JPWO2015128995A1 - 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置を提供することである。本発明の偏光板保護フィルムは、熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することを特徴とする。

Description

本発明は、偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置に関する。より詳しくは、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置のベンドムラの発生を抑制し、機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置に関する。

液晶表示装置に具備される偏光板は、一般に偏光子と、それを挟持する一対の偏光板保護フィルムとを有する。

偏光板保護フィルムとしては、透明性が高く、アルカリ水溶液でケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることで、偏光子との良好な接着性が得られやすいことから、従来セルロースエステルフィルムが用いられてきた。

しかしながら、セルロースエステルフィルムは透湿性が高く、例えば膜厚を薄くしていくと、水分の透過量が増加する。

近年、液晶表示装置の薄型化に伴い、厚さが薄いガラス基板を含む液晶表示パネル（偏光板／液晶セル／偏光板の積層物）が要望されているが、薄型のガラス基板を使用すると、バックライトからの熱などによって当該ガラス基板が湾曲（ベンド）しやすいという問題があった。

この原因について検討したところ、偏光板を構成する偏光板保護フィルムや偏光子が、バックライトの熱などによって含有していた水分が抜けて収縮しやすくなり、この偏光板の収縮力により、薄型のガラス基板を含む液晶表示パネルが湾曲（ベンド）し、その結果液晶表示装置における表示ムラ（ベンドムラ）が発生するということが分かった。

したがって、視認側やバックライト側の偏光板保護フィルムは、温湿度等の環境の変化やバックライトの熱の影響によって含有している水分の蒸発等が大きく、その結果上記ベンドムラが発生することから高い耐水性が求められる。

高い耐水性を有する偏光板保護フィルムとして、アクリル樹脂フィルム、例えばポリメチルメタクリレートフィルムやラクトン環構造を有する重合体を用いた光学フィルム等を偏光板保護フィルムとして用いることが知られている（例えば、特許文献１〜３参照。）。

しかしながら、当該アクリル樹脂フィルムは、たしかに耐水性に優れるが、セルロースエステルフィルムに比較して、ポリビニルアルコール系樹脂である偏光子との接着性に劣るため、接着性を向上する観点から易接着層等が余分に必要となるし、当該アクリル樹脂フィルムは耐熱性に劣ることがあり、上記易接着層や視認側の偏光板保護フィルムに塗設されるハードコート層等の機能性層を塗布した後の加熱処理によって、フィルムの熱収縮が生じ、フィルム表面にシワ等が発生する現象（本願では、熱収縮ばらつきという。）がみられるという問題があった。

加えて、前記アクリル樹脂フィルムは脆性が悪く、偏光板加工時の取り扱い時に偏光板の割れ等が生じやすいという問題があり、偏光板保護フィルムとしては高い強靱性を有することが望ましい。

したがって、偏光板保護フィルムには高い耐水性を有して液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ高い耐熱性及び強靱性を有して機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルムが求められている。

特開２０１２−１８０４２２号公報 特許第４８２５４０９号公報 特開２０１０−２７１６９０号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルム、その製造方法、当該偏光板保護フィルムを具備した偏光板及び液晶表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体とラクトン環構造を有する共重合体とを特定の比率で含有する偏光板保護フィルムによって、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルムが得られることを見出した。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することを特徴とする偏光板保護フィルム。

２．前記芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）が、芳香族ビニルモノマー単位を６５〜８５質量％の範囲内と不飽和ニトリルモノマー単位を１５〜３５質量％の範囲内の比率で含有することを特徴とする第１項に記載の偏光板保護フィルム。

３．前記芳香族ビニルモノマーがスチレンであり、また前記不飽和ニトリルモノマーがアクリロニトリルであることを特徴とする第１項又は第２項に記載の偏光板保護フィルム。

４．前記共重合体（Ａ）が含有する芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーの未反応モノマーが、それぞれ当該共重合体（Ａ）の全質量に対して０．１質量％以下であるであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

５．さらに、炭素数８〜２２の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有する酸、アルコール、金属塩、非イオン性界面活性剤又は非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤の少なくとも１種を、前記共重合体（Ａ）及び（Ｂ）全体の質量に対して０．１〜１．０質量％の範囲内で含有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

６．さらに、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート系化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

７．さらに、フィルムの少なくとも一方の面上に機能性層を有することを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

８．ヘイズが１．０％以下であり、かつイエローインデックス（ＹＩ）が１．０以下であることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

９．第１項から第８項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムを製造する偏光板保護フィルムの製造方法であって、前記偏光板保護フィルムを溶液流延法によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。

１０．第１項から第８項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと偏光子とを、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼合したことを特徴とする偏光板。

１１．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと偏光子を挟んで反対側の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする第１０項に記載の偏光板。

１２．前記偏光子の両面に用いる接着剤が同１種類の接着剤であることを特徴とする第１０項又は第１１項に記載の偏光板。

１３．第１項から第８項までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムを、視認側偏光板の視認側及びバックライト側偏光板のバックライト側に配置することを特徴とする液晶表示装置。

本発明の上記手段により、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルム、その製造方法、当該偏光板保護フィルムを具備した偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

本発明の偏光板保護フィルムが、強靱性に優れ、機能性層を塗布した後の加熱によっても熱収縮ばらつきが小さい理由としては、本発明に係る共重合体（Ａ）を構成する不飽和ニトリルモノマーは、ＣＮ基同士の相互作用が強いためフィルムの強靭性が増す効果があり、かつラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）はポリマー主鎖中に環構造をもつことで耐熱性が向上する効果があるため、それらを含有する共重合体の組成比を特定の範囲にすることで、強靭性と熱収縮ばらつきを小さくすることができるものと推察される。

また、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）については、前記共重合体（Ａ）を構成するスチレン等の芳香族ビニルモノマーが疎水性のため、耐水性が向上し湿熱下での水分によるフィルムの寸法変化が小さくなるため、パネルの反りが起こりにくくなり表示ムラ（ベンドムラ）を改善するものと推察される。

本発明の偏光板保護フィルムの製造に適用可能な溶液流延製膜工程フローの一例を示す模式図 本発明の偏光板の構成の一例を示す模式図 本発明の液晶表示装置の構成の一例を示す断面図

本発明の偏光板保護フィルムは、熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項１３までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体が、芳香族ビニルモノマー単位を６５〜８５質量％の範囲内と不飽和ニトリルモノマー単位を１５〜３５質量％の範囲内の比率で含有することが、高い耐水性及び強靱性を有して液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ塗布後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルムを得る観点から、好ましい。

さらに、前記芳香族ビニルモノマーがスチレンであり、また前記不飽和ニトリルモノマーがアクリロニトリルであることが、上記本発明の効果に加えて、ラクトン環含有共重合体との相溶性を得られることから、好ましい。

また、前記共重合体（Ａ）が含有する芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーの未反応モノマーが、それぞれ当該共重合体（Ａ）の全質量に対して０．１質量％以下であることが、ドープの粘度の低下を防いだり、フィルムの靭性の劣化を防ぐ観点から、好ましい。

さらに、偏光板保護フィルムを製膜する際にドープを金属支持体から剥離しやすくし、ヘイズの上昇や横段の発生を抑制するため、炭素数８〜２２の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有する酸、アルコール、金属塩、非イオン性界面活性剤又は非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤の少なくとも１種を、前記共重合体（Ａ）及び（Ｂ）の全質量に対して０．１〜１．０質量％の範囲内で含有することが、好ましい。

さらに、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート系化合物の少なくとも１種を含有することが、耐脆性及び強靱性に優れるフィルムを得ることから、好ましい。

さらに、本発明の偏光板保護フィルムは、塗布後の熱収縮ばらつきが小さいため、フィルムの少なくとも一方の面上に機能性層を有することが、好ましい実施態様である。

また、本発明の偏光板保護フィルムは、ヘイズが１％以下であり、かつイエローインデックス（ＹＩ）が１．０以下であることが、透明性を要求される光学フィルム用途として、好ましい特性である。

本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、溶液流延法によって製膜することが、ヘイズ及びイエローインデックス（ＹＩ）を低減し、光学フィルム用途として優れた物理特性及び光学特性を付与できるため、好ましい製造方法である。

本発明の偏光板は、前記偏光板保護フィルムと偏光子とを、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼合した偏光板であることが、好ましい。

また、本発明の偏光板保護フィルムと偏光子を挟んで反対側の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルフィルムであることが、取り扱い性、リワーク性や視認性等の光学特性に優れた偏光板を提供することから、好ましい態様である。

さらに、前記偏光子の両面に用いる接着剤が同１種類の接着剤であることが、貼合工程を簡素化しコスト上有利である。

本発明の偏光板保護フィルムは、液晶表示装置の視認側偏光板の視認側及びバックライト側偏光板のバックライト側に配置することが、高い耐水性によって液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）を抑制する観点から好ましい配置である。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

≪本発明の偏光板保護フィルムの概要≫
本発明の偏光板保護フィルムは、熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することを特徴とし、かかる構成によって、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（以下、単にベンドムラと記載する場合がある。）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できる偏光板保護フィルムを得ることができる。

本発明の偏光板保護フィルムは、前記共重合体（Ａ）と前記共重合体（Ｂ）とを、フィルムに用いられる熱可塑性樹脂の主成分として含有することが本発明の課題を達成する上で必要である。ここでいう「主成分」とは、偏光板保護フィルムを構成する熱可塑性樹脂の６０質量％以上が前記共重合体（Ａ）及び前記共重合体（Ｂ）の合計量であることをいい、好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、特に好ましくは９５質量％以上である。

また、本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、溶液流延法によって製造することが、ヘイズや着色（イエローインデックス；ＹＩ）を低減できることから、好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、液晶表示装置の視認側偏光板の視認側及びバックライト側偏光板のバックライト側に配置することが、偏光板に高い耐水性を与えてバックライトの熱による収縮を抑え、液晶表示装置のベンドムラの発生を抑制する観点から好ましい。また、液晶表示装置のセル側には位相差フィルムとしてセルロースエステルフィルムを用いることが、取り扱い性、リワーク性及び光学特性の観点から好ましい。したがって、本発明の偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムとセルロースエステル系位相差フィルムとで偏光子を挟持する構成であることが、ベンドムラを抑制し、かつ優れた視認性を液晶表示装置に与えることができ、好ましい態様である。

本発明の偏光板保護フィルムは、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて偏光子と貼合することが好ましく、その場合は、偏光子に用いる両面の接着剤が同１種類の接着剤であることが貼合工程が煩雑にならず、またコスト上も有利であり好ましい。

≪本発明の偏光板保護フィルムの構成≫
本発明の偏光板保護フィルムは、熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することが特徴である。

なお、共重合体を構成するモノマーのことを「〜単位」ともいう。

＜芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）＞
〔芳香族ビニルモノマー；成分（ａ）〕
芳香族ビニルモノマーは、共重合体（Ａ）の耐水性を高める機能を有している。芳香族ビニルモノマーは、スチレン系化合物であることが好ましい。スチレン系化合物の具体例には、スチレン；α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン類；４−クロロスチレン、４−ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレン類；ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メチル−４−ヒドロキシスチレン、３，４−ジヒドロキシスチレンなどのヒドロキシスチレン類；ビニルベンジルアルコール類；ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンなどのアルコキシ置換スチレン類；３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などのビニル安息香酸類；４−ビニルベンジルアセテート；４−アセトキシスチレン；２−ブチルアミドスチレン、４−メチルアミドスチレン、ｐ−スルホンアミドスチレンなどのアミドスチレン類；３−アミノスチレン、４−アミノスチレン、２−イソプロペニルアニリン、ビニルベンジルジメチルアミンなどのアミノスチレン類；３−ニトロスチレン、４−ニトロスチレンなどのニトロスチレン類；３−シアノスチレン、４−シアノスチレンなどのシアノスチレン類；ビニルフェニルアセトニトリル；フェニルスチレンなどのアリールスチレン類、インデン類などが含まれる。

中でも、他のスチレン系樹脂や（メタ）アクリル樹脂と良好に相溶しうることなどから、スチレンやα−メチルスチレンが好ましく、スチレンが特に好ましい。これら芳香族ビニルモノマーは、１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。

〔不飽和ニトリルモノマー；成分（ｂ）〕
不飽和ニトリルモノマーの具体例としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、フマロニトリル等のシアン化ビニル化合物が挙げられ、中でもアクリロニトリルが好ましい。アクリロニトリルモノマーはＣＮ基の相互作用が強いため、フィルムに靱性が付与される。

不飽和ニトリルモノマーは、１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。

〔他のモノマー；成分（ｃ）〕
また、本発明に係るス共重合体（Ａ）は、成分（ａ）及び／又は成分（ｂ）と共重合可能な他のモノマーを含んでも良い。そのような共重合可能なモノマー（ｃ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；アクリル酸、メタクリル酸などの（メタ）アクリル酸；無水マレイン酸等のΑ、Β―不飽和カルボン酸；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド；グリシジルメタクリレート等のグリシジル基含有モノマーが挙げられる。これらの中でも、メチルアクリレートのようなアルキル（メタ）アクリレート等が好ましい。他のモノマー（ｃ）は１種類で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。

