JPWO2015068802A1 - マザー基材、光制御部材、光制御部材の製造方法、表示装置 - Google Patents

Abstract

光制御部材（１３）は、基材（３９）と、基材（３９）の一面（３９ａ）において第１領域（Ａ１）に設けられた遮光層（４０）と、第１領域（Ａ１）のうち遮光層（４０）以外の領域に設けられた光透過材からなる光拡散部（４１）と、一面（３９ａ）において第１領域（Ａ１）の外側に位置する第２領域（Ａ２）に設けられた支持部（４５）と、を備え、光拡散部（４１）は、基材（３９）の一面（３９ａ）に接する光射出端面（４１ａ）と、光射出端面（４１ａ）に対し光射出端面（４１ａ）の面積よりも大きい面積を有する光入射端面（４１ｂ）と、光射出端面（４１ａ）と光入射端面（４１ｂ）とに接し、光入射端面（４１ｂ）から入射した光を反射する反射面（４１ｃ）と、を有し、第２領域（Ａ２）における単位面積当たりの支持部（４５）の形成面積が、第１領域（Ａ１）における単位面積当たりの支持部（４５）の形成面積よりも大きい。

Description

本発明は、マザー基材、光制御部材、光制御部材の製造方法、表示装置に関するものである。
本願は、２０１３年１１月８日に、日本に出願された特願２０１３−２３２４１８号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

携帯電話機等をはじめとする携帯型電子機器、テレビジョン、パーソナルコンピューター等のディスプレイとして、液晶表示装置が広く用いられている。一般に、液晶表示装置は、正面からの視認性に優れる反面、視野角が狭い。そのため、視野角を広げるための様々な工夫がなされている。その一つとして、液晶パネル等の表示体から射出される光の拡散角度を制御するための部材（以下、光拡散部材と称する）を表示体の視認側に備える構成が提案されている。

例えば、下記の特許文献１には、光拡散層に断面がＶ字状の溝が設けられ、溝の一部に光吸収層が設けられた光制御部材が開示されている。光制御部材において、光拡散層の光入射側および光射出側にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等からなる透明なシートが配置されている。光拡散層に対して垂直に入射した光の一部は、溝の壁面で全反射した後、射出される。これにより、光制御部材から射出される光は拡散される。

特開２０００−３５２６０８号公報

光制御部材をロール・トゥー・ロール法により製造する場合、長尺の基材上に所定の膜厚で透明ネガレジストを塗布して光拡散部を形成し、巻取ローラーにおいて基材を巻き取ることになる。透明ネガレジスト層を形成する際は、基材の裏面やラミネート装置を汚さないように、基材の幅（短手方向の幅）よりも狭い幅で形成する必要がある。
しかしながら、光拡散部を形成した後に基材を巻き取ると、基材の両端部と光拡散部との間に生じる段差部分に荷重が集中し、光拡散部が変形してしまう。また、光拡散部の外周部において、光拡散部と基材との密着面積が少ないと、光拡散部の周辺部に力が加わると剥離する恐れがある。
なお、この問題は、ロール・トゥー・ロール法に限らず、他の製造方法によっても生じる恐れがある。

本発明の一つの態様は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、製造過程で生じる不具合を抑制して光学特性に優れた、マザー基材、光制御部材、光制御部材の製造方法、表示装置を提供することを目的の一つとしている。

本発明の一つの態様のマザー基材は、光透過性を有するとともに光制御部材形成領域を備えた第１基材と、前記光制御部材形成領域における第１領域に設けられた遮光層と、前記第１領域のうち前記遮光層以外の領域に設けられた光透過材からなる複数の光拡散部と、前記光制御部材形成領域のうち前記第１領域の外側に位置する第２領域に設けられた前記光透過材と、を備え、前記光拡散部は、前記第１基材の第１面側の端部に位置する光射出端面と、前記光射出端面に対し前記光射出端面の面積よりも大きい面積を有する光入射端面と、前記光射出端面と前記光入射端面とに接し、前記光入射端面から入射した光を反射する反射面と、を有し、前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなっている。

本発明の一つの態様のマザー基材において、 前記第２領域に前記遮光層が設けられており、前記第２領域に設けられた前記遮光層のＵＶ透過率が、前記第１領域に設けられた前記遮光層のＵＶ透過率よりも高くなっている構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、前記第２領域における前記光透過材の平面視における幅は、前記第１領域における前記遮光層同士の配置間隔よりも広くなっている構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、 前記第２領域に前記遮光層が設けられており、前記第２領域に設けられた前記遮光層の平面視における大きさが、前記第１領域に設けられた前記遮光層の平面視における大きさよりも小さい構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、前記遮光層は、前記第１領域のみに複数設けられている構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、前記第１領域の周囲が前記第２領域によって囲まれている構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、前記第１基材の前記第１面には、前記第２領域よりも外側に、前記遮光層及び前記光透過材が存在しない第３領域が設けられている構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材において、前記第１基材の前記第１面側に前記光透過材を介して第２基材が対向配置され、前記光透過材と前記第２基材との間に弾性部材が配置されている構成としてもよい。

本発明の一つの態様の光制御部材は、光透過性を有する第１基材と、前記第１基材の第１面において第１領域に設けられた遮光層と、前記第１領域のうち前記遮光層以外の領域に設けられた光透過材からなる光拡散部と、前記第１面において前記第１領域の外側に位置する第２領域に設けられた前記光透過材と、を備え、前記光拡散部は、前記第１基材の前記第１面に接する光射出端面と、前記光射出端面に対し前記光射出端面の面積よりも大きい面積を有する光入射端面と、前記光射出端面と前記光入射端面とに接し、前記光入射端面から入射した光を反射する反射面と、を有し、前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなっている。

本発明の一つの態様の光制御部材の製造方法は、第１基材の第１面に複数の光制御部材形成領域を有するマザー基材から複数の光制御部材を製造する光制御部材の製造方法であって、前記複第１面の第１領域に遮光層を形成する工程と、前記遮光層が形成された前記第１領域と、前記第１領域の外側に位置する第２領域とに光感光性樹脂層を形成する工程と、前記第１基材の前記第１面とは反対側の第２面側から光を照射し、前記遮光層をマスクにして前記光感光性樹脂層を感光する工程と、前記光感光性樹脂層を現像することで前記第１領域に光拡散部を形成するとともに、前記第２領域に光透過材を形成する工程と、前記第１基材を前記光制御部材形成領域ごとに切断して複数の光制御部材を得る工程と、を備え、前記光透過材と前記光拡散部とを同時に形成する工程において、前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなるように形成する。

本発明の一つの態様の光制御部材の製造方法において、前記第２領域において前記第１基材を切断する製造方法としてもよい。

本発明の一つの態様の光制御部材の製造方法において、前記第１基材がロール・トゥー・ロール方式で搬送され、前記第１基材の搬送方向に交差する方向の両端よりも内側に前記光感光性樹脂層を形成する製造方法としてもよい。

本発明の一つの態様の表示装置は、入力信号に対し映像を出力する表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光を拡散させて射出させる光制御部材と、前記光制御部材が、上記の光制御部材で構成されており、前記光制御部材は、前記光拡散部が形成された第１領域が前記表示体における表示領域に位置し、前記光透過材が形成された第２領域が前記表示領域以外の領域に位置するように設けられる。

本発明の一つの態様の表示装置において、前記光制御部材が、前記光の散乱特性に異方性を持つ構成をなし、前記表示体の輝度視野角が相対的に狭い方位角方向と、前記光制御部材の拡散性が相対的に強い方位角方向とが概ね一致している構成としてもよい。

本発明の一つの態様のマザー基材、光制御部材によれば、製造過程で生じる不具合を抑制して光学特性に優れた、マザー基材、光制御部材を提供することができる。本発明の一つの態様の光制御部材の製造方法によれば、製造工程中における不具合を抑制して光学特性に優れた光制御部材を提供することができる。本発明の一つの態様の表示装置によれば、表示品質に優れた表示装置を提供することができる。

