JPWO2016147752A1 - 光減衰装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】計測対象の光の一部を簡便な構成によって十分に減衰可能な光減衰装置を提供する。【解決手段】光減衰装置100は、サンプリングプリズム101、両凹レンズ102、および吸収部材103を有する。分岐部材は、レーザビームLを分岐する。拡大部材は、分岐されたレーザビームL1の形状を拡大する。吸収部材は、拡大されたレーザビームL2のエネルギーを吸収する。吸収部材の受光部103aは、拡大されたレーザビームを受光する。吸収部材の第1の流通部103bは、受光部と隣接し、レーザビームによって受光部に発生した熱を吸収する媒体(冷却水W)を第1の開口部103dから導入または導出しつつ流通させる。吸収部材の第2の流通部103cは、第1の流通部と連通した連通部103eを介して移動する冷却水を第2の開口部103fから導出または導入しつつ流通させる。【選択図】図7

Description

本発明は、光減衰装置に関する。
従来から、レーザビームの強度を減衰させる装置がある(例えば、特許文献1参照。)。
特開平10−326931号公報
上記特許文献1のような構成では、レーザビームの一部を十分に減衰させるために光遮断手段や複数の光分岐手段などに加えて光吸収手段を設けて、レーザビームの強度を分散させていることから、装置が大掛かりとなってしまう。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、計測対象の光の一部を簡便な構成によって十分に減衰することができる光減衰装置の提供を目的とする。
上記目的を達成する本発明に係る光減衰装置は、分岐部材、拡大部材、および吸収部材を有している。分岐部材は、計測対象の光を分岐する。拡大部材は、分岐された光の形状を拡大する。吸収部材は、拡大された光のエネルギーを吸収する。吸収部材は、受光部、第1の流通部、および第2の流通部を備えている。受光部は、拡大された光を受光する。第1の流通部は、受光部と隣接し、光によって受光部に発生した熱を吸収する媒体を第1の開口部から導入または導出しつつ流通させる。第2の流通部は、第1の流通部と連通した連通部を介して移動する媒体を第2の開口部から導出または導入しつつ流通させる。
実施形態に係る光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器を示す斜視図である。 光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器の要部を模式的に示す図である。 光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器を示すブロック図である。 光減衰装置と強度分布測定装置の要部とレーザ発振器を示すブロック図である。 光減衰装置を示す斜視図である。 光減衰装置を断面で示す斜視図である。 光減衰装置における光の減衰方法を示す模式図である。 実施形態の変形例1に係る光減衰装置を断面で示す側面図であって、(A)は光減衰装置の一の例を示す図、(B)は光減衰装置の他の例を示す図である。 実施形態の変形例2に係る光減衰装置の拡大部材を示す模式図であって、(A)は第1例の拡大部材を示す図、(B)は第2例の拡大部材を示す図、(C)は第3例の拡大部材を示す図、(D)は第4例の拡大部材を示す図である。 実施形態の変形例3に係る光減衰装置の分岐部材を示す模式図であって、(A)は第1例の分岐部材を示す図、(B)は第2例の分岐部材を示す図、(C)は第3例の分岐部材を示す図である。 実施形態の変形例4に係る光減衰装置の吸収部材を示す模式図である。
以下、添付した図面を参照しながら、本発明に係る実施形態について説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図面における部材の大きさや比率は、説明の都合上誇張され実際の大きさや比率とは異なる場合がある。
(実施形態)
光減衰装置100は、一形態として、計測対象の光に相当するレーザビームLの強度分布を測定する強度分布測定装置200に組み込んだ状態で使用する。光減衰装置100は、レーザ発振器300から導出されたレーザビームLを分岐する。光減衰装置100は、分岐した一方のレーザビームL1(レーザビームLの大部分、例えば90〜99%)を減衰させつつ、分岐した他方のレーザビームL3(レーザビームLの極一部分、例えば10〜1%)を強度分布測定装置200に向かって伝播させる。強度分布測定装置200は、光減衰装置100によって分岐された他方のレーザビームL3の強度分布を測定する。そこで、実施形態においては、光減衰装置100に加えて強度分布測定装置200についても説明する。
先ず、光減衰装置100の構成について、図1〜図7のうち特に図5〜図7を参照しながら説明する。
図1は、実施形態に係る光減衰装置100を組み込んだ強度分布測定装置200とレーザ発振器300を示す斜視図である。図2は、光減衰装置100を組み込んだ強度分布測定装置200とレーザ発振器300の要部を模式的に示す図である。図3は、光減衰装置100を組み込んだ強度分布測定装置200とレーザ発振器300を示すブロック図である。図4は、光減衰装置100と強度分布測定装置200の要部とレーザ発振器300を示すブロック図である。図5は、光減衰装置100を示す斜視図である。図6は、光減衰装置100を断面で示す斜視図である。図7は、光減衰装置100における光(レーザビームL2)の減衰方法を示す模式図である。
光減衰装置100は、計測対象のレーザビームL(光)の一部を十分に減衰させる。光減衰装置100は、例えば図7に示すように、分岐部材(サンプリングプリズム101)、拡大部材(両凹レンズ102)、吸収部材103に加えて、第1支持部材104、第2支持部材105、恒温循環水槽106、導入管107、および導出管108を含んでいる。以下、光減衰装置100の構成について順に説明する。
サンプリングプリズム101は、分岐部材に相当し、計測対象の光であるレーザビームLを分岐する。
サンプリングプリズム101は、例えば、石英からなり、プリズム形状に形成している。サンプリングプリズム101は、レーザ発振器300から導出されたレーザビームLを分岐する。サンプリングプリズム101は、レーザビームLの大部分(例えば90%)であるレーザビームL1を、界面101aから透過させつつ両凹レンズ102に向かって伝搬させる。一方、サンプリングプリズム101は、レーザビームLの極一部分(例えば10%)であるレーザビームL3を、界面101aで反射させつつ強度分布測定装置200に向かって伝搬させる。サンプリングプリズム101は、第2支持部材105に載置した状態で固定している。
両凹レンズ102は、拡大部材に相当し、分岐されたレーザビームL1の形状を拡大する。
両凹レンズ102は、レーザビームL1の形状を拡大し、吸収部材103の受光部103aに照射されるレーザビームL2の単位面積当たりのエネルギー量を軽減させる。拡大部材によるレーザビームL1の拡大は、レーザビームL1そのものの形状を拡大する構成に加えて、レーザビームL1を吸収部材103の受光部103aに対して斜入射で照射することによって照射面積が増大するような構成を含む。
両凹レンズ102は、例えば、石英からなり、軸直交断面において円形状に形成している。両凹レンズ102は、入射面102aおよび出射面102bをそれぞれ凹状に形成している。両凹レンズ102は、入射面102aおよび出射面102bに反射防止膜を蒸着させて、透過率を向上させている。両凹レンズ102は、サンプリングプリズム101から伝搬されたレーザビームL1を、入射面102aから入射させつつ拡大し、出射面102bから出射させつつ拡大する。
両凹レンズ102によって、ガルバノミラー311を介して斜め方向から入射されるレーザビームL1にも対応することができる。両凹レンズ102から出射されるレーザビームL2の形状や伝搬方向は、入射面102aに対するレーザビームL1の入射角度、入射面102aの曲率半径、出射面102bの曲率半径、および材質(レーザビームLの波長に対応した屈折率が定まる)等を最適化することによって任意に設定することができる。両凹レンズ102は、第1支持部材104に取り付けた状態で固定している。
吸収部材103は、拡大されたレーザビームL2のエネルギーを吸収する。
