JPWO2015152116A1 - 光変換部材及び光変換部材の製造方法並びに光変換部材を含むバックライトユニットおよび液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層と、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層とを有する、光変換部材は、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。さらにこの光変換部材の製造方法並びにこの光変換部材を含むバックライトユニットおよび液晶表示装置。

Description

本発明は、光変換部材（波長変換部材と言われることもある）に関するものであり、詳しくは、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い光変換部材に関するものである。
更に本発明は、この光変換部材の製造方法、この光変換部材を含むバックライトユニット、およびこのバックライトユニットを含む液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤとも言う）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。

フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている（特許文献１参照）。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光（赤色をＲ、緑色をＧ、青色をＢとした場合に、ＲＧＢ）の輝線光を発光させて白色光を具現化することができる。中でも最近、光源として青色発光ダイオードを使用し、蛍光として赤色光および緑色光を発光する量子ドットを利用して白色光を得る技術が数多く提案されている。量子ドットによる蛍光は発光プロファイルの半値幅が小さいため、得られる白色光は高輝度であり、しかも色再現性に優れる。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）比７２％から１００％へと拡大している。

上記の通り、量子ドットは、色再現性向上によりＬＣＤの性能を改善し得る有用な材料である。しかし現状、量子ドットは安価で流通している材料ではないため、量子ドットを用いる液晶表示装置は高額になる傾向がある。そのため、液晶表示装置の低コスト化のためには、量子ドットの使用量を低減すべく、その発光効率を高めることが望ましい。

ここで、量子ドットを用いた光変換部材として、シート型・バー型など複数の構成が知られているが、量子ドットの安定性の観点からはシート型が好んで用いられる（特許文献１参照）。シート型の光変換部材では、マトリックス中の量子ドットが発光し空気との界面にて全反射が生じるため、一部の光（全反射を繰り返す導波モード）を外部に取り出すことはできない。そのため、シート型の光変換部材の発光効率を高める場合、発光体の発光強度を高めること以外にも、全反射を繰り返す導波モードを回避して光取り出し効率を高めることが重要となる。

量子ドットを用いたシート状の光変換部材の光取り出し効率を高める方法に関し、特許文献１には、光変換層に球状の粒子を分散させて等方的に光散乱させる方法、球状の粒子を分散させた等方性光散乱層を光変換層の上に付与して等方的に光散乱させる方法（図２参照）、光散乱が可能な表面構造を付与する方法などの様々な方法が記載されている。

ＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１

しかしながら、特許文献１に記載の方法を本発明者らが検討したところ、光取り出し効率の改善が不十分であり、さらに光取り出し効率を高める必要があることがわかった。
また、光取り出し効率を高める方法として、量子ドットを用いたシート状の光変換部材の技術分野以外でも様々な検討がされてきていた。特に、同様に有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子分野では、光取り出し効率を２、３％高めるだけで大きな成功として扱われることが多く、このための検討がなされてきた。しかしながら、近年は光取り出し効率を高める方法は各技術分野において停滞しているのが実態であった。

本発明が解決しようとする課題は、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い光変換部材を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特許文献１のように粒子を分散させて、量子ドットからの蛍光を光散乱させると、全反射を繰り返す導波モードの光の一部を光変換部材の前方（視認側）への散乱で取り出すことができると同時に、取り出し可能な光の一部が後方に散乱されてしまい、後方（視認側とは反対側）に散乱された光は取り出されるまでにマトリックス中を伝播する距離（＝実効光路長）が長くなるという新規な問題を見出すに至った。量子ドットを含む光変換部材の分野では、蛍光の実効光路長の増大は、量子ドットによる蛍光の再吸収の増大を招き、光取り出し効率が低下することとなる。

本発明者らは、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い光変換部材を提供するために、上述の光散乱に伴う実効光路長の増大という新規な問題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、光変換部材の法線方向と光変換部材の法線方向から特定の極角の方位における透過光強度の比が特定の範囲である異方性光散乱層を、量子ドットを含む光変換部材に用いることで、量子ドットを含む光変換部材の光取り出し効率を高められることを見出し、本発明を完成させた。
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は、以下のとおりである。

［１］ 入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層と、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層と
を有する、光変換部材；
ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、
Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
［２］ ［１］に記載の光変換部材は、光変換層が、緑色光を発光する量子ドットを含む層と、赤色光を発光する量子ドットを含む層を少なくとも含む積層体であり、
赤色光を発光する量子ドットを含む層、緑色光を発光する量子ドットを含む層、異方性光散乱層がこの順で積層されたことが好ましい。
［３］ ［１］に記載の光変換部材は、光変換層が、緑色光を発光する量子ドットと、赤色光を発光する量子ドットとを含む層であることが好ましい。
［４］ ［１］〜［３］のいずれか一つに記載の光変換部材は、異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなることが好ましい。
［５］ ［１］〜［３］のいずれか一つに記載の光変換部材は、異方性光散乱層が、重合性液晶化合物を含む組成物を光照射により硬化されてなることが好ましい。
［６］ Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層を有し、
異方性光散乱層が、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む、光変換部材；
ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、
Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
［７］ ［６］に記載の光変換部材は、量子ドットとして、少なくとも緑色光を発光する量子ドットおよび赤色光を発光する量子ドットを含むことが好ましい。
［８］ ［６］または［７］に記載の光変換部材は、異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなる層であることが好ましい。
［９］ ［１］〜［８］のいずれか一つに記載の光変換部材は、異方性光散乱層のＩ（０°）／Ｉ（４０°）が５以上であることが好ましい；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれか一つに記載の光変換部材は、異方性光散乱層のＩ（０°）／Ｉ（４０°）が１５以上であることが好ましい；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一つに記載の光変換部材と、
光源とを含むバックライトユニット。
［１２］ ［１１］に記載のバックライトユニットを含む液晶表示装置。
［１３］ 硬化性化合物へ光照射する光硬化により異方性光散乱層を形成する工程を含む［１］〜［１０］のいずれか一つに記載の光変換部材の製造方法。
［１４］ ［１３］に記載の光変換部材の製造方法は、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程であることが好ましい。
［１５］ ［１３］に記載の光変換部材の製造方法は、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、重合性液晶化合物を含む組成物に対して光照射する工程であることが好ましい。

本発明によれば、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い光変換部材を提供することができる。さらにこの光変換部材を含むバックライトユニットおよび液晶表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図２は、等方性光散乱層を用いた比較用の光変換部材の一例を示す。 図３は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図４は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図５は、本発明の範囲外である等方性光散乱層の入射面に対する法線方向（垂直な方向）から入射された光の透過拡散光の配光分布の一例を示す。 図６は、本発明の一態様にかかる光変換部材の異方性光散乱層についての、透過光強度プロファイルの一例を示す。 図７は、本発明の一態様にかかる光変換部材の異方性光散乱層についての、透過光強度プロファイルの他の一例を示す。 図８は、本発明で用いる光強度測定系の概略図を示す。 図９は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図１０は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図１１は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図１２は、本発明の一態様にかかる光変換部材の一例を示す。 図１３は、本発明の一態様にかかるバックライトユニットの一例を示す。 図１４（ａ）は、本発明の一態様にかかる光変換部材の異方性光散乱層について光強度測定における方位角を表し、図１４（ｂ）は図１４（ａ）で示した方位角における透過光強度プロファイルの一例を示す。

以下、本発明の光変換部材、光変換部材の製造方法、バックライトユニットおよび液晶表示装置について説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

また、本発明および本明細書中、ピークまたはプロファイルの「半値幅」とは、ピークまたはプロファイルの高さ１／２でのピークの幅のことを言う。また、４００〜５００ｎｍの波長帯域、好ましくは４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。

［光変換部材］
本発明の第１の態様の光変換部材は、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層と、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層とを有する；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
本発明の第２の態様の光変換部材は、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層を有し、異方性光散乱層が、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
以下、本発明の第１の態様の光変換部材および本発明の第２の態様の光変換部材をまとめて、本発明の光変換部材ということがある。
これらの構成により、本発明の光変換部材は、量子ドットを含む光変換部材であって、光取り出し効率が高い。光変換部材の出射側に特定の異方性光散乱層を設けることにより、光取り出し効率を高めることができる。本発明の光変換部材は、光変換部材の法線方向、すなわち界面に対して垂直な光に対しては透明で、ある閾値を超えた角度では曇った層（異方性光散乱層）を、量子ドットシートに適用したものである。閾値を全反射角度にほぼ一致させた４０°とすると、全反射角度以上の入射角の光は散乱され、導波モード光の取り出しが実現する一方で、全反射角度以内の光は透過するため実効光路長を短く抑えることができ、光取り出し効率が向上する。なお、空気界面での全反射角度は、異方性光散乱層や量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層にバインダー等として用いられる樹脂の屈折率と、空気の屈折率によって定まる。一般に屈折率Ｎの樹脂膜と空気との界面での全反射角をθ１とすると、θ１は
θ１＝ａｒｃｓｉｎ（１／Ｎ）
となる。例えば、屈折率１．６のＰＥＴフィルムからの場合、全反射角は３９［ｄｅｇ］である。

＜構成＞
本発明の光変換部材は、図３に示すように光変換層１と、異方性光散乱層３との積層体である第１の態様の光変換部材１０であってもよく、図１に示すように量子ドットを含む異方性光散乱層４を有する第２の態様の光変換部材１０であってもよい。

（第１の態様の光変換部材）
本発明の第１の態様の光変換部材は、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層と、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層とを有する；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。

本発明の第１の態様の光変換部材は、光変換層の構成としては特に制限は無く、単層であっても、２層以上の層（例えば量子ドットを含む層）の積層体であってもよい。光変換層が２層以上の層の積層体である場合、２つの層は互いに直接接して配置されていてもよく、２つの層が接着剤や粘着層を介して配置されていてもよい。
光変換層が２層以上の層の積層体である場合、図１２に示すように光変換層が、緑色光を発光する量子ドット６を含む層と、赤色光を発光する量子ドット５を含む層を少なくとも含む積層体であり、赤色光を発光する量子ドットを含む層７、緑色光を発光する量子ドットを含む層８、異方性光散乱層２がこの順で積層されたことが、後述の量子ドットを光変換層の中で偏在させることによる発光効率を高める効果が得られる観点から、好ましい。

光変換層が単層である場合、本発明の第１の態様の光変換部材は、光変換層が、緑色光を発光する量子ドットと、赤色光を発光する量子ドットとを含む層であることが好ましい。この場合も後述のように各量子ドットを光変換層の中で偏在させることが、発光効率を高める効果を得ることが好ましい。

本発明の第１の態様の光変換部材は、異方性光散乱層の製造方法としては、以下の製造方法により形成されてなることが好ましい。
本発明の第１の態様の光変換部材は、異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなることが好ましい。このような異方性光散乱層の製造方法の詳細については、後述の本発明の光変換部材の製造方法における、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉ）光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程、である場合に記載した。

本発明の第１の態様の光変換部材は、異方性光散乱層が、重合性液晶化合物を含む組成物を光照射により硬化されてなることも好ましい。このような異方性光散乱層の製造方法の詳細については、後述の本発明の光変換部材の製造方法における、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉｉ）光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、重合性液晶化合物を含む組成物に対して光照射する工程、である場合に記載した。

（第２の態様の光変換部材）
本発明の第２の態様の光変換部材は、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層を有し、異方性光散乱層が、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む；ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。

