JPWO2017119236A1 - フレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、および、これらの製造方法 - Google Patents

Abstract

ベタ部におけるインキの転写性が高く、高いインキ濃度の印刷が可能なフレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製造方法、および、フレキソ印刷版原版を提供することを課題とする。非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版であって、前記凹凸構造を有する画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％である。

Description

本発明は、フレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製造方法、および、フレキソ印刷版原版の製造方法に関する。

樹脂製やゴム製の柔軟なレリーフ層を有するフレキソ印刷版は、印刷用の凸部（画像部）が比較的柔らかく、種々の形状に追従可能なことから、様々な材質の被印刷体や厚みのある被印刷体等への印刷に利用されている。

フレキソ印刷版の画像部は、インキを全面的に転写することで、塗りつぶすように印刷するベタ部、および／または、多数の凸状の小点からなり、小点の大きさや密度を変化させることで、被印刷体上に印刷される画像の濃淡（グラデーション）を表現する網点部を有して構成されており、フレキソ印刷版を円筒状のドラムの周面に載置してローラを回転させつつ、被印刷体に接触させることによって、印刷版の凸部（画像部）の表面から、被印刷体に直接、インキを転写して被印刷体上に画像を形成する。

このようなフレキソ印刷版においては、印圧等の印刷条件によってはベタ部で十分な量のインキを被印刷体に転写することができず、印刷ムラが生じるという問題が知られている。

このような問題を解決するために、特許文献１には、パターンを形成するバックグラウンドスクリーンからインクを転写する刷り箇所を、微細なスクリーンによって被覆した印刷版が記載されており（［請求項１］）、また、微細なスクリーンを配置することにより、バックグラウンドスクリーンの刷りポイントの表面が増加し、このため多量のインクがバックグラウンドスクリーンのスクリーンポイントに付着し、多量のインクが被印刷物に転写されることが記載されている（［０００８］）。

また、特許文献２には、版表面平均粗さが０．１〜０．６μｍであるフレキソ印刷版が記載されており（［請求項１］）、これにより、フレキソ印刷版のベタ部のインキ転移性を向上させることができることが記載されている（［０００６］）。
また、特許文献３には、印刷層（Ａ）の表面の二乗平均平方粗さＲｑが、０．３μｍ以上２．４μｍ以下であり、印刷層（Ａ）の最大高さＲｙが８μｍ以上２１μｍ以下であり、印刷層（Ａ）の十点平均粗さＲｚが８μｍ以上２１μｍ以下であって、印刷層（Ａ）は、表面に存在する研磨剤の粒度が３μｍ以上２０μｍ以下である研磨紙、研磨フィルム又は研磨ホイールによって表面調整することにより形成されたものである凸版印刷原版が記載されており（［請求項１］）、これにより、フレキソ印刷等の凸版印刷におけるベタ品質が向上することが記載されている（［０００８］）。

特開平７−２２８０６８号公報 特開２００３‐０４３６７２号公報 特開２００８‐０６８４３２号公報

本発明者らは、特許文献１に記載された印刷版について検討したところ、刷りポイントを微細なスクリーンで被覆しても、ベタ部（特に、１ｍｍ四方以上の塗りつぶし部分）におけるインキの転写性を十分に向上できず、インキ濃度が低くなることがわかった。
また、特許文献２および特許文献３に記載された印刷版についても検討したところ、ベタ部において、インキの転写性を十分に向上できず、インキ濃度が低くなることがわかった。

そこで、本発明は、ベタ部におけるインキの転写性が高く、高いインキ濃度の印刷が可能なフレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製造方法、および、フレキソ印刷版原版の製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版であって、凹凸構造を有する画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％であること等により、ベタ部におけるインキの転写性が高くなり、高いインキ濃度の印刷が可能となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］ 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版であって、
凹凸構造を有する画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％であるフレキソ印刷版。
［２］ 粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、２０〜４０μｍである［１］に記載のフレキソ印刷版。
［３］ 油溜まり面積Ａ２が、４０〜１４０である［１］または［２］に記載のフレキソ印刷版。
［４］ 負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、３５〜７５％である［１］〜［３］のいずれかに記載のフレキソ印刷版。
［５］ 凹凸構造が、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とからなる［１］〜［４］のいずれかに記載のフレキソ印刷版。
［６］ レリーフ層の形成材料が、結晶性ポリマーを含む［１］〜［５］のいずれかに記載のフレキソ印刷版。
［７］ 結晶性ポリマーが、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、および、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる群から選択される少なくとも１種の結晶性ポリマーである［６］に記載のフレキソ印刷版。
［８］ 表面に凹凸構造が形成されたレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版であって、
凹凸構造を有するレリーフ形成層の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％であるフレキソ印刷版原版。
［９］ 粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、２０〜４０μｍである［８］に記載のフレキソ印刷版原版。
［１０］ 油溜まり面積Ａ２が、４０〜１４０である［８］または［９］に記載のフレキソ印刷版原版。
［１１］ 負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、３５〜７５％である［８］〜［１０］のいずれかに記載のフレキソ印刷版原版。
［１２］ 凹凸構造が、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とからなる［８］〜［１１］のいずれかに記載のフレキソ印刷版。
［１３］ レリーフ形成層の形成材料が、結晶性ポリマーを含む［８］〜［１２］のいずれかに記載のフレキソ印刷版原版。
［１４］ 結晶性ポリマーが、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、および、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる群から選択される少なくとも１種の結晶性ポリマーである［１３］に記載のフレキソ印刷版原版。
［１５］ 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有する、［１］〜［７］のいずれかに記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、
レーザー彫刻用樹脂組成物を用いてレリーフ形成層を形成する層形成工程と、
レリーフ形成層にレーザー彫刻を施して、非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得る彫刻工程と、を有するフレキソ印刷版の製造方法。
［１６］ 層形成工程と彫刻工程との間に、レーザー彫刻用樹脂組成物を架橋する架橋工程を有する［１５］に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
［１７］ 凹凸構造は、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とから構成される構造であり、
彫刻工程において、主走査方向のみに彫刻を行って溝を形成する［１５］または［１６］に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
［１８］ 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有する、［１］〜［７］のいずれかに記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、
感光性樹脂組成物からなるレリーフ形成層とアブレーション層をこの順に有する積層体を準備する準備工程と、
アブレーション層にレーザーを照射して、アブレーション層の、レーザーが照射された部分を除去し、所望の形状のマスクを形成するマスク形成工程と、
レリーフ形成層にマスクを介して紫外線を照射し、レリーフ形成層を硬化させる露光工程と、
レリーフ形成層の、露光工程により硬化されなかった部分を除去し、レリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得る現像工程と、を有するフレキソ印刷版の製造方法。
［１９］ 表面に凹凸構造が形成されたレリーフ形成層を有する、［８］〜［１４］のいずれかに記載のフレキソ印刷版原版を製造するフレキソ印刷版原版の製造方法であって、
レーザー彫刻用樹脂組成物を用いて未架橋レリーフ形成層を形成する層形成工程と、
未架橋レリーフ形成層を架橋して架橋レリーフ形成層を形成する架橋工程と、
架橋工程の後に、転写により架橋レリーフ形成層の表面に凹凸構造を形成して、フレキソ印刷版原版を得る凹凸形成工程と、を有するフレキソ印刷版原版の製造方法。
［２０］ 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備える架橋レリーフ層を有する、［１］〜［７］のいずれかに記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、［１９］に記載されたフレキソ印刷版原版の製造方法で作製されたフレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層の非画像部となる部分をレーザー彫刻し、非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版を作製する、フレキソ印刷版の製造方法。

本発明によれば、ベタ部におけるインキの転写性が高く、高いインキ濃度の印刷が可能なフレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製造方法、および、フレキソ印刷版原版の製造方法を提供することを提供することができる。

図１は、本発明のフレキソ印刷版の一例を示す概略上面図である。 図２は、図１に示すフレキソ印刷版の画像部の一部を拡大して示す概略斜視図である。 図３は、図２に示す概略斜視図のＡ−Ａ線断面図である。 図４は、フレキソ印刷版原版を作製するためのカレンダーロールを概念的に示す図である。 図５は、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置の要部を概念的に示す図である。 実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例および比較例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例および比較例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例および比較例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 図７は、実施例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 比較例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 比較例で作製したフレキソ印刷版に使用した凹凸構造のパターンを示す図である。 図９は、本発明の効果を説明するためのフレキソ印刷中のフレキソ印刷版と被印刷体とを概念的に示す図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本発明において、数値範囲を表す「下限〜上限」の記載は、「下限以上、上限以下」を表し、「上限〜下限」の記載は、「上限以下、下限以上」を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。
また、「質量部」および「質量％」は、それぞれ、「重量部」および「重量％」と同義である。