吸収部材103は、受光部103a、第1の流通部103b、および第2の流通部103cを備えている。受光部103aは、両凹レンズ102によって拡大されたレーザビームL2を受光する。第1の流通部103bは、受光部103aと隣接し、レーザビームL2によって受光部103aに発生した熱を吸収する媒体(冷却水W)を第1の開口部103dから導入または導出しつつ流通させる。第2の流通部103cは、第1の流通部103bと連通した連通部103eを介して移動する冷却水Wを第2の開口部103fから導出または導入しつつ流通させる。
具体的には、吸収部材103は、筐体103S、吸熱板103T、および分離板103Uから構成されている。
筐体103Sは、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、上部が開口し下部が閉塞した円筒形状に形成している。筐体103Sの上部は、水平方向に対して傾斜している。筐体103Sの上部に、ドーナツ状に窪んだ第1の支持部103Saを形成している。第1の支持部103Saは、吸熱板103Tを取り付けて固定する。筐体103Sの内部に、水平方向に対して傾斜しドーナツ状に窪んだ第2の支持部103Sbを形成している。第2の支持部103Sbは、分離板103Uを取り付けて固定する。
筐体103Sにおいて、吸熱板103Tと分離板103Uの間の空間が、第1の流通部103bに相当する。第1の流通部103bは、水平方向に対して傾斜した円柱形状の空間からなる。筐体103Sは、第1の流通部103bの外縁に、冷却水Wを第1の流通部103bの内周面に沿って周方向に導入させる第1の開口部103dを開口している。
一方、筐体103Sにおいて、分離板103Uよりも下方の空間が、第2の流通部103cに相当する。第2の流通部103cは、上方から視認すると円形状であって、側方から視認すると三角形状の空間からなる。筐体103Sは、第2の流通部103cの外縁に、冷却水Wを第2の流通部103cの内周面に沿って周方向に導出させる第2の開口部103fを開口している。
吸熱板103Tは、レーザビームL2の照射に伴って発生した熱を吸収するものである。吸熱板103Tは、受光部103aに相当する。吸熱板103Tは、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、円盤形状に形成している。吸熱板103Tは、筐体103Sの第1の支持部103Saに取り付けて接着や溶接によって固定している。吸熱板103Tは、水平方向に対して傾斜して配置している。
分離板103Uは、第1の流通部103bと第2の流通部103cを部分的に隔てるものである。分離板103Uによって筺体103Sを隔てることによって、例えば、第1の流通部103bを冷却部として機能させつつ、第2の流通部103cを排熱部として機能させる。分離板103Uは、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、中央が開口した円盤形状に形成している。分離板103Uの中央の開口した部分は、連通部103eに相当する。連通部103eは、連通部103eを第1の流通部103bと第2の流通部103cが互いに隣り合う部分の中央に位置している。分離板103Uは、水平方向に対して傾斜して配置している。
第1支持部材104は、両凹レンズ102および第2支持部材105を支持する。
第1支持部材104は、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、上部104aの中央部分が開口し下部104cの全体が開口した円筒形状に形成している。第1支持部材104の上部104aおよび下部104cは、水平方向に対して傾斜している。第1支持部材104の上部104aに、第2支持部材105を固定している。第1支持部材104の内方の空間部104bにおいて、両凹レンズ102によって拡大されたレーザビームL2を伝搬させる。第1支持部材104の下部104cは、吸収部材103の筐体103Sに固定している。第1支持部材104の上部104aの中央部分に開口した取付孔104dに、両凹レンズ102を挿入して固定している。
第2支持部材105は、サンプリングプリズム101を支持する。
第2支持部材105は、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、上部105aを切り欠いた円筒形状に形成している。第2支持部材105の上部105aに、サンプリングプリズム101を固定している。第2支持部材105の上部105aは、水平方向に沿って配置している。第2支持部材105の内方の空間部105bにおいて、サンプリングプリズム101によって分岐されたレーザビームL1を伝搬させる。第2支持部材105の空間部105bは、上方から下方に向かって拡径した円錐台形状からなる。空間部105bの上方に、サンプリングプリズム101が位置している。空間部105bの下方に、両凹レンズ102が位置している。第2支持部材105の下部105cは、水平方向に対して傾斜している。第2支持部材105の下部105cは、第1支持部材104の上部104aに固定している。
恒温循環水槽106、導入管107、および導出管108は、吸収部材103の内部に冷却水Wを循環させる。
恒温循環水槽106は、いわゆるチラーであって、吸収部材103の内部に循環させる冷却水Wを一定の温度に維持しつつ送水する。導入管107は、防錆性を備えた金属からなり、細長い円管形状に形成している。導入管107は、その一端を恒温循環水槽106の吐出口に接続し、その他端を吸収部材103の第1の開口部103dに接続している。導出管108は、防錆性を備えた金属からなり、細長い円管形状に形成している。導出管108は、その一端を恒温循環水槽106の戻り口に接続し、その他端を吸収部材103の第2の開口部103fに接続している。
次に、光減衰装置100における光(レーザビームL2)の減衰方法について、図7を参照しながら説明する。
図7は、光減衰装置100における光(レーザビームL2)の減衰方法を示す模式図である。
光減衰装置100において、サンプリングプリズム101は、レーザ発振器300から出射されたレーザビームLを分岐する。サンプリングプリズム101は、レーザビームLの大部分(例えば90%)であるレーザビームL1を、界面101aから透過させつつ両凹レンズ102に向かって伝搬させる。一方、サンプリングプリズム101は、レーザビームLの極一部分(例えば10%)であるレーザビームL3を、界面101aで反射させつつ強度分布測定装置200に向かって伝搬させる。両凹レンズ102は、分岐されたレーザビームL1の形状を拡大しつつ、吸収部材103の受光部103aに向かって伝搬させる。吸収部材103は、受光部103aによってレーザビームL2を受光する。吸収部材103は、レーザビームL2のエネルギーを吸収させた冷却水Wを、連通部103eを介して互いに連通した第1の流通部103bと第2の流通部103cに流通させつつ減衰させる。
このように、光減衰装置100は、連通部103eを用いて混合させた冷却水Wによって、受光部103aに接触して吸収したレーザビームL2の熱を、受光部103aに接触していない部分に速やかに伝導させつつ拡散させて吸収する。
さらに、光減衰装置100は、連通部103eの開口の面積が、第1の流通部103bと第2の流通部103cが隣り合う部分の面積と比較して十分に小さいことから、連通部103eの部分で冷却水Wを一時的に圧縮および膨張させることによって、吸収部材103内において冷却水Wを容易に撹拌させつつ流通させている。
さらに、光減衰装置100は、吸収部材103の第1の流通部103bと第2の流通部103cの間で冷却水Wを流通させることによって、吸収部材103内における冷却水Wとの接触面積を増大させている。すなわち、吸収部材103は、受光部103aによって吸収したレーザビームL2の熱を第1の流通部103bと第2の流通部103cにも伝導させることによって、その全体をヒートシンクとして機能させている。
また、光減衰装置100は、吸収部材103の第1の流通部103bの外縁と中央の間において、冷却水Wを環状に巻回させながら流通させている。すなわち、レーザビームL2のエネルギーは、第1の流通部103b内に環状に巻回させながら流通させる冷却水Wによって、満遍なく吸収される。同様に、光減衰装置100は、吸収部材103の第2の流通部103cの中央と外縁の間において、冷却水Wを環状に巻回させながら流通させている。すなわち、冷却水Wは、第2の流通部103c内に環状に巻回させながら流通させつつ満遍なく導出される。
