JPWO2017022713A1 - 電磁波加熱装置 - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 235000013601 eggs Nutrition 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 235000013365 dairy product Nutrition 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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Abstract
【課題】水蒸気を用いた電磁波加熱装置の小型化を実現する。電磁波加熱装置は、加熱室と、加熱室の第1壁面に配備され、加熱室内の被加熱物を加熱するための電磁波を放射する平面アンテナと、加熱室の第1壁面とは異なる第2壁面に配備され、電磁波の共振構造により高電圧を発生して放電プラズマを発生させる放電装置と、半導体素子により形成され、電磁波を出力する発振器を備え、発振器から出力される電磁波が、平面アンテナと放電装置とに供給されるように構成される。【選択図】図1
Description
本発明は、電子レンジ等の電磁波加熱装置に関する。特に、マイクロ波等の電磁波を放射するアレーアンテナと放電装置を用いて食品を加熱するものに関する。
近年、マグネトロンに代わり、半導体素子によるマイクロ波発生装置を用いた電子レンジが検討されている(例えば特許文献1)。
また、近年、過熱水蒸気を利用して調理を行う加熱調理器が開発され、実用化されている。例えば、特許文献2では、タンクに貯水した水をヒータで加熱して沸騰した水蒸気を発生させ、この水蒸気をファンで加熱室に送出すると共に、水蒸気を過熱して過熱水蒸気を生成するための第2のヒータへも送出する。そして第2のヒータにより生成された過熱水蒸気も加熱室に送られ、この水蒸気と過熱水蒸気とを用いて加熱調理が行われる。
特許文献2では、水蒸気を加熱室に送出するための大型のファン、タンクの水をヒータに供給するためのポンプ、2つのヒータを必要とするので、水蒸気により加熱を行う加熱調理器の小型化が困難である。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものである。
本発明の電磁波加熱装置は、加熱室と、加熱室の第1壁面に配備され、加熱室内の被加熱物を加熱するための電磁波を放射する平面アンテナと、加熱室の第1壁面とは異なる第2壁面に配備され、電磁波の共振構造により高電圧を発生して放電プラズマを発生させる放電装置と、半導体素子により形成され、電磁波を出力する発振器を備え、発振器から出力される電磁波が、平面アンテナと放電装置に供給されるように構成される。
本発明の電磁波加熱装置によれば、通常の電磁波加熱に加え、低温プラズマによる加熱ができるので、卵料理など、精密な加熱制御を必要とする調理に利用できる。また、電磁波共振構造の放電装置を用いて低温プラズマを発生するので、電磁波加熱用の平面アンテナと発振器を共通化できる。従って、電磁波加熱装置の大型化を伴うことなく、低温プラズマによる加熱を行うことができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。
(第1の実施形態)
図1を参照して、本発明に係る電磁波加熱装置の一例である電子レンジ10は、被加熱物を収容する加熱室2と、加熱室の左右の壁面、及び下面にそれぞれ配置される平面アンテナ1A〜1Cと、放電装置3と、マイクロ波を生成する発振器7と、発振器7から入力されたマイクロ波の供給先を切り替える切替器4と、発振器7及び切替器4を制御する制御装置5と、切替器4と各平面アンテナ1を接続する同軸線路6を備える。
図1を参照して、本発明に係る電磁波加熱装置の一例である電子レンジ10は、被加熱物を収容する加熱室2と、加熱室の左右の壁面、及び下面にそれぞれ配置される平面アンテナ1A〜1Cと、放電装置3と、マイクロ波を生成する発振器7と、発振器7から入力されたマイクロ波の供給先を切り替える切替器4と、発振器7及び切替器4を制御する制御装置5と、切替器4と各平面アンテナ1を接続する同軸線路6を備える。
図2を参照して、各平面アンテナ1は、16個の小型アンテナ11A〜11Pが、4列×4行のアレイ状に配置される。それぞれの小型アンテナ11は、切替器4からの距離が等しくなるように配置される。
図3を参照して、平面アンテナ1は、前面側の第1基板12と背面側の第2基板13からなる。
第1基板12はセラミック等の絶縁性の基板あり、その表面には渦巻き状の金属パターンが16個形成されている。金属パターンのそれぞれは1つの小アンテナ16を形成する。
背面側の第2基板13には、切替器4からのマイクロ波を受ける給電点14が下辺に形成される。そして給電点14からそれぞれの小アンテナ11にマイクロ波を伝送するための金属パターンが表面に形成される。
各小アンテナ11は、マイクロ波が入力される受電端11aを中心に渦巻き状に形成され、受電端11aから開放端11bの距離がマイクロ波のおおよそ4分の1波長となるように形成される。また、第1基板12には、各小アンテナ11の受電端11aの位置において貫通孔が形成されている。この貫通孔にはビアが充填され、このビアを介して第1基板12の金属パターンと第2基板13の金属パターンが接続される。
