JPWO2014199832A1 - 複数画像表示体 - Google Patents

Abstract

複数画像表示体（１）は、薄膜状のスペーサー層（２）と、万線バリア層（３）と、複数画像形成層（４）とを備える。万線バリア層（３）は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域（５）と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する複数の第二領域（６）とを有し、複数の第二領域（６）が万線形状を成している。複数画像形成層（４）は、万線バリア層（３）の第一領域（５）越しの複数の特定角度からの観察によって視認可能な複数の画像（７〜９）を有し、それぞれの画像（７〜９）は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域（１０）と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第四領域（１１）とを含む。画像（７〜９）は、第三領域（１０）と第四領域（１１）との面積比によるコントラストによって形成される。

Description

本発明は、ＩＤカード、パスポート、及び紙幣などに利用される偽造防止用の複数画像表示体に関する。

商品券及び小切手などの有価証券、クレジットカード、キャッシュカード及びＩＤカードなどのカード類、パスポート及び免許証などの証明書、ブランド品、電子機器及び個人認証媒体などの物品では、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には偽造防止効果に優れた表示体を設けることがある。

このような表示体の多くは、回折格子、ホログラム及びレンズアレイ等の微細構造（即ち、光学素子）を含んでいる。これら光学素子は、例えば観察角度の変化に応じて、動きのあるパターン変化を生じさせることにより解析や偽造が困難な構成を有している。それゆえ、このような光学素子は比較的高い偽造防止効果を発揮し得る。

従来、以上のような光学素子を用いた幾つかの画像表示体が提案されている。例えば、特許文献１は、レンズアレイ層とアイコン層とを積層し、連続的な動きを有し、かつ、奥行き感をもった画像表示体を提案しており、こうした画像表示体は、その高い偽造防止効果が認められ実用化されている。

特許文献１による画像表示体は、紙幣用紙に漉き込む用途で使用されるので、５０μｍ以下の非常に薄いフィルム状に形成される。このため、レンズの焦点距離、レンズアレイのサイズ及びアイコンのサイズが非常に高精細で有ることが求められ、故に高い偽造抑止効果があると考えられている。

しかしながら、レンズアレイを表層に有する複数画像表示体は、最表層のレンズ層がオイルや薬品等の液体によって汚染されたとき、レンズ効果（集光効果、拡大効果）が失われ、所望の連続的な動きや奥行きのある表示が失われるという欠点がある。この欠点は、ＩＤカードやパスポート、紙幣などの実使用時に認証不良を引き起こす懸念がある。

そこで、このような欠点を解決するために、特許文献２は、レンズを使用しない積層表示体を提案している。この特許文献２による表示体は、透過性を有する「万線バリア層」と「スペーサー層」と複数の画像を万線ピッチで分割した「複数画像形成層」とを備えた積層表示体であって、「万線バリア層」越しに観察した際に「複数画像形成層」に記録された複数画像を観察する角度に応じて出現させることが可能であり、パララックス・バリア（視差バリア）型の複数画像の表示体である。

この特許文献２の構成によれば、最表層上がオイルや薬品等の液体によって汚染された場合であっても、所望の連続的な動きや奥行きのある表示が失われることは無く、ＩＤカードやパスポート、紙幣などの実使用に十分に耐え得るものと言える。

しかしながら、この複数画像表示体は、最表層の「万線バリア層」による光量低下が生じるので、下層の「複数画像」をコントラスト良く表示することが困難である。
また、透過光による検証（例えば透かしによる検証）では良好なコントラストを有するので連続的な動きや奥行き感のある表示効果を得ることが可能であるが、一方、反射光による検証では、光量不足によって下層画像のコントラストが低下し、真偽検証が困難となる問題がある。

特表２００９−５４３１３８号公報 ＷＯ２０１１／００７３４３Ａ１号公報

本発明の目的は、最表層が液体で汚染された場合でも十分な表示を得ることができ、しかも、反射光のみの観察条件であっても画像認識が十分に可能である複数画像表示体を提供することである。

本発明に係る複数画像表示体の一態様は、第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層と、前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層とを備える。前記万線バリア層は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している。前記複数画像形成層は、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第四領域とを含み、前記第三領域と前記第四領域との面積比によるコントラストによって前記画像が形成される。

本発明に係る複数画像表示体の別の態様は、第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層と、前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層と、前記スペーサー層とは反対側の前記複数画像形成層の面に積層された電磁波吸収層と備える。前記万線バリア層は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している。前記複数画像形成層は、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第五領域とを含み、前記第三領域と前記第五領域との面積比によるコントラストによって画像が形成される。前記電磁波吸収層は、前記万線バリア層、前記スペーサー層、及び前記第五領域の順に透過した電磁波を吸収する。