次に、光減衰装置100を組み込んだ強度分布測定装置200について、図1〜図4を参照しながら説明する。
強度分布測定装置200は、被加工部材(例えば微細な加工を要するワーク)の加工領域に走査されて加工を施すレーザビームLの強度分布を測定する装置である。強度分布測定装置200は、製造ラインや実験室等において使用する。強度分布測定装置200は、補助減衰部210、調整部220、計測部230、表示部240、操作部250、および制御部260を有している。
補助減衰部210は、図1、図3、および図4に示すように、光減衰装置100よりも光軸Cに沿った下流側に配設され、光減衰装置100によって分岐されたレーザビームL3の強度を減衰させる。
補助減衰部210は、光減衰装置100によるレーザビームLの減衰を補助するものであって、必須の構成ではない。
補助減衰部210は、光軸Cの上流側(光減衰装置100の側)から下流側(計測部230の検出器231の側)に向かって、サンプリングプリズム211、空冷ダンパ212、第1反射ミラー213、第2反射ミラー214、第1減光フィルタ215A、第2減光フィルタ215B、第3減光フィルタ215C、および第4減光フィルタ215Dの順で、各々の構成部材を配設している。サンプリングプリズム211〜第4減光フィルタ215Dは、調整部220のコリメート部220Mとコンデンサ部220Nの間の領域に配設している。
サンプリングプリズム211は、光減衰装置100のサンプリングプリズム101によって分岐されたレーザビームL3の強度を減衰させるものである。サンプリングプリズム211は、ワークの加工領域(溶接領域)に沿った方向において、光減衰装置100のサンプリングプリズム101と対向して配置されている。サンプリングプリズム211には、光減衰装置100のサンプリングプリズム101において反射したレーザビームL3が入射される。サンプリングプリズム211は、レーザビームL3の一部(例えば90%)を界面から外部に透過させつつ空冷ダンパ212に伝搬させ、レーザビームL3の一部(例えば10%)を界面で反射させつつ第1反射ミラー213に向かって伝搬させる。サンプリングプリズム211は、サンプリングプリズム101と同様に、プリズム形状のガラスから構成している。そのプリズム形状の斜面が、界面に相当する。
空冷ダンパ212は、サンプリングプリズム211の界面から外部に透過したレーザビームを、気体に照射させて減衰させるものである。空冷ダンパ212は、サンプリングプリズム211と隣接している。空冷ダンパ212は、例えば、金属からなり、内部に空洞を備えた箱状に形成されている。空冷ダンパ212は、特に、熱伝導性に優れた銅またはアルミや、一定の強度を有する銅合金またはアルミ合金から形成することができる。空冷ダンパ212は、サンプリングプリズム211との間の空洞によって、レーザビームを多重反射させつつ、そのレーザビームを減衰させる。
第1反射ミラー213は、レーザビームを反射させて、その光軸Cを変更するものである。第1反射ミラー213は、ワークの加工領域(溶接領域)に沿った方向において、サンプリングプリズム211と対向して配置されている。第1反射ミラー213は、サンプリングプリズム211から伝搬されたレーザビームを、ワークの面に沿った方向に向かって反射させつつ、第2反射ミラー214に向かって伝搬させる。第1反射ミラー213は、レーザビームの光軸Cを90°折り返している。第1反射ミラー213は、例えば、プリズム形状のガラスの一面に、アルミニウムのような金属を蒸着させて構成している。第1反射ミラー213において、金属を蒸着させた一面が、レーザビームの反射面になる。第1反射ミラー213は、プリズム形状によって構成することによって、板状によって構成する場合と比較して、その形状(3つの角のうち1つの角が直角)を基準にして角度を調整し易い。
第2反射ミラー214は、レーザビームを反射させて、その光軸Cを変更するものである。第2反射ミラー214は、ワークの加工領域(溶接領域)に沿った方向において、第1減光フィルタ215Aと対向して配置されている。第2反射ミラー214は、第1反射ミラー213から伝搬されたレーザビームを、ワークの面に沿った方向に向かって反射させつつ、第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dに向かって伝搬させる。第2反射ミラー214は、レーザビームの光軸Cを90°折り返している。第2反射ミラー214は、第1反射ミラー213と同様の仕様からなる。
第1減光フィルタ215A、第2減光フィルタ215B、第3減光フィルタ215C、および第4減光フィルタ215Dは、レーザビームの強度を、検出器231の耐光特性に合わせて調整するものである。第1減光フィルタ215Aは、ワークの面内に沿った方向において、第2反射ミラー214と対向して配置されている。第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、第2反射ミラー214とコンデンサ部220Nの間に一定の間隔で配設している。第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、光減衰装置100およびサンプリングプリズム211によって大幅に減衰されたレーザビームの強度を微調整する。
第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、所謂反射型として構成する場合、一例として、レーザビームの波長の光において透明な板状の窓材に、反射率が数十%〜数%の反射膜(例えば、クロムからなる薄膜)を蒸着したものを用いる。一方、第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、所謂吸収型として構成する場合、一例として、レーザビームの波長の光を一定の割合で吸収する吸収材を含有させた窓材を用いる。第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、例えば、90%、50%、10%、1%のように、減光率が互いに異なるものを用いる。第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dは、光軸Cと直交するように、光軸Cと対向(正対)している。減光フィルタは、実施形態のように複数用いてもよいし、1枚のみ用いてもよい。減光フィルタは、減光率の異なるものを複数組み合わせて用いることによって、レーザビームを任意の強度に減光し易い。すなわち、光減衰装置100およびサンプリングプリズム211の構成を変更することなく、第1減光フィルタ215A〜第4減光フィルタ215Dによって、レーザビームの強度を微調整することができる。
調整部220は、図1〜図3に示すように、光軸Cから偏向して伝搬するレーザビームを検出領域231aに向かって伝搬するように光軸Cとの成す角を相対的に小さく調整する。
調整部220は、第1調整部(例えばコリメート部220M)と第2調整部(例えばコンデンサ部220N)を備えている。
コリメート部220Mは、レーザビームを光軸Cに沿うような平行光の状態または平行光に近い状態で検出器231に向かって伝搬させる。コリメート部220Mによって、無限遠補正区間を実現する。コリメート部220Mは、レンズ221、222、223、および224からなる対物レンズによって構成している。このような対物レンズは、顕微鏡等に用いられているものを適用できる。コリメート部220Mは、例えば製造ラインの狭い空間に組み込み、ワークとの干渉を防止するために、レーザビームをワークの加工領域(溶接領域)に沿った方向に向かって伝播させる。対物レンズは、その開口数が例えばNA=0.3以上のものを選択することによって、ガルバノミラー311によって走査されるレーザビームを十分に集光して、検出領域231aに伝播させることができる。