本発明の第２の態様の光変換部材は、量子ドットを含む異方性光散乱層に量子ドットとして、少なくとも緑色光を発光する量子ドットおよび赤色光を発光する量子ドットを含むことが好ましい。この場合も後述のように量子ドットを含む異方性光散乱層の中で各量子ドットを偏在させることで、発光効率を高める効果を得ることが好ましい。

本発明の第２の態様の光変換部材は、異方性光散乱層の製造方法としては特に制限はないが、例えば異方性光散乱層が以下の製造方法により形成されてなることが好ましい。
本発明の第２の態様の光変換部材は、異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなる層であることが好ましい。このような異方性光散乱層の製造方法の詳細については、後述の本発明の光変換部材の製造方法における、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉ）光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程、である場合に記載した。

＜異方性光散乱層＞
本発明の光変換部材は、異方性光散乱層を含む。
本発明の光変換部材は、異方性光散乱層のＩ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上であり、５以上であることが光取り出し効率が高くなる観点から好ましく、１５以上であることが好ましい。ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。

本発明の光変換部材は、異方性光散乱層の透過光強度プロファイルの半値幅が４５°以下であることが光取り出し効率が高くなる観点から好ましく、４０°以下であることがより好ましく、３５°以下であることが特に好ましい。
ここで、異方性光散乱層の透過光強度プロファイルの半値幅とは、異方性光散乱層の透過光強度プロファイルにおいて、異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を１としたときに、透過光強度が０．５となる傾斜角の最大値から透過光強度が０．５となる傾斜角の最小値を減じた値を意味する。
一方、透過光強度プロファイルの半値幅の下限値については特に制限はないが、例えば５°以上とすることができる。

本発明において異方性光拡散層の厚み、ディスペンサによる障壁の高さ、光重合性組成物へのＵＶ照射角度あるいは強さを調整することにより、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）を３以上とすることができる。

図５は、本発明の範囲外である等方性光散乱層の入射面に対する法線方向（垂直な方向）から入射された光の透過拡散光の配光分布の一例を示す。等方性光散乱層は、図５のように直線透過方向（角度０°）を軸として傾斜角度を増すごとに光強度が単調減少する山型の配光分布を示す。図５の透過光強度プロファイルでは、αで示した幅が、半値幅となる。

一方、異方性散乱層は、方位角依存性を有する。本明細書中、異方性光散乱層における傾斜角θが０°以外の場合における透過光強度プロファイルは、θを０°以外の値（例えば４０°）で固定した異方性散乱層サンプルにおける透過光強度が最小値となるような方位角を、異方性散乱層サンプルを１°刻みで回転させて探して決定した後、決定した透過光強度が最小値となる方位角において測定した透過光強度プロファイルである。例えば、Ｉ（４０°）は、異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
図１４（ａ）および図１４（ｂ）に、透過光強度が最小値となる方位がＡである異方性散乱層サンプルについて、光透過強度が最小である方位Ａと光透過強度が最小ではない方位Ｂにおける透過光強度プロファイルを示した。図１４（ｂ）では、θが０°のときの透過光強度Ｉが同じ絶対値であり、θが０°以外の値（例えば４０°）において透過光強度が方位Ａにおいて最小値をとることが示されている。図１４（ａ）および図１４（ｂ）に図示していないが、図１４（ａ）および図１４（ｂ）に示した透過光強度が最小値となる方位が方位Ａである異方性散乱層サンプルは、方位Ｂや方位Ａ以外のその他の方位における透過光強度プロファイルと比較した場合も、θが０°以外の値（例えば４０°）において透過光強度が方位Ａにおいて最小値をとる。
なお、θが０°のときの透過光強度Ｉは、異方性散乱層の方位によらず同じ値となるため、本発明では仮にＩ（０°）の測定時の方位をＩ（４０°）と同じ方位としている。
図６および図７に、本発明の光変換部材の異方性光散乱層についての、透過光強度プロファイルの一例を示した。
図６では、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が９０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係を示したグラフ２１と、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が７０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係を示したグラフ２２と、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係を示したグラフ２３と、
が描かれている。
図６より、以下のことを読み取ることができる。
半値幅が小さくなることは、散乱性の高い領域がより低極角側から始まることに対応する。

図７では、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係を示したグラフ２４と、
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が１０であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係を示したグラフ２５と、
が描かれている。
図７より、以下のことを読み取ることができる。
Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が大きくなることは、高極角領域での散乱性が、正面に対して相対的に高くなっていることに対応する。

異方性光散乱層は、単層構造を有してもよく、積層構造を有してもよい。異方性光散乱層の片側（観察面側または背面側）、または両側（観察面側および背面側）には、透明基体を積層することもできる。通常、透明基体の存在は配光分布を変化させないため、異方性光散乱層の片面または両面に透明基体を含む積層体（以下、異方性拡散シートとも呼ぶ。）は、異方性光散乱層と同じ配光分布を示す。

異方性光散乱層の厚さ（積層構造の場合は総厚、ただし透明基体は除く。）は、部材全体の薄型化および高透過率で入射光を出射するためには薄いほど好ましい。この点から、光拡散層の厚さは、５００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましい。一方、異方性光散乱層を設けることにより各色光の配光分布をより効果的に制御する観点からは、異方性光散乱層の厚さは、２０μｍ以上であることが好ましく、４０μｍ以上であることがより好ましい。

上記透明基体としては、透明性が高いものほど好ましい。具体的には、上記透明基体の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１）は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。上記透明基体としては、透明なプラスチックフィルムやガラス板等が挙げられ、薄型性、軽量性、耐衝撃性および生産性に優れる点で、プラスチックフィルムが好ましい。上記プラスチックフィルムの材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリイミド（ＰＩ）、芳香族ポリアミド、ポリスルホン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、セロファン、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、シクロオレフィン樹脂等が挙げられる。プラスチックフィルムの中でも、透明性、膜強度、生産性の点から、ＰＥＴ、ＰＥＮ、もしくはシクロオレフィン樹脂が特に好ましい。上記プラスチックフィルムの形態としては、上記材料を単独で、または混合してフィルム化したものからなる形態、上記フィルム化したものを積層してなる形態等が挙げられる。上記透明基体の厚さは、用途や生産性を考慮すると、１μｍ〜５ｍｍであることが好ましく、１０〜５００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることが更に好ましい。また、タブレットやスマートフォンといった中小型パネルを始めとする部材の薄手化が強く求められている用途では１５μｍ〜５０μｍが好ましい。

異方性光散乱層の拡散特性は、一意的に表すことができるものではないが、例えば直線透過光量を拡散特性の指標として用いることができる。なお、直線透過光量とは、所定の光量の平行光線を入射させたときに、入射方向と同じ方向に出射される平行光線の光量のことである。上記直線透過光量の測定方法としては、例えば、光源からの直進光を受ける位置に受光部（例えば、ゴニオフォトメータ）を固定し、光源と受光部との間に試験片を配置し、ある回転軸を中心として試験片を回転させることにより、出射側表面の面内の回転軸に垂直な方位（測定方位）において入射角を変更して直線透過光量を測定することができる。上記測定方位は、回転軸方向を変えることで、適宜変更することができる。したがって、この方法によれば、様々な方向における直線透過光量を測定することができる。

＜光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層（量子ドットの存在態様）＞
発光特性の異なる複数の量子ドットを同時に利用する場合は、例えば複数の量子ドットを同じ層に均一に混合してもよいし、別々の層に個別に混合し独立した層を形成してもよい。光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の一層の厚さは、十分な励起光透過率を得る観点からは３００μｍ以下であることが好ましく、十分な蛍光を得る観点からは１μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲である。

光変換層が量子ドットシートである場合、このような量子ドットシートとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのような量子ドットシートは、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報、ＳＩＤ’１２ ＤＩＧＥＳＴ ｐ．８９５、特表２０１０−５３２００５号公報などに記載されており、これらの文献の内容は本発明に組み込まれる。また、このような量子ドットシートとしては、市販の量子ドットシート、例えば、ＱＤＥＦ（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆｉｌｍ、ナノシス社製）を用いることができる。

光変換層が量子ドット材料を分散させた後に延伸されてなる熱可塑性フィルムである場合、このような熱可塑性フィルムとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのような熱可塑性フィルムは、例えば特開２００１−１７４６３６号公報、特開２００１−１７４８０９号公報などに記載されており、これらの文献の内容は本発明に組み込まれる。

光変換層が量子ドット材料を分散させた接着層である場合、このような接着層としては特に制限は無く、特開２０１２−１６９２７１号公報、ＳＩＤ’１２ ＤＩＧＥＳＴ ｐ．８９５、特開２００１−１７４６３６号公報、特開２００１−１７４８０９号公報、特表２０１０−５３２００５号公報などに記載の量子ドット材料などを公知の接着層に分散させたものを用いることができる。

上記光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層は、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）と、量子ドット（Ａ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する一種以上の量子ドット（Ｚ）と、を含有することが好ましい。そして上記光変換層において、量子ドット（Ａ）は、量子ドット（Ｚ）に対して励起光入射側に相対的に偏在していることが好ましい。ここで、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の中で、量子ドット（Ａ）が、量子ドット（Ｚ）に対して励起光入射側に相対的に偏在しているとは、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層を入射光に対して垂直な任意の面にて、入射側領域と出射側領域の２領域に分割した際に、入射側領域内に存在する量子ドット（Ａ）の存在比率が、量子ドット（Ｚ）（一種のみであることもあり、二種以上であることもある。）の入射側領域内に存在する存在比率よりも多いことをいう。より詳しくは、量子ドット（Ａ）が入射側領域にＡ１個、出射側領域にＡ２個、量子ドット（Ｚ）が入射側領域にＺ１個、出射側領域にＺ２個存在した場合、光変換層に含まれる全量子ドット（Ａ）（Ａ１＋Ａ２）に対する入射側領域の量子ドット（Ａ）の存在比率［Ａ１／（Ａ１＋Ａ２）］が、光変換層に含まれる全量子ドット（Ｚ１＋Ｚ２）に対する入射側領域の量子ドット（Ｚ）の存在比率［Ｚ１／（Ｚ１＋Ｚ２）］より大きいこと、つまり、以下の式（１）を満たすことを指す。
Ａ１／（Ａ１＋Ａ２）＞Ｚ１／（Ｚ１＋Ｚ２） ・・・（１）

光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層における量子ドットの偏在については、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層を任意の箇所で切断し、その断面を、偏光顕微鏡を用いて観察し量子ドットの個数を計測し、以下の式で算出することで測定できる。
光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の励起光入射側表面および出射側表面に垂直な方向をｘ軸とする。ｘ軸に沿った光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の厚みをＬとし、ｘ＝０が励起光入射側表面、ｘ＝Ｌが出射側と定義する。量子ドット（Ａ）の規格化数密度分布をφＡ（ｘ）、量子ドット（Ｚ）の規格化数密度分布をφＺ（ｘ）とする。
つまり、

が成立する。
量子ドット（Ａ）、（Ｚ）の偏在性を表す指標として、下式で表されるΦを定義する。

Φ＝１の場合、量子ドット（Ａ）は、量子ドット（Ｚ）と混ざりあう領域を持つことなく入射側へ偏在しており、一方、Φ＝０の場合、量子ドット（Ａ）は、量子ドット（Ｚ）と混ざりあう領域を持つことなく出射側へ偏在していることを表す。
また、量子ドット（Ａ）および量子ドット（Ｚ）が、混合され均一に分散している場合、Φ＝０．５となる。
量子ドットの発光効率の観点から、Φが０．５より大きいことが好ましく、Φが０．７より大きいことがより好ましく、Φが０．８より大きいことがさらに好ましく、Φが０．９５より大きいことがより一層好ましい。