〔共重合体（Ａ）を構成するモノマー単位比率〕
本発明に係る共重合体（Ａ）は、芳香族ビニルモノマー単位を６５〜８５質量％の範囲内、不飽和ニトリルモノマー単位を１５〜３５質量％の範囲内の比率で共重合することがラクトン環構造を有する含有共重合体（Ｂ）との相溶性の点で好ましい。また、その他のモノマー単位を使用する場合は、０〜３０質量％の範囲内の比率で共重合されていることが、好ましい。

耐水性と靱性の観点から、より好ましくは、芳香族ビニルモノマー単位を６５〜８０質量％の範囲内、不飽和ニトリルモノマー単位を２０〜３５質量％の範囲内、及びその他のモノマー単位を０〜１５質量％の範囲内で用いることである。

芳香族ビニルモノマー単位が６５〜８５質量％の範囲内であれば、偏光板保護フィルムに高い耐水性を付与でき、不飽和ニトリルモノマー単位が１５〜３５質量％の範囲内であれば、フィルムの靱性に優れる。

〔共重合体（Ａ）の合成〕
本発明に係る共重合体（Ａ）を得る方法としては、例えば、完全撹拌混合槽に、モノマー、開始剤、溶媒等を連続的にフィードし、連続的に反応槽から抜き出し、熱時、脱揮系で揮発分を除去する方法が挙げられる。脱揮系でのポリマー滞留は極力少なくすることが好ましい。

例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体の製造は、一般的に乳化重合方法、懸濁重合方法及び塊状重合方法が用いられている中で、組成分布を狭くする方法としては、塊状重合における完全混合型反応機が用いる製造方法等が挙げられる。

ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では３０〜１００℃の温度範囲で、塊状又は溶液重合では８０〜１６０℃の温度範囲で実施することができる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。

例えば、重合は完全混合型反応機を用いて、かつ気層部の存在がない満液状態で重合し、重合後の未反応単量体は、速やかに除去することが好ましい。未反応モノマーの除去としては、１段又は多段の減圧装置等で行うことができる。

本発明では、前記共重合体（Ａ）が含有する芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーの未反応モノマーが、それぞれ当該共重合体（Ａ）の全質量に対して０．１質量％以下であることが、ドープの粘度の低下を防いだり、フィルムの靭性の劣化を防ぐ観点から、好ましい。

未反応モノマー比率は、共重合体（Ａ）の構成比率によって値は変わるが、例えば未反応アクリロニトリル単位は、０．００１〜０．００５％の範囲内であることが好ましく、未反応スチレン単位は０．０５〜０．1％の範囲内であれば、上記効果を発現することができ好ましい。

未反応モノマーの含有量の制御は、重合反応器での重合温度や重合時間、加熱器での加熱温度、脱揮押出機での溶融温度、脱揮押出機のベントからの（未反応モノマーを含む）揮発成分の排気量などによって調整できる。未反応モノマーの含有量を少なくするには、例えば重合反応器での重合時間を長くしたり、脱揮押出機のベントからの揮発成分の排気量を多くしたりすることが好ましい。

未反応モノマーの含有量は、以下の方法によって測定することができる。

〈未反応モノマー含有量の測定法〉
本発明に係る共重合体に含まれる未反応モノマーの含有量は、以下の方法で測定できる。

１）共重合体試料０．１ｇを、２ｍｌのアセトンに溶解させて超音波処理を３０分間行う。この溶液に、内部標準成分としてエチレングリコールモノメチルエーテルを５０ｐｐｍ添加した後、ヘキサンで１０ｍｌとなるまでメスアップして、サンプル溶液とする。

２）サンプル溶液に含まれる、共重合体全質量に対する未反応モノマーの含有量（質量％）を、ＧＣ／ＭＳにより測定する。ＧＣ／ＭＳの測定装置と測定条件は、以下の通りである。

機器：ＨＰ ６８９０ＧＣ／ＨＰ５９７３ＭＳＤ（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ社製）
カラム：Ｊ＆Ｗ社製 ＤＢ−６２４（０．２５ｍｍｉ．ｄ．×３０ｍｌ）
オーブンプログラム：４０℃（３ｍｉｎ）−２０℃／ｍｉｎ−２３０℃（８ｍｉｎ）
Ｉｎｊ：１６０℃
ＡＵＸ：２５０℃
本発明に係る共重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、スチレン換算分子量で１５万〜２５万の範囲が好ましい。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（東ソー社製 ＨＬＣ８２２０ＧＰＣ）、カラム（東ソー社製 ＴＳＫ−ＧＥＬ Ｇ６０００ＨＸＬ−Ｇ５０００ＨＸＬ−Ｇ５０００ＨＸＬ−Ｇ４０００ＨＸＬ−Ｇ３０００ＨＸＬ 直列）を用いて測定する。試料 ２０ｍｇ±０．５ｍｇをテトラヒドロフラン １０ｍｌに溶解し、０．４５ｍｍのフィルターで濾過した。この溶液をカラム温度４０℃に１００ｍｌ注入し、検出器ＲＩ温度 ４０℃で測定しスチレン換算した値を用いる。

＜ラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）＞
本発明の偏光板保護フィルムは、高耐熱性、高透明性等の観点から、構造中にラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）を含有することが必要である。

ラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）としては、例えば、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、及び特開２００５−１４６０８４号公報等に記載のラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体が挙げられる。

本発明において、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体としては、特に、下記一般式（１）で表される環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体が好ましい。

上記一般式（１）において、Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数が１〜２０の有機残基を示す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。

なお、上記一般式（１）における有機残基は、炭素数が１〜２０の範囲内であれば特には限定されないが、例えば、直鎖若しくは分岐状のアルキル基、直鎖若しくは分岐状のアルキレン基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基等が挙げられる。

具体的には、Ｒ_１で表される有機残基として、例えば、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アリール基等が挙げられる。Ｒ_２は水素原子が好ましい。

Ｒ_２で表される有機残基として、例えば、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８のヒドロキシアルキル基、−（ＣＨ_２）ｍＮＲ_１１Ｒ_１２、−（ＣＨ_２）ｍＮ（Ｒ_１１Ｒ_１２Ｒ_１３）^＋・Ｍ⁻、又は−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｐＲ_１４等が挙げられる。ここで、Ｒ_１１、Ｒ_１２及びＲ_１３は同一でも異なっていてもよく、各々、炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ_１４は炭素数１〜１８のアルキル基であり、ｍ＝２〜５、ｐ＝１〜８０であり、Ｍ⁻はＣｌ⁻、Ｂｒ⁻、ＳＯ_４ ^２−、ＰＯ_４ ^３−、ＣＨ_３ＣＯＯ⁻又はＨＣＯＯ⁻である。Ｒ_２は水素原子、又は炭素数１〜１８のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基がより好ましい。

Ｒ_３で表される有機残基として、例えば、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。Ｒ_３は水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、又は炭素数１〜８のヒドロキシアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基、又は２−ヒドロキシエチル基がより好ましい。

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体の構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％の範囲内、より好ましくは１０〜７０質量％の範囲内、さらに好ましくは１０〜６０質量％の範囲内、特に好ましくは１０〜５０質量％の範囲内である。ラクトン環構造を有する共重合体の構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％以上であれば、十分な耐熱性、耐溶剤性、表面硬度を得ることができる。ラクトン環構造を有する共重合体の構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が９０質量％以下であれば、良好な製膜性を得ることができる。なお、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体中におけるラクトン環構造の割合は、特開２００６−１７１４６４号公報に開示されているダイナミックＴＧ（ＤＴＧ）法により定量することができる。

ラクトン環含有（メタ）アクリル系共重合体は、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有モノマー、不飽和カルボン酸、及びビニル基を有するモノマー等によって調製される。

ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有モノマーを重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。不飽和カルボン酸を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。ビニル基を有するモノマーを重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得た後に、得られた重合体を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。

ラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）に用いられるモノマーである（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。

また、共重合するヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ノルマルブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ターシャリーブチル、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などが挙げられる。これらの中でも、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性向上効果が高い点で、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。これらは１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
ビニル基を有するモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、アクリロイルモルホリン、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニ、Ｎ−ビニルピロリドンルなどをモノマーとして用いることができ、これらは１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。

上記一般式（１）で表される環状構造単位は、例えば、米国特許第２１４６２０９号に記載されているように、メタクリル酸メチルのような（メタ）アクリル酸メチル単位を主構成単位として含む重合体を第一級アミンと反応（イミド化反応）させる方法や、米国特許第４２４６３７４号に記載されているように、押出機を使用して、メタクリル酸メチルのような（メタ）アクリル酸メチル単位を主構成単位として含む重合体と、アンモニア又は第一級アミンと反応（イミド化反応）させることにより導入することができる。また、特許第４３１５８９８号公報や特許第４９６３９２０号公報等に開示されている方法を参照することができる。

重合温度、重合時間は、使用するモノマーの種類、使用比率等によって異なるが、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃の範囲内、重合時間が０．５〜２０時間の範囲内であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃の範囲内、重合時間が１〜１０時間の範囲内である。

溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられ、これらの１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、使用する溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるアクリル系重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。

重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシイソノナノエート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；等が挙げられ、これらは１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いるモノマーの組み合わせや反応条件等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。

重合体へラクトン環構造を導入するための反応は、上記重合体を加熱することにより、重合体の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基が環化縮合してラクトン環構造を生じる反応である。

重合体を加熱処理する方法については特に限定されず、公知の方法が利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。また、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。また、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を持つ加熱炉や反応装置、脱揮装置のある押出機等を用いて加熱処理を行うこともできる。

前記脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、１５０〜３５０℃の範囲が好ましく、２００〜３００℃の範囲がより好ましい。反応処理温度が１５０℃より高いと、環化縮合反応が十分となって残存揮発分が少ない。３５０℃より低いと、着色や分解が起こらない。

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体の重量平均分子量は、好ましくは１０００〜２００万の範囲内、より好ましくは５０００〜１００万の範囲内、さらに好ましくは１００００〜５０万の範囲内、特に好ましくは５万〜５０万の範囲内である。重量平均分子量が上記範囲内であれば、成型加工性の点から好ましい。重量平均分子量は、前記ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣシステム，東ソー製）により、テトラヒドロフランを溶剤として用いて、ポリスチレン換算により求めることができる。

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系共重合体は、Ｔｇ（ガラス転移温度）が好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。Ｔｇを上記範囲とすることは、高温環境下においても、寸法変化や光学特性変化の小さい偏光板を得る観点から好ましい。上記ラクトン環構造を有する共重合体のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性などの観点から、好ましくは１７０℃以下である。

＜その他の樹脂＞
本発明に係る共重合体（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他の樹脂を併用することができる。その他の樹脂としては、他のスチレン系樹脂や（メタ）アクリル樹脂を好ましく用いることができる。

他のスチレン系樹脂は、スチレン系モノマーと、不飽和カルボン酸モノマー及び／又は不飽和ジカルボン酸無水物モノマーに、他のモノマー成分を共重合したものでもよい。共重合可能な他のモノマーとしては、メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルフェニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド単量体；１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等の共役ジエンなどが挙げられ、これらの２種以上を共重合してもよい。

（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を含む。（メタ）アクリル酸エステルの例には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレートなどの炭素原子数４〜１８のアクリル酸アルキルエステルや；メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレートなどの炭素原子数５〜１８のメタクリル酸アルキルエステルが含まれる。なかでも、重合しやすいことなどから、好ましくはメチルメタクリレートである。他のモノマーは、１種類で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

（メタ）アクリル樹脂は、必要に応じて他のモノマー由来の構造単位をさらに含んでいてもよい。他のモノマーの例には、アクリル酸、メタクリル酸などのα，β−不飽和酸；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、グルタル酸無水物、シトラコン酸無水物、アコニット酸無水物などの環状酸無水物単量体；酢酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピオビニルエーテルなどのビニルエーテル化合物；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−メチルマレイミドのようなＮ−置換マレイミド系単量体などが含まれる。他のモノマーは、１種類で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

上記樹脂の重量平均分子量は、得られるフィルムの脆性をより改善するためには、１０万以上、好ましくは１５万以上、さらに好ましくは２０万〜１５０万の範囲内であることが好ましい。当該樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、前述と同様にして測定される。

＜共重合体（Ａ）及び（Ｂ）の混合比率＞
本発明の偏光板保護フィルムは、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することが特徴である。

共重合体（Ａ）の含有質量比率が９５を超えると、偏光板保護フィルムの耐熱性が劣り、共重合体（Ａ）の含有質量比率が５０未満では、耐水性及び靱性が劣る。したがって、本発明の効果を発現する上で、上記範囲内であることが必要である。

好ましくは、Ａ：Ｂ＝９０：１０〜５５：４５の範囲内であり、さらに好ましくは、８０：２０〜６０：４０の範囲内である。

＜添加剤＞
本発明の偏光板保護フィルムは、必要に応じて剥離助剤、耐電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑り性を付与するための微粒子（マット剤）、靱性を高めるための衝撃補強材などの各種添加剤をさらに含むことができる。

（剥離助剤、帯電防止剤）
本発明に係る芳香族ビニル系樹脂を含む膜状物は、金属支持体との密着性が高いことから、金属支持体から剥離しやすくし、剥離時の伸びを抑制して得られるフィルムの厚さ均一にするために、剥離助剤又は帯電防止剤を含有させることが好ましい。

