JPWO2017034023A1

JPWO2017034023A1 - 複合体及び光学素子

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Publication number: JPWO2017034023A1
Application number: JP2017536489A
Authority: JP
Inventors: 山本　潤; 潤山本; 真澄山下; 和希阪辻; 陽一高西; 加藤　省吾; 省吾加藤; 菊池　裕嗣; 裕嗣菊池; 泰志奥村; 博紀樋口; リゼーシュキヤキダターヤット; 天心神崎; 優大川島; 銀平町田; 浩矢西川; 宮地　弘一; 弘一宮地; 箕浦　潔; 潔箕浦
Original assignee: DIC Corp; Kyushu University NUC; Kyoto University; Sharp Corp
Current assignee: DIC Corp; Kyushu University NUC; Kyoto University; Sharp Corp
Priority date: 2015-08-27
Filing date: 2016-08-26
Publication date: 2018-06-14
Anticipated expiration: 2036-08-26
Also published as: WO2017034023A1; US20200241336A1; US10914987B2; JP6842069B2

Abstract

液晶成分（１３）及び液晶成分（１３）の支持体（１１，１２）を有し、液晶成分（１３）及び支持体（１１，１２）の間に潤滑界面誘導領域（１６）を有する複合体（１０）。少なくとも一方の基板（１１）に電極（１８，１９）を有する一対の基板（１１，１２）と、一対の基板（１１，１２）の間に充填された液晶成分（１３）とを備え、一対の基板（１１，１２）及び液晶成分（１３）の間に潤滑界面誘導領域（１６）を有する光学素子。潤滑界面誘導領域に潤滑界面誘導剤（１４）を有することが好ましい。

Description

本発明は、複合体及び光学素子に関する。

時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等の様々な分野に“液晶”が現在使用されている。このような“液晶”とは、一般に、液体の流動性と、結晶の異方性とを合わせもつ相を言い、分子配列パターンからネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶に分類されている。ネマチック液晶は、例えば、ＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いたＶＡ（垂直配向）型、ＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型、またはＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）型等の液晶表示素子（いわゆる液晶ディスプレイ）などに使用され市場において数多く流通している。

また、現在、３Ｄ対応、あるいは周辺機器・装置への負荷低減の観点から、液晶の高速応答性及び低電圧駆動性の向上が重要な開発課題となっている。これまでに、ネマチック液晶の物性改良やパネルの改良による高速化が検討されているが、ネマチック液晶以外の高速液晶の開発も盛んである。ネマチック液晶以外であって高速応答が可能となる液晶としては、現在、強誘電性液晶（ＦＬＣ）、ブルー相等の光学的に等方性の液晶相（光学的等方性相）を示す液晶、二軸性液晶等が知られている。

いずれの液晶であっても、テレビなどの表示素子に液晶を応用する場合において、動画を表示素子に表示する場合は、色の切り替わりが速い描画を求められるため、どうしても液晶の高速応答特性が重視される。また、省エネルギーの観点から、液晶は低電圧で駆動することも重視される。

特表２００８−５０５２３５号公報

本発明は、低電圧駆動性に優れる光学素子の提供を目的とする。

本発明は、以下の態様を包含するものである。
（１）液晶成分及び前記液晶成分の支持体を有し、前記液晶成分及び前記支持体の間に潤滑界面誘導領域を有する複合体。
（２）前記支持体が、少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板、液晶成分中に存在する高分子構造体、液晶の欠陥領域を補充する高分子構造体及び／又は高分子薄膜である前記（１）に記載の複合体。
（３）前記液晶成分と、前記潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成している前記（１）又は（２）に記載の複合体。
（４）前記潤滑界面誘導領域に潤滑界面誘導剤を有する前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の複合体。
（５）前記潤滑界面誘導剤が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体である前記（４）に記載の複合体。
（６）前記潤滑界面誘導剤が高分子化合物であり、前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有する前記（５）に記載の複合体。

（７）少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板と、前記一対の基板の間に充填された液晶成分とを備え、前記一対の基板及び前記液晶成分の間に潤滑界面誘導領域を有する光学素子。
（８）前記潤滑界面誘導領域に潤滑界面誘導剤を有する前記（７）に記載の光学素子。
（９）前記液晶成分と、前記潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成している前記（７）に記載の光学素子。
（１０）前記潤滑界面誘導剤が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体である前記（８）に記載の光学素子。
（１１）前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有する前記（１０）に記載の光学素子。
（１２）前記液晶成分及び前記潤滑界面誘導剤が相分離構造を発現して、前記液晶成分が液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が液体相を形成している前記（８）に記載の光学素子。
（１３）前記潤滑界面誘導剤が、前記一対の基板の内側の少なくとも一表面の近傍に偏在して液体相を形成している、前記（８）に記載の光学素子。
（１４）前記一対の基板の少なくとも一方の内側が、前記潤滑界面誘導剤に対して親和性の良い高分子化合物成分からなる被膜により被覆され、前記潤滑界面誘導剤が、前記被膜の近傍に偏在して液体相を形成している、前記（８）に記載の光学素子。
（１５）前記液晶相がネマチック液晶相である、前記（１２）に記載の光学素子。
（１６）前記液晶成分が、高分子化合物成分からなるネットワークにより安定化された光学的等方性の液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が、前記ネットワークの表面の近傍に偏在して液体相を形成している、前記（８）に記載の光学素子。
（１７）前記液晶成分が、二重ねじれシリンダー構造を有する光学的等方性の液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が、前記二重ねじれシリンダー構造の間のディスクリネーションに偏在して液体相を形成している、前記（８）に記載の光学素子。
（１８）前記液晶成分が電界無印加時に光学的等方性を示し、電界印加時に光学的異方性を示す、前記（１６）又は（１７）に記載の光学素子。
（１９）前記液晶成分がコレステリックブルー相を示す、前記（１６）〜（１８）のいずれか１項に記載の光学素子。
（２０）前記液晶成分及び前記潤滑界面誘導剤が、自己組織化して相分離構造を発現している、前記（８）に記載の光学素子。
（２１）
前記一方の基板における対向基板側に設けられた第１電極及び第２電極を備え、前記第１電極と前記第２電極との間に電界を発生させる前記（７）〜（２０）のいずれか１項に記載の光学素子。
（２２）前記第１電極及び前記第２電極が、前記一対の基板の間にインプレーン電界を発生させる前記（２１）に記載の光学素子。
（２３）前記第１電極及び前記第２電極が、前記一対の基板の間にフリンジ電界を発生させる前記（２１）に記載の光学素子。
（２４）更に、第３電極を備え、複数の向きの電界を発生させる前記（２１）〜（２３）のいずれか１項に記載の光学素子。
（２５）更に、第４電極を備え、複数の向きの電界を発生させる前記（２４）に記載の光学素子。

本発明の光学素子は、液晶成分が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、潤滑界面誘導剤が駆動外場の閾値を低減させる作用を有し、低電圧駆動性に優れる。

本発明の第１実施形態における光学素子の例を示す概略断面図である。本発明の第２実施形態における光学素子の例を示す概略断面図である。低温（ａ，ｂ）と高温（ｃ，ｄ）の２つの温度において、外部磁場を印加した際の配向の変化を観察した様子を示す偏光顕微鏡写真である。複数のセル厚の試料における閾値磁場の温度依存性を示すグラフである。液晶セルを回転させたときの複屈折透過光の観察結果を示すグラフである。本発明の一実施形態における光学素子の例を示す概略図（ａ）と、それに電界を印加した様子を示す概略図（ｂ）である。横電界タイプの液晶パネルのアクティブマトリクス基板１２０ａの例を模式的に示す概略平面図である。横電界タイプの液晶パネルのアクティブマトリクス基板１２０ａの例を模式的に示す概略平面図である。屈曲の角度が９０度であるアクティブマトリクス基板７０の例を模式的に示す概略平面図である。フリンジフィールドタイプの光学素子の例を示す概略断面図である。横電界発生時における断面模式図である。縦電界発生時における断面模式図である。光学素子の例を示す概略平面図である。図１３の要部を拡大して示す概略平面図である。本発明の光学素子を液晶表示装置に応用する例を示す概略断面図である。液晶分子が櫛歯電極の長手方向に直交する方向に一様に配向する様子を示す偏光顕微鏡写真である。偏光顕微鏡下において電圧印加をしながら透過光量を観測した結果示すグラフである。本発明の一実施形態における光学素子の例を示す概略図である。横電界発生時における断面模式図である。縦電界発生時における断面模式図である。光学素子の他の例を示す概略平面図である。図２１の光学素子の黒表示における液晶配向の様子を示す概略平面図である。図２１の光学素子の白表示における液晶配向の様子を示す概略平面図である。等方相−ブルー相の転移点付近における透過光量比を観測した結果を示すグラフである。図２４の結果を等方相‐ブルー相の転移点からの温度で規格化して示したグラフである。階段波形印加時の電気光学測定の結果である。

以下、本発明に係る複合体の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における複合体１０を示す概略断面図である。

本実施形態に係る発明は、少なくとも一方の基板１１に電極１８，１９を有する一対の基板１１，１２と、一対の基板１１，１２の間に充填された液晶成分１３とを備え、一対の基板１１，１２及び液晶成分１３の間に潤滑界面誘導領域１６を有する複合体１０である。複合体１０は光学素子であってもよい。本実施形態に係る発明は、潤滑界面誘導領域１６に潤滑界面誘導剤１４を有することが好ましい。本実施形態に係る発明において、液晶成分１３と、前記潤滑界面誘導領域１６との界面がスリッパリー界面１７を形成していることが好ましい。潤滑界面誘導剤１４は、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体であることが好ましい。前記高分子化合物は、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有することが好ましい。液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４が相分離構造を発現して、液晶成分１３が液晶相１５を形成し、潤滑界面誘導剤１４が潤滑界面誘導領域１６において液体相を形成していることが好ましい。潤滑界面誘導剤１４が潤滑界面誘導領域１６において液晶相１５より低秩序なゲル層を形成していてもよい。

本明細書において、潤滑界面誘導領域とは、潤滑界面を誘導する領域であって、液晶相よりも低秩序な領域をいう。
潤滑界面誘導領域は、潤滑界面誘導液体領域であっても良い。潤滑界面誘導液体領域とは、潤滑界面誘導領域のうち、液体相である領域をいう。
潤滑界面誘導領域としては、潤滑界面誘導液体領域（液体相）に限らず、ゲル層を形成している領域、オーダーパラメーター（配向秩序度）が低い領域、透明点が低下している領域、一部無秩序領域を含む秩序領域、運動性が高い領域を含む領域などであってもよい。
これらの領域は潤滑界面誘導剤を含むことが好ましく、潤滑界面誘導剤だけで形成されていてもよく、潤滑界面誘導剤と液晶成分であってもよく、さらに、潤滑界面誘導剤は、液晶中に含まれていてもよく、液晶とは別に導入されてもよく、あらかじめ支持体に含まれていてもよく、あらかじめ化学修飾させて、支持体と結合していてもよい。

本実施形態に係る発明は、少なくとも一方の基板１１に電極１８，１９を有する一対の基板１１，１２と、一対の基板１１，１２の間に充填された液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４と、を備える光学素子であって、液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４が相分離構造を発現して、液晶成分１３が液晶相１５を形成し、潤滑界面誘導剤１４が液体相を形成し、液晶成分１３が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、液晶相１５と液体相との界面がスリッパリー界面１７を形成している。図１では、スリッパリー界面１７が、一対の基板１１，１２の両方の側に形成されている場合を示したが、本実施形態における光学素子は、例えば、電極１８，１９を有する一方の基板１１の側にのみスリッパリー界面１７が形成されて、電極を有しない他方の基板１２の側にはスリッパリー界面１７が形成されない実施態様であっても良い。

図１の複合体１０は、本実施形態における液晶成分１３及び液晶成分１３の支持体１１，１２を有し、液晶成分１３及び支持体１１，１２の間に潤滑界面誘導領域１６を有する。複合体１０は光学素子であってもよい。
前記複合体において、支持体１１，１２は、少なくとも一方の基板に電極１８，１９を有する一対の基板であってもよく、高分子薄膜であってもよい。前記複合体において、液晶成分１３と、前記潤滑界面誘導領域１６との界面がスリッパリー界面１７を形成していることが好ましい。前記複合体において、前記潤滑界面誘導領域１６に潤滑界面誘導剤１４を有することが好ましい。前記複合体において、潤滑界面誘導剤１４が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体であることが好ましい。潤滑界面誘導剤１４が高分子化合物であり、前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有することが好ましい。

本明細書において、スリッパリー界面とは、液晶相と液体相と間に形成される滑り易い界面を云う。

液晶と接する界面すべてがスリッパリー界面であってもよいし、一部の界面がスリッパリーであってもよい。一部の界面をスリッパリー界面とするには、液晶と接する界面で、連続していない界面の一方の界面をスリッパリー界面としてもよいし、液晶と接する連続した界面の一部をスリッパリー界面としてもよい。いずれの場合も、液晶と接する界面をスリッパリー化する方法としては、潤滑界面誘導領域を潤滑界面誘導剤だけで形成させてもよく、潤滑界面誘導領域を潤滑界面誘導剤と液晶成分で形成させてもよく、さらに、潤滑界面誘導剤をあらかじめ液晶中に含ませていてもよく、潤滑界面誘導剤を液晶とは別に導入させてもよく、あらかじめ潤滑界面誘導剤を支持体に含ませていてもよく、あらかじめ潤滑界面誘導剤を化学修飾させて、支持体と結合させていてもよい。液晶と接する界面で、連続していない界面の一方をスリッパリー界面とするには、２つの基板の界面の性質を前記方法により異なる性質にすることが好適である。

もちろん、連続していない界面の一方の界面の一部の領域をスリッパリー界面としてもよい。一部の界面をスリッパリー界面とすることにより、液晶と界面のアンカーリングをある程度保ったまま、スリッパリー界面の効果である液晶分子が外場に対して応答しやすくなる効果を発現することができるようになる。その結果、外場を除去したあと液晶の弾性力により元の配向に復元する力は保ちながらも、液晶分子が応答しやすくなることによる、小さな外場力（電界の場合は低い電界）による応答、あるいは、外場に高速で対応する高速応答等の機能を得ることができる。弾性力由来の配向復元力と、界面のスリッパリー化による応答性のバランスは、界面のスリッパリー化の割合を変化させることにより達成できる。例えば、強い配向復元力を望む場合には、界面のスリッパリー化の割合を小さくすればよいし、低電界で応答することを望む場合には界面のスリッパリー化の割合を大きくすればよい。

本実施形態における光学素子は、液晶成分１３が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、液晶相１５と潤滑界面誘導領域１６との界面がスリッパリー界面１７を形成していることにより、潤滑界面誘導剤が駆動外場の閾値を低減させる作用を有し、低電圧駆動性に優れる。

潤滑界面誘導剤１４が、一対の基板１１、１２の内側の少なくとも一表面２０の近傍に偏在して液体相を形成していてもよい。このとき、潤滑界面誘導剤１４が一対の基板１１、１２の内側の少なくとも一表面に対して親和性が良いことが好ましい。液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４が、自己組織化して相分離構造を発現する際に、潤滑界面誘導剤１４が、一対の基板１１、１２の内側の表面２０の近傍に偏在するよう、液晶成分１３、潤滑界面誘導剤１４、及び一対の基板１１、１２の内側の表面２０の特性の組み合わせを適宜選択することができる。

潤滑界面誘導剤が、基板の内側表面に対して親和性が良いことにより、自発的に基板の内側表面付近に潤滑界面誘導剤の高い濃度領域が実現される。また、潤滑界面誘導剤は、ぬれ性・温度安定性を確保するために液晶相を形成する液晶成分に対して十分な親和性を有することが好ましい。液晶成分に対する親和性が弱いと、液晶相から排除され、界面は「垂直配向」になったり、「ＤｅＷｅｔ（界面張力が高くドロップレット状に集合する）状態」となったりして好適なスリッパリー界面を形成することができない。液晶成分に対して十分な親和性を有することにより、スリッパリー界面を形成することが可能となる。

潤滑界面誘導剤が、基板の内側表面に対して親和性が良く、かつ、液晶成分に対して十分な親和性を有することにより、スリッパリー界面を形成することが可能となる。
一般に、上の２つの条件は合い入れないものとなり、微妙な条件となるが、例えば、界面活性剤に類似の化合物を利用することにより、これを達成できる。分子の一方に基板の内側表面に対して親和性の良い官能基を有し、他方に液晶成分に対して十分な親和性を有する官能基を有する化合物を潤滑界面誘導剤として用いることもできる。

たとえば、一対の基板１１、１２の少なくとも一方の内側を、潤滑界面誘導剤１４に対して親和性の良い高分子化合物成分２１からなる被膜２２により被覆することにより、液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４が、自己組織化して相分離構造を発現する際に、潤滑界面誘導剤１４が、被膜２２の近傍に偏在して液体相を形成させることができる。

潤滑界面誘導剤は、自発的な相分離の状態で用いることもできるし、自発的な相分離の状態を保持する処方を施した状態で用いることもできる。自発的な相分離の状態を保持する方法としては、潤滑界面誘導剤に重合性官能基を導入し、相分離状態で重合することにより、高分子を形成する方法がある。高分子の形成そのものが、潤滑界面誘導剤の位置を保持することに有効であるし、潤滑界面誘導剤に複数の重合性基を導入することにより形成した高分子が三次元網目構造をつくることによる保持も有効であるし、高分子が周囲の液晶分子と相互作用することにより局所的なゲル状態を作ることも保持には有効である。

あるいは、液晶と接する界面として重合性官能基を有する界面を用い、潤滑界面誘導剤が相分離した状態で重合することにより、界面近傍に潤滑界面誘導剤を保持することもできるし、潤滑界面誘導剤にも重合性官能基を導入しておけば液晶と接する界面に存在する重合性官能基との反応により、界面近傍に潤滑界面誘導剤を保持することができる。重合性官能基を有する界面としては、界面に重合性官能基を有する化合物を化学的又は物理的に結合させたものでもよいし、界面を変質させて重合性官能基を生じさせたものでもよい。
この場合も、形成した高分子が三次元網目構造をつくることによる保持も有効であるし、高分子が周囲の液晶分子と相互作用することにより局所的なゲル状態を作ることも保持には有効である。

基板１１、１２としてガラス基板を用いることが好ましい。ガラス基板を用いた場合は、潤滑界面誘導剤が極性基を持つとガラス基板との親和性が高くなり、ガラス表面近傍に偏在しやすくなり、配向膜を不要とすることができる。
基板１１、１２として高分子フィルムを用いることもできる。これは、ガラス基板の表面を高分子で被覆したのと同じ効果になる。高分子フィルムあるいは高分子化合物成分２１からなる被膜２２が極性基を有する材料の場合は、後述の極性基を有する潤滑界面誘導剤を用いることが好ましい。このとき、高分子フィルムあるいは被膜２２が有する極性基と潤滑界面誘導剤が有する極性基とは同じでも異なっていてもよい。
また、高分子フィルムあるいは被膜２２に用いられたポリマーのモノマー成分と構造の類似した構造を有する材料が潤滑界面誘導剤としては好ましい。

下記式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１７）で表される重合性基（破線は他の有機基への結合を表し、Ｒは独立して水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）を有するモノマーの重合体が高分子フィルムあるいは被膜２２の一成分である場合、潤滑界面誘導剤としては、同じ重合性基を有する同じモノマー、若しくは当該モノマーの重合体、又は当該重合性基中のＣ＝Ｃ結合の一部あるいは全てがＣ−Ｃ結合に置き換わったモノマー類似化合物が好ましい。

本実施形態においては、一対の基板１１、１２の少なくとも一方の内側に、潤滑界面誘導剤１４に対して親和性の良い界面を設けることが重要であり、それにより、潤滑界面誘導剤１４が、被膜２２の近傍に偏在して液体相を形成させることができる。
また、液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４が相分離構造を発現して、液晶成分１３が液晶相１５を形成し、潤滑界面誘導剤１４が液体相を形成するに際して、液体相は潤滑界面誘導剤１４からなる相であってもよく、液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４からなる相であってもよいが、液晶成分１３、潤滑界面誘導剤１４、及び一対の基板１１、１２の内側の表面２０の好ましい特性の組み合わせの幅が拡がることから、液体相は液晶成分１３及び潤滑界面誘導剤１４からなる相であることが好ましい。

本実施形態において、液晶相１５は、ネマチック液晶相であることが好ましい。また、液晶相１５と液体相との界面の、液晶相１５側の近傍において、ネマチック液晶の構成分子が水平配向することが好ましい。

本実施形態の光学素子において、一方の基板１１における対向基板１２側に設けられた第１電極１８及び第２電極１９を備え、第１電極１８と第２電極１９との間に電界を発生させる構成とすることができる。

本実施形態の光学素子において、第１電極１８及び第２電極１９が、一対の基板１１，１２の間にインプレーン電界を発生させる構成とすることができる。

「液晶成分１３」
本実施形態において、液晶成分１３は、潤滑界面誘導剤と共に前記一対の基板の間に充填され、相分離構造を発現して液晶相を形成する。
本実施形態における液晶成分１３は、ネマチック液晶、コレステリック液晶およびスメチック液晶からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、ネマチック液晶組成物、コレステリック液晶組成物およびスメチック液晶組成物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
本発明において、液晶成分は、室温で液晶相を示すことが好ましい。
本発明において、液晶成分の透明点が６０℃以上であることが好ましい。
本発明において、液晶成分が少なくとも２種以上の液晶性化合物を含有してもよい。

本発明の光学素子において、液晶成分に用いられる液晶性化合物としては、下記一般式（ＬＣ）で表される化合物を含有することが好ましい。

（一般式（ＬＣ）中、Ｒ^ＬＣは炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子に置換されていてもよく、
Ａ^ＬＣ１及びＡ^ＬＣ２は、それぞれ独立して、
（ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個のＣＨ_２基又は隣接していない２個以上のＣＨ_２基は酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。）、
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個のＣＨ基又は隣接していない２個以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよい。）、及び
（ｃ）１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、又はクロマン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表すが、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）に含まれる１つ又は２つ以上の水素原子はそれぞれ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ_３又はＯＣＦ_３で置換されていてもよく、
Ｚ^ＬＣは単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−（Ｎ^＋（Ｏ⁻）Ｎ）−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
Ｙ^ＬＣは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、及び炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、
ａは１〜４の整数を表すが、ａが２、３又は４を表し、Ａ^ＬＣ１が複数存在する場合、複数存在するＡ^ＬＣ１は、同一であっても異なっていても良く、Ｚ^ＬＣが複数存在する場合、複数存在するＺ^ＬＣは、同一であっても異なっていても良い。）

前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ１）及び一般式（ＬＣ２）

（式中、Ｒ^ＬＣ１１及びＲ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、Ａ^ＬＣ１１、及びＡ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して下記の何れかの構造

（該構造中、シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は酸素原子で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の１つ又は２つ以上の水素原子はＦ、Ｃｌ、ＣＦ_３又はＯＣＦ_３で置換されていてもよい。）を表し、Ｘ^ＬＣ１１、Ｘ^ＬＣ１２、Ｘ^ＬＣ２１〜Ｘ^ＬＣ２３はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＦ_３又はＯＣＦ_３を表し、Ｙ^ＬＣ１１及びＹ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＮ、ＣＦ_３、ＯＣＨ_２Ｆ、ＯＣＨＦ_２又はＯＣＦ_３を表し、Ｚ^ＬＣ１１及びＺ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｍ^ＬＣ１１及びｍ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して１〜４の整数を表し、Ａ^ＬＣ１１、Ａ^ＬＣ２１、Ｚ^ＬＣ１１及びＺ^ＬＣ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）
で表される化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。

Ｒ^ＬＣ１１及びＲ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基がより好ましく、直鎖状であることが更に好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましい。

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
Ａ^ＬＣ１１及びＡ^ＬＣ２１はそれぞれ独立して下記の構造が好ましい。

Ｙ^ＬＣ１１及びＹ^ＬＣ２１はそれぞれ独立してＦ、ＣＮ、ＣＦ_３又はＯＣＦ_３が好ましく、Ｆ又はＯＣＦ_３が好ましく、Ｆが特に好ましい。
Ｚ^ＬＣ１１及びＺ^ＬＣ２１は単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−が好ましく、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−が好ましく、単結合、−ＯＣＨ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−がより好ましい。
ｍ^ＬＣ１１及びｍ^ＬＣ２１は１、２又は３が好ましく、低温での保存安定性、応答速度を重視する場合には１又は２が好ましく、ネマチック相上限温度の上限値を改善するには２又は３が好ましい。

また、前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ３）〜一般式（ＬＣ５）

（式中、Ｒ^ＬＣ３１、Ｒ^ＬＣ３２、Ｒ^ＬＣ４１、Ｒ^ＬＣ４２、Ｒ^ＬＣ５１及びＲ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、Ａ^ＬＣ３１、Ａ^ＬＣ３２、Ａ^ＬＣ４１、Ａ^ＬＣ４２、Ａ^ＬＣ５１及びＡ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して下記の何れかの構造

（該構造中シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は酸素原子で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の１つ又は２つ以上の水素原子はＣｌ、ＣＦ_３又はＯＣＦ_３で置換されていてもよい。）のいずれかを表し、Ｚ^ＬＣ３１、Ｚ^ＬＣ３２、Ｚ^ＬＣ４１、Ｚ^ＬＣ４２、Ｚ^ＬＣ５１及びＺ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−を表し、Ｚ^５はＣＨ_２基又は酸素原子を表し、Ｘ^ＬＣ４１は水素原子又はフッ素原子を表し、ｍ^ＬＣ３１、ｍ^ＬＣ３２、ｍ^ＬＣ４１、ｍ^ＬＣ４２、ｍ^ＬＣ５１及びｍ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して０〜３を表し、ｍ^ＬＣ３１＋ｍ^ＬＣ３２、ｍ^ＬＣ４１＋ｍ^ＬＣ４２及びｍ^ＬＣ５１＋ｍ^ＬＣ５２は１、２又は３であり、Ａ^ＬＣ３１〜Ａ^ＬＣ５２、Ｚ^ＬＣ３１〜Ｚ^ＬＣ５２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。

Ｒ^ＬＣ３１〜Ｒ^ＬＣ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
Ａ^ＬＣ３１〜Ａ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、

