JPWO2017086084A1 - 分離膜の補修方法及び分離膜構造体の製造方法 - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 172
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 145
- 230000008439 repair process Effects 0.000 title claims abstract description 130
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 94
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 238000007605 air drying Methods 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 117
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 68
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 63
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 38
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 38
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 24
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 19
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229960003805 amantadine Drugs 0.000 description 2
- -1 and the like Chemical compound 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical group O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- DKNWSYNQZKUICI-UHFFFAOYSA-N amantadine Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(N)C3 DKNWSYNQZKUICI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/10—Testing of membranes or membrane apparatus; Detecting or repairing leaks
- B01D65/106—Repairing membrane apparatus or modules
- B01D65/108—Repairing membranes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0088—Physical treatment with compounds, e.g. swelling, coating or impregnation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
- B01D69/108—Inorganic support material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/028—Molecular sieves
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Abstract
Description
図1は、分離膜構造体10の構成を示す断面図である。分離膜構造体10は、支持体20、分離膜30及び補修部40を備える。
支持体20は、分離膜30を支持する。支持体20は、表面に分離膜30を膜状に形成(結晶化、塗布、或いは析出)できるような化学的安定性を有する。支持体20は、セラミックスの焼結体である。セラミックスとしては、アルミナ、シリカ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア、窒化ケイ素、炭化ケイ素などが挙げられる。
分離膜30は、支持体20上に形成される。分離膜30は、無機材料、有機材料、金属材料、或いはこれらの複合材料によって構成することができる。耐熱性や耐有機溶媒性を考慮すると、分離膜30としては、ゼオライト膜、チタニア膜、シリカ膜及び炭素膜などの無機膜が好適であり、細孔径の分布を狭くしやすいゼオライト膜がより好適である。
補修部40は、欠陥31の内部に配置される。補修部40は、欠陥31に充填されていることが好ましい。補修部40が欠陥31を塞ぐことによって、流体混合物に含まれる透過成分以外の成分が欠陥31を通過することが抑えられる。
分離膜構造体10の製造方法について説明する。
まず、押出成形法、プレス成形法あるいは鋳込み成形法などを用いて、支持体20の原料を所望の形状に成形することによって、支持体20の成形体を形成する。
次に、支持体20上に分離膜30を形成する。以下、分離膜30の一例としてゼオライト膜及びチタニア膜の形成方法について順に説明する。
まず、種結晶としてのゼオライトを予め支持体20の表面に塗布した後、シリカ源、アルミナ源、有機テンプレート、アルカリ源及び水などを含む原料溶液が入った耐圧容器に支持体20を浸漬する。
まず、金属アルコキシド(チタンテトライソプロポキシド)と硝酸又は塩酸の混合液を水と混合し、さらに予め硝酸と混合しておいたアルコール又は水と混合することによってチタニアゾル原液を得る。
・コロイド溶液の調製
まず、補修材粒子を水系溶媒に分散させることによってコロイド溶液を調製する。補修材粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子、ムライト粒子、ジルコニア粒子、イットリア粒子、窒化ケイ素粒子、炭化ケイ素粒子などのセラミックス粒子が挙げられる。
次に、コロイド溶液を所定pHに調整する。コロイド溶液のpHは、支持体20、分離膜30及び補修材粒子のゼータ電位に応じて生じる電荷を考慮して決定される。支持体20、分離膜30、補修材粒子のゼータ電位とは、それぞれがコロイド溶液の溶媒と接触した際に生じるゼータ電位である。また、支持体20、分離膜30、補修材粒子に生じる電荷とは、それぞれのゼータ電位の電荷である。コロイド溶液のpHに応じて、支持体20、分離膜30、及び補修部40を形成するための補修材粒子それぞれに生じるゼータ電位が変動するため、電荷の適切な関係が成立するようにコロイド溶液のpHを決定する必要がある。
次に、所定pHに調整したコロイド溶液を分離膜30の表面に付着させる。コロイド溶液を付着させる手法は特に限られないが、流下法や塗布法を用いることができる。