剥離助剤は、炭素数８〜２２の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有する酸、アルコール、金属塩、非イオン性界面活性剤又は非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤の少なくとも１種であることが好ましく、それらを本発明に係る前記共重合体（Ａ）及び（Ｂ）全体の質量に対して０．１〜１．０質量％の範囲内で含有することで前記剥離性を高めることができる。

前記化合物としては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、等が挙げられる。また、塩の種類としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アミン塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。

具体例としては、デシルスルホン酸ナトリウム、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、デシルベンゼンスルホン酸カリウム、ドデシルスルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸カリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸カリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルアンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム、テトラデシルスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸カリウム、ヘキサデシルスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸カリウム等が挙げられる。

また、これらの市販品としては、クラリアントジャパン（株）製ホスタスタットＨＳ−１、竹本油脂（株）製エレカットＳ−４１２−２、エレカットＳ−４１８、花王（株）製ネオペレックスＧ６５等が挙げられる。

上記アルコールの例としては、オクタン−１−オール、ノナン−１−オール 、デカン−１−オール、ウンデカン−１−オール、ドデカン−１−オール、トリデカン−１−オール、テトラデカン−１−オール、ペンタデカン−１−オール、ヘキサデカン−１−オール、ヘプタデカン−１−オール、オクタデカン−１−オール、ノナデカン−１−オール 、イコサン−１−オール、ヘネイコサン−１−オール 、及びドコサン−１−オール等が挙げられ、オクタデカン−１−オール（ステアリルアルコール）が好ましい。

また、剥離助剤として非イオン性界面活性剤を用いることも有用であり、例えば、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルなどのポリオキシアルキレンスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル及びポリオキシエチレンラウリルエーテルなどのポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシエチレンソルビタンモノココエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート及びポリオキシエチレン硬化ひまし油などのポリオキシアルキレン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤が挙げられ、これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。またこれらの市販品としては、第一工業製薬（株）製エパン、花王（株）製エレクトロストリッパー等が挙げられる。

さらに、剥離助剤として非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤を用いることも好ましく、中でもメチル基を２個以下有する非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤が有用である。当該界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、メチル基を１個有する非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤としては、塩化ポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウム塩、メチルジエチル（２−メトキシエチル）アンモニウムクロライド、オクチルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ラウリルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ポリオキシエチレンドデシルモノメチルアンモニウムクロライドなどが挙げられ、メチル基を２個有する非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤としては、肪族アルキル４級アンモニウム塩が挙げられ、例えば、オクチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ラウリルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、パルミチルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ジデシルジメチルアンモニウムクロリド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ステアリルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライド、エチルジメチル（２−メトキシエチル）アンモニウムクロライドなどが好適に用いられる。中でも特に、前記界面活性剤が、アルキレンオキシド（ＡＯ）基を含有することが好ましい。前記アルキレンオキシド基は、前記界面活性剤のアニオン成分とカチオン成分の両方、若しくはいずれか一方に含まれているものを使用することができる。前記アルキレンオキシド（ＡＯ）基を含有するものとしては、例えば、塩化ポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウム塩、メチルジエチル（2-メトキシエチル）アンモニウムクロライド、オクチルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ラウリルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ポリオキシエチレンドデシルモノメチルアンモニウムクロライド、エチルジメチル（２−メトキシエチル）アンモニウムクロライドを用いることも、より好ましい態様である。なお、これらの前記界面活性剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

これら非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤としては、市販品を使用することができ、例えば、商品名「アデカコールＣＣ−３６」（メチル基数：１個、（株）ＡＤＥＫＡ製）、「アデカコールＣＣ−４２」（メチル基数：１個、（株）ＡＤＥＫＡ製）、商品名「カチオンＬ−２０７」（メチル基数：１個、日本油脂（株）製）、商品名「カチオーゲンＥＳ−Ｌ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＥＳ−Ｏ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＥＳ−ＯＷ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＥＳ−ＷＳ−Ｌ−９」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＥＳ−Ｐ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＤＤＭ−ＰＧ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＳ」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＤ２」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）、商品名「カチオーゲンＢＣ−５０」（メチル基数：２個、第一工業製薬（株）製）などを用いることも可能である。

（酸化防止剤）
本発明では、酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系の各化合物を好ましく用いることができる。

例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ４０、Ｉｒｇａｆｏｓ ＸＰ６０」等が挙げられる。

上記フェノール系化合物としては、２，６−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６」、「Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０」、（株）ＡＤＥＫＡから市販されている「アデカスタブ ＡＯ−５０」等を挙げることができる。

上記リン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ」、「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６」及び「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０」、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から市販されている「ＧＳＹ−Ｐ１０１」を挙げることができる。

上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４」及び「Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２」を挙げることができる。

上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ」を挙げることができる。

上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ」という商品名で市販されている。

（紫外線吸収剤）
本発明に係る偏光板保護フィルムは、紫外線吸収剤を含有することが好ましく、適用可能な紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系、トリアジン系等の紫外線吸収剤が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。

これら紫外線吸収剤は、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビンシリーズ、あるいは２，２′−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては、株式会社ＡＤＥＫＡ製のＬＡ３１）を好ましく使用できる。

（マット剤）
本発明では、偏光板保護フィルムに滑り性を付与するため、マット剤を添加することが好ましい。

本発明で用いられるマット剤としては、得られるフィルムの透明性を損なうことがなく、製膜工程においての耐熱性があれば無機化合物又は有機化合物どちらでもよい。これらのマット剤は、単独でも２種以上併用しても使用できる。

粒径や形状（例えば針状と球状など）の異なる粒子を併用することで高度に透明性と滑り性を両立させることもできる。

これらの中でも、透明性（ヘイズ）に優れるという観点から、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。

二酸化ケイ素の具体例としては、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上、日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥＰ−１０、シーホスターＫＥＰ−３０、シーホスターＫＥＰ−５０（以上、株式会社日本触媒製）、サイロホービック１００（富士シリシア製）、ニップシールＥ２２０Ａ（日本シリカ工業製）、アドマファインＳＯ（アドマテックス製）等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。

マット剤粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いると、得られるフィルムの透明性が良好にできるので好ましい。

マット剤粒子の大きさは、その粒径が可視光の波長に近いと、光が散乱して透明性が低下するので、可視光の波長より小さいことが好ましく、更に可視光の波長の１／２以下であることが好ましい。ただし、マット剤粒子の大きさが小さすぎると、滑り性の改善効果が発現しない場合があるので、８０〜１８０ｎｍの範囲内の粒子径であることが特に好ましい。

なお、粒子の大きさとは、粒子が一次粒子の凝集体の場合は凝集体の大きさを意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。

（衝撃補強材）
本発明に係る偏光板保護フィルムには、耐衝撃性を高めるために、衝撃補強材として、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート化合物の少なくとも１種を含有することが好ましい。

特に、特開２００９−８４５７４号公報に記載の（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたコア・シェルタイプのグラフト共重合体や、国際公開第２００９／０４７９２４号に記載されているコア・シェルタイプのアクリル微粒子、また特開２０１３−８３９０７号公報に記載のスチレン−ブタジエン系の弾性有機微粒子などの衝撃補強材を含有することが好ましい。

例えば、前記コア・シェルタイプのアクリル微粒子は、メチルメタクリレート８０〜９８．９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％及び多官能性グラフト剤０．０１〜０．３質量％の混合物を重合して得られる最内硬質層と、アルキルアクリレート７５〜９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１〜５質量％、及び多官能性グラフト剤０．５〜５質量％の混合物を重合して得られる軟質層と、メチルメタクリレート８０〜９９質量％、アルキルアクリレート１〜２０質量％の混合物を重合して得られる最外硬質層とを有する微粒子が挙げられる。

また、スチレン−共役ジエン系化合物としては、スチレン−ブタジエン系共重合体であることが好ましい。当該共重合体はゴム状弾性体であっても、また弾性有機微粒子であってもよく、具体的には、コア・シェルタイプの弾性有機微粒子であることが好ましい。コア部が、軟質重合体で構成され；コア部の周囲を覆うシェル部が、本発明に係る共重合体やその他の樹脂との相溶性が高い他の重合体で構成されることが好ましい。

前記軟質重合体は、共役ジエン単量体由来の構造単位と、必要に応じて他の単量体由来の構造単位とを含む。共役ジエン単量体の例には、１，３−ブタジエン（以下、単に「ブタジエン」と称することもある）、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、ミルセンなどが含まれ、好ましくはブタジエン、イソプレンである。他の単量体の例には、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン成分が含まれる。軟質重合体における共役ジエン単量体由来の構造単位の含有割合は、通常、５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。

他の重合体の例には、アクリロニトリルとスチレンの共重合体や、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステルを主成分とする重合体などが含まれる。

前記弾性有機微粒子の体積平均粒子径は０．３５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．３５μｍであり、さらに好ましくは０．０５〜０．３０μｍである。粒子径が一定以上であれば、フィルムに十分な衝撃吸収性を付与でき；粒子径を一定以下であれば、得られるフィルムの透明性を損ないにくい。

市販品としては、例えば、メタブレンＣ−１４０Ａ、Ｃ−２１５Ａ（以上、三菱レイヨン（株）製）、タフプレン１２６、アサフレックス８００、アサフレックス８２５（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、ＴＲ２０００ 、ＴＲ２２５０（以上、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

他のゴム状弾性体としては、アクリル酸エステル系ゴム状重合体が挙げられ、ブチルアクリレートを主成分としたアクリル酸エステル系重合体を主成分とするゴム状重合体が好ましい。

ブチルアクリレートを用いたゴム状弾性体は、弾性体粒子であってもよく、２種の重合体が層状になったものであってもよい。その代表例としては、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレートとスチレンのグラフト化ゴム弾性成分と、ポリメチルメタクリレート及び／又はメチルメタクリレートとアルキルアクリレートの共重合体からなる硬質樹脂層とがコア・シェル構造で層を形成している弾性体粒子が挙げられる。

衝撃補強材の含有量は、本発明に係る共重合体やその他の樹脂との合計量に対して０．１〜１０質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることがより好ましい。

また、本発明に用いる衝撃補強材がアクリル微粒子であるときは、本発明に用いるスチレン−アクリロニトリル系共重合体と屈折率が等しいか、あるいは屈折率の差が±０．０１以下であることが、フィルムの透明性を維持することができる観点から好ましい。

≪偏光板保護フィルムの製造方法≫
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から、製膜方法は溶液流延製膜法と溶融流延製膜法が選択でき、特に溶液流延製膜法であることが、樹脂の分布状態を制御してパネルベンドを抑制する効果に加えて、均一で平滑な表面を得ることができ、さらにヘイズ及びイエローインデックス（ＹＩ）を低減する観点から好ましい。

＜溶液流延法＞
以下、本発明の偏光板保護フィルムを溶液流延法で製造する製造例について説明する。

本発明の偏光板保護フィルムの製造は、少なくとも本発明に係る共重合体、その他の樹脂及び添加剤等の化合物を溶媒に溶解させてドープを調製し、濾過する工程、調製したドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延しウェブを形成する工程、形成したウェブを金属支持体から剥離してフィルムとする工程、前記フィルムを延伸、乾燥する工程、及び乾燥させたフィルムを冷却後ロール状に巻取る工程により行われる。

以下、各工程について説明する。

（１）溶解工程
樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該樹脂、場合によって、その他の化合物を撹拌しながら溶解しドープを形成する工程、あるいは当該樹脂溶液に、前記その他の化合物溶液を混合して主溶解液であるドープを形成する工程である。

本発明の偏光板保護フィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、樹脂及びその他の化合物を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、例えば主たる溶媒として、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することができ、塩化メチレン又は酢酸エチルであることが特に好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の範囲で炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは非塩素系有機溶媒系での樹脂及びその他の化合物の溶解を促進する役割もある。本発明の偏光板保護フィルムの製膜においては、得られる偏光板保護フィルムの平面性を高める点から、アルコール濃度が０．５〜１５．０質量％の範囲内にあるドープを用いて製膜する方法を適用することができる。

特に、塩化メチレン及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、樹脂及びその他の化合物を、計１５〜４５質量％の範囲で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からメタノール及びエタノールが好ましい。

樹脂又はその他の化合物の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、又は特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。

ドープ中の樹脂の濃度は、１０〜４０質量％の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。

ドープの濾過については、好ましくはリーフディスクフィルターを具備する主濾過器３で、ドープを例えば９０％捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の１０〜１００倍の濾材で濾過することが好ましい。

本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。

このため、本発明において、ドープに使用する濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲が、より好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材がさらに好ましい。

濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

本発明において、濾過の際のドープの流量が、１０〜８０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）、好ましくは２０〜６０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）であることが好ましい。ここで、濾過の際のドープの流量が、１０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）以上であれば、効率的な生産性となり、濾過の際のドープの流量が、８０ｋｇ／（ｈ・ｍ^２）以内であれば、濾材にかかる圧力が適正となり、濾材を破損させることがなく、好ましい。

濾圧は、３５００ｋＰａ以下であることが好ましく、３０００ｋＰａ以下であることがより好ましく、２５００ｋＰａ以下であることがさらに好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。