給電点14から16個のアンテナ11の受電端11aまでの距離は等しくなるよう配置される。従って、原理的には16個のアンテナには同位相のマイクロ波が供給されるので、発振器3からの出力パターンに応じて16個のアンテナが同時にON又はOFFとなる。
図3を参照して、放電装置3の構成の詳細を説明する。放電装置3は、同軸線路6からのマイクロ波が入力される入力部3a、同軸線路と放電装置3とのインピーダンス整合を行う結合部3b、及びマイクロ波共振構造によりマイクロ波を昇圧する昇圧部3cからなる。昇圧部3cの先端には放電電極36が配備される。導電性のケース31は、内部の各部材を収容する。
入力部3aの入力端子32から入力されたマイクロ波は第1中心電極33により結合部3bへ伝送する。第1中心電極33とケース31の間にはセラミック等の誘電体39aが設けられる。
結合部3bは、同軸線路(例えば50Ωのインピーダンスを有する)と、昇圧部3c(一例として、マイクロ波の周波数帯において10Ω程度)とのインピーダンス整合を行う部分である。第2中心電極34は、増幅/放電部分3c側に底部を有する筒状構成であり、筒状部が第1中心電極33を囲む。棒状の第1中心電極33と筒状の第2中心電極34の筒部内壁は対向しており、この対向部分において第1中心電極33からのマイクロ波が容量結合により第2中心電極34へ伝送される。第2中心電極34の筒状部分には、セラミック等の誘電体39bが充填され、第2中心電極34とケース31の間にもセラミック等の誘電体39cが設けられる。これら各部材の長さや部材間の距離を適切に設計することにより、所望のインピーダンス整合を行うことが可能となる。
増幅/放電部分3cの第3中心電極35は、第2中心電極34と接続し、第2中心電極34のマイクロ波を伝送する。第3中心電極35は、長さが実質的にマイクロ波のおおよそ4分の1波長となるように設計されている。そこで、第3中心電極35と第2中心電極34の間に位置にマイクロ波の節が来るように設計すれば、第3中心電極35の先端、即ち放電電極36にはマイクロ波の腹が位置することとなり電位が最大となる。第3中心電極35とケース31の間には、部分的に誘電体39d(セラミック)が充填される。ここで、放電装置3の機械的な強度確保の観点からはセラミックを充填した方が良いが、放電装置3の電位(いわゆるQ値)を高める目的であれば、セラミックは充填しない方が良い。そこで、放電装置3は、これらのトレードオフを考慮し、部分的にセラミックを充填している。
係る放電装置3によれば、1kWのマイクロ波を入力部3aから供給した場合、放電電極36とケース31の間に数十KVの高電圧が発生し、放電電極36とケース31の間で放電が起きる。この放電により放電プラズマを発生させることができるので、この放電装置3を電子レンジ10に利用することにより、低温プラズマによる食品の加熱調理が可能となる。
なお、この放電装置3は、マイクロ波の共振構造を用いた放電装置であり、連続的な放電を行うことができる。この点で、スパークプラグ等、間欠的な放電しか行えない多くの放電装置とは相違するので、この放電装置3は電子レンジ等の加熱調理器に適していると言える。
また、放電装置3は発振器7で生成されたマイクロ波を利用して高電圧を発生させるものである。また、発振器7は、平面アンテナ1から放射されるマイクロ波の電源としても機能する。従って、単一の発振器7により、低温プラズマの発生と、マイクロ波加熱の両方を実現することができる。
(第2の実施形態)
上記の放電装置3に代えて、図5で示す、噴射/放電装置40を用いることもできる。この噴射/放電装置40は、噴射管42と、噴射管42の先端に設けた環状突起41と、噴射管42を包む筒状部材43を有する。噴射管42は先端部に設けた噴射口42aから水蒸気を噴射する。噴射管42の外側にはマイクロ波共振構造が形成され、放電装置3と同様、発振器7からのマイクロ波が昇圧される。噴射管42の表面に形成されるマイクロ波共振回路はマイクロ波の4分の1波長の長さを有しており、環状突起41が設けられた部分においてマイクロ波の腹が位置するように設計される。そして、所定の電力以上のマイクロ波を発振器7から噴射/放電装置40に与えた場合、環状突起41と筒状部材43の間の電位差が高まり、そこで絶縁破壊(放電)が生じる。
上記の放電装置3に代えて、図5で示す、噴射/放電装置40を用いることもできる。この噴射/放電装置40は、噴射管42と、噴射管42の先端に設けた環状突起41と、噴射管42を包む筒状部材43を有する。噴射管42は先端部に設けた噴射口42aから水蒸気を噴射する。噴射管42の外側にはマイクロ波共振構造が形成され、放電装置3と同様、発振器7からのマイクロ波が昇圧される。噴射管42の表面に形成されるマイクロ波共振回路はマイクロ波の4分の1波長の長さを有しており、環状突起41が設けられた部分においてマイクロ波の腹が位置するように設計される。そして、所定の電力以上のマイクロ波を発振器7から噴射/放電装置40に与えた場合、環状突起41と筒状部材43の間の電位差が高まり、そこで絶縁破壊(放電)が生じる。
この噴射/放電装置40と上述の平面アンテナ1を併用することにより、以下の調理方法が考えられる。まず、マイクロ波加熱により、被加熱物である食品と、食品が置かれる加熱室内の温度を温める。この状況下で噴射管42から水蒸気を噴射すると共に、更に放電プラズマを生成することにより、例えば微妙な火加減を必要とする、卵・乳製品に適した加熱を行うことができる。
以上説明したように、本発明は、電子レンジ等の電磁波加熱装置について有用である。
