状態において、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに接触するように構成される。
また、ベース上面の平坦面部に加えて、ベースの突出部の内周壁面にもガスケットを接触させるようにしたので、突出部の内周壁面によってガスケットを外周側から支持することで、ガスケットの位置を適正に保持することができ、これによってもシール性能をより一層向上させることができる。また、ガスケットの位置を適正に保持できるので、ガスケットとディスクとの干渉を回避可能であり、ハードディスク装置の動作不良を回避できる。
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースと、
前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に設けられ、前記ベースとともに内部空間を形成するカバーと、
前記内部空間に設けられる少なくとも一枚のディスクと、
前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間に設けられるガスケットと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の前記上面は、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部を含み、
前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記ガスケットは、前記ベースへの前記カバーの組み付け状態において、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに接触するように構成される。
また、ベース上面の平坦面部に加えて、ベースの突出部の内周壁面にもベースを接触させるようにしたので、突出部の内周壁面によってガスケットを外周側から支持することで、ガスケットの位置を適正に保持することができ、これによってもシール性能をより一層向上させることができる。また、ガスケットの位置を適正に保持できるので、ガスケットとディスクとの干渉を回避可能であり、ハードディスク装置の動作不良を回避できる。
前記ガスケットは、前記カバーの前記下面上に積層された複数のエラストマ層を含み、
前記複数のエラストマ層のうち前記ベースに最も近い第1エラストマ層の幅をW1とし、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の幅をW2としたとき、0.2≦W1/W2≦0.7を満たす。
上記(1)乃至(9)の何れかに記載のハードディスク装置に用いられるカバーアセンブリであって、
前記ハードディスク装置の前記ベースとともに前記ディスクを収容するための前記内部空間を形成する前記カバーと、
前記カバーに取り付けられ、前記カバーの前記ベースへの組み付け状態において前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間をシールするように構成された前記ガスケットと、
を備える。
カバーの外周縁に沿ってガスケットを前記カバーの下面に形成するステップと、
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースに対して、前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に前記カバーを組み付けるステップと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の上面は、
面取りされた内周縁部と、
前記内周縁部の外周側に位置し、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部と、
を含み、
前記カバーを組み付けるステップでは、前記ガスケットの前記ベース側の部位の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置するように前記カバーを前記ベースに対して位置合わせする。
また、ガスケットのベース側の部位の幅方向中心が、ベース上面のうち、面取りされた内周縁部の外周側に位置する平坦面部上に位置するように、カバーをベースに対して位置合わせするようにしたので、ガスケットがディスク側に倒れ込みにくくなる。したがって、ガスケットを適正な位置に保持することができる。
このように、上記(11)の製造方法により得られるハードディスク装置によれば、側壁部の面取りによって、バリ由来の塵埃に起因したシール性能低下及び動作不良の発生を回避しながら、ガスケットを適正な位置に保持することができ、シール性能をより一層高く維持することができる。また、ガスケットを適正な位置に保持することで、ガスケットとディスクとの干渉を回避可能であり、これによってもハードディスク装置の動作不良の発生を抑制できる。
カバーの外周縁に沿ってガスケットを前記カバーの下面に形成するステップと、