次に、分離膜30の表面に付着した余分なコロイド溶液を除去する。これによって、分離膜30の表面に残留する補修材粒子を低減して、分離膜30の分離係数が低減することを抑制できる。コロイド溶液の除去方法は特に限られず、コロイド溶液をブロワーなどで吹き払ってもよいし、コロイド溶液を直接的に拭き取ってもよい。
(1)サンプルNo.1
以下のようにして、サンプルNo.1に係る分離膜構造体を作製した。
まず、平均粒径50μmのアルミナ粒子(骨材)に、水、分散剤、及び増粘剤を加えて混合し混練することにより圷土を調製した。
サンプルNo.1では、セルの内表面上に分離膜としてDDR型ゼオライト膜を形成した。
サンプルNo.1では、補修材用のコロイド溶液としてシリカゾルを用いることによって、DDR型ゼオライト膜の欠陥を補修した。
補修材用のシリカゾルのpHを10に調整した以外はサンプルNo.1と同じ工程にて、サンプルNo.2に係る分離膜構造体を作製した。
補修材用のシリカゾルのpHを4に調整した以外はサンプルNo.1と同じ工程にて、サンプルNo.3に係る分離膜構造体を作製した。
ムライト粒子を骨材として支持体を形成し、補修材用のシリカゾルのpHを6に調整した以外はサンプルNo.1と同じ工程にて、サンプルNo.4に係る分離膜構造体を作製した。
ムライト粒子を骨材として支持体を形成し、補修材用のコロイド溶液であるシリカゾルのpHを4に調整した以外はサンプルNo.1と同じ工程にて、サンプルNo.5に係る分離膜構造体を作製した。
・支持体の形成
まず、サンプルNo.1と同じ支持体を形成した。
サンプルNo.6では、セルの内表面上に分離膜としてチタニア膜を形成した。
サンプルNo.6では、補修材用のコロイド溶液としてチタニアゾルを用いることによって、チタニア膜の欠陥を補修した。
補修材用のチタニアゾルのpHを8に調整した以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.7に係る分離膜構造体を作製した。
補修材用のコロイド溶液であるチタニアゾルのpHを4に調整した以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.8に係る分離膜構造体を作製した。
補修材用のコロイド溶液としてpH5のアルミナゾルを用いた以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.9に係る分離膜構造体を作製した。
補修材用のコロイド溶液としてpH5のジルコニアゾルを用いた以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.10に係る分離膜構造体を作製した。
シリカゾル液の代わりにアルミナゾル液を用いて支持体のセル内表面にUF層を形成した点と、補修材用のコロイド溶液としてpH4に調整したシリカゾルを用いた以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.11に係る分離膜構造体を作製した。
ジルコニア粒子を骨材として支持体を形成し、補修材用のコロイド溶液としてpH4に調整したシリカゾルを用いた以外はサンプルNo.6と同じ工程にて、サンプルNo.12に係る分離膜構造体を作製した。
サンプルNo.1〜5について、欠陥補修前後における分離膜構造体の透過量及び分離係数の変化について調べた。
サンプルNo.6〜12について、欠陥補修前後における分離膜構造体によるPEG(ポリエチレングリコール)の透過阻止率の変化を調べた。
サンプルNo.1−1〜1−6を作製して、補修用のコロイド溶液における補修材粒子の濃度が分離係数と透過量に与える影響を調べた。
20 支持体
30 分離膜
40 補修部
Claims (8)
- 補修材粒子を水系溶媒に分散させた所定pHのコロイド溶液を、支持体上に形成された分離膜の表面に付着する工程を備え、
前記所定pHにおいて、前記補修材粒子は、前記支持体と逆の符号の電荷を有する、
分離膜の補修方法。 - 前記所定pHにおいて、前記分離膜は、前記補修材粒子と同じ符号の電荷を有する、
請求項1に記載の分離膜の補修方法。 - 前記所定pHにおいて、前記分離膜のゼータ電位の絶対値は、前記補修材粒子のゼータ電位の絶対値以下である、
請求項2に記載の分離膜の補修方法。 - 前記コロイド溶液における前記補修材粒子の濃度は、0.01質量%以上20質量%以下である、
請求項1乃至3のいずれかに記載の分離膜の補修方法。 - 前記コロイド溶液を乾燥させる工程を備える、
請求項1乃至4のいずれかに記載の分離膜の補修方法。 - 前記コロイド溶液を自然乾燥させる、
請求項5に記載の分離膜の補修方法。 - 前記コロイド溶液を200℃以下で熱処理する、
請求項5に記載の分離膜の補修方法。 - 多孔質の支持体上に分離膜を形成する工程と、
補修材粒子を水系溶媒に分散させた所定pHのコロイド溶液を、支持体上に形成された分離膜の表面に付着させる工程と、
を備え、
前記所定pHにおいて、前記補修材粒子は、前記支持体と逆の符号の電荷を有する、
分離膜構造体の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015225299 | 2015-11-18 | ||
JP2015225299 | 2015-11-18 | ||
PCT/JP2016/081077 WO2017086084A1 (ja) | 2015-11-18 | 2016-10-20 | 分離膜の補修方法及び分離膜構造体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017086084A1 true JPWO2017086084A1 (ja) | 2018-09-06 |
JP6767995B2 JP6767995B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=58718849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017551785A Active JP6767995B2 (ja) | 2015-11-18 | 2016-10-20 | 分離膜の補修方法及び分離膜構造体の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11471836B2 (ja) |
JP (1) | JP6767995B2 (ja) |
CN (1) | CN108290123B (ja) |
DE (1) | DE112016005301T5 (ja) |
WO (1) | WO2017086084A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113083040B (zh) * | 2021-04-23 | 2022-03-01 | 兰州理工大学 | 一种烟灰碳基复合膜材料的制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000507909A (ja) * | 1996-03-14 | 2000-06-27 | エクソン ケミカル パテンツ インコーポレイテッド | モレキュラーシーブフィルムの調製方法 |