コンデンサ部220Nは、レーザビームを光軸Cに近接させつつ集光光の状態において、検出器231に向かって伝搬させる。コンデンサ部220Nは、コリメート部220Mよりも光軸Cに沿った下流側に配設されている。コンデンサ部220Nは、レンズ225、226、227、および228からなる結像レンズによって構成している。このような結像レンズは、顕微鏡等に用いられているものを適用できる。コンデンサ部220Nは、結像レンズによって、レーザビームの角度を矯正可能に構成している。また、レンズ225、226、227、および228からなる結像レンズの焦点距離を、例えば製造ラインにおいて溶接台に載置されたワークまでのレーザビームの焦点距離と同等になるように構成することによって、計測部230によるレーザビームの計測を、レーザ溶接時のレーザビームのプロファイラを精度良く再現した状態で行うことができる。
計測部230は、図1〜図4に示すように、レーザビームの光軸Cと対向して配設され、検出領域231aに照射されたレーザビームの強度分布を計測する。
計測部230は、検出器231を備えている。検出器231は、光軸Cに沿った最も下流側に配設されている。検出器231の検出領域231aは、CCDやCMOSからなり、光軸Cと直交するように光軸Cと対向(正対)している。検出器231には、カメラタイプを用いることができる。また、検出器231には、ナイフエッジ方式を用いたスキャナタイプ、スリット方式を用いたスキャナタイプ、またはピンホール方式を用いたスキャナタイプのものを用いることができる。検出器231に、例えば、スリット方式によるスキャナタイプを用いた場合、フォトディテクタの前方に設けたスリットが回転した状態で、レーザビームを入射させる。検出器231において、スリットを通過したレーザビームがディテクタに入射されると、起電力が発生して、レーザビームの強度を電流値の大小として検出する。検出器231は、レーザビームの分布をスリットの位置に基づいて検出する。
ここで、検出器231の検出精度は、一般的にレーザビームの入射角に依存する。検出器231は、レーザビームが検出領域231aに垂直に入射した場合に、レーザビームの強度分布を最も精度良く検出することができる。すなわち、光軸Cから偏向して伝搬するレーザビームを調整部220によって光軸Cとの成す角を相対的に小さく調整しつつ、そのレーザビームを検出領域231aに対して垂直に近い状態で入射させることによって、レーザビームの強度分布を精度良く検出することができる。
表示部240は、図1および図3に示すように、計測部230によって計測されたレーザビームの強度分布を表示する。
表示部240は、モニター241を備えている。モニター241は、計測部230の検出器231に接続されている。モニター241は、検出器231によって得られたレーザビームの強度分布のデータを受信して表示する。例えば製造ラインの作業者は、モニター241によってレーザビームの強度分布を目視しながら光学調整を行う。モニター241は、例えば、レーザビームの強度を縦軸に表し、レーザビームの分布を横軸(2軸)の面内に表す。モニター241は、レーザビームの強度分布を立体的に表示させるたり、上方から下方に向かって鳥瞰図のように表示させたり、側方から表示させたりする。
操作部250は、図1および図3に示すように、計測部230によるレーザビームの強度分布の計測結果に基づき、レーザ発振器300の変更部310を調整し、レーザビームの径を小さくする。
操作部250は、制御回路251を備えている。制御回路251は、レーザ発振器300の変更部310の直進ステージと電気的に接続されている。ここで、変更部310は、レーザ発振器300側に設けられ、レーザビームを反射させるガルバノミラー311の光軸Cに沿った位置を上流側または下流側に変更するものである。レーザ発振器300から導出されたレーザビームは、ガルバノミラー311によって反射した後、fθレンズ312を透過して、光減衰装置100のサンプリングプリズム101に伝搬する。fθレンズ312は、ガルバノミラー311によるレーザビームの走査速度を一定にする。制御回路251は、計測部230からレーザビームの強度分布の計測結果を受信し、受信した計測結果に基づいて変更部310の直進ステージを制御して、レーザビームの径が最も小さくなるようにガルバノミラー311の光軸Cに沿った位置を調整する。
制御部260は、図1および図3に示すように、計測部230および表示部240の制御に加えて、操作部250を介してレーザ発振器300の変更部310を制御する。
制御部260は、コントローラ261を備えている。コントローラ261は、ROM、CPU、およびRAMを含んでいる。ROM(Read Only Memory)は、強度分布測定装置200およびレーザ発振器300の変更部310の制御プログラムや、レーザビームの基準となる理想的な強度分布のデータを格納している。制御プログラムは、ROMに複数格納され、例えば、計測部230によるレーザビームの強度分布の計測結果に基づき、レーザビームの径が小さくなるように変更部310を調整するためのプログラムである。CPU(Central Processing Unit)は、制御プログラムを実行する。RAM(Random Access Memory)は、検出器231によって計測されたレーザビームの強度分布のデータ等を一時的に記憶する。
上述した実施形態に係る光減衰装置100によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
光減衰装置100は、分岐部材(サンプリングプリズム101)、拡大部材(両凹レンズ102)、および吸収部材103を有している。サンプリングプリズム101は、計測対象の光(レーザビームL)を分岐する。両凹レンズ102は、分岐されたレーザビームL1の形状を拡大する。吸収部材103は、拡大されたレーザビームL2のエネルギーを吸収する。ここで、吸収部材103は、受光部103a、第1の流通部103b、および第2の流通部103cを備えている。受光部103aは、拡大されたレーザビームL2を受光する。第1の流通部103bは、受光部103aと隣接し、レーザビームL2によって受光部103aに発生した熱を吸収する媒体(冷却水W)を第1の開口部103dから導入または導出しつつ流通させる。第2の流通部103cは、第1の流通部103bと連通した連通部103eを介して移動する冷却水Wを第2の開口部103fから導出または導入しつつ流通させる。
このように構成した光減衰装置100によれば、計測対象のレーザビームLを分岐して拡大したレーザビームL2のエネルギーを吸収させた冷却水Wを、連通部103eを介して互いに連通した第1の流通部103bと第2の流通部103cに流通させつつ減衰させる。すなわち、光減衰装置100は、連通部103eを用いて混合させた冷却水Wによって、受光部103aに接触して吸収したレーザビームL2の熱を、受光部103aに接触していない部分に速やかに伝導させつつ拡散させて吸収することができる。このようなことから、光減衰装置100は、冷却水Wによる吸熱効率を大幅に向上させることができる。したがって、光減衰装置100は、計測対象の光の一部を簡便な構成によって十分に減衰させることができる。
また、このように構成した光減衰装置100によれば、仮に、連通部103eの開口の面積が、第1の流通部103bと第2の流通部103cが隣り合う部分の面積と比較して十分に小さければ、吸収部材103内において冷却水Wを容易に撹拌させつつ流通させることができる。すなわち、冷却水Wは、第1の流通部103bまたは第2の流通部103cから連通部103eに流入するときに一時的に圧縮された状態で移動しつつ、連通部103eから第2の流通部103cまたは第1の流通部103bに流出するときに一時的に膨張された状態で移動することから、連通部103eの付近を境にして冷却水Wが撹拌される。したがって、光減衰装置100は、吸収部材103内において冷却水Wを満遍なく流通させて吸熱することができる。さらに、光減衰装置100は、撹拌されて部分的に流速が変化した冷却水Wによって受光部103aにおける吸熱を十分に促進させることができる。
また、このように構成した光減衰装置100によれば、第1の流通部103bと第2の流通部103cの間で冷却水Wを流通させることによって、一つの流通部のみに冷却水Wを流通させる構成と比較して、吸収部材103内における冷却水Wとの接触面積を増大させることができる。すなわち、吸収部材103は、受光部103aによって吸収したレーザビームL2の熱を第1の流通部103bと第2の流通部103cにも伝導させることによって、その全体をヒートシンクとして機能させることができる。同一の内容積を備えた吸収部材の場合、その内部を複数の流通部によって仕切ることによって、冷却水Wとの接触面積が増大することから、冷却水Wからの放熱を促進させることができる。特に、第1の流通部103bと第2の流通部103cが互いに隣り合う部分は、その両側に冷却水Wが存在することから、冷却水Wからの放熱効率を高めることができる。