上記のように、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の中で量子ドット（Ａ）を、量子ドット（Ｚ）に対して励起光入射側に相対的に偏在させることにより、赤色光を発光する量子ドットである量子ドット（Ａ）が、量子ドット（Ｚ）が励起し発光した蛍光を吸収することを防ぐことができる。これにより、量子ドットを含む光変換部材の発光効率を高めることができる。
以下、上記光変換部材について、更に詳細に説明する。

上記光変換部材は、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。

図１３は、本発明の一態様にかかるシート状の光変換部材を含むバックライトユニット３１の一例の説明図である。図１３中、バックライトユニット３１は、光源３１Ａと、面光源とするための導光板３１Ｂを備える。図１３に示す例では、光変換部材は、導光板から出射される光の経路上に配置されている。
そして図１３に示す例では、導光板３１Ｂから出射される光が、光変換部材３１Ｃに入射する。図１３に示す例では、導光板３１Ｂのエッジ部に配置された光源３１Ａから出射される光３２は青色光であり、導光板３１Ｂの液晶セル（図示せず）側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板３１Ｂから出射された光（青色光３２）の経路上に配置された光変換部材３１Ｃには、青色光３２により励起され赤色光３４を発光する量子ドット（Ａ）と、青色光３２により励起され緑色光３３を発光する量子ドット（Ｂ）を、少なくとも含むことが好ましい。このようにしてバックライトユニット３１からは、励起された緑色光３３および赤色光３４、ならびに光変換部材３１Ｃを透過した青色光３２が出射される。こうしてＲＧＢの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。

光変換部材は、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層を有する。その他の任意の構成部材として、バリアフィルム（バリア層とも言う）等を含むこともできる。詳細は後述する。

光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層は、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）と、量子ドット（Ａ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する一種以上の量子ドット（Ｚ）と、を含有することが好ましい。量子ドット（Ａ）は、励起光を受けて赤色光を発光することができる。一方、量子ドット（Ｚ）は、好ましくは、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）を含む。この量子ドット（Ｂ）は、励起光を受けて緑色光を発光することができる。このように、赤色光を発光する量子ドットと緑色光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する光変換部材に、例えば青色光を入射させることで、上述の通り、ＲＧＢの輝線光を発光可能な光変換部材を得ることができる。しかし先に記載したように、このような光変換部材において、量子ドット（Ａ）が、量子ドット（Ｚ）が発光した光を吸収してしまっては、高い発光効率を実現することは困難である。これに対し本発明の一態様にかかる光変換部材では、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層において、量子ドット（Ａ）が、量子ドット（Ｚ）に対して励起光入射側に相対的に偏在していることが好ましい。この逆に、量子ドット（Ｚ）が量子ドット（Ａ）よりも励起光入射側に相対的に偏在している光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の中では、入射した光は量子ドット（Ｚ）に優先的に吸収され、量子ドット（Ｚ）が蛍光を発光する。赤色光を発光する量子ドット（Ａ）の吸光スペクトルは赤色光よりも短波長側に広がっているため、量子ドット（Ｚ）が発光した蛍光は、量子ドット（Ａ）により吸収されてしまう。これに対し上述の本発明の一態様にかかる光変換部材では、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層に入射した光は、量子ドット（Ａ）に優先的に吸光されるため、まず量子ドット（Ａ）が発光する。量子ドット（Ａ）により発光された赤色光は、量子ドット（Ｚ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）に吸収されないか、またはその吸収量は少ないため、量子ドット（Ａ）により発光された光を高効率で利用することができる。

なお量子ドット（Ｚ）は、一種の量子ドットのみであってもよく、二種以上の量子ドットであってもよい。例えば量子ドット（Ｚ）として、量子ドット（Ｂ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット、好ましくは、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）を含むこともできる。

量子ドット（Ｃ）は、励起して青色光を発光する量子ドットである。例えば光源として、３００〜４３０ｎｍの紫外光を発光する光源を用いる場合、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層に量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに量子ドット（Ｃ）を含むことにより、量子ドット（Ａ）が発光する赤色光、量子ドット（Ｂ）が発光する緑色光、および量子ドット（Ｃ）が発光する青色光により、ＲＧＢの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。この場合には、前述の理由から、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の中で量子ドット（Ｂ）は、量子ドット（Ｃ）に対して励起光入射側に相対的に偏在させることが好ましい。

６００〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）は、量子ドット（Ａ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する一種以上の量子ドット（Ｚ）の発光波長における吸光度が、励起光波長における吸光度に対して小さいことが好ましい。
６００〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する赤色の量子ドットおよび５２０〜５５０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する緑色の量子ドットを、４４０〜４７０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する青色光源からの光で励起する場合、赤色の量子ドットの５３０ｎｍにおける吸光度Ａ（５３０）と４５０ｎｍにおける吸光度Ａ（４５０）の比、Ａ（４５０）／Ａ（５３０）は、３以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、１０以上であることが更に好ましい。Ａ（４５０）／Ａ（５３０）の値が大きいほど、赤の量子ドットによる緑の発光の吸収が抑制され、膜の光利用効率向上に寄与する。

以下に、光変換層または量子ドットを含む異方性光散乱層の中における量子ドット（Ａ）の偏在の具体的態様について説明する。本明細書に説明する図面において、図中の下方が入射側、上方が出射側である。

図１２は、本発明の一態様にかかる光変換部材の説明図である。光変換層の中で量子ドット（Ａ）が、量子ドット（Ａ）よりも短波長帯域に発光中心波長を有する量子ドットに対して励起光入射側に相対的に偏在している。

光変換部材の一態様では、光変換層において、量子ドットとして量子ドット（Ａ）のみを含む第一の量子ドット層と、量子ドットとして量子ドット（Ｂ）のみを含む第二の量子ドット層が、直接隣接して積層されていることが好ましい。このような量子ドット層は、量子ドットを、樹脂材料中に分散させることにより作製することができる。こうして、量子ドットが少なくともバインダー樹脂を含むマトリックス材中に含まれる量子ドット層を得ることができる。量子ドット層の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができるが、シート状であることが本発明の効果を享受しやすく、好ましい。

量子ドットとしては、コアーシェル型の半導体ナノ粒子が、耐久性を向上する観点から好ましい。コアとしては、ＩＩ−ＶＩ族半導体ナノ粒子、ＩＩＩ−Ｖ族半導体ナノ粒子、及び多元系半導体ナノ粒子等を用いる事ができる。具体的には、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＰ、ＣｕＩｎＳ_２等が挙げられるが、これらに限定されない。中でも、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＧａＰ、ＣｕＩｎＳ_２が、高効率で可視光を発光する観点から、好ましい。シェルとしては、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＧａＡｓ、およびこれらの複合体を用いる事ができるが、これらに限定されない。
量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

シート状の量子ドット層は、好ましくは塗布法により作製される。具体的には、量子ドットを含む重合性組成物（硬化性組成物）を基材上等に塗布し、次いで光照射等により硬化処理を施すことにより、シート状の量子ドット層を得ることができる。また、組成、量子ドット濃度、または組成および量子ドット濃度の異なる重合性組成物を順次塗布、硬化することにより、二層以上の量子ドット層を積層することができる。または、同種の量子ドットを異なる濃度で含む二種以上の重合性組成物を、高濃度のものから低濃度の順に、またはその逆の順に塗布することにより、量子ドットの濃度が連続的ないし段階的に変化する量子ドット層を作製することもできる。塗布は、同時重層塗布（下層が未乾燥のうちに上層を塗布）により行ってもよく、逐次重層塗布（下層の乾燥後、好ましくは硬化後に、上層を塗布）により行ってもよい。逐次重層塗布によれば、層間の混ざり合いが生じにくいため、一種の量子ドットのみを含む量子ドット層を得るためには、逐次重層塗布を行うことが好ましい。一方、同種の量子ドットを含み濃度の異なる二種以上の重合性組成物を積層することで量子ドットの濃度が連続的に変化する量子ドット層を得る際には、同時重層塗布、逐次重層塗布とも好ましい。

重合性組成物の作製に用いる重合性化合物は特に限定されるものではない。ただし、量子ドットを含む異方性散乱層を形成する場合は、上述の量子ドットを含む異方性光散乱層の製造方法で製造することが好ましい。
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくともいずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例については、ＷＯ２０１２／０７７８０７Ａ１段落００２２を参照できる。

上記（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を１分子内に１個有するモノマーと共に、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを併用することもできる。その詳細については、ＷＯ２０１２／０７７８０７Ａ１段落００２４を参照できる。また、多官能（メタ）アクリレート化合物として、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００２３〜００３６に記載のものを用いることもできる。更に、特許第５１２９４５８号明細書段落００１４〜００１７に記載の一般式（４）〜（６）で表されるアルキル鎖含有（メタ）アクリレートモノマーを使用することも可能である。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量１００質量部に対して、塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、組成物のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

上記重合性組成物は、重合開始剤としては、公知のラジカル開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。

量子ドットは、上記重合性組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。量子ドットは、組成物の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。

以上説明した量子ドットを含む重合性組成物を、適当な支持体（透明であることが好ましく、例えば前述の透明基体が挙げられ、本発明の光変換部材には含まれていてもよく、取り除かれていてもよい）上に塗布、乾燥して溶媒を除去するとともに、その後、光照射等により重合硬化させて、量子ドット層を得ることができる。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。また、硬化条件は、使用する重合性化合物の種類や重合性組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。
光変換層の総厚は、十分な励起光透過率を得る観点からは５００μｍ以下であることが好ましく、十分な蛍光を得る観点からは１μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１０〜１００μｍの範囲である。また、光変換層が複数の量子ドット層または量子ドット混合層を含む場合、一層の膜厚は、好ましくは１〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは３〜５０μｍの範囲である。

光変換部材の他の一態様では、光変換層において、量子ドットとして量子ドット（Ａ）のみを含む第一の量子ドット層と、量子ドットとして量子ドット（Ｂ）のみを含む第二の量子ドット層が、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）とを含む量子ドット混合層を介して積層されていることが好ましい。量子ドット混合層において、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）とは均一に分散していてもよく、量子ドット（Ａ）が量子ドット（Ｂ）に対して入射側に偏在していてもよい。発光効率のより一層の向上の観点からは、後者の態様が好ましい。

光変換部材の他の一態様では、光変換層は、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）との量子ドット混合層であり、量子ドット（Ａ）が量子ドット（Ｂ）に対して入射側に偏在していることが好ましい。このような量子ドット混合層は、例えば前述のように得ることができる。

光変換部材の他の一態様では、光変換層は、量子ドットとして量子ドット（Ａ）のみを含む第一の量子ドット層と量子ドットとして量子ドット（Ｂ）のみを含む第二の量子ドット層とが直接隣接して積層され、更に第二の量子ドット層と直接隣接する層として、量子ドット（Ｂ）よりも短波長帯域であって、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）のみを量子ドットとして含む第三の量子ドット層が含まれていることが好ましい。この態様の光変換部材は、例えば光源として３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光源（ＵＶ光源）を用いることにより、第一の量子ドット層から赤色光が、第二の量子ドット層から緑色光が、第三の量子ドット層から青色光が発光することで、白色光を具現化することができるものである。