ここで、フレキソ印刷版およびフレキソ印刷版原版の説明に関し、未架橋の架橋性層を「未架橋レリーフ形成層」と称し、上記未架橋レリーフ形成層を架橋した層を「架橋レリーフ形成層」と称し、これをレーザー彫刻して画像部と非画像部とを形成した層を「レリーフ層」と称する。また、未架橋レリーフ形成層と架橋レリーフ形成層とを区別する必要が無い場合には、単に「レリーフ形成層」ともいう。
また、上記架橋は、光および／または熱により行われ、樹脂組成物が硬化される反応であれば特に限定されない。
また、架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版にレーザー彫刻し、所望によりリンスすることによりフレキソ印刷版が作製される。

［フレキソ印刷版］
本発明のフレキソ印刷版は、非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版である。
また、上記凹凸構造を有する画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２は、２〜１８０であり、切断レベル３０％における粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％は、２０〜９０％である。

ここで、本発明において、凹凸構造とは、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とから構成される構造、円柱状、半球状等の微小な突起部からなる凸部を複数有する構造、円柱状、半球状等の微小な穴部からなる凹部を複数有する構造、ならびに、表面が粗面化された構造等の種々の構造を含む。

また、表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍとは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１「製品の幾何特性仕様（ＧＰＳ）−表面性状：輪郭曲線方式―用語、定義及び表面性状パラメータ」において規定されたパラメータであり、面方向の凹凸構造の平均ピッチを表すパラメータである。このパラメータは、基準長さにおいて、輪郭曲線要素の長さＸｓの平均を表すものであり、横方向のパラメーターである。
本明細書においては、まず、凹凸構造を有する画像部の表面を、ハイブリッドレーザーマイクロスコープＯＰＴＥＬＩＣＳ（登録商標） ＨＹＢＲＩＤ（レーザーテック株式会社製）を用い、対物レンズ５０ｘＡｐｏ（高開口数（高ＮＡ））を用いて、高さ０．１μｍ刻みでコンフォーカル計測して、３次元データを求める。次いで、専用解析ソフトＬＭｅｙｅ７を用いて計測データを解析し、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを求める。評価は、縦３００μｍ、横３００μｍの領域を評価範囲とし、横方向に１０２４ライン分測定し、各評価値の平均値を求めた。

また、油溜まり面積Ａ２とは、ＪＩＳ Ｂ０６７１−２：２００２「製品の幾何特性仕様（ＧＰＳ）−表面性状：輪郭曲線方式；プラトー構造表面の特性評価−」において規定されたパラメータであり、負荷曲線における突出谷部の面積に相当し、谷の深さのばらつきを表すパラメータである。このパラメータは、縦横両方向に関わるパラメータ（負荷曲線のパラメータ）である。
本明細書においては、まず、凹凸構造を有する画像部の表面を、ハイブリッドレーザーマイクロスコープＯＰＴＥＬＩＣＳ（登録商標） ＨＹＢＲＩＤ（レーザーテック株式会社製）を用い、対物レンズ５０ｘＡｐｏ（高ＮＡ）を用いて、高さ０．１μｍ刻みでコンフォーカル計測して、３次元データを求める。次いで、専用解析ソフトＬＭｅｙｅ７を用いて計測データを解析し、油溜まり面積Ａ２を求める。計測データの解析は、まず、粗さ曲線において、深くなればなるほど実体部分が増えることを表す負荷曲線を求め、この付加曲線の中央部分に等価な等価直線を求める。次に、この等価直線と横軸のＭｒ＝１００％の位置で縦軸と交わる点から横軸に平行に直線を引く。この直線と負荷曲線とＭｒ＝１００％の直線で囲まれる面積を油溜まり面積Ａ２として求める。

また、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１「製品の幾何特性仕様（GPS）−表面性状：輪郭曲線方式―用語、定義及び表面性状パラメータ」において規定されたパラメータであり、切断レベル３０％において、輪郭曲線要素の負荷長さの評価長さに対する比率を表し、山から３０％高さでスライスしたときの面積率に相当する。このパラメータは縦横両方向に関わる負荷曲線のパラメータである。
以下の説明においては、「粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％」を単に「負荷長さ率Ｒｍｒ３０％」ともいう。
本明細書においては、まず、凹凸構造を有する画像部の表面を、ハイブリッドレーザーマイクロスコープＯＰＴＥＬＩＣＳ（登録商標） ＨＹＢＲＩＤ（レーザーテック株式会社製）を用い、対物レンズ５０ｘＡｐｏ（高ＮＡ）を用いて、高さ０．１μｍ刻みでコンフォーカル計測して、３次元データを求める。次いで、専用解析ソフトＬＭｅｙｅ７を用いて計測データを解析し、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％を求める。評価は、縦３００μｍ、横３００μｍの領域を評価範囲とし、横方向に１０２４ライン分測定し、各評価値の平均値を求めた。

凹凸構造を有する画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍで、油溜まり面積Ａ２が２〜１８０で、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が２０〜９０％である構成を有する本発明のフレキソ印刷版は、ベタ部におけるインキの転写性が高く、高いインキ濃度の印刷が可能となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。

本発明者らは、特許文献１〜３のように、画像部の表面粗さの高さに関するパラメータを所定の範囲内とするのみでは、必ずしも十分なインキの転写性が得られないことを明らかとした。
そして、本発明者らは、この原因が、凹部の深さのばらつきの大きさ、および、凹凸のピッチの大きさにあると考えた。

具体的には、画像部の表面に凹凸構造を有する場合、凹部の深さが浅い部分では、インキの流れが良くなり転写しやすくなるが、凹部の深さが深い部分では、インキの流れが悪くなり転写しにくくなるため、凹部の深さのばらつきが大きい場合、インキを転写しやすい部分と、インキを転写しにくい部分が混在することになり、その結果、均一性が低下すると考えた。

また、一般に、高粘性流体であるインキに、低粘性流体である空気を押し込むと、２流体間の界面の揺らぎが発生し（不安定化し）、界面が樹脂状に成長する現象が起こる（フィンガリング現象）。フレキソ印刷版と被印刷体が引き剥がされる際には、画像部の凹凸構造の凹部（谷部）に溜まったエアを起点にしてフィンガリング現象が生じてインキが分裂する（図９参照）。その際、凹凸のピッチが大きいと、インキが分裂する幅が広くなり、その結果、均一性が低下して白抜けが生じると考えた。

そこで、本発明者らは、画像部が被印刷体と離れる際にインキをより均一に転写させることが重要であると考え、そのためには、単に画像部の表面粗さの高さに関するパラメータを制御するという考え方だけではなく、横方向に関わるパラメータ、縦横両方向に関わるパラメータ、および、負荷曲線のパラメータを考慮して、インクの流れ道を形成させることが重要であるとの推測のもと、鋭意研究した。

その結果、横方向に関わるパラメータである粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、縦横両方向に関わるパラメータである油溜まり面積Ａ２、および、負荷曲線のパラメータである負荷長さ率Ｒｍｒ３０％を制御することにより、インキの転写性を向上し、また、インキを被印刷体に均一に転写させることができることがわかった。これにより、転写されるインキのインキ濃度を飛躍的に向上できる。

横方向に関わるパラメータである粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを１２０μｍ以下とすることで、フレキソ印刷版と被印刷体が引き剥がされる際のフィンガリング現象のインキが分裂する幅を狭くして、その結果、転写されるインキの均一性および転写性が向上すると考えられる。
また、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは１５μｍ以上とすることで、インキの流れを良くして転写性を向上できると考えられる。
また、上記インキの転写性および均一性の観点から、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、１５〜１００μｍが好ましく、２０〜４０μｍがより好ましい。

縦横両方向に関わるパラメータである油溜まり面積Ａ２を１８０以下とすることで、凹部の深さのばらつきを小さくして、その結果、転写されるインキの均一性および転写性を向上できると考えられる。
また、油溜まり面積Ａ２を２以上とすることで、凹凸構造を明確に形成してインキの流れ道を形成することができ、その結果インキ転移性を向上できると考えられる。
また、上記インキの転写性および均一性の観点から、油溜まり面積Ａ２は、３〜１６０が好ましく、４０〜１４０μｍがより好ましい。

負荷曲線のパラメータである負荷長さ率Ｒｍｒ３０％を２０％以上とすることで、インキを被印刷体に転写させる際に係る印刷の圧力で凹凸構造が変形するのを抑制して、凹凸構造の形状を保持することができ、その結果、インキの流れ道を確保して、転写されるインキの均一性および転写性を向上できると考えられる。
また、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％を９０％以下とすることで、多くのインキの流れ道を確保することができ、転写されるインキの均一性および転写性を向上できると考えられる。
また、上記インキの転写性および均一性の観点から、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％は、２５〜８５％が好ましく、３５〜７５％がより好ましい。

また、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、油溜まり面積Ａ２、および、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％（以下、まとめて、「表面粗さパラメータ」ともいう）を上記範囲とすることができれば、凹凸構造の形状には限定はなく、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とからなる構造、微小な突起部からなる凸部を複数有する構造、微小な穴部からなる凹部を複数有する構造、ならびに、表面が粗面化された構造等の種々の構造が利用可能である。
ここで、インキの流れ道を好適に確保できる等の点で、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とからなる構造であるのが好ましい。