液晶表示装置の概略構成を示す断面図。 液晶パネルの概略構成を示す断面図。 光制御部材の模式図。 左側上段は光制御部材の平面図、左側下段は、左側上段の平面図のＡ−Ａ線に沿った断面図、右側上段は、左側上段の平面図のＢ−Ｂ線に沿った断面図。 光制御部材の概略構成を模式的に示す平面図であって、光拡散部側から見た図である。 液晶パネルに電圧が印加されていないとき（電圧無印加時）の状態を示す図。 液晶パネルに一定の電圧を印加したとき（電圧印加時）の状態を示す図。 極角と方位角の定義を説明するための図。 液晶表示装置の正面図。 液晶表示装置１の正面図における、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、偏光板の透過軸（第１偏光板３の透過軸Ｐ１、第２偏光板５の透過軸Ｐ２）との配置関係を示す図。 第１実施形態の光制御部材の製造方法に用いられる光制御部材の製造装置の一例を示す概略構成図。 光制御部材の製造方法を示すフローチャート。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する第１の平面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する第２の平面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する第３の平面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する断面図であって、基材の短手方向における第１の断面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する断面図であって、基材の短手方向における第２の断面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する断面図であって、基材の短手方向における第３の断面図。 光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する断面図であって、基材の短手方向における第４の断面図。 第２実施形態における光制御部材の概略構成を示す平面図。 原反ロールの製造工程を、順を追って説明する第１の平面図。 原反ロールの製造工程を、順を追って説明する第２の平面図。 原反ロールの製造工程を、順を追って説明する第３の平面図。 原反ロールの製造工程における基材の平面を示す図。 光制御部材の基材の短辺方向（Ｙ方向）における第２領域Ａ２の幅Ｗ１と、長辺方向（Ｘ方向）における第２領域Ａ２幅Ｗ２とについて示す第１の図。 光制御部材の基材の短辺方向（Ｙ方向）における第２領域Ａ２の幅Ｗ１と、長辺方向（Ｘ方向）における第２領域Ａ２幅Ｗ２とについて示す第２の図。 光制御部材の基材の短辺方向（Ｙ方向）における第２領域Ａ２の幅Ｗ１と、長辺方向（Ｘ方向）における第２領域Ａ２幅Ｗ２とについて示す第３の図。 遮光層が設けられた第１領域を示す図。 第２領域に遮光層を設ける構成について例示する第１の図。 第２領域に遮光層を設ける構成について例示する第２の図。 第２領域に膜厚の薄い遮光層を設けた構成を例示する平面図。 第１領域における遮光層と第２領域における遮光層の膜厚を比較する断面図。 遮光層よりもＵＶ透過率の高い可視光遮光層を第２領域の全体に設けた構成を示す図。 第３実施形態における光制御部材の概略構成を示す平面図。 第３領域を切り取った後の光制御部材を示す平面図。 第３実施形態における光制御部材の製造工程を説明する第１の図。 第３実施形態における光制御部材の製造工程を説明する第２の図。 第３実施形態における光制御部材の製造工程を説明する図。 第４実施形態における光制御部材の概略構成を示す断面図。 第５実施形態における光制御部材の縦断面図。 第５実施形態における光制御部材の製造装置の一例を示す概略構成図。 上段は平面形状が長方形の遮光層を示す平面図、下段は平面図のＡ−Ａ線に沿った断面図。

以下、図面を参照して、本発明のマザー基材を用い、光制御部材、光制御部材の製造方法、表示装置の一実施の形態について説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。

［第１実施形態］
本発明の第１実施形態として、図１に示す液晶表示装置（表示装置）１について説明する。
図１は、液晶表示装置１の概略構成を示す断面図である。
液晶表示装置１は、図１に示すように、バックライト２と、第１偏光板３と、液晶パネル４と、第２偏光板５と、後述の光制御部材からなる光制御部材７と、を備えている。このうち、バックライト２、第１偏光板３、液晶パネル４及び第２偏光板５は、液晶表示体（表示体）８を構成している。

観察者は、光制御部材７が配置された図１における液晶表示装置１の上側から表示を見ることになる。以下の説明では、光制御部材７が配置された側を視認側と称し、バックライト２が配置された側を背面側と称する。また、以下の説明において、Ｘ軸は液晶表示装置１の画面の水平方向、Ｙ軸は液晶表示装置１の画面の垂直方向、Ｚ軸は液晶表示装置１の厚さ方向、と定義する。

本実施形態の液晶表示装置１においては、バックライト２から射出された光を液晶パネル４で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル４から射出された光が光制御部材７を透過すると、射出光の配光分布（拡散角度分布）が光制御部材７に入射する前より広がった状態となって、光が光制御部材７から射出される。
これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。

以下、液晶パネル４の具体的な構成について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを一例に挙げて説明する。ただし、本発明に適用可能な液晶パネルはアクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルに限るものではない。本発明に適用可能な液晶パネルは、例えば半透過型（透過・反射兼用型）液晶パネルであっても良い。さらには、各画素がスイッチング用薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor, 以下、ＴＦＴと略記する）を備えていない単純マトリクス方式の液晶パネルであっても良い。

図２は、液晶パネルの概略構成を示す断面図である。
液晶パネル４は、図２に示すように、ＴＦＴ基板（素子基板ともいう。）９と、ＴＦＴ基板９に対向して配置されたカラーフィルター基板（対向基板ともいう。）１０と、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間に配置された液晶層１１とを概略備えている。

液晶層１１は、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間の周囲をシール部材（図示せず。）で封止し、その間に液晶を注入することによって、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間に挟持されている。また、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間には、その間の間隔を一定に保持するための球状のスペーサー１２が配置されている。

ＴＦＴ基板９には、表示の最小単位領域である画素（図示せず）がマトリクス状に複数並んで配置されている。ＴＦＴ基板９には、複数のソースバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在するように形成されると共に、複数のゲートバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在し、且つ、複数のソースバスラインと直交するように形成されている。
したがって、ＴＦＴ基板９上には、複数のソースバスラインと複数のゲートバスラインとが格子状に形成され、隣接するソースバスラインと隣接するゲートバスラインとによって区画された矩形状の領域が一つの画素となる。ソースバスラインは、後述するＴＦＴのソース電極に接続され、ゲートバスラインは、ＴＦＴのゲート電極に接続されている。

ＴＦＴ基板９を構成する透明基板１４の液晶層１１側の面には、半導体層１５、ゲート電極１６、ソース電極１７、ドレイン電極１８等を有するＴＦＴ１９が形成されている。
透明基板１４には、例えばガラス基板を用いることができる。透明基板１４上には、例えばＣＧＳ（Continuous Grain Silicon：連続粒界シリコン）、ＬＰＳ（Low-temperaturePoly-Silicon：低温多結晶シリコン）、α−Ｓｉ（Amorphous Silicon：非結晶シリコン）等の半導体材料からなる半導体層１５が形成されている。また、透明基板１４上には、半導体層１５を覆うようにゲート絶縁膜２０が形成されている。ゲート絶縁膜２０の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、若しくはこれらの積層膜等が用いられる。ゲート絶縁膜２０上には、半導体層１５と対向するようにゲート電極１６が形成されている。ゲート電極１６の材料としては、例えばＷ（タングステン）／ＴａＮ（窒化タンタル）の積層膜、Ｍｏ（モリブデン）、Ｔｉ（チタン）、Ａｌ（アルミニウム）等が用いられる。

ゲート絶縁膜２０上には、ゲート電極１６を覆うように第１の層間絶縁膜２１が形成されている。第１の層間絶縁膜２１の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、若しくはこれらの積層膜等が用いられる。第１の層間絶縁膜２１上には、ソース電極１７及びドレイン電極１８が形成されている。ソース電極１７は、第１の層間絶縁膜２１とゲート絶縁膜２０とを貫通するコンタクトホール２２を介して半導体層１５のソース領域に接続されている。同様に、ドレイン電極１８は、第１の層間絶縁膜２１とゲート絶縁膜２０とを貫通するコンタクトホール２３を介して半導体層１５のドレイン領域に接続されている。ソース電極１７及びドレイン電極１８の材料としては、上述のゲート電極１６と同様の導電性材料が用いられる。第１の層間絶縁膜２１上には、ソース電極１７及びドレイン電極１８を覆うように第２の層間絶縁膜２４が形成されている。第２の層間絶縁膜２４の材料としては、上述の第１の層間絶縁膜２１と同様の材料、若しくは有機絶縁性材料が用いられる。

第２の層間絶縁膜２４上には、画素電極２５が形成されている。画素電極２５は、第２の層間絶縁膜２４を貫通するコンタクトホール２６を介してドレイン電極１８に接続されている。すなわち、この画素電極２５は、ドレイン電極１８を中継用電極として半導体層１５のドレイン領域に接続されている。画素電極２５の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide、インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide、インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電性材料が用いられる。この構成により、ゲートバスラインを通じて走査信号が供給され、ＴＦＴ１９がオン状態となったときに、ソースバスラインを通じてソース電極１７に供給された画像信号が、半導体層１５、ドレイン電極１８を経て画素電極２５に供給される。また、第２の層間絶縁膜２４上には、画素電極２５を覆うように全面に亘って配向膜２７が形成されている。この配向膜２７は、ラビング等の特殊な処理を行うことにより、液晶層１１を構成する液晶分子を任意の方位と角度で配向させる配向規制力を有している。なお、ＴＦＴの形態としては、図２に示したトップゲート型のＴＦＴであってもよいし、ボトムゲート型のＴＦＴであってもよい。