Ｚ^ＬＣ３１〜Ｚ^ＬＣ５２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＯＣＨ_２−が好ましい。

前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ６）

（式中、Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン置換されていてもよく、Ａ^ＬＣ６１〜Ａ^ＬＣ６３はそれぞれ独立して下記

（該構造中シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２ＣＨ_２基は−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよい。）のいずれかを表し、Ｚ^ＬＣ６１及びＺ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−を表し、ｍＬＣ６１は０〜３を表す。ただし、一般式（ＬＣ１）〜一般式（ＬＣ６）で表される化合物を除く。）で表される化合物を１種又は２種以上含有する液晶組成物が好ましい。
Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
Ａ^ＬＣ６１〜Ａ^ＬＣ６３はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、

Ｚ^ＬＣ６１及びＺ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＦ_２Ｏ−が好ましい。

（式中、Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数２〜７のアルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのがより好ましい。

本発明に使用する液晶成分は、液晶化合物からなるものでもよく、液晶組成物からなるものでもよく、液晶化合物又は液晶組成物を含有するものでもよく、ネマチック液晶組成物と、少なくとも１種類のキラル化合物とを含むブルー相、若しくは、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相を形成するものであってもよい。

「潤滑界面誘導剤」
潤滑界面誘導剤は、潤滑界面誘導領域の形成を誘導する一成分である。本発明において、潤滑界面誘導剤は、前記一対の基板の間に充填され、液晶成分と共に相分離構造を発現して潤滑界面誘導領域を形成する。潤滑界面誘導剤は、前記一対の基板の間に充填され、液晶成分と共に相分離構造を発現して液体相を形成してもよい。潤滑界面誘導剤のみによって液体相が形成されてもよいが、潤滑界面誘導剤が前記液晶成分と共に液体相を形成してもよい。本発明の光学素子において、液晶成分が形成する液晶相と潤滑界面誘導剤によって形成された液体相との界面は、前記液晶成分が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、スリッパリー界面として機能する。

液晶相の近傍に潤滑界面誘導領域が形成されて、液晶相と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成する。潤滑界面誘導領域は、例えば、低秩序相又は無秩序相として、発現する。低秩序相の例として例えばゲル層がある、無秩序相として例えば液体相がある。潤滑界面誘導剤は、ぬれ性・温度安定性を確保するために液晶相を形成する液晶成分に対して十分な親和性を有することが好ましい。液晶成分に対する親和性が弱いと、液晶相から排除され、界面は「垂直配向」になったり、「ＤｅＷｅｔ（界面張力が高くドロップレット状に集合する）状態」となって好適なスリッパリー界面を形成することができない。液晶成分に対して十分な親和性を有することにより、スリッパリー界面を形成することが可能となる。

潤滑界面誘導剤は、極性基を有していてもよく、有していなくてもよい。
上述の通り、極性基を有する潤滑界面誘導剤はガラス基板表面との親和性が高くなり、ガラス基板表面の近傍に偏在しやすくなる。
極性基とは、電荷の偏りを持つ基あるいは、その基に隣接する原子に電荷の偏りを誘発する基であり、具体的には当該基の分子構造中に電気陰性度の異なる原子を有する基、あるいは隣接する原子と電気陰性度の異なる原子を当該基中に持つ基である。

潤滑界面誘導剤が有する極性基として以下の例を挙げることができる。
・ハロゲン基、好ましくは、クロロ基又はフルオロ基
・ハロゲンを含有する基、好ましくは、フルオロ−、クロロ−、ブロモ−、あるいは、ヨード−アルキル基、特に、フルオロ−、クロロ−アルキル基
・酸素を含有する基、好ましくは、エステル基、エーテル基、ヒドロキシ基、カルボニル基、ケトン基、アルデヒド基、炭酸エステル基、カルボキシレート基、カルボキシル基、カルボキシルエステル、特に好ましくは、エステル、エーテル、ヒドロキシ基、カルボニル基、
・窒素を含有する基、好ましくは、カルボキサミド基、アミノ基、イミン基、アミド基、イミド基、アジド基、アゾ基、シアネート基、イソシアネート基、ニトレート基、ニトリル基、イソニトリル基、ニトロソオキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、ピリジル基、
・硫黄を含有する基、好ましくは、スルフヒドリル基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルフィニル基、スルホニル基、スルフィノ基、スルホ基、チオシアネート基、イソチオシアネート基、カルボノチオイル基、
・リンを含有する基、好ましくは、ホスフィノ基、ホスホノ基、フォスフェート基、
・カチオン、アニオン、塩を含有する基

潤滑界面誘導剤は、（１）低分子化合物であってもよく、（２）高分子化合物であってもよく、（３）イオン液体であってもよい。また、１種類を用いても２種類以上を用いてもよい。
潤滑界面誘導剤が低分子化合物の場合は液晶成分と相分離する性能を有していなければいけないので、液晶としての性質は示さないほうがよい。

また、潤滑界面誘導剤は、液晶材料と分子構造の異なるものがよい。具体的には、低分子化合物の分子構造中に環構造を持たないか、1つだけもつものがよい。ここでいう環構造は、上記液晶成分１３の説明、または、上記液晶成分２３の説明中の環構造と同様のものが挙げられる。また、環構造を２つ以上持つ場合は、お互いの環構造がスペーサー基あるいは結合子により十分離れた位置にあることがよく、その結果、２つ以上の環構造が、液晶材料の分子構造のうち中央部分の２個〜４個の六員環を有するコア構造とは異なる構造のものがよい。
潤滑界面誘導剤が高分子化合物の場合は、上記低分子化合物と同様な構造が一つの望ましい例である。潤滑界面誘導剤が共重合体（コポリマー）の場合は、モノマー成分の少なくとも１つ以上が、上記低分子化合物と同様な構造を有していればよい。あるいは、潤滑界面誘導剤が高分子化合物であり液晶成分が低分子化合物の場合は、上記低分子化合物と同様な構造を示さなくとも分子量の違いにより相分離を起こす組合せであれば使用することができる。

（１）低分子潤滑界面誘導剤
潤滑界面誘導剤として用いることのできる低分子化合物（オリゴマーを含む。）としては、次の（１−１）〜（１−１９）が挙げられる。

（１−１）
ＣＨ_２＝ＣＨ（−Ｒ^３）−ＣＯＯ−Ｒ^２（Ｒ^２はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子又はメチル基である。）

（１−２）
Ｒ^１１−ＣＨ（−Ｒ^３）−ＣＯＯ−Ｒ^２
（Ｒ^１１は水素原子又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^２はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子又はアルキル基である。ただし、Ｒ^１１＋Ｒ^３はＣ１〜Ｃ２０である。Ｒ^１１、Ｒ^２、Ｒ^３は同じでも異なっていてもよい。）

（１−３）
（１−１）又は（１−２）に表記した化合物のアルキル鎖の一部あるいは全部が、ポリエチレンオキサイド基、又は、ポリプロピレンオキサイド基等のポリアルキレンオキサイド基に置換されたもの。

ＰＥＧ系アクリレートとして、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。

（１−４）
（１−４）に表記した化合物以外の変性アクリレートモノマー、変性メタクリレートモノマー。
（１−４−１）変性アクリレートモノマー
変性アクリレートモノマー、変性ジアクリレートモノマー、変性トリアクリレートモノマーとしては以下のものが挙げられる。
２−アクリロイロキシエチルフタレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−アクリロイロキシプロピルフタレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールアクリレート、２，２−ジエチル−プロパンジオールアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピリアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、２−プロペン酸１０−ヒドロキシデシル、

３−メトキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、脂肪酸エポキシアクリレート、脂肪酸モノアクリレート、ＥＣＨ変性アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブタンジオールモノアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、セチルアクリレート、ＥＯ変性クレゾールアクリレート、

シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、
イソアミルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソブチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールアクリレート、ラウリルアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、

ネオペンチルグリコールベンゾエートアクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート（ｎ＝２）、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート（ｎ＝４）、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート（ｎ＝８）、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート（ｎ＝１６〜１７）、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−プロピレングリコールアクリレート、オクチル／デシルアクリレート、

パラクミルフェノキシエチレングリコールアクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、ＥＣＨ変性フェノキシアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）アクリレート、

ステアロキシポリエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性コハク酸アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニルアクリレート、
トリフルオロエチルアクリレート、ウレタンモノアクリレート、β−カルボキシエチルアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロカクトンモノアクリレート、ジアクリル化イソシアヌレート、１，３ブチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ＥＯ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ＥＣＨ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、アリロキシポリエチレングリコールアクリレート、

１，９−ノナンジオールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ＋ｎ＝３）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ＋ｎ＝４）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ＋ｎ＝７）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ＋ｎ＝１０）、ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ＋ｎ＝４）、変性ビスフェノールＡジアクリレート（Ｅｂｅｃｒｙｌ１５０ダイセル社製）、２−メチル−１，４−フェニレン−ビス［４−［３−（アクリロイルオキシ）プロピルオキシ］ベンゾエート］、

ＥＯ，ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ，テトラメチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−ジエポキシアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝５２０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝４６０）、エポキシアクリレート（ＰＯ変性ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝８１０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝５６０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＦタイプ、Ｍｗ＝５００）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝５１０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝１９５０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝１１００）

エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝４８０）、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝５２０）、エポキシアクリレート（大豆油変性タイプ）、ＥＣＨ変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＰＯ変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシビバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（ｍ＋ｎ＝２）、カプロラクトン変性ヒドロキシビバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（ｍ＋ｎ＝４）、

ヒドロキシビバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（ｍ＋ｎ＝４）、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート（ｎ＝４）、ポリエチレングリコールジアクリレート（ｎ＝６）、ポリエチレングリコールジアクリレート（ｎ＝９）、

ポリエチレングリコールジアクリレート（ｎ＝１３ｏｒ１４）、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝４）、ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝７）、ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝１２）、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ＥＣＨ変性ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝１）、ＥＣＨ変性ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝３）、ＥＣＨ変性ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝１１）、ＰＯ変性ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアクリレート、シリコーンジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、

テトラエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、トリプロピレングリコールアクリレート、ＥＯ変性トリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ジアクリリル酸亜鉛、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、

ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエイスリトールトリアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、

カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝３）、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝６）、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝９）、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝１５）、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝２０）、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝３）、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（ｌ＋ｍ＋ｎ＝６）、トリメチロールプロパンベンゾエートアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、アルコキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキサアクリレート（ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝３、日本化薬社製）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキサアクリレート（ｍ＝１、Ａ＝３、ｂ＝３、日本化薬社製）、

カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキサアクリレート（ｍ＝１、Ａ＝３、ｂ＝０、日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート（東亜合成社製）、ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレートベースの多官能モノマー混合物、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート（Ｍｗ＝５７０）、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンテトラアクリレート、エポキシアクリレート（ビスフェノールＡタイプ、Ｍｗ＝９２０）、

エポキシアクリレート（リン酸変性タイプ、Ｍｗ＝５６０）、ペンタエリスリトールアクリレート混合エステル、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、シリコーンヘキサアクリレート、ラクトン変性可撓性アクリレート（Ｍｗ＝３４４）、ラクトン変性可撓性アクリレート（Ｍｗ＝２３０）、ラクトン変性可撓性アクリレート（Ｍｗ＝４５８）、アミノアクリレート（ＥｂｅｃｒｙｌＰ１１５ダイセル社製）、アミノアクリレート（Ｅｂｅｃｒｙｌ７１００ダイセル社製）、４−アクリロイルモルホリン、イミドアクリレート、イミドアクリレート（アロニックスＴＯ−１５３４、東亜合成社製）、イミドアクリレート（アロニックスＴＯ−１４２９、東亜合成社製）、イミドアクリレート（アロニックスＴＯ−１４２８、東亜合成社製）、３−(トリメトキシシリル)プロピルアクリレート、

（１−４−２）変性メタクリレートモノマー
変性メタクリレートモノマー、変性ジメタクリレートモノマー、変性トリメタクリレートモノマーとしては以下のものが挙げられる。
１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクロイルキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクロイロキシプロピルメチルアンモニウムクロライド、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピリメタクリレート、アルキルメタクリレート（ｎ＝１２〜１３）（共栄社化学社製）、アルキルメタクリレート（ｎ＝１２〜１５）（共栄社化学社製）、アルキルメタクリレート（ｎ＝１２〜１８）（共栄社化学社製）、アルキルメタクリレート（ｎ＝１８〜２４）（共栄社化学社製）、アリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、

ジメチルアミノエチルメタクリレート４級化物、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ラクトン変性可撓性メタクリレート（Ｍｗ＝４７２）、ラクトン変性可撓性メタクリレート（Ｍｗ＝２４４）、ラクトン変性可撓性メタクリレート（Ｍｗ＝３５８）、グリセロールメタクリレート、グリセロールポリメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、イソボニルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、

ラウロキシポリエチレングリコールメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メタクリル酸、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝８，９）、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝２３，３０）、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝５０〜６０）、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝８，９）、

ノニルフェノキシポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）メタクリレート（ｍ＝５、ｎ＝２）、ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−プロピレングリコールメタクリレート、ペンタメチルピペリジルジルメタクリレート、パーフルオロオクチルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、ＥＯ変性リン酸メタクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸メタクリレート、ＥＯ変性フタル酸メタクリレート、

ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）メタクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）メタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝３〜２０）、ポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝６）、ポリプロピレングリコールメタクリレート（ｎ＝５）、ポリプロピレングリコールメタクリレート（ｎ＝５〜６）、ポリプロピレングリコールメタクリレート（ｎ＝６）、ポリプロピレングリコールメタクリレート（ｎ＝９，１３，１６）、

イソステアリルメタクリレート、ＥＯ変性コハク酸メタクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、テトラメチルピペリジルメタクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、メタクリル酸亜鉛、γ−メタクリロキシトリメトキシシラン、

ポリエチレングリコールメタクリレート（ｎ＝２〜８、日本油脂社製）、１，４−ブタンジオールメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールメタクリレート、１，９−ノナンジオールメタクリレート、１，１０−デカンジオールメタクリレート、アリロキシポリエチレングリコールメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝２）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝２，６）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝４）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝７）、

ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝１０）、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ｍ＋ｎ＝３０）、ＥＯ，ＰＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性（ブロックタイプ）ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ，テトラメチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ＥＣＨ変性エチレングリコールジメタクリレート、

グリセロールアクリレートメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ＥＣＨ変性フェノキシジメタクリレート、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート、ポリテトラメチレングリコールジメタクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジメタクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート（ｎ＝４、Ｍｗ＝３３０）、ポリエチレングリコールジメタクリレート（ｎ＝９、Ｍｗ＝５５０）、

ポリエチレングリコール６００ジメタクリレート（ｎ＝１３，１４、Ｍｗ＝７３６）、ポリエチレングリコールジメタクリレート（ｎ＝２３、Ｍｗ＝７３６）、ＥＣＨ変性ポリエチレングリコールジメタクリレート（ｎ＝２）、ＥＣＨ変性ポリエチレングリコールジメタクリレート（ｎ＝９）、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート（ｎ＝４）、ポリプロピレングリコールジメタクリレート（ｎ＝９）、ＰＯ変性ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、

ジメタクリル酸亜鉛、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、含リンメタクリル酸エステル（ニューフロンティアＳ−５１０、第一工業製薬社製）、含リンエポキシメタクリレート（ニューフロンティアＳ−２３Ａ、第一工業製薬社製）、

下記式で表されるシロキサンメタクリレート、

下記式で表される４価重合性シロキサンメタクリレート。

（１−５）
（１−４）に表記した化合物の、１又は２以上のＣＨ_２＝Ｃ（−Ｒ^３）−基（Ｒ^３は水素原子又はアルキル基である。）の少なくとも一つが、
Ｒ^１１−ＣＨ（−Ｒ^３）−基
（Ｒ^１１は水素原子又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子又はアルキル基である。ただし、Ｒ^１１＋Ｒ^３はＣ１〜Ｃ２０である。Ｒ^１１、Ｒ^３は同じでも異なっていてもよい。）に置き換わったもの。

（１−６）
水酸基を２つ以上有する（メタ）アクリレートとして、次を挙げることができる。
プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＡなどの２価のアルコールのジグリシジルエーテル；

トリメチロールプロパン、エトキシ化トリメチロールプロパン、プロポキシ化トリメチロールプロパン、グリセリンなど、３価アルコールのトリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物に（メタ）アクリル酸を付加せしめて得られるエポキシアクリレート化合物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートが挙げられ、
エポキシ樹脂とカルボン酸から誘導されるものとして、グリシジル（メタ）アクリレートの（メタ）アクリル酸付加物、

トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリス２―ヒドロキシエチルイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートなどの、ヒドロキシル残基を有するアルコール性ジ（メタ）アクリレート、

ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレートなどの、ヒドロキシル残基を有するアルコール性多官能（メタ）アクリレート、

少なくとも１個の芳香環を有する多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物に（メタ）アクリル酸を付加させて得られた（メタ）アクリレート、芳香族エポキシアクリレートの水添タイプの脂環式エポキシアクリレート等が挙げられる。

尚、ここでいう多価フェノールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物又はビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド付加体、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等を用いることができる。

（１−７）
（１−６）に表記した化合物のうち、１又は２以上の水酸基が、水素原子に置き換わったもの。

（１−８）
（１−６）又は（１−７）に表記した化合物の１又は２以上のＣＨ_２＝Ｃ（−Ｒ^３）−基の少なくとも一つが、
Ｒ^１１−ＣＨ（−Ｒ^３）−基
（Ｒ^１１は水素原子又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子又はアルキル基である。ただし、Ｒ^１１＋Ｒ^３はＣ１〜Ｃ２０である。Ｒ^１１、Ｒ^３は同じでも異なっていてもよい。）に置き換わったもの。

（１−９）
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとして次を挙げることができる。
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートは、カルボキシル基の親水性が十分高いため１分子あたりのカルボキシル基の数に特に制限はなく、１つでも２つ以上でも良い。
しかしカルボキシル基の数が増えていくと溶剤に対する溶解性が悪くなり、化合物の結晶性も高くなるので、接着部材あるいは溶剤に対する耐性が悪化しない範囲でカルボキシル基の数は少ないものが好ましい。特に芳香環に直結したカルボキシル基を持つ化合物の場合には１分子あたりのカルボキシル基の数は２以下が特に好ましい。

具体的には、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−アクリロイルオキシエチルフタレート、２−メタクリロイルオキシエチルフタレート、ＥＯ変性琥珀酸アクリレート等、カルボキシ基及び一分子中に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−トの如き水酸基含有ビニル単量体に、無水フタル酸等の酸無水物を付加させて得られる化合物、末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基で置換された安息香酸誘導体が挙げられる。置換基の数は１つでもそれ以上でも良いが、置換基の数は１〜３であることが合成の容易さの面から好ましい。また、複数の置換基を導入する場合には、置換する位置として分子の対称性を低くするような位置を選択することが、結晶性を高くしすぎないという面で好ましい。具体的には、２−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，３−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，５−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、４−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸で、アルキル鎖のメチレン基の数が１〜１４のものが挙げられる。特にメチレン基の数が２〜１０のものがさらに好ましい。

（１−１０）
（１−９）に表記した化合物の１又は２以上のＣＨ_２＝Ｃ（−Ｒ^３）−基の少なくとも一つが、
Ｒ^１１−ＣＨ（−Ｒ^３）−基
（Ｒ^１１は水素原子又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ^３は水素原子又はアルキル基である。ただし、Ｒ^１１＋Ｒ^３はＣ１〜Ｃ２０である。Ｒ^１１、Ｒ^３は同じでも異なっていてもよい。）に置き換わったもの。

（１−１１）
２つ以上のエポキシ基を有している化合物。
例えば、エチレングリコール、ヘキサンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトールまたは水添ビスフェノールＡ、等の脂肪族ポリオールのジグリシジルエーテル化合物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ジヒドロキシフェニルエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノン、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノールホルムアルデヒド、ナフトールフェニルアルデヒド樹脂、メチレンビスアニリン、ジヒドロキシナフタレン、ナフトールダイマー、テトラメチルビフェノール、レゾルシン、ヒドロキノン、カテコール等の芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル化合物、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラエチレングリコール、等のポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル化合物、

トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのポリグリシジルエーテル化合物、アジピン酸、ブタンテトラカルボン酸、プロパントリカルボン酸、フタル酸、テレフタル酸もしくはトリメリット酸、等の脂肪族ないしは芳香族ポリカルボン酸のポリグリシジルエーテル化合物、ブタジエン、ヘキサジエン、オクタジエン、ドデカジエン、シクロオクタジエン、α−ピネンもしくはビニルシクロヘキセン、等の炭化水素系ジエンのビスエポキシド化合物、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートもしくは３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、等の脂環族ポリエポキシ化合物などが挙げられる。
これらのエポキシ化合物は１種類で用いてもよく、２種類以上混合して用いてもよい。

また、これらのエポキシ化合物は、分子量、その他の物性にも特に制限はないが、配合が容易であることから、通常分子量１００〜３０００程度のものを使用する。

（１−１２）
（１−１１）に表記した化合物のひとつ、あるいは、ひとつ以上のエポキシ基が、化合物に少なくともひとつ以上のエポキシ基を残すという条件で、Ｃ＝ＣあるいはＣ−Ｃに置換された化合物。

（１−１３）
潤滑界面誘導剤として用いることのできるモノマー化合物としては、Ｐ−Ｒ（Ｐは重合性基であり、Ｒは直鎖状又は分岐鎖状の炭素原子数１〜０のアルキル基であり、前記アルキル基中の非隣接の−ＣＨ_２−は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＨ（Ｏ）ＣＨ−で置換していてもよい。）で表されるモノマーであってもよい。Ｐの重合性基としては、前記式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１７）で表される重合性基等が挙げられる。

（１−１３）の類に属する長さの異なるアルキル鎖を有するモノマーを使用することで、液晶成分と接する界面が平らではない凹凸を有する状態になり、近傍で液晶化合物が低秩序になり液晶相を保っていられないため、スリッパリー界面を形成させることができる。

（１−１４）
潤滑界面誘導剤として用いることのできるモノマー化合物としては、Ｐ−Ｓｐ−Ｚｍ（Ｐは重合性基であり、Ｓｐはスペーサー基であり、Ｚｍはメソゲン基である）で表されるモノマーであってもよい。Ｐの重合性基としては、前記式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１７）で表される重合性基等が挙げられる。Ｓｐのスペーサー基としては、後述するＳｐ_１と同様の２価の基が挙げられる。Ｚｍのメソゲン基としては、下記式のメソゲン基が挙げられる。

（Ｒは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子であり、前記アルキル基中の水素原子はハロゲン原子に置換していてもよく、前記アルキル基中の水素原子はハロゲン原子に置換していてもよく、前記アルキル基中の非隣接の−ＣＨ_２−は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＨ（Ｏ）ＣＨ−で置換していてもよく、Ａ及びＣは、それぞれ独立して、２価の環式基であり、Ｂは３価の環式基であり、Ａ、Ｂ及びＣは、置換基を有していてもよく、Ｓｐは、それぞれ独立して、スペーサー基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立して、０〜５の整数である。）

（１−１４）の類に属するメソゲン基を有するモノマーは、上記のＢの３価の環式基のようにメタやオルトでスペーサー基を介して主鎖につながっている構造となる。これに対して、通常液晶分子は直線性を重視するため環構造はパラ位でつながる。これにより液晶相の不安定化が起こり、スリッパリー界面を形成させることができる。

（１−１５）
潤滑界面誘導剤として用いることのできるモノマー化合物としては、Ｐ−Ｓｐ−Ｚｐ（Ｐは重合性基であり、Ｓｐはスペーサー基であり、Ｚｐは光異性化可能な基を表す。）で表されるモノマーであってもよい。Ｐの重合性基としては、前記式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１７）で表される重合性基等が挙げられる。Ｓｐのスペーサー基としては、後述するＳｐ_１と同様の２価の基が挙げられる。Ｚｐの光異性化可能な基としては、アゾベンゼン構造を有する基が挙げられる。アゾベンゼン構造を有する基として、具体的には、以下の一般式（Ｐ−ａ−１）〜一般式（Ｐ−ｄ−８）で表される２価の基が挙げられる。Ｚｐとしては、この他に、一般式（Ｐ−ｅ−７）で表される２価の基が挙げられる。

アゾベンゼン構造のシス−トランスの光異性化により、液晶の配向秩序を乱してスリッパリー界面を形成させることができる。このため、光異性化する波長のＵＶを照射することにより、スリッパリー状態を制御することが可能になる。このため、局所的な制御等も可能になる。

（１−１６）
フッ素系潤滑剤、フッ素系モノマー、フッ素系界面活性剤
フッ素系潤滑剤としては、以下のものが挙げられる。

フッ素系モノマーとしては、以下のものが挙げられる。

フッ素系界面活性剤としては、以下のものが挙げられる。

（１−１７）
ＰＥＧ系潤滑剤としては、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。

ＰＥＧ系界面活性剤としては、ヘキサエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。

（１−１８）
アミド系潤滑剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデカンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチル−１，６−ジアミノヘキサン、Ｎ−パルミトイルイソプロピルアミド等が挙げられる。

（１−１９）
（１−１）〜（１−１５）に表記した化合物の、具体的な化合物を列挙する。

メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、

２−フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロオクチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリシジル（メタ）アクリレートなどの１価のエポキシ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルりん酸、

４−アクリロイルモルホリン、ジメチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、イロプロピル（メタ）アクリルアミド、ジエチル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等のモノ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝６）、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝９）、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝１３）、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス[４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル]フルオレン、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクロイルオキシプロピルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、等のジアクリレート、

トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、等のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、オリゴマー型の（メタ）アクリレート、各種ウレタンアクリレート、各種マクロモノマー、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、等のエポキシ化合物、ラウリン酸エチル、酢酸トリデシル等のエステル化合物、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等のポリアルキレンオキサイド（アルキレン基の炭素数は２〜２０が好ましい。）、マレイミド、１，２−ビス（マレイミド）エタン、マレイミドメチルマレイミドエチルエーテル、ビス（マレイミド）メチルエーテル、ビス（マレイミドメトキシ）メタン、４−プロパノイルモルホリン、４−ノナノイルモルホリン、２−エチル−１−モルホリン−４−イル−ヘキサン−１−オン、１２‐トリデシン酸メチル、セバシン酸モノエチルエステル、等、が挙げられる。

