JPWO2016158917A1 - 液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッド - Google Patents
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Abstract
本発明の課題は、加工精度が高く安定した射出性能が得られ、ノズルの泡抜け性が高い液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法を提供することである。本発明の液体吐出ヘッド用ノズルプレート21の製造方法は、Si基板に、異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部212と、小径部212と連通する連通口212aから他方の面に開口し、小径部212より大きな大径部213と、を有するノズル孔211を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレート21の製造方法であって、大径部213を、他方の面と接するトップ層213t、連通口212aと接するボトム層213bとしたとき、トップ層213tを平均スカロップ幅Wtで形成する工程と、ボトム層213bを平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、を有し、下記式(1)を満たすことを特徴とする。式(1):Wt>Wb
Description
本発明は、液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッドに関する。
近年、インクジェット式プリンターは高速で高解像度の印刷が要求されている。このプリンターに用いられるインクジェット式記録ヘッドの構成部品の製造方法には、マイクロマシン分野の微細加工技術であるシリコン基板等を対象とした半導体プロセスが用いられているものがある。このようなインクジェット式記録ヘッドの構成部品の一つとして、ノズルプレートがあり、シリコン基板にエッチングを施すことにより液滴を吐出するノズル孔(吐出口を一方の開口とする貫通孔)を形成したものであることが知られている。
シリコン基板の垂直方向(厚さ方向)に選択性の高いエッチング加工を行う方法としては、エッチングと側壁保護膜の形成(デポジション)とを交互に切り替えて繰り返す異方性エッチング方法が知られている。
このような異方性エッチング方法によるシリコンの深溝形成技術として、ボッシュプロセスが知られている。ボッシュプロセスは、エッチングのステップとデポジション(deposition)のステップを繰り返してエッチングを行うことにより孔を形成する。この形成された孔の側壁は、スカロップと呼ばれるホタテ貝の貝殻表面に認められるような波形の形状になることが知られている。
ボッシュプロセスによるノズルプレートの製造方法としては、例えば、ICP(Inductively Coupled Plasma)型RIE(Reactive Ion Etching)装置を用いてノズル孔を形成する方法が知られている(特許文献1参照)。
また、一方の面に開口する小径部と、当該小径部に連通し、他方の面に開口する小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法が知られている。例えば、エッチング深さD、小径部を形成するためのエッチングマスクパターンの開口の直径Rとしたときに、「D≦0.1×R」になるようにエッチングの加工条件最適化することで、ノズル孔の吐出口の開口形状が、エッチングマスクパターンに忠実に形成することができるノズルプレートの製造方法が開示されている(特許文献2参照)。
ところで、通常、ノズル孔の小径部は、高い精度が求められるため、特許文献1又は2に記載されているような従来のボッシュプロセスによってノズルプレートを製造する場合、スカロップ幅を狭くして高精度にエッチングを行う。一方で、ノズル孔の大径部は、小径部と比較すれば、求められる精度が低く、かつ加工領域も広いため、スカロップ幅を広くして、エッチング速度を上げて製造する。
そこで、発明者らが、従来のボッシュプロセスを用いたノズルプレートの製造方法によって、スカロップ幅を広くした大径部をノズルプレートに形成したところ、欠ノズルや射出ぶれが発生し易いことが分かった。これは、幅の広いスカロップには、微小な気泡が引っかかって気泡が大きくなり易いため、その大きくなった気泡が流れたときに、ノズル孔から気泡が抜け難くなり、欠ノズルや、射出ぶれの原因となっているためであると考えられる。
また、ボッシュプロセスによるノズルプレートの製造方法において、スカロップ幅を非常に小さくして大径部を形成させれば、加工精度が向上し、欠ノズルや射出ぶれが改善できると考えられるが、製造に時間を要するとともに、コストを要するという問題がある。
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、大径部のスカロップ幅を最適化することによって、加工精度が高く安定した射出性能が得られ、ノズルの泡抜け性が高い液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッドを提供することである。
上記課題の解決のために、請求項1に記載の発明は、
Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法であって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層を平均スカロップ幅Wtで形成する工程と、
前記ボトム層を平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、
を有し、下記式(1)を満たすことを特徴とする。
式(1):Wt>Wb
Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法であって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層を平均スカロップ幅Wtで形成する工程と、