図１は、本発明の偏光板保護フィルムの製造に適用可能な溶液流延製膜工程フローの一例を示す模式図である。

仕込釜４１で調製したドープを濾過器４４で大きな凝集物を除去し、ストック釜４２へ送液する。その後、ストック釜４２より主ドープ溶解釜１へ各種添加液を添加する。

その後、主ドープは主濾過器３にて濾過され、これにマット剤分散液や紫外線吸収剤添加液等が導管１６よりインライン添加される。

多くの場合、主ドープには返材が１０〜５０質量％程度含まれることがある。

返材とは、例えば本発明の偏光板保護フィルムを細かく粉砕した物で、偏光板保護フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでフィルムの規定値を越えた偏光板保護フィルム原反が使用される。

また、ドープ調製に用いられる樹脂の原料としては、あらかじめ樹脂及びその他の化合物などをペレット化したものも、好ましく用いることができる。

（２）流延工程
（２−１）ドープの流延
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイ３０に送液し、無限に移送する無端の金属支持体３１、例えば、ステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍの範囲、好ましくは１．５〜３ｍの範囲、さらに好ましくは２〜２．８ｍの範囲とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶媒が沸騰して発泡しない温度以下、さらに好ましくは−３０〜０℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃の範囲が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。

（３）溶媒蒸発工程
ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブという。）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。

（４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブはフィルムとして次工程に送られる。

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃の範囲であり、さらに好ましくは１１〜３０℃の範囲である。

なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。

ウェブの残留溶媒量は下記式（Ｚ）で定義される。

式（Ｚ）
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

金属支持体とフィルムとを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍの範囲内であるが、剥離の際にシワが入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。

本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃の範囲内とするのが好ましく、１０〜４０℃の範囲内がより好ましく、１５〜３０℃の範囲内とするのが最も好ましい。

（５）乾燥及び延伸工程
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。

〈予備乾燥工程〉
金属支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させる。ウェブの乾燥は、ウェブを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下であって、１００℃以上の温度で１０分〜６０分の範囲内の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は１００〜２００℃の範囲内、更に好ましくは１１０〜１６０℃の範囲内で乾燥が行われる。

〈延伸工程〉
本発明の偏光板保護フィルムは、延伸処理することでフィルム内の分子の配向を制御することができ、平面性を向上したり、強靭性を得たりすることができる。

本発明の偏光板保護フィルムは、長手方向（ＭＤ方向ともいう。）及び／又は幅手方向（ＴＤ方向ともいう。）に延伸することが好ましく、少なくとも長手方向又は幅手方向に延伸倍率として１．０１〜１０倍の範囲内で延伸することが好ましい。

延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・流延方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮する場合も含まれる。

延伸開始時の残留溶媒量は２〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。

当該残留溶媒量は、２質量％以上であれば、膜厚偏差が小さくなり、平面性の観点から好ましく、１０質量％以内であれば、表面の凹凸が減り、平面性が向上し好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるようにＭＤ方向及び／又はＴＤ方向に、好ましくはＴＤ方向に、フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたときに、（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性に優れた偏光板保護フィルムが得られる。延伸温度は、（Ｔｇ＋２０）〜（Ｔｇ＋４０）℃の範囲で行うことが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、ウェブを少なくともＭＤ方向又はＴＤ方向に１．０１〜１０倍の範囲内で延伸することが好ましいが、延伸の範囲は、元幅に対して１．１〜１０倍の範囲であることが好ましく、１．２〜８倍の範囲であることがより好ましい。上記範囲内であればフィルムが強靱となり、フィルムを薄膜化でき、フィルムの平面性を向上することができる。

ＭＤ方向に延伸するために、剥離張力を１３０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは１５０〜１７０Ｎ／ｍである。剥離後のウェブは高残留溶媒状態であるため、剥離張力と同様の張力を維持することで、ＭＤ方向への延伸を行うことができる。ウェブが乾燥し、残留溶媒量が減少するにしたがって、ＭＤ方向への延伸率は低下する。

なお、ＭＤ方向の延伸はローラーの周速差を利用したローラー延伸機を用いることができ、延伸倍率は、ベルト支持体の回転速度とローラー延伸機の運転速度から算出できる。

ＴＤ方向に延伸するには、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。

ＴＤ方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に２５０〜５００％／ｍｉｎの延伸速度で延伸することが、フィルムの平面性を向上する観点から、好ましい。

延伸速度は２５０％／ｍｉｎ以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、５００％／ｍｉｎ以内であれば、フィルムが破断することなく処理することができ、好ましい。

好ましい延伸速度は、３００〜４００％／ｍｉｎの範囲内である。延伸速度は下記式（Ｅ）によって定義されるものである。

式（Ｅ） 延伸速度（％／ｍｉｎ）＝［（ｄ_１／ｄ_２）−１］×１００（％）／ｔ
（式（Ｅ）において、ｄ_１は延伸後の樹脂フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｄ_２は延伸前の樹脂フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｔは延伸に要する時間（ｍｉｎ）である。）
本発明の偏光板保護フィルムの面内リターデーション値Ｒｏ、及び厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた後述する屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出することができる。

本発明の偏光板保護フィルムは、下式（ｉ）により定義されるリターデーション値（Ｒｏ）が０〜７０ｎｍの範囲内にあり、下式（ii）により定義されるリターデーション値（Ｒｔ）が−５０〜１０ｎｍの範囲内にあることが、特にリターデーションを必要としない偏光板保護フィルムとして具備する場合に好ましい。偏光板保護フィルムは、少なくとも前記ＭＤ方向又はＴＤ方向に延伸倍率を調整しながら延伸することもできる。

式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎ_ｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎ_ｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎ_ｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
〈ナーリング加工〉
所定の熱処理又は冷却処理の後、巻取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。

ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーを押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。

本発明の偏光板保護フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍ、幅５〜２０ｍｍが好ましい。

また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻取りの前に設けることが好ましい。

（６）巻取り工程
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。

巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。

＜溶融流延法＞
本発明の偏光板保護フィルムは、溶融流延法によって製膜することもできる。溶融流延法は、本発明に係る共重合体及びその他の化合物を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性の溶融物を流延することをいう。

溶融流延法では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、本発明に係る共重合体やその他の化合物をフィーダーで押出機に供給し一軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。

粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

押出機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、二軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

上記ペレットを一軸や二軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ローラーと弾性タッチローラーでフィルムをニップし、冷却ローラー上で固化させることにより、偏光板保護フィルムを製膜する。

供給ホッパーから押出機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

押出し流量は、ギヤポンプを導入する等して安定に調整することが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。

酸化防止剤や粒子等の添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。

冷却ローラーと弾性タッチローラーで偏光板保護フィルムをニップする際のタッチローラー側の偏光板保護フィルム温度はフィルムのＴｇ以上（Ｔｇ＋１１０℃）以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するローラーは、公知のローラーが使用できる。

弾性タッチローラーは挟圧回転体ともいう。弾性タッチローラーとしては、市販されているものを用いることもできる。

冷却ローラーからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ローラーに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。

延伸する方法は、公知のローラー延伸機やテンター等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲で行われることが好ましい。

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて加熱や加圧をすることにより加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、偏光板保護フィルムが変形しており製品として使用できないので切除され、再利用される。

≪偏光板保護フィルムの物性≫
〈ヘイズ〉
本発明の偏光板保護フィルムは、ヘイズが１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。ヘイズを１．０％以下とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。

ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色工業（株）製）にて測定される。

〈イエローインデックス；ＹＩ〉
本発明の偏光板保護フィルムは、ＹＩが１．０以下であることが好ましく、０．５以下であることがより好ましい。ＹＩを１．０とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。特に本発明の偏光板保護フィルムを溶液流延法で製造することは、ＹＩを低減する観点から好ましい製造方法である。

本発明でいうイエローインデックス（ＹＩ）は、ＪＩＳ規格Ｋ７１０５−６．３に記載の方法で求めることができる。具体的なイエローインデックス値の測定方法としては、日立製作所製の分光光度計Ｕ−３２００と附属の彩度計算プログラム等を用いて、色の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、下式に従ってイエローインデックス値を求める。

イエローインデックス（ＹＩ）＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
〈全光線透過率〉
偏光板保護フィルムの全光線透過率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９３％以上である。全光線透過率は、ＪＩＳ７５７３「プラスチック‐全光線透過率及び全光線反射率の求め方」に従って測定することができる。

〈平衡含水率〉
本発明の偏光板保護フィルムは、２５℃、相対湿度５５％における平衡含水率が３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。平衡含水率を３％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。

〈フィルム長、幅、膜厚〉
本発明の偏光板保護フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の偏光板保護フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．４ｍ以上であり、特に１．４〜４ｍであることが好ましい。

フィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、１０〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、１０〜６０μｍの範囲内であることがより好ましい。膜厚が１０μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が１００μｍ以下であれば、所望の位相差を具備し、かつ偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。ベンドムラと薄膜のバランスを取る上では、好ましくは、２０〜５０μｍの範囲内である。

〈透湿度〉
偏光板保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、３００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、２５０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、１０〜２００ｇ／ｍ^２・ｄａｙの範囲が、ベンドムラを抑制する上で特に好ましい。高温高湿環境下において、透過した水分による偏光子の寸法変化を抑制するためである。透湿度は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に準拠して４０℃９０％ＲＨの条件にて測定される。

偏光板保護フィルムの透湿度は、例えば共重合体における芳香族ビニルモノマー由来の構造単位の含有割合などで調整されうる。透湿度を低くするためには、例えばこれらの重合体中の芳香族ビニルモノマー由来の構造単位の含有割合を多くしたりすればよい。

〈引き裂き強度〉
偏光板保護フィルムの２３℃５５％ＲＨ下における引き裂き強度は、１５ｍＮ以上であることが好ましく、２０ｍＮ以上であることがより好ましく、３０ｍＮ以上であることがさらに好ましい。引き裂き強度の上限は、例えば５０ｍＮ程度である。

偏光板保護フィルムの引き裂き強度は、以下の方法で測定されうる。即ち、偏光板保護フィルムを切り取って、幅５０ｍｍ×長さ６４ｍｍのサンプルフィルムを得る。該サンプルフィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で２４時間調湿した後、ＩＳＯ６３８３／２−１９８３に準拠してエルメンドルフ引き裂き強度を測定する。エルメンドルフ引き裂き強度は、東洋精機（株）Ｆ９経過重差だし引裂き試験機を用いて測定されうる。引き裂き強度は、２３℃５５％ＲＨ下で、フィルムの長さ方向（ＭＤ方向）に引き裂いた場合と、フィルムの幅方向（ＴＤ方向）に引き裂いた場合のそれぞれについて行い、それらの平均値として求められる。

偏光板保護フィルムの引き裂き強度は、例えば共重合体又はその他の樹脂の分子量などで調整されうる。引き裂き強度を大きくするためには、例えば共重合体又はその他の樹脂の分子量を大きくしたりすればよい。

≪機能性層≫
本発明の偏光板保護フィルムには、フィルムの少なくとも一方の面上に機能性層を有することもでき、ハードコート層、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層などの機能性層を設けることが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、靱性が高く、熱収縮ムラが生じにくいため、機能性層を設ける際の加熱処理等に対して優れた耐性を有する。

［ハードコート層］
ハードコート層は、活性線硬化性化合物の硬化物を含有する。活性線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられる。活性線硬化性化合物としては、紫外線硬化性化合物や電子線硬化性化合物が挙げられるが、紫外線照射により硬化する化合物が、機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。

紫外線硬化性化合物としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

ハードコート層は、活性線硬化性化合物と、光重合開始剤とを含有するハードコート層用塗布液を光学フィルム上に塗布した後、活性線照射により硬化させて得ることができる。

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。ハードコート層用塗布液中の光重合開始剤量としては、質量比率で、光重合開始剤：活性線硬化性化合物＝２０：１００〜０．０１：１００の範囲とすることが好ましい。

ハードコート層用塗布液は、必要に応じて、無機微粒子又は有機微粒子をさらに含有することが好ましい。無機微粒子の例には、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムが含まれ、好ましくは酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が用いられる。

有機微粒子の例には、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末等が含まれる。

微粒子の平均粒子径は、特に制限されないが、防眩層を形成することも勘案すると、０．０１〜５μｍの範囲内であることが好ましく、更には、０．０１〜１．０μｍの範囲内であることがより好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。

微粒子の含有割合は、紫外線硬化性化合物１００質量部に対して、１０〜４００質量部の範囲内となるように配合することが望ましく、更に望ましくは、５０〜２００質量部の範囲内である。

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、ハードコート層を形成する塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理することで形成できる。

ハードコート層のドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜３０μｍの範囲内、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは６〜１５μｍの範囲内である。

ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内、好ましくは５〜２００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内である。

［反射防止層］
本発明の偏光板保護フィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層をさらに有してもよい。それにより、本発明の偏光板保護フィルムを、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体（前述の光学フィルム）よりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

偏光板保護フィルム／ハードコート層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層
反射防止フィルムにおいて必須である低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましい。シリカ系微粒子の屈折率は、支持体（前述の光学フィルム）の屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍにおいて１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。

低屈折率層は、低屈折率層用塗布液を塗布及び乾燥後、硬化させて得ることができる。低屈折率層用塗布液は、上記シリカ系微粒子を含み、下記式（Ｓ）で表される有機ケイ素化合物若しくはその加水分解物、あるいはその重縮合物をさらに含有してもよい。

式（Ｓ）：Ｓｉ（ＯＲ）_４
式（Ｓ）で表される有機ケイ素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

低屈折率層用塗布液は、必要に応じて溶剤、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等をさらに含有してもよい。