本発明に係る複数画像表示対の更なる別の態様は、第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層と、前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層と、前記スペーサー層とは反対側の前記複数画像形成層の面に設けられた電磁波散乱層とを備える。前記万線バリア層は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している。前記複数画像形成層は、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第六領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第七領域とを含み、前記第六領域と前記第七領域との面積比によるコントラストによって画像が形成される。前記電磁波散乱層は、前記万線バリア層、前記スペーサー層、及び前記第七領域の順に透過した電磁波を散乱させる。

好ましくは、前記第三領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる電磁波散乱性粒子が充填されている。
好ましくは、前記第四領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する電磁波吸収性粒子が充填されている。

好ましくは、前記第六領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する電磁波吸収性粒子が充填されている。
好ましくは、前記第四領域又は前記第六領域の前記凹部に充填される粒子は、顔料、染料、及び金属ナノ粒子の少なくとも１つである。

好ましくは、前記第四領域又は前記第六領域の前記凹部に充填される粒子は、微細な顔料のコアと、熱可塑性又は熱硬化性樹脂のシェルとを有するコアシェル粒子である。
好ましくは、前記第三領域は、波状を成す散乱性を有する凹凸構造と、該凹凸構造の表面に設けられた電磁波反射層とを備える。

好ましくは、前記第四領域は、波状を成す吸収性を有する凹凸構造と、該凹凸構造の表面に設けられた電磁波反射層とを備える。

本発明によれば、最表層となる万線バリア層が液体で汚染された場合であっても十分な表示を得ることができる。また、反射光のみの観察条件であっても高い視認性をもって画像認識できる。

本発明の実施の形態１に係る複数画像表示体を示す断面図。 図１に示す複数画像表示体の複数画像形成層の正面図。 図２の複数画像形成層に設けられている第１画像の正面図。 図２の複数画像形成層に設けられている第２画像の正面図。 図２の複数画像形成層に設けられている第３画像の正面図。 図３Ａ〜図３Ｃの第１，第２，及び第３画像における第三領域の一例を示す断面図。 図３Ａ〜図３Ｃの第１，第２，及び第３画像における第三領域の別の例を示す断面図。 図３Ａ〜図３Ｃの第１，第２，及び第３画像における第四領域の一例を示す断面図。 図３Ａ〜図３Ｃの第１，第２，及び第３画像における第四領域の他の例を示す断面図。 本発明の実施の形態２に係る複数画像表示体を示す断面図。 図８に示す複数画像表示体の複数画像形成層の正面図。 図９の複数画像形成層に設けられている第１画像の正面図。 図９の複数画像形成層に設けられている第２画像の正面図。 図９の複数画像形成層に設けられている第３画像の正面図。 図１０Ａ〜図１０Ｃの第１，第２，及び第３画像における第三領域の一例を示す断面図。 図１０Ａ〜図１０Ｃの第１，第２，及び第３画像における第三領域の別の例を示す断面図。 本発明の実施の形態３に係る複数画像表示体を示す断面図。 図１３に示す複数画像表示体の複数画像形成層の正面図。 図１４の複数画像形成層に設けられている第１画像の正面図。 図１４の複数画像形成層に設けられている第２画像の正面図。 図１４の複数画像形成層に設けられている第３画像の正面図。 図１５Ａ〜図１５Ｃの第１，第２，及び第３画像における第六領域の一例を示す断面図。 図１５Ａ〜図１５Ｃの第１，第２，及び第３画像における第六領域の別の例を示す断面図。 本発明に係る複数画像表示体の特性を表す摸式図。 本発明に係る複数画像表示体の特性を表す摸式図。 本発明に係る複数画像表示体の特性を表す摸式図。 本発明に係る複数画像表示体の特性を表す摸式図。 実施例１，２，３で作成される複数画像形成層を説明するための正面図。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
（実施の形態１）
図１は本発明に係る複数画像表示体の実施の形態１を示す断面図である。

複数画像表示体１は、薄膜状のスペーサー層２と、このスペーサー層２の第１面（表面）に積層された万線バリア層３と、スペーサー層２の第２面（裏面）に積層された複数画像形成層４とを含む。

万線バリア層３は、少なくとも一部の電磁波を透過する第一領域５と、少なくとも一部の電磁波を吸収する所定の厚みをもった第二領域６とを備えている。これら第一領域５と第二領域６はスペーサー層２に接する面において交互に配置された万線形状を成している。特に、第二領域６は、詳細には、スペーサー層２に接する面においてほぼ同一の幅で図１の紙面に直交する方向に延びる長方形状を有し、スペーサー層２に接する第一領域５の面の少なくとも一部の領域を挟むように等間隔をもって配置されている。これにより、第二領域６は万線形状を成している。また、第二領域６のそれぞれの断面は、四角形状を成しているが、必ずしも四角形状に限定されない。