また、このように構成した光減衰装置100によれば、仮に、受光部103aと隣接した第1の流通部103bから第2の流通部103cに向かって冷却水Wを流通させた場合、第1の流通部103b内において吸熱した冷却水Wを隣り合う第2の流通部103cに向かって速やかに流通させて排熱することができる。実施形態と異なり、冷却水Wを一の流通部(第1の流通部)から直接的に外部に排水(導出)するように構成した場合、その排水部(導出部)において圧力損失が生じて排水を阻害し易いことから、排熱が容易ではない。
また、このように構成した光減衰装置100によれば、簡便な構成であることから、例えば微細なワークに対するレーザ溶接加工の製造ラインのように、比較的狭い空間に配置するが困難であるとして断念していた領域についても、十分に配置して用いることができる。
さらに、光減衰装置100において、第1の開口部103dを第1の流通部103bの外縁に形成し、連通部103eを第1の流通部103bと第2の流通部103cとが互いに隣り合う部分の中央に形成する構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置100によれば、第1の流通部103bの外縁と中央の間において、冷却水Wを伝播させつつ流通させることができる。すなわち、レーザビームL2のエネルギーは、第1の流通部103b内の径方向外方と径方向内方の間で流通させる冷却水Wによって吸収される。したがって、光減衰装置100は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
さらに、光減衰装置100において、第1の流通部103bは、円筒形状に形成し、第1の開口部103dは、冷却水Wを第1の流通部103bの内周面に沿って周方向に導入または導出させる構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置100によれば、第1の流通部103bの外縁と中央の間において、冷却水Wを環状に巻回させながら流通させることができる。すなわち、レーザビームL2のエネルギーは、第1の流通部103b内に環状に巻回させながら流通させる冷却水Wによって、満遍なく吸収される。したがって、光減衰装置100は、計測対象の光の一部を非常に効率良く減衰させることができる。
さらに、光減衰装置100において、第2の開口部103fを第2の流通部103cの外縁に形成する構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置100によれば、第2の流通部103cの中央と外縁の間において、冷却水Wを伝搬させつつ流通させることができる。すなわち、冷却水Wは、第2の流通部103c内の径方向外方と径方向内方の間で流通させつつ導出または導入される。したがって、光減衰装置100は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
さらに、光減衰装置100において、第2の流通部103cは、円筒形状に形成し、第2の開口部103fは、冷却水Wを第2の流通部103cの内周面に沿って周方向に導出または導入させる構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置100によれば、第2の流通部103cの中央と外縁の間において、冷却水Wを環状に巻回させながら流通させることができる。すなわち、冷却水Wは、第2の流通部103c内に環状に巻回させながら流通させつつ満遍なく導出または導入される。したがって、光減衰装置100は、計測対象の光の一部を非常に効率良く減衰させることができる。
さらに、光減衰装置100において、受光部103aと、第1の流通部103bと第2の流通部103cとが隣り合う部分とを、それぞれ水平方向に対して傾斜させる構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置100によれば、特に重力方向に沿って受光部103aに入射したレーザビームLを受光する構成に適している。すなわち、レーザビームLを重力方向(例えば上方から下方)に沿って伝播させつつ加工を行うような汎用的な光学系に対応している。ここで、光減衰装置100は、冷却水Wを第1の流通部103bと第2の流通部103cが隣り合う部分において多重反射(複数回衝突)させることによって、満遍なく流通させることができる。
特に、このように構成した光減衰装置100によれば、吸収部材103の内部に傾斜が発生して構造的に冷却水Wが淀み易いものの、連通部103eを用いて混合させた冷却水Wによって、第1の流通部103b(冷却部として機能)と第2の流通部103c(排熱部として機能)の間の流通が円滑になることから、大がかりな恒温循環水槽106を必要としない。
(実施形態の変形例1)
実施形態の変形例1に係る光減衰装置について、図8を参照しながら説明する。実施形態の変形例1の光減衰装置は、吸収部材113および114の構成を実施形態の光減衰装置100と異ならせている。実施形態の変形例1の光減衰装置においては、前述した実施形態と同様の構成からなるものについて同一の符号を付加し、重複する説明を省略する。
実施形態の変形例1に係る光減衰装置の吸収部材の構成およびレーザビームL2の吸収方法について、図8を参照しながら説明する。
図8は、実施形態の変形例1に係る光減衰装置を断面で示す側面図であって、(A)は光減衰装置の一の例を示す図、(B)は光減衰装置の他の例を示す図である。
図8(A)に、一の例である光減衰装置110を示す。光減衰装置110において、吸収部材113は、受光部103aの第1の流通部113bと対面した部分に、第1の流通部113bに向かって突出した凸状部113gを形成している。受光部103aは、凸状部113gを用いて第1の流通部113bと対面する表面積を増加させている。凸状部113gは、熱伝導性に優れた銅やアルミからなり、受光部103aに一定の間隔で複数形成している。凸状部113gは、受光部103aと一体に形成(一の部材として形成)してもよい。凸状部は、冷却水Wの流通を円滑にするために、冷却水Wの流路に沿って環状に形成したり、第1の流通部113bに向かって尖らせた円錐状に形成したりしてもよい。
図8(B)に、他の例である光減衰装置120を示す。光減衰装置120において、吸収部材123は、受光部123aのレーザビームL2を受光する部分に、第1の流通部123bに向かって窪んだ凹状部123hを形成している。吸熱板123Tは、受光部123aに相当する。吸熱板103Tは、熱伝導性に優れた銅またはアルミからなり、両凹レンズ102と対向した側に、中央を大きく窪ませた円錐形状からなる凹状部123hを備えている。受光部123aは、凹状部123hの部分によってレーザビームL2を多重反射させ、その反射の度にレーザビームL2に起因した熱を第1の流通部123b内の冷却水Wに伝導させる。
凹状部123gは、熱伝導性に優れた銅やアルミからなり、受光部123aの分離板103Uと対向した側に一定の間隔で複数形成している。凹状部123gは、受光部123aと一体に形成している。凹状部123gは、冷却水Wの流通を円滑にするために、冷却水Wの流路に沿って環状に形成したり、内側に窪んだ円弧状に形成したりしてもよい。
筐体123Sは、筺体103Sと基本的に同様の形状であるが、吸熱板103Tと比べて大きい吸熱板123Tを取り付けるために、上下方向に伸長させて構成している。第1支持部材124は、第1支持部材104と基本的に同様の形状であるが、吸熱板123Tに備えた凹状部123hによってレーザビームL2の光路長さが満たされていることから、上下方向に縮小して構成している。
上述した実施形態の変形例1に係る光減衰装置によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
光減衰装置110は、吸収部材113が、受光部113aの第1の流通部113bと対面した部分に、第1の流通部113bに向かって突出した凸状部113gを形成している。