図９に示す光変換部材は、光変換層１の両面に、バリアフィルム３５Ａ、３５Ｂが設けられている。更に、図９に示す光変換部材では、出射側バリアフィルム３５Ｂに直接隣接する層として、異方性光散乱層３が設けられている。
図１０に示す光変換部材では、光変換層１と異方性光散乱層３の積層体に対して、光変換層１の入射側に入射側バリアフィルム３５Ａが、異方性光散乱層３の出射側に出射側バリアフィルム３５Ｂがそれぞれ設けられている。
図１１に示す光変換部材では、量子ドットを含む異方性光散乱層４の両面に、バリアフィルム３５Ａ、３５Ｂが設けられている。
バリアフィルムは、好ましくは、酸素バリア性を有するフィルムであって、酸素により量子ドットが経時的に劣化し量子効率（発光効率）が低下することを防ぐ役割を果たすことができる。より詳しくは、励起光による量子ドットの光酸化反応を抑制することができる。長期にわたり高い量子効率を得る観点から、バリアフィルムとしては、酸素透過率が１．０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）未満のフィルムを用いることが好ましい。このようなバリアフィルムは、有機層、無機層、または有機層と無機層の二層以上の積層フィルムであることができる。その詳細は、後述する。なお図９、図１０および図１１には、光変換層の入射側、出射側にそれぞれバリアフィルムを有する構成を示したが、バリアフィルムは入射側のみに配置してもよく、出射側のみに配置してもよい。量子効率を、より長期間良好に維持する観点からは、光変換層の入射側および出射側の両方に、バリアフィルムを配置することが好ましい。
このように光散乱層とバリアフィルムを組み合わせることにより、より一層高い発光効率を、長期間維持することが可能となる。

光変換部材の他の一態様では、光変換層の両面に、バリアフィルムが設けられ、出射側のバリアフィルムのさらに出射側に異方性光散乱層が、設けられていることが好ましい。また入射側のバリアフィルムの入射面側に、もしくは出射側のバリアフィルムと異方性光散乱層の間に光反射層が、それぞれ設けられていることが好ましい。光変換部材に光反射層を設けることは、光利用効率を高めるうえで有効である。光反射層は、好ましくはコレステリック層であり、詳細は後述する。

以上、図面に基づき本発明の一態様にかかる光変換部材の具体的態様について説明したが、本発明は、これら具体的態様に限定されるものではなく、各種の変形も本発明に包含されることはいうまでもない。また、上記において直接隣接する層として説明した層間に、接着層等の任意の層を配置することも、もちろん可能である。

＜バリアフィルム＞
次に、上述のバリアフィルムについて説明する。

バリアフィルムの酸素透過率は、好ましくは前述の通り、１．０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、より好ましくは０．５ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、更に好ましくは０．１ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、一層好ましくは０．０５ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、さらに一層好ましくは、０．００１ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ）以下である。
一方、バリアフィルムの水蒸気透過率は、０．５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、中でも０．１ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、特に０．０５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。酸素透過率の低いバリアフィルムを使用することで、酸素による量子ドットの劣化を抑制することができ、発光効率を長時間維持することが可能となる。
ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値であり、上記水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、相対湿度１００％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１：商品名）を用いて測定した値である。

バリアフィルムは、有機または無機の単層であってもよく、二層以上の積層構造であってもよい。例えば、基材上に二層以上の有機ないし無機層を形成することにより、バリアフィルムを得ることができる。バリアフィルムの層構成としては、例えば、光変換層側から外側に向かい、基材／無機層／有機層がこの順に積層されている構成、基材／無機層／有機層／無機層がこの順に積層されている構成等を挙げることができるが、積層順序は特に限定されるものではない。

バリアフィルムの基材としては、可視光に対して透明であることが好ましく、前述の透明基体であることがより好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。基材については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。基材の厚さは、耐衝撃性、バリアフィルムの製造におけるハンドリング等の観点から、１０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも１０〜２００μｍの範囲内、特に２０〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。

無機層については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４３〜００４５、特開２００５−０９６１０８号公報段落００６４〜００６８を参照できる。無機層の膜厚は、１０ｎｍ〜５００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なガスバリア性を実現しつつ、バリアフィルムにおける反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。中でも、無機層は、酸化ケイ素膜、酸化窒化ケイ素膜、または酸化窒化珪素膜であることが好ましい。これらの膜は、有機膜との密着性が良好であることから、より一層良好なガスバリア性を実現することができるからである。

有機層については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層または基材との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

バリアフィルムのその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

一態様では、バリアフィルム上に、空気界面に単層（１層からなる）の光学薄膜を積層することもできる。このような光学薄膜としては、波長５３５ｎｍにおける光学薄膜の屈折率ｎ（５３５）が、バリアフィルムにおいて光学薄膜と直接隣接する層の屈折率ｎｕ（５３５）よりも屈折率の低い低屈折率層が好ましい。このような光学薄膜をバリアフィルムとに隣接配置することにより、より一層の輝度向上および色再現性の向上を達成することができる。波長５３５ｎｍにおける光学薄膜の屈折率ｎ（５３５）は、１．２０〜１．５１であることが好ましく、１．３０〜１．４６であることがより好ましく、１．４０〜１．４６が更に好ましい。

なお、この光学薄膜の厚さｄは、０．５〜２μｍであることが好ましく、０．７〜１．５μｍであることがより好ましい。光学薄膜の構成成分としては、公知のものを用いることができる。例えば、バリアフィルムの有機層を構成可能な材料として好適なもの等を用いることができる。

上記光学薄膜が積層されたバリアフィルムは、光学薄膜面が空気界面側に来るように光変換層と積層してもよく、その逆の構成としてもよい。

（光反射層）
光反射層は、上述のように好ましくはコレステリック層である。光反射層の態様に用いられるコレステリック液晶相を固定してなる光反射層の製造方法としては特に制限はない。例えば、特開平１−１３３００３号公報、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特開平８−２７１７３１号公報に記載の方法を用いることができ、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

上記のコレステリック液晶層の重畳に際しては、右まわりの円偏光と左回りの円偏光反射する組合せで用いることが望ましい。具体的には右捩れのコレステリック液晶と左捩れのコレステリック液晶を積層して得られる。これにより全ての偏光を反射することができ、反射の効率を高めることができる。

コレステリック液晶としては、適宜なものを用いてよく、特に限定はない。液晶層の重畳効率や薄膜化などの点より液晶ポリマーの使用が有利である。また複屈折の大きいコレステリック液晶分子ほど選択反射の波長域が広くなって好ましい。

上記の液晶ポリマーとしては、例えばポリエステル等の主鎖型液晶ポリマー、アクリル主鎖やメタクリル主鎖、シロキサン主鎖等からなる側鎖型液晶ポリマー、低分子カイラル剤含有のネマティック液晶ポリマー、キラル成分導入の液晶ポリマー、ネマティック系とコレステリック系の混合液晶ポリマーなどの適宜なものを用いることができる。取扱性等の点よりは、ガラス転移温度が３０〜１５０℃のものが好ましい。

コレステリック液晶層の形成は、偏光分離板に必要に応じポリイミドやポリビニルアルコール、ＳｉＯの斜方蒸着層等の適宜な配向膜を介して直接塗布する方式、透明フィルムなどからなる液晶ポリマーの配向温度で変質しない支持体に必要に応じ配向膜を介して塗布する方式などの適宜な方式で行うことができる。支持体としては、例えば前述の透明基体を用いることができ、偏光の状態変化を防止する点などより位相差が可及的に小さいものが好ましく用いうる。また配向膜を介したコレステリック液晶層の重畳方式なども採ることができる。

なお液晶ポリマーの塗布は、溶剤による溶液や加熱による溶融液等の液状物としたものを、ロールコーティング方式やグラビア印刷方式、スピンコート方式などの適宜な方式で展開する方法などにより行うことができる。形成するコレステリック液晶層の厚さは、選択反射性、配向乱れや透過率低下の防止等の点より、０．５〜１００μｍが好ましい。

また、光反射層には誘電体多層膜を用いることもできる。フィルムを用いた誘電体多層膜の製造方法としては特に制限はなく、例えば、特許３１８７８２１号、特許３７０４３６４号、特許４０３７８３５号、特許４０９１９７８号、特許３７０９４０２号、特許４８６０７２９号、特許３４４８６２６号などに記載の方法を参考に製造することができ、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。なお、誘電体多層膜は、誘電体多層反射偏光板や、交互多層膜の複屈折干渉偏光子と言われることもある。これらの誘電体多層膜は膜厚および屈折率を調整することにより選択的に波長を反射することをでき、本態様に好ましく用いることが出来る。また、これらのフィルムは屈折率異方性のため特定方向のみ偏光を反射することが多いため、その場合にはこれらのフィルムを直交して２枚用いると全ての偏光を反射することが出来るため好ましい。これ以外にも屈折率の異なる無機膜を積層蒸着させる構造で等方体材料を用いて誘電体多層膜にすることもでき、これについてはＹｅｈ著 “Ｏｐｔｉｃａｌ Ｗａｖｅｓ ｉｎ Ｌａｙｅｒｅｄ Ｍｅｄｉａ”（ＷＩＬＬＥＹ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社）に記載がある。

上記誘電体多層膜は、膜厚が薄い方が好ましく、膜厚が５〜１００μｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０μｍの範囲であることがより好ましく、５〜２０μｍの範囲であることがさらに好ましい。

［光変換部材の製造方法］
本発明の光変換部材の製造方法は、硬化性化合物へ光照射する光硬化により異方性光散乱層を形成する工程を含む。
本発明の光変換部材の製造方法は、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉ）光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程であるか；
（ｉｉ）光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、重合性液晶化合物を含む組成物に対して光照射する工程であることが好ましい。

まず、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉ）光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程である場合、異方性光散乱層を構成するバインダー樹脂等の各種成分および異方性光散乱層の作製方法について説明する。

上記異方性光散乱層は、光硬化性化合物を含む組成物に対して、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射し、硬化させて形成することが好ましい。これによれば、上述の異方性光散乱特性を有する異方性光散乱層、好ましくは、全ての方位で異方性光散乱特性を示す異方性光散乱層を簡便に製造することができる。なお、上記組成物を硬化させてなる異方性光散乱層は、断面を顕微鏡観察すると、例えば、斜め方向に延在する構造が見られる場合がある。この場合、異方性光散乱層の内部には、屈折率が周辺領域と僅かに異なる微小な棒状硬化領域が多数形成されていると考えられる。この微小な棒状硬化領域が入射する光の角度に対して異なる散乱特性を示す事により、異方性光散乱特性が発現されると考えられる。

上記光硬化性化合物を含む組成物の形態としては、
（Ａ）光重合性化合物単独の形態、
（Ｂ）光重合性化合物を複数混合して含む形態、
（Ｃ）単独または複数の光重合性化合物と光重合性を有しない高分子樹脂とを混合して含む形態、
等が挙げられる。上記（Ａ）〜（Ｃ）の形態によれば、上述したように光照射により異方性光散乱層中に、周辺領域と屈折率の異なるミクロンオーダの微細構造（棒状硬化領域）が形成される結果、上述した直線透過光量の入射角依存性を発現することができると考えられる。
したがって、上記（Ａ）および（Ｃ）の形態における単独の光重合性化合物は、光重合の前後で屈折率変化が大きいものが好ましい。また、上記（Ｂ）および（Ｃ）の形態における複数の光重合性化合物としては、硬化後の屈折率の異なる組み合わせが好ましい。更に、上記（Ｃ）の形態における光重合性化合物と光重合性を有しない高分子樹脂としては、各々の硬化後の屈折率が異なる組み合わせが好ましい。なお、色味の視角依存性をより一層低減する観点から、上記屈折率変化および屈折率の差は、０．０１以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．１０以上であることが更に好ましい。