（２）高分子潤滑界面誘導剤
潤滑界面誘導剤として用いることのできる高分子化合物としては、次の（２−１）〜（２−５）が挙げられる。

（２−１）
（１）低分子潤滑界面誘導剤で挙げた化合物例のうち、重合性基をもつものについてのホモポリマー、その重合体を高分子中の一部に有する、ブロック、ランダム、あるいは交互共重合体

（１−１）〜（１−１５）に表記した化合物のそれぞれに対応するモノマーを重合したもので、単独のホモポリマーであってもよく、いずれかの類に属する複数のモノマーを共重合して得られる共重合体であってもよく、複数の類のモノマーを共重合して得られる共重合体であってもよい。例えば、（１−１３）の類に属する２種又は３種以上のモノマーを共重合させてもよく、（１−１４）の類に属する２種又は３種以上のモノマーを共重合させてもよく、（１−１４）の類に属する２種、３種又は４種以上のモノマーと、（１−１５）の類に属する２種又は３種以上のモノマーを共重合させてもよい。

（１−１３）の類に属する２種又は３種以上のモノマーを共重合させることにより、２種又は３種以上の長鎖アルキル側鎖を有する高分子化合物を得ることができる。
（１−１４）の類に属するメソゲン基を有するモノマーを重合することにより、メソゲン基を側鎖に有する高分子化合物を得ることができる。
（１−１５）の類に属する光異性化可能な基を有するモノマーを重合することにより、光異性化可能な基を側鎖に有する高分子化合物を得ることができる。

（２−２）
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等のポリアルキレンオキサイド（アルキレン基の炭素数は２〜２０が好ましい。）。

（２−３）
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等の１種以上のポリアルキレンオキサイド（アルキレン基の炭素数は２〜２０が好ましい。）を、高分子中の一部に有するブロック、ランダム、あるいは交互共重合体。

（２−４）
（２−１）又は（２−３）に表記した化合物の共重合体の１成分として、側鎖型液晶成分を有するもの。側鎖型液晶成分の液晶構造は、すでに例示されている液晶の構造を、重合性基に直接あるいはアルキレン基等のスペーサー基により結びつけたもの。

（２−５）
下記基を側鎖、あるいは、主鎖に有する高分子。

例えば、アミド基を有する重合体としてはポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドが挙げられる。
また、ピリジル基を有する重合体としては、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、２−ビニルピリジン／スチレン共重合体、４−ビニルピリジン／スチレン共重合体、４−ビニルピリジン／メタクリレート共重合体等が挙げられる。

また、スルホ基を有する重合体としては、ポリ（ビニルスルホン酸）及びそのナトリウム塩、ポリ（ｐ−スチレンスルホン酸）及びそのナトリウム塩等が挙げられる。

また、カルボキシ基を有する重合体としては、ポリアクリル酸若しくはそのナトリウム塩、ポリメタクリル酸若しくはそのナトリウム塩、アクリル酸／アクリルアミド共重合体若しくはそのナトリウム塩、アクリル酸／マレイン酸共重合体若しくはそのナトリウム塩、エチレン／アクリル酸共重合体、アクリロニトリル／アクリル酸共重合体、ポリマレイン酸、スチレン／マレイン酸共重合体若しくはそのナトリウム塩、イソブチレン／マレイン酸共重合体若しくはそのナトリウム塩、スチレンスルホン酸／マレイン酸共重合体若しくはそのナトリウム塩、メチルビニルエーテル／マレイン酸共重合体、塩化ビニル／酢酸ビニル／マレイン酸共重合体、等が挙げられる。

（３）イオン液体
潤滑界面誘導剤として用いることのできるイオン液体としては、公知のイオン液体を特に制限なく用いることができる。ここでイオン液体とは、アニオン部とカチオン部とからなるイオン性の化合物のうち液体のものをいう。イオン性液体の融点として具体的には、１００℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましく、３０℃以下が更に好ましく、室温で液体であることが特に好ましい。

潤滑界面誘導剤として用いることのできるイオン液体のカチオン部として、例えば、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン等が挙げられる。イオン液体のカチオン部としてイミダゾリウムカチオンが好ましい。

前記イミダゾリウムカチオンとして、例えば、１−ヘキサデシル−３−メチルイミダゾリウム(C16)、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム(C6)、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウム、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム、１−（２−（アクリロイルオキシ）エチル）−３−エチルイミダゾリウム、１−メチルイミダゾリウム、１−メチル−３−エチルイミダゾリウム、１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム、１−ベンジル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジメチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１，３，４−トリメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３，４−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３，５−ジメチルイミダゾリウム、２−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、４−エチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、１，２−ジエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，４−ジエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，５−ジエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチル−２−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチル−４−メチルイミダゾリウム、

１，２，３−トリエチルイミダゾリウム、１，３，４−トリエチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３，４−トリメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３，５−トリメチルイミダゾリウム、１−エチル−３，４，５−トリメチルイミダゾリウム、２−エチル−１，３，４−トリメチルイミダゾリウム、４−エチル−１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１，２−ジエチル−３，４−ジメチルイミダゾリウム、１，３−ジエチル−２，４−ジメチルイミダゾリウム、１，４−ジエチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、２，４−ジエチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、４，５−ジエチル−１，３−ジメチルイミダゾリウム、１，２，３−トリエチル−４−メチルイミダゾリウム、１，２，４−トリエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，２，５−トリエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３，４−トリエチル−２−メチルイミダゾリウム、１，３，４−トリエチル−５−メチルイミダゾリウム、１，４，５−トリエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，２，３，４，５−ペンタメチルイミダゾリウム、１−メチル−３−プロピルイミダゾリウム等が挙げられる。

前記アンモニウムカチオンとしては、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、テトラヘプチルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、テトラノニルアンモニウム、テトラデシルアンモニウム、テトラドデシルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリメチルプロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、エチルジメチルプロピルアンモニウム、エチルジメチルイソプロピルアンモニウム、ジエチルメチルプロピルアンモニウム、ジエチルメチルイソプロピルアンモニウム、ジメチルジプロピルアンモニウム、ジメチルプロピルイソプロピルアンモニウム、ジメチルジイソプロピルアンモニウム、トリエチルプロピルアンモニウム、ブチルトリメチルアンモニウム、

イソブチルトリメチルアンモニウム、ｔｅｒｔ−ブチルトリメチルアンモニウム、トリエチルイソプロピルアンモニウム、エチルメチルジプロピルアンモニウム、エチルメチルジイソプロピルアンモニウム、ブチルエチルジメチルアンモニウム、イソブチルエチルジメチルアンモニウム、ｔｅｒｔ−ブチルエチルジメチルアンモニウム、ジエチルジプロピルアンモニウム、ジエチルプロピルジイソプロピルアンモニウム、ジエチルジイソプロピルアンモニウム、メチルトリプロピルアンモニウム、メチルジプロピルイソプロピルアンモニウム、メチルプロピルジイソプロピルアンモニウム、ブチルトリエチルアンモニウム、イソブチルトリエチルアンモニウム、ｔｅｒｔ−ブチルトリエチルアンモニウム、ジブチルジメチルアンモニウム、ジイソブチルジメチルアンモニウム、ジｔｅｒｔ−ブチルジメチルアンモニウム、ブチルイソブチルジメチルアンモニウム、ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルアンモニウム、イソブチル−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルアンモニウム、トリオクチルメチルアンモニウム等が挙げられる。

前記ピリジニウムカチオンとしては、例えば、１−メチルピリジニウム、１−エチルピリジニウム、１−プロピルピリジニウム、１−ブチルピリジニウム、１−ペンチルピリジニウム、１−ヘキシルピリジニウム、１−ヘプチルピリジニウム、１−オクチルピリジニウム、１−ノニルピリジニウム、１−デシルピリジニウム、１，２−ジメチルピリジニウム、１，３−ジメチルピリジニウム、１，４−ジメチルピリジニウム、１−エチル−２−メチルピリジニウム、２−エチル−１−メチルピリジニウム、１−エチル−３−メチルピリジニウム、３−エチル−１−メチルピリジニウム、１−エチル−４−メチルピリジニウム、４−エチル−１−メチルピリジニウム、１，２−ジエチルピリジニウム、１，３−ジエチルピリジニウム、１，４−ジエチルピリジニウム、１，２，３−トリメチルピリジニウム、１，２，４−トリメチルピリジニウム、１，３，４−トリメチルピリジニウム、１，３，５−トリメチルピリジニウム、１，２，５−トリメチルピリジニウム、１，２，６−トリメチルピリジニウム、１−エチル−２，３−ジメチルピリジニウム、１−エチル−２，４−ジメチルピリジニウム、１−エチル−２，５−ジメチルピリジニウム、１−エチル−２，６−ジメチルピリジニウム、１−エチル−３，４−ジメチルピリジニウム、

１−エチル−３，５−ジメチルピリジニウム、２−エチル−１，３−ジメチルピリジニウム、２−エチル−１，４−ジメチルピリジニウム、２−エチル−１，５−ジメチルピリジニウム、２−エチル−１，６−ジメチルピリジニウム、３−エチル−１，２−ジメチルピリジニウム、３−エチル−１，４−ジメチルピリジニウム、３−エチル−１，５−ジメチルピリジニウム、３−エチル−１，６−ジメチルピリジニウム、４−エチル−１，２−ジメチルピリジニウム、４−エチル−１，３−ジメチルピリジニウム、１，２−ジエチル−３−メチルピリジニウム、１，２−ジエチル−４−メチルピリジニウム、１，２−ジエチル−５−メチルピリジニウム、１，２−ジエチル−６−メチルピリジニウム、１，３−ジエチル−２−メチルピリジニウム、１，３−ジエチル−４−メチルピリジニウム、１，３−ジエチル−５−メチルピリジニウム、１，３−ジエチル−６−メチルピリジニウム、１，４−ジエチル−２−メチルピリジニウム、１，４−ジエチル−３−メチルピリジニウム、２，３−ジエチル−１−メチルピリジニウム、２，４−ジエチル−１−メチルピリジニウム、２，５−ジエチル−１−メチルピリジニウム、２，６−ジエチル−１−メチルピリジニウム、３，４−ジエチル−１−メチルピリジニウム等が挙げられる。

前記ピロリジニウムカチオンとしては、例えば、例えば、１，１−ジメチルピロリジニウム、１−エチル−１−メチルピロリジニウム、１，１−ジエチルピロリジニウム、１，１，２−トリメチルピロリジニウム、１，１，３−トリメチルピロリジニウム、１−エチル−１，２−ジメチルピロリジニウム、１−エチル−１，３−ジメチルピロリジニウム、２−エチル−１，１−ジメチルピロリジニウム、３−エチル−１，１−ジメチルピロリジニウム、１，１−ジエチル−２−メチルピロリジニウム、１，１−ジエチル−３−メチルピロリジニウム、１，２−ジエチル−１−メチルピロリジニウム、１，３−ジエチル−１−メチルピロリジニウム、１，１，２−トリエチルピロリジニウム、１，１，３−トリエチルピロリジニウム、１，１，２，２−テトラメチルピロリジニウム、１，１，２，３−テトラメチルピロリジニウム、１，１，２，４−テトラメチルピロリジニウム、１，１，２，５−テトラメチルピロリジニウム、１，１，３，４−テトラメチルピロリジニウム、１，１，３，３−テトラメチルピロリジニウム、１，１−ジメチルピロリジウム、１−エチル−１−メチルピロリジウム等が挙げられる。

前記ピペリジニウムカチオンとしては、例えば、１，１−ジメチルピペリジニウム、１−エチル−１−メチルピペリジニウム、１，１−ジエチルピペリジニウム、１，１，２−トリメチルピペリジニウム、１，１，３−トリメチルピペリジニウム、１，１，４−トリメチルピペリジニウム、１，１，２，２−テトラメチルピペリジニウム、１，１，２，３−テトラメチルピペリジニウム、１，１，２，４−テトラメチルピペリジニウム、１，１，２，５−テトラメチルピペリジニウム、１，１，２，６−テトラメチルピペリジニウム、１，１，３，３−テトラメチルピペリジニウム、１，１，３，４−テトラメチルピペリジニウム、１，１，３，５−テトラメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２−ジメチルピペリジニウム、１−エチル−１，３−ジメチルピペリジニウム、１−エチル−１，４−ジメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２，３−トリメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２，４−トリメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２，５−トリメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２，６−トリメチルピペリジニウム、１−エチル−１，３，４−トリメチルピペリジニウム、１−エチル−１，３，５−トリメチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−２−メチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−３−メチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−４−メチルピペリジニウム、

１，１−ジエチル−２，３−ジメチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−２，４−ジメチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−２，５−ジメチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−２，６−ジメチピペリジニウム、１，１−ジエチル−３，４−ジメチルピペリジニウム、１，１−ジエチル−３，５−ジメチルピペリジニウム、２−エチル−１，１，３−トリメチルピペリジニウム、２−エチル−１，１，４−トリメチルピペリジニウム、２−エチル−１，１，５−トリメチルピペリジニウム、２−エチル−１，１，６−トリメチルピペリジニウム、３−エチル−１，１，２−トリメチルピペリジニウム、３−エチル−１，１，４−トリメチルピペリジニウム、３−エチル−１，１，５−トリメチルピペリジニウム、３−エチル−１，１，６−トリメチルピペリジニウム、４−エチル−１，１，２−トリメチルピペリジニウム、４−エチル−１，１，３−トリメチルピペリジニウム、１，２−ジエチル−１，３−ジメチルピペリジニウム、１−エチル−１，２，４−トリメチルピペリジニウム、１，２−ジエチル−１，５−ジメチルピペリジニウム、１，２−ジエチル−１，６−ジメチルピペリジニウム、１，３−ジエチル−１，５−ジメチルピペリジニウム、１，３−ジエチル−１，４−ジメチルピペリジニウム、１，３−ジエチル−１，５−ジメチルピペリジニウム、１，３−ジエチル−１，６−ジメチルピペリジニウム、１，４−ジエチル−１，２−ジメチルピペリジニウム等が挙げられる。

前記ホスホニウムカチオンとしては、例えば、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラプロピルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、テトラペンチルホスホニウム、テトラヘキシルホスホニウム、テトラヘプチルホスホニウム、テトラオクチルホスホニウム、テトラノニルホスホニウム、テトラデシルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリブチルオクチルホスホニウム、トリブチルノニルホスホニウム、トリブチルデシルホスホニウム、トリブチルウンデシルホスホニウム、トリブチルドデシルホスホニウム、トリブチルトリデシルホスホニウム、トリブチルテトラデシルホスホニウム、トリブチルペンタデシルホスホニウム、トリブチルヘキサデシルホスホニウム、トリブチルヘプタデシルホスホニウム、トリブチルオクタデシルホスホニウム、トリブチルノナデシルホスホニウム、トリブチルイコシルホスホニウム、トリペンチルオクチルホスホニウム、トリペンチルノニルホスホニウム、トリペンチルデシルホスホニウム、トリペンチルウデシルホスホニウム、トリペンチルドデシルホスホニウム、トリペンチルトリデシルホスホニウム、トリペンチルテトラデシルホスホニウム、トリペンチルペンタデシルホスホニウム、トリペンチルヘキサデシルホスホニウム、トリペンチルヘプタデシルホスホニウム、トリペンチルオクタデシルホスホニウム、トリペンチルノナデシルホスホニウム、トリペンチルイコシルホスホニウム、トリヘキシルオクチルホスホニウム、トリヘキシルノニルホスホニウム等が挙げられる。

潤滑界面誘導剤として用いることのできるイオン液体のアニオン部として、例えば、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ビス（フルオロメタンスルホニル）イミド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、トリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。

潤滑界面誘導剤として用いることのできるイオン液体として、例えば、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート(C16)、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート(C6)、１−（２−（アクリロイルオキシ）エチル）−３−エチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−３−エチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−３−メチルイミダゾリウム＝ヘキサフルオロホスフェート、

１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート(C16)、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート(C6)、１−（２−（アクリロイルオキシ）エチル）−３−エチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−メチル−３−エチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−メチル−３−ブチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、１−ベンジル−３−メチルイミダゾリウム＝テトラフルオロボレート、トリオクチルメチルアンモニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニルイミド、トリメチルプロピルアンモニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニルイミド、ジメチルエチル［２−（２−メトキシエトキシ）エチル］アンモニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニルイミド、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）アンモニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニルイミド、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）アンモニウム＝テトラフルオロホスフェート、ジメチルエチル［２−（２−メトキシエトキシ）エチル］アンモニウム＝テトラフルオロホスフェート、ジエチルメチル（２−メトキシエチル）アンモニウム＝ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。イオン液体としてイミダゾリウム系イオン液体が好ましい。

第１実施形態の光学素子は、液晶成分及び潤滑界面誘導剤の混合物を、少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板の間に充填し、セル内全体が液晶相になっている状態から徐々に昇温して相分離構造を発現させることにより製造することができる。すなわち、スリッパリー界面を液体相と液晶相との間に発現させることができる。
該混合物を一対の基板間に充填し、あらかじめセル内全体が液晶相になるように冷却し、徐々に昇温して液体相を界面に発現させてもよい。また、より適切な方法として、上記温調の手前に、一旦加熱して等方相にした後、冷却してセル全体を液晶相にしてから、昇温して液体相を界面に発現させることにより、より均一なスリッパリー界面を形成することができる。これにより、最初にセルへ液晶注入した際に不適切な方位に吸着してしまった液晶相の方位を一旦消去（リセット）することができる。
当該混合物中の潤滑界面誘導剤の含有量は、０．５〜１５質量％であることが好ましく、０．８〜１０質量％がより好ましく、１．０〜８質量％がさらに好ましい。

以下、本発明に係る複合体の第２実施形態を、図面に基づいて説明する。
図２は、本実施形態における複合体４０を示す概略断面図である。

本実施形態に係る発明は、少なくとも一方の基板３１に電極２８，２９を有する一対の基板３１，３２と、一対の基板３１，３２の間に充填された液晶成分２３とを備え、一対の基板３１，３２及び液晶成分２３の間に潤滑界面誘導領域２６を有する複合体４０である。複合体４０は光学素子であってもよい。本実施形態に係る発明は、潤滑界面誘導領域２６に潤滑界面誘導剤２４を有することが好ましい。本実施形態に係る発明において、液晶成分２３と、前記潤滑界面誘導領域２６との界面がスリッパリー界面２７を形成していることが好ましい。潤滑界面誘導剤２４は、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体であることが好ましい。前記高分子化合物は、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有することが好ましい。液晶成分２３及び潤滑界面誘導剤２４が相分離構造を発現して、液晶成分２３が液晶相２５を形成し、潤滑界面誘導剤２４が潤滑界面誘導領域２６において液体相を形成していることが好ましい。潤滑界面誘導剤２４が潤滑界面誘導領域２６において液晶相より低秩序なゲル層を形成していてもよい。

本実施形態に係る発明は、少なくとも一方の基板３１に電極２８，２９を有する一対の基板３１，３２と、一対の基板３１，３２の間に充填された液晶成分２３及び潤滑界面誘導剤２４と、を備える光学素子であって、液晶成分２３及び潤滑界面誘導剤２４が相分離構造を発現して、液晶成分２３が、高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された光学的等方性の液晶相２５を形成し、潤滑界面誘導剤２４が、ネットワークの表面の近傍に偏在して液体相を形成し、液晶成分２３が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、液晶相２５と液体相との界面がスリッパリー界面２７を形成している。潤滑界面誘導剤２４が、高分子化合物成分４１に対して親和性が良いことが好ましい。

図２の複合体４０は、本実施形態における液晶成分２３及び液晶成分２３の支持体（図示せず）を有し、液晶成分２３及び支持体（図示せず）の間に潤滑界面誘導領域２６を有する。複合体４０は光学素子であってもよい。
前記複合体において、支持体（図示せず）は、液晶成分２３中に存在する高分子構造体であってもよく、液晶の欠陥領域を補充する高分子構造体であってもよい。前記複合体において、液晶成分２３と、前記潤滑界面誘導領域２６との界面がスリッパリー界面２７を形成していることが好ましい。前記複合体において、前記潤滑界面誘導領域２６に潤滑界面誘導剤２４を有することが好ましい。前記複合体において、潤滑界面誘導剤２４が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体であることが好ましい。潤滑界面誘導剤２４が高分子化合物であり、前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有することが好ましい。

本実施形態における潤滑界面誘導剤としては、上述の潤滑界面誘導剤を挙げることができる。

潤滑界面誘導剤が、高分子ネットワークの表面に対して親和性が良いことにより、自発的に高分子ネットワークの表面付近に潤滑界面誘導剤の高い濃度領域が実現される。また、潤滑界面誘導剤は、ぬれ性・温度安定性を確保するために液晶相を形成する液晶成分に対して十分な親和性を有することが好ましい。液晶成分に対する親和性が弱いと、液晶相から排除され、界面は「垂直配向」になったり、「ＤｅＷｅｔ（界面張力が高くドロップレット状に集合する）状態」となったりして好適なスリッパリー界面を形成することができない。液晶成分に対して十分な親和性を有することにより、スリッパリー界面を形成することが可能となる。潤滑界面誘導剤が、高分子ネットワークの表面に対して親和性が良く、かつ、液晶成分に対して十分な親和性を有することにより、スリッパリー界面を形成することが可能となる。

一般に、上の２つの条件は合い入れないものとなり、微妙な条件となるが、例えば、界面活性剤に類似の化合物を利用することにより、これを達成できる。分子の一方に高分子ネットワークの表面に対して親和性の良い官能基を有し、他方に液晶成分に対して十分な親和性を有する官能基を有する化合物を潤滑界面誘導剤として用いることもできる。

ここで、液晶成分は、高分子化合物成分からなるネットワークにより安定化された光学的等方性の液晶相２５を形成しているが、光学的等方性の液晶相（ブルー相）を安定化しているポリマーは架橋しているので、未架橋のポリマーで、液晶中に溶解できるポリマーは潤滑界面誘導剤になり得る。ダイレクターのひずみと配向の秩序度の勾配が高分子をディスクリネーションに引き寄せる駆動力という観点に立てば、分子量が大きくなるほどブルー相内のディスクリネーションに集まりやすくなる。分子量が大きすぎると，安定化しているポリマーの表面に吸着してしまうが、適当な分子量のポリマー（オリゴマー）であれば、界面付近にうまく濃縮して、スリッパリー界面を形成する。

界面にどれだけ濃縮するか、すなわち、濃度プロファイルは、１）ブルー相を安定化しているポリマーとの親和性と、２）ディスクリネーションが異物を吸引する力と、３）熱運動でバラバラに拡散する作用（エントロピー）との釣り合いで決まり、２）と３）は潤滑界面誘導剤の分子量に強く依存する。

潤滑界面誘導剤がオリゴマー又はポリマーである場合の重合度は、２〜３００量体であることが好ましく、４〜２００量体であることがより好ましく、５〜１００量体であることが特に好ましく、重量平均分子量としては、１５０〜３００００が好ましく、１０００〜２００００がより好ましく、２０００〜１２０００が特に好ましい。

本実施形態においては、液晶成分２３及び潤滑界面誘導剤２４が、自己組織化して相分離構造を発現し、高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された光学的等方性の液晶相２５を形成する構成とすることができる。

本実施形態においては、潤滑界面誘導剤２４に対して親和性の良い表面を有する、高分子化合物成分４１からなるネットワークを設けることが好ましく、それにより、潤滑界面誘導剤２４が、高分子化合物成分４１からなるネットワークの表面の近傍に偏在して液体相を形成させることができる。

本実施形態における光学素子は、液晶成分２３が外部電場又は外部磁場の外場の変化により応動するに際して、液晶相２５と液体相との界面がスリッパリー界面１７を形成していることにより、潤滑界面誘導剤が駆動外場の閾値を低減させる作用を有し、低電圧駆動性に優れる。

液晶成分２３が、二重ねじれシリンダー構造を有する光学的等方性の液晶相２５を形成していてもよく、潤滑界面誘導剤２４が、二重ねじれシリンダー構造の間のディスクリネーションに偏在して液体相を形成していてもよい。
液晶成分２３及び潤滑界面誘導剤２４が、自己組織化して相分離構造を発現する際に、潤滑界面誘導剤２４が二重ねじれシリンダー構造の間のディスクリネーションに偏在するよう、液晶成分２３、潤滑界面誘導剤２４の組み合わせを適宜選択することができる。

また、液晶成分２３が電界無印加時に光学的等方性を示し、電界印加時に光学的異方性を示す構成とすることができる。従来の電場印加により光学的異方性の光軸を回転させる方式に対し、光学的等方性（複屈折ゼロ）−異方性（有限の複屈折）の可逆的スイング方式に基づく、配向処理不要な光学素子とすることができ、製造コストの低下が期待できる。そして、横電界タイプとして、光軸を基板面内に設けることにより、良好な視野角特性が実現できる。

本実施形態の光学素子において、一方の基板３１における対向基板３２側に設けられた第１電極２８及び第２電極２９を備え、第１電極２８と第２電極２９との間に電界を発生させる構成とすることができる。

本実施形態の光学素子において、第１電極２８及び第２電極２９が、一対の基板３１，３２の間にインプレーン電界を発生させる構成とすることができる。

「液晶成分２３」
本実施形態において、液晶成分２３は、潤滑界面誘導剤と共に前記一対の基板の間に充填され、相分離構造を発現して液晶相を形成する。

本実施形態における液晶成分２３は、コレステリックブルー相、スメクチックブルー相を示す構成とすることができる。

本実施形態における液晶成分２３は、上記一般式（ＬＣ）で表される化合物を含有するネマチック液晶組成物であってもよい。
本実施形態における液晶成分２３は、上記一般式（ＬＣ）で表される化合物を含有するネマチック液晶組成物と、少なくとも１種類のキラル化合物とを含むブルー相、若しくは、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、又は、その他の光学的等方性の液晶相２５を形成していてもよい。
キラル化合物を含ませることにより、ネマチック液晶組成物に対して捻れ配向を誘起させ、所望のピッチを有するコレステリック相やブルー相を発現する液晶組成物が得られる。