≪偏光板≫
本発明の偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムが、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、少なくとも偏光子の一方の面に貼合されていることが好ましい。

また、前記偏光子の前記偏光板保護フィルムが貼合されている面とは反対側の面に、セルロースエステル系位相差フィルムが、同様に活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて偏光子と貼合されていることが、取扱い性、リワーク性及び光学特性の観点から好ましく、貼合工程の簡素化の観点からも好ましい。

また、本発明において、外側フィルム（偏光板保護フィルム）を透湿性が低いフィルムとし、内側フィルム（位相差フィルム）をセルロースエステルフィルムとする構成にすると、外部からの水分の影響を少なくすることができ、かつ内部の水分を放出しやすくなって、総合的に偏光板の湿度変動に対する耐久性が向上する。

したがって、本発明の偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムとセルロースエステル系位相差フィルムとで偏光子を挟持する構成であることが、耐久性を向上してベンドムラを抑制し、かつ優れた視認性を液晶表示装置に与える観点から、好ましい態様である。

また、本発明の偏光板が視認側の偏光板として用いられる場合は、視認側の偏光板保護フィルムは、防眩層あるいはクリアハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層等の機能層を設けることが好ましい。本発明の偏光板保護フィルムは、特に塗布後の熱収縮ばらつきを抑制する効果が高いことから、前記機能層を塗布によって形成し、次いで加熱乾燥したち紫外線照射を行っても、乾燥による熱収縮が小さく、フィルムのシワの発生や機能性層のクラックの発生を抑制できる。

〈偏光子〉
本発明の偏光板の主たる構成要素である偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

偏光子としては、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った偏光子が用いられ得る。偏光子の膜厚は５〜１５μｍの範囲内であり、特に５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。

また、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れている上に、色ムラが少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。

〈積層フィルム型の偏光子〉
また、本発明の偏光板は薄膜とすることが好ましく、偏光子の厚さは２〜１５μｍの範囲内であることが、偏光板の強度と薄膜化を両立する観点から特に好ましい。

このような薄膜の偏光子としては、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許４７５１４８１号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、積層フィルム型の偏光子を作製することが好ましい。

《偏光板の製造方法》
〔活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた偏光板の作製〕
本発明の偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の偏光板保護フィルムの偏光子側をコロナ処理、プラズマ処理又はエキシマ光処理等の表面処理を行い、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した前記偏光子の少なくとも一方の面に、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼り合わせることができる。

その場合、同様に下記位相差フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい。位相差フィルムがセルロースエステルフィルムである場合は、表面がケン化処理されていてもよい。

偏光子との貼合の向きは、例えば偏光子の吸収軸と偏光板保護フィルムの遅相軸が直交するように貼合することが好ましい。

偏光子のもう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）等が好ましく用いられる。

〈位相差フィルム〉
偏光子の一方の面には、位相差フィルムを配置することが、ＶＡ型液晶補表示装置に具備され視野角拡大やコントラスト向上等の視認性の改善のために好ましい。

位相差フィルムは、特に制限されず、例えばセルロースエステルフィルムでありうる。セルロースエステルフィルムに含まれるセルロースエステルの例には、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースアセテートプロピオネートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートビフェニレート、セルロースアセテートプロピオネートビフェニレートなどが含まれる。

セルロースエステルは、総アシル基置換度が１．５〜２．５の範囲内であることが好ましく、下記式（ａ）と（ｂ）とを同時に満たすことがより好ましい。

式（ａ） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦２．５
式（ｂ） ０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基又はブチリル基、若しくはそれらの混合物の置換度を示す）
セルロースエステルの重量平均分子量（Ｍｗ）は、フィルム強度と製膜時の適正粘度との観点から、７.５万以上であることが好ましく、１０万〜１００万であることがより好ましく、１０万〜５０万であることが特に好ましい。

セルロースエステルフィルムは、単層フィルムであってもよいし；積層フィルムであってもよい。セルロースエステルフィルムが積層フィルムである場合、低置換度のセルロースエステルを主成分とするコア層と、その両面に配置され、高置換度のセルロースエステルを主成分とするスキン層との積層物であることが好ましい。低置換度のセルロースエステルは、上記式（ａ）と（ｂ）を満たすことが好ましく、高置換度のセルロースエステルは、総アシル基置換度が２．５超であることが好ましく、２．７〜２．９８の範囲内であることが好ましく、セルロースエステルに含まれるアシル基は全てアセチル基であることが好ましい。

位相差フィルムのリターデーションは、組み合わされる液晶セルの種類に応じて設定されうる。例えば、位相差フィルムの、２３℃ＲＨ５５％下、波長５９０ｎｍで測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは３０〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましく、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは７０〜３００ｎｍの範囲であることが好ましい。リターデーション値が上記範囲である位相差フィルムは、例えばＶＡ型液晶セルなどの位相差フィルムとして好ましく用いることができる。ＲｏとＲｔは、前述と同様に定義される。

位相差フィルムの厚さは、特に限定はないが、１０〜２５０μｍの範囲内であることが好ましく、１０〜１００μｍの範囲内であることがより好ましく、３０〜６０μｍの範囲内であることが特に好ましい。

〔活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた偏光板の作製〕
本発明の偏光板においては、上記説明した本発明の偏光板保護フィルムと偏光子の少なくとも一方の面とが、活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい態様である。その場合、同様に上記位相差フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい。さらに、同１種類の活性エネルギー線硬化型接着剤により貼合されていることが好ましい。

本発明においては、本発明の偏光板保護フィルムと偏光子との貼合、あるいは位相差フィルムと偏光子との貼合に活性エネルギー線硬化型接着剤を適用することにより、高生産性で、偏光板の変形を抑制しやすく、平面性に優れた特性を得ることができる。

（活性エネルギー線硬化型接着剤の組成）
偏光板の製造に適用可能な活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。

光ラジカル重合型組成物としては、特開２００８−００９３２９号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物）等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が含まれる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の例には、Ｎ置換（メタ）アクリルアミド系化合物、（メタ）アクリレート系化合物などが含まれる。（メタ）アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。

また、光カチオン重合型組成物としては、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の活性エネルギー線硬化型接着剤が用いられてもよい。

本発明に用いる活性線硬化型接着剤としては、上記公報に記載されているような紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。

以下、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。

本発明の偏光板の製造工程としては、主には、
１）偏光子と本発明の偏光板保護フィルムとの接着面のうち、少なくとも一方に、下記の活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、
２）接着剤層を介して偏光子と偏光板保護フィルムとを接着し、張り合わせる貼合工程と、
３）接着剤層を介して偏光子と偏光板保護フィルムとが接着された状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、
を挙げることができる。また、偏光板保護フィルムの偏光子を接着する面に対し、易接着処理する下記の前処理工程を有していてもよい。

（前処理工程）
前処理工程では、偏光子と接着する偏光板保護フィルムの表面に易接着処理を施す工程である。図２に例示したように、偏光子１０４の両面にそれぞれ偏光板保護フィルム１０２及び位相差フィルム１０５を、活性エネルギー線硬化型接着剤１０３Ａ、１０３Ｂを介して接着する場合には、それぞれの偏光板保護フィルム１０２及び位相差フィルム１０５の接着面に対し、易接着処理が施される。

次工程である接着剤塗布工程では、易接着処理された表面が偏光子との貼合面として扱われるので、偏光板保護フィルムの両表面のうち、活性エネルギー線硬化型樹脂層１０３Ａと貼合する面に、易接着処理を施す。易接着処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、エキシマ光処理等が挙げられる。

（接着剤塗布工程）
接着剤塗布工程では、偏光子と偏光板保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方の面側に、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が塗布される。偏光子又は偏光板保護フィルムの表面に直接、活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、コンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と偏光板保護フィルムの間に、活性エネルギー線硬化型接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。

（貼合工程）
上記の方法により活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した場合、そこに偏光板保護フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で偏光板保護フィルムの表面に活性エネルギー線硬化型接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と偏光板保護フィルムの間に活性エネルギー線硬化型接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と偏光板保護フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを接着する場合であって、両面とも活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、活性エネルギー線硬化型接着剤を介して偏光板保護フィルム及び位相差フィルムが重ね合わされる。そして通常は、この状態で両面（偏光子の片面に偏光板保護フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と偏光板保護フィルム側、また偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の偏光板保護フィルム及び位相差フィルム側）からローラー等で挟んで加圧することになる。ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。

（硬化工程）
硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化型接着剤に活性エネルギー線を照射して、カチオン重合性化合物（例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物）やラジカル重合性化合物（例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等）を含む活性エネルギー線硬化型樹脂層を硬化させ、活性エネルギー線硬化型接着剤を介して重ね合わせた偏光子と偏光板保護フィルム、あるいは偏光子と位相差フィルムとを接着させる。偏光子の片面に偏光板保護フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は偏光板保護フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ活性エネルギー線硬化型接着剤を介して偏光板保護フィルム及び位相差フィルムを重ね合わせた状態で、活性エネルギー線を照射し、両面の活性エネルギー線硬化型接着剤を同時に硬化させるのが有利である。

硬化に適用される活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができるが、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般には電子線や紫外線が好ましく用いられる。

紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプが好ましく用いられる。

また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶの範囲内のエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化することができる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５〜３００ｋＶの範囲内であり、更に好ましくは１０〜２５０ｋＶの範囲内である。加速電圧が５ｋＶ以上であれば、電子線が接着剤まで十分到達し、所望の硬化条件を得ることができ、加速電圧が３００ｋＶ以下であれば、接着ユニットを通る浸透力が過度に強くなることがなく、透明偏光板保護フィルムや偏光子にダメージを与えることを抑制することができる。

照射線量としては、５〜１００ｋＧｙの範囲内であり、更に好ましくは１０〜７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ以上であれば、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化が十分となり、１００ｋＧｙ以下であれば、偏光板保護フィルムや偏光子にダメージを与えることがなく、機械的強度の低下や黄変を防止することができ、所定の光学特性を得ることができる。

紫外線の照射条件は、前記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化することができる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は、積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であるのが更に好ましい。

前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎの範囲内であり、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、更に好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲内である。ライン速度が１ｍ／ｍｉｎ以上であれば、適切な生産性を確保することができ、透明な偏光板保護フィルムへのダメージを抑制でき、耐久性試験などに耐えうる偏光板を作製することができる。また、ライン速度が５００ｍ／ｍｉｎ以下であれば、得られる接着剤の硬化が十分となり、目的とする接着性を得ることができる。

以上のようにして得られた偏光板において、活性エネルギー線硬化型接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常０．０１〜１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５〜５μｍの範囲内である。

≪液晶表示装置≫
本発明の液晶表示装置は、視認面側より、少なくとも第１の偏光板Ａ、液晶セル、及び第２の偏光板Ｂを、この順序で配置し、前記偏光板Ａ及び前記偏光板Ｂが、いずれも本発明の偏光板であり、視認面側より、前記第１の偏光板Ａは偏光板保護フィルムＴ１、偏光子及び位相差フィルムＴ２から構成され、前記第２の偏光板Ｂは位相差フィルムＴ３、偏光子及び偏光板保護フィルムＴ４から構成されており、偏光板保護フィルムＴ１及び偏光板保護フィルムＴ４が、本発明で規定する構成からなる偏光板保護フィルムであることが好ましい。

また、前記偏光板保護フィルムＴ１の視認側には、ハードコート層、反射防止層又は防眩層などの機能性層を有することが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムは、耐水性、耐熱性及び平面性等に優れているため、本発明の偏光板を液晶表示装置に具備することにより、液晶セルを構成するガラス基材を薄膜化することができ、その結果、薄膜化が達成された液晶表示装置を得ることができる。

液晶セルに用いることのできるガラス基材としては、例えば、ソーダライムガラス、ケイ酸塩ガラスなどが挙げられ、ケイ酸塩ガラスであることが好ましく、具体的には、シリカガラス又はホウケイ酸ガラスであることがより好ましい。

ガラス基材を構成するガラスは、アルカリ成分を実質的に含有していない無アルカリガラスであること、具体的には、アルカリ成分の含有量が１０００ｐｐｍ以下であるガラスであることが好ましい。ガラス基材中のアルカリ成分の含有量は、５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。アルカリ成分を含有するガラス基材は、フィルム表面で陽イオンの置換が発生し、ソーダ吹きの現象が生じやすい。それにより、フィルム表層の密度が低下しやすく、ガラス基材が破損しやすいからである。

液晶表示装置を構成する液晶セルのガラス基材の厚さは、０．４〜０．６ｍｍの範囲内であることが好ましい。このような厚さとすることは、薄膜化した液晶表示装置の形成に寄与することができる点で好ましい。

ガラス基材は、公知の方法、例えばフロート法、ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法などにより成形されうる。なかでも、成形時にガラス基材の表面が成形部材と接触せず、得られるガラス基材の表面に傷がつきにくいことなどから、オーバーフローダウンドロー法が好ましい。

また、このようなガラス基材は、市販品としても入手することができ、例えば、旭硝子社製の無アルカリガラス ＡＮ１００（厚さ５００μｍ）、コーニング社製のガラス基板 ＥＡＧＬＥ ＸＧ（ｒ） Ｓｌｉｍ（厚さ３００μｍ、４００μｍ等）、日本電気硝子社製のガラス基材（厚さ１００〜２００μｍ）等を挙げることができる。