凹凸構造が複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とからなる構造である場合には、複数の溝が、互いの溝に干渉させずに乱れなくインキを転移させることで、より高いインキ濃度での印刷が可能となる理由から、互いに平行または放射状に配置された溝であることが好ましく、互いに平行に配置された溝であることがより好ましい。

次に、本発明のフレキソ印刷版の全体の構成を図１〜図３を用いて説明する。

図１に示すように、本発明に係るフレキソ印刷版の一例である印刷版１は、画像部３と、非画像部４とが形成されたレリーフ層２を有する。
画像部３は、印刷時にインキを着けてこのインキを被印刷物に転写する、すなわち、印刷時に画像を形成する領域である。また、非画像部４は、印刷時にインキをつけない、すなわち、画像を形成しない領域である。

また、図２および図３に示すように、画像部３の表面には、複数の溝からなる凹部５と、凹部５以外の凸部６とから構成された凹凸構造が形成されている。なお、図３に示す符号Ｄは、凹部５の深さを示し、符号Ｗは、凹部５の幅を示す。
また、凹部５および凸部６からなる凹凸構造は、画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍで、油溜まり面積Ａ２が２〜１８０で、切断レベル３０％における粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が２０〜９０％であることを満たすものであれば、図２に示すように、各々の溝が互いに平行に配置されたものであってもよく、各々の溝が互いに放射状に配置されたものであってもよく、各溝が屈曲し、２以上の直線部分を有する態様に配置されたものであってもよい。

ここで、前述のとおり、画像部の表面に形成される凹凸構造は、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とから構成される構造、円柱状、半球状等の微小な突起部からなる凸部を複数有する構造、円柱状、半球状等の微小な穴部からなる凹部を複数有する構造、ならびに、表面が粗面化された構造等の種々の構造を含む。

凹凸構造が複数の溝からなる場合の、溝の形状、幅、深さ、長さおよびピッチ等は、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍで、油溜まり面積Ａ２が２〜１８０で、切断レベル３０％における粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が２０〜９０％であることを満たせば限定はない。
同様に、凹凸構造が、微小な突起部からなる凸部を複数有する構造である場合や、微小な穴部からなる凹部を複数有する構造の場合の、突起部の形状、幅、高さ、数密度、配置パターン等、ならびに、孔部の形状、幅、高さ、数密度および配置パターン等にも限定はない。

［フレキソ印刷版原版］
本発明のフレキソ印刷版原版は、表面に凹凸構造が形成された架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版である。
また、上記凹凸構造は、複数の溝からなる凹部と、上記凹部以外の凸部とから構成されている。
また、上記凹凸構造を有する架橋レリーフ形成層の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２は、２〜１８０であり、切断レベル３０％における粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％は、２０〜９０％である。

本発明のフレキソ印刷版原版は、架橋レリーフ形成層に凹凸構造を有する以外は、公知のフレキソ印刷版原版と同様である。また、印刷版原版は、シート状であっても円筒状であってもよい。

ここで、上述した通り、架橋レリーフ形成層は、レーザー彫刻する前の層であり、架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻して非画像部に対応する領域を除去し、画像部および非画像部を有するレリーフ層を形成するものである。そのため、本発明の印刷版原版のレリーフ形成層の表面は、レーザー彫刻後、上述した本発明のフレキソ印刷版の画像部の表面となる。
すなわち、本発明の印刷版原版の架橋レリーフ形成層は、表面に上述のフレキソ印刷版の画像部に形成された凹凸構造と同様の凹凸構造を有する。
したがって、本発明の印刷版原版の架橋レリーフ形成層の表面に形成される凹凸構造については説明を省略する。

本発明のフレキソ印刷版原版は、架橋レリーフ形成層の裏面側（彫刻される面とは反対側の面）に支持体を有してもよい。
このような支持体としては特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、ポリエステル（例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート））；ＰＡＮ（ポリアクリロニトリル）；ＰＩ（ポリイミド）；ＰＡ（ポリアミド）；テフロン（登録商標）等のフッ素樹脂；シリコーン樹脂やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂；スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム；ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂（エポキシ樹脂やフェノール樹脂など）；等が挙げられる。
支持体としては、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ＰＩフィルム、ＰＡフィルム、フッ素樹脂フィルム、シリコーン樹脂フィルムが好ましく用いられる。

［フレキソ印刷版の製造方法（第１態様）］
本発明の第１の態様に係るフレキソ印刷版の製造方法（以下、「印刷版第１製造方法」ともいう。）は、上述した本発明のフレキソ印刷版を製造する製造方法であって、
レーザー彫刻用樹脂組成物を用いてレリーフ形成層を形成する層形成工程と、
レリーフ形成層にレーザー彫刻を施して、非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得る彫刻工程と、を有するフレキソ印刷版の製造方法である。
また、好ましくは、層形成工程と彫刻工程との間に、レーザー彫刻用樹脂組成物を架橋する架橋工程を有する。
なお、後述する本発明の第３の態様に係るフレキソ印刷版の製造方法は、後述するフレキソ印刷版原版の製造方法により製造されるフレキソ印刷版原版を利用したフレキソ印刷版の製造方法である。
以下に、印刷版第１製造方法の各工程について詳述する。

〔層形成工程〕
層形成工程は、レーザー彫刻用樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」ともいう。）を用いて架橋前（硬化前）のレリーフ形成層を形成する工程である。

＜樹脂組成物＞
上記樹脂組成物は、フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層を形成する従来公知の樹脂組成物を用いることができ、例えば、バインダーポリマーおよび光熱変換材料を含有する樹脂組成物が挙げられる。
以下に、層形成工程に用いる樹脂組成物に含有する各成分について詳述する。

＜バインダーポリマー＞
バインダーポリマーとしては特に制限されないが、熱可塑性ポリマー、ジエン系ポリマーなどが挙げられる。
熱可塑性ポリマーは、熱可塑性を示すポリマーであれば特に限定されない。
このような熱可塑性ポリマーとしては、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
これらのうち、レーザー彫刻感度の観点から、露光または加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。このようなポリマーは、特開２００８−１６３０８１号公報の［００３８］段落に記載されているものが好ましく挙げられる。
また、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが好ましい。このような樹脂やポリマーは、特開２００８−１６３０８１号公報の［００３９］〜［００４０］段落に記載されているものが好ましく挙げられる。
更に、樹脂組成物の調製の容易性や、作製される印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性または親アルコール性ポリマーを使用することも好ましい。親水性ポリマーとしては、特開２００８−１６３０８１号公報の［００４１］段落に記載されているものを使用することができる。

加えて、加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、分子内にエチレン性不飽和結合をもつポリマーが好ましく用いられる。
このようなポリマーとして、主鎖にエチレン性不飽和結合を含むポリマーとしては、例えば、ＳＢ（ポリスチレン−ポリブタジエン）、ＳＢＳ（ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン）、ＳＩＳ（ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン）、ＳＥＢＳ（ポリスチレン−ポリエチレン／ポリブチレン−ポリスチレン）等が挙げられる。
また、側鎖にエチレン性不飽和結合をもつポリマーとしては、後記のバインダーポリマーの骨格に、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基のようなエチレン性不飽和基を側鎖に導入することにより得られる。バインダーポリマー側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は、（１）重合性基に保護基を結合させてなる重合性基前駆体を有する構成単位をポリマーに共重合させ、保護基を脱離させて重合性基とする方法、（２）水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基などの反応性基を複数有する高分子化合物を作製し、これらの反応性基と反応する基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を高分子反応により導入する方法など、公知の方法をとることができる。これらの方法によれば、高分子化合物中へのエチレン性不飽和基の導入量を制御することができる。
なお、バインダーポリマーは、ヒドロキシル基、シラノール基、加水分解性シリル基等の反応性官能基を有するバインダーポリマーであることが好ましく、その具体例としては、ビニル共重合体（ポリビニルアルコールやポリビニルアセタールなどのビニルモノマーの共重合体及びその誘導体）やアクリル樹脂（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系モノマーの共重合体及びその誘導体）が挙げられる。

一方、ジエン系ポリマーとしては、従来公知のジエン系ポリマーを制限なく使用することができる。
上記ジエン系ポリマーとしては、具体的には、例えば、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−イソプレン−ブタジエン共重合体等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのジエン系ポリマーのうち、レリーフ形成層の製膜性を向上させる観点から、融点が２３℃以下の液状ポリマー（例えば、液状ブタジエンゴムなど）を好適に用いることができる。
ここで、融点とは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ：Differential scanning calorimetry）の測定パンに加温前の熱可塑性ポリマーを２０ｍｇ入れ、これを窒素気流中で１０℃／分で３０℃から３００℃まで昇温した際に、観測された吸熱ピークの開始温度である。