ここで、ピッチとは、液晶分子の螺旋構造における１周期分の長さを示す。ネマチック液晶組成物へのキラル化合物の添加量（質量％）が多くなるほど、ピッチ（μｍ）は小さくなる。特にキラル化合物の添加量が１〜数質量％程度までの低い濃度の時には、キラル化合物の添加量とピッチの積が一定という関係がよく成り立つことが知られており、これの逆数をとった螺旋誘起力（ＨｅｌｉｃａｌＴｗｉｓｔｉｎｇＰｏｗｅｒ：ＨＴＰ）（１／μｍ）が光学活性化合物固有の捻れ配向を誘起する力の評価パラメータとして使用されている。下記数式中、「Ｐ」はピッチ（μｍ）であり、「Ｃ」はキラル化合物の添加量（質量％）である。

［キラル化合物］
当該キラル化合物としては、不斉原子をもつ化合物、軸不斉をもつ化合物、面不斉をもつ化合物のいずれでもよい。また、当該キラル化合物は、重合性基を有していてもよく、重合性基を有していなくてもよい。

本実施形態におけるブルー相、若しくは、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相２５が含むキラル化合物としては、不斉原子をもつ化合物又は軸不斉をもつ化合物が好ましく、不斉原子をもつ化合物が特に好ましい。不斉原子をもつ化合物としては、側鎖部分に不斉炭素を持つ化合物、環構造部分に不斉炭素を持つ化合物及びその両方を持つ化合物が挙げられる。不斉原子をもつ化合物において、不斉原子は不斉炭素原子であると立体反転が起こり難いものが好ましいが、ヘテロ原子が不斉原子となっていてもよい。不斉原子は鎖状構造の一部に導入されていてもよく、環状構造の一部に導入されていてもよい。本実施形態におけるブルー相、若しくは、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相２５が含むキラル化合物として、螺旋誘起力が強いことを特に要求される場合には、軸不斉をもつ化合物が好ましい。

＜不斉原子をもつ化合物＞
不斉原子をもつ化合物としては、具体的には、一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物が好ましい。

（一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、Ｒ^１００及びＲ^１０１はそれぞれ独立して、水素原子、シアノ基、−ＮＯ_２、ハロゲン原子、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＳＦ_５、炭素原子数１〜３０個のキラル又はアキラルなアルキル基（当該アルキル基中の１個又は２個以上の隣接していないメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子が相互に直接結合しないものとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又はＣ≡Ｃ−により置換されていてもよく、当該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換されていてもよい。）、重合性基、又は環構造を含むキラルな基を表し、ｎ^１１が０のとき、Ｒ^１００及びＲ^１０１の少なくとも１つは、キラルなアルキル基であり、

Ｚ^１００及びＺ^１０１はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^１０５）−、−Ｎ（Ｒ^１０５）−ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表し、

Ａ^１００及びＡ^１０１はそれぞれ独立して、
（ａ’）トランス−１，４−シクロへキシレン基（当該基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。）、
（ｂ’）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、窒素原子に置換されていてもよい。）、又は
（ｃ’）１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、インダン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよく、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、窒素原子に置換されていてもよい。）を表し、
Ａ^１００又はＡ^１０１が複数存在する場合には、それらは同一でもよく、異なっていてもよく、
ｎ^１１は０又は１を表し、ｎ^１１が０を表すとき、ｍ^１２は０を表し、かつｍ^１１は０、１、２、３、４又は５を表し、ｎ^１１が１を表すとき、ｍ^１１とｍ^１２はそれぞれ独立して０、１、２、３、４又は５を表し、
Ｄは、下記式（Ｄ１）〜（Ｄ４）で表される２価の基（式（Ｄ１）〜（Ｄ４）中、アステリスク（＊）は、キラルな炭素原子を表し、黒丸を付した部位において、Ｚ^１０１（若しくは、Ｒ^１００）又はＺ^１０１（若しくは、Ｒ^１００）に、それぞれ結合する。）を表す。）

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、Ｒ^１００及びＲ^１０１はそれぞれ独立して、水素原子、シアノ基、−ＮＯ_２、ハロゲン原子、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＳＦ_５、炭素原子数１〜３０個のキラル又はアキラルなアルキル基、重合性基、又は環構造を含むキラルな基を表す。ｎ^１１が０のとき、Ｒ^１００及びＲ^１０１の少なくとも１つは、キラルなアルキル基である。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中のＲ^１００又はＲ^１０１が炭素原子数１〜３０個のキラル又はアキラルなアルキル基である場合、当該アルキル基中の１個又は２個以上の隣接していないメチレン基（−ＣＨ_２−）は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子が相互に直接結合しないものとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又はＣ≡Ｃ−により置換されていてもよく、当該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換されていてもよい。また、当該アルキル基は、直鎖状の基であってもよく、分岐鎖状の基であってもよく、環構造を含んでいる基であってもよい。

キラルなアルキル基としては、以下の一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）で表される基が好ましい。一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）中、アステリスク（＊）は、キラルな炭素原子を表す。Ｒ^１００又はＲ^１０１がこれらの基の場合、左端で、Ａ^１００（若しくは、Ｄ、Ｚ^１０１）又はＡ^１０１（若しくは、Ｄ、Ｚ^１００）に、それぞれ結合する。

一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）中、Ｒ^１０３及びＲ^１０４は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、又は水素原子を表す。但し、一般式（Ｒａ）、（Ｒｂ）、（Ｒｄ）、（Ｒｅ）、（Ｒｆ）、（Ｒｇ）、（Ｒｉ）、（Ｒｊ）においては、Ｒ^１０３が結合する炭素原子（＊を付した位置）が不斉原子となるように、Ｒ^１０３は炭素原子数１〜１０の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基である。当該アルキル基の１個又は２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子が相互に直接結合しないものとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＳＯ_２−、−ＳＯ_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、シクロプロピレン基又は−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−で置換されていてもよく、さらにアルキル基の１個又はそれ以上の水素原子が、それぞれ独立して、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）又はシアノ基で置換されていてもよい。また、当該アルキル基は、重合性基をもっていてもよい。当該重合性基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。

一般式（Ｒａ）〜（Ｒｊ）中のＲ^１０３としては、メチレン基や水素原子が他の基等に置換されていない（すなわち、無置換の）炭素原子数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基であることが好ましく、無置換の炭素原子数１〜８の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基であることがより好ましく、無置換の炭素原子数１〜６の直鎖状のアルキル基であることがさらに好ましい。

一般式（Ｒｄ）又は（Ｒｉ）中のＲ^１０４としては、水素原子又は無置換の炭素原子数１〜５の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は無置換の炭素原子数１〜３の直鎖状のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることがさらに好ましい。

一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）中、ｎ^１２は０〜２０の整数であり、０〜１０の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましく、０がさらに好ましい。
一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）中、ｎ^１３は０又は１である。
また、一般式（Ｒｋ）中、ｎ^１４は０〜５の整数である。

一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）中、Ｘ^１０１及びＸ^１０２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、ブロム原子、ヨウ素原子）、シアノ基、フェニル基（当該フェニル基の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立してハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基（−ＣＦ_３）、トリフルオロメトキシ基（−ＯＣＦ_３）で置換されていてもよい。）、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基である。但し、一般式（Ｒａ）、（Ｒｂ）、（Ｒｃ）、（Ｒｆ）、（Ｒｇ）、（Ｒｈ）においては、Ｘ^１０１が結合する炭素原子（＊を付した位置）が不斉原子となるように、Ｘ^１０１とＲ^１０３は互いに異なる基である。また、一般式（Ｒｃ）及び（Ｒｅ）において、Ｘ^１０１が結合する炭素原子（＊を付した位置）が不斉原子となるように、Ｘ^１０１とＸ^１０２は、互いに異なる基である。

一般式（Ｒａ）、（Ｒｂ）、（Ｒｃ）、（Ｒｆ）、（Ｒｇ）、（Ｒｈ）、（Ｒｋ）中のＸ^１０１及びＸ^１０２としては、それぞれ独立して、ハロゲン原子、フェニル基（当該フェニル基の１個又は２個以上の任意の水素原子はそれぞれ独立してハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基で置換されていてもよい。）、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基が好ましい。中でも、一般式（Ｒａ）、（Ｒｂ）、（Ｒｃ）、（Ｒｆ）、（Ｒｇ）、（Ｒｈ）中のＸ^１０１及びＸ^１０２としては、それぞれ独立して、フェニル基（当該フェニル基の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基で置換されていてもよい。）がより好ましく、無置換のフェニル基がさらに好ましい。また、一般式（Ｒｋ）中のＸ^１０１としては、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基がより好ましく、ハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基がさらに好ましい。

一般式（Ｒｅ）及び（Ｒｊ）中、Ｑは二価の炭化水素基である。当該二価の炭化水素基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状構造を有する基であってもよい。また、当該二価の炭化水素基の炭素原子数は、１〜１６が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましい。当該二価の炭化水素基としては、１個の炭素原子において、一般式（Ｒｅ）及び（Ｒｊ）中の２個の酸素原子とそれぞれ単結合する基が好ましい。この場合、一般式（Ｒｅ）及び（Ｒｊ）において、アスタリスクが付された２個の炭素原子と、それらとそれぞれ結合する２個の酸素原子と、Ｑ中の１の炭素原子が、５員環を形成している。具体的には、無置換の、又は１若しくは２個の水素原子が炭化水素基によって置換されたメチレン基、シクロプロピリデン基、シクロブチリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基等が挙げられ、メチレン基、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基がより好ましい。

一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）で表される基としては、一般式（Ｒａ）又は一般式（Ｒｆ）で表される基が好ましい。一般式（Ｒａ）で表される基としては、一般式（Ｒａ）中、ｎ^１２が０〜５の整数であり、Ｘ^１０１がフェニル基（当該フェニル基の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基で置換されていてもよい。）であり、Ｒ^１０３が無置換の炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である基が好ましく、ｎ^１２が０〜５の整数であり、Ｘ^１０１が無置換のフェニル基であり、Ｒ^１０３が無置換の炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である基がより好ましい。

一般式（Ｒｆ）で表される基としては、一般式（Ｒｆ）中、ｎ^１２が０〜５の整数であり、ｎ^１３が０又は１であり、Ｘ^１０３がハロゲン原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基であり、Ｒ^１０３が無置換の炭素原子数２〜１２の直鎖状のアルキル基である基が好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物のＲ^１００又はＲ^１０１としては、特に、下記式（Ｒａ−１）〜（Ｒａ−３）又は一般式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−３）で表される基が好ましい。Ｒ^１００又はＲ^１０１がこれらの基の場合、左端が、Ａ^１００（若しくは、Ｄ、Ｚ^１０１）又はＡ^１０１（若しくは、Ｄ、Ｚ^１００）に、それぞれ結合する。また、アステリスクは、キラルな炭素原子を表す。

一般式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−３）中、ｎ^１３は０又は１を表す。また、一般式（Ｒａ−１）〜（Ｒａ−３）、（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−３）中、ｎは２〜１２の整数を表す。一般式（Ｒａ−１）〜（Ｒａ−３）、（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−３）においては、ｎは３〜８の整数が好ましく、４、５又は６がより好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中のＲ^１００又はＲ^１０１が重合性基である場合、当該重合性基としては、下記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）のいずれかで表される構造からなる基が好ましい。式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１４）、（Ｒ−１６）で表される基は右端が、式（Ｒ−１５）で表される基は左端が、Ａ^１００（若しくは、Ｄ、Ｚ^１０１）又はＡ^１０１（若しくは、Ｄ、Ｚ^１００）に、それぞれ結合する。

これらの重合性基は、ラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、又はアニオン重合により硬化する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−４）、式（Ｒ−５）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）、式（Ｒ−１５）又は式（Ｒ−１６）で表される基が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）又は式（Ｒ−１６）で表される基がより好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）又は式（Ｒ−１６）で表される基がさらに好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中のＲ^１００又はＲ^１０１が環構造を含むキラルな基である場合、当該基が含む環構造は、芳香族であってもよく、脂肪族であってもよい。アルキル基が取り得る環構造としては、単環構造、縮合環構造又はスピロ（ｓｐｉｒｏｃｙｃｌｉｃ）環構造が挙げられ、また、１個又は２個以上のヘテロ原子を含むことができる。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、Ｚ^１００及びＺ^１０１はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^１０５）−、−Ｎ（Ｒ^１０５）−ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。ここで、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^１０５）−又は−Ｎ（Ｒ^１０５）−ＣＯ−中のＲ^１０５は、炭素原子数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基を表し、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜４の直鎖状のアルキル基がより好ましい。ｍ^１１が２以上の整数であり、一分子中にＺ^１００が複数存在する場合には、それらは同一でもよく、異なっていてもよい。同様に、ｍ^１２が２以上の整数であり、一分子中にＺ^１０１が複数存在する場合には、それらは同一でもよく、異なっていてもよい。一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物としては、Ｚ^１００及びＺ^１０１はそれぞれ独立して、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合が好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、Ａ^１００及びＡ^１０１はそれぞれ独立して、下記（ａ’）基、（ｂ’）基、又は（ｃ’）基である。ｍ^１１が２以上の整数であり、一分子中にＡ^１００が複数存在する場合には、それらは同一でもよく、異なっていてもよい。同様に、ｍ^１２が２以上の整数であり、一分子中にＡ^１０１が複数存在する場合には、それらは同一でもよく、異なっていてもよい。
（ａ’）トランス−１，４−シクロへキシレン基（当該基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。）。
（ｂ’）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、窒素原子に置換されていてもよい。）。
（ｃ’）１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、インダン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよく、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、窒素原子に置換されていてもよい。）。

前記（ａ’）基、（ｂ’）基、及び（ｃ’）基は、いずれも無置換であってもよく、当該基中の１個又は２個以上の水素原子がそれぞれ独立して、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜７のアルキル基（当該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は塩素原子により置換されていてもよい。）、炭素原子数１〜７のアルコキシ基（当該アルコキシ基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は塩素原子により置換されていてもよい。）、炭素原子数１〜７のアルキルカルボニル基（当該アルキルカルボニル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は塩素原子により置換されていてもよい。）、又は炭素原子数１〜７のアルコキシカルボニル基（当該アルコキシカルボニル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は塩素原子により置換されていてもよい。）によって置換されていてもよい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物のＡ^１００及びＡ^１０１としては、前記（ａ’）基又は前記（ｂ’）基が好ましく、無置換のトランス−１，４−シクロへキシレン基、無置換の１，４−フェニレン基、１個若しくは２個以上の水素原子がそれぞれ独立してフッ素原子、塩素原子、シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数１〜４のアルキルカルボニル基、若しくは炭素原子数１〜４のアルコキシカルボニル基によって置換されているトランス−１，４−シクロへキシレン基、又は、１個若しくは２個以上の水素原子がそれぞれ独立してフッ素原子、塩素原子、シアノ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数１〜４のアルキルカルボニル基、若しくは炭素原子数１〜４のアルコキシカルボニル基によって置換されている１，４−フェニレン基がより好ましく、無置換のトランス−１，４−シクロへキシレン基又は無置換の１，４−フェニレン基がさらに好ましく、無置換の１，４−フェニレン基がよりさらに好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、ｎ^１１は０又は１を表す。
ｎ^１１が０のとき、ｍ^１２は０であり、かつｍ^１１は０、１、２、３、４又は５である。ｎ^１１及びｍ^１２が０のとき、ｍ^１１は、１、２、３、又は４が好ましく、１、２又は３がより好ましい。
ｎ^１１が１のとき、ｍ^１１とｍ^１２はそれぞれ独立して０、１、２、３、４又は５、好ましくは１、２、３、又は４、より好ましくは１、２又は３である。ｎ^１１が１のとき、ｍ^１１とｍ^１２は、互いに異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）中、Ｄは、前記式（Ｄ１）〜（Ｄ４）で表される２価の基である。
式（Ｄ１）〜（Ｄ４）中、黒丸を付した部位において、Ｚ^１０１（若しくは、Ｒ^１００）又はＺ^１０１（若しくは、Ｒ^１００）に、それぞれ結合する。

前記（Ｄ１）、（Ｄ３）又は（Ｄ４）で表される基中、ベンゼン環の任意の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立してハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は炭素原子数１〜２０のアルコキシ基で置換されていてもよい。ベンゼン環中の水素原子の置換基となる炭素原子数１〜２０のアルキル基又はアルコキシ基においては、当該基中の１個又は２個以上の水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよく、当該基中の１個又は２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により、酸素原子又は硫黄原子が互いに直接結合しないように置換されていてもよい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物のうち、ｎ^１１が０である化合物としては、当該化合物の両端のＲ^１００及びＲ^１０１を除いた残りの部分構造が、下記一般式（ｂ１）〜（ｂ１３）で表される構造であることが好ましい。一般式（ｂ１）〜（ｂ１３）で表される構造は、両端のいずれか一方がＲ^１００と結合し、残る他方がＲ^１０１と結合する。但し、これらの構造を有する化合物では、Ｒ^１００及びＲ^１０１の少なくとも一方は、キラルなアルキル基である。

一般式（ｂ１）〜（ｂ１３）中、Ｚ^１０２は、一般式（Ｃｈ−Ｉ）中のＺ^１００及びＺ^１０１と同様である。

また、一般式（ｂ１）〜（ｂ１３）中、Ａ^１０２は、１，４−フェニレン基（当該基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、窒素原子に置換されていてもよく、当該基中に存在する１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基によって置換されていてもよい。）である。１，４−フェニレン基中の−ＣＨ＝や水素原子を置換することにより、当該化合物を含む液晶組成物について、結晶性の低下及び誘電異方性の向きや大きさを制御することができる。

信頼性の面では、Ａ^１０２中の環構造がピリジン環、ピリミジン環等の複素環である化合物（すなわち、１，４−フェニレン基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝が窒素原子に置換された基である化合物）よりも、ベンゼン環である化合物（すなわち、１，４−フェニレン基中に存在する−ＣＨ＝が窒素原子に置換されていない基である化合物）のほうが好ましい。一方で、誘電率異方性を大きくするという面では、Ａ^１０２中の環構造がベンゼン環である化合物よりも、ピリジン環、ピリミジン環等の複素環である化合物のほうが好ましい。ベンゼン環やシクロヘキサン環等の炭化水素環を有する化合物は、当該化合物の持つ分極性が比較的小さいが、ピリジン環、ピリミジン環等の複素環を有する化合物は、当該化合物の持つ分極性が比較的大きく、結晶性を低下させ液晶性を安定化するために好ましい。

一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物のうち、ｎ^１１及びｍ^１２が０である化合物としては、下記一般式（Ｃｈ−Ｉ−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０）が好ましい。一般式（Ｃｈ−Ｉ−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０）中、Ｒ^１００、Ｒ^１０１及びＺ^１００は、一般式（Ｃｈ−Ｉ）におけるＲ^１００、Ｒ^１０１及びＺ^１００と同じ意味を表し、Ｒ^１００及びＲ^１０１の少なくとも一つはキラルなアルキル基を表し、Ｌ^１００〜Ｌ^１０５はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表す。

一般式（Ｃｈ−Ｉ−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０）で表される化合物としては、Ｒ^１００及びＲ^１０１の一方又は両方が一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）のいずれかで表される基である化合物が好ましく、Ｒ^１００及びＲ^１０１の一方又は両方が、前記式（Ｒａ−１）〜（Ｒａ−３）又は一般式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−３）で表される基である化合物がより好ましい。Ｒ^１００及びＲ^１０１のいずれか一方のみが一般式（Ｒａ）〜（Ｒｋ）のいずれかで表される基である化合物としては、Ｒ^１００及びＲ^１０１の残りの一方が、炭素原子数１〜３０個のアキラルなアルキル基（当該アルキル基中の１個又は２個以上の隣接していないメチレン基は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又はＣ≡Ｃ−により置換されていてもよく、該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換されていてもよい。）である化合物が好ましく、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基又は炭素原子数２〜１６のアルケニルオキシ基である化合物より好ましい。

本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相としては、一般式（Ｃｈ−Ｉ−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種類は含んでいることが好ましく、一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０）で表される化合物を含んでいることがより好ましい。一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０）で表される化合物としては、具体的には、下記一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０−６）（式中、ｎ^１３は０又は１を表し、ｎは２〜１２の整数を表し、Ｒ^１０２は炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基又は炭素原子数２〜１６のアルケニルオキシ基を表し、Ｌ^１００〜Ｌ^１０５はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表す。）で表される化合物が挙げられる。一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０−６）中、Ｒ^１０２は炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアルケニル基又は炭素原子数２〜６のアルケニルオキシ基が好ましい。

ｎ^１１が１の場合、一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物は、環構造部分に不斉炭素を持つ構造となる。この場合、一般式（Ｃｈ−Ｉ）で表される化合物としては、Ｄが前記式（Ｄ２）又は（Ｄ４）である化合物が好ましく、Ｄが式（Ｄ４）である化合物がより好ましい。Ｄが式（Ｄ２）である化合物としては、下記一般式（Ｋ２−１）〜（Ｋ２−８）で表される化合物が好ましく、Ｄが式（Ｄ４）である化合物としては、下記一般式（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）で表される化合物が好ましい。一般式（Ｋ２−１）〜（Ｋ２−８）及び（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）中、アステリスク（＊）は、キラルな炭素原子を表す。

一般式（Ｋ２−１）〜（Ｋ２−８）、（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）中、Ｒ^Ｋはそれぞれ独立して、一般式（Ｃｈ−Ｉ）におけるＲ^１００及びＲ^１０１と同じ意味を表す。本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相に用いられるキラル化合物としては、一般式（Ｋ２−１）〜（Ｋ２−８）又は（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）で表される化合物の中でも、Ｒ^Ｋがそれぞれ独立して、炭素原子数１〜３０個のキラル又はアキラルなアルキル基（当該アルキル基中の１個又は２個以上の隣接していないメチレン基は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又はＣ≡Ｃ−により置換されていてもよく、該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換されていてもよい。）である化合物が好ましく、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基又は炭素原子数２〜１６のアルケニルオキシ基である化合物がより好ましく、炭素原子数３〜１０のアルキル基、炭素原子数３〜１０のアルコキシ基、炭素原子数３〜１０のアルケニル基又は炭素原子数３〜１０のアルケニルオキシ基である化合物がさらに好ましい。

＜軸不斉をもつ化合物＞
軸不斉化合物としては、具体的には、一般式（ＩＶ−１）、（ＩＶ−２）、（ＩＶ−３）又は（ＩＶ−４）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物においては、２つのナフタレン環のα位を結ぶ結合が軸不斉の軸である。
一般式（ＩＶ−１）及び（ＩＶ−２）中、Ｒ^７１及びＲ^７２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、イソチオシナネート基、又は炭素原子数１〜２０のアルキル基を表す。当該アルキル基中の任意の１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されていてもよい。さらに、当該アルキル基中の任意の１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物としては、Ｒ^７１及びＲ^７２は、それぞれ独立して、無置換の、又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜２０の無置換のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数１〜６の無置換のアルキル基であることがさらに好ましい。

一般式（ＩＶ−１）及び（ＩＶ−２）中、Ａ^７１及びＡ^７２は、それぞれ独立して、芳香族性若しくは非芳香族性の３、６ないし８員環、又は、炭素原子数９以上の縮合環を表す。これらの環構造中の任意の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、又は炭素原子数１〜３のハロアルキル基で置換されていてもよい。また、当該環構造中の任意の１個又は互いに隣接していない２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−で置換されていてもよく、当該環構造中の任意の１個又は互いに隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝で置換されていてもよい。ｍ_７１が２以上であり、一分子中にＡ^７１が複数存在する場合、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。同様に、ｍ_７２が２以上であり、一分子中にＡ^７２が複数存在する場合、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物としては、Ａ^７１及びＡ^７２は、それぞれ独立して、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。これらの基中の１個若しくは２個以上の水素原子が、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、又は炭素原子数１〜３のハロアルキル基で置換された基も好ましい。中でも、１個若しくは２個以上の水素原子がフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基がより好ましく、無置換の１，４−フェニレン基又は無置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン基がさらに好ましい。

一般式（ＩＶ−１）及び（ＩＶ−２）中、Ｚ^７１及びＺ^７２は、それぞれ独立して、単結合又は炭素原子数１〜８のアルキレン基を表す。当該アルキレン基中の任意の１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＳＯ−、−ＯＣＳ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されていてもよい。また、当該アルキレン基中の任意の１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ｍ_７１が２以上であり、一分子中にＺ^７１が複数存在する場合、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。同様に、ｍ_７２が２以上であり、一分子中にＺ^７２が複数存在する場合、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物としては、Ｚ^７１及びＺ^７２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜４の無置換のアルキレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましく、単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−がさらに好ましい。

一般式（ＩＶ−１）及び（ＩＶ−２）中、Ｘ^７１及びＸ^７２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物としては、Ｘ^７１及びＸ^７２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましく、単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−がより好ましい。

一般式（ＩＶ−２）中、Ｒ^７３は、水素原子、ハロゲン原子、又は−Ｘ^７１−（Ａ^７１−Ｚ^７１）ｍ_７１−Ｒ^７１を表す。

一般式（ＩＶ−１）及び（ＩＶ−２）中、ｍ_７１及びｍ_７２は、それぞれ独立して、１〜４の整数を表す。但し、一般式（ＩＶ−２）において、Ｒ^７３が−Ｘ^７１−（Ａ^７１−Ｚ^７１）ｍ_７１−Ｒ^７１である場合には、２個のｍ_７１のうち、いずれか一方は０でもよい。一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物としては、ｍ_７１及びｍ_７２は、それぞれ独立して、２又は３が好ましく、２がより好ましい。

一般式（ＩＶ−３）で表される化合物においては、２つのベンゼン環を結ぶ単結合が軸不斉の軸であり、一般式（ＩＶ−４）で表される化合物においては、２つのナフタレン環のα位を結ぶ結合が軸不斉の軸である。
一般式（ＩＶ−３）中、Ｒ^６１及びＲ^６２はそれぞれ独立して、任意の１個又は２個以上の水素原子がそれぞれ独立してアルキル基、アルコキシル基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基を表す。フェニル基中の水素原子と置換されるアルキル基又はアルコキシル基は、炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状であることがより好ましい。

一般式（ＩＶ−３）中、Ｒ^６３、Ｒ^６４、Ｒ^６５、Ｒ^６６、Ｒ^６７及びＲ^６８は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、又はジアルキルアミノ基を表す。一般式（ＩＶ−３）中のＲ^６３、Ｒ^６４及びＲ^６５のうちの２つが、置換基を有していてもよいメチレン鎖、又は置換基を有していてもよいモノ若しくはポリメチレンジオキシ基を形成していてもよく、Ｒ^６６、Ｒ^６７及びＲ^６８のうちの２つが、置換基を有していてもよいメチレン鎖、又は置換基を有していてもよいモノ若しくはポリメチレンジオキシ基を形成していてもよい。但し、Ｒ^６５とＲ^６６が共に水素原子の場合は除く。