一方、カラーフィルター基板１０を構成する透明基板２９の液晶層１１側の面には、ブラックマトリクス３０、カラーフィルター３１、平坦化層３２、対向電極３３、配向膜３４が順次形成されている。ブラックマトリクス３０は、画素間領域において光の透過を遮断する機能を有しており、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属、若しくはカーボン粒子を感光性樹脂に分散させたフォトレジストで形成されている。カラーフィルター３１には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の色素が含まれており、ＴＦＴ基板９上の一つの画素電極２５にＲ，Ｇ，Ｂのいずれか一つのカラーフィルター３１が対向して配置されている。なお、カラーフィルター３１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色以上の多色構成としてもよい。平坦化層３２は、ブラックマトリクス３０及びカラーフィルター３１を覆う絶縁膜で構成されており、ブラックマトリクス３０及びカラーフィルター３１によってできる段差を緩和して平坦化する機能を有している。平坦化層３２上には、対向電極３３が形成されている。対向電極３３の材料としては、画素電極２５と同様の透明導電性材料が用いられる。また、対向電極３３上の全面には、ラビング処理が行われ、水平配向規制力を有する配向膜３４が形成されている。

次に、光拡散部材を構成する光制御部材の構成について説明する。
本実施形態における光制御部材７は、以下に述べる光制御部材１３より構成される。
図１に示すように、光制御部材１３は、基材（第１基材）３９と、複数の遮光層４０と、光拡散層４６と、を備えている。

光拡散層４６は、光拡散部４１と支持部（光透過材）４５とを主として構成されるものである。光拡散部４１は、内面（第１面）３９ａにおける第１領域Ａ１のうち、遮光層４０が形成された領域以外の領域に形成されている。支持部４５は、第１領域Ａ１の外側に位置する第２領域Ａ２に形成され、光拡散部４１と同じ材料（光透過材）で光拡散部４１と一体に形成されるものである。

光制御部材１３は、光拡散部４１が設けられた側を第２偏光板５に向け、基材３９の側を視認側に向けた姿勢で第２偏光板５上に配置されている。光制御部材１３は、接着剤層（不図示）を介して第２偏光板５に固定されている。

基材３９には、例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム等の透明樹脂製の基材が好ましく用いられる。基材３９は、製造プロセスにおいて、後で遮光層４０や光拡散部４１の材料を塗布する際の下地となる。基材３９は、製造プロセス中の熱処理工程における耐熱性と機械的強度とを備える必要がある。したがって、基材３９には、樹脂製の基材の他、ガラス製の基材等を用いても良い。ただし、基材３９の厚さは耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、基材３９の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じる虞があるからである。また、基材３９の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。
本実施形態では、一例として厚さが１００μｍの透明樹脂製基材を用いる。

遮光層４０は、基材３９の主面の法線方向から見てランダムに配置されている。隣り合う遮光層４０の間隔（ピッチ）の配置は、規則的でもなく、周期的でもない。遮光層４０の間隔（ピッチ）は液晶パネル４の画素の間隔（ピッチ、例えば１５０μｍ）よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも１つの遮光層４０が形成される。そのため、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときでも面内で均一に広視野角化を図ることができる。

遮光層４０は、一例として、ブラックレジスト、黒色インク等の光吸収性および感光性を有する有機材料で構成されている。その他、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属膜を用いても良い。また、遮光層４０を構成する有機材料は、紫外線を吸収する紫外線吸収物質を含んでいてもよい。

光拡散部４１は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料で構成されている。また、光拡散部４１の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。

光拡散部４１は、図１に示すように、光射出端面４１ａと、光入射端面４１ｂと、反射面４１ｃと、を有する。光射出端面４１ａは、基材３９に接する面である。光入射端面４１ｂは、光射出端面４１ａと対向する面である。反射面４１ｃは、光拡散部４１のテーパ状の側面である。反射面４１ｃは、光入射端面４１ｂから入射した光を反射する面である。光入射端面４１ｂの面積は、光射出端面４１ａの面積よりも大きい。

光拡散部４１は、光制御部材１３において光の透過に寄与する部分である。すなわち、光拡散部４１に入射した光は、光拡散部４１の反射面４１ｃで全反射しつつ、光拡散部４１の内部に略閉じこめられた状態で導光し、射出される。

光制御部材１３は、基材３９が視認側に向くように配置されている。そのため、光拡散部４１の２つの対向面のうち、面積の小さい方の面が光射出端面４１ａとなる。一方、面積の大きい方の面が光入射端面４１ｂとなる。

光拡散部４１の反射面４１ｃの傾斜角度（光入射端面４１ｂと反射面４１ｃとのなす角度）は、７５°以上８９°以下が好ましい。本実施形態では、光拡散部４１の反射面４１ｃの傾斜角度が７５°である。ただし、光拡散部４１の反射面４１ｃの傾斜角度は、光制御部材１３から光が射出する際に、入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。本実施形態において、光拡散部４１の反射面４１ｃの傾斜角度は一定になっている。

光拡散部４１の光入射端面４１ｂから光射出端面４１ａまでの高さは、遮光層４０の層厚よりも大きく設定されている。本実施形態の場合、遮光層４０の層厚は一例として１５０ｎｍ程度である。光拡散部４１の光入射端面４１ｂから光射出端面４１ａまでの高さは一例として２０μｍ程度である。

光拡散部４１の反射面４１ｃと遮光層４０とにより囲まれた部分は、中空部４２となっている。本実施形態の場合、中空部４２（光拡散部４１の外部）には空気が存在している。そのため、光拡散部４１を例えば透明アクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部４１の反射面４１ｃは透明アクリル樹脂と空気との界面となる。ここで、中空部４２を他の低屈折率材料で充填しても良い。しかしながら、光拡散部４１の内部と外部との界面の屈折率差は、外部にいかなる低屈折率材料が存在する場合よりも空気が存在する場合が最大となる。したがって、スネルの法則より、本実施形態の構成においては臨界角が最も小さくなり、光拡散部４１の反射面４１ｃで光が全反射する入射角範囲が最も広くなる。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。

なお、本実施形態において、低屈折率材料が存在するとは、光を全反射可能にするため、光拡散部４１の周囲を低屈折率状態とすることを示している。そのため、中空部４２には、空気に代えて、窒素等の不活性ガスが充填されている状態も含むものとする。もしくは、中空部４２の内部が真空状態や大気よりも減圧状態であっても良い。

また、基材３９の屈折率と光拡散部４１の屈折率とは略同等であることが望ましい。その理由は、以下による。例えば、基材３９の屈折率と光拡散部４１の屈折率とが大きく異なる場合を考える。この場合、光入射端面４１ｂから入射した光が光拡散部４１から射出する際に、光拡散部４１と基材３９との界面で不要な光の屈折や反射が生じることがある。この場合、所望の視野角が得られない、射出光の光量が減少する、等の不具合が生じる虞があるからである。

図３は、光制御部材１３の模式図である。図４において、左側上段は光制御部材１３の平面図である。左側下段は、左側上段の平面図のＡ−Ａ線に沿った断面図である。右側上段は、左側上段の平面図のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。

本実施形態の光制御部材１３は、図３の左側上段に示すように、複数の遮光層４０が、基材３９の内面３９ａに点在して設けられている。基材３９の法線方向から見た遮光層４０の平面形状は細長い楕円形である。遮光層４０は、長軸と短軸とを有している。ここで、長軸とは、基材３９の法線方向から見た遮光層４０の平面形状において最も長さの長い軸とする。短軸とは、基材３９の法線方向から見た遮光層４０の平面形状において最も長さの短い軸とする。本実施形態の光制御部材１３では、それぞれの遮光層４０において長軸の長さに対する短軸の長さの比が概ね等しい。

図４の左側下段、右側上段に示すように、遮光層４０の下方に相当する部分が楕円錐台状の中空部４２となる。光制御部材１３は複数の中空部４２を有している。複数の中空部４２以外の部分には、光拡散部４１が連なって設けられている。

本実施形態の光制御部材１３では、それぞれの遮光層４０の平面形状をなす楕円の長軸方向（以下、遮光層４０の長軸方向と称することがある）が概ねＸ方向に揃っている。それぞれの遮光層４０の平面形状をなす楕円の短軸方向（以下、遮光層４０の短軸方向と称することがある）が概ねＹ方向に揃っている。このことから、光拡散部４１の反射面４１ｃの向きを考えると、光拡散部４１の反射面４１ｃのうち、Ｘ方向に沿った反射面４１ｃの割合はＹ方向に沿った反射面４１ｃの割合よりも多い。そのため、Ｘ方向に沿った反射面４１ｃで反射してＹ方向に拡散する光Ｌｙは、Ｙ方向に沿った反射面４１ｃで反射してＸ方向に拡散する光Ｌｘよりも多くなる。