このようなバインダーポリマーのうち、レリーフ層の形成しやすさや硬度の観点から、結晶性ポリマーであるのが好ましい。
ここで、結晶性ポリマーとは、分子構造の中に長い鎖状の分子が規則的に並んだ結晶性領域と、規則的に並んでいない非結晶性領域が混在したポリマーを意味し、その結晶性領域の割合である結晶化度が２５度で１体積％以上有するポリマーのことを指す。
ここで結晶化度とは、示差走査熱量計により窒素雰囲気下、２５℃から２００℃までの範囲で昇温速度２０℃／ｍｉｎにて温度を変化させながら、結晶融解による吸熱ピーク（ΔＨ（Ｊ／ｇ））を求める。測定されたΔＨに基づき、以下の式により到達結晶化度（％）を算出する。
結晶化度（％）＝｛ΔＨ／ａ｝×１００
上式中、「ａ」は公知の文献で示されている、結晶性領域の成分が１００％結晶化した場合の結晶融解熱量（例えば、ポリ乳酸の場合９４Ｊ／ｇ、ポリエチレン(ＨＤＰＥ)２９３(Ｊ／ｇ)）を意味する。

このような結晶性ポリマーとしては、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーが挙げられる。
具体的には、例えば、ＳＢ（ポリスチレン−ポリブタジエン）、ＳＢＳ（ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン）、ＳＩＳ（ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン）、ＳＥＢＳ（ポリスチレン−ポリエチレン／ポリブチレン−ポリスチレン）、ＡＢＳ（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体）、ＡＣＭ（アクリル酸エステルゴム）、ＡＣＳ（アクリロニトリル塩素化ポリエチレンスチレン共重合体）、非晶性ポリアルファオレフィン、アタクチックポリプロピレン、アクリロニトリルスチレン共重合体、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチルビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリプロピレン、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリオクテニレン、トランス−ポリイソプレン，ポリビニルブチラール、エチレン−オクテンコポリマー等のエチレン−α−オレフィンコポリマー、プロピレン−α−オレフィンコポリマー、１，３−ペンタジエン重合体などが挙げられる。
これらのうち、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、ポリプロピレン、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリオクテニレン、トランス−ポリイソプレン，エチレン−オクテンコポリマー等のエチレン−α−オレフィンコポリマー、プロピレン−α−オレフィンコポリマーが好ましく、その中でも、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエン、エチレン−α−オレフィンコポリマー、プロピレン−α−オレフィンコポリマー、ポリオクテニレンが特に好ましい。

液晶性ポリマーの樹脂組成物中の含有量は、全固形分に対して、５〜９０質量％であることが好ましく、１５〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８５質量％であることが更に好ましい。液晶性ポリマーの含有量が上記範囲内であると、彫刻カスのリンス性に優れ、インキ転移性により優れるので好ましい。

＜光熱変換材料＞
光熱変換材料は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進する成分と考えられる。
そのため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換材料を選択することが好ましい。
例えば、本発明の印刷版原版を、７００〜１，３００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等）を光源としてレーザー彫刻に用いる場合は、光熱変換材料としては、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
このような光熱変換材料としては、種々の染料又は顔料が用いられる。

光熱変換材料のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開２００８−６３５５４号公報の段落０１２４〜０１３７に記載の染料を挙げることができる。

本発明において使用される光熱変換材料のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１２２〜０１２５に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものは後述するカーボンブラックである。

（カーボンブラック）
上記カーボンブラックは特に限定されず、樹脂組成物中における分散性などが安定である限り、Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ（ＡＳＴＭ）による分類のほか、用途（例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など）の如何に拘らずいずれも使用可能である。
ここで、本発明においては、カーボンブラックは、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進する光熱変換剤として機能していると考えられる。

上記カーボンブラックとしては、具体的には、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラック等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、これらのカーボンブラックは、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができるが、コストの観点から粉体で使用することが好ましい。

本発明においては、カーボンブラックの含有量は、レーザー彫刻時の感度が良好となり、インキ着肉性も良好となる理由から、バインダポリマー１００質量部に対して１〜３０質量部であることが好ましく、２〜２５質量部であることがより好ましく、３〜２０質量部が特に好ましい。

＜架橋剤＞
本発明の樹脂組成物は架橋剤を含有していてもよい。その場合、架橋剤は、特に限定されず、従来公知の重合開始剤（例えば、ラジカル重合開始剤等）等を使用することができる。

上記重合開始剤としては、具体的には、例えば、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｌ）アゾ系化合物等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、半減期温度が高く、その結果、樹脂組成物の混練時のスコーチ（早期硬化）を抑制することができる理由や、彫刻感度と、フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった理由などから、（ｃ）有機過酸化物が特に好ましい。

ここで、上記（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、および、（ｌ）アゾ系化合物としては、特開２００８−６３５５４号公報の段落００７４〜０１１８に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。一方、好適例である（ｃ）有機過酸化物としては、以下に示す化合物が好ましい。

（有機過酸化物）
上記有機過酸化物としては、具体的には、例えば、ジクミルペルオキシド（１０時間半減期温度：１１６℃）、α，α’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン（１０時間半減期温度：１１９℃）、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン（１０時間半減期温度：１１８℃）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

本発明において、有機過酸化物の形態としては、原体のまま使用することも可能であるが、取扱い上の問題（危険性、作業性など）から、原体を炭酸カルシウムなどの無機フィラーに吸着させた濃度４０ｗｔ％の希釈品（非危険物、粉状）や更に、混練時の粉立ち防止、ポリマーへの分散性改善を目的としたマスターバッチタイプの希釈品をより好ましく用いることができる。
原体としては、例えば、パークミルＤ（日油株式会社製）、ＰｅｒｋａｄｏｘＢＣ−ＦＦ（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックスＤＣ（アルケマ吉富株式会社製）、パーブチルＰ（日油株式会社製）、パーカドックス１４（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックスＦ（アルケマ吉富株式会社製）、ルペロックスＦ９０Ｐ（アルケマ吉富株式会社製）、パーヘキサ２５Ｂ（日油株式会社製）、カヤヘキサＡＤ（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックス１０１（アルケマ吉富株式会社製）等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
また、希釈品としては、例えば、パークミルＤ−４０（日油株式会社製：不活性充填剤希釈品）、パークミルＤ−４０ＭＢ（日油株式会社製：シリカ／ポリマー他希釈品）、カヤクミルＤ−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、カヤクミルＤ−４０ＭＢ−Ｓ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、カヤクミルＤ−４０ＭＢ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、パーブチルＰ−４０（日油株式会社製：不活性充填剤希釈品）、パーブチルＰ−４０ＭＢ（日油株式会社製：シリカ／ポリマー他希釈品）、パーカドックス１４／４０（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、パーカドックス１４−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、ルペロックスＦ４０（アルケマ吉富株式会社製）、パーヘキサ２５Ｂ−４０（日油株式会社製：シリカ他希釈品）、カヤヘキサＡＤ−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：ケイ酸カルシウム希釈品）、トリゴノックス１０１−４０ＭＢ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、ルペロックス１０１ＸＬ（アルケマ吉富株式会社製）等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。

本発明においては、架橋剤は、彫刻カスのリンス性に優れ、耐刷性やインキ着肉性も良好となる理由から、バインダーポリマー１００質量部に対して０〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜７質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であるのが更に好ましい。

＜任意の添加剤＞
樹脂組成物は、バインダーポリマーおよび光熱変換材料以外の任意の添加剤として、例えば、重合性化合物、カーボンブラック以外の他の充填剤などを含有してもよい。

（重合性化合物）
重合性化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物」という。）であるのが好ましい。

上記エチレン性不飽和化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物であっても、多官能エチレン性不飽和化合物であってもよいが、多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。具体的には、多官能エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和基を２〜２０個有する化合物が好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限なく用いることができる。
また、任意の重合性化合物を含有する場合の含有量は、樹脂組成物の全質量に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。

（他の充填剤）
他の充填剤は、有機でも無機でもよいが、加工性がより良好となる理由や、コストや硬化膜の強度の観点から、シリカ、炭酸カルシウム、マイカ、タルク、および、ステアリン酸金属塩からなる群から選択される少なくとも１種以上を用いるのが好ましく、シリカおよび／または炭酸カルシウムを用いるのが特に好ましい。

（その他の添加剤）
樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、架橋助剤、シランカップリング剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

＜形成方法＞
レリーフ形成層の形成方法としては、例えば、樹脂組成物を調製し、必要に応じて、この樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法；樹脂組成物を調製し、樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブンなどの中で加熱乾燥して溶剤を除去する方法、図４に示すようなカレンダーロールを用い、樹脂組成物をシート状に成型する方法；などが好適に挙げられる。
図４中、カレンダーロール６０は第１ロール６２ａ〜第４ロール６２ｄを有しおり、これらのロールの間隔、ロールの温度、および、ロールの回転速度が設定可能となっている。
このロールの間に樹脂組成物の混練物７０をセットし、圧延成形することにより、シート状の未硬化層７１、すなわち、未架橋レリーフ形成層を得ることができる。

〔架橋工程〕
架橋工程は、上記層形成工程で形成した未架橋レリーフ形成層を架橋して架橋レリーフ形成層を形成する工程である。
ここで、架橋させる方法としては、光および／または熱により未架橋レリーフ形成層を硬化させる方法であれば特に特に限定されず、従来のフレキソ印刷版原版の製造方法で用いられる硬化方法を適宜利用することができる。