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースに対して、前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に前記カバーを組み付けるステップと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の上面は、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部を含み、
前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記カバーを組み付けるステップでは、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに前記ガスケットを接触させる。
また、ベース上面の平坦面部に加えて、ベースの突出部の内周壁面にもベースを接触させるようにしたので、突出部の内周壁面によってガスケットを外周側から支持することで、ガスケットの位置を適正に保持することができ、これによってもシール性能をより一層向上させることができる。また、ガスケットの位置を適正に保持できるので、ガスケットとディスクとの干渉を回避可能であり、ハードディスク装置の動作不良を回避できる。
前記ガスケットを形成するステップでは、
液状エラストマを多層に塗布した後、複数層の液状エラストマを一括して硬化する。
なお、本実施形態において、「高さ方向」とは、ハードディスク装置1の高さ方向のことであり、ディスク4の厚み方向と同一の方向である。
より具体的には、ベース2は、底部21及び側壁部23によって、ディスク4を収容するための内部空間6の少なくとも一部を画定するように構成される。底部21は平板状に形成されており、この底部21の外周縁22から高さ方向に延びるように側壁部23が設けられている。なお、底部21と側壁部23は、一体構造であってもよいし、別体で構成されてこれらが互いに連結された構成であってもよい。
また、例えばベース2には、ディスク4の取付け位置に対応してシャフト7及びスピンドルモータ8が取り付けられている。シャフト7は、高さ方向に沿って配置されており、カバー3側の一端部には締結用孔7aが形成されている。なお、図示は省略するが、ベース2には、内部空間6に位置するように、磁気ヘッドやアクチュエータ等の他の部品も設けられている。
例えば、カバー3は、平板上に形成されており、中央部に貫通孔3aが設けられている。そして、ガスケット5を挟んでベース2の側壁部23の上面24にカバー3の下面31が対向した状態で、カバー3の貫通孔3a及びシャフト7の締結用孔7aに締結部材(例えばねじ)9が取り付けられることによって、カバー3がベース2に固定されるようになっている。
例えば、ディスク4は、両面または片面にデータを記録可能に構成されており、図1に例示する構成では、高さ方向に複数のディスク4が配列された状態で、複数のディスク4が内部空間6に収容されている。また、ディスク4が内部空間6において回転可能なように、ディスク4の外周縁とベース2の側壁部23の内壁面との間には僅かな間隙が設けられている。
このガスケット5によって、ベース2とカバー3との間がシールされ、ディスク4が収容される内部空間6への塵埃の侵入や、場合によっては水滴の侵入を防止するようになっている。
なお、図2Aは、一実施形態に係るハードディスク装置1において、カバー3を組み付ける前のガスケット5及びその周辺構造を示す断面図である。図2Bは、一実施形態に係るハードディスク装置1において、カバー3を組み付けた後のガスケット5及びその周辺構造を示す断面図である。図3は、他の実施形態に係るハードディスク装置1において、カバー3を組み付ける前のガスケット5及びその周辺構造を示す断面図である。図4は、さらに他の実施形態に係るハードディスク装置1において、カバー3を組み付けた後のガスケット5及びその周辺構造を示す断面図である。
また、ガスケット5のベース2側(先端側)の部位(例えば第1エラストマ層51)の幅方向における中心(例えばP1)が、ベース2の側壁部23の平坦面部24b上に位置する。より具体的には、ベース2にカバー3を組み付ける前の状態において、変形していないガスケット5の先端側の部位の幅方向における中心が、ベース2の側壁部23の平坦面部24b上に位置するように、ガスケット5の幅方向位置を決定してもよい。この場合、ガスケット5の先端側の部位とベース2との当接面の幅方向における端部の位置は限定されない。
なお、本実施形態において「幅方向」とは、ハードディスク装置1の高さ方向に直交する平面における、ガスケット5の長手方向に直交する方向のことである。
また、本実施形態において、「面取り」とは、対象部位が平面を形成するようなC面取りであってもよいし、対象部位が湾曲面を形成するようなR面取りであってもよい。
また、上記したようにベース2の側壁部23が面取りされている場合、ベース2にカバー3が組み付けられた状態でガスケット5に作用する押付け力に起因してガスケット5が変形する際、ガスケット5がディスク4側(すなわち面取りされた内周縁部24a側)に倒れ込む可能性がある。その場合、ガスケット5によるシール機能が低下してしまったり、ガスケット5のうち側壁部23に当接する部位に応力が集中してガスケット5の破損等の不具合が生じる可能性がある。