前記ボトム層を平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、
を有し、下記式(1)を満たすことを特徴とする。
式(1):Wt>Wb
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法において、
前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、
前記ミドル層を平均スカロップ幅Wmで形成する工程を有し、
下記式(2)を満たすことを特徴とする。
式(2):Wt>Wb>Wm
前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、
前記ミドル層を平均スカロップ幅Wmで形成する工程を有し、
下記式(2)を満たすことを特徴とする。
式(2):Wt>Wb>Wm
請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法において、
前記異方性エッチング方法は、ボッシュプロセスを用いて行われることを特徴とする。
前記異方性エッチング方法は、ボッシュプロセスを用いて行われることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法において、
前記Si基板は、2つのSi層の間にエッチングレートの低いSiO2層からなる結合層を備えることを特徴とする。
前記Si基板は、2つのSi層の間にエッチングレートの低いSiO2層からなる結合層を備えることを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法において、
前記小径部が開口する面に、撥液層を形成することを特徴とする。
前記小径部が開口する面に、撥液層を形成することを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法において、
前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする。
前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする。
請求項7に記載の発明は、
Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートであって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層の平均スカロップ幅Wt、及び前記ボトム層の平均スカロップ幅Wbが下記式(1)を満たすことを特徴とする。
式(1):Wt>Wb
Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートであって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層の平均スカロップ幅Wt、及び前記ボトム層の平均スカロップ幅Wbが下記式(1)を満たすことを特徴とする。
式(1):Wt>Wb
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートにおいて、
前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、前記ミドル層の平均スカロップ幅Wmが下記式(2)を満たすことを特徴とする。
式(2):Wt>Wb>Wm
前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、前記ミドル層の平均スカロップ幅Wmが下記式(2)を満たすことを特徴とする。
式(2):Wt>Wb>Wm
請求項9に記載の発明は、請求項7又は請求項8に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートにおいて、
前記小径部が開口する面に、撥液層を有することを特徴とする。
前記小径部が開口する面に、撥液層を有することを特徴とする。
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートにおいて、
前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする。
前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする。
請求項11に記載の発明は、
請求項7から請求項10までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートを有するヘッドチップを備えることを特徴とする液体吐出ヘッドである。
請求項7から請求項10までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートを有するヘッドチップを備えることを特徴とする液体吐出ヘッドである。
本発明によれば、ノズルの泡抜け性が高く、安定した射出性能を有する液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッドを提供することができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について説明する。但し、発明の範囲は図示例に限定されない。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
[インクジェットヘッドの概略構成]
液体吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド1は、ヘッドチップ2、保持板3、接続部材4、インク流路部材5等を備える(図1等参照)。
液体吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド1は、ヘッドチップ2、保持板3、接続部材4、インク流路部材5等を備える(図1等参照)。
ヘッドチップ2は、下側から順にノズルプレート21、中間プレート22、ボディプレート23の3枚の基板が積層一体化されることによって構成されている。