本発明の偏光板を用いることで、上記薄膜のガラス基材を液晶セル用に用いた画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラ（ベンドムラ）を抑制し、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

以下、本発明の偏光板を具備した液晶表示装置について、その構成の概略を説明する。

図３は、前述の本発明の偏光板１０１を具備した液晶表示装置１０６の構成の一例を示す概略断面図である。

図３において、図２で説明した偏光板１０１Ａを構成する位相差フィルム１０５と、偏光板１０１Ｂを構成する位相差フィルム１０５とで、液晶セル１０７を挟持して、液晶表示装置１０６を構成している。
図３に示す構成において、液晶セル１０７上の偏光板１０１Ａでは、光学フィルムとして、表面部に偏光板保護フィルム１０２を配置し、これを偏光板保護フィルムＴ１と称し、更に偏光子１０４の下部には、位相差フィルム１０５が配置されており、これを位相差フィルムＴ２と称す。

Ｔ１である偏光板保護フィルム１０２の視認側には前述の機能性層が形成されていることが好ましい。

また、液晶セル１０７の反対側の面には偏光板１０１Ｂが配置され、最表面より光学フィルムとして、偏光板保護フィルム１０２が配置されており、本発明ではこれを偏光板保護フィルムＴ４と称し、更に偏光子１０４の下部（液晶セル側）には、位相差フィルム１０５が配置されており、これを位相差フィルムＴ３と称す。

このような構成の液晶表示装置においては、本発明の偏光板保護フィルムは、偏光板１０１Ａの偏光板保護フィルム１０２（偏光板保護フィルムＴ１）と、偏光板１０１Ｂの偏光板保護フィルム１０２（偏光板保護フィルムＴ４）となる。

偏光板の位相差フィルム側の表面と、液晶セルの少なくとも一方の表面との貼合は、公知の手法により行われ得る。場合によっては、接着層又は粘着層を介して貼合されてもよい。

液晶表示装置のモード（駆動方式）についても特に制限はなく、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢ等の各種駆動モードの液晶表示装置が用いられ得る。特に、好ましくは、ＶＡ（ＭＶＡ，ＰＶＡ）型の液晶表示装置である。
なお、ＶＡモード型液晶表示装置における上記偏光板の貼合の向きは、特開２００５−２３４４３１号公報を参照して行うことができる。

これらの液晶表示装置に、本発明に係る偏光板を用いることで、３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、液晶表示装置のムラ等の視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

１．偏光板保護フィルムの材料
（１）共重合体
＜共重合体１の合成及び混合＞
〈共重合体（Ａ）〉
（スチレン−アクリロニトリル共重合体）
撹拌機付き完全混合型連続反応機に、所定の配合比のスチレンとアクリロニトリルとからなるモノマー混合物を溶媒であるエチルベンゼンに混合したものを一定速度で連続的に添加しつつ、反応率を一定に保ち、１５０℃、滞留時間２時間で重合反応を行った。

得られた重合溶液を押出機に連続的に供給して押し出し成形を行い、押出機で未反応単量体、溶媒を回収し、スチレン−アクリロニトリル共重合体のペレットを得た。

得られた共重合体は無色透明であり、下記方法による組成分析の結果、スチレン単位の含有量が７５質量％、アクリロニトリル単位の含有量が２５質量％であった。また、ＧＰＣ（東ソー社製ＧＰＣシステムのポリスチレン換算）による重量平均分子量測定の結果、重量平均分子量は２０万であった。

得られた共重合体（Ａ）の構成単位の含有比率を、以下の方法で測定した。

トータルイオンクロマトグラムにおいて、「測定対象の重合体から検出される全ピークの面積の和」に対する「スチレン」、及び「アクリロニトリル」に由来するピークの面積の割合をそれぞれ求め、スチレン単位及びアクリロニトリル単位の含有比率を求めた。

〈共重合体（Ｂ）〉
（ラクトン環含有アクリル樹脂の合成）
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた容量が３０Ｌの反応釜に、８０００ｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、２０００ｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、１００００ｇのトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤として１０．０ｇのターシャリーアミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、２０．０ｇの上記開始剤と１００ｇのトルエンからなる溶液を４時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。

得られた重合体溶液に、１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、当該押出機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押し出すことにより、透明なラクトン環含有アクリル樹脂のペレットを得た。なお、特許４８７８３０２号公報に記載の通り、ＭＭＡとＭＨＭＡ共重合体を形成後前記環化縮合反応によって、ラクトン環構造を形成する。

ラクトン環含有アクリル系樹脂ペレットのラクトン環化率は９７．０％であり、重量平均分子量は１０万であった。

〈共重合体（Ａ）及び共重合体（Ｂ）の混合比率〉
上記調製したスチレン−アクリロニトリル共重合体及びラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率で５０：５０で混合して、共重合体１を調製した。

＜共重合体２の調製＞
共重合体１の調製において、上記調製したスチレン−アクリロニトリル共重合体及びラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率で９５：５で混合した以外は同様にして、共重合体２を調製した。

＜共重合体３の調製＞
共重合体１の調製において、上記調製したスチレン−アクリロニトリル共重合体ラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率で６０：４０で混合した以外は同様にして、共重合体３を調製した。

＜共重合体４の調製＞
共重合体１の調製において、上記調製したスチレン−アクリロニトリル共重合体及びラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率２０：８０で混合した以外は同様にして、共重合体４を調製した。

＜共重合体５の調製＞
共重合体１の調製において、上記調製したラクトン環含有アクリル樹脂を表１に記載のように、ラクトン環含有アクリル樹脂単独（質量比率０／１００）で使用した以外は同様にして、共重合体５を調製した。

＜共重合体６の調製＞
共重合体１の調製において、上記調製したスチレン−アクリロニトリル共重合体を表１に記載のように、スチレン−アクリロニトリル共重合体単独（質量比率１００／０）で使用した以外は同様にして、共重合体６を調製した。

＜共重合体７の調製＞
共重合体１の調製において、スチレン単位の含有量が８０質量％、アクリロニトリル単位の含有量が２０質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体、及びメタクリル酸メチル単位の含有量が９０質量％、ラクトン単位の含有量が１０質量％のラクトン環含有アクリル樹脂を調製し、スチレン−アクリロニトリル共重合体及びラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率で６０：４０で混合した以外は同様にして、共重合体７を調製した。

＜共重合体８の調製＞
共重合体１の調製において、スチレン単位の含有量が７０質量％、アクリロニトリル単位の含有量が３０質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体、及びメタクリル酸メチル単位の含有量が７０質量％、ラクトン単位の含有量が３０質量％のラクトン環含有アクリル樹脂を調製し、スチレン−アクリロニトリル共重合体及びラクトン環含有アクリル樹脂とを表１に記載のように、質量比率で６０：４０で混合した以外は同様にして、共重合体８を調製した。

＜共重合体９の調製＞
共重合体３の調製において、スチレンの代わりにα−メチルスチレンを用いて、α−メチルスチレン単位の含有量が７５質量％、アクリロニトリル単位の含有量が２５質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体を調製した以外は同様にして、表１に記載のように共重合体９を調製した。

＜共重合体１０の調製＞
共重合体３の調製において、アクリロニトリルの代わりにメタクリロニトリルを用いて、スチレン単位の含有量が７５質量％、メタクリロニトリル単位の含有量が２５質量％のスチレン−メタクリロニトリル共重合体を調製した以外は同様にして、表１に記載のように共重合体１０を調製した。

＜共重合体１１の調製＞
共重合体３の調製において、スチレン単位の含有量８０質量％、アクリロニトリル単位の含有量２０質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体、及びメタクリル酸メチル単位の含有量が７０質量％、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル単位の含有量が２０質量％及びスチレン単位の含有量が１０質量％であるラクトン環含有アクリル樹脂を調製し、表１に記載のように、質量比率で６０：４０で混合した以外は同様にして共重合体１１を調製した。

＜共重合体１２の調製＞
共重合体３の調製において、スチレン単位の含有量７５質量％、アクリロニトリル単位の含有量２５質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体、及びメタクリル酸メチル単位の含有量が７０質量％、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル単位の含有量が２０質量％及びビニルカルバゾール単位の含有量が１０質量％であるラクトン環含有アクリル樹脂を調製し、表１に記載のように、質量比率で６０：４０で混合した以外は同様にして共重合体１２を調製した。

＜共重合体１３の調製＞
共重合体３の調製において、重量平均分子量を１５万に調整したラクトン環含有アクリル樹脂を調製した以外は同様にして、表１に記載のように共重合体１３を調製した。

＜共重合体１４の調製＞
共重合体３の調製において、ヒドロキシスチレン単位の含有量７５質量％、アクリロニトリル単位の含有量２５質量のスチレン−アクリロニトリル共重合体を調製し、ラクトン環含有アクリル樹脂と表１に記載のように、質量比率で５０：５０で混合した以外は同様にして共重合体１４を調製した。

＜共重合体１５の調製＞
共重合体１４の調製において、スチレン単位の含有量７５質量％、エタクリロニトリル単位の含有量２５質量％のスチレン−エタクリロニトリル共重合体を調製し、ラクトン環含有アクリル樹脂と表１に記載のように、質量比率で５０：５０で混合した以外は同様にして共重合体１５を調製した。

＜共重合体１６の調製＞
共重合体３の調製において、スチレン単位の含有量８５質量％、アクリロニトリル単位の含有量１５質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体を調製し、ラクトン環含有アクリル樹脂と表１に記載のように、質量比率で５０：５０で混合した以外は同様にして共重合体１６を調製した。

＜共重合体１７の調製＞
共重合体３の調製において、スチレン単位の含有量６５質量％、アクリロニトリル単位の含有量３５質量％のスチレン−アクリロニトリル共重合体を調製し、ラクトン環含有アクリル樹脂と表１に記載のように、質量比率で５０：５０で混合した以外は同様にして共重合体１７を調製した。

調製した共重合体１〜１７の構成内容について表１に記載したが、表中の略記はそれぞれ以下の化合物である。

Ｓｔ：スチレン
α−ＭＳｔ：α−メチルスチレン
ＨＳｔ：ヒドロキシスチレン
ＡＮ：アクリロニトリル
ＭＮ：メタクリロにトリル
ＥＮ：エタクリロニトリル
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＭＨＭＡ：２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル
Ｖｃ：ビニルカルバゾール
〈未反応モノマーの測定法〉
上記合成した共重合体１〜１７に含まれる未反応モノマーの含有量を、以下の方法で測定した。

１）上記調製した共重合体（Ａ）０．１ｇを、２ｍｌのアセトンに溶解させて超音波処理を３０分間行う。この溶液に、内部標準成分としてエチレングリコールモノメチルエーテルを５０ｐｐｍ添加した後、ヘキサンで１０ｍｌとなるまでメスアップして、サンプル溶液とする。

２）サンプル溶液に含まれる、共重合体（Ａ）全質量に対する未反応モノマーの含有量（質量％）を、ＧＣ／ＭＳにより測定する。ＧＣ／ＭＳの測定装置と測定条件は、以下の通りである。

機器：ＨＰ ６８９０ＧＣ／ＨＰ５９７３ＭＳＤ（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ社製）
カラム：Ｊ＆Ｗ社製 ＤＢ−６２４（０．２５ｍｍｉ．ｄ．×３０ｍｌ）
オーブンプログラム：４０℃（３ｍｉｎ）−２０℃／ｍｉｎ−２３０℃（８ｍｉｎ）
Ｉｎｊ：１６０℃
ＡＵＸ：２５０℃
共重合体１〜１７の構成内容及び未反応モノマーの含有量の結果を表１に示した。

（２）剥離助剤（化合物１）
１−１：エレカットＳ−４１２−２（竹本油脂（株）製）：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
１−２：エパン７５０（第一工業製薬（株）製）：非イオン性界面活性剤
１−３：ステアリルアルコール
（３）ゴム粒子（化合物２）
２−１：タフプレン１２６Ｓ（旭化成ケミカルズ（株）製）スチレン−ブタジエン共重合体
２−２：ＴＲ２００３（ＪＳＲ(株)製）スチレン−ブタジエン共重合体
２−３：下記粒子１
２−４：下記粒子２
〈粒子１：下記方法で合成したアクリル粒子〉
（アクリル粒子Ｃ１）
内容積６０リットルの還流冷却器付き反応器に、イオン交換水３８．２リットル、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム１１１．６ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で撹拌しながら、窒素雰囲気下、７５℃に昇温し、酸素の影響がない状態とした。過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）０．３６ｇを投入し、５分間撹拌後にメチルメタクリレート（ＭＭＡ）１６５７ｇ、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）２１．６ｇ、アリルメタクリレート（ＡＬＭＡ）１．６８ｇからなる単量体の混合物を一括添加し、発熱ピークの検出後、さらに２０分間保持して最内硬質層の重合を完結させた。

次に、ＡＰＳ３．４８ｇを投入し、５分間撹拌後にＢＡ８１０５ｇ、ポリエチレングリコールジアクリレート（ＰＥＧＤＡ、分子量２００）３１．９ｇ、及びＡＬＭＡ２６４．０ｇからなる単量体の混合物を１２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに１２０分間保持して軟質層の重合を完結させた。

次に、ＡＰＳ１．３２ｇを投入し、５分間撹拌後にＭＭＡ２１０６ｇ、ＢＡ２０１．６ｇからなる単量体の混合物を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに２０分間保持して最外硬質層１の重合を完結させた。