一般式（ＩＶ−４）中、Ｘ^６１とＹ^６１、Ｘ^６２とＹ^６２は、それぞれ、いずれか少なくとも一方が存在し、Ｘ^６１、Ｘ^６２、Ｙ^６１、Ｙ^６２は、それぞれ独立して、ＣＨ_２、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐ、Ｂ、Ｓｉのいずれかを表す。Ｘ^６１、Ｘ^６２、Ｙ^６１、又はＹ^６２がＮ、Ｐ、Ｂ、又はＳｉである場合は、所要の原子価を満足するように、アルキル基、アルコキシ基、アシル基等の置換基と結合していてもよい。

一般式（ＩＶ−４）中、Ｅ^６１及びＥ^６２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アリル基、ベンジル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルエーテル基、アルキルエステル基、アルキルケトン基、複素環基又はこれらの誘導体のいずれかを表す。

本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相が含むキラル化合物として、螺旋誘起力が強いことが特に要求される場合には、一般式（ＩＶ−１）又は（ＩＶ−２）で表される化合物が特に好ましい。

一般式（ＩＶ−１）で表される化合物としては、具体的には、下記の一般式（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）で表される化合物が好ましく、一般式（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−６）で表される化合物がより好ましく、一般式（Ｋ４−３）〜（Ｋ４−６）で表される化合物がさらに好ましい。一般式（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）で表される化合物においては、２つのナフタレン環のα位を結ぶ結合が軸不斉の軸である。

一般式（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）中、Ｒ^７１及びＲ^７２は、一般式（ＩＶ−１）におけるＲ^７１及びＲ^７２と同じ意味を表す。本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相に用いられるキラル化合物としては、一般式（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）で表される化合物の中でも、Ｒ^７１及びＲ^７２がそれぞれ独立して、無置換又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基である化合物が好ましく、炭素原子数１〜２０の無置換のアルキル基である化合物がより好ましく、炭素原子数１〜６の無置換のアルキル基である化合物がさらに好ましい。

一般式（ＩＶ−２）で表される化合物としては、具体的には、下記の一般式（Ｋ５−１）〜（Ｋ５−３）で表される化合物が好ましい。一般式（Ｋ５−１）〜（Ｋ５−３）で表される化合物においては、２つのナフタレン環のα位を結ぶ結合が軸不斉の軸である。

一般式（Ｋ５−１）〜（Ｋ５−３）中、Ｒ^７１は、一般式（ＩＶ−２）におけるＲ^７１と同じ意味を表す。本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相に用いられるキラル化合物としては、一般式（Ｋ５−１）〜（Ｋ５−３）で表される化合物の中でも、Ｒ^７１が、任意の１個又は２個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、任意の１個又は２個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルケニル基、任意の１個又は２個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜１９のアルコキシ基、又は任意の１個又は２個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜１９のアルキル基である化合物が好ましく、炭素原子数１〜２０の無置換のアルキル基である化合物がより好ましく、炭素原子数１〜６の無置換のアルキル基である化合物がさらに好ましい。

＜面不斉をもつ化合物＞
面不斉をもつ化合としては、例えば下記一般式（ＩＶ−５）で表されるヘリセン（Ｈｅｌｉｃｅｎｅ）誘導体が挙げられる。このようなヘリセン誘導体においては、前後に重なり合う環の前後関係は自由に変換することができないため、環が右向きの螺旋構造をとる場合と左向きの螺旋構造をとる場合とが区別され、キラリティーを発現する。

一般式（ＩＶ−５）中、Ｘ^５１とＹ^５１、Ｘ^５２とＹ^５２は、それぞれ、いずれか少なくとも一方が存在し、Ｘ^５１、Ｘ^５２、Ｙ^５１、Ｙ^５２は、それぞれ独立して、ＣＨ_２、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐ、Ｂ、Ｓｉのいずれかを表す。Ｘ^５１、Ｘ^５２、Ｙ^５１、Ｙ^５２がＮ、Ｐ、Ｂ、Ｓｉである場合は、所要の原子価を満足するように、アルキル基、アルコキシ基、アシル基等の置換基と結合されていてもよい。

一般式（ＩＶ−５）中、Ｅ^５１及びＥ^５２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アリル基、ベンジル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルエーテル基、アルキルエステル基、アルキルケトン基、複素環基又はこれらの誘導体のいずれかを表す。

本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相は、１種類のキラル化合物のみを含有していてもよいが、２種類以上を組み合わせて用いるほうが好ましい。構造や物性の異なる複数種類のキラル化合物を組み合わせることにより、所望の物性を有する光学的等方性の液晶相が得られやすい。

本実施形態における光学的等方性の液晶相に用いられるキラル化合物としては、螺旋誘起力が比較的大きなものが好ましい。螺旋誘起力が大きい化合物は、当該キラル化合物が添加されるネマチック液晶組成物の螺旋構造を所望のピッチ（例えば、２５℃におけるピッチが０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍ、より好ましくは０．１〜０．４μｍ）にするために必要な添加量を少なくすることができる。

本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相が、光学的等方相をより発現しやすくなるため、液晶組成物に添加した際の螺旋誘起力の温度依存性が負である（すなわち、温度上昇に従い、螺旋誘起力が大きくなる）キラル化合物を、少なくとも１種類は用いることが好ましい。特に、ブルー相Ｉ、ブルー相ＩＩ、又は液体相のいずれとも共存していない状態のブルー相ＩＩＩを、従来になく非常に広い温度幅（例えば、２℃以上の温度幅）で発現できる光学的等方性の液晶相を製造するためには、１種類又は２種類以上の螺旋誘起力の温度依存性が正であるキラル化合物と、１種類又は２種類以上の螺旋誘起力の温度依存性が負であるキラル化合物とを組み合わせて用いることがより好ましい。

本実施形態におけるブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相は、キラル化合物として、前記一般式（Ｃｈ−Ｉ−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０）で表される化合物、前記一般式（Ｋ２−１）〜（Ｋ２−８）で表される化合物、前記一般式（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）で表される化合物、前記（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）で表される化合物、前記一般式（Ｋ５−１）〜（Ｋ５−３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種類以上を含むことが好ましく、これらの化合物群より選択される２種類以上を組み合わせて含むことがより好ましく、これらの化合物群から、少なくとも１種類の螺旋誘起力の温度依存性が正であるキラル化合物と少なくとも１種類の螺旋誘起力の温度依存性が負であるキラル化合物とを組み合わせて含むことがさらに好ましい。中でも、前記一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０）で表される化合物、前記一般式（Ｋ３−１）〜（Ｋ３−６）で表される化合物、及び前記（Ｋ４−１）〜（Ｋ４−１２）で表される化合物からなる群より選択される２種類以上を含むことが好ましく、一般式（Ｃｈ−Ｉ−３０−１）〜（Ｃｈ−Ｉ−３０−６）のいずれかで表される化合物と、前記（Ｋ４−３）〜（Ｋ４−６）のいずれかで表される化合物とを少なくとも含むことがより好ましい。

本実施形態においてブルー相、該ブルー相が高分子化合物成分４１からなるネットワークにより安定化された高分子安定化ブルー相、その他の光学的等方性の液晶相におけるキラル化合物の含有量は、用いるネマチック液晶組成物のピッチを所望の範囲内とすることができるために充分な量であれば、特に限定されるものではなく、ネマチック液晶組成物の種類、キラル化合物の種類（特に、分極性）やその組み合わせ等を考慮して、適宜調整される。本実施形態における光学的等方性の液晶相におけるキラル化合物の含有量は、例えば、ネマチック液晶組成物１００質量部に対して、１〜４５質量部、好ましくは３〜３０質量部とすることができる。

［重合性化合物］
本実施形態における高分子安定化ブルー相は、前記ネマチック液晶組成物とキラル化合物に加えて、さらに少なくとも１種類の重合性化合物が重合してなる高分子を含む。ネマチック液晶組成物にキラル化合物を含有させることにより得られる光学的等方性相を発現させる液晶組成物が得られ、当該液晶組成物にさらに高分子を加えて安定化させることにより、光学的等方性相、特にブルー相をより広い温度幅で発現させることができる。

本実施形態において高分子安定化ブルー相は、ネマチック液晶組成物とキラル化合物と重合性化合物と潤滑界面誘導剤とを混合した重合性化合物含有液晶組成物を調製した後、当該重合性化合物含有液晶組成物中の重合性基を有する化合物を重合させることによって調製することができる。該重合はブルー相である温度領域で行うことが好ましい。

当該高分子の形成に用いられる重合性化合物は、１種類であってもよく、２種類以上であってもよい。ここで、重合性化合物とは、重合性基を分子内に少なくとも１個有する化合物である。当該重合性基としては、前記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）で表される構造からなる基が好ましい。また、当該高分子の形成に用いられる重合性化合物は、光重合性化合物であってもよく、熱重合性化合物であってもよい。重合反応が比較的容易に行える点から、光重合反応により重合可能な重合性化合物であることが好ましい。

重合性化合物は、その構造により、シクロヘキサン骨格やベンゼン骨格等の環構造（メソゲン基）を有する重合性化合物（メソゲン性（液晶性）重合性化合物）と、メソゲン基を有しない重合性化合物（非メソゲン性（非液晶性）重合性化合物）に分類することができる。

＜メソゲン性重合性化合物＞
メソゲン性重合性化合物としては、下記一般式（ＰＣ１）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＰＣ１）中、Ｐ_１は重合性基を表す。Ｐ_１としては、前記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）で表される構造からなる基が好ましい。

一般式（ＰＣ１）中、Ｓｐ_１は炭素原子数０〜２０のスペーサー基を表す。当該スペーサー基としては、２価の基であって、炭素原子数が０〜２０であれば、特に限定されるものではなく、炭素原子以外の原子を含む基であってもよい。また、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環構造を有していてもよい。当該スペーサー基としては、例えば、単結合、炭素原子数１〜２０のアルキレン基、炭素原子数１〜２０のアルケニレン基、又は炭素原子数１〜２０のアリーレン基が挙げられる。当該アルキレン基又はアルケニレン基中の１個又は２個以上の隣接していないメチレン基は、酸素原子及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよい。また、当該アルキレン基又はアルケニレン基中の１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又はシアノ基によって置換されていてもよい。一般式（ＰＣ１）で表される化合物としては、Ｓｐ_１は単結合、無置換の若しくは置換基を有する炭素原子数が１〜１６のアルキレン基、又は、無置換の若しくは置換基を有する炭素原子数が１〜１６のアルケニレン基が好ましく、単結合、無置換のアルキレン基、又は置換基のアルケニレン基がより好ましい。

一般式（ＰＣ１）中、Ｑ_１は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＣＨ_３−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＣＨ_３＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、−ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、−Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。一般式（ＰＣ１）で表される化合物としては、Ｑ_１は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、−ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、−Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−及び−ＯＣＦ_２−が好ましく、製造の容易性及び液晶配向性の観点から、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ≡Ｃ−及び単結合がより好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−及び単結合が特に好ましい。

一般式（ＰＣ１）中、Ｒ_３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２５のアルキル基（当該アルキル基中の１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよい。）、又はＰ_２−Ｓｐ_２−Ｑ_２−（式中、Ｐ_２、Ｓｐ_２、Ｑ_２はそれぞれ、Ｐ_１、Ｓｐ_１、Ｑ_１と同じ意味を表す。）を表す。但し、Ｒ_３がＰ_２−Ｓｐ_２−Ｑ_２−の場合、一分子中のＰ_１とＰ_２、Ｓｐ_１とＳｐ_２、Ｑ_１とＱ_２は、それぞれ同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＰＣ１）中、ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して１、２又は３を表す。ｎ_１が１であり、かつＲ_３が重合性基を有さない場合には、一般式（ＰＣ１）で表される化合物は、単官能性の重合性化合物である。一方で、ｎ_１が２又は３の場合や、Ｒ_３が重合性基を有する場合には、一般式（ＰＣ１）で表される化合物は、２以上の重合性基を有する多官能性の重合性化合物である。

一般式（ＰＣ１）中、ＭＧは、メソゲン基を表す。メソゲン基は、液晶性を発現するための剛直性を有する官能基であり、一般的には、シクロヘキサン骨格やベンゼン骨格等の環構造を有する。当該メソゲン基としては、公知の液晶性分子が有するメソゲン部位を構成する基のいずれであってもよいが、下記一般式（ＭＧ−１）で表される基が好ましい。

一般式（ＭＧ−１）中、Ｃ^１及びＣ^３はそれぞれ独立して、１，４−フェニレン基、１，３，４−ベンゼントリイル基、１，２，４−ベンゼントリイル基、ベンゼン−１，２，４，５−テトライル基、ベンゼン−１，２，３，４−テトライル基、１，４−シクロヘキシレン基、１，３，４−シクロヘキサントリイル基、１，２，４−シクロヘキサントリイル基、シクロヘキサン−１，２，３，４−テトライル基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２,５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２,５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、２，６−ナフチレン基、ナフタレン−２，５，６−トリイル基、ナフタレン−２，３，６−トリイル基、ナフタレン−２，６，７−トリイル基、ナフタレン−２，５，６，７−テトライル基、ナフタレン−１，２，５，６−テトライル基、ナフタレン−２，３，６，７−テトライル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，５，６−トリイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６，７−トリイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，５，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，５，６−トリイル基、ピリジン−２,５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４a，９，１０a−オクタヒドロフェナントレン２，７−ジイル基、又はフルオレン２，７−ジイル基を表す。これらの基中の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基又は炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基によって置換されていてもよい。

一般式（ＭＧ−１）中、Ｃ^２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４a，９，１０a−オクタヒドロフェナントレン２，７−ジイル基、又はフルオレン２，７−ジイル基を表す。これらの基中の１個又は２個以上の任意の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基又は炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基によって置換されていてもよい。一分子中に複数のＣ^２がある場合、それらは同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＭＧ−１）中、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＣＨ_３−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＣＨ_３＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、−ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、−Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。一分子中に複数のＹ^２がある場合、それらは同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＭＧ−１）中、ｎ_５は０〜５の整数を表す。一般式（ＰＣ１）で表される化合物としては、ｎ_５は０〜３の整数が好ましく、０〜２の整数がより好ましく、０又は１がさらに好ましい。

一般式（ＰＣ１）で表される化合物のうち、単官能性の重合性化合物としては、好ましくは下記一般式（Ｖ−ａ）で表される化合物が挙げられる。

一般式（Ｖ−ａ）中、Ｒ^３１は水素原子又はメチル基を表す。
一般式（Ｖ−ａ）中、ｎ^３１は０又は１の整数を表す。
一般式（Ｖ−ａ）中、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３はそれぞれ独立して、下記の１４種類の環構造を有する２価の基（但し、ｍは、１〜４の整数を表す。）のいずれかを表す。

一般式（Ｖ−ａ）中、Ｙ^３、Ｙ^４及びＹ^５はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＣＨ_３−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＣＨ_３＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、−ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、−Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。
一般式（Ｖ−ａ）中、Ｙ^６は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表す。

一般式（Ｖ−ａ）中、Ｒ^３２は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表す。当該炭化水素基としては、炭素原子数１〜２０であって、炭素原子と水素原子からなる１価の基であれば特に限定されるものではなく、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルケニル基、炭素原子数１〜２０のアルキニル基等が挙げられる。

一般式（ＰＣ１）で表される化合物のうち、多官能性の重合性化合物としては、下記一般式（ＰＣ１−１）で表される化合物（式中、Ｐ_１、Ｐ_２、Ｓｐ_１、Ｓｐ_２、Ｑ_１、Ｑ_２、ＭＧ、ｎ_１及びｎ_２は、一般式（ＰＣ１）と同じ意味を表す。）が挙げられる。一般式（ＰＣ１−１）で表される化合物としては、より具体的には、下記一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）で表される化合物が挙げられる。

一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）中、Ｐ_１、Ｐ_２、Ｓｐ_１、Ｓｐ_２、Ｑ_１及びＱ_２は一般式（ＰＣ１）と同じ意味を表す。本発明においては、Ｓｐ_１、Ｓｐ_２、Ｑ_１、及びＱ_２は単結合が好ましい。また、Ｐ_１及びＰ_２は、それぞれ独立して前記の式（Ｒ−１）又は（Ｒ−２）が好ましい。

一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）中、Ｗ_１はそれぞれ独立して、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、フェニル基、−ＣＯＯＷ_２、−ＯＣＯＷ_２又は−ＯＣＯＯＷ_２を表す。−ＣＯＯＷ_２、−ＯＣＯＷ_２、−ＯＣＯＯＷ_２中、Ｗ_２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素原子数２〜５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基を表す。一分子中に複数のＷ_１がある場合には、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。
本発明においては、Ｗ_１はそれぞれ独立して、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、フェニル基、が好ましく、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、メチル基、又はメトキシ基がより好ましい。

一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）中、ｎ_３はそれぞれ独立して１、２又は３を表し、ｎ_４はそれぞれ独立して１、２又は３を表し、ｎ_６はそれぞれ独立して０、１、２、３又は４を表し、同一環上におけるｎ_３＋ｎ_６及びｎ_４＋ｎ_６は５以下である。本発明においては、ｎ_３＋ｎ_４が２〜４が好ましく、２又は３がより好ましい。

本発明において用いられる重合性化合物としては、一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）で表される化合物の中でも、Ｓｐ_１、Ｓｐ_２、Ｑ_１、及びＱ_２が単結合であり、Ｐ_１及びＰ_２はそれぞれ独立して前記の式（Ｒ−１）又は（Ｒ−２）であり、Ｗ_１はそれぞれ独立して、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、メチル基、又はメトキシ基であり、ｎ_３＋ｎ_４が２又は３である化合物が特に好ましい。

一般式（ＰＣ１−３）で表される化合物としては、より具体的には、下記の式（ＰＣ１−３ａ）〜（ＰＣ１−３ｉ）で表される化合物を挙げることができる。式（ＰＣ１−３ａ）〜（ＰＣ１−３ｉ）中のベンゼン環上の１個又は２個以上の水素原子が、フッ素原子で置換された化合物であってもよい。本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子は、これらの化合物のうちの１種又は２種以上を重合性原料とし、必要に応じてその他の重合性化合物と共に重合させたものであることが好ましい。

一般式（ＰＣ１−１）〜（ＰＣ１−１３）で表される化合物としては、下記一般式（Ｖ−ｂ）で表される化合物も好ましい。本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の重合性原料として一般式（Ｖ−ｂ）で表される化合物を用いることにより、機械的強度や耐熱性に優れた高分子安定化ブルー相が得られる。

一般式（Ｖ−ｂ）中、ｍ^３１は０又は１を表し、Ｙ^１１及びＹ^１２はそれぞれ独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ^１３及びＹ^１４はそれぞれ独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ_２Ｈ_４−、−ＯＣＯＣ_２Ｈ_４−、−Ｃ_２Ｈ_４ＯＣＯ−、又は−Ｃ_２Ｈ_４ＣＯＯ−を表し、r及びsはそれぞれ独立して２〜１４の整数を表す。
一般式（Ｖ−ｂ）中に存在する１，４−フェニレン基は、無置換であってもよく、１個又は２個以上の水素原子がそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、又はフェニル基で置換されていてもよい。

一般式（Ｖ−ｂ）で表される化合物としては、下記一般式（Ｖ−ｂ１）〜（Ｖ−ｂ２０）で表される化合物が特に好ましい。一般式（Ｖ−ｂ１）〜（Ｖ−ｂ２０）中、ｔ及びｕはそれぞれ独立して、２〜１４の整数を表す。本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子は、これらの化合物のうちの１種又は２種以上を重合性原料とし、必要に応じてその他の重合性化合物と共に重合させたものであることが好ましい。

＜非メソゲン性重合性化合物＞
非メソゲン性重合性化合物としては、下記一般式（ＰＣ２）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＰＣ２）中、Ｐは重合性基を表す。Ｐとしては、前記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）で表される構造からなる基が好ましい。一般式（ＰＣ２）で表される化合物としては、Ｐは、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−４）、式（Ｒ−５）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）、式（Ｒ−１５）又は式（Ｒ−１６）で表される基が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）又は式（Ｒ−１６）で表される基がより好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）又は式（Ｒ−１６）で表される基がさらに好ましい。

一般式（ＰＣ２）中、Ａ^３１は単結合又は炭素原子数１〜１５のアルキレン基を表す。
当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２）中、Ａ^３２及びＡ^３４はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表す。当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜１７のアルキル基で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２）中、Ａ^３３及びＡ^３５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基表す。当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜９のアルキル基で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２）中、ｖは１〜４０の整数を表す。
一般式（ＰＣ２）中、Ｂ^１、Ｂ^２及びＢ^３は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は−Ａ^３６−Ｐ（式中、Ａ^３６は単結合又は炭素原子数１〜１５のアルキレン基を表し、Ｐは重合性基を表す。）で表される基を表す。Ｂ^１、Ｂ^２又はＢ^３がアルキル基を表す場合、当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。Ｂ^１、Ｂ^２又はＢ^３が−Ａ^３６−Ｐで表される基であり、当該Ａ^３６が炭素原子数１〜１５のアルキレン基を表す場合、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい。但し、一分子中、２ｖ＋１個あるＢ^１、Ｂ^２又はＢ^３のうち、−Ａ^３６−Ｐで表される基は０〜３個である。一分子中、Ｐが複数存在する場合には、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料となる重合性化合物としては、一般式（ＰＣ２）で表される化合物を１種類又は２種類以上を用いることが好ましく、一般式（ＰＣ２）で表される化合物のうち、主鎖長やアルキル側鎖長の異なるものを複数用いてもよい。

一般式（ＰＣ２）で表される化合物としては、具体的には、下記一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｈ）で表される化合物が好ましく挙げられる。本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料となる重合性化合物としては、一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｈ）で表される化合物からなる群から選ばれる１種類以上を用いることが好ましく、一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｄ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも１種類以上用いることがより好ましい。

一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｈ）中、Ｐは重合性基を表し、Ｂ^４は水素原子又はメチル基を表す。Ｐとしては、前記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）で表される構造からなる基が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）又は式（Ｒ−１６）で表される基がより好ましく、重合速度が速いことから式（Ｒ−１）で表される基がさらに好ましい。一般式（ＰＣ２−ａ）、（ＰＣ２−ｃ）、（ＰＣ２−ｅ）、（ＰＣ２−ｇ）で表される化合物において、一分子中に含まれる２個のＰは、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^３７及びＡ^４２はそれぞれ独立して、単結合又は炭素原子数１〜１５のアルキレン基を表す。当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、メチル基又はエチル基で置換されていてよい。

一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^３８及びＡ^４１はそれぞれ独立して、炭素原子数２〜２０の直鎖状のアルキル基を表す。当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^３９及びＡ^４２はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。また、当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜９のアルキル基で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^４０は炭素原子数９〜１６のアルキレン基を表す。当該アルキレン基中に存在する少なくとも１個以上５個以下のメチレン基において、当該メチレン基中の任意の１個の水素原子は、炭素原子数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基で置換されている。また、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、それぞれ独立して、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。

一般式（ＰＣ２−ａ）で表される化合物において、２個の重合性基間の距離（架橋点間の距離）は、Ａ^３７とＡ^４０とＡ^４３とで独立的にそれぞれ炭素原子数の長さを変えて調整することができる。一般式（ＰＣ２−ａ）で表される化合物の特徴の１つは、重合性基間距離が長いことである。但し、当該距離があまりに長い場合には重合速度が極端に遅くなり、相分離に悪い影響を及すおそれがあるため、重合性基間距離には上限がある。一方、Ａ^３８及びＡ^４１の２個の側鎖間距離も主鎖の運動性に影響を及ぼす。すなわち、Ａ^３８及びＡ^４１の間の距離が短い場合には、側鎖Ａ^３８及びＡ^４１がお互いに干渉するようになり、化合物全体の運動性の低下をきたす。そこで、重合性基間距離が同程度の場合には、Ａ^３８及びＡ^４１の炭素原子数が長いものよりも、Ａ^４０の炭素原子数が長いもののほうが好ましい。

一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^４０は、側鎖間距離（Ａ^３８及びＡ^４１の距離、Ａ^３９及びＡ^４２の距離）を調整する点からも、架橋点間距離を広げてガラス転移温度を下げる点からも、長い方が好ましい。しかしながらＡ^４０が長すぎる場合は、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）で表される化合物の分子量が大きくなりすぎ、液晶組成物との相溶性が低下する傾向にあること、及び重合速度が遅くなりすぎるために相分離に悪影響がでること等の理由から、自ずとＡ^４０の長さには上限が設定される。

よって、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）で表される化合物において、Ａ^４０は、炭素原子数９〜１６のアルキレン基（当該アルキレン基中に存在する少なくとも１個以上５個以下のメチレン基において、当該メチレン基中の任意の１個の水素原子は、炭素原子数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基で置換されている。当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）であることが好ましい。

Ａ^４０は構造上の特徴として、アルキレン基中の水素原子が炭素原子数１〜１０のアルキル基で置換された構造を有する。一のアルキレン基中のアルキル基で置換される水素原子の数は１個以上５個以下であるが、１個から３個が好ましく、２個又は３個がより好ましい。置換基であるアルキル基の炭素原子数は、１〜５個が好ましく、１〜３個がより好ましい。

一方、側鎖であるＡ^３８、Ａ^３９、Ａ^４１、Ａ^４２においては、これらの側鎖の長さが次のような態様を有することが好ましい。なお、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）において、Ａ^３８とＡ^３９は主鎖の同じ炭素原子に結合しているが、これらの長さが異なるとき、長いほうの側鎖をＡ^３８と呼ぶものとする（Ａ^３８の長さとＡ^３９の長さが等しい場合は、いずれが一方をＡ^３８とする）。同様に、Ａ^４１の長さとＡ^４２の長さが異なるとき、長いほうの側鎖をＡ^４１と呼ぶものとする（Ａ^４１の長さとＡ^４２の長さが等しい場合は、いずれが一方をＡ^４１とする）。