1 平面アンテナ
2 加熱室
3 放電装置
4 切替器
5 制御装置
6 同軸線路
7 発振器
11 小型アンテナ
12 第1基板
13 第2基板
14 給電点
2 加熱室
3 放電装置
4 切替器
5 制御装置
6 同軸線路
7 発振器
11 小型アンテナ
12 第1基板
13 第2基板
14 給電点
Claims (1)
- 加熱室と、
加熱室の第1壁面に配備され、加熱室内の被加熱物を加熱するための電磁波を放射する平面アンテナと、
加熱室の第1壁面とは異なる第2壁面に配備され、電磁波の共振構造により高電圧を発生して放電プラズマを発生させる放電装置と、
半導体素子により形成され、電磁波を出力する発振器を備え、
発振器から出力される電磁波が、平面アンテナと放電装置とに供給されるように構成されたことを特徴とする、電磁波加熱装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015151607 | 2015-07-31 | ||
JP2015151607 | 2015-07-31 | ||
PCT/JP2016/072516 WO2017022713A1 (ja) | 2015-07-31 | 2016-08-01 | 電磁波加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017022713A1 true JPWO2017022713A1 (ja) | 2018-05-24 |
Family
ID=57943189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017533057A Pending JPWO2017022713A1 (ja) | 2015-07-31 | 2016-08-01 | 電磁波加熱装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180324905A1 (ja) |
EP (1) | EP3331324A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2017022713A1 (ja) |
WO (1) | WO2017022713A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20190003715A1 (en) * | 2015-07-31 | 2019-01-03 | Imagineering Inc. | Electromagnetic wave heating system |
JP2019032149A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | イマジニアリング株式会社 | 食品加熱装置 |
JP2020064706A (ja) * | 2018-10-15 | 2020-04-23 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置と調理器 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000357583A (ja) * | 1999-06-15 | 2000-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 電子レンジ |
KR100367585B1 (ko) * | 1999-06-28 | 2003-01-10 | 엘지전자 주식회사 | 전자 레인지의 히팅장치 |
JP2007295909A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Makoto Katsurai | プラズマ調理方法および装置 |
WO2009008518A1 (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Imagineering, Inc. | 点火またはプラズマ発生装置 |
JP5782591B2 (ja) * | 2009-09-17 | 2015-09-24 | イマジニアリング株式会社 | ガス処理装置、及び内燃機関 |
-
2016
- 2016-08-01 JP JP2017533057A patent/JPWO2017022713A1/ja active Pending
- 2016-08-01 WO PCT/JP2016/072516 patent/WO2017022713A1/ja active Application Filing
- 2016-08-01 US US15/749,343 patent/US20180324905A1/en not_active Abandoned
- 2016-08-01 EP EP16832992.8A patent/EP3331324A4/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180324905A1 (en) | 2018-11-08 |
WO2017022713A1 (ja) | 2017-02-09 |
EP3331324A4 (en) | 2018-08-08 |
EP3331324A1 (en) | 2018-06-06 |
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