ノズルプレート21には、インクを射出するノズル孔211が設けられている。
中間プレート22には、インクの射出時にインク流路となる連通孔221が設けられている。
ノズルプレート21には、インクを射出するノズル孔211が設けられている。
中間プレート22には、インクの射出時にインク流路となる連通孔221が設けられている。
ボディプレート23には、インクが充填される圧力室231を内部に備える。そして、圧力室231にインクの供給又は排出に利用されるインク共通流路232、インク共通流路232の両端部でボディプレート23の上面に開口するインク通路口236を備える。
また、ボディプレート23の上面には、圧力発生手段としての圧電素子234が設けられており、圧電素子234の変位によって、ヘッドチップ2の内部の圧力室231に充填されたインクが加圧され、ノズル孔211からインクの液滴が射出する。
また、ボディプレート23の上面には、圧力発生手段としての圧電素子234が設けられており、圧電素子234の変位によって、ヘッドチップ2の内部の圧力室231に充填されたインクが加圧され、ノズル孔211からインクの液滴が射出する。
保持板3は、ヘッドチップ2の強度保持のために、ヘッドチップ2上面に接着剤を用いて接合されている。また、保持板3は、中央部に開口部31を有しており、ボディプレート23の上面の圧電素子234が開口部31の内部に格納されるように構成されている。
また、保持板3の左右方向の両端部近傍には、インク通路口236とインク流路部材5を連通する貫通孔32,32が形成されている。貫通孔32,32は、それぞれインク流路部材5,5とヘッドチップ2の間を連通するインク流路として用いられる。
また、保持板3の左右方向の両端部近傍には、インク通路口236とインク流路部材5を連通する貫通孔32,32が形成されている。貫通孔32,32は、それぞれインク流路部材5,5とヘッドチップ2の間を連通するインク流路として用いられる。
接続部材4は、例えばFPC等からなる配線部材であり、その幅方向が保持板3の左右方向に沿って保持板3の上面の後側付近に接着され、保持板3の中央に設けられた開口部31を通して圧電素子234と電気的に接続している。また、接続部材4は、駆動部(図示省略)に接続しており、当該駆動部から、接続部材4を通じて圧電素子234に給電することができる。
インク流路部材5は、保持板3上面の左右方向の両端部にそれぞれ1つ接合されており、インク流路部材5の上面に、インクの供給又排出を行うためのインク流路口51を備える。2つのインク流路部材5のうち、一方をインクの供給用、他方をインクの排出用としても良く、両方をインクの供給用としても良い。
また、インク流路部材5の内部には、インク流路部材5の内部を通過するインク中のごみや気泡等の不純物を取り除くためのフィルター52を設けることが好ましい。
以下、ヘッドチップ2について詳細に説明する。
また、インク流路部材5の内部には、インク流路部材5の内部を通過するインク中のごみや気泡等の不純物を取り除くためのフィルター52を設けることが好ましい。
以下、ヘッドチップ2について詳細に説明する。
[ヘッドチップ]
ヘッドチップ2は、下側から順にノズルプレート21、中間プレート22、ボディプレート23の3枚の基板が積層一体化されることによって構成されている(図2)。
ヘッドチップ2は、下側から順にノズルプレート21、中間プレート22、ボディプレート23の3枚の基板が積層一体化されることによって構成されている(図2)。
ノズルプレート21は、例えば、厚さが100〜300μm程度のSi基板からなり、ノズルプレートには、インク等の液滴を吐出するための上下方向に貫通するノズル孔211が形成されている。ノズル孔211は、一方の面に開口する小径部212と、小径部212と連通して他方の面に開口し、小径部212より大きな大径部213と、によって形成されている。
中間プレート22は、例えば、100〜300μm程度のガラス基板からなり、ノズルプレート21の大径部213に対応する位置に、中間プレート22を貫通し、インクの射出時にインク流路となる連通孔221が形成されている。
連通孔221は、インクが通過する経路の径を絞る形状とする等、インクの流路の形状を調整し、インクの射出においてインクに加えられる運動エネルギーを調整している。
また、中間プレート22のガラス基板としては、ホウケイ酸ガラス(例えば、テンパックスガラス)が好ましく用いられる。
連通孔221は、インクが通過する経路の径を絞る形状とする等、インクの流路の形状を調整し、インクの射出においてインクに加えられる運動エネルギーを調整している。
また、中間プレート22のガラス基板としては、ホウケイ酸ガラス(例えば、テンパックスガラス)が好ましく用いられる。
ボディプレート23は、例えば、100〜300μm程度のSi基板からなり、中間プレート22の連通孔221に連通する圧力室231と、圧力室231に個別にインクを供給するインレット233と、ボディプレート23に設けられた複数のインレット233のそれぞれにインクを供給するインク共通流路232と、が形成されている。
圧力室231の上面には、20〜30μm程度の薄さで弾性変形可能な振動板235が形成されている。そして、振動板235の上面に設けられた圧電素子234の動作に応じて振動板235が振動し、圧力室231内のインクに圧力を加えることができる。
次に、本発明におけるノズルプレート21について、詳細に説明する。
次に、本発明におけるノズルプレート21について、詳細に説明する。
[ノズルプレート]
ノズルプレート21には、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、下側の面に開口する小径部212と、小径部212と連通する連通口212aから上側の面に開口し、小径部212より大きな大径部213と、を有するノズル孔211が形成されている(図3)。
なお、図3の小径部212及び大径部213の内壁には、エッチングと側壁保護膜の形成(デポジション)を繰り返し行う異方性エッチングを用いて形成されたために見られるスカロップを模式的に示している。