次に、ＡＰＳ１．３２ｇを投入し、５分後にＭＭＡ３１４８ｇ、ＢＡ２０１．６ｇ、及びｎ−オクチルメルカプタン（ｎ−ＯＭ）１０．１ｇからなる単量体の混合物を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに２０分間保持した。次いで、９５℃に昇温して６０分間保持して最外硬質層２の重合を完結させた。

このようにして得られた重合体ラテックスを、３質量％硫酸ナトリウム塩水溶液中に投入して、塩析・凝固させた後、脱水・洗浄を繰り返した後、乾燥し、３層構造を有するアクリル粒子を得た。吸光度法による平均粒子径を求めたところ、１００ｎｍであった。

〈粒子２：下記方法で合成した弾性有機微粒子〉
（弾性有機微粒子（Ｂ１）
撹拌機を備えた耐圧反応容器に、脱イオン水７０部、ピロリン酸ナトリウム０．５部、オレイン酸カリウム０．２部、硫酸第一鉄０．００５部、デキストロース０．２部、ｐ−メンタンハイドロパーオキシド０．１部、１，３−ブタジエン２８部からなる混合物を加え、６５℃に昇温し、２時間重合反応を行った。次いで、得られた反応混合物に、ｐ−メンタンハイドロパーオキシド０．２部を加えた後、１，３−ブタジエン７２部、オレイン酸カリウム１．３３部及び脱イオン水７５部の混合物を２時間かけて連続滴下した。重合開始から２１時間反応させて、体積平均粒子径０．２４０μｍのブタジエン系ゴム重合体ラテックスを得た。

次に、冷却器と撹拌機とを備えた重合容器に、脱イオン水１２０部、上記ブタジエン系ゴム重合体ラテックスを固形分として５０部、オレイン酸カリウム１．５部、ソジウムホルムアルデヒドスルホキシレート（ＳＦＳ）０．６部を投入し、重合容器内を窒素ガスで十分置換した。続いて、内温を７０℃に昇温させた後、スチレン３６．５部、アクリロニトリル１３．５部からなる混合モノマー溶液と、クメンハイドロキシパーオキサイド０．２７部、脱イオン水２０部からなる重合開始剤溶液とを別々に２時間かけて連続滴下しながら重合を行った。滴下終了後、内温を８０℃に昇温して２時間重合を継続させた。次に、内温が４０℃になるまで冷却した後、３００メッシュ金網を通過させて弾性有機微粒子の乳化重合液を得た。得られた弾性有機微粒子の乳化重合液を塩化カルシウムで塩析、凝固させ、水洗、乾燥して、粉体状の弾性有機微粒子を得た。この弾性有機微粒子の体積平均粒子径は０．２６０μｍであった。

２．偏光板保護フィルムの作製
（偏光板保護フィルム１０１の作製）
下記成分を、撹拌及び加熱しながら十分に溶解させて、ドープ１を調製した。

（ドープ１の組成）
共重合体１ １００質量部
紫外線吸収剤 ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１
−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェノール］（ＢＡＳＦジャパン社製のＴｉ９２８） ３．０質量部
マット剤 Ｒ８１２（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径８ｎｍ） ０．３０質量部
剥離助剤 エレカットＳ−４１２−２（ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、竹本油脂社製） ０．２０質量部
ゴム粒子 スチレン−ブタジエン共重合体 １質量部
ジクロロメタン １５０質量部
エタノール ５質量部
調製したドープ１を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が５０％になるまで溶媒を蒸発させ、得られた膜状物を剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。

次いで、剥離した膜状物を３５℃で溶媒を蒸発させ、テンター延伸で幅手方向（ＴＤ方向）に１．２５倍延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。ゾーン延伸による延伸を開始したときの残留溶媒量は２０．０％、テンターによる延伸を開始したときの残留溶媒量は８．０％であった。

テンターで延伸した後、１３０℃で５分間の緩和処理を施した後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させた。得られたフィルムを１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施した後、コアに巻取り、偏光板保護フィルム１０１を作製した。作製した保護フィルム１０１の膜厚は４０μｍ、巻長は４０００ｍであった。

（偏光板保護フィルム１０２〜１２０及び１２３〜１２６の作製）
偏光板保護フィルム１０１の作製において、共重合体の種類（１〜１７）、化合物１及び化合物２の種類と添加量、及び膜厚をそれぞれ表２に記載のように変化させた以外は同様にして、偏光板保護フィルム１０２〜１２０及び１２３〜１２６を作製した。

（偏光板保護フィルム１２１の作製）
（ペレットの作製）
共重合体３ １００質量部
紫外線吸収剤 ２，２′−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール
］（株式会社ＡＤＥＫＡ製のＬＡ３１、分子量６５９） ３．０質量部
マット剤 Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径１６ｎｍ） ０．３０質量部
ゴム粒子 スチレンブタジエン共重合体 １質量部
上記材料を、真空ナウターミキサーにて７０℃、減圧下で３時間乾燥させた後、室温まで冷却した。得られた混合物を、二軸式押出機にて２３５℃で溶融混練して、ストランド状に押し出した。ストランド状に押し出された樹脂組成物を水冷した後、カッティングしてペレットを得た。

得られたペレットを一軸押出機に投入し、窒素雰囲気下、２５０℃で溶融混練した。その後、ダイから、表面温度が９０℃の第１冷却ロール上に押し出した。そして、第１冷却ロール上に押し出された樹脂を、タッチロールで押圧した。タッチロールの表面温度は８０℃とした。その後、得られた樹脂を、第２及び第３冷却ロール上でさらに冷却固化して、溶融流延法による膜厚４０μｍの偏光板保護フィルム１２１を得た。

（偏光板保護フィルム１２２の作製）
偏光板保護フィルム１２１の作製において、共重合体４を用いた以外は同様にして、膜厚４０μｍの偏光板保護フィルム１２２を得た。

３．位相差フィルムの作製
（位相差フィルムＡの作製）
下記成分を、ミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解させた後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過して、下記組成のコア層用ドープ、スキンＢ層用ドープ及びスキンＡ層用ドープをそれぞれ調製した。

（コア層用ドープの組成）
セルロースアセテート（総置換度２．４５、アセチル基置換度２．４５、
重量平均分子量１８万） １００質量部
化合物Ｃ（リターデーション上昇剤） ３質量部
化合物Ｄ（テレフタル酸／コハク酸／エタンジオール／プロパンジオール
（８０／２０／５０／５０モル比）の縮合物の両末端をアセチルエステル基
で封止したもの） １０質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部

（スキンＢ層用ドープの組成）
セルロースアセテート（総置換度２．９３、アセチル基置換度２．９３、
重量平均分子量２８万） １００質量部
化合物Ｅ（テレフタル酸／コハク酸／エチレングリコール共重合体（５０
／５０／１００モル比）、分子量２０００、リターデーション発現剤） ４質量部
アエロジルＲ９７２（日本エアロジル（株）製、二酸化ケイ素微粒子（平均粒径１５ｎｍ、マット剤） ０．１２質量部
クエン酸ハーフエチルエステル（扶桑化学工業(株)製、剥離促進剤）
２質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部
（スキンＡ層用ドープの組成）
クエン酸の部分エチルエステル（剥離促進剤）を含有させなかった以外は上記スキンＢ層用ドープの組成と同様とした。

得られたコア層用ドープ、スキンＡ層用ドープ及びスキンＢ層用ドープを、走行する流延バンドの上に流延ダイから共流延（同時多層流延）した。共流延は、スキンＢ層用ドープが流延バンドに接するように行った。この流延膜を、流延バンドから剥ぎ取った後、湿潤フィルムとした後、テンターで乾燥させて膜状物を得た。剥ぎ取った直後の膜状物の残留溶剤量は約３０質量％であった。膜状物を、テンターにて延伸率３０％まで延伸した後、１４０℃で６０秒間緩和させて、スキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造を有する、膜厚４０μｍの位相差フィルムＡを得た。

（位相差フィルムＢ）
各材料をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解させた後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過して、下記組成のコア層用ドープ、スキンＢ層用ドープ及びスキンＡ層用ドープを、それぞれ調製した。

（コア層用ドープ）
セルロースアセテート（総置換度２．４５、アセチル基置換度２．４５、
重量平均分子量１８万） １００質量部
化合物Ｆ（リターデーション上昇剤） ３質量部
化合物Ｇ（コハク酸／アジピン酸／エチレングリコール共重合体（共重合比＝３：２：５、分子量２０００）、リターデーション低減剤）
１０質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部

（スキンＢ層用ドープ）
セルロースアセテート（総置換度２．９３、アセチル基置換度２．９３、
重量平均分子量２８万） １００質量部
化合物Ｅ（テレフタル酸／コハク酸／エチレングリコール共重合体（５
０／５０／１００モル比）、分子量２０００、リターデーション発現剤）
４質量部
アエロジルＲ９７２（日本エアロジル（株）製、二酸化ケイ素微粒子（平
均粒径１５ｎｍ、マット剤） ０．１２質量部
Ｎ−（２，６−ジエチルフェニルカルバモイルメチル）イミノジ酢酸
２質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部
（スキンＡ層用ドープ）
上記スキンＢ層用ドープの調製において、クエン酸の部分エチルエステル（剥離促進剤）を含有させなかった以外は同様にして調製して、スキンＡ層用ドープを得た。

得られたコア層用ドープ、スキンＡ層用ドープ、スキンＢ層用ドープを用いた以外は前述の位相差フィルムＡの作製と同様にして、スキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造を有する、膜厚４０μｍの位相差フィルムＢを得た。

（位相差フィルムＣ）
下記成分を、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散して微粒子分散液１を得た。

（微粒子分散液１）
微粒子（アエロジル Ｒ８１２ 日本アエロジル（株）製）：１１質量部
エタノール ８９質量部
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに、上記作製した微粒子分散液１をゆっくりと添加しながら、十分に撹拌した。得られた溶液を、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散した後、日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液１を調製した。

（微粒子添加液１）
メチレンクロライド ９９質量部
微粒子分散液１ ５質量部
下記組成の主ドープを調製した。まず、加圧溶解タンクに、メチレンクロライドとエタノールを添加した後、アセチル基置換度２．４０のセルロースアセテート、糖エステル、重縮合エステル、リターデーション上昇剤及び微粒子添加液１を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら、完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープを調製した。

（主ドープの組成）
メチレンクロライド ３６５質量部
エタノール ５０質量部
セルロースアセテート（アセチル置換度２．４０、重量平均分子量２８万
） ８４質量部
糖エステル１：平均置換度５．５のスクロースベンゾエート
１０質量部
重縮合エステル：（フタル酸／アジピン酸／１，２−プロパンジオール＝２５／７５／１００モル比の縮合物の両末端を安息香酸エステル基で封止したもの、分子量４４０）
３質量部
化合物Ａ（リターデーション上昇剤） ３質量部
微粒子添加液１ １質量部

得られた主ドープを、ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させた。得られた膜状物を、剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離して得られた膜状物を、１５０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に３０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。

次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。以上のようにして、乾燥膜厚３５μｍの位相差フィルムＣを得た。

４．偏光板の作製
（偏光板１０１の作製）
１）偏光子の作製
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率３倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ５μｍの偏光子を得た。さらに、延伸条件を変更することで、厚さ１０μｍ及び１５μｍの偏光子を得た。

２）活性エネルギー線硬化型接着剤液の調製
下記の各成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤液を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。

３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート ４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂）
４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル １５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート ２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン ０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン ２．０質量部
３）偏光板の作製
まず、位相差フィルムとして、上記位相差フィルムＣを準備し、その表面にコロナ放電処理を施した。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。次いで、位相差フィルムＣのコロナ放電処理面に、上記作製した活性エネルギー線硬化型接着剤液を、硬化後の膜厚が約３μｍとなるようにバーコーターで塗工して、活性エネルギー線硬化型接着剤層を形成した。得られた活性エネルギー線硬化型接着剤層に、上記作製した厚さ５μｍの偏光子を貼り合わせた。

次いで、偏光板保護フィルムとして、偏光板保護フィルム１０１を準備し、偏光板保護フィルム１０１の表面にコロナ放電処理を施した。コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。次いで、偏光板保護フィルム１０１のコロナ放電処理面に、上記作製した活性エネルギー線硬化型接着剤液を、硬化後の膜厚が約３μｍとなるようにバーコーターで塗工して活性エネルギー線硬化型接着剤層を形成した。

偏光板保護フィルムの活性エネルギー線硬化型接着剤層上に、位相差フィルムＣの片面に貼合された偏光子を貼り合わせて、偏光板保護フィルム１０１／活性エネルギー線硬化型接着剤層／偏光子／活性エネルギー線硬化型接着剤層／位相差フィルムＣの積層物である偏光板１０１を得た。

上記積層物は、位相差フィルムＣの遅相軸と偏光子の吸収軸が互いに直交になるように行った。

偏光板１０１は、位相差フィルムＣ側から、ベルトコンベア付き紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製のＤバルブを使用）を用いて、積算光量が７５０ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化型接着剤層を硬化させた。