さらに、上記光硬化性化合物は、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の官能基を有するポリマー、オリゴマーまたはモノマーの光重合性化合物（ラジカル重合性化合物またはカチオン重合性化合物）と光開始剤とを含み、紫外線および／または可視光線を照射することで重合硬化する性質を有するものであることが好ましい。
上記ラジカル重合性化合物は、主に分子中に１個以上の不飽和二重結合を含有するものであり、具体的には、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、シリコーンアクリレート等の名称で呼ばれるアクリルオリゴマーと、２−エチルヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、イソノルボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２，２，２−トリフロロエチルメタクリレート、２−パーフルオロオクチル−エチルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリレートモノマーが挙げられる。
上記カチオン重合性化合物としては、分子中にエポキシ基、ビニルエーテル基、および／または、オキセタン基を１個以上含有する化合物を用いることができる。上記分子中にエポキシ基を含有する化合物としては、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノ−ルＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＳ、テトラメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、テトラクロロビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ブロム化フェノールノボラック、オルトクレゾールノボラック等のノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル類、エチレングリコール、ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物等のアルキレングリコール類のジグリシジルエーテル類、ヘキサヒドロフタル酸のグリシジルエステル、ダイマー酸のジグリシジルエステル等のグリシジルエステル類等が挙げられる。更に、３，４−エポキシシクロヘキサンメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３−エチル−３−（ヒドロキシメチル）−オキセタン等のオキセタン化合物、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のビニルエーテル化合物等も用いることができる。
これらの中でも、上記光重合性化合物はラジカル重合性化合物であることが好ましく、アクリレートオリゴマーまたはアクリレートモノマーであることがより好ましい。

ただし、上記光重合性化合物は、上述したものに限定されない。また、充分な屈折率の差を生じさせるべく、上記光重合性化合物には、低屈折率化を図るために、フッ素原子（Ｆ）を導入してもよく、高屈折率化を図るために、硫黄原子（Ｓ）、臭素原子（Ｂｒ）、各種金属原子を導入してもよい。また、上記異方性拡散層の高屈折率化を図るために、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化錫（ＳｎＯｘ）等の高屈折率の金属酸化物からなる超微粒子の表面にアクリル基やエポキシ基等の光重合性官能基を導入した機能性超微粒子を光重合性化合物に添加することも有効である。

上記ラジカル重合性化合物を重合させることができる光開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）チタニウム、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。

上記カチオン重合性化合物を重合させることができる光開始剤は、光照射によって酸を発生し、この発生した酸により上述のカチオン重合性化合物を重合させることができる化合物であり、一般的には、オニウム塩、メタロセン錯体が好適に用いられる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等が用いられ、これらの対イオンには、テトラフルオロホウ酸イオン（ＢＦ_４ ⁻）、ヘキサフルオロリン酸イオン（ＰＦ_６ ⁻）、ヘキサフルオロ砒素酸イオン（ＡｓＦ_６ ⁻）、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン（ＳｂＦ_６ ⁻）等のアニオンが用いられる。カチオン重合性化合物の光開始剤としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（η５−イソプロピルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。

上記光開始剤は、光重合性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上、１０質量部以下で配合されることが好ましい。上記光開始剤が、０．０１質量部未満であると、光硬化性が低下するおそれがあり、１０質量部を超えると、表面だけが硬化して内部の硬化性が低下するおそれがあるからである。上記光開始剤は、光重合性化合物１００質量部に対して、０．１質量部以上、７質量部以下で配合されることがより好ましく、０．１質量部以上、５質量部以下で配合されることが更に好ましい。

上記（Ｃ）の形態における光重合性を有しない高分子樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール樹脂等が挙げられる。これらの高分子樹脂は、光重合の前には、光重合性化合物と充分な相溶性を有していることが好ましく、このような相溶性を確保するために、各種有機溶剤や可塑剤等を用いることも可能である。なお、光重合性化合物としてアクリレートを用いる場合、高分子樹脂は、相溶性の観点から、アクリル樹脂の中から選択されることが好ましい。なお上記「アクリル」は、アクリル、メタクリル、アクリルおよびメタクリルを示す意味で用いることとする、アクリレートについても、同様である。

上記組成物を硬化させる方法は、特に限定されず、例えば、上記組成物を基体上にシート状に設け、これに異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から平行光線（紫外線等）を照射する方法が挙げられる。これにより、平行光線の照射方向に平行に延在する複数の棒状硬化領域の集合体を形成することができる。
光照射する方位は、異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位であることが好ましく、異方性光散乱層の表面の法線方向から５〜５０°の方位であることがより好ましく、異方性光散乱層の表面の法線方向から１５〜４５°の方位であることが特に好ましい。

上記組成物を基体上にシート状に設ける手法としては、通常の塗工方式（コーティング）や印刷方式を用いることができる。具体的には、エアドクターコーティング、バーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースロールコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスロールコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、ダムコーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等の塗工方式や、グラビア印刷等の凹版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印刷方式を用いることができる。また、上記組成物の粘度が低い場合には、基体の周囲に所定の高さの構造物を設け、この構造物で囲まれた領域に液状の組成物を塗布する方法も用いることができる。

上記平行光線（紫外線等）を照射するために用いる光源としては、通常は、ショートアークの紫外線ランプが用いられ、具体的には、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。所定の方向から平行光線（紫外線等）を照射するために用いる装置としては、特に限定されず、一定面積に均一な強度の平行紫外線を照射できるもので、市販装置の中から選択することが可能であるという観点から、レジスト露光用の露光装置を用いることが好ましい。なお、サイズが小さい異方性光散乱層を形成する場合は、紫外線スポット光源を点光源として、充分離れた距離から照射する方法も用いることが可能である。

上記組成物をシート状にしたものに照射される平行光線は、光重合性化合物を重合硬化することが可能な波長を含んでいることが必要であり、通常、水銀灯の３６５ｎｍを中心とする波長の光線が用いられる。この波長帯の光線を用いて異方性光散乱層を形成する場合、照度は、０．０１ｍＷ／ｃｍ^２以上、１００ｍＷ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。照度が０．０１ｍＷ／ｃｍ^２未満であると、硬化に長時間を要するため、生産効率が悪くなるおそれがあり、１００ｍＷ／ｃｍ^２を超えると、光重合性化合物の硬化が速過ぎて構造形成を生じず、所望の異方性光散乱特性を発現できなくなるおそれがあるからである。上記照度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２以上、２０ｍＷ／ｃｍ^２以下であることがより好ましい。

本発明の光変換部材の製造方法の範囲外の方法で製造した異方性散乱層を用いてもよく、例えば以下に示すような２種類の非相溶性の樹脂を用いる方法などの公知の光変換部材の製造方法を用いて異方性散乱層を形成してもよい。上記異方性光散乱層として、少なくとも２種類の非相溶性の樹脂を使用し、少なくともフィルムの表層部に棒状で一方向に配列した島相が存在する海−島構造をフィルム中に形成させた層を用いることも好ましい。
この場合、使用する樹脂は、単体で可視光の透過率が８０％以上である透明性の樹脂であるが、透明性の樹脂としては、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン樹脂などのオレフィン系樹脂、６ナイロン、６６ナイロンなどのポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリメチレンメタアクリレートなどのアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリスチレン−メチルメタアクリレート共重合体などのスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂などがあげられる。なお本発明において、「可視光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長帯域の光をいうものとする。
好ましい例として、これらの透明性の樹脂の中から相分離構造が海−島構造である非相溶性樹脂の組み合わせを選んで使用する。上記透明性の樹脂のなかで、相分離構造が海−島構造である非相溶性樹脂の組み合わせとしては、オレフィン系樹脂とポリエステル樹脂、オレフィン系樹脂とポリアミド樹脂、オレフィン系樹脂とポリカーボネート、スチレン系樹脂とポリカーボネードなど多くの組み合わせがある。好ましくはスチレン系樹脂が５０質量％を越えるものがよく、６０質量％以上のものがより好ましい。

さらに、これらの非相溶性樹脂の組み合わせの中からさらに絞り込んで、フィルムに成形したときに棒状で一方向に配列した島相が形成される樹脂の組み合わせを選んで使用することも好ましい。非相溶性の原料樹脂からフィルムを成形するときに、棒状で一方向に配向した島相を形成させる方法としては、非相溶性の樹脂の組み合わせのなかで、融点が最も高い樹脂を選んであらかじめ棒状に加工しておき、残りの樹脂に混合して原料樹脂とし、押出機などを使って原料樹脂を溶融成形などに方法によりフィルムに成形するときに、押出機などの溶融成形温度を棒状に加工した樹脂の融点より低い温度に設定してフィルムを成形することにより、棒状に成形した樹脂の形状を保ったままフィルムを成形し、そのあとフィルムを一方向に延伸することによりフィルム中に一方向に配向した棒状の島相を作る方法がある。
他の方法としては、非相溶性の樹脂を混合した原料樹脂を、押出機を使って溶融混練してシートダイなどから板状に押し出したあと樹脂を冷却固化させてフィルムを成形するときに、押出機から押し出された樹脂が冷却されていく過程で相分離して、フィルムの中に一方の樹脂がおおむね球状の島相として形成されたあと、樹脂全体が完全に冷却固化するまでの間に、フィルムをニップローラーなどで挟んで一方向に伸張することによりフィルム中の島相を棒状に変形させるとともに伸張方向に配向させる方法や、溶融した樹脂を押出機から細管やダイのスリット部に押し出すときに、樹脂に大きい剪断力を加えて流動させることによって、島相を棒状に変形させるとともに流動方向に配向させる方法などが挙げられる。

次に、光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、（ｉｉ）光硬化により異方性光散乱層を形成する工程が、重合性液晶化合物を含む組成物に対して光照射する工程である場合について説明する。

異方性光散乱層は、任意の支持体（例えば前述の透明基体が挙げられ、本発明の光変換部材には含まれていてもよく、取り除かれていてもよい）や他の機能層等の任意の下層（本発明の光変換部材には含まれていてもよく、取り除かれていてもよい）上に液晶化合物を適用し、液晶化合物間のピッチｐが好ましくは０．３５〜３μｍとなる繰り返しパターンを異方性光散乱層の表面に向かって少なくとも一方向に形成され、具体的には繰り返しパターンは、異方性光散乱層の表面の法線方向に対して好ましくは３０〜６０°の向きに形成されている液晶化合物層を有する。また、液晶化合物層の厚さｔは、０．１７〜１０μｍであることが好ましい。

液晶化合物間のピッチｐは、０．３５〜３μｍであることが好ましく、１．０〜２．５μｍがより好ましく、１．５〜２．５μｍが特に好ましい。

液晶化合物層の厚さｔは、０．１７〜１０μｍであることが好ましく、１．０〜２．５μｍがより好ましい。

液晶化合物の屈折率ｎｏは、１．４〜１．７が好ましく、１．４５〜１．６５がより好ましい。屈折率ｎｅは、１．４〜１．７が好ましく、１．５〜１．６５がより好ましい。
屈折率ｎｅと屈折率ｎｏとの差（屈折率差）は、０．０４５以上が好ましく、０．０５以上がより好ましい。