ノズルプレート21には、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、下側の面に開口する小径部212と、小径部212と連通する連通口212aから上側の面に開口し、小径部212より大きな大径部213と、を有するノズル孔211が形成されている(図3)。
なお、図3の小径部212及び大径部213の内壁には、エッチングと側壁保護膜の形成(デポジション)を繰り返し行う異方性エッチングを用いて形成されたために見られるスカロップを模式的に示している。
ノズルプレート21は、Si基板からなり、特に、加工性の向上の観点から、二つのSi層21aの間にSiO2層からなる結合層21bが設けられた、いわゆるSOIウエハを用いることが好ましい。結合層21bは、Si層よりも薄く(例えば、0.3〜1.0μm)、かつエッチングレートの非常に低い層である。そのため、小径部212と大径部213をそれぞれ結合層21bに向かって加工した際に、加工ムラがあった場合であっても、結合層21bで加工を制御することが可能である。
大径部213は、上側の面から連通口212aまでのうち、上側の面と接するトップ層213t、連通口212aと接するボトム層213bとしたとき、トップ層213tの平均スカロップ幅Wt、及びボトム層213bの平均スカロップ幅Wbが下記式(1)を満たすことを特徴とする。
式(1):Wt>Wb
式(1):Wt>Wb
本発明における「スカロップ幅」とは、異方性エッチング方法において交互に繰り返すエッチングと側壁保護膜の形成との繰り返し単位を1サイクルとしたとき、この1サイクル当たりのスカロップの幅の間隔のことをいう。また、本発明における「平均スカロップ幅」とは、個々のスカロップ幅の平均値のことをいう。
上記式(1)を満たすように、連通口212aに近いボトム層213bのスカロップ幅Wbを、トップ層213tのスカロップ幅Wtよりも狭くすることによって、ボトム層213bの側壁の平滑性を向上させ、ボトム層213bに気泡を溜まりにくくすることができる。これにより、ノズルの泡抜け性が高く、安定した射出性能を得ることができる。
また、トップ層213tとボトム層213bの間をミドル層213mとしたとき、ミドル層213mの平均スカロップ幅Wmが下記式(2)を満たすことが好ましい。
式(2):Wt>Wb>Wm
式(2):Wt>Wb>Wm
これにより、ミドル層213mの側壁の平滑性が向上するため、ミドル層213mにおいて、微小な気泡が引っかかり難くなると考えられる。そして、大径部213に発生した気泡が大きく成長し難くなり、連通口212aを塞いでしまうような大きな気泡が発生し難くなると考えられる。
また、大径部の主柱となるミドル層213mを上下方向に垂直になるように精度良く加工することによって、ノズルプレート21に設けられた複数の各ノズル孔211間の加工誤差による影響を最小限に抑え、各ノズル孔211において高い射出性能を得ることができる。
また、大径部の主柱となるミドル層213mを上下方向に垂直になるように精度良く加工することによって、ノズルプレート21に設けられた複数の各ノズル孔211間の加工誤差による影響を最小限に抑え、各ノズル孔211において高い射出性能を得ることができる。
また、トップ層213t、ミドル層213m及びボトム層213bの大径部の上下方向の全長に対する割合は、トップ層213tを5〜50%の範囲内(例えば20%)、ミドル層213mを0〜90%の範囲内(例えば60%)、ボトム層を5〜50%の範囲内(例えば20%)として、それぞれの合計を100%とすることが好ましい。
また、ここで、平均スカロップ幅Wt、平均スカロップ幅Wm、平均スカロップ幅Wbは、特に限られることはないが、2.5μm以下であることが好ましく、気泡の引っかかり難さの観点から2.0μm以下であることが特に好ましい。
また、ここで、平均スカロップ幅Wt、平均スカロップ幅Wm、平均スカロップ幅Wbは、特に限られることはないが、2.5μm以下であることが好ましく、気泡の引っかかり難さの観点から2.0μm以下であることが特に好ましい。
小径部212は、例えば、厚さ10〜20μmで形成され、平均スカロップ幅は0.2μm以下であることが好ましい。小径部212は、液滴を射出するための射出口となるため、スカロップ幅(エッチング幅)を狭くして、高い加工精度で形成されることが好ましい。
また、ノズルプレート21の小径部212が開口する面には、撥液層215を設けることが好ましい。撥液層215を設けることにより、ノズル孔211から射出される液体が、ノズルプレート21の下面に染み出して広がることを抑制することができる。
撥液層215としては、ノズル孔211から射出する液体が水性であれば、撥水性を有する材料が用いられ、ノズル孔211から射出する液体が油性であれば、撥油性を有する材料が用いられる。具体的には、例えば、FEP(四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン)、PTFE(ポリテトラフロロエチレン)、フッ素シロキサン、フルオロアルキルシラン、アモルファスパーフルオロ樹脂等のフッ素樹脂等が挙げられ、塗布や蒸着等の公知の方法でノズルプレートの下面に成膜される。撥液層215の厚さは、特に限定されるものではないが、0.1〜3.0μmの範囲内とすることが好ましい。
撥液層215としては、ノズル孔211から射出する液体が水性であれば、撥水性を有する材料が用いられ、ノズル孔211から射出する液体が油性であれば、撥油性を有する材料が用いられる。具体的には、例えば、FEP(四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン)、PTFE(ポリテトラフロロエチレン)、フッ素シロキサン、フルオロアルキルシラン、アモルファスパーフルオロ樹脂等のフッ素樹脂等が挙げられ、塗布や蒸着等の公知の方法でノズルプレートの下面に成膜される。撥液層215の厚さは、特に限定されるものではないが、0.1〜3.0μmの範囲内とすることが好ましい。
[ノズルプレートの製造方法]