したがって、光制御部材１３の拡散性が最も強い方位角方向Ｖｓは、遮光層４０の短軸方向であるＹ方向となる。極角方向は任意とする。なお、極角と方位角の定義については後述する。

ただし、遮光層４０の平面形状が円形の場合には、光拡散部４１の反射面４１ｃのうち、Ｘ方向に沿った反射面の割合はＹ方向に沿った反射面の割合と等しい。そのため、Ｘ方向に沿った反射面で反射してＹ方向に拡散する光は、Ｙ方向に沿った反射面で反射してＸ方向に拡散する光と等しくなる。つまり、基材３９の法線方向から見て、反射面４１ｃからは光が等方的に反射されることとなる。したがって、光拡散部４１の拡散性が最も強い方位角方向は存在しない。

図５は、光制御部材の概略構成を模式的に示す平面図であって、光拡散部側から見た図である。なお、図５においては、便宜上、複数の遮光層４０がそれぞれ同じサイズで規則的に配置されているが、実際には平面形状が細長い楕円形でランダムに形成されている。

光制御部材１３は、図５に示すように、基材３９の一面３９ａにおける第１領域Ａ１に形成された複数の遮光層４０と、複数の遮光層４０を囲むようにして形成された光拡散部４１と、第２領域Ａ２に形成された支持部４５と、を有する。

遮光層４０は、基材３９の一面３９ａに設定された第１領域Ａ１のみに多数形成されている。
光拡散部４１は、第１領域Ａ１のうち遮光層４０が形成された領域以外の領域に形成されている。光拡散部４１は、遮光層４０と対応する位置に中空部４２を有した構成となっている。光制御部材１３単体の状態において、中空部４２は光拡散部４１における基材３９とは反対側の面（組立時において液晶パネル４側の面）に開口している。

支持部４５は、第１領域Ａ１の短手方向両外側にそれぞれ位置する第２領域Ａ２に設けられ、光拡散部４１と一体的な構成を成す。支持部４５は、基材３９の短辺方向両端よりも内側に形成されている。基材３９の内面３９ａにおける第３領域Ａ３には遮光層４０、支持部４５のいずれも形成されておらず、内面３９ａの一部が露出している。

第２領域Ａ２における支持部４５のＹ方向の幅は、中空部４２同士の間に存在する光拡散部４１の幅（隣り合う遮光層４０同士の最大離間距離）よりも広い幅を有する。第２領域Ａ２には遮光層４０が形成されていないことから中空部４２も存在しない。つまり、第２領域Ａ２における単位面積当たりの支持部４５の形成面積が、第１領域Ａ１における単位面積当たりの光拡散部４１の形成面積よりも大きくなるように構成されている。

図６Ａ，図６Ｂは、液晶パネル４の動作を説明するための模式図である。
図６Ａは、液晶パネル４（図２に示す画素電極２５と対向電極３３との間）に電圧が印加されていないとき（電圧無印加時）の状態を示す図である。図６Ｂは、液晶パネル４に一定の電圧を印加したとき（電圧印加時）の状態を示す図である。なお、図６Ａ、図６Ｂにおいて、符号Ｍは、液晶層１１を構成する液晶分子である。また、第１偏光板３の透過軸Ｐ１と第２偏光板５の透過軸とは、クロスニコルの配置となっている。

電圧無印加時には、図６Ａに示すように、液晶分子Ｍは、配向膜２７と配向膜３４との間で、９０°ツイストした状態となる。このとき、１３５°−３１５°方向の透過軸Ｐ１を有する第１偏光板３を透過した直線偏光の偏光面が、液晶層１１の持つ旋光性により９０°回転する。これにより、第１偏光板３を透過した直線偏光が、４５°−２２５°方向の透過軸Ｐ２を有する第２偏光板５を透過する。その結果、電圧無印加時には白表示となる。

電圧印加時には、図６Ｂに示すように、液晶分子Ｍは、配向膜２７と配向膜３４との間で、電界に沿った方向に立ち上がった状態となる。このとき、１３５°−３１５°方向の透過軸Ｐ１を有する第１偏光板３を透過した直線偏光の偏光面は回転しない。そのため、第１偏光板３を透過した直線偏光は、４５°−２２５°方向の透過軸Ｐ２を有する第２偏光板５を透過しない。その結果、電圧印加時には黒表示となる。

以上のように、液晶パネル４では、画素毎に電圧の印加／無印加を制御することにより白表示と黒表示とを切り替え、画像を表示することができる。

図７は、極角と方位角の定義を説明するための図である。
ここで、図７に示すように、液晶表示装置１の画面の法線方向Ｅを基準とした観察者の視線方向Ｆのなす角度を極角θとする。ｘ軸の正方向（０°方向）を基準とした観察者の視線方向Ｆを画面上に射影したときの線分Ｇの方向のなす角度を方位角φとする。

図８Ａは、液晶表示装置の正面図であり、図８Ｂは、液晶表示装置１の正面図における、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、偏光板の透過軸（第１偏光板３の透過軸Ｐ１、第２偏光板５の透過軸Ｐ２）との配置関係を示す図である。

図８Ａに示すように、液晶表示装置１の画面において、水平方向（ｘ軸方向）を方位角φ：０°−１８０°方向とする。方位角φ：０°−１８０°方向は、端的にいうと左右方向である。具体的には、方位角φ：０°−１８０°方向は、地面に対して水平な軸に沿った方向である。垂直方向（ｙ軸方向）を方位角φ：９０°−２７０°方向とする。方位角φ：９０°−２７０°方向は、端的にいうと上下方向である。具体的には、方位角φ：９０°−２７０°方向は、地面に対して垂直な軸に沿った方向である。

図８Ｂに示すように、光制御部材１３が貼り合わされた液晶表示装置１の正面形状は、左右方向に長い（横長の）長方形である。光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓは、液晶表示体８の輝度視野角が相対的に狭い方位角方向（方位角φ：９０°−２７０°方向）である。これにより、液晶表示装置１において上下方向の拡散強度が大きくなり、上下方向の視認性がより改善される。

本実施形態では、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、基材３９の短辺とを概ね平行としている。すなわち、本実施形態においては、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、第２偏光板５の透過軸Ｐ２と、を概ね４５度の角度をなすようにしている。光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、第１偏光板３の透過軸Ｐ１と、を概ね４５度の角度をなすようにしている。

なお、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、基材３９の短辺とは、完全に一致するもしくは平行となる必要はなく、概ね平行となっていればよい。一般に液晶表示装置１の組立工程において、液晶パネルと偏光板との位置合わせの回転方向のずれは５°程度以内と考えられる。したがって、光制御部材１３の拡散性が相対的に強い方位角方向Ｖｓと、基材３９の短辺とが５°程度ずれている場合も、本発明の技術範囲に含まれる。

次に、光制御部材の製造方法について述べる。
図９は、本実施形態の光制御部材の製造方法に用いられる光制御部材の製造装置の一例を示す概略構成図である。

図９に示す製造装置６０は、長尺の基材（第１基材）５９をロール・トゥー・ロールで搬送し、その間に各種の処理を行うものである。製造装置６０により、まず光制御部材の形成領域を多数有するロール状の原反ロール（マザー基材）５５を形成する。この原反ロール５５を個片化することにより複数の光制御部材が得られる。

製造装置６０は、図９に示すように、一端に基材５９を送り出す送出ローラー６１が設けられ、他端には基材５９を巻き取る巻取ローラー６２が設けられている。基材５９は、送出ローラー６１側から巻取ローラー６２側に向けて移動する構成となっている。基材５９の上方には、送出ローラー６１側から巻取ローラー６２側に向けて印刷装置６３、バーコート装置６４と第１乾燥装置６５から構成されるネガ型感光性樹脂層形成装置６６、現像装置６７、第２乾燥装置６８等が順次配置されている。基材５９の下方には、露光装置６９が配置されている。

印刷装置６３は、基材５９上に黒色樹脂からなる遮光層４０を印刷するためのものである。
バーコート装置６４は、光透過性を有するネガ型感光性樹脂（光感光性樹脂層）５７を用いて光拡散部４１を形成する場合、遮光層４０上に光透過性を有するネガ型感光性樹脂５７を塗布するためのものである。

第１乾燥装置６５は、光透過性を有するネガ型感光性樹脂５７を用いて光拡散部４１を形成する場合、塗布後のネガ型感光性樹脂５７を乾燥させて塗膜５８とするためのものである。

なお、本実施形態では、ネガ型感光性樹脂層形成装置６６として、バーコート装置６４と第１乾燥装置６５から構成されるものを例示したが、本実施形態はこれに限定されるものではない。ドライフィルムレジストを用いて光拡散部を形成する場合、ネガ型感光性樹脂層形成装置６６として、基材５９にドライフィルムレジストをラミネートするラミネート装置が用いられる。