このように、側壁部23の面取りによって、バリ由来の塵埃に起因したシール性能低下及び動作不良の発生を回避しながら、ガスケット5を適正な位置に保持することができ、シール性能をより一層高く維持することができる。また、ガスケット5を適正な位置に保持することで、ガスケット5とディスク4との干渉を回避可能であり、これによってもハードディスク装置1の動作不良の発生を抑制できる。
また、ガスケット5は、ベース2へのカバー3の組み付け状態(図示される状態)において、平坦面部24bと突出部25の内周壁面25aとに接触するように構成される。
なお、図2Bに示す実施形態では、ベース2の側壁部23の上面24は、平坦面部24bと内周縁部24aを含む構成となっている。これに対し、図4に示す実施形態では、ベース2の側壁部23の上面24は、平坦面部24bのみで構成されている。
また、ベース2の上面24の平坦面部24bに加えて、ベース2の突出部25の内周壁面25aにもベース2を接触させるようにしたので、突出部25の内周壁面25aによってガスケット5を外周側から支持することで、ガスケット5の位置を適正に保持することができ、これによってもシール性能をより一層向上させることができる。また、ガスケット5の位置を適正に保持できるので、ガスケット5とディスク4との干渉を回避可能であり、ハードディスク装置1の動作不良を回避できる。
これらの場合、第1エラストマ層51の幅方向における端部の位置は限定されない。
この点、図2A及び図3に示す上記構成によれば、複数のエラストマ層51,52のうちベース2に最も近い第1エラストマ層51の幅方向における中心P1が、ベース2の側壁部23の上面24のうち平坦面部24b上に位置するようにしたので、複数のエラストマ層51,52を積層したガスケット5の倒れ込みを効果的に抑制できる。
具体的には、図5Aに示す実施形態では、第1エラストマ層51の外周側の側面51aのうち幅方向において最も外周側に位置する点Q1が、第2エラストマ層52の外周側の側面52aのうち幅方向において最も外周側に位置する点Q2と一致するように、ガスケット5が形成されている。
また、図5Bに示す実施形態では、第1エラストマ層51の外周側の側面51aのうち幅方向において最も外周側に位置する点Q1が、第2エラストマ層52の外周側の側面52aのうち幅方向において最も外周側に位置する点Q2よりも外周側にずれるように、ガスケット5が形成されている。
なお、図5Cに示す実施形態のように、第1エラストマ層51と第2エラストマ層52との間に他のエラストマ層53が設けられている場合、第1エラストマ層51の点Q1と第2エラストマ層52の点Q2との関係が上記構成を満たしていれば、他のエラストマ層53の外周側の側面53aのうち幅方向において最も外周側に位置する点Q3の幅方向位置は特に限定されない。
一実施形態では、ベース2にカバー3を組み付ける前のガスケット5が変形していない状態において、第1エラストマ層51の最大幅W1と、第2エラストマ層52の最大幅W2との間には、0.2≦W1/W2≦0.7の関係が成立する。このように、W1/W2を0.2以上に設定することで、ベース2とガスケット5との接触面積を十分に確保し、シール性を向上させることができる。一方、W1/W2を0.7以下に設定することで、ベース2とガスケット5との接触面積が適度な大きさであるため、カバー3を取り外す際にベース2からガスケット5を剥がしやすくなる。
また、カバー3の下面31に結合される第2エラストマ層52の幅W2を比較的大きくすることができるため、ガスケット5全体としての剛性を確保してガスケット5の倒れ込みを抑制し、ガスケット5を安定して適正な位置に保持することができる。よって、シール性能をより一層向上できるとともに、ハードディスク装置1の動作不良の発生を効果的に回避できる。
このように、ベース2のうち面取りされた内周縁部24aの幅方向全域とオーバーラップするように第2エラストマ層52を設けることで、第2エラストマ層52の幅を確保しやすくなる。これにより、ガスケット5全体としての剛性をより一層高め、ガスケット5の姿勢をより安定的に保持できる。
なお、上記構成を採用する場合、ベース2の側壁部23の上面24と接触するのは、第2エラストマ層52ではなく、複数のエラストマ層51,52のうち最もベース2に近い第1エラストマ層51である。このため、上記構成のように、ベース2のうち面取りされた内周縁部24aとオーバーラップするような内周側の位置まで第2エラストマ層52を延在させても、第2エラストマ層52とベース2の面取りされた内周縁部24aとが接触してガスケット5が倒れ込むような事態は回避可能である。
このカバーアセンブリ30は、ハードディスク装置1のベース2とともにディスク4を収容するための内部空間6を形成するカバー3と、カバー3に取り付けられ、カバー3のベース2への組み付け状態においてベース2の側壁部23の上面24とカバー3の下面31との間をシールするように構成されたガスケット5と、を備える。
カバー3を組み付けるステップでは、ガスケット5のベース2側の部位の幅方向中心が、側壁部23の平坦面部24b上に位置するようにカバー3をベース2に対して位置合わせする(S4)。その後、カバー3に形成されたガスケット5が、ベース2の側壁部23の平坦面部24bに当接するように、カバー3をベース2に対して取り付ける(S5)。