偏光板１０１の作製と同様にして、偏光板保護フィルム１０２〜１２６及び偏光子の厚さを適宜変更して、表３記載の構成で偏光板１０２〜１２６を作製した。

（偏光板１０３ＨＣ、１０５ＨＣ及び１１９ＨＣの作製）
〔ハードコート層の形成〕
上記作製した偏光板保護フィルム１０３上に、下記のハードコート層塗布組成物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して調製したハードコート層塗布液を、押出しコーターを用いて塗布し、温度８０℃で５０秒間の条件で乾燥した後、紫外線ランプを用い照射部の照度が３００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚が１０μｍのハードコート層を形成し、偏光板保護フィルム１０３ＨＣを作製した。

（ハードコート層組成物の調製）
アクリル樹脂（Ｍｗ２８００００、商品名：ダイヤナールＢＲ８５、三菱レイヨン（株）製）の３．８質量部を、メチルエチルケトンの１００質量部で溶解した後、下記の各添加剤を撹拌しながら、添加、混合し、ハードコート層組成物を調製した。

〈ラジカル重合性化合物〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、
新中村化学工業社製） １８０質量部
〈光重合開始剤〉
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン社製） ６．０質量部
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン社製） ８．０質量部
〈シリコーン系界面活性剤〉
ポリエーテル変性シリコーン化合物（商品名：ＫＦ−３５５Ａ、信越化学工業社製）
９．０質量部
〈溶媒〉
プロピレングリコールモノメチルエーテル １０．０質量部
酢酸メチル ８０．０質量部
作製した偏光板保護フィルム１０３ＨＣと位相差フィルムＣ及び厚さ１５μｍの偏光子を用いて、偏光板１０１の作製と同様にして偏光板１０３ＨＣを作製した。

偏光板１０３ＨＣと同様にして、偏光板保護フィルム１０５及び１１９に上記ハードコート層を形成し、偏光板保護フィルム１０５ＨＣ及び１１９ＨＣを作製し、表３に記載の偏光板１０５ＨＣ及び１１９ＨＣを作製した。

５．液晶表示装置の作製
液晶セルとして、厚さが０．５ｍｍの二枚のガラス基板と、それらの間に配置された液晶層とを有するＶＡ方式の液晶セルを準備した。そして、上記準備した液晶セルの両面に、リンテック社製の厚さ２５μｍの両面テープ（基材レステープ ＭＯ−３００５Ｃ）を介して上記作製した偏光板１０１をそれぞれ貼り合わせて、液晶表示パネルを得た。貼り合わせは、表３記載のように、偏光板１０１の位相差フィルムＣが液晶セルのガラス基板と接するように行った。

そして、ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ ＫＬＶ-４０Ｊ３０００（ＶＡ方式）から、液晶表示パネル（視認側偏光板／液晶セル／バックライト側偏光板の積層物）を取り外した後、上記作製した液晶表示パネルを配置して、液晶表示装置１０１を得た。取り付けた液晶表示パネルの偏光板の吸収軸が、あらかじめ貼られていた偏光板の吸収軸と同じ向きになるようにした。

同様にして、偏光板１０２〜１２６を用いて、表３記載の構成で液晶表示装置１０２〜１２６を作製した。

同様にして、視認側に偏光板１０３ＨＣ、１０５ＨＣ及び１１９ＨＣ、バックライト側に偏光板１０３、１０５及び１１９を用いて、表３記載の構成で、液晶表示装置１２７〜１２９を作製した。

以上作製した偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を用いて以下の評価を行い、結果を表２及び表３に示した。

≪偏光板保護フィルムの評価≫
作製した偏光板保護フィルムを用いて下記評価を実施し、結果を表２に示した。

（１）耐熱性
耐熱性は、偏光板保護フィルムのガラス転移温度Ｔｇ（℃）によって評価し、Ｔｇ（℃）が高い程耐熱性に優れる。ガラス転移温度Ｔｇ（℃）は、ＪＩＳ Ｋ−７１２１に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定した。

サンプルフィルムを１０ｍｇ程度セットし、窒素流量５０ｍｌ／ｍｉｎの条件下で、２０℃／ｍｉｎで室温から２５０℃まで昇温して１０分間保持し（１ｓｔスキャン）、次に２０℃／ｍｉｎの速度で３０℃まで降温して１０分間保持し（２ｎｄスキャン）、さらに２０℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し（３ｒｄスキャン）、ＤＳＣ曲線を作成し、得られた３ｒｄスキャンのＤＳＣ曲線からガラス転移温度Ｔｇを求める。

以上により測定した各偏光板保護フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）について、下記の基準に従って、ガラス転移温度を評価し、耐熱性の指標とした。

◎：ガラス転移温度が、１２０℃以上である
○：ガラス転移温度が、１１０℃以上、１２０℃未満の範囲内である
△：ガラス転移温度が、１００℃以上、１１０℃未満の範囲内である
×：ガラス転移温度が、１００℃未満である
（２）ヘイズ
ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色工業（株）製）にて測定した。

（３）イエローインデックス（ＹＩ）
イエローインデックス（ＹＩ）は、ＪＩＳ Ｋ−７１０５−６．３に記載の方法で求める。具体的なイエローインデックス値の測定方法としては、日立製作所製の分光光度計Ｕ−３２００と付属の彩度計算プログラム等を用いて、色の三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、下式に従ってイエローインデックス値を求めた。

イエローインデックス（ＹＩ）＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
（４）折り曲げ耐性
〔折り曲げ強度の評価〕
偏光板保護フィルムを１００ｍｍ（ＴＤ）×１０ｍｍ（ＭＤ）で切り出し、２３℃・５５％ＲＨの環境下で１時間放置後、縦方向の中央部で山折り、谷折りと二つにそれぞれ１回ずつ折りまげ、この評価を３回測定して、以下のように評価した。なお、ここでの評価の折れるとは、割れて二つ以上のピースに分離したことを表す。

◎：３回とも、折れの発生が認められない
○：３回とも、折れの発生が認められないが折った箇所の筋がやや強い
△：３回のうち少なくとも１回で、折れが発生している
×：３回とも折れが発生している
（５）塗布後の熱収縮ムラ
以下に示す塗布液を調製し、上記作製した偏光板保護フィルム１０１〜１２２上に初期膜厚（Ｗｅｔ膜厚）が３５μｍになるように、エクストルージョンダイを用いて塗布を行った。
・ＵＶ硬化性モノマー １０質量部
・ＵＶ硬化性ポリマー ３０質量部
・粒径８μｍシリカ粒子 １０質量部
・メチルイソブチルケトン ３５質量部
・メチルエチルケトン １５質量部
なお、このＵＶ硬化性モノマーの６０℃における粘度は３００ｃｐである。ここで、粘度は、ＵＶ硬化性モノマーを６０℃で保温した状態でＳＶ型(音叉振動式)粘度計により測定したものである。

塗布後の乾燥工程において、まず塗布後最初の１５秒間は風速０．３ｍ／ｓ風温２８℃の乾燥風を当て、次の１０秒間は風速１．０ｍ／ｓ風温３７℃の乾燥風を当てた。この時点での塗布膜粘度は５０〜６０ｃｐになっている。そして、乾燥工程最後の３０秒間のうち、はじめ１５ｓは風速１．５ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を、次の１５ｓは風速１．３ｍ／ｓ風温６０℃の乾燥風を当てた。

その後、高圧水銀灯によってＵＶ硬化を行い得られた膜（膜厚１１μｍ）に対し、乾燥ムラとＵＶ照射によるシワがあるかないかを目視で評価した。評価基準は以下の通り。

◎：乾燥ムラかＵＶ照射によるシワが全くない
○：乾燥ムラかＵＶ照射によるシワがややあるが製品レベルである
×：乾燥ムラかＵＶ照射によるシワがあり、製品として成り立たない
≪液晶表示装置の評価≫
得られた液晶表示装置のベンドムラを、以下の方法で測定した。

（６）ベンドムラ
上記作製した液晶表示装置１０１〜１２５を、４０℃・９５％ＲＨの環境下で２４時間放置した。次いで、４０℃ドライの環境下で液晶表示装置を黒表示させた状態で、表示画面の４頂点付近の輝度と表示画面中央部付近の輝度との差（中心部と周辺部との画像ムラ）を目視観察した。

そして、以下の基準に基づいて、ベンドムラの評価を行った。

○：ベンドムラが全く認められない
△：ベンドムラがわずかに認められるが、実用上は許容される品質である
×：明らかなベンドムラが認められる
偏光板保護フィルムの構成と上記評価結果を下記表２に示す。また、偏光板、液晶表示装置の構成及び上記ベンドムラの評価結果を、下記表３にまとめて示す。

表２及び表３の結果から、本発明の偏光板保護フィルム１０１〜１０３、及び１０７〜１２６は、耐熱性、ヘイズ、イエローインデックス（ＹＩ）、折り曲げ、塗布後の熱収縮ムラに優れており、かつ液晶表示装置１０１〜１０３、及び１０７〜１２６の評価結果から、比較例に対してベンドムラに優れていることが分かる。

また、溶融流延法で作製した本発明の偏光板保護フィルム１２１は、ヘイズ及びイエローインデックス（ＹＩ）値がやや高く着色が観察され、本発明の偏光板保護フィルムの製造方法として溶液流延法を採用することが好ましいことが分かった。

一方、比較例である偏光板保護フィルム１０４、１０５及び１２２は、共重合体（Ｂ）の含有比率が高いため、耐熱性には優れるが、ベンドムラは劣位にある。

また、比較例である偏光板保護フィルム１０６は、共重合体（Ａ）の含有比率が高いため、耐熱性及び熱収縮ムラに劣ることが分かる。

また、視認側偏光板として、本発明の偏光板保護フィルムにハードコート層を塗布した偏光板１０３ＨＣ及び１１９ＨＣは、本発明の構成によって塗布後の熱収縮ムラの発生が効果的に抑制されることから、それらを具備した液晶表示装置１２７及び１２９は、ベンドムラに優れ、かつ目視観察による表示ムラもなく視認性に優れていた。それに対して比較例の偏光板保護フィルムにハードコート層を塗布した偏光板１０５ＨＣを用いた液晶表示装置１２８は、ベンドムラが劣位である。

以上から本発明の偏光板保護フィルムの構成によって、耐熱性、ヘイズ、イエローインデックス（ＹＩ）、折り曲げ、塗布後の熱収縮ムラ、及び液晶表示装置のベンドムラに対して、総合的に優れた偏光板保護フィルムが得られることが分かった。

本発明の偏光板保護フィルムは、高い耐水性、耐熱性及び強靱性を有して、液晶表示装置の表示ムラ（ベンドムラ）の発生を抑制し、かつ機能性層を塗布した後の熱収縮ばらつきを抑制できることから、偏光板及び液晶表示装置に好適に用いることができる。

１ 溶解釜
３、６、１２、１５ 濾過器
４、１３ ストックタンク
５、１４ 送液ポンプ
８、１６ 導管
１０ 紫外線吸収剤仕込釜
２０ 合流管
２１ 混合機
３０ ダイ
３１ 金属支持体
３２ ウェブ
３３ 剥離位置
３４ テンター装置
３５ ローラー乾燥装置
４１ 仕込釜
４２ ストックタンク
４３ ポンプ
４４ 濾過器
１０１ 偏光板
１０２ 偏光板保護フィルム
１０３Ａ、１０３Ｂ 活性エネルギー線硬化型接着層
１０４ 偏光子
１０５ 位相差フィルム
１０６ 液晶表示装置
１０７ 液晶セル

Claims (13)

1. 熱可塑性樹脂の主成分として、芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体（Ａ）とラクトン環構造を有する共重合体（Ｂ）とを、質量比率でＡ：Ｂ＝９５：５〜５０：５０の範囲内で含有することを特徴とする偏光板保護フィルム。
2. 前記芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーとを重合して得られる共重合体が、芳香族ビニルモノマー単位を６５〜８５質量％の範囲内と不飽和ニトリルモノマー単位を１５〜３５質量％の範囲内の比率で含有することを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
3. 前記芳香族ビニルモノマーがスチレンであり、また前記不飽和ニトリルモノマーがアクリロニトリルであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光板保護フィルム。
4. 前記共重合体（Ａ）が含有する芳香族ビニルモノマーと不飽和ニトリルモノマーの未反応モノマーが、それぞれ当該共重合体（Ａ）の全質量に対して０．１質量％以下であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
5. さらに、炭素数８〜２２の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有する酸、アルコール、金属塩、非イオン性界面活性剤又は非反応性４級アンモニウム塩型界面活性剤の少なくとも１種を、前記共重合体（Ａ）及び（Ｂ）全体の質量に対して０．１〜１．０質量％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
6. さらに、コア・シェルタイプのアクリル微粒子、スチレン−共役ジエン系化合物又はブチルアクリレート化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
7. さらに、フィルムの少なくとも一方の面上に機能性層を有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
8. ヘイズが１．０％以下であり、かつイエローインデックス（ＹＩ）が１．０以下であることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
9. 請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムを製造する偏光板保護フィルムの製造方法であって、前記偏光板保護フィルムを溶液流延法によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
10. 請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと偏光子とを、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼合したことを特徴とする偏光板。
11. 請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと偏光子を挟んで反対側の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項１０に記載の偏光板。
12. 前記偏光子の両面に用いる接着剤が同１種類の接着剤であることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の偏光板。
13. 請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムを、視認側偏光板の視認側及びバックライト側偏光板のバックライト側に配置することを特徴とする液晶表示装置。

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