現像装置６７は、露光後のネガ型感光性樹脂５７（塗膜５８）を現像液によって現像するためのものである。第２乾燥装置６８は、現像後のネガ型感光性樹脂５７（塗膜５８）からなる光拡散部４１が形成された基材５９を乾燥させるためのものである。

露光装置６９は、基材５９側からネガ型感光性樹脂５７の塗膜５８の露光を行うためのものである。露光装置６９は、複数の光源７０を備えている。

露光装置６９は、遮光層４０およびネガ型感光性樹脂層５８を形成した基材５９の一方の面５９ａと反対側の面に配置される。露光装置６９は、遮光層４０の形成領域以外の領域の基材５９を通して、２つの方向から基材５９の裏面（面５９ａとは反対側の面）の法線方向に対して斜めに、ネガ型感光性樹脂層５８に紫外光からなる拡散光を照射し、ネガ型感光性樹脂層５８を露光する。

原反ロール５５の基材５９としては、一般に、熱可塑性ポリマーや熱硬化性樹脂、光重合性樹脂などの樹脂類などが用いられる。アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマー等などからなる適宜な透明樹脂製（光透過性）の基材を用いることができる。

基材５９としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム等の透明樹脂製の基材が好ましく用いられる。

基材５９は、遮光層４０や光拡散部４１の材料を塗布する際の下地となるものであり、製造プロセス中の熱処理工程における耐熱性と機械的強度とを備える。ただし、基材５９の厚さは、耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。また、基材５９の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。

遮光層４０は、図９に示すように、基材５９の一方の面５９ａの所定領域にランダムに形成される。図９においては、便宜上、複数の遮光層４０がそれぞれ同じサイズで規則的に形成されているが、実際には平面形状が細長い楕円形でランダムに形成されている。

遮光層４０は、例えば、ブラックレジスト等の光吸収性および感光性を有する有機材料で構成されている。このほか、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属膜、黒色インクに用いられるような顔料・染料、多色のインクを混合して黒色系インクとしたものを用いて、遮光層４０を形成してもよい。これらの材料以外でも、遮光性を有する材料であれば、遮光層４０の材料として用いることができる。

遮光層４０の厚さは、例えば、光拡散部４１の光入射端面から光射出端面までの高さよりも小さく設定される。

（光制御部材の製造方法）
次に、本実施形態における光制御部材を製造する工程を説明する。ここでは、光フィルムの形成領域を多数備えた原反ロールの製造工程を中心に、その製造方法について説明する。

図１０は、光制御部材の製造方法を示すフローチャートである。図１１Ａ〜図１１Ｃ及び図１２Ａ〜図１２Ｄは、光制御部材（原反ロール）の製造工程を、順を追って説明する断面図である。なお、図１２Ａ〜図１２Ｄは、基材３９の短手方向における断面図である。

図１１Ａ〜図１１Ｃ及び図１２Ａ〜図１２Ｄに示すように、原反ロール５５は、主に、印刷装置６３、ネガ型感光性樹脂層形成装置６６、現像装置６７、第２乾燥装置６８によって、この順に各種の処理が施されることにより製造される。

図１１Ａ及び図１２Ａに示すように、まず、印刷装置６３により長尺の基材５９の一方の面５９ａにおける短手方向中央部分の第１領域Ａ１に、多数の遮光層４０を形成する（遮光層形成工程：Ｓ１）。隣り合う遮光層４０の間隔（ピッチ）は規則的でも周期的でもなく、ランダムに形成される。遮光層形成工程では、第１領域Ａ１のみに遮光層４０を形成し、第２領域Ａ２及び第３領域Ａ３には形成しない。
その後、乾燥装置７１（図９では不図示）によって遮光層４０を乾燥させる。

なお、本実施形態では、印刷法を用いて遮光層４０を形成したが、これに限らない。この他に、ブラックネガレジストを用いたフォトリソグラフィー法によって遮光層４０を形成することもできる。この場合、開口パターンと遮光パターンとが反転したフォトマスクを用いれば、光吸収性を有するポジレジストを用いることもできる。もしくは、蒸着法やインクジェット法等を用いて遮光層４０を直接形成しても良い。

次に、図１１Ｂ及び図１２Ｂに示すように、バーコート装置６４により、基材５９の一方の面５９ａに、多数の遮光層４０を囲むようにしてネガ型感光性樹脂５７を塗布する。具体的には、基材３９の両端よりも内側であって、遮光層４０が多数形成された第１領域Ａ１と、第１領域Ａ１の外側（基材３９の短手方向に沿う外側）に位置する第２領域Ａ２と、に亘って連続的に塗布する。つまり、基材５９の短手方向両端側にそれぞれ存在する第３領域Ａ３にはネガ型感光性樹脂５７を塗布しない。基材５９の短手方向両端よりも内側にネガ型感光性樹脂５７を塗布することにより、溢れ出た樹脂によってバーコート装置６４が汚れるのを防止できる。

ネガ型感光性樹脂５７としては、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料が用いられる。本実施形態では、ネガ型感光性樹脂５７としては、基材５９と屈折率が等しいものが好ましい。

なお、ネガ型感光性樹脂層形成工程において、第３領域Ａ３には遮光層４０だけでなくネガ型感光性樹脂層５８も形成しない。

本実施形態では、バーコート装置６４を用いてネガ型感光性樹脂５７を塗布したが、これに限らない。この他に、スリットコーター法、スピンコート法や印刷法等を用いてネガ型感光性樹脂５７を形成してもよい。

次に、第１乾燥装置６５により、塗布後のネガ型感光性樹脂５７を乾燥させて塗膜（以下、「ネガ型感光性樹脂層」と言う。）５８を形成する（ネガ型感光性樹脂層形成工程：Ｓ２）。

次に、図１２Ｃに示すように、露光装置６９により、遮光層４０およびネガ型感光性樹脂層５８を形成した基材５９の一方の面５９ａと反対側の面から、平面形状が楕円形状の複数の遮光層４０をマスクとしてネガ型感光性樹脂層５８に拡散光を照射し、ネガ型感光性樹脂層５８を露光する（ネガ型感光性樹脂層露光工程：Ｓ３）。

露光装置６９により、遮光層４０の形成領域以外の領域の基材５９を通して、ネガ型感光性樹脂層５８に紫外光からなる拡散光を照射することで、ネガ型感光性樹脂層５８が、遮光層４０の非形成領域から外側に広がるように放射状に露光される。

次に、図１１Ｃに示すように、現像装置６７により、専用の現像液を用いてネガ型感光性樹脂層５８の現像を行う（ネガ型感光性樹脂層現像工程：Ｓ４）。
現像を終えた後、洗浄装置７２により、専用のリンス液（純水など）を用いてネガ型感光性樹脂層５８の洗浄を行う。その後、第２乾燥装置６８により、８０℃で乾燥し、残存する現像液やリンス液，水分を除去する（ネガ型感光性樹脂層乾燥工程：Ｓ５）。

このようにして、図１２Ｄに示すように、基材３９の第１領域Ａ１に複数の中空部４２を有する光拡散部４１を形成するとともに、第２領域Ａ２に支持部４５を形成する。
上述したように、ネガ型感光性樹脂層５８が、遮光層４０の非形成領域から外側に広がるように放射状に露光されることで、順テーパ状の中空部４２が形成される。光拡散部４１は逆テーパ状の形状となる。なお、第３領域Ａ３では、基材５９の一面５９ａが一部露出している。

このようにして光制御部材１３の原反ロール５５を製造する。
製造された原反ロール５５は、一旦、巻取ローラー６２に巻き取られる。その後、巻取ローラー６２から巻き出された原反ロール５５を、液晶パネルに合わせて所定の大きさで切断し、光制御部材１３を個片化する（個片化工程：Ｓ６）。ここでは、原反ロール５５を光制御部材形成領域Ａ（図１１Ｃ）ごとに切断することで、後述する液晶表示装置の平面視サイズに対応した光制御部材１３を複数得る。
以上、上述した工程を経て、光制御部材１３が完成する。

切り出された光制御部材１３は、その後、液晶表示体８の第２偏光板５に貼り合わされる。このとき、光制御部材１３は、基材３９を視認側に向けて、光拡散部４１を第２偏光板５に対向させた状態で液晶表示体８に貼り合わされる。このとき、光制御部材１３は、図１に示したように、光拡散部４１が形成された第１領域Ａ１が液晶表示体８における表示領域Ｒに位置し、支持部４５が形成された第２領域Ａ２が表示領域Ｒ以外の領域に位置するように設けられる。