JP2003290636A (ja) * | 2002-04-03 | 2003-10-14 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質基体上に成膜された膜の欠陥修復方法並びに膜の欠陥が修復された膜分離体及びガス分離体 |
JP2009520594A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-05-28 | アレバ エヌペ | 三価元素を添加したシリカ系微孔質シリカ層を含むガス分離膜 |
JP2010506700A (ja) * | 2006-10-18 | 2010-03-04 | 日本碍子株式会社 | セラミックフィルタの製造方法 |
WO2014069676A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-08 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜構造体、およびその補修方法 |
WO2014156579A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜構造体、およびその製造方法 |
US20150136676A1 (en) * | 2013-11-21 | 2015-05-21 | Oasys Water, Inc. | Systems and methods for repairing membranes and improving performance of osmotically driven membrane systems |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4355478B2 (ja) | 2002-08-29 | 2009-11-04 | 日本碍子株式会社 | Ddr型ゼオライトの製造方法 |
GB2409129B (en) | 2003-12-13 | 2006-06-21 | Motorola Inc | Apparatus and method of direct mode radio communication |
JP2005288266A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Kurita Water Ind Ltd | 分離膜、その製造方法及び水処理装置 |
BRPI0719873A2 (pt) * | 2006-12-07 | 2014-04-15 | Grace W R & Co | Composições catalisadoras de craqueamento catalítico tendo conversão de bases. |
JP5068788B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2012-11-07 | 三井造船株式会社 | 一端封止型ゼオライト膜用基体管 |
JP2013059714A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Waseda Univ | 支持体−ゼオライト膜複合体の製造方法 |
-
2016
- 2016-10-20 JP JP2017551785A patent/JP6767995B2/ja active Active
- 2016-10-20 DE DE112016005301.0T patent/DE112016005301T5/de active Pending
- 2016-10-20 WO PCT/JP2016/081077 patent/WO2017086084A1/ja active Application Filing
- 2016-10-20 CN CN201680056179.XA patent/CN108290123B/zh active Active
-
2018
- 2018-05-07 US US15/972,687 patent/US11471836B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000507909A (ja) * | 1996-03-14 | 2000-06-27 | エクソン ケミカル パテンツ インコーポレイテッド | モレキュラーシーブフィルムの調製方法 |
JP2003290636A (ja) * | 2002-04-03 | 2003-10-14 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質基体上に成膜された膜の欠陥修復方法並びに膜の欠陥が修復された膜分離体及びガス分離体 |
JP2009520594A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-05-28 | アレバ エヌペ | 三価元素を添加したシリカ系微孔質シリカ層を含むガス分離膜 |
JP2010506700A (ja) * | 2006-10-18 | 2010-03-04 | 日本碍子株式会社 | セラミックフィルタの製造方法 |
WO2014069676A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-08 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜構造体、およびその補修方法 |
WO2014156579A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜構造体、およびその製造方法 |
US20150136676A1 (en) * | 2013-11-21 | 2015-05-21 | Oasys Water, Inc. | Systems and methods for repairing membranes and improving performance of osmotically driven membrane systems |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112016005301T5 (de) | 2018-08-02 |
CN108290123B (zh) | 2021-03-26 |
CN108290123A (zh) | 2018-07-17 |
WO2017086084A1 (ja) | 2017-05-26 |
JP6767995B2 (ja) | 2020-10-14 |
US11471836B2 (en) | 2022-10-18 |
US20180250639A1 (en) | 2018-09-06 |
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|
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