また、ガスケット5のベース2側の部位の幅方向中心が、ベース2の側壁部23の上面24のうち、面取りされた内周縁部24aの外周側に位置する平坦面部24b上に位置するように、カバー3をベース2に対して位置合わせするようにしたので、ガスケット5がディスク4側に倒れ込みにくくなる。したがって、ガスケット5を適正な位置に保持することができる。
このように、上記製造方法により得られるハードディスク装置1によれば、側壁部23の面取りによって、バリ由来の塵埃に起因したシール性能低下及び動作不良の発生を回避しながら、ガスケット5を適正な位置に保持することができ、シール性能をより一層高く維持することができる。また、ガスケット5を適正な位置に保持することで、ガスケット5とディスク4との干渉を回避可能であり、これによってもハードディスク装置1の動作不良の発生を抑制できる。
この場合、ハードディスク装置1の製造方法は、カバー3の外周縁32に沿ってガスケット5をカバー3の下面31に形成するステップ(S1〜S3)と、底部21、および、底部21の外周縁32から上方に突出するように設けられた側壁部23を含むベース2に対して、ベース2の底部21に対向するようにベース2の側壁部23上にカバー3を組み付けるステップ(S4、S5)と、を備える。
また、カバー3を組み付けるステップでは、平坦面部24bと突出部25の内周壁面25aとにガスケット5を接触させて、カバー3をベース2に対して取り付ける(S5)。
また、ベース2の側壁部23の上面24の平坦面部24bに加えて、ベース2の突出部25の内周壁面25aにもベース2を接触させるようにしたので、突出部25の内周壁面25aによってガスケット5を外周側から支持することで、ガスケット5の位置を適正に保持することができ、これによってもシール性能をより一層向上させることができる。また、ガスケット5の位置を適正に保持できるので、ガスケット5とディスクとの干渉を回避可能であり、ハードディスク装置1の動作不良を回避できる。
例えば、カバー3の下面31に対して液状エラストマを塗布して液状の第2エラストマ層52を形成し(S1)、その後、第2エラストマ層52の硬化処理を行う前に、第2エラストマ層52上に液状エラストマを塗布して第1エラストマ層51を形成する(S2)。そして、全てのエラストマ層51を形成した後、複数層の液状エラストマを一括して硬化する(S3)。例えば、エラストマが熱硬化性樹脂の場合、複数層の液状エラストマを一括して加熱する。あるいは、エラストマが光硬化性樹脂(例えばUV硬化型樹脂)の場合、複数層の液状エラストマに対して一括して光照射する。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
2 ベース
21 底部
22 外周縁
23 側壁部
24 上面
24a 内周縁部
24b 平坦面部
25 突出部
25a 内周壁面
3 カバー
30 カバーアセンブリ
31 下面
32 外周縁
4 ディスク
5 ガスケット
51 第1エラストマ層
51a 側面
52 第2エラストマ層
52a 側面
6 内部空間
Claims (13)
- 底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースと、
前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に設けられ、前記ベースとともに内部空間を形成するカバーと、
前記内部空間に設けられる少なくとも一枚のディスクと、
前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間に設けられるガスケットと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の前記上面は、
面取りされた内周縁部と、
前記内周縁部の外周側に位置し、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部と、
を含み、
前記ガスケットの前記ベース側の部位の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置することを特徴とするハードディスク装置。 - 前記ガスケットは、前記カバーの前記下面上に積層された複数のエラストマ層を含み、
前記複数のエラストマ層のうち前記ベースに最も近い第1エラストマ層の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置することを特徴とする請求項1に記載のハードディスク装置。 - 前記第1エラストマ層の前記幅方向中心は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の幅方向中心に対して外周側に位置することを特徴とする請求項2に記載のハードディスク装置。
- 前記第1エラストマ層の外周側の側面は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の外周側の側面と一致する位置、または、前記第2エラストマ層の外周側の側面に対して外周側にずれた位置に存在することを特徴とする請求項2又は3に記載のハードディスク装置。