このように、光制御部材１３の母材である原反ロール５５は、図９に示したように、製造工程中、製造装置６０の巻取ローラー６２において巻き取られる。基材５９上に形成した光拡散部４１は所定の膜厚を有するため、従来の構成（支持部４５を有しない構成）の場合、基材の短手方向両側において、基材と光拡散部との間に段差が存在していた。このような段差がある基材を巻取ローラーで重ねて巻き取る際に、段差のエッジ部分となる、複数の中空部を有する光拡散部の短手方向両側のエッジ部分に荷重が集中してしまう。つまり、基材の短手方向両端側に光拡散部による微細な凹凸形状があると、この部分に荷重が集中して光拡散部が変形しやすくなる。

このように、光拡散部４１の短手方向両側部分にまで中空部４２が形成されていると荷重を受け止める面積が狭くなるため、巻取時に光拡散部４１に大きな圧力が印加されてしまい、光拡散部４１の変形を引き起こすおそれがある。また、光拡散部４１の外周部において、光拡散部４１と基材５９との密着面積が少ないと、光拡散部４１の周辺部に力が加わった際に、基材５９から光拡散部４１が剥離する恐れがある。

これに対し、本実施形態では、光拡散部４１の短手方向両側のエッジ部分には中空部４２を形成していない。基材３９上における光拡散部４１の形成面積で言えば、第１領域Ａ１における単位面積当たりの光拡散部４１の形成面積よりも、第２領域Ａ２における単位面積当たりの支持部４５の形成面積の方が大きい。つまり、第２領域Ａ２における光拡散部４１の幅は、第１領域Ａ１における遮光層４０同士の配置間隔よりも広い構成となっている。

このように、荷重を受け止める面積が広くなることで、巻取ローラー６２に基材５９が巻き取られた際にも、光拡散部４１に大きな圧力が印加されない。光拡散部４１の両側に設けられた支持部４５において荷重が分散されることで、光拡散部４１のエッジ部分の変形が防止されることになる。これにより、優れた光学特性（光拡散性）を有する光制御部材１３となる。
また、光拡散部４１の外周部において、光拡散部４１と基材５９との密着面積が広くなり、光拡散部４１の周辺部での基材５９との密着性が高くなり、剥離が防止される。

［第２実施形態］
以下、本発明の第２実施形態の光制御部材について説明する。
なお、本実施形態において第１実施形態と共通する構成要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。

図１３は、第２実施形態における光制御部材の概略構成を示す平面図である。
図１３に示すように、本実施形態における光制御部材４３（光制御部材７）には、基材３９上において、第１領域Ａ１の周囲を取り囲むようにして第２領域Ａ２が設定されている。本実施形態においても、第１領域Ａ１のみに複数の遮光層４０が形成され、第２領域Ａ２には形成されていない。よって、遮光層４０に対応して形成される中空部４２も第１領域Ａ１のみに存在し、第２領域Ａ２には存在しない。

第２領域Ａ２に形成される支持部４５は、第１領域Ａ１の光拡散部４１と一体的に形成される。光拡散部４１は、基材３９の短手方向両側の端部よりも内側に形成され、基材３９の一面３９ａを一部露出させている。上述したように、支持部４５には中空部４２が存在しておらず、基材３９上において一定の厚さを有している。

（光制御部材の製造方法）
次に、第２実施形態における光制御部材を製造する工程を説明する。ここでは、光フィルムの形成領域を多数備えた原反ロールの製造工程を中心に、その製造方法について説明する。

図１４Ａ〜図１４Ｃは、原反ロールの製造工程を、順を追って説明する平面図である。
図１５は、原反ロールの製造工程における基材の平面を示す図である。
図１４Ａに示すように、印刷装置６３により、基材３９の一面３９ａ上であって、基材５９の搬送方向に所定の間隔をおいて設定された各々の第１領域Ａ１に多数の遮光層４０を形成する。第１領域Ａ１と第１領域Ａ１との間は遮光層４０を形成しない第２の領域となり、第１領域Ａ１の周囲が第２領域Ａ２によって囲まれることになる。

本実施形態においては、基材５９の搬送方向に連続して多数の遮光層４０を形成するのではなく、遮光層４０を所定の数ごとに間欠的に形成するようにした。これにより、基材５９の搬送方向に遮光層４０が形成されない領域が存在することになる。
その後、乾燥装置７１によって各第１領域Ａ１に形成した遮光層４０を乾燥させる。

次に、図１４Ｂに示すように、バーコート装置６４により、遮光層４０を覆うようにして、基材５９の一方の面５９ａにおける第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２にネガ型感光性樹脂５７を塗布する。本実施形態においても、基材５９の短手方向両端側の第３領域Ａ３にはネガ型感光性樹脂５７を塗布しない。

次に、第１乾燥装置６５により、塗布後のネガ型感光性樹脂５７を乾燥させてネガ型感光性樹脂層５８を形成する。
その後、露光装置６９により、遮光層４０をマスクとしてネガ型感光性樹脂層５８を露光する。

次に、図１４Ｃに示すように、現像装置６７によりネガ型感光性樹脂層５８の現像を行った後、洗浄装置７２によりネガ型感光性樹脂層５８を洗浄し、続けて第２乾燥装置６８によりポストベークを行う。このようにして、第１領域Ａ１ごとに複数の中空部４２を有する光拡散部４１を形成する。

製造された原反ロール５５は、巻取ローラーに巻き取られる。
その後、巻取ローラーから原反ロール５５を巻き出し、光制御部材１３の形成領域ごとに原反ロール５５を切断する。図１５に示すように、光制御部材形成領域Ａごとに、原反ロール５５の長手方向で遮光層４０が形成されていない第２領域Ａ２において基材５９を切断する。本実施形態においては、原反ロール５５の長手方向において第２領域Ａ２を二等分する位置で分断し、複数の光制御部材１３を得る。シート状にされた光制御部材１３は重ねて保管され、順次、液晶表示体に貼り合わされる。

本実施形態によれば、基材３９上に、遮光層４０が形成される第１領域Ａ１の周囲を取り囲むようにして、遮光層４０が形成されない第２領域Ａ２が設定されている。すなわち、多数の中空部４２を有する光拡散部４１の周縁に、中空部４２が一つも存在しない支持部４５を設けている。第１領域Ａ１の短手方向両側のみならず長手方向両側にも第２領域Ａ２を設けることにより、荷重を受け止める面積が広くなるため、微細構造とされた光拡散部４１の周囲にかかる荷重を効果的に分散させることができる。

このように、微細構造ではない支持部４５によって光拡散部４１の周囲が強化されているため、製造した複数の光制御部材１３を重ねて保管する場合にも、上方の光制御部材１３の重みによって下方の光制御部材１３の光拡散部４１が変形してしまうようなことを防止することができる。

図１６Ａ〜図１６Ｃは、光制御部材１３の基材３９の短辺方向（Ｙ方向）における第２領域Ａ２（支持部４５）の幅Ｗ１と、長辺方向（Ｘ方向）における第２領域Ａ２（支持部４５）幅Ｗ２について示す図である。

本実施形態では、図１６Ａに示すように、光制御部材１３の短辺方向（Ｙ方向）における第２領域Ａ２（支持部４５）の幅Ｗ１と、長辺方向（Ｘ方向）における第２領域Ａ２（支持部４５）幅Ｗ２とが等しい構成となっている。図１６Ｂに示すように、第２領域Ａ２（支持部４５）の幅Ｗ１よりも第２領域Ａ２（支持部４５）幅Ｗ２の方が広い構成（Ｗ１＜Ｗ２）となっていてもよい。あるいは、図１６Ｃに示すように、第２領域Ａ２（支持部４５）の幅Ｗ１よりも第２領域Ａ２（支持部４５）幅Ｗ２の方が狭い構成（Ｗ１＞Ｗ２）となっていてもよい。

なお、上述した第１実施形態及び第２実施形態では、第２領域Ａ２には遮光層４０が一つも形成されていない構成について述べた。第２領域Ａ２における単位面積当たりの支持部４５の形成面積が、第１領域Ａ１における単位面積当たりの光拡散部４１の形成面積よりも大きくなるのであれば、第２領域Ａ２にも遮光層を設けてもよい。

図１７Ａは、遮光層４０が設けられた第１領域Ａ１を示す図であり、図１７Ｂ、図１７Ｃは、第２領域Ａ２に遮光層を設ける構成について例示するものである。
例えば、図１７Ｂに示すように、第１領域Ａ１（図１７Ａ）に設けられた遮光層４０よりも、平面視における大きさが小さい遮光層８０を第２領域Ａ２に設けてもよい。

また、図１７Ｃに示すように、第２領域Ａ２において単位面積に設ける遮光層８０の数を少なくしてもよい。つまり、第１領域Ａ１よりも、遮光層８０の形成密度を下げた構成としてもよい。