このように構成した光減衰装置110によれば、凸状部113gを用いて第1の流通部113bと対面する表面積を増加させた受光部113aによって、レーザビームL2に起因した熱を第1の流通部113b内の冷却水Wに効率良く伝導させることができる。したがって、光減衰装置110は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
さらに、光減衰装置120において、吸収部材123は、受光部123aのレーザビームL2を受光する部分に、第1の流通部123bに向かって窪んだ凹状部123hを形成する構成とすることができる。
このように構成した光減衰装置120によれば、受光部123aに形成した凹状部123hの部分によってレーザビームL2を多重反射させ、その反射の度にレーザビームL2に起因した熱を第1の流通部123b内の冷却水Wに効率良く伝導させることができる。したがって、光減衰装置120は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
(実施形態の変形例2)
実施形態の変形例2に係る光減衰装置について、図9を参照しながら説明する。実施形態の変形例2の光減衰装置は、拡大部材(片凹レンズ121、凹メニスカスレンズ122、組合レンズ123、および回折格子124)の構成を実施形態の光減衰装置100と異ならせている。実施形態の変形例2の光減衰装置においては、拡大部材についてのみ説明する。
実施形態の変形例2に係る光減衰装置の拡大部材の構成およびレーザビームL1の拡大方法について、図9を参照しながら説明する。
図9は、実施形態の変形例2に係る光減衰装置の拡大部材を示す模式図であって、(A)は第1例の片凹レンズ121を示す図、(B)は第2例の凹メニスカスレンズ122を示す図、(C)は第3例の組合レンズ123を示す図、(D)は第4例の回折格子124を示す図である。
図9(A)に、拡大部材の第1例に相当する片凹レンズ121を示す。片凹レンズ121は、サンプリングプリズム101から伝搬されたレーザビームL1を、凹状の入射面121aから入射させつつ拡大して、平面状の出射面121bから出射させる。片凹レンズ121から出射されるレーザビームL2aの形状や伝搬方向は、入射面121aに対するレーザビームL1の入射角度、入射面121aの曲率半径、レーザビームL1を入射させる位置(レンズの光軸からの外周縁に至るまでの間)、および材質(レーザビームLの波長に対応した屈折率が定まる)等を最適化することによって任意に設定することができる。
図9(B)に、拡大部材の第2例に相当する凹メニスカスレンズ122を示す。凹メニスカスレンズ122は、サンプリングプリズム101から伝搬されたレーザビームL1を、凸状の入射面122aから入射させて凹状の出射面122bから出射させつつ拡大させる。凹メニスカスレンズ122から出射されるレーザビームL2bの形状や伝搬方向は、入射面122aに対するレーザビームL1の入射角度、入射面122aの曲率半径、出射面122bの曲率半径、レーザビームL1を入射させる位置、および材質等を最適化することによって任意に設定することができる。
図9(C)に、拡大部材の第3例に相当する組合レンズ123を示す。組合レンズ123は、両凸レンズ123P、両凹レンズ123Q、および両凸レンズ123Rレンズを組み合わせたレンズである。組合レンズ123から出射されるレーザビームL2cの形状や伝搬方向は、組合レンズ123の仕様によって任意に設定することができる。特に、組合レンズ123は、レーザビームL2cを所定の位置に向かって出射させ易い。
図9(D)に、拡大部材の第4例に相当する回折格子124を示す。回折格子124は、サンプリングプリズム101から伝搬されたレーザビームL1を、平面状の入射面124aから入射させて、周期的に直線状の微細な溝が形成された出射面124bから出射させつつ回折させる。回折格子124から出射されるレーザビームL2dの形状や伝搬方向は、入射面124aに対するレーザビームL1の入射角度、出射面124bにおけるブレーズ角等の仕様を最適化することによって任意に設定することができる。特に、回折格子124は、複数の次数に分散させたレーザビームL2dを所定の位置に向かって出射させることができる。
上述した実施形態の変形例2に係る光減衰装置によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
光減衰装置は、拡大部材(片凹レンズ121、凹メニスカスレンズ122、組合レンズ123、または回折格子124)が拡大または回折させたレーザビームL2a〜L2dを受光部103aに照射する。
このように構成した光減衰装置によれば、吸収部材103の受光部103aは、拡大部材によって任意の形状にビーム拡大されたレーザビームL2a〜L2dを受光することができる。すなわち、受光部103aは、ビーム拡大の比率に応じてレーザビームL2a〜L2dを広範囲で受光することができ、単位面積当たりのレーザビームL2a〜L2dの強度を低減させることができる。すなわち、受光部103aは、レーザビームL2a〜L2dによって過熱されることなく、隣接した第1の流通部103b内の冷却水Wによって十分に吸熱されて冷却される。したがって、光減衰装置は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
(実施形態の変形例3)
実施形態の変形例3に係る光減衰装置について、図10を参照しながら説明する。実施形態の変形例3の光減衰装置は、分岐部材(回折格子131、窓板132、およびミラー133)の構成を実施形態の光減衰装置100と異ならせている。実施形態の変形例3の光減衰装置においては、分岐部材についてのみ説明する。
実施形態の変形例3に係る光減衰装置の分岐部材の構成およびレーザビームLの分岐方法について、図10を参照しながら説明する。
図10は、実施形態の変形例3に係る光減衰装置の分岐部材を示す模式図であって、(A)は第1例の回折格子131を示す図、(B)は第2例の窓板132を示す図、(C)は第3例のミラー133を示す図である。
図10(A)に、分岐部材の第1例に相当する回折格子131を示す。回折格子131は、レーザ発振器300から出射されたレーザビームLを透過および反射(回折)させて分岐する。回折格子131は、周期的に直線状の微細な溝が形成された入射面131aにおいて、レーザビームLのうち大部分に相当するレーザビームL1aを受光部103aに向かって透過させる。一方、回折格子131は、その入射面131aにおいて、レーザビームLのうち極一部分に相当するレーザビームL3aを強度分布測定装置200に向かって反射(回折)させる。受光部103aに向かうレーザビームL1aの伝搬方向と強度、および強度分布測定装置200に向かうレーザビームL3aの伝搬方向と強度は、回折格子131の入射面131aのブレーズ角等の仕様を最適化して設定する。特に、回折格子131を、透過型から構成してその入射面131aに金属膜を蒸着させなければ、照射されたレーザビームLの大部分を透過させて受光部103aに向かって伝播させることができる。
図10(B)に、分岐部材の第2例に相当する窓板132を示す。窓板132は、レーザ発振器300から出射されたレーザビームLを透過および反射させて分岐する。窓板132は、例えば板状の硝材からなり、その入射面132aにおいて、レーザビームLのうち大部分に相当するレーザビームL1bを受光部103aに向かって透過させる。一方、窓板132は、その入射面132aにおいて、レーザビームLのうち極一部分に相当するレーザビームL3bを強度分布測定装置200に向かって反射させる。受光部103aに向かうレーザビームL1bの伝搬方向と強度、および強度分布測定装置200に向かうレーザビームL3bの伝搬方向と強度は、窓板132の入射面132aの角度や材質等の仕様を最適化して設定する。
図10(C)に、分岐部材の第3例に相当するミラー133を示す。ミラー133は、レーザ発振器300から出射されたレーザビームLを散乱させて分岐する。ミラー133は、例えば表面に金属膜を蒸着させたプリズム状の硝材からなる。ミラー133は、その角部133aに照射されて散乱されたレーザビームLのうち大部分に相当するレーザビームL1cを受光部103aに向かって透過させる。一方、ミラー133は、その角部133aにおいて、レーザビームLのうち極一部分に相当するレーザビームL3cを強度分布測定装置200に向かって反射させる。受光部103aに向かうレーザビームL1cの伝搬方向と強度、および強度分布測定装置200に向かうレーザビームL3cの伝搬方向と強度は、ミラー133の角部133aの形状や角度を最適化して設定する。