液晶化合物としては、一般的に、その形状から、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物に分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。
以下、液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（１）の態様として円盤状（ディスコティック）液晶化合物を用いた態様、液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（２）の態様として、棒状液晶化合物を用いた態様を説明する。なお、棒状液晶化合物はＲＬＣともいい、円盤状液晶化合物はＤＬＣともいう。

＜液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（１）の態様＞
液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（１）の態様は、液晶化合物として、円盤状液晶化合物を用いた態様である。
円盤状液晶化合物の例には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ、Ａ、７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

液晶化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつカチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。

（重合性基を有する円盤状液晶化合物）
液晶化合物を用いた異方性光散乱層の主原料として使用可能な円盤状液晶化合物としては、前述のとおり重合性基を有する化合物が好ましい。
円盤状液晶化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）： Ｄ（−Ｌ−Ｅ−Ｑ）_ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｅは二価の芳香族環又は複素環であり、Ｑは重合性基であり、ｎは３〜１２の整数を表す。

円盤状コア（Ｄ）は、ベンゼン環、ナフタレン環、トリフェニレン環、アントラキノン環、トルキセン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が好ましく、ベンゼン環、トリフェニレン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が特に好ましい。

Ｌは、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基が好ましく、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基であることが特に好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＤに結合する位置を表す。

Ｅは、芳香族環としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましく、ピリジン環が特に好ましい。Ｈは、芳香族環が特に好ましい。

重合性基Ｑの重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。中でも、（メタ）アクリレート基、エポキシ基が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される円盤状液晶化合物は、下記一般式（ＩＩ）で表される円盤状液晶であることが特に好ましい。

式中、Ｌ、Ｅ、Ｑは、一般式（Ｉ）におけるＬ、Ｅ、Ｑとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。

後述の一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、及び（ＩＶ）で表されるように、分子内に複数個の芳香環を有している円盤状液晶化合物は、配向制御剤として用いられるピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物等のオニウム塩との間に分子間π−π相互作用が起こるため、垂直配向を実現できる。特に、例えば、一般式（ＩＩ）において、Ｌが、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基である場合、及び、一般式（ＩＶ）において、複数個の芳香環及び複素環が単結合で連結される場合は、この連結基により結合の自由回転が強く束縛されることにより分子の直線性が保持されるため、液晶性が向上すると共に、より強い分子間π−π相互作用が起こり安定な垂直配向が実現できる。

円盤状液晶化合物としては、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｙ^１１、Ｙ^１２及びＹ^１３は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ^１、Ｌ^２及びＬ^３は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ^１、Ｈ^２及びＨ^３は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；

一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ^１及びＹＡ^２は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ^１〜Ｌ^３側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ^１〜Ｒ^３側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ^１及びＹＢ^２は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ^１〜Ｌ^３側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ^１〜Ｒ^３側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ^２１−Ｑ^２）_ｎ１−Ｌ^２２−Ｌ^２３−Ｑ^１
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（ＩＶ）におけるＨ^１〜Ｈ^３側と結合する位置を表す；Ｌ^２１は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ^２は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ^２２は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ_２−、＊＊−ＣＨ_２−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ^２３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−、−ＮＨ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ^１は重合性基又は水素原子を表す。

一般式（ＩＶ）で表される３置換ベンゼン系円盤状液晶化合物の各符号の好ましい範囲、及び一般式（ＩＶ）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能な円盤状液晶化合物は、一般式（ＩＶ）の３置換ベンゼン系円盤状液晶化合物に限定されるものではない。

トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

液晶化合物を用いた異方性光散乱層に含まれる円盤状液晶化合物のダイレクタは、異方性光散乱層のフィルム面に対し法線方向から、±３０〜±４０°の角度θで傾いており、かつ、傾斜角度の絶対値が同じであり、正負が異なる配向パターン、即ち＋の角度の配向パターンと、＋の角度と同じ−の角度の配向パターンが交互に繰り返されていることが好ましい。

ダイレクタの傾斜角度（チルト角）は、以下のように測定することができる。
ミクロトームでフィルム面に対し垂直方向で切削した断面を偏光顕微鏡で観察し測定する方法や、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、または、ＷＲによって測定できるＲｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、遅相軸からもダイレクタ角度を測定できる。

（ＫＯＢＲＡによるチルト角の測定）
液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一軸傾斜のチルト角（液晶性化合物における物理的な対象軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θを、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θは、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（手順１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメータＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（手順２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層のチルト角θを変数としてフィッティングを行い、θを算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。

（１）の態様における液晶化合物を用いた異方性光散乱層には、液晶化合物の他に配向制御剤、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。具体的には、特開２００２−２９６４２３号、特開２００１−３３０７２５号、特開２０００−１５５２１６号等に記載されたものが好ましい。

（（１）の態様の配向膜）
（１）の態様では、液晶化合物が均一に配向した状態にするために、支持体等の下層と液晶化合物を用いた異方性光散乱層との間に配向膜を配置するのが好ましい。配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜のいずれであってもよいが光配向膜を用いることが好ましい。

光配向膜は、光照射により配向規制力が発現される配向膜をいう。光配向膜に用いられる光配向材料としては、光反応性基を有する光配向性ポリマーであるのが好ましい。ここで、「光反応性基」とは、例えば、単一方向からの光の照射によって官能基の化学構造またはこの官能基を有する分子の配向状態に変化が起こり、これにより配向膜表面に配置された液晶化合物の分子を所定の方向に配向させることができる官能基を意味する。具体的には、アゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体、スチルベン類、スチリルピリジン誘導体、α−ヒドラゾノ−β−ケトエステル類、クマリン誘導体、ベンジリデンフタルイミジン類、レチノイン酸誘導体、スピロピラン類、スピロオキサジン類、アントラセン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ポリイミドなどが挙げられる。このうち、好ましいのはクマリン誘導体、スチリルピリジン誘導体、アゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体であり、さらに好ましくはアゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体である。

光配向材料は低分子化合物であっても高分子であっても良い。前述の高分子の種類としては、「改訂 高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があるポリマー種のいずれであってもよく、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。ポリオレフィン類であることが好ましい

光配向材料としては、多数の文献等に記載がある。本発明の配向膜では、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルである。

（液晶化合物を用いた異方性光散乱層の形成）
液晶化合物を用いた異方性光散乱層は、少なくとも一種の液晶化合物を含む組成物を、例えば塗布液として調製し、この塗布液を配向膜の表面に塗布することで形成することができ、塗布法については特に制限はない。
（１）の態様の液晶化合物を用いた異方性光散乱層の形成方法の一例は、光配向膜をパターン露光により互いに異なる配向能を発現させ、パターン光配向膜を形成することで形成することができる。
ストライプ状のマスクを介して非偏光光を層面の法線から時計回り方向の所定の角度方向から露光した後、反時計回り方向の所定の角度方向（時計回り方向の所定の角度と同一角度であることが好ましい）から非偏光光を露光することにより、時計回り方向の所定の角度に配向する領域と、反時計回り方向の所定の角度に配向する領域とを有するパターン光配向膜が形成できる。

光配向膜に照射する非偏光光は、紫外線であることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがさらに好ましい。
非偏光光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。

このパターン光配向膜上に液晶化合物を用いた異方性光散乱層用の塗布液を塗布し、液晶化合物を配向させると、液晶化合物は、各パターンの配向制御能の方向に沿って配向する。その状態を光照射により固定することにより、液晶化合物を用いた異方性光散乱層を形成することができる。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

＜液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（２）の態様＞
（２）の態様は、液晶化合物として、棒状液晶化合物を用いた態様である。
（２）の態様は、液晶化合物を用いた異方性光散乱層がピッチｐごとに凹凸部が形成され、棒状液晶化合物が凹凸状にパターンを形成しているパターン液晶化合物層１２Ａとなっている態様である。このような態様により、光が散乱しやすくなる。なお、液晶化合物を用いた異方性光散乱層の（２）の態様において、液晶化合物層の厚さは、棒状液晶化合物によって形成される凹凸部の凸部の高さである。

棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。上記高分子液晶化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表される棒状液晶化合物である。
一般式（Ｘ）：Ｑ^１−Ｌ^１−Ａ^１−Ｌ^３−Ｍ−Ｌ^４−Ａ^２−Ｌ^２−Ｑ^２
式中、Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３およびＬ^４はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ^１およびＡ^２はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報や特開２００７−２７９６８８号公報に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（Ｘ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法で合成することができる。

棒状液晶化合物のダイレクタの傾斜角度θは、±１０°以内で配向していることが好ましく、±８°以内で配向していることがより好ましく、±５°以内で配向していることがさらに好ましく、０°が特に好ましい。

前述の液晶化合物を用いた異方性光散乱層を形成する塗布液中には、ダイレクタの角度を０°とする（垂直配向させる）ために、液晶の配向を促進する添加剤（配向制御剤）を添加していることが好ましく、この添加剤の例には、特開２００９−２２３００１号公報の［００５５］〜［００６３］に記載の化合物、特開２００８−０２６７３０号公報の［００２３］〜［００８８］に記載の化合物が含まれる。また、下記の配向制御剤を添加することも好ましい。

（２）の態様における液晶化合物を用いた異方性光散乱層には、液晶化合物の他に配向制御剤、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。具体的には、特開２００２−２９６４２３号、特開２００１−３３０７２５号、特開２０００−１５５２１６号等に記載されたものが好ましい。

（（２）の態様の配向膜）
（２）の態様では、液晶化合物が均一に配向した状態にするために、支持体等の下層と液晶化合物を用いた異方性光散乱層との間に配向膜を配置するのが好ましい。配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜のいずれであってもよいが、ラビング配向膜であることが好ましい。
ラビング配向膜としては、後述する光学異方性層に有する配向膜と同様のものを使用することができる。
また、配向膜は、光酸発生剤を含有していてもよい。光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。この光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、配向膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、配向膜とその上に配置される光学異方性層形成用組成物中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。
本発明で使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。

（液晶化合物を用いた異方性光散乱層の形成）
（２）の態様の液晶化合物を用いた異方性光散乱層の形成方法の一例は、ラビング配向膜に光酸発生剤を含有させ、パターン露光により互いに異なる配向能を発現させ、パターン配向膜を形成する態様である。
ストライプ状のマスクを介してラビング配向膜をパターン露光し、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域（露光部）と、発生していない領域（未露光部）とを形成する。

配向膜に照射する照射光は、紫外線であることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがさらに好ましい。
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。

［バックライトユニット］
本発明のバックライトユニットは、上述の光変換部材と、光源と、
を少なくとも含む。光変換部材の詳細は、先に記載した通りである。

（バックライトユニットの発光波長）
バックライトユニットは、３波長光源により高輝度かつ高い色再現性を実現すべく、
４００〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、
５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
を発光することが好ましい。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４３０〜４８０ｎｍであることが好ましく、４４０〜４６０ｎｍであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５００〜５５０ｎｍであることが好ましく、５１０〜５４０ｎｍであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６００〜６５０ｎｍであることが好ましく、６１０〜６４０ｎｍであることがより好ましい。

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が３０ｎｍ以下であることが、特に好ましい。

バックライトユニットは、少なくとも、上記光変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、光変換層には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット（Ａ）と、緑色光を発光する量子ドット（Ｂ）が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され光変換部材を透過した青色光と、光変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
または他の態様では、光源として、３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、光変換層には、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット（Ｃ）が含まれることが好ましい。これにより、光変換部材から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。

＜バックライトユニットの構成＞
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図１３には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。