図１７Ｂ、図１７Ｃに示したように、第２領域Ａ２に遮光層８０を設けた場合、遮光層８０上に中空部が形成されることになる。
そこで、第２領域Ａ２に遮光層８０を設けた場合でも中空部が形成されないようにした構成についても例示しておく。

図１８Ａは、第２領域に膜厚の薄い遮光層を設けた構成を例示する平面図であり、図１８Ｂは、第１領域における遮光層と第２領域における遮光層の膜厚を比較する断面図である。

図１８Ａ、図１８Ｂに示すように、第２領域Ａ２に設ける遮光層８１の膜厚Ｔ２を、第１領域Ａ１の遮光層４０の膜厚Ｔ１よりも小さくしておく。これにより、製造工程中、基材３９を背面露光した際に遮光層８１におけるＵＶ透過率が向上し、遮光層８１上のネガ型感光性樹脂層を硬化させることができる。これにより、中空部を有しない光透過部を第２領域Ａ２に形成できる。

また、上記では第２領域Ａ２に平面視楕円形の遮光層を複数設ける構成について例示したが、図１８Ｃに示すように、遮光層４０よりもＵＶ透過率の高い可視光遮光層８２を第２領域Ａ２の全体に設けてもよい。

［第３実施形態］
以下、第３実施形態の光制御部材について述べる。
なお、本実施形態において上記実施形態と共通する共通要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
上記実施形態では、ロール・トゥー・ロール方式の製造方法により製造される光制御部材について述べたが、本実施形態では、枚葉方式を用いて製造される光制御部材について述べる。

図１９Ａは、第３実施形態における光制御部材の概略構成を示す平面図である。図１９Ｂは、第３領域を切り取った後の光制御部材を示す平面図である。
図１９Ａに示すように、本実施形態における光制御部材５３（光制御部材７）は、基材３９の一面３９ａに、遮光層４０及び光拡散部４１が形成された第１領域Ａ１と、第１領域Ａ１の周囲を取り囲むようにして支持部４５が形成された第２領域Ａ２と、第２領域Ａ２の外側であって基材３９の隣り合う２辺に沿って一面３９ａを部分的に露出させる第３領域Ａ３と、を有している。ただし、図１９Ｂに示すように、必要に応じて、第３領域Ａ３は切り取られていても良い。

図２０Ａ、図２０Ｂ及び図２１は、第３実施形態における光制御部材の製造工程を説明する図である。
まず、図２０Ａに示すように、一面８３ａに複数（ここでは、４つ）の光制御部材形成領域Ａを有する大判の透明基材８３を用意する。一面８３ａ上に設定された第１領域Ａ１の各々に複数の遮光層４０を形成する。隣り合う第１領域Ａ１同士は互いに所定の間隔をおいて設けられており、第１領域Ａ１の各々の周辺に第２領域Ａ２が存在する。

次に、図２０Ｂに示すように、透明基材８３の一面８３ａ上に、各第１領域Ａ１に形成された全ての遮光層４０を覆うようにしてネガ型感光性樹脂層５８を形成する。このとき、第３領域Ａ３である一面８３ａの周縁部分を露出させるようにネガ型感光性樹脂層５８を形成する。

その後、遮光層４０をマスクにしてネガ型感光性樹脂層５８に対して透明基材８３の裏面（一面８３ａとは反対側の面）側から紫外線を照射して露光・現像することにより、各第１領域Ａ１に複数の光拡散部及び中空部（図２０Ａではいずれも不図示）を形成する。

次に、図２１に示すように、光制御部材形成領域Ａごとに透明基材８３を切断する。本実施形態においては、隣り合う第１領域Ａ１同士の間に存在する第２領域Ａ２を二等分する位置で切断することで、複数の光制御部材５３を得る。

上述したように、大型の光制御部材５３に対応するため枚葉式の製造方法を用いた場合でも、微細構造をなす第１領域Ａ１の周囲に支持構造としての支持部４５を形成することができる。これにより、個片化した光制御部材５３を上下に積み重ねた際に、下方に位置する光制御部材５３の外周部に荷重が集中して光拡散部４１が変形してしまうのを防止することができる。

また、製造時において透明基材８３を切断する際には、切断箇所に強い機械的外力が負荷されることになるが、切断部分には遮光層４０が形成されていない。このため、樹脂層（支持部４５）と透明基材８３との接着強度は高く、透明基材８３からの樹脂層（支持部４５）の剥がれ等を抑制できる。

［第４実施形態］
以下、第４実施形態の光制御部材について述べる。
なお、本実施形態において上記実施形態と共通する共通要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
本実施形態の光制御部材は、緩衝層付きの光制御部材である。

図２２は、第４実施形態における光制御部材の概略構成を示す断面図である。
図２２に示すように、光制御部材８４（光制御部材７）は、光拡散層４６の基材３９とは反対側に緩衝層（弾性部材）８５と、透明基材（第２基材）８６と、から成る緩衝基材８７を備えた構成とされている。

緩衝層８５は、基材３９側から圧力が加わったときに弾性変形しながら光制御部材８４の周囲に加わる圧力を緩和するものである。緩衝層８５は、光拡散部４１の光入射端面４１ｂに接着されている。

緩衝層８５としては、例えば、アクリル系透明樹脂、ポリオレフィン系エラストマー、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴムなどを用いることができる。その中でも、接着層（粘着剤）としての機能（粘着性）を有するものを用いることが好ましい。これにより、緩衝層８５の接着機能により、緩衝基材８７を光拡散層４６に貼り合せることができる。

緩衝層８５は、光拡散部４１よりも低い屈折率を有することが好ましい。この場合、屈折率が急激に変わるよりも段階的に変わる方が各界面での反射率が低くなるため、光制御部材８４での光の利用効率を高めることができる。

緩衝層８５は、紫外光（ＵＶ光）に対して光透過性を有していてもよい。この場合、光拡散部４１の形成工程において、光拡散部４１となるネガ型感光性樹脂層に対して、基材３９側から紫外光（ＵＶ光）を照射し、遮光層４０をマスクとして露光（パターニング）を行った後に、このネガ型感光性樹脂層に貼り付けられた緩衝層８５により光拡散部４１を保護しながら、遮光層４０の影とならない光入射端面４１ｂ側から紫外光（ＵＶ光）を照射することによって、光拡散部４１をムラ無く本硬化（ポストキュア）させることができる。

透明基材８６は、緩衝層８５の圧縮弾性率よりも高い圧縮弾性率を有するものである。
透明基材８６の一面８６ａの全体に上記の緩衝層８５が形成されている。

本実施形態の構成によれば、複数の光制御部材８４を積み重ねて保管する際に、光制御部材８４の周囲に荷重が加わった場合でも、緩衝層８５が弾性変形しながら力を緩和する。これにより、光拡散部４１の変形をより確実に防止することが可能となる。

［第５実施形態］
以下、第５実施形態の光制御部材について述べる。
なお、本実施形態において上記実施形態と共通する共通要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
上述した各実施形態の液晶表示装置においては、基材の第１領域に、複数の遮光層と、光拡散部と、光拡散部によって周囲が囲まれた中空部と、を有する光制御部材を備え、光拡散部が複数の遮光層の間を埋めるようにして一体に形成された構成を成すものであった。これに対して本実施形態では、第１領域に複数の光拡散部を有しており、光拡散部が個々に独立した構成となっている。

本実施形態における光制御部材９０について詳細に説明する。
図２３は、第５実施形態における光制御部材の縦断面図である。

光制御部材９０（光制御部材７）は、図２３に示すように、基材３９と、基材３９の一面３９ａにおける第１領域Ａ１に設けられた複数の光拡散部９１と、光拡散部９１の周囲の一面３９ａを覆うようにして形成された遮光層９２と、第２領域Ａ２に形成された支持部４５と、を有して構成されている。なお、本実施形態においても、基材３９の少なくとも短手方向両端側の第３領域Ａ３には何も設けられておらず、一面３９ａが部分的に露出している。

複数の光拡散部９１は、水平断面（ｘｙ断面）の形状が円形であり、基材３９側の光射出端面９１ａの面積が小さく、基材３９と反対側の光入射端面９１ｂの面積が大きく形成されている。このような光拡散部９１は、基材３９側から見たとき、いわゆる逆テーパ状の円錐台状の形状を有している。なお、個々の光拡散部９１の周辺には空気が存在する。
この光制御部材９０は、複数の光拡散部９１が設けられた側を第２偏光板５側に向け、基材３９の側を視認側に向けた姿勢で液晶表示体８上に配置される。