ノズルプレートの製造方法についての一例を説明する。以下で説明するノズルプレートの製造方法では、大径部213を形成した後に小径部212を形成し、SiO2層からなる結合層21bを、希釈フッ酸溶液を用いたウェットエッチング方法によって除去する方法を説明するが、上記で説明したノズルプレート21を製造することができれば製造方法は適宜選択可能であり、以下に示す例に限定されるものではない。
例えば、SiO2層からなる結合層21bをドライエッチングによる方法によって除去しても良く、加工する順番を逆にして、小径部212を形成した後に大径部213を形成しても良い。
ノズルプレートの製造方法についての一例を説明する。以下で説明するノズルプレートの製造方法では、大径部213を形成した後に小径部212を形成し、SiO2層からなる結合層21bを、希釈フッ酸溶液を用いたウェットエッチング方法によって除去する方法を説明するが、上記で説明したノズルプレート21を製造することができれば製造方法は適宜選択可能であり、以下に示す例に限定されるものではない。
例えば、SiO2層からなる結合層21bをドライエッチングによる方法によって除去しても良く、加工する順番を逆にして、小径部212を形成した後に大径部213を形成しても良い。
本発明のノズルプレート21の製造方法について、Si基板にノズル孔を形成する方法を説明する。ノズルプレート21に形成するノズル孔211は、まず大径部213をノズルプレートの一方の面から形成し(図4A〜I)、次に、小径部212をノズルプレートの他方の面から形成する(図5A〜G)。
なお、以下の製造方法の一例の説明では、異方性エッチング方法としては、ボッシュプロセスを用いており、ノズルプレート21を製造するためのSi基板としては、二つのSi層21aの間にSiO2層からなる結合層21bが設けられたSOIウエハを用いているが、これらに限定されない。
なお、以下の製造方法の一例の説明では、異方性エッチング方法としては、ボッシュプロセスを用いており、ノズルプレート21を製造するためのSi基板としては、二つのSi層21aの間にSiO2層からなる結合層21bが設けられたSOIウエハを用いているが、これらに限定されない。
(大径部の形成方法)
ノズルプレート21を製造するためのSi基板として、エッチングマスクとなるSiO2からなる熱酸化膜216、217を両面に設けてあるSOIウエハを準備する(図4A)。
ノズルプレート21を製造するためのSi基板として、エッチングマスクとなるSiO2からなる熱酸化膜216、217を両面に設けてあるSOIウエハを準備する(図4A)。
次に、大径部213を形成する側の熱酸化膜217の面に、フォトレジスト218を塗布した後(図4B)、大径部213を形成する位置の上面以外にフォトレジスト218が塗布された状態となるように、フォトレジストパターン218aを形成する(図4C)。次に、フォトレジストパターン218aをエッチングマスクとして、例えばCHF3を用いたドライエッチングにより熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン217aとする(図4D)。
フォトレジストパターン218aを除去後(図4E)、エッチングとデポジションとを交互に繰り返す異方性エッチング方法より、エッチング条件とデポジション条件を平均スカロップ幅Wtでエッチングを行える条件に設定し、大径部213のトップ層213tを形成する(図4F)。
ここで、異方性エッチング方法を行うエッチング装置は、ICP型RIE装置が好ましく、例えば、エッチング時のエッチングガスとして、六フッ化硫黄(SF6)、デポジション時のデポジションガスとしてフッ化炭素(C4F8)を交互に使用する。
ここで、異方性エッチング方法を行うエッチング装置は、ICP型RIE装置が好ましく、例えば、エッチング時のエッチングガスとして、六フッ化硫黄(SF6)、デポジション時のデポジションガスとしてフッ化炭素(C4F8)を交互に使用する。
次に、エッチング条件とデポジション条件を平均スカロップ幅Wmでエッチングを行える条件に変更し、大径部213のミドル層213mを形成する(図4G)。次に、エッチング条件とデポジション条件を平均スカロップ幅Wbでエッチングを行える条件に変更し、結合層21bが露出するまでエッチングを行い、大径部213のボトム層213bを形成する(図4H)。そして、最後に、エッチングマスクパターン217aを除去することで、大径部213を形成する工程が完了する(図4I)。
以上のように、本発明における大径部213を形成する工程は、トップ層213tを平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、ボトム層213bを平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、ミドル層213mを平均スカロップ幅Wmで形成する工程と、を有している。
また、上述した平均スカロップ幅Wt、Wm及びWbは、少なくとも下記式(1)を満たしており、さらに、下記式(2)を満たすことが好ましい。
式(1):Wt>Wb
式(2):Wt>Wb>Wm
また、上述した平均スカロップ幅Wt、Wm及びWbは、少なくとも下記式(1)を満たしており、さらに、下記式(2)を満たすことが好ましい。
式(1):Wt>Wb
式(2):Wt>Wb>Wm
(小径部の形成)
大径部213を形成したSi基板に(図5A)、小径部212を形成する側の熱酸化膜216の面にフォトレジスト219を塗布した後(図5B)、小径部212を形成する位置の上面以外にフォトレジスト219が塗布された状態となるように、フォトレジストパターン219aを形成する(図5C)。
次に、フォトレジストパターン219aをエッチングマスクとして、熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン216aとする(図5D)。
大径部213を形成したSi基板に(図5A)、小径部212を形成する側の熱酸化膜216の面にフォトレジスト219を塗布した後(図5B)、小径部212を形成する位置の上面以外にフォトレジスト219が塗布された状態となるように、フォトレジストパターン219aを形成する(図5C)。