上述した実施形態の変形例3に係る光減衰装置によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
光減衰装置は、分岐部材(回折格子131、窓板132、またはミラー133)に照射されたレーザビームLのうち一のレーザビームL1を受光部103aに向かって透過または反射させつつ、分岐部材に照射されたレーザビームLのうち他のレーザビームL3を外部(強度分布測定装置200)に向かって反射または回折させる。
このように構成した光減衰装置によれば、両凹レンズ102に向かって伝搬させて最終的に減衰させるレーザビームL1の光量と、強度分布測定装置200に向かって伝搬させて強度分布を測定させるレーザビームL3の光量の割合を、分岐部材によって任意に設定することができる。したがって、光減衰装置は、計測対象の光の減衰率を任意に設定することができる。
さらに、このように構成した光減衰装置によれば、両凹レンズ102に向かって伝搬させるレーザビームL1a〜L1cの角度を、分岐部材によって任意に設定することができる。したがって、光減衰装置は、分岐部材によって分岐するレーザビームL1a〜L1cを、両凹レンズ102の仕様や両凹レンズ102の下流側に配置した受光部103aの仕様に合わせて、任意の方向に伝播させることができる。
なお、このように構成した光減衰装置によれば、強度分布測定装置200に向かって伝搬させるレーザビームL3a〜L3cの角度を、分岐部材によって任意に設定できる。したがって、強度分布測定装置200におけるレーザビームL3の測定が容易となる。
(実施形態の変形例4)
実施形態の変形例4に係る光減衰装置について、図11を参照しながら説明する。実施形態の変形例4の光減衰装置は、吸収部材141に係る流通部(141b、141c、および141d)の構成を実施形態の光減衰装置100と異ならせている。実施形態の変形例4の光減衰装置においては、吸収部材についてのみ説明する。
実施形態の変形例4に係る光減衰装置の吸収部材の構成およびレーザビームL2の吸収方法について、図11を参照しながら説明する。
図11は、実施形態の変形例4に係る光減衰装置の吸収部材141を示す模式図である。
吸収部材141は、両凹レンズ102によって拡大されたレーザビームL2を受光部141aにおいて受光する。受光部141aは、流通部141bに隣接している。流通部141b、流通部141c、および流通部141dは、それぞれ長方体形状に区画し、互いに隣り合うように形成している。
第1の開口部141eは、流通部141bの内周面に沿って周方向に開口し、レーザビームL2によって受光部141aに発生した熱を吸収する冷却水Wを導入または導出しつつ流通させる。第1の連通部141fは、流通部141bおよび流通部141cが隣り合う部分の中央に形成し、冷却水Wを流通させる。第2の連通部141gは、流通部141cおよび流通部141dが隣り合う部分の中央に形成し、冷却水Wを流通させる。第2の開口部141hは、流通部141dの内周面に沿って周方向に開口し、冷却水Wを導出または導入しつつ流通させる。
流通部141b、流通部141c、および流通部141dは、互いの内容積を同一として図示しているが、例えば受光部141aに近い程相対的に大きくするように異ならせてもよい。吸収部材141は、熱伝導性に優れた銅やアルミによって一体に形成している。
上述した実施形態の変形例4に係る光減衰装置によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。
光減衰装置は、吸収部材141が、互いに冷却水Wを移動させつつ流通させる流通部(141b、141c、および141d)を3つ以上備えている。
このように構成した光減衰装置によれば、レーザビームL2の強度等に応じて流通部の数を任意に設定することによって、特に受光部と隣接した流通部141b内における冷却水Wの流通効率を調整することができる。したがって、光減衰装置は、計測対象の光の一部を効率良く減衰させることができる。
そのほか、本発明は、特許請求の範囲に記載された構成に基づき様々な改変が可能であり、それらについても本発明の範疇である。
例えば、本実施形態では、吸収部材103の内部に冷却水Wのような液体を循環させる構成として説明した。しかしながら、このような構成に限定されることはなく、例えば、吸熱性に優れたガスのような気体を吸収部材103の内部に循環させる構成としてもよい。
また、本実施形態では、恒温循環水槽106を用いて吸収部材103の内部に冷却水Wを循環させる構成として説明した。しかしながら、このような構成に限定されることはなく、例えば、水道管から供給される水道水を吸収部材103の内部に循環させる構成としてもよい。
本出願は、2015年3月13日に出願された日本特許出願番号2015−050988号に基づいており、その開示内容は、参照され、全体として、組み入れられている。
100,110,120 光減衰装置、
101 サンプリングプリズム(分岐部材)、
101a 界面、
102 両凹レンズ(拡大部材)、
102a 入射面、
102b 出射面、
103 吸収部材、
103a 受光部、
103b 第1の流通部、
103c 第2の流通部、
103d 第1の開口部、
103e 連通部、
103f 第2の開口部、
103S 筐体、
103Sa 第1の支持部、
103Sb 第2の支持部、
103T 吸熱板、
103U 分離板、
104 第1支持部材、
104a 上部、
104b 空間部、
104c 下部、
104d 取付孔、
105 第2支持部材、
105a 上部、
105b 空間部、
105c 下部、
106 恒温循環水槽、
107 導入管、
108 導出管、
113 吸収部材、
113b 第1の流通部、
113g 凸状部、
123 吸収部材、
123a 受光部、
123b 第1の流通部、
123g 凹状部、
123h 凹状部、
123S 筐体、
123T 吸熱板、
124 第1支持部材、
121 片凹レンズ(拡大部材)、
121a 入射面、
121b 出射面、
122 凹メニスカスレンズ(拡大部材)、
122a 入射面、
122b 出射面、
123 組合レンズ(拡大部材)、
123P 両凸レンズ、
123Q 両凹レンズ、
123R 両凸レンズ、
124 回折格子(拡大部材)、
124a 入射面、
124b 出射面、
131 回折格子(分岐部材)、
131a 入射面、
132 窓板(分岐部材)、
132a 入射面、
133 ミラー(分岐部材)、
133a 角部、
141 吸収部材、
141a 受光部、
141b、141c、141d 流通部、
141e 第1の開口部、
141f 第1の連通部、
141g 第2の連通部、
141h 第2の開口部、
200 強度分布測定装置、
210 補助減衰部、
220 調整部、
230 計測部、
240 表示部、
250 操作部、
260 制御部、
300 レーザ発振器、
310 変更部、
L レーザビーム(レーザ発振器300から導出される光)、
L1,L1a,L1b,L1c レーザビーム(分岐部材によって分岐されて拡大部材に向かって伝搬する光)、
L2,L2a,L2b,L2c,L2d レーザビーム(拡大部材によって拡大されて吸収部材の受光部に向かって伝搬する光)、
L3,L3a,L3b,L3c レーザビーム(分岐部材によって分岐されて強度分布測定装置200に向かって伝搬する光)、
W 冷却水(媒体)、
C 光軸。
【0002】
通した連通部を介して移動する媒体を第2の開口部から導出または導入しつつ流通させる。連通部は、第1の流通部と第2の流通部とが互いに隣り合う部分に形成する。媒体は、第1の開口部から導入して第2の開口部から導出し、または第2の開口部から導入して第1の開口部から導出する。