- 前記第1エラストマ層は、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層よりも幅が小さいことを特徴とする請求項2乃至4の何れか一項に記載のハードディスク装置。
- 前記第2エラストマ層は、前記ベースの前記側壁部の前記上面のうち面取りされた前記前記内周縁部の幅方向全域に亘って延在していることを特徴とする請求項5に記載のハードディスク装置。
- 前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記ガスケットは、前記ベースへの前記カバーの組み付け状態において、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに接触するように構成されたことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載のハードディスク装置。 - 底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースと、
前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に設けられ、前記ベースとともに内部空間を形成するカバーと、
前記内部空間に設けられる少なくとも一枚のディスクと、
前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間に設けられるガスケットと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の前記上面は、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部を含み、
前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記ガスケットは、前記ベースへの前記カバーの組み付け状態において、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに接触するように構成されたことを特徴とするハードディスク装置。 - 前記ガスケットは、前記カバーの前記下面上に積層された複数のエラストマ層を含み、
前記複数のエラストマ層のうち前記ベースに最も近い第1エラストマ層の幅をW1とし、前記複数のエラストマ層のうち前記カバーの前記下面に結合された第2エラストマ層の幅をW2としたとき、0.2≦W1/W2≦0.7を満たす
ことを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載のハードディスク装置。 - 請求項1乃至9の何れか一項に記載のハードディスク装置に用いられるカバーアセンブリであって、
前記ハードディスク装置の前記ベースとともに前記ディスクを収容するための前記内部空間を形成する前記カバーと、
前記カバーに取り付けられ、前記カバーの前記ベースへの組み付け状態において前記ベースの前記側壁部の上面と前記カバーの下面との間をシールするように構成された前記ガスケットと、
を備えることを特徴とするハードディスク装置用のカバーアセンブリ。 - カバーの外周縁に沿ってガスケットを前記カバーの下面に形成するステップと、
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースに対して、前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に前記カバーを組み付けるステップと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の上面は、
面取りされた内周縁部と、
前記内周縁部の外周側に位置し、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部と、
を含み、
前記カバーを組み付けるステップでは、前記ガスケットの前記ベース側の部位の幅方向中心が、前記側壁部の前記平坦面部上に位置するように前記カバーを前記ベースに対して位置合わせすることを特徴とするハードディスク装置の製造方法。 - カバーの外周縁に沿ってガスケットを前記カバーの下面に形成するステップと、
底部、および、前記底部の外周縁から上方に突出するように設けられた側壁部を含むベースに対して、前記ベースの前記底部に対向するように前記ベースの前記側壁部上に前記カバーを組み付けるステップと、を備え、
前記ベースの前記側壁部の上面は、前記カバーの前記下面と対向する平坦面部を含み、
前記ベースの前記側壁部は、前記ガスケットおよび前記カバーを取り囲むように前記平坦面部の外周側に設けられた突出部を含み、
前記カバーを組み付けるステップでは、前記平坦面部と前記突出部の内周壁面とに前記ガスケットを接触させることを特徴とするハードディスク装置の製造方法。 - 前記ガスケットを形成するステップでは、
液状エラストマを多層に塗布した後、複数層の液状エラストマを一括して硬化する
ことを特徴とする請求項11又は12に記載のハードディスク装置の製造方法。
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