側鎖は、主鎖に比べて運動性が高い。このため、側鎖の存在は、通常は低温での高分子鎖の運動性向上に寄与するが、側鎖間で空間的な干渉が起こる状況では、逆に運動性は低下する。このような側鎖間での空間的な干渉を防ぐために、側鎖長を必要な範囲内で短くすることが有効である。

そこで、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^３８及びＡ^４１は、好ましくは、それぞれ独立して炭素原子数２〜１８の直鎖状のアルキル基（当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）であり、より好ましくは、それぞれ独立して炭素原子数３〜１５の直鎖状のアルキル基（当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）である。

また、Ａ^３９及びＡ^４２についても、その長さが長すぎることは、側鎖間の空間的な干渉を誘起するため好ましくない。一方で、長さの短い側鎖は、高い運動性を有していることに加えて、隣接する主鎖同士の接近を阻害し、高分子主鎖間の干渉を防ぎ、主鎖の運動性を高める作用を有すると考えられる。このため、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）で表される化合物においては、Ａ^３９及びＡ^４２の長さを短くすることにより、アンカーリングエネルギーが低温で増加して行くことを抑制することができ、得られた高分子安定化ブルー相を用いた液晶光学素子の低温域における特性を改善する上で有効である。

そこで、一般式（ＰＣ２−ａ）又は（ＰＣ２−ｂ）中、Ａ^３９及びＡ^４２は、好ましくは、それぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜７のアルキル基（当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）であり、より好ましくは、それぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基（当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）であり、さらに好ましくは、それぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜３のアルキル基（当該アルキル基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。）である。

一般式（ＰＣ２−ｃ）又は（ＰＣ２−ｄ）中、ａは６〜２２の整数を表す。一般式（ＰＣ２−ｄ）で表される化合物のうち、Ｂ^４が水素原子である化合物としては、例えば、ドデシルアクリレート等のアルキルアクリレートが挙げられる。

一般式（ＰＣ２−ｅ）又は（ＰＣ２−ｆ）中、ｂ及びｃはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表し、ｄは１〜１０の整数を表し、ｅは０〜６の整数を表す。側鎖間の空間的な干渉を抑制する点から、ｄとｅの少なくとも一方は、１〜５の整数であることが好ましく、１〜３の整数であることがより好ましい。

一般式（ＰＣ２−ｇ）又は（ＰＣ２−ｈ）中、ｆ、ｇ、ｈ及びｉはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表す。側鎖間の空間的な干渉を抑制する点から、ｈとｉの少なくとも一方は、１〜５の整数であることが好ましく、１〜３の整数であることがより好ましい。

一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｈ）で表される化合物をはじめとする一般式（ＰＣ２）で表される化合物は、公知の化合物を出発原料とし、公知の有機合成反応を適宜組み合わせて合成することができる。

例えば、一般式（ＰＣ２−ａ）において、Ａ^３９及びＡ^４２が水素原子である化合物は、エポキシ基を複数有する化合物と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するアクリル酸やメタクリル酸等の重合性化合物とを反応させ、水酸基を有する重合性化合物を合成し、次に、飽和脂肪酸と反応させることにより得ることができる。
また、複数のエポキシ基を有する化合物と飽和脂肪酸とを反応させ、水酸基を有する化合物を合成し、次に水酸基と反応し得る基を有するアクリル酸塩化物等の重合性化合物とを反応させることによっても得ることができる。

また、一般式（ＰＣ２−ａ）のＡ^３９及びＡ^４２がアルキル基であり、Ａ^３７及びＡ^４３がメチレン基である化合物は、例えば、オキセタン基を複数有する化合物と、オキセタン基と反応し得る脂肪酸塩化物や脂肪酸とを反応させ、さらに、アクリル酸などの活性水素を有する重合性化合物とを反応させる方法や、オキセタン基を一つ有する化合物と、オキセタン基と反応し得る多価の脂肪酸塩化物や脂肪酸とを反応させ、さらに、アクリル酸などの活性水素を有する重合性化合物とを反応させる方法等により得ることができる。

また、一般式（ＰＣ２−ａ）のＡ^３７及びＡ^４３が炭素原子数３のアルキレン基（プロピレン基；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−）である化合物は、例えば、オキセタン基の代わりにフラン基を複数有する化合物を用いることにより、前記と同様にして得ることができる。
さらに、一般式（ＰＣ２−ａ）のＡ^３７及びＡ^４３が炭素原子数４であるアルキレン基（ブチレン基；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−）である化合物は、例えば、オキセタン基の代わりにピラン基を複数有する化合物を用いることにより得ることができる。

＜キラリティーを有する重合性化合物＞
本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料となる重合性化合物としては、アキラルな化合物又は実質的にラセミ体であることが好ましいが、キラルな重合性化合物を用いてもよい。キラルな重合性化合物としては、例えば、下記の一般式（ＶＩ−ａ）又は（ＶＩ−ｂ）で表される重合性化合物を用いることができる。

一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＶＩ−ｂ）中、Ｐは重合性基を表す。Ｐとしては、前記の式（Ｒ−１）〜（Ｒ−１６）で表される構造からなる基が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）又は式（Ｒ−１６）で表される基がより好ましく、式（Ｒ−１）又は式（Ｒ−２）で表される基がさらに好ましく、重合速度が速いことから式（Ｒ−１）で表される基がより好ましい。

一般式（ＶＩ−ａ）中、ｎ^２１は０又は１の整数を表す。また、一般式（ＶＩ−ｂ）中、ｎ^２２は、０、１又は２の整数を表す。ｎ^２２が２であり、一分子中にＴ^２４及びＹ^２５が複数存在する場合、それらは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＶＩ−ｂ）中、Ｔ^２１、Ｔ^２２、Ｔ^２３、Ｔ^２４は、それぞれ独立して、６員環構造を有する２価の基（６員環式２価基）を表す。当該６員環式２価基としては、下記の１２種類の６員環式２価基が挙げられる。なお、下記一般式において、ｍは１〜４の整数を示す。一般式（ＶＩ−ａ）又は（ＶＩ−ｂ）で表される化合物としては、Ｔ^２１、Ｔ^２２、Ｔ^２３、Ｔ^２４は、それぞれ独立して、前記１２種類の６員環式２価基のいずれかであることが好ましく、１，４−フェニレン基、又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基がより好ましい。

一般式（ＶＩ−ｂ）中、Ｔ^２５は、６員環構造を有する３価の基（６員環式３価基）を表す。当該６員環式３価基としては、ベンゼン−１，２，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基、シクロヘキサン−１，２，４−トリイル基、シクロヘキサン−１，３，４−トリイル基又はシクロヘキサン−１，３，５−トリイル基等が挙げられる。

一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＶＩ−ｂ）中、Ｙ^２２、Ｙ^２３、及びＹ^２５は、それぞれ独立して、単結合、又は炭素原子数が１〜１０である直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキレン基を表す。当該アルキレン基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個のメチレン基は、酸素原子及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−により置換されていてもよい。また、当該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は塩素原子に置換されていてもよい。さらに、当該アルキレン基は、不斉炭素原子を含んでいてもよく、含まなくてもよい。当該アルキレン基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ_２−、又は−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ−が挙げられる。

一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＩＩ−ｙ）中、Ｙ^２１及びＹ^２４は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、又は−ＣＯＯ−を表す。

一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＶＩ−ｂ）中、Ｚ^２１は、不斉炭素原子を有し、かつ分枝鎖構造を含む炭素原子数３〜２０のアルキレン基を表す。
一般式（ＶＩ−ａ）及び（ＶＩ−ｂ）中、Ｚ^２２は、炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表す。当該アルキレン基は、不斉炭素原子を含んでいてもよく、含まなくてもよい。

本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料としては、少なくとも１種類の重合性化合物を用いればよいが、重合反応後に得られる重合物（高分子）の物性が所望の範囲となるように、複数種類の重合性化合物を適宜組み合わせて用いることが好ましい。複数種類の重合性化合物を用いる場合、少なくとも１種類の単官能性重合性化合物と少なくとも１種類の多官能性重合性化合物とを用いることが好ましい。多官能性重合性化合物を原料とすることにより、重合反応によって、架橋構造を有する高分子を含む高分子安定化ブルー相が得られる。

また、本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子のガラス転移温度は、−１００℃〜２５℃であることが好ましい。そこで、重合反応後の高分子のガラス転移温度が当該範囲内となるように、原料として用いる重合性化合物の種類や組成を適宜調整することが好ましい。

さらに、本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料としては、少なくとも１種類のメソゲン性重合性化合物と、少なくとも１種類の非メソゲン性重合性化合物とを用いることが好ましい。高分子の原料として、メソゲン性重合性化合物と非メソゲン性重合性化合物の両者を用いることにより、重合反応によって得られる高分子安定化ブルー相が光学的等方性相を発現する温度範囲をより広くすることができる。

ブルー相ＩＩＩの発現温度範囲を広げることを目的とする場合には、本実施形態における高分子安定化ブルー相に含まれる高分子の原料には、少なくとも１種類の多官能のメソゲン性重合性化合物と、少なくとも１種類の単官能若しくは多官能の非メソゲン性重合性化合物とを含むことが好ましく、前記式（ＰＣ１−３ａ）〜（ＰＣ１−３ｉ）で表される化合物及び前記一般式（Ｖ−ｂ１）〜（Ｖ−ｂ２０）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種類の化合物と、前記一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｈ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種類の化合物を含むことがより好ましく、前記式（ＰＣ１−３ａ）〜（ＰＣ１−３ｉ）で表される化合物及び前記一般式（Ｖ−ｂ１）〜（Ｖ−ｂ２０）で表される化合物からなる群より選択される１種類以上の化合物と、前記一般式（ＰＣ２−ａ）〜（ＰＣ２−ｄ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種類の化合物とを含むことがさらに好ましい。

＜重合開始剤＞
本発明における液晶組成物と重合性化合物とを含む混合物は、必要に応じて、重合開始剤を含んでいてもよい。例えば、当該重合性化合物をラジカル重合によって重合させる場合には、ラジカル重合開始剤として、熱重合開始剤、光重合開始剤を添加しておくことができる。

具体的には以下の化合物が好ましく用いられる；
ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン系；
ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系；
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系；
ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル系；
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；
２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系；
ミヒラーケトン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系；
１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等。

当該混合物に含有させるラジカル重合開始剤としては、これらの化合物の中でも、ベンジルジメチルケタールが好ましい。

第２実施形態の光学素子は、例えば、ネマチック液晶組成物と、全てのキラル化合物と、高分子化合物成分の原料となる全ての重合性化合物と、潤滑界面誘導剤とを混合した後、少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板の間に、当該混合物を充填し、セル内全体が液晶相になっている状態から徐々に昇温して相分離構造を発現させる。次に当該重合性化合物含有液晶組成物中の重合性基を有する化合物を重合させることによって製造することができる。

該混合物を一対の基板間に充填し、あらかじめセル内全体が液晶相になるように冷却し、徐々に昇温して液体相を界面に発現させてもよい。また、当該一対の基板の間に、当該混合物を充填し、一旦、等方相へ加温し、その後、降温してブルー相を発現させ、当該重合性化合物を紫外線照射により重合させることによって製造することができる。

第２実施形態の光学素子において用いることのできる液晶成分としては、第１実施形態の光学素子において説明したネマチック液晶組成物又は液晶化合物、上述のキラル化合物、重合性化合物、重合開始剤を用いることができる。また、第２実施形態の光学素子において用いることのできる潤滑界面誘導剤としては、第１実施形態の光学素子において説明した潤滑界面誘導剤を用いることができる。これらの液晶成分と、潤滑界面誘導剤との混合物を、ブルー相（モノマー含有ブルー相）の状態でモノマーを重合させると、高分子安定化ブルー相（ブルー相中に存在したモノマーが重合してポリマーとなって、その結果、ブルー相の温度範囲が拡大したもの）が得られる。

ネマチック液晶組成物とキラル化合物と重合性化合物と潤滑界面誘導剤とを混合する順番は特に限定されるものではなく、全原料を実質的に同時に混合してもよく、予めネマチック液晶組成物とキラル化合物とが混合されている液晶組成物に、高分子化合物成分の原料となる全ての重合性化合物と潤滑界面誘導剤とを混合してもよく、予めネマチック液晶組成物とキラル化合物と重合性化合物とが混合されている重合性化合物含有液晶組成物に、潤滑界面誘導剤を混合してもよい。

当該重合性化合物含有液晶組成物中の全重合性化合物の総量は、用いる重合性化合物の種類、ネマチック液晶組成物の種類、キラル化合物の種類等を考慮して適宜決定することができるが、０．１〜４０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましい。
また、当該重合性化合物含有液晶組成物中のネマチック液晶組成物とキラル化合物との混合物の含有量は、６０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９６質量％がより好ましく、８０〜９４質量％がさらに好ましい。
当該重合性化合物含有液晶組成物と潤滑界面誘導剤との混合物中の潤滑界面誘導剤の含有量は、０．５〜１５質量％であることが好ましく、０．８〜１０質量％がより好ましく、１．０〜８質量％がさらに好ましい。

本実施形態において、液晶成分２３は、アキラルな液晶性化合物と、キラル化合物とを含む成分とすることができる。アキラルな液晶性化合物としては、上述の液晶性化合物のうち、アキラルな液晶性化合物を適宜選択して用いることができる。液晶成分２３としては、少なくとも２種類のアキラルな液晶性化合物を含むネマチック液晶組成物と、少なくとも１種類のキラル化合物を含むことが好ましい。

本発明の光学素子は、第１実施形態、第２実施形態のいずれにおいても、電圧印加は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を介して実施することも可能であり、これにより画素を形成して空間変調素子や液晶表示装置への応用が可能になる。
例えば、本発明の光学素子は、横電界タイプの液晶表示装置への応用が可能になる。図７に、横電界タイプの液晶パネルのアクティブマトリクス基板１２０ａを模式的に示す。

アクティブマトリクス基板１２０ａ上には、互いに略平行に延びる複数の走査配線１２３と、走査配線１２３に交差する方向に延びる複数の信号配線１２４と、対応する走査配線１２３および信号配線１２４に電気的に接続されたＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１２５と、ＴＦＴ１２５に電気的に接続された画素電極１２６とが形成されている。画素電極１２６は、信号配線１２４に略平行に延びる櫛歯状に形成されている。

アクティブマトリクス基板１２０ａ上には、さらに、画素電極１２６に略平行な櫛歯状に形成された共通電極１２７が設けられている。共通電極１２７は、走査配線１２３に略平行に形成された共通配線１２８から延設されている。共通配線１２８は、画素電極１２６と同一の導電層から形成された補助容量電極１２９と絶縁膜（不図示）を介して対向し、補助容量を構成する。
図７に示すアクティブマトリクス基板１２０ａの表面には、水平配向性を有する配向膜が形成されている。また、アクティブマトリクス基板１２０ａに対向するカラーフィルタ基板１２０ｂの表面にも水平配向性を有する配向膜が形成されている。

画素電極１２６及び共通配線１２８として、不透明の金属電極（たとえば、アルミニウム、チタニウム、銅など）、透明電極（ＩＴＯ、ＩＺＯ）を用いることがきる。

アクティブマトリクス基板１２０ａとカラーフィルタ基板１２０ｂとの間に、液晶成分３３及び潤滑界面誘導剤３４を封入して、液晶表示装置６０とすることができる（図１５）。

横電界タイプの液晶表示装置では、例えば、液晶成分のうち液晶分子は、正の誘電異方性を有しており、電圧印加時には、画素電極１２６と共通電極１２７との間に生成される横電界（アクティブマトリクス基板１２０ａ及びカラーフィルタ基板１２０ｂの面に平行な電界）によって、その配向方向を変化させる。この横電界タイプの表示装置では、液晶分子の配向方向がアクティブマトリクス基板１２０ａ及びカラーフィルタ基板１２０ｂの面に平行な面内で変化するため、良好な視野角特性が実現される。

なお、負の誘電異方性を有する液晶を用いることもできる。この場合は、初期配向方位を９０度回転させておく必要がある。負の誘電異方性の液晶を用いた場合、一般的には正の誘電異方性の液晶よりも応答特性が劣る傾向にあるが、液晶の電界による配向変形の基板面外成分が小さいため、視野角特性はさらに改善する特徴を有し、適宜選定することが望ましい。
なお、図８に示すアクティブマトリクス基板１２０ａの様に、画素電極１２６及び共通電極１２７の形状を屈曲型にすれば、斜め視角の着色現象を抑制できる。

また、図７に示すアクティブマトリクス基板１２０ａの横電界タイプの表示装置と同様、負の誘電異方性を有する液晶を用いることもでき、同様の特徴を有する。なお、ブルーフェーズ液晶の場合は、図９に示すアクティブマトリクス基板７０の横電界タイプの表示装置のように、屈曲の角度は９０度であることが望ましい。

本発明の光学素子は、第１実施形態、第２実施形態のいずれにおいても、第１電極３８及記第２電極３９が、前記一対の基板３１，３２の間にフリンジ電界を発生させるフリンジフィールドタイプ（図１０）とすることができ、低電圧駆動性、高速応答性、広視野角特性を実現できる。
フリンジフィールドタイプ（図１０）では、第１電極３８（共通電極）が下層にあり、絶縁膜３５（ＳｉＮｘやＳｉＯｘ）を介して、上層に第２電極３９（画素電極）を有する。なお、配線の仕方により、共通電極と画素電極の上下関係を入れ替えることもできる。

少なくとも透光性を確保するためには、下層電極はＩＴＯやＩＺＯのような透明電極である必要がある。
この場合においても、図８に示すアクティブマトリクス基板１２０ａの様に、画素電極１２６及び共通電極１２７の形状を屈曲型にすれば、斜め視角の着色現象を抑制できる。

本発明の光学素子は、第１実施形態、第２実施形態のいずれにおいても、更に、第３電極を備え、複数の向きの電界を発生させるタイプの光学素子（図１９、図２０）とすることができる。

図１９はこのタイプの光学素子の横電界発生時における断面模式図である。図２０は、縦電界発生時における断面模式図である。図１９、図２０の光学素子では、一対の電極１８，１９に加えて、対向電極４９を備えている。図１９及び図２０において、点線は、発生する電界の向きを示す。

偏光板が両基板外側に配置され（図示せず）、互いの偏光軸は直交である。
すなわち、スリッパリー界面が形成されていることにより、電圧印加により黒状態から白状態への液晶分子４５の低電圧回転を実現される。これに加えて、対向電極４９による電圧印加により強制的に正面から見た複屈折をゼロにすることにより、逆の白から黒へ応答をより高速化、低電圧化することができる。これにより、白→黒、黒→白の両方向の応答において、スリッパリー界面が形成されていることの特徴（低電圧化）を最大限に発現させることができる。

液晶表示パネルは、ポジ型液晶である液晶分子４５を用いた垂直配向型の２層電極構造を有する。立上がりは、図１９に示すように、一対の電極１８，１９（例えば、電位０Ｖである櫛歯電極１８と電位１４Ｖである櫛歯電極１９とからなる）間の電位差１４Ｖで発生する横電界により、液晶分子４５を回転させる。このとき、基板間（電位７Ｖである対向電極４９との間）の電位差は実質的に生じていない。図１９で、液晶の配向方位は、一方の偏光板の偏光軸と４５度の角度をなし、複屈折により光透過する。すなわち白表示が実現される。

また、立下がりは、図２０に示すように、基板間（例えば、電位０Ｖである櫛歯電極１８、及び櫛歯電極１９と、電位７Ｖである対向電極４９との間）の電位差７Ｖで発生する縦電界により、液晶分子４５を瞬時に垂直に配向するよう回転させる。このとき、一対の櫛歯電極（例えば、電位０Ｖである櫛歯電極１８と電位０Ｖである櫛歯電極１９とからなる）間の電位差は実質的に生じていない。図２０で、液晶の配向方位は、一方の偏光板の偏光軸と０度の角度をなし、複屈折はほとんどなく、光はほとんど透過しない。すなわち電圧印加による強制的な黒表示が実現される。

ただし、電界方向が基板法線に対して、やや斜めに発生するため、若干の複屈折による光漏れが発生する。すなわちコントラストの低い光学素子となる。これを改善するには、さらなる第4電極を追加することが望ましい。

本発明の光学素子は、第１実施形態、第２実施形態のいずれにおいても、更に、第３電極及び第４電極を備え、複数の向きの電界を発生させるタイプの光学素子（図１１、図１２）とすることができる。

図１１はこのタイプの光学素子の横電界発生時における断面模式図である。図１２は、縦電界発生時における断面模式図である。図１１、図１２の光学素子では、一対の電極１８，１９に加えて、対向電極４８，４９、絶縁膜３５を備えている。図１１及び図１２において、点線は、発生する電界の向きを示す。
偏光板が両基板外側に配置され（図示せず）、互いの偏光軸は直交である。
すなわち、スリッパリー界面が形成されていることにより、電圧印加により黒状態から白状態への液晶分子４５の低電圧回転を実現される。これに加えて、対向電極４８，４９による電圧印加により強制的に正面から見た複屈折をゼロにすることにより、逆の白から黒へ応答をより高速化、低電圧化することができる。これにより、白→黒、黒→白の両方向の応答において、スリッパリー界面が形成されていることの特徴（低電圧化）を最大限に発現させることができる。

液晶表示パネルは、ポジ型液晶である液晶分子４５を用いた垂直配向型の３層電極構造を有する。立上がりは、図１１に示すように、一対の電極１８，１９（例えば、電位０Ｖである櫛歯電極１８と電位１４Ｖである櫛歯電極１９とからなる）間の電位差１４Ｖで発生する横電界により、液晶分子４５を回転させる。このとき、基板間（電位７Ｖである対向電極４８と電位７Ｖである対向電極４９との間）の電位差は実質的に生じていない。図１１で、液晶の配向方位は、一方の偏光板の偏光軸と４５度の角度をなし、複屈折により光透過する。すなわち白表示が実現される。

また、立下がりは、図１２に示すように、基板間（例えば、それぞれ電位１４Ｖである対向電極４８、櫛歯電極１８、及び、櫛歯電極１９と、電位７Ｖである対向電極４９との間）の電位差７Ｖで発生する縦電界により、液晶分子４５を瞬時に垂直に配向するよう回転させる。このとき、一対の櫛歯電極（例えば、電位１４Ｖである櫛歯電極１８と電位１４Ｖである櫛歯電極１９とからなる）間の電位差は実質的に生じていない。図１２で、液晶の配向方位は、一方の偏光板の偏光軸と０度の角度をなし、複屈折により光は透過しない。すなわち電圧印加による強制的な黒表示が実現される。

本発明の光学素子は、第１実施形態、第２実施形態のいずれにおいても、図１３に示すように、更に、第３電極及び第４電極を設けて、両方の基板に櫛歯電極ありとすることができる。すなわち、一方の基板に第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設け、更に、他方の基板に第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けて、複数の向きの電界を発生させる光学素子とすることができる。図１４は、図１３の要部を拡大して示す平面図である。

この態様の光学素子では、電圧印加により黒状態から白状態へのスリッパリー界面が形成されている効果による液晶分子の低電圧回転を実現する。これに加えて、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に電位差を設けて、第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を同電位とするか、又は、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間に電位差を設けて、第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を同電位とすることにより、白→黒、黒→白の両方向の応答において、スリッパリー界面が形成されている状態の特徴（低電圧化）が最大限に発現させることができる。

以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は「質量％」を意味する。

（実施例１）
洗浄した２枚のガラス基板を用意し、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート、Ｍｗ＝１２０，０００）をスピンキャスト法により両方のガラス基板上に成膜した。次に一方に直径が５μｍのプラスチックビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにしてできた５μｍの間隙に、７ＣＢ（４−シアノ−４’−ヘプチルビフェニル）に１２Ａ（ドデシルアクリレート）を４．８質量％含有させた混合物を毛細管現象により注入した。

図３に、外部磁場を印加した際の配向の変化を、クロスニコルの偏光顕微鏡下で低温（ａ，ｂ）と高温（ｃ，ｄ）の２つの温度において観察した様子を示す。相転移温度から十分に低温では水平配向のＮ相を示し、磁場印加前（ａ）と磁場印加中（ｂ）において、観察されるシュリーレン組織に変化がなく、液晶分子はＰＭＭＡ基板でアンカーリングされていることがわかる。一方温度を上昇させていくとある一定の温度でシュリーレン組織が大きく変化し始め基板面近傍のみが液体相となるぬれ転移が確認できた（ｃ）。この状態で基板面内に弱い外部磁場(０．１Ｔ)を印加すると組織が大きく変化し、大部分の液晶分子は磁場方向に配向した（ｄ）。以上の結果から、I相濡れ薄膜がガラス基板上に形成されており、アンカーリングが弱くなって液晶分子の外場によって自由に回転することが確認できた。
このようにスリッパリー界面が形成され、微弱な外力（この場合は磁場）で液晶分子の方向を変化させることができる素子が得られることがわかった。

次に、温調器により４５℃に加温し等方相としたのち、ガラス基板平面に平行となる方向へ磁場０．４４Ｔを印加しながら２５℃まで降温し、一様水平配向の液晶セルを得た。
この液晶セルを３６．０℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、レーザー光による複屈折観察を行った。なお、前記磁場は印加したままとし、さらには磁場の方向が一方の偏光板の透過軸に一致するようにした。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されなかった。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、ネマチック液晶とガラス基板の間に、ドデシルアクリレートの液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた（図５の黒色四角のプロットデータ）。

（比較例１）
実施例１において、１２Ａ（ドデシルアクリレート）を含有させない他は同様にして、一様水平配向の液晶セルを作製した。さらに、実施例１と同様にして、磁場印加下における複屈折を観察した。比較例１の液晶セルの場合は、液晶セルの回転に応じて液晶配向方向が一致して回転するような複屈折光の増減が確認された。つまり、１２Ａ（ドデシルアクリレート）を含有させない場合はスリッパリー界面が形成されないことが確認された（図５の灰色菱形のプロットデータ）。

（実施例２）
実施例１において、直径が５μｍのプラスチックビーズに代えて、直径が１２μｍのプラスチックビーズを用いて、１２μｍの間隙に７ＣＢ及び１２Ａを充填した他は同様にして、一様水平配向の液晶セルを作製した。
ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３）
実施例１において、直径が５μｍのプラスチックビーズに代えて、直径が２５μｍのプラスチックビーズを用いて、２５μｍの間隙に７ＣＢ及び１２Ａを充填した他は同様にして、一様水平配向の液晶セルを作製した。