また、上記目的を達成する本発明に係る光減衰装置は、分岐部材、拡大部材、および吸収部材を有している。分岐部材は、計測対象の光を分岐する。拡大部材は、分岐された光の形状を拡大する。吸収部材は、拡大された光のエネルギーを吸収する。吸収部材は、受光部、第1の流通部、および第2の流通部を備えている。受光部は、拡大された光を受光する。第1の流通部は、受光部と隣接し、光によって受光部に発生した熱を吸収する媒体を第1の開口部から導入または導出しつつ流通させる。第2の流通部は、第1の流通部と連通した連通部を介して移動する媒体を第2の開口部から導出または導入しつつ流通させる。受光部と、第1の流通部と第2の流通部とが隣り合う部分とを、それぞれ水平方向に対して傾斜させた。
図面の簡単な説明
[0007]
[図1]実施形態に係る光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器を示す斜視図である。
[図2]光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器の要部を模式的に示す図である。
[図3]光減衰装置を組み込んだ強度分布測定装置とレーザ発振器を示すブロック図である。
[図4]光減衰装置と強度分布測定装置の要部とレーザ発振器を示すブロック図である。
[図5]光減衰装置を示す斜視図である。
[図6]光減衰装置を断面で示す斜視図である。
[図7]光減衰装置における光の減衰方法を示す模式図である。
[図8]実施形態の変形例1に係る光減衰装置を断面で示す側面図であって、(A)は光減衰装置の一の例を示す図、(B)は光減衰装置の他の例を示す図である。
[図9]実施形態の変形例2に係る光減衰装置の拡大部材を示す模式図であって、(A)は第1例の拡大部材を示す図、(B)は第2例の拡大部材を示す図、(C)は第3例の拡大部材を示す図、(D)は第4例の拡大部材を示す図である。
[図10]実施形態の変形例3に係る光減衰装置の分岐部材を示す模式図であって、(A)は第1例の分岐部材を示す図、(B)は第2例の分岐部材を示す図、(C)は第3例の分岐部材を示す図である。
[図11]実施形態の変形例4に係る光減衰装置の吸収部材を示す模式図である。
発明を実施するための形態
[0008]
以下、添付した図面を参照しながら、本発明に係る実施形態について説明

Claims (11)

  1. 計測対象の光を分岐する分岐部材と、
    分岐された光の形状を拡大する拡大部材と、
    拡大された光のエネルギーを吸収する吸収部材と、を有し、
    前記吸収部材は、
    拡大された前記光を受光する受光部と、
    前記受光部と隣接し、前記光によって前記受光部に発生した熱を吸収する媒体を第1の開口部から導入または導出しつつ流通させる第1の流通部と、
    前記第1の流通部と連通した連通部を介して移動する前記媒体を第2の開口部から導出または導入しつつ流通させる第2の流通部と、を備えた光減衰装置。
  2. 前記第1の開口部は、前記第1の流通部の外縁に形成し、
    前記連通部は、前記第1の流通部と前記第2の流通部とが互いに隣り合う部分の中央に形成した請求項1に記載の光減衰装置。
  3. 前記第1の流通部は、円筒形状に形成し、
    前記第1の開口部は、前記媒体を前記第1の流通部の内周面に沿って周方向に導入または導出させる請求項1または2に記載の光減衰装置。
  4. 前記第2の開口部は、前記第2の流通部の外縁に形成した請求項1〜3のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  5. 前記第2の流通部は、円筒形状に形成し、
    前記第2の開口部は、前記媒体を前記第2の流通部の内周面に沿って周方向に導出または導入させる請求項1〜4のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  6. 前記受光部と、前記第1の流通部と前記第2の流通部とが隣り合う部分とを、それぞれ水平方向に対して傾斜させた請求項1〜5のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  7. 前記吸収部材は、前記受光部の前記第1の流通部と対面した部分に、前記第1の流通部に向かって突出した凸状部を形成した請求項1〜6のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  8. 前記吸収部材は、前記受光部の前記光を受光する部分に、前記第1の流通部に向かって窪んだ凹状部を形成した請求項1〜7のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  9. 前記拡大部材は、拡大または回折させた前記光を前記受光部に照射する請求項1〜8のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  10. 前記分岐部材は、前記分岐部材に照射された前記光のうち一の光を前記受光部に向かって透過または反射させつつ、前記分岐部材に照射された前記光のうち他の光を外部に向かって反射または回折させる請求項1〜9のいずれか1項に記載の光減衰装置。
  11. 前記吸収部材は、互いに前記媒体を移動させつつ流通させる前記流通部を3つ以上備えた請求項1〜10のいずれか1項に記載の光減衰装置。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6955932B2 (ja) * 2017-08-25 2021-10-27 株式会社ディスコ レーザービームプロファイラユニット及びレーザー加工装置
CN112136346B (zh) * 2018-04-06 2024-04-19 玛利基创新有限公司 增加使用省电特征的设备的电池性能
JP2023114654A (ja) 2022-02-07 2023-08-18 三菱重工業株式会社 レーザプロファイル計測装置、及びレーザプロファイル計測方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0818126A (ja) * 1994-06-24 1996-01-19 Shibuya Kogyo Co Ltd レーザ発振器の出力検出装置
DE102012219635A1 (de) * 2012-10-26 2014-02-13 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Vorrichtung zur Absorption eines Laserstrahls
JP2015038922A (ja) * 2013-08-19 2015-02-26 富士フイルム株式会社 レーザ装置、その制御方法、及び光音響計測装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3015671B2 (ja) * 1994-06-14 2000-03-06 核燃料サイクル開発機構 荷電粒子ビームダンプ装置
JP2956759B2 (ja) 1997-05-23 1999-10-04 日本電気株式会社 レーザビームダンパ
CN201387509Y (zh) 2009-03-30 2010-01-20 深圳市大族激光科技股份有限公司 激光挡光闸装置
CN103616765A (zh) 2013-11-27 2014-03-05 江苏中科四象激光科技有限公司 一种集成式高速大功率激光光闸切换装置
CN204045926U (zh) 2014-08-22 2014-12-24 江苏中科四象激光科技有限公司 一种kW级高功率激光接收装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0818126A (ja) * 1994-06-24 1996-01-19 Shibuya Kogyo Co Ltd レーザ発振器の出力検出装置
DE102012219635A1 (de) * 2012-10-26 2014-02-13 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Vorrichtung zur Absorption eines Laserstrahls
JP2015038922A (ja) * 2013-08-19 2015-02-26 富士フイルム株式会社 レーザ装置、その制御方法、及び光音響計測装置

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