また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットが、青色光のうち４６０ｎｍよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
また、バックライトユニットが、赤色光のうち６３０ｎｍよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタは、特開２００８−５２０６７号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、上述のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む。

＜液晶表示装置の構成＞
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマティック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマティック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。

液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは２枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。

液晶表示装置は、液晶セルのバックライト側の面にバックライト側偏光板を有することが好ましい。バックライト側偏光板は、バックライト側偏光子のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルムを含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
バックライト側偏光板は、偏光子が、２枚の偏光板保護フィルムで挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。

バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。

液晶表示装置は、液晶セルのバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板を有することが好ましい。表示側偏光板は、偏光子が２枚の偏光板保護フィルムで挟まれた構成であることが好ましい。

本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。

（カラーフィルター）
５００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光源を用いる場合、ＲＧＢ画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびＲ、Ｇ、Ｂの画素パターンを形成することもできるし、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリクス、およびｎ個置きにブラックマトリクスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素及びブラックマトリックスを完全に硬化させてもよい。
カラーフィルターの好ましい特性は特開２００８−０８３６１１号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
例えば、緑色を示すカラーフィルターにおける最大透過率の半分の透過率となる波長は、一方が５９０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下であり、他方が４７０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。また、緑色を示すカラーフィルターにおいて最大透過率の半分の透過率となる波長は、一方が５９０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに緑色を示すカラーフィルターにおける最大透過率は８０％以上であることが好ましい。緑色を示すカラーフィルターにおいて最大透過率となる波長は５３０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下であることが好ましい。
緑色を示すカラーフィルターにおいて、発光ピークの波長における透過率は、最大透過率の１０％以下であることが好ましい。
赤色を示すカラーフィルターは、５８０ｎｍ以上５９０ｎｍ以下における透過率が最大透過率の１０％以下であることが好ましい。
カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。

（ブラックマトリックス）
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。

（薄層トランジスタ）
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ（以下、ＴＦＴとも言う）を有するＴＦＴ基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が１×１０^１４／ｃｍ^３未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開２０１１−１４１５２２号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、量子ドット発光効率の高い光変換部材を有することにより、高輝度かつ高い色再現性を、高価な量子ドットを多量に使用することなく実現可能なものである。

以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１０１〜１０３］
〔異方性光散乱フィルムの作製方法：アクリレートの光硬化による異方性光散乱層の作製〕
１．異方性光散乱フィルム１１の作製

＜異方性光散乱フィルム１１の作製＞
まず、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（商品名：コスモシャイン（登録商標）、品番：Ａ４３００、東洋紡績社製）上に、ギャップを０．２ｍｍに調整したドクターブレードを用いて下記組成の光重合性組成物１（異方性拡散層用塗布液）を塗布した後、別のＰＥＴフィルム（厚さ７５μｍ）で被覆した。使用したＰＥＴフィルムの平均屈折率は１．６０であった。

≪光重合性組成物１の組成≫
２−（パーフルオロオクチル）−エチルアクリレート：５０質量部
１，９−ノナンジオールジアクリレート：５０質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン：４質量部

次に、上下両面をＰＥＴフィルムで挟まれた厚さ２００μｍ（０．２ｍｍ）の液膜に対して、ＵＶスポット光源（商品名：Ｌ２８５９−０１、浜松ホトニクス社製）の落射用照射ユニットから、斜め４０度方向から照射強度３０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を１分間照射し、異方性光散乱フィルム１１を得た。異方性光散乱フィルム１１の異方性拡散層の膜厚は、上記液膜の厚さと同じ２００μｍとなる。

＜異方性光散乱フィルム１２の作製＞
ディスペンサを用いて形成する隔壁の高さを１００μｍ（０．１ｍｍ）とした以外は、異方性光散乱フィルム１１と同様にして異方性光散乱フィルム１２を得た。したがって、異方性光散乱フィルム１２の異方性光散乱層の膜厚は、隔壁の高さと同じ１００μｍとなる。以下の異方性光散乱フィルムについても、同様である。

＜異方性光散乱フィルム１３の作製＞
ＵＶ光の照射角度を４５度とした以外は、異方性光散乱フィルム１１と同様にして異方性光散乱フィルム１３を得た。

２．異方性拡散シートの光拡散特性評価
ゴニオフォトメータ（商品名：自動変角光度計ＧＰ−５、村上色彩技術研究所製）を用いて、光源からの直進光を受ける位置に受光部を固定し、光源と受光部との間のサンプルホルダーに、各異方性光散乱フィルムを取り付け、図８に記載の光強度測定系とした。まず、異方性光散乱フィルムのフィルム面に対し法線方向から光を照射しその透過光の光強度を測定し、これをＩ（０°）とした。次に光軸に対するサンプルの傾き角度（図８のθに対応）を４０°に固定した上で、サンプルを回転させ、透過光強度の方位角依存性を測定した。このときの透過光強度の最小値、すなわち透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度をＩ（４０°）とした。Ｉ（０°）およびＩ（４０°）から、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）を求めた。

３．バリア層なし光変換部材の作製
量子ドット波長変換要素として、シグマアルドリッチ社販売のＮａｎｏｃｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製量子ドット「Ｌｕｍｉｄｏｔ（登録商標）」を用いて青色発光ダイオードの光が入射したときに、中心波長５３０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの緑色光の蛍光発光および中心波長６１０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの赤色光の蛍光発光をする量子ドットシートを形成した。
得られた量子ドットシートを光変換層１とした。
量子ドットシート（光変換層１）と、上記１．で作製した各異方性光散乱フィルム１１〜１３を、アクリル系接着剤を用いて、入射側から出射側に向かって、量子ドットシート、接着剤、異方性光散乱フィルムの順に貼り合せた。得られた光変換部材を、実施例１０１〜１０３の光変換部材とした。

［実施例１０５および１０６］
４．バリア層フィルムの作製

＜バリア層付き異方性光散乱フィルム１の作製＞
以下の光重合性組成物２（バリア層塗布液）を調製して塗布液とし、この塗布液を、ワイヤーバーを用いて上記１．で作製した異方性光散乱フィルム１１の光出射側表面にワイヤーバー（＃６）にて塗布し、酸素濃度０．１％以下の窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２、の紫外線を照射することにより膜厚およそ５００ｎｍの有機層を形成した。

≪光重合性組成物２の組成≫
リン酸エステルアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２
１） ；１０質量部
共栄社化学（株）製ライトアクリレートＢＥＰＧ−Ａ ；９０質量部
光重合開始剤［ＢＡＳＦ製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７］ ；６質量部

さらに、この有機層上にケイ素酸化物からなる無機層を成膜した。無機層の成膜はスパッタ装置を使用し、ターゲットとしてＳｉを、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いた。無機層膜厚は５０ｎｍとし、バリア層フィルム１を得た。

５．バリア層付き光変換部材の作製
バリアフィルム１を用い、アクリル系接着剤を用いて、入射側から出射側に向かって、バリアフィルム、接着剤、量子ドットシート、接着剤、バリア層付き異方性光散乱フィルムの順に貼り合せた。なおバリア層付き異方性光散乱フィルムは、バリア層面を量子ドットシート側へ向けて貼合した。得られた光変換部材を、実施例１０５の光変換部材とした。なお、実施例１０５の光変換部材については、後述の表１または表２に光取り出し効率のデータを省略したが、後述の比較例１０４よりも光取り出し効率が向上するものである。
上記構成とは別に、入射側から出射側に向かって、バリアフィルム、接着剤、量子ドットシート、接着剤、異方性光散乱シート、接着剤、バリアフィルムの順に貼り合せた。得られた光変換部材を、実施例１０６の光変換部材とした。なお、実施例１０６の光変換部材については、後述の表１または表２に光取り出し効率のデータを省略したが、後述の比較例１０４よりも光取り出し効率が向上するものである。

［比較例１０４］
〔等方性光散乱フィルムを用いた例〕
光変換部材の作製に当たって、異方性光散乱フィルム１１の代わりに、等方性光散乱フィルムとして住友化学製「スミペックスＲＭ４００」を用いたこと以外は、上述の実施例１〜３と同様の要領で、等方性光散乱フィルムと光変換層１とを積層し、光変換部材１０４を作製した。「スミペックスＲＭ４００」の配光分布は、図５に示すように、シートの法線方向を極大とする、単調な山形の分布であった。
得られた光変換部材１０４を比較例１０４の光変換部材とした。

［実施例１０７］
異方性光散乱フィルム１７の作製方法：液晶塗布による異方性光散乱層の作製

＜異方性光散乱フィルム１７の作製＞
《パターン配向膜付透明支持体Ａの作製》
下記パターン配向膜用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、パターン配向膜用塗布液を作製した。この塗布液をトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）の表面に、１４番バーで塗布を行い、１００℃で１分間乾燥させた。次いで、ストライプマスクを、ストライプが搬送方向と平行になるように配向膜上に配置し、空気下にて３６５ｎｍにおける照度５０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより配向膜を形成した。このとき、透過部のストライプ幅１μｍ、遮蔽部のストライプ幅１μｍのストライプマスクを使用し露光を行った。マスク露光した後、フィルムの搬送方向に対して４５度になる角度で１０００ｒｐｍで１往復ラビング処理を行った。なお、パターン配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。

《パターン配向膜用組成物》
ポリマー材料 ２．４質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−５） ０．１１質量部
メタノール １６．７質量部
イソプロパノール ７．４質量部
水 ７３．４質量部

《異方性光散乱フィルム１７の作製》
下記の液晶化合物層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。パターン配向膜付トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）上にこの塗布液を３番バーで塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、異方性光散乱フィルム１７の作製を行った。

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液晶化合物層用組成物
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棒状液晶化合物（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
垂直配向剤Ａ ０．５質量部
垂直配向剤Ｂ １．０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製） ３．３質量部
増感剤（カヤキュアー−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３０００質量部
──────────────────────────────────

《形状の評価》
形成された異方性光散乱フィルム１７の露光部及び未露光部の形状をＶｅｒｔＳｃａｎ２．０（菱化システム（株）製）により分析したところ、露光部の液晶化合物層は厚み０．１７μｍ、ピッチ１．６μｍ、未露光部では、厚みがほぼ０μｍであった。

《光学性能の評価》
次に、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用い、本願明細書〔０１２７〕（ＫＯＢＲＡによるチルト角の測定）に記載の方法に従って、液晶化合物層における棒状液晶化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９ｎｍであり、棒状液晶化合物を、２種の垂直配向剤の存在下、パターン配向膜上で配向させることによって、露光部で棒状液晶化合物が配向膜面に対して垂直配向（ダイレクタの傾き０°）したパターン液晶化合物層が得られたことが理解できる。

＜光変換部材の作製＞
得られた異方性光散乱フィルム１７をアクリル系接着剤を用いて光変換層１に貼合することで、実施例１０７の光変換部材を得た。

［実施例１０８］
《パターン配向膜付透明支持体の作製》
下記に示す光架橋性ポリマーを使用した。市販のポリビニルシンナメート（Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）を、メタノールで２回再沈殿させた。シンナモイルを側鎖に持つポリメタクリレートは、ｎ−プロピル−２−（４−メタクリロキシフェニル）エチニル−カルボキシレート（Ｍ０ＣｉｎＰｒ）のメタクリレートモノマーをラジカル重合することにより準備した。このモノマーのラジカル重合は次のような方法により１０質量％溶液中で行った。