次に、フォトレジストパターン219aをエッチングマスクとして、熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン216aとする(図5D)。
次に、フォトレジストパターン219aを除去後(図5E)、エッチングとデポジションとを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、結合層21bが露出するまでエッチングを行い、小径部212を形成する(図5F)。そして、希釈フッ酸溶液に浸漬して、エッチングマスクパターン216aと、表面に露出した結合層21bを除去し、小径部212を形成する工程が完了する(図5G)。
[その他]
本発明の今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した詳細な説明に限定されるものではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
本発明の今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した詳細な説明に限定されるものではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
例えば、本発明のノズルプレートの製造方法において、SOIウエハを用いた方法を示したが、これに限られず、SOIウエハを用いないSi基板によってノズルプレート21を製造しても良い。
また、大径部213の形成において、トップ層213t、ミドル層213m及びボトム層213bのそれぞれにおいて、平均エッチングレートを変更する製造方法を示したが、上記式(1)満たす構成であれば必ずしも3層構成である必要はない。例えば、平均エッチングレートを1回のみ変更するトップ層213tとボトム層213bの2層構成であってもよく、平均エッチングレートを3回以上変更する4層以上の構成であっても良い。
また、大径部213の形状は、図3に示したようなノズルプレート21に対して垂直方向に形成した大径部213に限られず、適宜選択可能である。例えば、大径部213のトップ層213t側の直径が大きくなるように、テーパ形状としても良い。また、図3の上側から下側に直径が小さくなるようにして大径部213を2段以上の階段状となるように形成し、それぞれの段にトップ層213t、ミドル層213m、及びボトム層213bを設け、それぞれのスカロップ幅Wt、Wm、及びWbが上記式(1)又は上記式(2)を満たすように構成しても良い。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
≪ノズルプレート1〜4の製造方法≫
小径部212及び大径部213から構成されるノズル孔211を有するノズルプレート1〜4を、ボッシュプロセスによる異方性エッチング方法によって製造した。
小径部212及び大径部213から構成されるノズル孔211を有するノズルプレート1〜4を、ボッシュプロセスによる異方性エッチング方法によって製造した。
(大径部の形成)
ノズルプレート1〜4を製造するためのSi基板として、エッチングマスクとなるSiO2からなる厚さ1μmの熱酸化膜216、217を両面に設けてある、厚さ200μm
のSOIウエハを準備した(図4A)。SOIウエハの結合層21bの厚さは、0.5μmであった。
ノズルプレート1〜4を製造するためのSi基板として、エッチングマスクとなるSiO2からなる厚さ1μmの熱酸化膜216、217を両面に設けてある、厚さ200μm
のSOIウエハを準備した(図4A)。SOIウエハの結合層21bの厚さは、0.5μmであった。
次に、大径部213を形成する側の熱酸化膜217の面に、フォトレジスト218を塗布した後(図4B)、大径部213を形成する位置の上面以外にフォトレジスト218が塗布された状態となるように、直径100μmのフォトレジストパターン218aを形成した(図4C)。次に、フォトレジストパターン218aをエッチングマスクとして、CHF3を用いたドライエッチングにより直径100μmの熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン217aとした(図4D)。次に、フォトレジストパターン218aを除去した(図4E)。
次に、Surface Technology Systems Limited製Multiplex−ICPを使用して、エッチングとデポジションとを交互に繰り返す異方性エッチング方法によって、直径100μmの大径部213を形成した(図4F,図4G,図4H)。この後、エッチングマスクパターン217aを、CHF3を用いたドライエッチングで除去した(図4I)。
ここで、上記の大径部213を形成は、表1に示すとおり、トップ層213tの平均スカロップ幅Wt、ミドル層213mの平均スカロップ幅Wm、及びトップ層213tの平均スカロップ幅Wtとなるように異方性エッチング条件をそれぞれ調整して、ノズルプレート1〜4の大径部213を形成した。
また、本実施例において、トップ層213tは36μm、ミドル層213mは108μm、ボトム層213bは36μmとなるように形成した。ここで、厚さ200μmのSi基板を使用しているため、残りのSi基板の厚さは20μmであった。
ここで、上記の大径部213を形成は、表1に示すとおり、トップ層213tの平均スカロップ幅Wt、ミドル層213mの平均スカロップ幅Wm、及びトップ層213tの平均スカロップ幅Wtとなるように異方性エッチング条件をそれぞれ調整して、ノズルプレート1〜4の大径部213を形成した。
また、本実施例において、トップ層213tは36μm、ミドル層213mは108μm、ボトム層213bは36μmとなるように形成した。ここで、厚さ200μmのSi基板を使用しているため、残りのSi基板の厚さは20μmであった。
(小径部の形成)
大径部213を形成したSi基板に(図5A)、小径部212を形成する側の熱酸化膜216の面にフォトレジスト219を塗布した(図5B)。次に、小径部212を形成する位置の上面以外にフォトレジスト219が塗布された状態となるように、大径部213の穴と同心で直径20μmのフォトレジストパターン219aを形成した(図5C)。