（光硬化）
未架橋レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる光（以下、「活性光線」ともいう。）を未架橋レリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。
活性光線の照射は、未架橋レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。
活性光線としては、例えば、可視光、紫外光、電子線などが挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。

（熱硬化）
未架橋レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合、未架橋レリーフ形成層を加熱することにより架橋することができる。
熱による架橋を行うための加熱手段としては、未架橋レリーフ形成層を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。

未架橋レリーフ形成層の硬化方法としては、未架橋レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化（架橋）可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
未架橋レリーフ形成層を熱により架橋することにより、第１にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第２にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。

〔彫刻工程〕
彫刻工程は、上記架橋工程で架橋させた架橋レリーフ形成層にレーザー彫刻を施して、非画像部と、表面に上述した凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を形成する工程である。

レーザー彫刻の方法は特に限定されないが、印刷版第１製造方法においては、非画像部となる部分を彫刻（非画像部を形成）するとともに、画像部の表面に上述した凹凸構造を形成する必要があるため、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する方法が好ましく挙げられる。

（画像データ生成方法）
レーザー彫刻のための画像データの生成方法は、以下の手法を用いることができる。
まず、作製する印刷版の原画像データを取得する。次に、この原画像データを、レーザー彫刻を行うためのデータに変換するため、ＲＩＰ（Ｒａｓｔｅｒ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）処理を行う。一方で、原画像データをラスタライズして、各画像部の外縁（端辺）から所定の幅の複数の部分領域を抽出する。抽出した各部分領域に、それぞれ所定の凹凸パターンのテンプレートを重ねてマスクを生成する。さらに、ＲＩＰ処理をした画像データに、生成したマスクを掛け合わせて、出力画像データを生成する。
このようにして、原画像データの画像部に凹凸パターンを付加した出力画像データを生成して、この出力画像データを用いてレーザー彫刻を行い、フレキソ印刷版を作製する。
また、凹凸構造として複数の溝を形成する際においては、レーザーの主走査方向が連続的に照射されて形成される溝の長さをＡとし、レーザーの副走査方向が連続的に照射されて形成される溝の長さをＢとしたときに、ＡがＢよりも３倍以上多くなる条件、または、Ａのみとなる条件、すなわち、主走査方向のみに彫刻を行って溝を形成するのが好ましい。

（レーザー彫刻）
レーザー彫刻の方法としては、例えば、円筒形を有するドラムの外周面にシート状のレーザー彫刻用印刷版原版を巻き付けてドラムを回転させて、印刷版原版に向けて露光ヘッドから、上記出力画像データに応じたレーザー光を射出し、露光ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に所定ピッチで走査させることで、印刷版原版の表面に２次元画像を高速で彫刻（記録）する方法、等が利用可能である。

レーザー彫刻において利用されるレーザーの種類については特に限定はないが、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、硬化層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。

赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー（ＣＯ₂レーザー）又は半導体レーザーが好ましく、ファイバー付き半導体赤外線レーザー（ＦＣ−ＬＤ）が特に好ましい。一般に、半導体レーザーは、ＣＯ₂レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が７００〜１，３００ｎｍのものが好ましく、８００〜１，２００ｎｍのものがより好ましく、８６０〜１，２００ｎｍのものが更に好ましく、９００〜１，１００ｎｍのものが特に好ましい。
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、レーザー彫刻には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第２版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会編著等に記載されている。
また、特開２００９−１７２６５８号公報及び特開２００９−２１４３３４号公報に詳細に記載されるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法に好適に使用することができる。

〔リンス工程〕
本発明の印刷版第１製造方法では、彫刻工程の後に、彫刻表面をアルカリ水溶液でリンスするリンス工程を有していてもよい。リンス工程を有することにより、彫刻表面の付着・残留する彫刻カスを洗い流し、除去することが可能である。
リンスの手段として、アルカリ水溶液に浸漬する方法、アルカリ水溶液に浸漬しながら、リンス液を回転させ、彫刻表面をブラシで摺る方法、アルカリ水溶液をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主にアルカリ水溶液の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。

〔乾燥工程〕
本発明の印刷版第１製造方法では、彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻工程の後に、乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加してもよい。

〔後架橋工程〕
本発明の印刷版第１製造方法では、必要に応じて、彫刻工程の後に更に架橋する後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。

ここで、上述の印刷版第１製造方法においては、直接、レーザー彫刻により、凹凸構造を形成する構成（ＤＬＥ（Direct Laser Engraving）方式）としたが、これに限定はされず、レーザーで印刷版原版の表面に画像を書き込み現像するＬＡＭＳ(Laser Ablation Masking System)方式等の種々の公知の製造方法が利用可能である。

ＬＡＭＳ方式の製造方法（印刷版第２製造方法）では、例えば、支持体上に、レリーフ形成層および赤外アブレーション層がこの順で積層された積層体を用いて、赤外アブレーション層に赤外線レーザーを照射して、赤外アブレーション層の、赤外線レーザーが照射された部分を除去し、所望の形状のマスクを形成する（マスク形成工程）。
次に、作製したマスクを介して紫外線照射し、レリーフ形成層を硬化させる（露光工程）。次に、露光工程で硬化されなかった部分、すなわち、非画像部および凹部となる未露光部を除去して（現像工程）、レリーフ層を形成しフレキソ印刷版を作製することができる。
なお、現像工程の後に、「乾燥工程」「後架橋工程」等を行ってもよい。

ＬＡＭＳ方式の製造方法で製造する場合の、レリーフ層の樹脂組成物としては、フレキソ印刷版原版のレリーフ形成層を形成する従来公知の樹脂組成物を用いることができる。
例えば、段落［００４４］で記載したバインダーポリマー、光重合性ポリマー、光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を用いることができる。

また、アブレーション層の形成材料としては、従来公知の組成物を用いることができる。
例えば、ニトロセルロース、エチルセルロース、ポリアクリル酸及びそれらの金属塩、アクリレート、メタクリレート及びスチレンのホモポリマー及びコポリマー、ブタジエン、イソプレンのホモポリマー及びコポリマー、スチレン及びオレフィンとのブロックコポリマー、ポリビニルアルコール、ポリビニルクロライド、ポリアクリロニトリル、その他段落［００４４］で記載したバインダーポリマーを用いることができる。

［フレキソ印刷版原版の製造方法］
本発明のフレキソ印刷版原版の製造方法（以下、「原版製造方法」とも略す。）は、上述した本発明のフレキソ印刷版原版を製造する製造方法であって、
レーザー彫刻用樹脂組成物を用いて未架橋レリーフ形成層を形成する層形成工程と、
上記未架橋レリーフ形成層を架橋して架橋レリーフ形成層を形成する架橋工程と、
上記架橋工程の後に、転写により架橋レリーフ形成層の表面に凹凸構造を形成して、フレキソ印刷版原版を得る凹凸形成工程と、を有するフレキソ印刷版原版の製造方法である。
また、フレキソ印刷版原版の製造方法における層形成工程および架橋工程は、上述した印刷版第１製造方法において説明した工程と同様であるため、凹凸形成工程のみについて以下に詳述する。

〔凹凸形成工程〕
凹凸形成工程は、上記架橋工程で架橋させた架橋レリーフ形成層に転写により凹凸構造を形成する工程である。
具体的には、架橋直後の架橋レリーフ形成層に、形成する凹凸構造に対応する形状の金型を押し当てて、架橋レリーフ形成層の表面に凹凸構造を転写して形成することができる。
あるいは、形成する凹凸構造に対応する形状が表面に付与された冷却ロールにより、架橋直後の架橋レリーフ形成層にカレンダー処理を施し、架橋レリーフ形成層を冷却しながら凹凸構造を転写して形成してもよい。
金型や冷却ロールの表面の形状や押圧力を変えることで、所望の凹凸構造を形成して、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、油溜まり面積Ａ２、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％を適宜、設定することができる。

［フレキソ印刷版の製造方法（第３態様）］
本発明の第３の態様に係るフレキソ印刷版の製造方法（以下、「印刷版第３製造方法」ともいう。）は、上述した本発明のフレキソ印刷版を製造する製造方法であって、
上述した本発明の原版製造方法により作製したフレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層に、レーザー彫刻を施して、非画像部と表面に上述した凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得るフレキソ印刷版の製造方法である。
以下に、印刷版第３製造方法のレーザー彫刻について詳述する。

〔レーザー彫刻〕
印刷版第３製造方法におけるレーザー彫刻は、上述した本発明のフレキソ印刷版原版の製造方法により作製したフレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層、すなわち、既に凹凸構造が形成された架橋レリーフ形成層にレーザー彫刻を施して、非画像部となる部分を彫刻する工程である。
このようなレーザー彫刻は特に限定されず、従来公知の彫刻工程と同様、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。
なお、印刷版第３製造方法におけるレーザー彫刻の方法や利用されるレーザーの種類等については、上述の印刷版第１製造方法において説明したものを含めて、従来公知の方法を適宜採用することができる。