光架橋性ポリマー

乾燥ベンゼン１０ｍＬ中に以下を溶解し、アンプルに入れ凍結と解凍を繰返し、ガス抜きをした。
モノマー １．０ｇ
重合開始剤（アゾビスイソブチロニトリル） １０ｍｇ

ポリマーを分離する為、アンプルに蓋をし、１０時間６０℃に保った後、得られた溶液をメタノール中に注ぎ、メタノール中での再沈殿を起こした。これを繰り返すことにより、ポリマーを精製した。最後にポリマーを真空中で室温に６時間以上おき、乾燥した。ポリマーの熱特性は、示差走査熱量計（ＤＳＣ２００ セイコー電子製）で測定したところ加熱速度±１０℃／分であった。

《パターン光配向膜の形成》
トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）上にモノクロロベンゼンと塩化メチレンを１対１で混ぜた１．５質量％溶液をスピンコートすることで、厚み約６０ｎｍの光架橋性ポリマーの薄膜を得た。１．６μｍピッチで０．８μｍの開口があるストライプ状のマスクを介して、波長３１３ｎｍの非偏光光を透明支持体の法線方向に対して斜め＋４０°方向から照射した。その後、マスクをストライプの長手方向と垂直方向に０．８μｍずらし、波長３１３ｎｍの非偏光光を透明支持体の法線方向に対して斜め−４０°方向から照射した。３１３ｎｍの光は１５０Ｗ Ｈｇ−Ｘｅランプ（Ｓａｎ−ｅｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｍｆｇ． Ｃｏ．， ＵＶ Ｓｕｐｅｒｃｕｒｅ−２３０Ｓ）の出射光をＮａＯＨ中にＫ_２ＣｒＯ_４を溶かした溶解フィルターとバンドパスフィルター（東芝製、ＵＶ−Ｄ３５）に通すことで発生させた。

《液晶化合物層の形成》
続いて、光開始剤０．５質量％を含む、４−メチル−２−ペンタノン溶液に溶かされた前述の重合可能な下記円盤状液晶化合物溶液２０質量％を光照射された薄膜上にスピンコートし、これを熱することで円盤状ネマティック相と変化させＤＬＣ分子を配向させた後、円盤状液晶（ＤＬＣ）分子の光重合が起るようにＵＶ光を照射した。
このようにして得られた液晶化合物層つき支持体を、異方性光散乱フィルム１８とした。

円盤状液晶化合物

《特性の評価》
異方性光散乱フィルム１８をミクロトーム（ライカ製）でフィルム面に対し垂直方向で切削し、断面を偏光顕微鏡で観察した。フィルム面法線に対し±４０°傾いた方向が偏光顕微鏡のクロスニコル偏光板の軸と揃ったときに０．８μｍ幅の暗部が１．６μｍピッチで現れ、その厚みは約２．６５μｍだった。このことから、フィルム面法線方向に対し±４０°方向に配向した液晶化合物層が厚み２．６５μｍで１．６μｍのピッチであることがわかった。

＜異方性光散乱層と光変換層を有する光変換部材の作製＞
得られた異方性光散乱フィルム１８をアクリル系接着剤を用いて光変換層１に貼合することで、実施例１０８の光変換部材を得た。

［比較例２０１］
量子ドット波長変換要素として、シグマアルドリッチ社販売のＮａｎｏｃｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製量子ドット「Ｌｕｍｉｄｏｔ（登録商標）」および、スチレン粒子（ＳＸ−３５０ＨＭＲ、粒径３．５μｍ、総研化学製）を用いて、青色発光ダイオードの光が入射したときに、中心波長５３０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの緑色の蛍光発光および中心波長６１０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの赤色の蛍光発光をする等方性光散乱量子ドットシートを形成した。
得られた等方性光散乱量子ドットシートを、比較例２０１の光変換部材とした。

［実施例２０２］
〔量子ドット入り異方性光散乱フィルムの作製〕
光重合性組成物１に、赤光を発光する量子ドットおよび緑光を発光する量子ドット（シグマアルドリッチ社販売のＮａｎｏｃｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製量子ドット「Ｌｕｍｉｄｏｔ」）を加えた以外は異方性光散乱フィルム１１と同様にして、異方性光散乱フィルム２２を得た。
得られた量子ドットを含む異方性光散乱フィルム２０２を、実施例２０２の光変換部材とした。

［実施例２０３］
実施例２０２において、ＵＶ光の照射角度を４５度に変更した以外は光散乱フィルム３の製造方法と同様にして、光散乱フィルム２３を得た。
得られた量子ドットを含む異方性光散乱フィルム２３を、実施例２０３の光変換部材とした。

［実施例２０４および２０５］
実施例２０２において、膜厚を３００μｍおよび４００μｍに変更した以外は光散乱フィルム３の製造方法と同様にして、光散乱フィルム２４、２５を得た。
得られた量子ドットを含む異方性光散乱フィルム２４、２５を、それぞれ実施例２０４、２０５の光変換部材とした。

［実施例２０６］
光重合性組成物１を塗布する基材を、バリアフィルム１に変更した以外は実施例２０４と同様にして、光散乱フィルム２６を得た。得られた量子ドットを含む異方性光散乱フィルム２６を、実施例２０６の光変換部材とした。

［評価］
（Ｉ（０°）／Ｉ（４０°））
実施例２０２〜２０６および比較例２０１の光変換部材の異方性光散乱について、Ｉ（０°）およびＩ（４０°）をゴニオメーターにて測定し、その値の比Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）を評価値とした。
得られた結果を下記表１または表２に記載した。

（光取り出し効率の増分）
各実施例および比較例の光変換部材について、光取り出し効率を以下の方法で測定した。
市販の青の面光源（発光スペクトルの中心波長：４６５ｎｍ）上に光変換部材を設置し、視野角測定機（ＥｚＣｏｎｔｒａｓｔ、ＥＬＤＩＭ社製）で出射光を測定し、各方位角および各極角での輝度値の積分値を、光変換部材の輝度値とした。
得られた結果をもとに各実施例において、下記表１または表２に記載した各比較例に対しての輝度の増分を求め、これを光変換部材の光取り出し効率の増分とした。
得られた結果を下記表１または表２に記載した。

上記表１または表２より、本発明の光変換部材は、光取り出し効率が高いことがわかった。
一方、Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が本発明で規定する下限値を下回る比較例１０４および比較例２０１の光変換部材は、光取り出し効率が低かった。

［実施例３０１〜３０３、比較例３０４、実施例３０５〜３０８］
実施例１０１〜１０３、比較例１０４、実施例１０５〜１０８において、光変換層１の代わりに、シグマアルドリッチ社販売のＮａｎｏｃｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製量子ドット「Ｌｕｍｉｄｏｔ（登録商標）」を用いて、青色発光ダイオードの光が入射したときに、中心波長５３０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの緑色光を発する量子ドットシートおよび、中心波長６１０ｎｍ、半値幅４０ｎｍの赤色光の蛍光発光をする量子ドットシートをそれぞれ作製し、それらをアクリル系接着剤で積層した量子ドット積層フィルム（光変換層２）を用い、各光変換部材をそれぞれ製造した。得られた光変換部材を、実施例３０１〜３０３、比較例３０４、実施例３０５〜３０８の光変換部材とした。
光変換層２を用いた各実施例３０１〜３０３および実施例３０５〜３０８の光変換部材も、比較例３０４に比べ光取り出し効率に優れ、実施例１０１〜１０３、比較例１０４、実施例１０５〜１０８と同様の傾向であった。

本発明は、液晶表示装置の製造分野において有用である。

１ ：光変換層
２ ：等方性光散乱層
３ ：異方性光散乱層
４ ：量子ドットを含む異方性光散乱層
５ ：赤色光を発光する量子ドット
６ ：緑色光を発光する量子ドット
７ ：赤色光を発光する量子ドットを含む層
８ ：緑色光を発光する量子ドットを含む層
１０ ：光変換部材
α ：半値幅
θ ：傾斜角
Ｉ ：相対光透過強度
Ｉ_ａ ：光透過強度（絶対光透過強度）
Ａ ：光透過強度が最小となる方位
Ｂ ：光透過強度が最小ではない方位
２１ ：Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が９０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係
２２ ：Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が７０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係
２３ ：Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係
２４ ：Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係
２５ ：Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が１０であり、半値幅が５０°である異方性光散乱層における傾斜角θと相対光強度Ｉの関係
２９ ：輝度測定用の光源
３０ ：輝度計
３１ ：バックライトユニット
３１Ａ ：光源
３１Ｂ ：導光板
３１Ｃ ：光変換部材
３２ ：青色光
３３ ：緑色光
３４ ：赤色光
３５Ａ、３５Ｂ ：バリアフィルム（バリア層）

Claims (15)

1. 入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む光変換層と、
   Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層と
   を有する、光変換部材；
   ただし、Ｉ（０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度を表し、
   Ｉ（４０°）は異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から異方性光散乱層に対して光を入射した際の異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における異方性光散乱層の透過光強度を表す。
2. 前記光変換層が、緑色光を発光する量子ドットと、赤色光を発光する量子ドットとを含む層である、請求項１に記載の光変換部材。
3. 前記光変換層が、緑色光を発光する量子ドットを含む層と、赤色光を発光する量子ドットを含む層とを少なくとも含む積層体であり、
   前記赤色光を発光する量子ドットを含む層、前記緑色光を発光する量子ドットを含む層、前記異方性光散乱層がこの順で積層された、請求項１に記載の光変換部材。
4. 前記異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を前記異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光変換部材。
5. 前記異方性光散乱層が、重合性液晶化合物を含む組成物を光照射により硬化されてなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光変換部材。
6. Ｉ（０°）／Ｉ（４０°）が３以上である異方性光散乱層を有し、
   前記異方性光散乱層が、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを少なくとも１種類以上含む、光変換部材；
   ただし、Ｉ（０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度を表し、
   Ｉ（４０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における前記異方性光散乱層の透過光強度を表す。
7. 前記量子ドットとして、少なくとも緑色光を発光する量子ドットおよび赤色光を発光する量子ドットを含む、請求項６に記載の光変換部材。
8. 前記異方性光散乱層が、光硬化性化合物を含む組成物を異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位からの光照射により硬化されてなる層である、請求項６または７に記載の光変換部材。
9. 前記異方性光散乱層のＩ（０°）／Ｉ（４０°）が５以上である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光変換部材；
   ただし、Ｉ（０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における前記異方性光散乱層の透過光強度を表す。
10. 前記異方性光散乱層のＩ（０°）／Ｉ（４０°）が２０以上である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の光変換部材；
    ただし、Ｉ（０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度を表し、Ｉ（４０°）は前記異方性光散乱層の表面の法線方向に対して傾斜角４０°方向から前記異方性光散乱層に対して光を入射した際の前記異方性光散乱層の透過光強度が最小値となる方位における前記異方性光散乱層の透過光強度を表す。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光変換部材と、
    光源とを含むバックライトユニット。
12. 請求項１１に記載のバックライトユニットを含む液晶表示装置。
13. 硬化性化合物へ光照射する光硬化により前記異方性光散乱層を形成する工程を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光変換部材の製造方法。
14. 前記光硬化により前記異方性光散乱層を形成する工程が、光硬化性化合物を含む組成物に対して、前記異方性光散乱層の表面の法線方向から０°を超え６０°以下の方位から光照射する工程である、請求項１３に記載の光変換部材の製造方法。
15. 前記光硬化により前記異方性光散乱層を形成する工程が、重合性液晶化合物を含む組成物に対して光照射する工程である、請求項１３に記載の光変換部材の製造方法。

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