次に、フォトレジストパターン219aをエッチングマスクとして、直径20μmの熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン216aとした(図5D)。次に、フォトレジストパターン219aを除去した(図5E)。
大径部213を形成したSi基板に(図5A)、小径部212を形成する側の熱酸化膜216の面にフォトレジスト219を塗布した(図5B)。次に、小径部212を形成する位置の上面以外にフォトレジスト219が塗布された状態となるように、大径部213の穴と同心で直径20μmのフォトレジストパターン219aを形成した(図5C)。
次に、フォトレジストパターン219aをエッチングマスクとして、直径20μmの熱酸化膜パターンを形成し、これを異方性エッチング方法におけるエッチングマスクパターン216aとした(図5D)。次に、フォトレジストパターン219aを除去した(図5E)。
次に、Surface Technology Systems Limited製Multiplex−ICPを使用して、エッチングとデポジションとを交互に繰り返す異方性エッチング方法によって、結合層21bが露出するまでエッチングを行い、直径20μmの小径部212を形成した(図5F)。そして、希釈フッ酸溶液に浸漬して、エッチングマスクパターン216aと、表面に露出した結合層21bを除去した(図5G)。
ここで、ノズルプレート1〜4における上記の小径部212の形成では、平均スカロップ幅0.2μmとなるように異方性エッチング条件を調整して形成させ、ノズルプレート1〜4にそれぞれ同一の小径部212を形成した。
また、形成した小径部212の厚さは20μmであった。
ここで、ノズルプレート1〜4における上記の小径部212の形成では、平均スカロップ幅0.2μmとなるように異方性エッチング条件を調整して形成させ、ノズルプレート1〜4にそれぞれ同一の小径部212を形成した。
また、形成した小径部212の厚さは20μmであった。
また、ノズルプレート1〜4には、上記のような大径部213と小径部212によって構成されるノズル孔211を、1024個形成させた。また、上記の方法で製造したノズルプレート1〜4において、図3に示したような撥液層215は設けなかった。
≪インクジェットヘッド1〜4の製造方法≫
公知の方法によって、図1及び図2に示すような、中間プレート22及びボディプレート23を製造した。そして、上記のように製造したノズルプレート1〜4のそれぞれに対して、中間プレート22及びボディプレート23を接着剤で貼り合わせてヘッドチップ2を製造し、更に、ヘッドチップ2の上面に保持板3、接続部材4、インク流路部材5を形成してインクジェットヘッド1〜4を製造した。
公知の方法によって、図1及び図2に示すような、中間プレート22及びボディプレート23を製造した。そして、上記のように製造したノズルプレート1〜4のそれぞれに対して、中間プレート22及びボディプレート23を接着剤で貼り合わせてヘッドチップ2を製造し、更に、ヘッドチップ2の上面に保持板3、接続部材4、インク流路部材5を形成してインクジェットヘッド1〜4を製造した。
≪評価方法≫
以上のように製造したインクジェットヘッド1〜4を用いて、以下の液滴の射出実験を行い、液滴の射出性能の評価を行った。
インクジェットヘッド1〜4をそれぞれインクジェット記録装置に搭載し、70kPaで10秒間、インクをインク流路部材5からヘッドチップ2の内部を通過して、1024個の各ノズル孔211からインクを排出させることによって、インクの初期充填を行った。次に、100kPaで10秒間、インクをインク流路部材5からヘッドチップ2の内部を通過して、1024個の各ノズル孔211からインクを排出させることによって、インクの追加充填を行った。その後、1024個の各ノズル孔211から、3.5pLの液滴を50kHzの条件でインクを射出させ、射出したインク滴の飛翔軌道をストロボカメラで撮影した。そして、射出したインク滴に射出ぶれが生じているか否かを観察した。
射出ぶれの評価は、各ノズル孔211から連続して射出した20個のインク滴の飛翔軌道をストロボカメラで撮影した際に、射出したインク滴が、ノズルプレート21の底面から1mm離れた到達位置において、20個全てのインク滴が、インクの射出方向に垂直な点を中心として直径20μm以内に収まった場合を射出ぶれが生じなかったと評価した。一方で、直径20μm以内に収まらなかったインク滴があった場合を射出ぶれが生じたと評価した。
以上のように製造したインクジェットヘッド1〜4を用いて、以下の液滴の射出実験を行い、液滴の射出性能の評価を行った。
インクジェットヘッド1〜4をそれぞれインクジェット記録装置に搭載し、70kPaで10秒間、インクをインク流路部材5からヘッドチップ2の内部を通過して、1024個の各ノズル孔211からインクを排出させることによって、インクの初期充填を行った。次に、100kPaで10秒間、インクをインク流路部材5からヘッドチップ2の内部を通過して、1024個の各ノズル孔211からインクを排出させることによって、インクの追加充填を行った。その後、1024個の各ノズル孔211から、3.5pLの液滴を50kHzの条件でインクを射出させ、射出したインク滴の飛翔軌道をストロボカメラで撮影した。そして、射出したインク滴に射出ぶれが生じているか否かを観察した。
射出ぶれの評価は、各ノズル孔211から連続して射出した20個のインク滴の飛翔軌道をストロボカメラで撮影した際に、射出したインク滴が、ノズルプレート21の底面から1mm離れた到達位置において、20個全てのインク滴が、インクの射出方向に垂直な点を中心として直径20μm以内に収まった場合を射出ぶれが生じなかったと評価した。一方で、直径20μm以内に収まらなかったインク滴があった場合を射出ぶれが生じたと評価した。
具体的には、以下に示す基準でインクジェットヘッド1〜4の射出性能を評価し、◎と○を合格とした。
◎:ノズル孔1024個全て射出ぶれが生じなかった。
○:ノズル孔1024個中1〜4個に射出ぶれが生じた。
△:ノズル孔1024個中5〜9個に射出ぶれが生じた。