また、印刷版第３製造方法では、上述した印刷版第１製造方法と同様、レーザー彫刻の後に、必要に応じてリンス工程、乾燥工程、後架橋工程を行ってもよい。

［フレキソ印刷装置］
次に、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置（以下、単に、『印刷装置』ともいう）の構成について詳細に説明する。フレキソ印刷装置は、上記フレキソ印刷版を用いる以外は、基本的に、従来のフレキソ印刷装置と同様の構成を有する。

図５は、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置の要部を概念的に示す図である。
図５に示すように、フレキソ印刷装置３０は、上記フレキソ印刷版１、ドラム（版胴）３１、搬送ローラ（圧胴）３２、アニロックスローラ３３、ドクターチャンバ３４、および、循環タンク３５を有する。

ドラム３１は、円筒状であり、フレキソ印刷版１を周面に載置して、回転しつつ、フレキソ印刷版１を被印刷体ｚに接触させるものである。
搬送ローラ３２は、被印刷体ｚを所定の搬送経路で搬送する搬送部（図示せず）を構成するローラであり、その周面が、ドラム３１の周面と対面して配置されて、被印刷体ｚをフレキソ印刷版１に接触させるものである。
ドラム３１はその回転方向が、被印刷体ｚの搬送方向と一致するように配置されている。

アニロックスローラ３３、ドクターチャンバ３４、および、循環タンク３５は、フレキソ印刷版１にインキを供給するためのものである。循環タンク３５はインキを貯留しており、循環タンク３５内のインキが、ポンプ（図示せず）によってドクターチャンバ３４に供給される。ドクターチャンバ３４は、アニロックスローラ３３の表面に密接して設けられ、内部にインキが保持されている。アニロックスローラ３３は、ドラム３１の周面に当接して同調回転し、ドクターチャンバ３４内のインキを印刷版１に塗布（供給）する。

このように構成されたフレキソ印刷装置３０は、被印刷体ｚを所定の搬送経路で搬送しつつ、ドラム３１に載置されたフレキソ印刷版１を回転させて、インキを被印刷体ｚに転写して印刷を行う。すなわち、フレキソ印刷版を載置するドラムの回転方向が印刷方向となる。

本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられる被印刷体の種類には、特に限定はなく、紙、フィルム、段ボール等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知の被印刷体を用いることができる。
また、本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられるインキの種類にも、特に限定はなく、水性インキ、ＵＶ（Ultra Violet）インキ、油性インキ、ＥＢ（Electron Beam）インキ等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知のインキを用いることができる。

以上、本発明のフレキソ印刷版、フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版の製造方法、および、フレキソ印刷版原版の製造方法について説明したが、本発明は、上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行っても良いのは、もちろんである。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
＜樹脂組成物Ａの調製＞
ポリマー１としてＥＰＤＭ：ＭＩＴＳＵＩ ＥＰＴ１０４５（エチレン・プロピレン・ジエン共重合体、エチレン含量：５８質量％、ジエン含量：５質量％、ジエン種：ジシクロロペンタジエン（ＤＣＰＤ）、三井化学株式会社製）を８０質量部と、光熱変換剤としてカーボンブラック＃４５Ｌ（窒素吸着比表面積：１２５ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸収量：４５ｃｍ³／１００ｇ、三菱化学株式会社製）を１２質量部と、パークミルＤ４０〔ジクミルペルオキシド（４０質量％）、日油株式会社製〕を５質量部とを混練し、樹脂組成物Ａを調製した。

＜フレキソ印刷版原版の作製＞
得られた樹脂組成物Ａを、加熱プレス機（ＭＰ−ＷＣＬ、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、１０ＭＰａの圧力で、１６０℃で２０分間加熱して架橋し、厚さが９１５μｍの架橋レリーフ形成層を形成した。
得られた架橋レリーフ形成層の片側に、光硬化性組成物（株式会社スリーボンド製：３０３０）を硬化後の平均膜厚が１００μｍになるように塗設した後、支持体として１２５μｍ厚のＰＥＴフィルムをニップローラにて貼り合わせ、２０秒後にＰＥＴフィルム側からＵＶ露光機（アイグラフィックス株式会社製ＵＶ露光機ＥＣＳ―１５１Ｕ、メタルハライドランプ、１，５００ｍＪ／ｃｍ²、１４ｓｅｃ露光）にて光硬化性組成物を硬化させて、厚さが１．１４ｍｍのフレキソ印刷版原版を得た。

＜フレキソ印刷版の作製＞
上記で得たフレキソ印刷版原版の架橋レリーフ形成層にレーザー彫刻を施すことにより、画像部、非画像部、および、画像部表面の凹凸構造を有するフレキソ印刷版を形成した。
具体的には、レーザー照射による彫刻は、レーザー彫刻機（Ｈｅｌｌ Ｇｒａｖｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製 １３００Ｓ）により、解像度２５４０ｄｐｉで彫刻し、その後、洗浄剤（Ｔｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｍｐａｎｙ社製 ジョイ（登録商標）２％水溶液）を版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで彫刻カスを除去した。
ここで、画像部における凹凸構造のパターンは、図６Ａに示す画像パターン１（白色部が露光部であり凹部を表し、黒色部が未露光部であり、凸部を表す）を用いて、光量Ｌｖ１０で彫刻することにより、下記第１表に示す表面粗さパラメータを有する画像部を形成した。
なお、画像パターン１においては、凹線、凸線の線幅が、１画素（２５４０ｄｐｉ）であり、約１０μｍであった。したがって、画像パターン１における凹凸のピッチは、２画素である。
なお、下記第１表に示す粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、油溜まり面積Ａ２、および、粗さ曲線の負荷長さ率Ｒｍｒ３０％については、上述した測定方法により測定したものである。
また、下記第１表に示す光量Ｌｖとは、レーザー彫刻機（Ｈｅｌｌ Ｇｒａｖｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製 １３００Ｓ）により、非画像部の照射レーザーパワー（Ｄｅｐｔｈ Ｐｏｗｅｒ）の８ｂｉｔ階調の設定値であり、非画像部の照射レーザーパワーを２５５Ｌｖとしたときの設定値を表す。光量１０Ｌｖは非画像部の照射レーザーパワーの１０／２５５に相当する。

［実施例２〜１５］
レーザー彫刻における条件（光量、画像パターン）を下記第１表に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、フレキソ印刷版を作製した。
なお、下記第１表中、画像パターンについては、図６Ｂ〜図６Ｈに示す画像パターンをそれぞれ画像パターン２〜画像パターン８とする。

なお、画像パターン２（図６Ｂ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が２画素（２０μｍ）であり、ピッチが３画素であった。
また、画像パターン３（図６Ｃ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が３画素（３０μｍ）であり、ピッチが４画素であった。
また、画像パターン４（図６Ｄ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が５画素（５０μｍ）であり、ピッチが６画素であった。
また、画像パターン５（図６Ｅ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、ピッチが２画素であり、凹部が主走査方向に対して、６０°傾くものとした。
また、画像パターン６（図６Ｆ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が３画素（３０μｍ）であり、ピッチが４画素であり、凹部が主走査方向に対して、６０°傾くものとした。
また、画像パターン７（図６Ｇ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が５画素（５０μｍ）であり、ピッチが６画素であり、凹部が主走査方向に対して、６０°傾くものとした。
また、画像パターン８（図６Ｈ）においては、凹線の線幅が１画素（１０μｍ）であり、凸線の線幅が２画素（２０μｍ）であり、ピッチが３画素であり、凹部が主走査方向に対して、５１．２°傾くものとした。

［実施例１６〜１８］
樹脂組成物に用いるポリマー１をそれぞれ、下記に示すポリマー２〜ポリマー４に変更し、カーボンブラック量を９質量部に変更し、パークミルＤ４０の量を０．２質量部に変更し、加熱プレスを１８０℃、１０分で行った以外は、実施例１と同様の方法により、フレキソ印刷版を作製した。
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・ポリマー２：シンジオタクチック1,2-ポリブタジエンRB820（JSR株式会社製）
・ポリマー３：シンジオタクチック1,2-ポリブタジエンRB830（JSR株式会社製）
・ポリマー４：シンジオタクチック1,2-ポリブタジエンRB840（JSR株式会社製）
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［実施例１９〜２１］
樹脂組成物に用いるポリマー１をそれぞれ、下記に示すポリマー４〜ポリマー６に変更し、カーボンブラック量を６質量部に変更し、パークミルＤ４０を添加せず、加熱プレスを２０ＭＰａ、５分で行った以外は、実施例１と同様の方法により、フレキソ印刷版を作製した。
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・ポリマー５：α−オレフィン系エラストマー ノティオTM PN-2060（Mitsui Chemicals America製）
・ポリマー６：エチレン−オクテンコポリマー Engage TM 8200（Dow Chemical製）
・ポリマー７：エチレン−オクテンコポリマー Engage TM 8401（ダウケミカル株式会社製）
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［実施例２２］
＜樹脂組成物Ｂの調製＞
ポリマーとしてシンジオタクチック1,2-ポリブタジエンRB830（ポリマー３：JSR株式会社製）を８０質量部と、光熱変換剤としてカーボンブラック＃４５Ｌ（窒素吸着比表面積：１２５ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸収量：４５ｃｍ³／１００ｇ、三菱化学株式会社製）を９質量部と、パークミルＤ４０〔ジクミルペルオキシド（４０質量％）、日油株式会社製〕を０．２質量部とを混練し、樹脂組成物Ｂを調製した。