実施例１、実施例２、実施例３のそれぞれの液晶セルについて、液晶分子の配向方向と直交方向に磁場を印加し、透過光強度の印加磁場強度依存性からフレデリクス転移の閾値磁場強度を測定した。複数のセル厚の試料における閾値磁場の温度依存性を図４に示す。
いずれのセル厚の液晶セルについても、濡れ転移温度を越えると閾値磁場強度が大きく減少している。ぬれ転移が生じていない低温では薄いサンプルほど基板でのアンカーリングの影響が大きくフレデリクス転移には大きい磁場強度を必要とする。一方、ぬれ転移が生じている温度（Ｔ_ＮＩ−３℃〜Ｔ_ＮＩ）では、セル厚の依存性は小さく、同時に基板面内でのアンカーリング力が非常に小さくなっており、ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが証明された。

（実施例４）
図６（ａ）は、表面に櫛歯電極１８，１９を有するガラス基板１１と、電極を有しないガラス基板１２を用いた光学素子を示す概略図である。図６（ｂ）は、それに電界を印加した様子を示す概略図である。
櫛歯電極１８，１９はクロムで形成され、電極幅は１０μｍ、電極間距離は１０μｍとし、電極間に略基板に平行な電界を印加できるようにした。
これら２種のガラス基板を洗浄した後、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）の５質量％トルエン溶液をスピンキャスト法により両方のガラス基板上に成膜して被膜２２を形成した。そして、１２０℃において９０分加熱した。さらには、櫛歯電極の長手方向に対して４５度方向にラビングを施した。
次に一方に直径が２μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにしてできた２μｍの間隙に、液晶成分１３として７ＣＢ（４−シアノ−４’−ヘプチルビフェニル）に潤滑界面誘導剤１４として１２Ａ（ドデシルアクリレート）を５．１７質量％含有させた混合物を毛細管現象により注入した。

電圧無印加時の液晶分子の配向方向はラビング方向であることが偏光顕微鏡観察において確認できた。この状態において、２Ｖｐｐ，１０Ｈｚのパルス電圧を印加した。図６（ｂ）において、点線は、発生する電界の向きを示す。偏光顕微鏡観察したところ、ラビング方向から４５度回転し、液晶分子は櫛歯電極の長手方向に直交する方向に一様に配向する様子が観察された（図１６）。すなわち、ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面において、スリッパリー界面による一様な液晶分子配向の回転を確認できた。

（比較例２）
実施例４において、１２Ａ（ドデシルアクリレート）を含有させない他は同様にして、一様水平配向の液晶セルを作製した。実施例４と同様にして、偏光顕微鏡観察を実施したところ、２Ｖｐｐ，１０Ｈｚのパルス電圧印加では、液晶分子の応答を確認することが出来なかった。比較例２の液晶セルでは、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例５）
下記式（１）で表される液晶性化合物４−４’−アゾキシジアニソール（ＰＡＡ）９４．５質量％と、ＰＥＧ（ポリエチレングリコール、分子量１０，０００）５．５質量％の＜混合物Ｘ＞を準備した。

洗浄した２枚のガラス基板を用意し、一方に直径が５μｍのプラスチックビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにして出来た５μｍの間隙に、＜混合物Ｘ＞を毛細管現象により注入した。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。

温調器により、１５０℃に加温し等方相としたのち、ガラス基板平面に平行となる方向へ磁場０．４４Ｔを印加しながら８０℃まで降温し、一様水平配向の液晶セルを得た。
この液晶セルをネマチック−液体転移点である１３７℃から１℃弱下の１３６℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、レーザー光による複屈折観察を行った。なお、前記磁場は印加したままとし、さらには磁場の方向が一方の偏光板の透過軸に一致するようにした。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されなかった。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、ＰＡＡへＰＥＧを混合することにより、ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（比較例３）
実施例５において、ＰＥＧを用いず、ＰＡＡ１００質量１００％の＜比較物＞を毛細管現象により注入した他は同様手順により一様水平配向液晶セルを作製した。
さらに同様にして、磁場印加下における複屈折を観察した。比較例３の場合は、液晶セルの回転に応じて液晶配向方向が一致して回転するような複屈折光の増減が確認された。
つまり、＜比較物＞ではスリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例６）
表面に櫛歯電極を有するガラス基板と、電極は有しないガラス基板を用意した。
櫛歯電極はクロムで形成され、電極幅は１０μｍ、電極間距離は１０μｍとし、隣接する櫛歯電極間に略基板に平行な電界を印加できるようにした。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。
これら２種のガラス基板を洗浄した後、一方に直径が２μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにして出来た２μｍの間隙に、実施例５で用いた＜混合物X＞を毛細管現象により注入した。
温調器により１５０℃に加温し等方相としたのち、ガラス基板平面に平行、かつ櫛歯電極に対して４５度となる方向へ磁場０．４４Ｔを印加しながら８０℃まで降温し、一様水平配向の液晶セルを得た。

この液晶セルに対して、磁場は無印加の条件で偏光顕微鏡下において２Ｖｐｐ、１０Ｈｚのパルス電圧を印加したところ、液晶配向方位が４５度回転して電界方向に平行な方位に向く応答（黒→白）が確認された。次に、電圧を無印加で、上記磁場を再度印加したところ、液晶配向方位が元の方位に向く応答（白→黒）が確認された。
更に、上記磁場を印加したままの条件で、偏光顕微鏡下において同じパルス電圧を印加したところ、液晶配向方位の応答（黒→白）が確認され、その後無印加にしたところ、黒→白が確認された。すなわち、ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（比較例４）
実施例６において、ＰＥＧを混ぜない＜比較物＞を用いて、同様手順により一様水平配向液晶セルを作製した。さらに同様にして、磁場印加下における複屈折を観察した。比較例４の場合は、液晶セルの回転に応じて液晶配向方向が一致して回転するような複屈折光の増減が確認された。つまり、＜比較物＞ではスリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例７）
図１３のごとく、一方の基板に第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設け、更に、他方の基板に第１の電極とθ＝４５°となる方向に第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けて、複数の向きの電界を発生させる光学素子とした。第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２は櫛歯電極であり、第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４も櫛歯電極である。

第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間は、平行であり、電極幅を１０μｍ、隣接する電極間距離を１０μｍとし、隣接する電極間に電圧を印加できるようにした。
第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間も、平行であり、電極幅を１０μｍ、隣接する電極間距離を１０μｍとし、隣接する電極間に電圧を印加できるようにした。
第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設けた一方の基板に直径が２μｍのプラスチックビーズを散布して、第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けた他方の基板と貼り合わせた。このようにしてできた２μｍの間隙に、実施例５で用いた＜混合物X＞を毛細管現象により注入した。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。

実施例５と同様の温調手順により一様水平配向液晶セルを作製し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、レーザー光による複屈折観察を行った。第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に２Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき白、次に、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間に２Ｖの電位差を設けて、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２は同電位としたとき黒となった。更に、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に２Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき白となって、これにより、白→黒、黒→白の両方向の応答において、ネマチック液晶とガラス基板の間に、液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例８）
下記式（１）で表される液晶性化合物４−４’−アゾキシジアニソール（ＰＡＡ）９４．５質量％と、下記式（２）で表される、ポリエチレンオキシド（分子量３，５００）及びシアノビフェニル側鎖型ポリマー（分子量２，５００）のブロックコポリマーである（Poly(ethylene oxide-b-6-(4'-cyanobiphenyl-4-yloxy)hexyl methacrylate)（ＬＣ＿ＰＥＧ）５．５質量％の＜混合物Ｙ＞を準備した。

洗浄した２枚のガラス基板を用意し、一方に直径が２μｍのプラスチックビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにして出来た２μｍの間隙に、＜混合物Ｙ＞を毛細管現象により注入した。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。

温調器により１５０℃に加温し等方相としたのち、ガラス基板平面に平行となる方向へ磁場０．４４Ｔを印加しながら８０℃まで降温し、一様水平配向の液晶セルを得た。

この液晶セルをネマチック−液体転移点である１３４℃から1度弱下の１３３℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、レーザー光による複屈折観察を行った。なお、前記磁場は印加したままとし、さらには磁場の方向が一方の偏光板の透過軸に一致するようにした。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されなかった。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、ネマチック液晶とガラス基板の間に液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例９）
表面に櫛歯電極を有するガラス基板と、電極は有しないガラス基板を用意した。
櫛歯電極はクロムで形成され、電極幅は１０μｍ、電極間距離は１０μｍとし、隣接する櫛歯電極間に略基板に平行な電界を印加できるようにした。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。

これら２種のガラス基板を洗浄した後、一方に直径が２μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにして出来た２μｍの間隙に、実施例８で用いた＜混合物Ｙ＞を毛細管現象により注入した。
温調器により１５０℃に加温し等方相としたのち、ガラス基板平面に平行、かつ櫛歯電極に対して４５度となる方向へ磁場０．４４Ｔを印加しながら８０℃まで降温し、一様水平配向の液晶セルを得た。

この液晶セルに対して、磁場は無印加の条件で偏光顕微鏡下において２Ｖｐｐ、１０Ｈｚのパルス電圧を印加したところ、液晶配向方位が４５度回転して電界方向に平行な方位に向く応答（黒→白）が確認された。次に、電圧を無印加で、上記磁場を再度印加したところ、液晶配向方位が元の方位に向く応答（白→黒）が確認された。

更に、上記磁場を印加したままの条件で、偏光顕微鏡下において同じパルス電圧を印加したところ、液晶配向方位の応答（黒→白）が確認され、その後無印加にしたところ、黒→白が確認された。すなわち、液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例１０）
図１３のごとく、一方の基板に第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設け、更に、他方の基板に第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けて、複数の向きの電界を発生させる光学素子とした。
第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設けた一方の基板に直径が２μｍのプラスチックビーズを散布して、第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けた他方の基板と貼り合わせた。このようにしてできた２μｍの間隙に、実施例８で用いた＜混合物Ｙ＞を毛細管現象により注入した。これらの基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。

実施例８と同様の温調手順により一様水平配向液晶セルを作製し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、レーザー光による複屈折観察を行った。第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に２Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき白、次に、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間に２Ｖの電位差を設けて、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２は同電位としたとき黒となった。更に、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に２Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき白となって、これにより、白→黒、黒→白の両方向の応答において、液体相（等方相）からなる潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例１１）
下記に示す、ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）８５．３質量％、キラル化合物（９−ＩＩ）６．９質量％、モノマー（９−ＩＩＩ）３．７質量％、モノマー（９−ＩＶ）３．７質量％、光重合開始剤（９−Ｖ）０．４質量％からなる、液晶組成物（ＬＣ−９）９８．４０質量％に、ラウリン酸エチル１．６０質量％を混合して、試料９Ａとした。

図１８は、表面に櫛歯電極１８，１９を有するガラス基板１１と、電極を有しないガラス基板１２を用いた光学素子を示す概略図である。櫛歯電極１８はクロムで形成され、電極幅は１０μｍ、電極間距離は１０μｍとし、電極間に略基板に平行な電界を印加できるようにした。これらのガラス基板に配向膜処理はされていない。

これら２種のガラス基板を洗浄した後、一方に直径が７μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにしてできた７μｍの間隙に、試料９Ａを毛細管現象により注入した。

次に、この液晶セルを一旦、等方相の４４℃に加温し、その後、３８℃に降温してブルー相を発現させた。この状態において紫外線を照射し、ブルー相の安定化を図った。紫外線照射条件は、１２μＷ／ｃｍ^２で１０分間、２０μＷ／ｃｍ^２で１０分間、３０μＷ／ｃｍ^２で１０分間、６３μＷ／ｃｍ^２で１０分間、３１０μＷ／ｃｍ^２で５分間と、徐々に照度を上昇させて合計４５分間の手順で実施した。
偏光顕微鏡下において０〜６０Ｖの電圧印加をしながら透過光量を観測した。結果を図１７に示す。
ラウリン酸エチルを混合したことにより、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。

（実施例１２）
液晶組成物（ＬＣ−９）９８．１３質量％に、酢酸トリデシル１．８７質量％を混合して、試料９Ｂとした。
試料９Ａを試料９Ｂに変更した他は、実施例１１と同様にして液晶セルを準備し、等方相へ加温し、その後、降温してブルー相を発現させ、この状態において実施例１１と同じ条件で紫外線を照射し、ブルー相の安定化を図った。実施例１１と同様にして、偏光顕微鏡下において０〜４０Ｖの電圧印加をしながら透過光量を観測した。結果を図１７に示す。
酢酸トリデシルを混合したことにより、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。

（比較例５）
試料９Ａを液晶組成物（ＬＣ−９）に変更した他は、実施例１１と同様にして液晶セルを準備し、等方相へ加温し、その後、降温してブルー相を発現させ、この状態において実施例１１と同じ条件で紫外線を照射し、ブルー相の安定化を図った。実施例１１と同様にして、偏光顕微鏡下において３０〜６０Ｖの電圧印加をしながら透過光量を観測した。結果を図１７に示す。比較例５の液晶セルでは、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

図１７の結果から分かるように、試料９Ａを用いた実施例１１の光学素子、試料９Ｂを用いた実施例１２の光学素子では、共に比較例５の光学素子に比べて、駆動電圧の低減効果を確認することができた。特に、試料９Ａを用いた実施例１１の光学素子では大幅な低減効果が認められた。

さらに、４０Ｖにおいて立下りの応答時間を測定したところ、試料９Ａを用いた実施例１１の光学素子で４８μｓ、試料９Ｂを用いた実施例１１の光学素子で６５μｓ、実施例１１の光学素子で７８μｓであり、実施例１１及び実施例１１の光学素子で応答速度に優れることを確認した。特に試料９Ａを用いた実施例１１の光学素子では顕著な高速化効果を観察することができた。

また、念のために試料９Ｂが他の試料と同等の透過光量となる２０Ｖにおいて立下りの応答時間（２０Ｖ→０Ｖ）を測定しても、７０μｓであり、比較例５に比べて高速化効果が認められた。

実施例１１及び実施例１２で低電圧化を発現したメカニズムは以下のように考えられる。
すなわち、ブルー相の欠陥部分に存在し欠陥中の液晶の体積を減少することによる欠陥の安定化をもたらし、その結果２重シリンダー構造を含むブルー相全体の構造の安定に寄与した高分子部分とブルー相液晶の間に、上記添加物（ラウリン酸エチル、酢酸トリデシル）の濃度が高く液体相のように振る舞う相が挿入されたことによりブルー相液晶相と前記液体相との界面がスリッパリー界面を形成していると考察される。このスリッパリー界面の効果により低電圧化となったと考えられる。

また、ブルー相では２重シリンダーと欠陥が自発的に共存して形成しているので、前記スリッパリー界面の形成により、電圧を印加した状態から電圧オフにした際に、自発的に形成しているブルー相の分子の集合状態への戻りが容易になると考えられる。そのため、スリッパリー界面の形成により立下りの応答が速くなったと考えられる。
このようにブルー相におけるスリッパリー界面の形成は、駆動電圧の低減及び応答の高速化という効果を発現していると考えられる。

ブルーフェーズ液晶を用いた場合も、ネマチック液晶を用いた場合と同様に、斜め視角の着色現象は生じるため、図９のような屈曲型の電極形状は着色抑制に有効である。なお、ブルーフェーズ液晶の場合は屈曲の角度は９０度であることが望ましい。

（実施例１３）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（Ａ６ＣＮ−ＭＡ、Ｍｗ：６３２１、Ｍｗ／Ｍｎ：２．７、Ａ６ＣＮ：ＭＡのモル比は１：４）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。
次に両基板をポリマーをコートした面が内側になるようにスペーサーを介して貼り合わせてセルギャップ１０．４μｍのセルを作製した。このセルに、前記ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）を液体状態まで加熱し毛細管現象により注入した。
この液晶セルを５７．０３−５７．５３℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、ネマチック液晶と下記ポリマー膜との間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域が形成され、その液晶成分とその潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例１４）
オゾン洗浄した２枚のガラス基板表面に３−(トリメトキシシリル)プロピルアクリレートの２０ｗｔ％エタノール溶液をスピンコート法により塗布し、減圧加熱乾燥した後、エタノールで洗浄・乾燥させ、アクリレート修飾したガラス基板を作製した。

次に、直径が１０μｍのプラスチックビーズを散布して、アクリレート修飾の面が内側になるように他方と貼り合わせてセルを作製した。このセルに、前記ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）９７．５質量％、ラウリン酸エチル３質量％、前記モノマー（９−ＩＶ）０．２４質量％、モノマー（９−ＩＩＩ）０．２４質量％、光重合開始剤（９−Ｖ）０．０２質量％の混合物を毛細管現象により注入した。このセルについて、実施例１３に記載の方法で評価したところ、６９．３１℃〜６９．５２℃の範囲で、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例１５）
実施例１４で作製したセルに、ＵＶ光（強度：０．５ｍＷ/ｃｍ^２）を７０℃で一時間照射し、重合を行った。その後、実施例１４と同様な方法で評価したところ、６９．２６℃〜６９．７１℃の範囲で、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認でき、重合によりスリッパリー界面の発現温度範囲が拡大することが確認された。

（実施例１６）
実施例６に記載の基板を用い、これら２種のガラス基板を洗浄した後、一方に直径が２μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにして出来た２μｍの間隙に、下記強誘電性液晶組成物（ＦＬＣ−０７）９６．９質量％、メタクリル酸１１−［４−（４−ブチルフェニルアゾ）フェノキシ］ウンデシル（Ａｚｏ）１．５質量％、前記モノマー（９−ＩＶ）１．５質量％、光重合開始剤（９−Ｖ）０．１質量％の混合物を毛細管現象により注入した。

その後いったん約１３０°に昇温して等方相にした後、９０℃まで冷却し、紫外線照射前に０→Ｖ→０→−Ｖのような階段状電場を５秒間印加した。このときの階段状電場の周波数は１０Ｈｚ、大きさＶは１０Ｖ／１０μｍとした。

その後、紫外線（中心波長３６５ｎｍ）照射を開始した後、スリッパリー界面の効果を十分に得るために、先ほどと同じ階段状電場を１０Ｈｚ、１０Ｖ／１０μｍで１０秒間印加した。その後、周波数５Ｈｚ、１０Ｈｚ、大きさ１５Ｖ／１０μｍの階段状電場を印加して、電気光学応答測定を行った。光学応答の様子を偏光顕微鏡で観察すると、櫛形電極付近に液体相の発現がみられ、透過率が３５％と大きくなっていた。電極付近に、液晶相よりも低秩序なゲル層からなる潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成し、そのため低電圧で応答するようになったため、透過率が大きくなったことがわかった。

（実施例１７）
実施例１６のセルについて、ＵＶ照射を止めたあと、一度５０℃以下まで徐冷した。その後９０℃まで加熱し、実施例１６と同様、スリッパリー界面の効果を十分に得るために、同様の階段状の電場を１０Ｈｚ、１０Ｖ／１０μｍで５秒間印加した。その後、周波数５Ｈｚ、１０Ｈｚ、大きさ１５Ｖ／１０μｍの階段状電場を印加し、電気光学応答測定を行った。ＵＶ照射を止めたあとも、透過率は３０％と大きく、ＵＶ照射を止めた後も、スリッパリー界面は保持されていることがわかった。実施例１７の液晶セルにおいても、液晶相よりも低秩序なゲル層からなる潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（比較例６）
実施例１６と同様なセルで、ＵＶ照射を行わないものは、実施例１６と同じ測定条件で、透過率が５％と低く、スリッパリー界面が形成されていないことがわかった。

実施例１６では、ＵＶ照射によりＡｚｏがトランス→シス異性化を起こすことにより形状が折れ曲がり、近傍の液晶性を低下させることにより潤滑界面誘導剤として機能したのに対して、比較例６では、トランス体のＡｚｏは、液晶組成物（ＦＬＣ−０７）との間で相分離構造を形成せず、潤滑界面誘導剤として機能しなかった。すなわち、比較例６の液晶セルでは、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例１８）
実施例１１と同様に、前記ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）８５．４質量％、前記キラル化合物（９−ＩＩ）６．８質量％、前記モノマー（９−ＩＩＩ）３．７質量％、前記モノマー（９−ＩＶ）３．７質量％、光重合開始剤（９−Ｖ）０．４質量％からなる、液晶組成物（ＬＣ−９）９８．５１質量％に、Ａｚｏ１．４９質量％を混合して、試料１８Ａとした。

図１８は、表面に櫛歯電極１８，１９を有するガラス基板１１と、電極を有しないガラス基板１２を用いた光学素子を示す概略図である。櫛歯電極１８はクロムで形成され、電極幅は１０μｍ、電極間距離は１０μｍとし、電極間に略基板に平行な電界を印加できるようにした。これらのガラス基板に配向膜処理はされていない。
これら２種のガラス基板を洗浄した後、一方に直径が７μｍのシリカビーズを散布して他方と貼り合わせた。このようにしてできた７μｍの間隙に、試料１８Ａを毛細管現象により注入した。

次に、この液晶セルを一旦、等方相の４４℃に加温し、その後、４０℃に降温してブルー相を発現させた。この状態において紫外線を照射し、ブルー相の安定化を図った。紫外線照射条件は、１２μＷ／ｃｍ^２で２０分間、２０μＷ／ｃｍ^２で２０分間、３０μＷ／ｃｍ^２で２０分間、６３μＷ／ｃｍ^２で２０分間、３１０μＷ／ｃｍ^２で１０分間と、徐々に照度を上昇させて合計９０分間の手順で実施した。

偏光顕微鏡下において、紫外線を照射下（照射条件：３１０μＷ／ｃｍ^２）で、０〜４０Ｖの電圧印加をしながら透過光量を観測した。３６〜４４℃における透過光量比（２枚の偏光板をパラレルの状態にした場合の透過光量（Ｉ_０）に対する、クロスニコル（２枚の偏光板を直交）にした場合の透過光量（Ｉ_１）の比（Ｉ_１／Ｉ_０））を、紫外線照射時及び紫外線無照射時、電圧無印加時及び電圧印加時について図２４に示した。重合後は、Ａｚｏ色素分子が欠陥に集中するため、ブルー相の発現温度（等方相との転移点）は、高温側にシフトする。この実施例１８の場合、４１℃付近から４３℃付近に上昇した。

ブルー相液晶中の屈折率異方性は、等方相との転移点からの温度差に依存して増大するため、性能比較は転移点からの距離で規格化した方が現実的である。そこで、これらの結果を、等方相‐ブルー相の転移点からの温度で規格化して図２５に示した。横軸は、等方相‐ブルー相の転移点からの温度差（℃）であり、低温側を正としている。転移点から５〜６℃低温のブルー相では、同一の駆動電圧（４０Ｖ）において、紫外線照射時の方が紫外線無照射時よりも、透過光量が１０〜１５％増大していることを確認することができた。
液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。

（実施例１９）
図２１のごとく、一方の基板に第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２を設け、更に、第１の電極と直交する方向に第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４を設けて、複数の向きの電界を発生させる光学素子とした。第１の共通電極２０１及び第１の画素電極２０２は櫛歯電極であり、第２の共通電極２０３及び第２の画素電極２０４も櫛歯電極である。第１の画素電極２０２と第２の画素電極２０４ないし共通電極２０３、第２の画素電極２０４と第１の画素電極２０２ないし共通電極２０１が導通しないよう層間絶縁膜を配している。
第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間は、平行であり、電極幅を１０μｍ、隣接する電極間距離を１０μｍとし、隣接する電極間に電圧を印加できるようにした。

第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間も、平行であり、電極幅を１０μｍ、隣接する電極間距離を１０μｍとし、隣接する電極間に電圧を印加できるようにした。

電極を配置した一方の基板（電極基板）に直径が２μｍのプラスチックビーズを散布して、電極を配置していない他方の基板（対向基板）と貼り合わせた。このようにしてできた２μｍの間隙に、実施例５で用いた＜混合物Ｘ＞を毛細管現象により注入した。電極を配置していない側の基板（対向基板）には水平配向膜を塗布し、第２の共通電極２０３ないし画素電極２０４と平行ラビング配向処理を付した。電極を配置した基板には、基板表面を改質するための高分子膜をあらかじめ形成することはしなかった。上記、間隙について、ツイスティッドネマティックセルにおける最大透過率を与えるリタデーション値は４８４ｎｍ付近である。本液晶の屈折率異方性が０．３３〜０．３４であることを考慮すると、間隙値は１．４μｍが最大透過率を与えることになる。しかし、電圧印加時に動く液晶は界面の液晶だけでなく、バルクの液晶も動くため、１．４μｍよりも厚く設定することが好ましい。

実施例５と同様の温調手順により一様水平配向液晶セルを作製し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだ上で、いずれかの透過軸が第１の共通電極２０１と平行となるよう重ね合わせた基板を配置し、レーザー光による複屈折観察を行った。第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に５Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき黒、次に、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４との間に５Ｖの電位差を設けて、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２は同電位としたとき白となった。更に、第１の共通電極２０１と第１の画素電極２０２との間に５Ｖの電位差を設けて、第２の共通電極２０３と第２の画素電極２０４は同電位としたとき黒となった。

黒表示における電極基板側と対向基板側の液晶配向の様子を図２２に示す。電極基板側ではスリッパリー界面が形成され、対向基板側は平行ラビング配向処理がされていることによりアンカーリング界面を形成して、液晶分子は全体的に第２の共通電極２０３ないし画素電極２０４と平行に配向している。

白表示における電極基板側と対向基板側の液晶配向の様子を図２３に示す。電極基板側ではスリッパリー界面が形成され、対向基板側は平行ラビング配向処理がされていることによりアンカーリング界面を形成して、液晶分子はセル厚方向に９０°回転したツイスト配向している。
液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。

（実施例２０）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（A6OC6H13-MA、Ｍｗ：7168、Ｍｗ／Ｍｎ：2.43、A6OC6H13：ＭＡのモル比はA6OC6H13:MA=1：4）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。

次に両基板をポリマーをコートした面が内側になるようにスペーサーを介して貼り合わせてセルギャップ１０．４μｍのセルを作製した。このセルに、前記ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）を液体状態まで加熱し毛細管現象により注入した。

この液晶セルを５８．３−５９．１℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２１）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（A6CN-C6H13-MA、Ｍｗ：6801、Ｍｗ／Ｍｎ：1.7、A6CN：C6H13： MAモル比は1：1：2）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。