×:ノズル孔1024個中10個以上に射出ぶれが生じた。
◎:ノズル孔1024個全て射出ぶれが生じなかった。
○:ノズル孔1024個中1〜4個に射出ぶれが生じた。
△:ノズル孔1024個中5〜9個に射出ぶれが生じた。
×:ノズル孔1024個中10個以上に射出ぶれが生じた。
≪評価結果≫
本発明のノズルプレート1〜3を用いたインクジェットヘッド1〜3では、射出ぶれの発生が抑えられおり、射出性能が高いことが分かった。これは、ノズルの泡抜け性が高く、ノズル孔211に泡が溜まり難かったためであると考えられる。
また、本発明のノズルプレート1を用いたインクジェットヘッド1では、全てのノズル孔で射出ぶれが発生せず、特に良好な射出性能が得られることが分かった。これは、ミドル層をより精密に形成したことによって、ノズルプレートに設けられた複数の各ノズル孔の加工誤差による影響を最小限に抑え、全てのノズル孔において高い射出性能を得ることができたためであると考えられる。
本発明のノズルプレート1〜3を用いたインクジェットヘッド1〜3では、射出ぶれの発生が抑えられおり、射出性能が高いことが分かった。これは、ノズルの泡抜け性が高く、ノズル孔211に泡が溜まり難かったためであると考えられる。
また、本発明のノズルプレート1を用いたインクジェットヘッド1では、全てのノズル孔で射出ぶれが発生せず、特に良好な射出性能が得られることが分かった。これは、ミドル層をより精密に形成したことによって、ノズルプレートに設けられた複数の各ノズル孔の加工誤差による影響を最小限に抑え、全てのノズル孔において高い射出性能を得ることができたためであると考えられる。
本発明は、液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッドに利用することができる。
1 液体吐出ヘッド(インクジェットヘッド)
2 ヘッドチップ
21 ノズルプレート
211 ノズル孔
212 小径部
213 大径部
213t トップ層
213m ミドル層
213b ボトム層
215 撥液層
Wt トップ層の平均スカロップ幅
Wm ミドル層の平均スカロップ幅
Wb ボトム層の平均スカロップ幅
2 ヘッドチップ
21 ノズルプレート
211 ノズル孔
212 小径部
213 大径部
213t トップ層
213m ミドル層
213b ボトム層
215 撥液層
Wt トップ層の平均スカロップ幅
Wm ミドル層の平均スカロップ幅
Wb ボトム層の平均スカロップ幅
Claims (11)
- Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法であって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層を平均スカロップ幅Wtで形成する工程と、
前記ボトム層を平均スカロップ幅Wbで形成する工程と、
を有し、下記式(1)を満たすことを特徴とする液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
式(1):Wt>Wb - 前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、
前記ミドル層を平均スカロップ幅Wmで形成する工程を有し、
下記式(2)を満たすことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
式(2):Wt>Wb>Wm - 前記異方性エッチング方法は、ボッシュプロセスを用いて行われることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
- 前記Si基板は、2つのSi層の間にエッチングレートの低いSiO2層からなる結合層を備えることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
- 前記小径部が開口する面に、撥液層を形成することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
- 前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする請求項5に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法。
- Si基板に、エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返す異方性エッチング方法により、一方の面に開口する小径部と、前記小径部と連通する連通口から他方の面に開口し、前記小径部より大きな大径部と、を有するノズル孔を設ける液体吐出ヘッド用ノズルプレートであって、
前記大径部を、前記他方の面から前記連通口までのうち、前記他方の面と接するトップ層、前記連通口と接するボトム層としたとき、
前記トップ層の平均スカロップ幅Wt、及び前記ボトム層の平均スカロップ幅Wbが下記式(1)を満たすことを特徴とする液体吐出ヘッド用ノズルプレート。
式(1):Wt>Wb - 前記トップ層と前記ボトム層の間をミドル層としたとき、前記ミドル層の平均スカロップ幅Wmが下記式(2)を満たすことを特徴とする請求項7に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレート。
式(2):Wt>Wb>Wm - 前記小径部が開口する面に、撥液層を有することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレート。
- 前記撥液層の厚さは、0.1〜3.0μmの範囲内であることを特徴とする請求項9に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレート。
- 請求項7から請求項10までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッド用ノズルプレートを有するヘッドチップを備えることを特徴とする液体吐出ヘッド。
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