＜フレキソ印刷版原版の作製＞
得られた樹脂組成物Ｂを、加熱プレス機（ＭＰ−ＷＣＬ、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、１０ＭＰａの圧力で、１８０℃で１０分間加熱して架橋し、厚さが９１５μｍのレリーフ形成層を作製した。その直後、一面に、幅１０μｍ、深さ１０μｍ、ピッチ２０μｍの溝が複数、平行に形成されたＳＵＳ板をフレキソ印刷版原版の印刷面に重ね、２ＭＰａの圧力で、２５℃で３０秒間加圧し、凹凸構造を転写した。
得られたレリーフ形成層の凹凸構造が形成されていない側の面に、光硬化性組成物（株式会社スリーボンド製：３０３０）を硬化後の平均膜厚が１００μｍになるように塗設した後、支持体として１２５μｍ厚のＰＥＴフィルムをニップローラにて貼り合わせ、２０秒後にＰＥＴフィルム側からＵＶ露光機（アイグラフィックス株式会社製ＵＶ露光機ＥＣＳ―１５１Ｕ、メタルハライドランプ、１，５００ｍＪ／ｃｍ²、１４ｓｅｃ露光）にて光硬化性層を硬化させて、表面に凹凸構造を有する、厚さが１．１４ｍｍのフレキソ印刷版原版を得た。

＜フレキソ印刷版の作製＞
上記で得たフレキソ印刷版原版のレリーフ形成層にレーザー彫刻を施すことにより、画像部、および、非画像部を有するフレキソ印刷版を作製した。
具体的には、レーザー照射による彫刻は、レーザー彫刻機（Ｈｅｌｌ Ｇｒａｖｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製 １３００Ｓ）により、解像度２５４０ｄｐｉで彫刻し、その後、洗浄剤（Ｔｈｅ Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｍｐａｎｙ社製 ジョイ（登録商標）２％水溶液）を版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで彫刻カスを除去した。
ここで、レリーフ形成層の表面にはすでに凹凸構造が形成されているため、得られたフレキソ印刷版の画像部の表面には凹凸構造を有する。

［実施例２３］
＜樹脂組成物Ｃの調製＞
ポリマーとして、Ｋｒａｔｏｎ Ｄ-１１０２（ポリマー８：ＳＢＳブロックコポリマー、クレイトン株式会社製）を６０質量部と、可塑剤としてＤＥＨＰ＃８００３０（フタル酸ビス（２−エチルヘキシル）、シグマアルドリッチ製）を３２質量部と、モノマーとしてＡ-ＨＤ-Ｎ（ヘキサンジオールジアクリレート、新中村化学株式会社製）１０質量部と、光重合開始剤としてイルガキュア６５１（ＢＡＳＦ社製）を２質量部と、１質量部の染料及び熱安定剤とを混練し、樹脂組成物Ｃを調製した。

＜フレキソ印刷版原版の作製＞
アクリル樹脂７５質量部、および、ニトリルゴム（ＮＢＲ）２５質量部からなるバインダーポリマーに対し、カーボンブラック１００質量部と可塑剤３質量部とを加え、さらに溶剤としてメチルイソブチルケトン８１５質量部を加え、攪拌機にて混合した。得られた混合液をロールミルにより分散させた後、さらにメチルイソブチルケトンを加えることにより、赤外線アブレーション組成物を調製した。
得られた赤外線アブレーション組成物を、カバーフィルムとして１００μｍ厚のＰＥＴフィルムの片面に予め粘着防止剤を塗布した基板上に、乾燥後の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、赤外線アブレーション層を形成した。
そして、先に調製した樹脂組成物Ｃを、支持体として１２５μｍ厚のＰＥＴフィルムの片面に予め接着剤を塗布した基板上に塗設した後、樹脂組成物Ｃの層側に赤外線アブレーション層を向けてカバーフィルムを積層し、カバーフィルムを除く厚みが１．１４ｍｍとなるように、１２０℃に加熱したプレス機でプレスすることにより、フレキソ印刷版原版を得た。

＜フレキソ印刷版の作製＞
上記で得たフレキソ印刷版原版の支持体側から化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を１５秒間照射し、レリーフ層の土台を形成した。その後、カバーフィルムを剥離した。
カバーフィルムを剥離したフレキソ印刷版原版を、Ｅｓｋｏ ＣＤＩ ＳＰＡＲＫ４８３５に巻き付け、解像度４０００ｄｐｉでイメージングを行った。その際、画像部表面の凹凸構造は、図７に示すマスクパターン（白色部が露光部であり凸部を表し、黒色部が未露光部であり、凹部を表す）となるようにして赤外線アブレーション層に赤外線レーザーを照射し、マスクを形成した（マスク形成工程）。

マスク形成後、フレキソ印刷版原版を取り出し、平面に戻し、化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を４２０秒間照射した（露光工程）。
露光工程の後、メチルエチルケトン（ＭＥＫ、出光興産株式会社製）をフレキソ印刷版原版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで現像を行った（現像工程）。現像後、６０℃で１０分間乾燥し、化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を６００秒間照射し、最後に表面粘着性を除去する（デタック）ために殺菌灯を３００秒間照射してフレキソ印刷版を得た。
なお、形成された凹凸構造は、凹線の線幅が１０μｍであり、凸線の線幅が２０μｍであり、ピッチが３０μｍであった。

［実施例２４］
＜樹脂組成物Ｄ調製＞
ポリテトラメチレングリコール（三菱化学株式会社製ＰＴＭＧ８５０）１０質量部と、ジメチロールプロピオン酸（東京化成工業株式会社製）２０質量部と、へキサメチレンジイソシアネート（東京化成工業株式会社製）４０質量部と、ジラウリン酸−ｎ−ブチルスズ（東京化成工業株式会社製）１．７質量部とをテトラヒドロフラン１００質量部に溶解し、６５℃で３時間攪拌した。更にヒドロキシエチルメタクリレート（共栄社株式会社製）９質量部を加え６５℃で更に２時間攪拌した。末端アミノ基含有アクリロニトリル、ブタジエンオリゴマー（宇部興産株式会社製 Hycar ATBNX 1300×16）６３質量部をテトラヒドロフラン１００部に溶解して調整した溶液を上記の溶液に室温下で攪拌しながら添加し、得られた溶液を減圧乾燥してテトラヒドロフランを除去し、親水性ポリマーを得た。
上記で合成した親水性ポリマー３０質量部、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（シェル化学製、クラトン１１０２）２５質量部、液状ポリブタジエン（クラレ株式会社製、ＬＩＲ３０５）３０質量部、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート（共栄社化学株式会社製）２．５重量部、１，６−ノナンジオールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）８重量部、２−フェニルー２，２−ジメトキシアセトフェノン（東京化成工業株式会社製）２質量部、および、２，６−ジt-ブチル−ｐ−クレゾール（東京化成工業株式会社製）０．３質量部を１３０℃で混練し、樹脂組成物Ｄを調製した。
［実施例２４］
＜フレキソ印刷版原版の作製＞
アクリル樹脂７５質量部、および、ニトリルゴム（ＮＢＲ）２５質量部からなるバインダーポリマーに対し、カーボンブラック１００質量部と可塑剤３質量部とを加え、さらに溶剤としてメチルイソブチルケトン８１５質量部を加え、攪拌機にて混合した。得られた混合液をロールミルにより分散させた後、さらにメチルイソブチルケトンを加えることにより、赤外線アブレーション組成物を調製した。
得られた赤外線アブレーション組成物を、カバーフィルムとして１００μｍ厚のＰＥＴフィルムの片面に予め粘着防止剤を塗布した基板上に、乾燥後の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、赤外線アブレーション層を形成した。
そして、先に調製した樹脂組成物Ｄを、支持体として１２５μｍ厚のＰＥＴフィルムの片面に予め接着剤を塗布した基板上に塗設した後、樹脂組成物Ｄの層側に赤外線アブレーション層を向けてカバーフィルムを積層し、カバーフィルムを除く厚みが１．１４ｍｍとなるように、１２０℃に加熱したプレス機でプレスすることにより、フレキソ印刷版原版を得た。

＜フレキソ印刷版の作製＞
上記で得たフレキソ印刷版原版の支持体側から化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を１５秒間照射した。その後、カバーフィルムを剥離した。
カバーフィルムを剥離したフレキソ印刷版原版を、Ｅｓｋｏ ＣＤＩ ＳＰＡＲＫ４８３５に巻き付け、解像度４０００ｄｐｉでイメージングを行った。この時、画像部表面の凹凸構造は、図７に示すマスクパターン（白色部が露光部であり凸部を表し、黒色部が未露光部であり、凹部を表す）となるようにして赤外線アブレーション層に赤外線レーザーを照射し、マスクを形成した（マスク形成工程）。