図２４は、光制御部材の製造装置の一例を示す概略構成図である。
図２４に示す製造装置９５は、長尺の基材５９をロール・トゥー・ロールで搬送し、その間に各種の処理を行うものである。
製造装置９５は、送出ローラー６１と、巻取ローラー６２と、送出ローラー６１側から巻取ローラー６２側に向けて配置された、印刷装置６３と、第１乾燥装置６５と、バーコート装置６４と、現像装置６７と、第２乾燥装置６８と、を備えている。また、基材３９の下方に配置された露光装置６９を有する。

製造装置９５を用いて光制御部材９０を製造するには、まず、厚さが１００μｍのポリエチレンテレフタレートの基材５９を準備し、複数の円形の開口部９２Ａを有する遮光層９２を、基材５９の一面５９ａにおける第１領域Ａ１に形成する。円形の開口部９２Ａは次工程の光拡散部９１の形成領域に対応する。

次いで、バーコート装置６４より、遮光層９２を覆うようにして、基材５９上の第１領域Ａ１から第２領域Ａ２にかけて、光拡散部材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚２５μｍの塗膜５８を形成する。

次いで、基材５９側から遮光層９２をマスクとして塗膜５８に拡散光ＬＦを照射し、露光を行う。
次いで、現像装置６７により、専用の現像液を用いてネガ型感光性樹脂層５８の現像を行い、第２乾燥装置６８により、８０℃で乾燥し、複数の光拡散部４１を基材５９の一面５９ａに形成する。

以上の工程を経て、光制御部材形成領域を複数備えた原反ロール９６が形成され、これを光制御部材形成領域ごとに個片化することで、本実施形態の光制御部材９０が完成する。

本実施形態のように、円錐台状の光拡散部４１が多数設けられ微細構造とされた第１領域Ａ１の外側の第２領域Ａ２に、微細構造を有しない支持部４５を設けたことにより、製造時において、原反ロール９６として巻取ローラー６２に巻き取られた際にも、基材５９の短手方向両側にかかる荷重を支持部４５において受けとめることができる。これにより、光拡散部９１が変形してしまうのを防止することができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な各実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

図２５において、上段は平面形状が長方形の遮光層を示す平面図であり、下段は平面図のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
図２５に示すように、平面形状が長方形の遮光層４８を用いてもよい。遮光層４８は、長辺方向が概ねＸ方向に沿っているとともに、短辺方向が概ねＹ方向に沿っている。このことから、光拡散部４１の反射面４１ｃの向きを考えると、光拡散部４１の反射面４１ｃのうち、Ｘ方向に沿った反射面４１ｃの割合はＹ方向に沿った反射面４１ｃの割合よりも多い。そのため、Ｘ方向に沿った反射面４１ｃで反射してＹ方向に拡散する光Ｌｙは、Ｙ方向に沿った反射面４１ｃで反射してＸ方向に拡散する光Ｌｘよりも多くなる。
したがって、光制御部材の拡散性が最も強い方位角方向Ｖｓは、遮光層４８の短軸方向であるＹ方向となる。

また、液晶表示装置１の第２偏光板５よりも視認側に散乱層を追加してもよい。散乱層は等方的な散乱を可能とするものが好ましく、これによってより滑らかな輝度視覚特性（散乱特性）を実現することができる。

本発明は、マザー基材、光制御部材、光制御部材の製造方法、表示装置に利用することができる。

１…液晶表示装置（表示装置）、７…光制御部材、８…液晶表示体（表示体）、Ａ…光制御部材形成領域、Ｒ…表示領域、Ｐ…配置間隔、Ｗ，Ｗ１，Ｗ２…幅、１３，４３，５３，８４，９０…光制御部材、３９，５９…基材（第１基材）、３９ａ…内面（第１面）、４０，４８，８０，８１…遮光層、４０ｂ，４１ｂ…光入射端面、４１…光拡散部、４１ａ…光射出端面、４１ｃ…反射面、４５…支持部（光透過材）、５５…原反ロール（マザー基材）、５７…ネガ型感光性樹脂（光感光性樹脂層）、５９ａ…面、８５…緩衝層（弾性部材）、８６…透明基材（第２基材）、Ａ１…第１領域、Ａ２…第２領域、Ａ３…第３領域、Ｌｘ，Ｌｙ…光、Ｖｓ…方位角方向

Claims (14)

1. 光透過性を有するとともに光制御部材形成領域を備えた第１基材と、
   前記光制御部材形成領域における第１領域に設けられた遮光層と、前記第１領域のうち前記遮光層以外の領域に設けられた光透過材からなる複数の光拡散部と、
   前記光制御部材形成領域のうち前記第１領域の外側に位置する第２領域に設けられた前記光透過材と、を備え、
   前記光拡散部は、前記第１基材の第１面側の端部に位置する光射出端面と、前記光射出端面に対し前記光射出端面の面積よりも大きい面積を有する光入射端面と、前記光射出端面と前記光入射端面とに接し、前記光入射端面から入射した光を反射する反射面と、を有し、
   前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなっているマザー基材。
2. 前記第２領域に前記遮光層が設けられており、
   前記第２領域に設けられた前記遮光層のＵＶ透過率が、前記第１領域に設けられた前記遮光層のＵＶ透過率よりも高くなっている請求項１に記載のマザー基材。
3. 前記第２領域における前記光透過材の平面視における幅は、前記第１領域における前記遮光層同士の配置間隔よりも広くなっている請求項１または２に記載のマザー基材。
4. 前記第２領域に前記遮光層が設けられており、
   前記第２領域に設けられた前記遮光層の平面視における大きさが、前記第１領域に設けられた前記遮光層の平面視における大きさよりも小さい請求項１から３のいずれか一項に記載のマザー基材。
5. 前記遮光層は、前記第１領域のみに複数設けられている請求項１または２に記載のマザー基材。
6. 前記第１領域の周囲が前記第２領域によって囲まれている請求項１から５のいずれか一項に記載のマザー基材。
7. 前記第１基材の前記第１面には、前記第２領域よりも外側に、前記遮光層及び前記光透過材が存在しない第３領域が設けられている請求項１から６のいずれか一項に記載のマザー基材。
8. 前記第１基材の前記第１面側に前記光透過材を介して第２基材が対向配置され、
   前記光透過材と前記第２基材との間に弾性部材が配置されている請求項１から７のいずれか一項に記載のマザー基材。
9. 光透過性を有する第１基材と、
   前記第１基材の第１面において第１領域に設けられた遮光層と、前記第１領域のうち前記遮光層以外の領域に設けられた光透過材からなる光拡散部と、
   前記第１面において前記第１領域の外側に位置する第２領域に設けられた前記光透過材と、を備え、
   前記光拡散部は、前記第１基材の前記第１面に接する光射出端面と、前記光射出端面に対し前記光射出端面の面積よりも大きい面積を有する光入射端面と、前記光射出端面と前記光入射端面とに接し、前記光入射端面から入射した光を反射する反射面と、を有し、
   前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなっている光制御部材。
10. 第１基材の第１面に複数の光制御部材形成領域を有するマザー基材から複数の光制御部材を製造する光制御部材の製造方法であって、
    前記第１面の第１領域に遮光層を形成する工程と、
    前記遮光層が形成された前記第１領域と、前記第１領域の外側に位置する第２領域とに光感光性樹脂層を形成する工程と、
    前記第１基材の前記第１面とは反対側の第２面側から光を照射し、前記遮光層をマスクにして前記光感光性樹脂層を感光する工程と、
    前記光感光性樹脂層を現像することで前記第１領域に光拡散部を形成するとともに、前記第２領域に光透過材を形成する工程と、
    前記第１基材を前記光制御部材形成領域ごとに切断して複数の光制御部材を得る工程と、を備え、
    前記光透過材と前記光拡散部とを同時に形成する工程において、
    前記第２領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積が、前記第１領域における単位面積当たりの前記光透過材の形成面積よりも大きくなるように形成する光制御部材の製造方法。
11. 前記第２領域において前記第１基材を切断する請求項１０に記載の光制御部材の製造方法。
12. 前記第１基材がロール・トゥー・ロール方式で搬送され、
    前記第１基材の搬送方向に交差する方向の両端よりも内側に前記光感光性樹脂層を形成する請求項１０または１１のいずれか一項に記載の光制御部材の製造方法。
13. 入力信号に対し映像を出力する表示体と、
    前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光を拡散させて射出させる光制御部材と、
    前記光制御部材が、請求項９に記載の光制御部材で構成されており、
    前記光制御部材は、前記光拡散部が形成された第１領域が前記表示体における表示領域に位置し、前記光透過材が形成された第２領域が前記表示領域以外の領域に位置するように設けられる表示装置。
14. 前記光制御部材が、前記光の散乱特性に異方性を持つ構成をなし、
    前記表示体の輝度視野角が相対的に狭い方位角方向と、前記光制御部材の拡散性が相対的に強い方位角方向とが概ね一致している請求項１３に記載の表示装置。

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