この液晶セルを５８．２−５９．０℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２２）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（A6CN-OC6H13-MA、Ｍｗ：6437、Ｍｗ／Ｍｎ：1.3、A6CN：OC6H13：ＭＡのモル比は1：1：2）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。

この液晶セルを冷却過程で５７．９３−５７．６３℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２３）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（A3CN-DA、Ｍｗ：2392、Ｍｗ／Ｍｎ：2.4、A3CN：DAのモル比は2：3）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。

この液晶セルを６０．１７−６０．６５℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２４）
洗浄した２枚のガラス基板（２．５ｃｍ×２．５ｃｍ）を用意し、下記ポリマー（A6CN-IBA、Ｍｗ：4562、Ｍｗ／Ｍｎ：1.87、A6CN：IBAのモル比は3：7）の５％クロロホルム溶液１５０μｌをスピンコート法により、５００ｒｐｍ−１０ｓ、３０００ｒｐｍ−１ｍｉｎの条件で塗布し、１００℃、１時間減圧化で乾燥し、空冷して、両方のガラス基板上に成膜した。

この液晶セルを５２．７−５３．５℃に調温し、２枚の互いに透過軸が直交した偏光板に挟み込んだうえで、レーザー光による複屈折観察を行った。磁場を一方の偏光板の透過軸に一致するように印加した。この状態において、液晶セルを、ガラス基板法線を中心に回転させたところ、回転角度に依存した複屈折光は確認されない領域が観察された。液晶配向方位が、液晶セル回転に追従せず、磁場印加方向に固定化されているように見えた。すなわち、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２５）
ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）（前記ネマチック液晶組成物（９−Ｉ）の４−シアノ−４’−ペンチルビフェニルを４−シアノ−４’−ペンチルオキシビフェニルに置き換えたもの）100 ｍｇ、ethyl laurate 3.08 ｍｇ、4-(3-Acryloyloxypropyloxy)benzoic acid 2-methyl-1, 4-phenylene ester; 2-Methyl-1,4-phenylene-bis[4[3(acryloyloxy)propyloxy]benzoate] (前記モノマー（９−ＩＶ）) 0.25ｍｇ、ドデシルアクリレート 0.25 ｍｇ、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(DMPAP、光重合開始剤（９−Ｖ）) 0.02ｍｇを混合して試料K1とした。

アクリロイル基を持つシランカップリング剤である３−(トリメトキシシリル)プロピルアクリレートの10 ｗｔ％エタノール溶液に酢酸を滴下し、pHを4.03に調整した。この溶液を4 時間攪拌してから、洗浄したガラス基板上にスピンコートした。このガラス基板を1 時間室温下で真空乾燥し、エタノールで10 分間浸漬洗浄した後、純水で洗い流し、12 時間真空乾燥してアクリロイル基を有するガラス基板を得た。このガラス基板2枚を用いて基板間の距離が10μｍのセルを作製した。このセルに試料K1を50℃で注入し、セルK1とした。

セルK1に波長365 ｎｍ、照射強度1.5 ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を20 分間照射してモノマーの重合を進行させ、アクリロイル基を修飾したセル表面へ高分子膜を形成させた。

作製したセル面の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、セルK1は昇温過程において69.26〜69.71℃の温度範囲で28.03 ｍＴ以上の磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２６）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）８４．５ｍｇ、ethyl laurate 15.0 mg、前記モノマー（９−ＩＶ） 0.24 ｍｇ、ドデシルアクリレート 0.24 ｍｇ、DMPAP 0.02 ｍｇを混合して試料K2とした。

アクリロイル基を持つシランカップリング剤である３−(トリメトキシシリル)プロピルアクリレートの10 ｗｔ％エタノール溶液に酢酸を滴下し、pHを4.03に調整した。この溶液を4 時間攪拌してから、洗浄したガラス基板上にスピンコートした。このガラス基板を1 時間室温下で真空乾燥し、エタノールで10 分間浸漬洗浄した後、純水で洗い流し、12 時間真空乾燥してアクリロイル基を有するガラス基板を得た。このガラス基板2枚を用いて基板間の距離が10μｍのセルを作製した。このセルに試料K2を50℃で注入し、セルK2とした。

作成したセル面の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、セルK2は昇温過程において0℃以下〜32.98℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して、液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２７）
実施例２６で得られたセルK2に波長365 nm、照射強度1.5 ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を20 分間照射してモノマーの重合を進行させ、アクリロイル基を修飾したセル表面へ高分子膜を形成させた。

作成したセル面の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、重合処理を施した後のセルK2は昇温過程において31.7〜34.5℃の温度範囲で56.75 ｍＴ以上の磁場に対して、液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２８）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）100 ｍｇ、ethyl laurate 18.34 ｍｇを混合して試料K5とした。実施例２６と同様にしてセルを作製し、作製したセル面の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、セルK5は昇温過程において31.8〜33.9℃の温度範囲で61.55 ｍＴ以上の磁場に対して、液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例２９）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）100 ｍｇ、ドデシルアクリレート18.34 ｍｇを混合して試料K6とした。実施例２６と同様にしてセルを作成し、作成したセル面の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、セルK6は昇温過程において28.9〜37.4℃の温度範囲で61.55 ｍＴ以上の磁場に対して、液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３０）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）100 ｍｇ、ethyl laurate 17.65 mgを混合して試料K3とした。

洗浄したガラス基板に、ドデシルアクリレート 449.19 ｍｇ、前記モノマー（９−ＩＶ）449.20 ｍｇ、DMPAP 37.43 ｍｇをN-メチルピロリドン449.19 ｍｇに溶解した溶液を室温でスピンコートし、真空で照射強度1.5 ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を20 分間照射して重合させてから、室温で12 時間真空乾燥して、ガラス基板全面に高分子を成膜した。このガラス基板2枚を用いて基板間距離が10 μｍのセルを作製し、このセルに試料K3を50℃で注入して液晶セルK3とした。

液晶セルK3の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では54.00 〜56.20℃の温度範囲で、降温過程では51.78〜55.40℃の温度範囲で、61.55 ｍＴ以上の磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３１）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）177.41ｍｇ、N-メチル-2-ピロリドン 10.15 mgを混合して試料K4-1とした。洗浄したガラス基板に、Polyvinylpyrrolidone K90, (平均分子量３６万、TCI) の2.5 ｗｔ％ N-メチル-2-ピロリドン溶液を室温でスピンコートし、130℃で12 時間真空乾燥して、ガラス基板全面にPolyvinylpyrrolidoneを成膜した。このガラス基板2枚を用いて基板間距離が10 μｍのセルを作製し、このセルに試料K4-1を60℃で注入して液晶セルK4-1とした。

液晶セルK4-1の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では20 〜50℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３２）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）147.46ｍｇ、N-メチル-2-ピロリドン 16.57 ｍｇを混合して試料K4-2とした。洗浄したガラス基板に、Polyvinylpyrrolidone K90の2.5 ｗｔ％ N-メチル-2-ピロリドン溶液を室温でスピンコートし、130℃で12 時間真空乾燥して、ガラス基板全面にPolyvinylpyrrolidoneを成膜した。このガラス基板2枚を用いて基板間距離が10 μｍのセルを作製し、このセルに試料K4-2を60℃で注入して液晶セルK4-2とした。

液晶セルK4-2の法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では20 〜31℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転すること、すなわち液晶のセルへのアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３３）
イオン液体としては液晶性も示す塩化１−ヘキサデシル−３−メチルイミダゾリウム（以下C16）の1ｗｔ％水溶液を基板にスピンコートし、ガラスサンドイッチセル（セル厚6.0 μｍ）を作製し、下記強誘電性液晶（ＦＬＣ−０４）を注入し、Ｖ→０→−Ｖ→０の階段波形印加時（±2.0 V/μｍ、１０Ｈｚ）の電気光学測定を行った。結果を図２６に示す。同じ印加電圧で透過率の向上が見られているのがわかる。C16基板セルで比較例７の垂直配向ポリイミドセルに比べて最大で7倍近い増加率となっている。この透過率の向上によって、界面のアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板との間に、イオン液体からなる液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３４）
イオン液体として室温で液体の塩化１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムを用いた他は、実施例３３と同じくセルを作製し、前記強誘電性液晶（ＦＬＣ−０４）を注入し、階段波形印加時の電気光学測定を行った。結果を図２６に示す。同じ印加電圧で透過率の向上が見られているのがわかる。この透過率の向上によって、界面のアンカーリングが弱く、液晶とガラス基板との間に、イオン液体からなる液体相（等方相）が潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（比較例７）
基板に垂直配向剤（日産化学社製、SE1211）を塗布して、実施例３３、３４と同様に、ガラスサンドイッチセルを作製、前記強誘電性液晶（ＦＬＣ−０４）を注入して、階段波形印加時の電気光学測定を行った。透過率は低かった。比較例７の液晶セルでは、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例３５）
まず、洗浄済みガラスにPMMA/トルエン（約5％）をスピンコートし、110℃で1時間アニールして基板を作製した。次に、メタクリル酸１１−［４−（４−ブチルフェニルアゾ）フェノキシ］ウンデシル（Ａｚｏ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、前記モノマー（９−ＩＶ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、７ＣＢ（４−シアノ−４’−ヘプチルビフェニル）１１．７６ｍｇ（８４重量％）、重合開始剤ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）０．１４ｍｇ（１重量％）の混合物２０重量部を、トルエン８０重量部に溶解した溶液を、基板をヒーターで５０℃に保ちながら前記基板の上からスピンコートし、その後50℃に保ちながら、すぐにUV光（強度＝８．３ｍＷ／ｃｍ^２）を30分照射した。2枚の基板の間にスペイサー（25μｍ）を挟みサンドイッチし、エポキシ系接着剤アラルダイト（登録商標）で固定する。一晩以上乾かした後、７ＣＢ（４−シアノ−４’−ヘプチルビフェニル）を注入した。４８．９℃にて、４４０ｍＴの磁場を印加すると、液晶分子は磁場の方向に配列し、界面のアンカーリングが弱いことから、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したことが確認できた。

（実施例３６）
エチルトリメトキシシラン(C2)とn-オクタデシルトリメトキシシラン(C18)の二種類のシランカップリング剤をヘプタン-酢酸混合溶液(pH = 3.41)に、Ｖ_Ｃ１８/ (Ｖ_Ｃ２+Ｖ_Ｃ１８)= 0.03の体積割合で濃度が0.02 体積％になるように溶解させ、室温で5時間撹拌することで試料を調整した。調製した試料をオゾン洗浄したガラス基板にスピンコート(3000 rpm, 1 min)で塗布し、基板を130 °Cの真空乾燥器で3時間乾燥した。その後、作製した基板と厚さ10 μｍのPETフィルムをスペーサーとして用いてセルを組み立て、等方相状態のネマチック液晶組成物（９−Ｉ）を注入した。作製したセルの法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では57.50〜58.89℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転することから、弱アンカーリングの水平配向を示し、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３７）
Ｖ_Ｃ１８ / (Ｖ_Ｃ２+Ｖ_Ｃ１８) = 0.04の体積割合にすること以外は、実施例３６と同様に液晶の注入されたセルを作製し、作製したセルの法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では57.43〜58.79 ℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転することから、弱アンカーリングの水平配向を示し、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３８）
Ｖ_Ｃ１８ / (Ｖ_Ｃ２+Ｖ_Ｃ１８) = 0.05の体積割合にすること以外は、実施例３６と同様に液晶の注入されたセルを作製し、作製したセルの法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では57.36〜57.83 ℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転することから、弱アンカーリングの水平配向を示し、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例３９）
Ｖ_Ｃ１８ / (Ｖ_Ｃ２+Ｖ_Ｃ１８) = 0.06の体積割合にすること以外は、実施例３６と同様に液晶の注入されたセルを作製し、作製したセルの法線に対して垂直に磁場を印加しながら偏光顕微鏡観察した結果、昇温過程では57.03〜57.27 ℃の温度範囲で61.55 ｍＴの磁場に対して液晶の配向ベクトルが回転することから、弱アンカーリングの水平配向を示し、液晶とガラス基板の間に、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成していることが確認できた。

（実施例４０）
メタクリル酸１１−［４−（４−ブチルフェニルアゾ）フェノキシ］ウンデシル（Ａｚｏ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、前記モノマー（９−ＩＶ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、前記強誘電性液晶組成物（ＦＬＣ−０７）１１．７６ｍｇ（８４重量％）、重合開始剤ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）０．１４ｍｇ（１重量％）の混合物２０重量部を、トルエン８０重量部に溶解した溶液を、櫛形電極付の基板にスピンコートした。その後UV光（強度＝８．３ｍＷ／ｃｍ^２）を30分照射した。垂直配向処理を施したもうひとつの基板と、５μｍのスペーサーを用いてセルを作製し、その中に、前記強誘電性液晶組成物（ＦＬＣ−０７）を注入した。その後、セルにUV光を当てて、基板表面にあるアゾ基のトランス‐シス転移を誘起させた状態で、電気光学応答実験において駆動電圧の著しい低下が起こることにより、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したことが確認できた。

（実施例４１）
メタクリル酸１１−［４−（４−ブチルフェニルアゾ）フェノキシ］ウンデシル（Ａｚｏ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、前記モノマー（９−ＩＶ）１．０５ｍｇ（７．５重量％）、下記液晶組成物（ＦＹ８００７）１１．７６ｍｇ（８４重量％）、重合開始剤ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）０．１４ｍｇ（１重量％）の混合物１４ｍｇを、トルエン５６ｍｇに溶解した溶液（７０ｍｇ）を、電極幅10μｍ、電極間幅10μｍのＩＰＳガラス基板上に滴下してスピンコートした。その後、N₂ガスを充填させたケースの中に入れ、石英ガラス製の窓枠を通して、１０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を１時間照射して液晶ゲル膜を生成させた。

垂直配向処理を施したもうひとつの基板と、７μｍのスペーサーを用いてセルを作製し、その中に、前記液晶組成物（ＦＹ８００７）を注入した。
液晶表示素子を組み立て後、等方相まで加熱して、徐冷（2.0℃/min）することにより、垂直配向状態でらせん軸がガラス基板に垂直となった、一様なＳｍＣ^＊液晶相が形成された。

ここで、ＳｍＣ^＊液晶相の各層にあるＣダイレクターは、らせん構造にそって回転しているため、ガラス基板垂直方向に入射する光に対しては、複屈折性を示さない（疑似等方状態）。しかしながら、ＩＰＳ電極により、ガラス基板平行方向に電場を印加することで、分子軸に垂直で層に平行な方向に存在する、ＳｍＣ^＊液晶の自発分極と、電場との相互作用を利用して、Ｃダイレクターを電場と垂直な方向に揃える力が働き、らせん内でのＣダイレクターの偏り(らせん内モード)と、らせん自体の変形（らせん間モード）が起こり、複屈折性が現れる。この電場誘起複屈折を利用して、透過光強度を電気的に変調する駆動方法は、Deformed Helix FLC mode (DH-FLCモード)と呼ばれる。一般に、らせん内のモードは高速(<100μsec)であるが、らせん間のモードは低速(>1msec)で励起効率しにくい。

この液晶表示素子を用いて、８５℃にて、０→Ｖ→０→−Ｖの階段波形印加時（０〜２V/μｍ、２．５Ｈｚ(パルス幅100ｍsec)〜２．５ｋＨｚ(パルス幅100μsec)）の電気光学測定を行った。
実用上の目安である1.0V/μｍにおいて、１０Ｈｚ（パルス幅25msec）で透過率0.5以上、２５Ｈｚ（パルス幅10msec）で透過率0.4、１００Ｈｚ（パルス幅2.5msec）で透過率0.3であり、スリッパリー界面が形成されたことにより、低周波数でらせん間モードが動き、1msec以上のパルス幅があれば、低電圧でも透過光強度の大きな上昇効果が得られた。また、２．５ｋＨｚ（パルス幅100μsec）では、らせん内モードも動きやすくなり、1.0V/μｍで0.10〜0.15程度の透過率が得られた。
実施例４１の液晶セルでは、液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。

（比較例８）
垂直配向処理を施した、電極幅10μｍ、電極間幅10μｍのＩＰＳガラス基板と、垂直配向処理を施したもうひとつの基板とを、３μｍのスペーサーを用いてセルを作製し、その中に、前記液晶組成物（ＦＹ８００７）を注入した。
この液晶表示素子を用いて、９０℃にて、０→Ｖ→０→−Ｖの階段波形印加時（０〜２V/μｍ、２．５Ｈｚ(パルス幅100ｍsec)〜２．５ｋＨｚ(パルス幅100μsec)）の電気光学測定を行った。
その結果、実用電圧である1.0V/μｍにおいて、低周波(2.5Hz)でも2％、2.0Vを印加しても透過率10％程度の透過率しか得られなかった。
らせん内モードは応答時間が数10μsecであり、典型的なＳｍＣ^＊(ＦＬＣ)の高速応答であることが分かった。また、１ｋＨｚ（パルス幅250μsec）のときの透過光強度と、１０Ｈｚ（パルス幅25ｍsec）のときの透過光強度とでほとんど変化がないことから、低速ならせん間モードは動いていないことがわかった。比較例８の液晶セルでは、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

（実施例４２）
前記ネマチック液晶組成物（１０−Ｉ）１００ｍｇ、前記キラル分子合物（９−ＩＩ） 8.11 mg、酢酸トリデシル 10.30 mg、前記モノマー（９−ＩＶ） 4.94 mg、9-(1,1,3,3,3-pentamethyldisiloxanyl)nonyl acrylate (Si2A) 4.94 mg、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(DMPAPP、光重合開始剤（９−Ｖ）) 0.41 mgを混合して試料K(仮1)とした。

電極間距離10 μm, 電極の太さ3 μmの櫛歯電極付きセル基板と、18 mm四方のカバーガラス基板とで、厚さ10μmのPETフィルムを挟み、ＵＶ硬化樹脂で両基板を固定して、厚さ約10μmのセルを準備した。試料K(仮1)を80℃で20分間攪拌した後、等方相の状態で、このセルに注入して、液晶セルK(仮1)とした。

セルK(仮1)をブルー相Ｉ発現温度域の30.9℃まで昇温し、その温度のまま30分間静置した。その後、波長365 nm、照射強度1.5 mW・cm⁻²の紫外線を20 分間照射してモノマーの重合を進行させることで、高分子安定化ブルー相を調製した。

液晶セルK(仮1)を面内に温度勾配をつけられるホットステージに設置し、1kHzのサイン波の実行電圧を0〜200Vの範囲で印加して、セルを挟んだ二枚の偏光板を電場方向からそれぞれ±45 度回転させたクロスニコル条件でのセルの透過光を高速度カメラで撮影した。

液晶セルK(仮1)に30〜34℃または34〜39℃の温度勾配をつけた状態でそれぞれ電場を印加した結果、高温領域ほど低電圧化する傾向が確認され、低温域側の30℃近傍と高温域側の39℃近傍の駆動電圧を比較すると30℃近傍の148 Vに対し、39℃近傍の138 Vと10Vの差があることを確認した。特に34℃近傍では駆動電圧が最も低く131 Vであった。

残留透過率はほぼ全温度域に渡り0%であった。ヒステリシスは31℃、35℃近傍において最も低く、7.5%であった。Kerr係数は34℃近傍において最も大きく21 m⁻¹V⁻²であった。

立上がり時の応答時間は30〜31℃の温度領域において30μsであり、応答速度が最も速く、高温で低下し、最も遅い温度域は38℃で、応答時間は620μsであった。一方、立下り時の応答速度は高温ほど速く、38℃近傍において応答時間は20μsであった。最も遅い温度は30℃近傍で応答時間は300μsであった。

（比較例９）
実施例４２の試料K(仮1)において、酢酸トリデシルを含有させない他は同様にして、試料L(仮2)を準備し、実施例４２の試料K(仮1)を、試料L(仮2)に変更した他は、実施例４２の液晶セルK(仮1)と同様にして、液晶セルL(仮2) を準備した。

液晶セルL(仮2)をブルー相Ｉ発現温度域の30.9℃まで昇温し、その温度のまま30分間静置した。その後、波長365 nm、照射強度1.5 mW・cm⁻²の紫外線を20 分間照射してモノマーの重合を進行させることで、高分子安定化ブルー相を調製した。

液晶セルL(仮2)を面内に温度勾配をつけられるホットステージに設置し、1kHzのサイン波の実行電圧を0〜200Vの範囲で印加して、セルを挟んだ二枚の偏光板を電場方向からそれぞれ±45 度回転させたクロスニコル条件でのセルの透過光を高速度カメラで撮影した。

液晶セルL(仮2)に30〜34℃または34〜39℃の温度勾配をつけた状態でそれぞれ電場を印加した結果、高温領域ほど低電圧化する傾向が確認され、低温域側の30℃近傍と高温域側の39℃近傍の駆動電圧を比較すると30℃近傍の148 Vに対し、39℃近傍の138 Vと10Vの差があることを確認した。特に34℃近傍では駆動電圧が最も低く141 Vであった。

残留透過率は30〜31℃、 34〜36℃の範囲で0%であった。ヒステリシスは38℃近傍において最も低く、2.4 %であった。Kerr係数は34℃近傍において最も大きく21 m⁻¹V⁻²であった。

立上がり時の応答時間は30〜31℃の温度領域において30μsと、応答速度が最も速く、高温で低下し、最も遅い温度域は38℃で、応答時間は2990μsであった。一方、立下り時の応答速度は高温ほど速く、38℃近傍において応答時間は20μsであった。最も遅い温度は30℃近傍で応答時間は300μsであった。

上記の実施例４２の液晶セルK(仮1)の駆動電圧が最も低い測定値を、比較例９の液晶セルL(仮2)の駆動電圧が最も低い測定値と比較すると、実施例４２の液晶セルK(仮1)が131 V、液晶セルL(仮2)が141 Vと、10 Vの低減が見いだされ、酢酸トリデシルの添加により7%低減化したことを確認できた。
実施例４２の液晶セルK(仮1)では、酢酸トリデシルが液晶相よりも低秩序な潤滑界面誘導領域を形成し、液晶成分と潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成したと考えられる。比較例９の液晶セルL(仮2)では、スリッパリー界面が形成されないことが確認された。

以上で説明した各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は各実施形態によって限定されることはなく、請求項（クレーム）の範囲によってのみ限定される。

１０，４０・・・複合体（光学素子）、１１，１２，３１，３２・・・基板、１３，２３，３３・・・液晶成分、１４，２４，３４・・・潤滑界面誘導剤、１５，２５・・・液晶相、４５・・・液晶分子、１６，２６・・・潤滑界面誘導領域（液体相）、１７，２７・・・スリッパリー界面、１８，１９，２８，２９，３８，３９，４８，４９・・・電極、２０・・・基板の内側の一表面、２１・・・高分子化合物成分、２２・・・被膜、３５・・・絶縁膜、６０・・・液晶表示装置、２０１・・・第１の共通電極、２０２・・・第１の画素電極、２０３・・・第２の共通電極、２０４・・・第２の画素電極

Claims

液晶成分及び前記液晶成分の支持体を有し、前記液晶成分及び前記支持体の間に潤滑界面誘導領域を有する複合体。
前記支持体が、少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板、液晶成分中に存在する高分子構造体、液晶の欠陥領域を補充する高分子構造体及び／又は高分子薄膜である請求項１に記載の複合体。
前記液晶成分と、前記潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成している請求項１又は２に記載の複合体。
前記潤滑界面誘導領域に潤滑界面誘導剤を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合体。
前記潤滑界面誘導剤が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体である請求項４に記載の複合体。
前記潤滑界面誘導剤が高分子化合物であり、前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有する請求項５に記載の複合体。
少なくとも一方の基板に電極を有する一対の基板と、前記一対の基板の間に充填された液晶成分とを備え、前記一対の基板及び前記液晶成分の間に潤滑界面誘導領域を有する光学素子。
前記潤滑界面誘導領域に潤滑界面誘導剤を有する請求項７に記載の光学素子。
前記液晶成分と、前記潤滑界面誘導領域との界面がスリッパリー界面を形成している請求項７に記載の光学素子。
前記潤滑界面誘導剤が、極性基を有する化合物、重合性化合物、高分子化合物又はイオン液体である請求項８に記載の光学素子。
前記高分子化合物が、鎖長の異なる２種又は３種以上のアルキル基、メソゲン基、光異性化可能な基の少なくとも１種を有する請求項１０に記載の光学素子。
前記液晶成分及び前記潤滑界面誘導剤が相分離構造を発現して、前記液晶成分が液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が液体相を形成している請求項８に記載の光学素子。
前記潤滑界面誘導剤が、前記一対の基板の内側の少なくとも一表面の近傍に偏在して液体相を形成している、請求項８に記載の光学素子。
前記一対の基板の少なくとも一方の内側が、前記潤滑界面誘導剤に対して親和性の良い高分子化合物成分からなる被膜により被覆され、前記潤滑界面誘導剤が、前記被膜の近傍に偏在して液体相を形成している、請求項８に記載の光学素子。
前記液晶相がネマチック液晶相である、請求項１２に記載の光学素子。
前記液晶成分が、高分子化合物成分からなるネットワークにより安定化された光学的等方性の液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が、前記ネットワークの表面の近傍に偏在して液体相を形成している、請求項８に記載の光学素子。
前記液晶成分が、二重ねじれシリンダー構造を有する光学的等方性の液晶相を形成し、前記潤滑界面誘導剤が、前記二重ねじれシリンダー構造の間のディスクリネーションに偏在して液体相を形成している、請求項８に記載の光学素子。
前記液晶成分が電界無印加時に光学的等方性を示し、電界印加時に光学的異方性を示す、請求項１６又は１７に記載の光学素子。
前記液晶成分がコレステリックブルー相を示す、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の光学素子。
前記液晶成分及び前記潤滑界面誘導剤が、自己組織化して相分離構造を発現している、請求項８に記載の光学素子。
前記一方の基板における対向基板側に設けられた第１電極及び第２電極を備え、前記第１電極と前記第２電極との間に電界を発生させる請求項７〜２０のいずれか１項に記載の光学素子。
前記第１電極及び前記第２電極が、前記一対の基板の間にインプレーン電界を発生させる請求項２１に記載の光学素子。
前記第１電極及び前記第２電極が、前記一対の基板の間にフリンジ電界を発生させる請求項２１に記載の光学素子。
更に、第３電極を備え、複数の向きの電界を発生させる請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の光学素子。
更に、第４電極を備え、複数の向きの電界を発生させる請求項２４に記載の光学素子。