マスク形成後、フレキソ印刷版原版を取り出し、平面に戻し、化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を４２０秒間照射した（露光工程）。
露光工程の後、アルキルナフタレンスルホン酸ソーダ５重量％を含有する４０℃の中性水で１０分間現像を行った（現像工程）。現像後、６０℃で１０分間乾燥し、化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ紫外線低圧水銀ランプ、３６５ｎｍにおける照度３２ｍＷ／ｃｍ²）を６００秒間照射し、最後に表面粘着性を除去する（デタック）ために殺菌灯を３００秒間照射してフレキソ印刷版を得た。

［比較例１］
画像部表面に凹凸構造を付与しない（図８Ａ、画像パターン９とする）以外は実施例１と同様にしてフレキソ印刷版を作製した。

［比較例２〜５］
レーザー彫刻における条件（光量、画像パターン）を下記第１表に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、フレキソ印刷版を作製した。
なお、画像パターン１０（図８Ｂ）においては、凹線の線幅が７画素（７０μｍ）であり、凸線の線幅が７画素（７０μｍ）であり、ピッチが１４画素であった。

［比較例６］
架橋直後に、一面に幅５μｍ、深さ１０μｍ、ピッチ１０μｍの溝が複数、平行に形成されたＳＵＳ板を用いて転写を行った以外は実施例２２と同様にしてフレキソ印刷版の作製を行った。

［評価］
得られたフレキソ印刷版を印刷機（ＩＬＦ−２７０−４Ｆ、太陽機械製作所）にセットし、水性フレキソ藍（ハイドリックＦＣＧ ７３９、大日精化製）をインキとして用い、印刷紙として、太閤ＯＰＰフィルム ＦＯＳ−ＡＱ（フタムラ化学株式会社製）を用いて、４０ｍ／ｍｉｎにて印刷を継続し、印刷開始から１，０００ｍにおける印刷物上のベタ部のインキの濃度を、３箇所をポータブル反射濃度計（エックスライト社製）により各２回測定し、計６回の測定値の平均値を算出し、以下の基準で評価した。
Ａ：濃度の平均値が１．８５以上であるもの。
Ｂ：濃度の平均値が１．８５未満１．７０以上であるもの。
Ｃ：濃度の平均値が１．７０未満１．５５以上であるもの。
Ｄ：濃度の平均値が１．５５未満１．４０以上であるもの。
Ｅ：濃度の平均値が１．４０未満であるもの。
Ｃ以上の評価を合格とした。

また、インキの均一性は、ハイブリッドレーザーマイクロスコープＯＰＴＥＬＩＣＳ（登録商標） ＨＹＢＲＩＤ（レーザーテック株式会社製）を用いて以下のようにして評価した。
印刷物上のベタ印刷部を倍率５倍のレンズを用いて撮影することにより０．９９ｍｍ²内の輝度データを得た。得られた輝度データについて、ばらつきの指標である標準偏差を求め、インキ均一性として定義した。
標準偏差が１５以下を合格とした。標準偏差が小さいほどばらつきが小さく、インキ均一性が高いことを示す。
結果を表１に示す。
なお、表１中の凹凸構造の形成方法の項目において、直接、レーザー彫刻により、凹凸構造を形成したものを「ＤＬＥ」と表し、マスクを形成して露光、現像を行って凹凸構造を形成したものを「ＬＡＭＳ」と表し、架橋後に転写により凹凸構造を形成したものを「転写」と表す。

表１に示すように、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍ、油溜まり面積Ａ２が２〜１８０、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が２０〜９０％を満たす本発明のフレキソ印刷版である実施例１〜２４は、比較例１〜６に比べて、インキの均一性が高く、また、ベタ部の濃度が高いことがわかる。
また、実施例１〜４、１０〜１２等の対比から、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、２０〜４０μｍが好ましいことがわかる。
また、実施例１、８、１１、１４等の対比から、油溜まり面積Ａ２は、４０〜１４０が好ましいことがわかる。
また、実施例１、４、１１、１４等の対比から、負荷長さ率Ｒｍｒ３０％は、３５〜７５％が好ましいことがわかる。
以上より、本発明の効果は明らかである。

１ フレキソ印刷版
２ レリーフ層
３ 画像部
４ 非画像部
５ 凹部
６ 凸部
Ｄ 凹部の深さ
Ｗ 凹部の幅
３０ フレキソ印刷装置
３１ ドラム
３２ 搬送ローラ
３３ アニロックスローラ
３４ ドクターチャンバ
３５ 循環タンク
６０ カレンダーロール
６２ａ〜６２ｄ 第１ロール〜第４ロール
７０ 混錬物
７１ 未硬化層
ｚ 被印刷体

Claims (20)

1. 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有するフレキソ印刷版であって、
   前記凹凸構造を有する前記画像部の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％であることを特徴とするフレキソ印刷版。
2. 前記粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、２０〜４０μｍである請求項１に記載のフレキソ印刷版。
3. 前記油溜まり面積Ａ２が、４０〜１４０である請求項１または２に記載のフレキソ印刷版。
4. 前記負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、３５〜７５％である請求項１〜３のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版。
5. 前記凹凸構造が、複数の溝からなる凹部と前記凹部以外の凸部とからなる請求項１〜４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版。
6. 前記レリーフ層の形成材料が、結晶性ポリマーを含む請求項１〜５のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版。
7. 前記結晶性ポリマーが、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、および、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる群から選択される少なくとも１種の結晶性ポリマーである請求項６に記載のフレキソ印刷版。
8. 表面に凹凸構造が形成されたレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版であって、
   前記凹凸構造を有する前記レリーフ形成層の表面の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが１５〜１２０μｍであり、油溜まり面積Ａ２が、２〜１８０であり、切断レベル３０％における負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、２０〜９０％であることを特徴とするフレキソ印刷版原版。
9. 前記粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍが、２０〜４０μｍである請求項８に記載のフレキソ印刷版原版。
10. 前記油溜まり面積Ａ２が、４０〜１４０である請求項８または９に記載のフレキソ印刷版原版。
11. 前記負荷長さ率Ｒｍｒ３０％が、３５〜７５％である請求項８〜１０のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版原版。
12. 前記凹凸構造が、複数の溝からなる凹部と前記凹部以外の凸部とからなる請求項８〜１１のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版。
13. 前記レリーフ形成層の形成材料が、結晶性ポリマーを含む請求項８〜１２のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版原版。
14. 前記結晶性ポリマーが、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、および、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる群から選択される少なくとも１種の結晶性ポリマーである請求項１３に記載のフレキソ印刷版原版。
15. 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、
    レーザー彫刻用樹脂組成物を用いてレリーフ形成層を形成する層形成工程と、
    前記レリーフ形成層にレーザー彫刻を施して、前記非画像部と表面に前記凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得る彫刻工程と、を有することを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
16. 前記層形成工程と前記彫刻工程との間に、レーザー彫刻用樹脂組成物を架橋する架橋工程を有する請求項１５に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
17. 前記凹凸構造は、複数の溝からなる凹部と凹部以外の凸部とから構成される構造であり、
    前記彫刻工程において、主走査方向のみに彫刻を行って前記溝を形成する請求項１５または１６に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
18. 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備えるレリーフ層を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、
    感光性樹脂組成物からなるレリーフ形成層とアブレーション層をこの順に有する積層体を準備する準備工程と、
    前記アブレーション層にレーザーを照射して、アブレーション層の、レーザーが照射された部分を除去し、所望の形状のマスクを形成するマスク形成工程と、
    前記レリーフ形成層に前記マスクを介して紫外線を照射し、レリーフ形成層を硬化させる露光工程と、
    前記レリーフ形成層の、前記露光工程により硬化されなかった部分を除去し、レリーフ層を形成し、フレキソ印刷版を得る現像工程と、を有することを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
19. 表面に凹凸構造が形成されたレリーフ形成層を有する、請求項８〜１４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版原版を製造するフレキソ印刷版原版の製造方法であって、
    レーザー彫刻用樹脂組成物を用いて未架橋レリーフ形成層を形成する層形成工程と、
    未架橋レリーフ形成層を架橋して架橋レリーフ形成層を形成する架橋工程と、
    前記架橋工程の後に、転写により前記架橋レリーフ形成層の表面に前記凹凸構造を形成して、フレキソ印刷版原版を得る凹凸形成工程と、を有することを特徴とするフレキソ印刷版原版の製造方法。
20. 非画像部と表面に凹凸構造が形成された画像部とを備える架橋レリーフ層を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版を製造するフレキソ印刷版の製造方法であって、
    請求項１９に記載されたフレキソ印刷版原版の製造方法で作製されたフレキソ印刷版原版の前記架橋レリーフ形成層の前記非画像部となる部分をレーザー彫刻し、前記非画像部と表面に前記凹凸構造が形成された前記画像部を備える前記レリーフ層を有するフレキソ印刷版を作製する、フレキソ印刷版の製造方法。