複数画像形成層４は、スペーサー層２の第２面との接合面に「複数の画像」を有している。複数の画像は、万線バリア層３の「第一領域５」越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能であり、具体的には第１画像７、第２画像８、及び第３画像９の３画像が交互に繰り返されつつ、図１の紙面に直交する方向に延びる平面上で線画の集合として統合されている。

第１画像７は光路Ｐ１による観察によって確認可能な画像であり、第２画像８は光路Ｐ２による観察によって確認可能な画像であり、第３画像９は光路Ｐ３による観察によって確認可能な画像である。

図２は図１に示す複数画像形成層４の正面図である。
複数画像形成層４は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域１０と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収させる第四領域１１との面積比によるコントラストによって画像を形成するように構成されている。

図３Ａ〜図３Ｃは複数画像形成層４に設けられている第１〜第３画像７〜９の正面図である。第１画像７、第２画像８及び第３画像９の各々は、互いに平行に延びるように配置された複数の線画によって形成されている。

図２の複数画像形成層４では、第１画像７を形成する線画、第２画像８を形成する線画、及び第３画像９を形成する線画が交互に繰り返し配列され、それによって、これら３つの画像７，８，９が線画の集合として統合されている。これら３つの画像７，８，９は図３Ａ〜図３Ｃに示すように分けることができる。第１画像７、第２画像、及び第３画像９のそれぞれは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域１０と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第四領域１１とを有しており、第三領域１０及び第四領域１１の面積比によるコントラストによって画像が形成されている。

図４は前述した第三領域１０の一つの例を説明する第三領域１０ａの断面図である。
第三領域１０ａは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる機能が必要であるので、図４に示すように凹凸構造１２を有するとともに、その凹凸構造１２の凹部に電磁波を散乱させる電磁波散乱性粒子１３が埋め込まれた構成を有している。

電磁波散乱性粒子１３による電磁波の散乱は、サイズパラメーターによって、レイリー散乱、ミー散乱、及び回折散乱に分類される。所望の波長領域を所望の散乱とさせるサイズパラメーター分布を採用すればよい。

図５は第三領域１０のさらに別の例を説明する第三領域１０ｂの断面図である。この第三領域１０ｂは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる機能が必要であるので、例えば波状に形成された散乱性の凹凸構造１４と、その凹凸構造１４の表面に積層された電磁波反射層１５とを備えている。

図６は前述した第四領域１１の一つの例を説明する第四領域１１ａの断面図である。
第四領域１１ａは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する機能が必要であるので、凹凸構造１６の凹部に電磁波吸収性粒子１７が埋め込まれた構成を有している。

電磁波吸収性粒子１７としては、電磁波の吸収のため、所望の波長領域を吸収する顔料、染料、及び金属粒子等を適宜選択すればよい。
図７は第四領域１１のさらに別の例を説明する第四領域１１ｂの断面図である。

第四領域１１ｂは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する機能が必要であるので、電磁波吸収性を有する凹凸構造１８、言い換えれば低反射性構造或いは無反射性構造と、その凹凸構造１８の表面に積層された電磁波反射層１９とを備えている。
（複数画像表示体を構成する各層について）
＜スペーサー層２＞
スペーサー層２を形成する材料としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、塩化ビニル、ポリカーボネート、アクリル、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＥ（ポリエチレン）等のプラスチックフィルムなどが挙げられるが、これらの材料に限らない。また、スペーサー層２は熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂、或いは電磁波硬化性樹脂などの塗膜でもよい。スペーサー層２は、万線バリア層３を透過してきた光を複数画像形成層４に到達させる機能を有する必要があるので、スペーサー層２の透明性は高いほど望ましい。また、スペーサー層２は、万線バリア層３と複数画像形成層４とが所望の間隔を保つためのスペーサーとしての機能を備えている。
＜万線バリア層３＞
万線バリア層３では、線状の電磁波透過領域（第一領域５に相当）と線状の電磁波吸収領域（第二領域６に相当）とが交互に連続して平面上に配置される。複数画像形成層４における任意の一画像を形成する各線画の線幅をｎとし、画像数をｍとした場合、下式が成り立つ。

万線バリア層３の「電磁波吸収領域」の線幅 ＝（ｍ−１）×ｎ ……（式１）
万線バリア層３の「電磁波透過領域」の線幅 ＝ｎ ……（式２）
スペーサー層２の「厚み」 ≧ｍｎ ……（式３）
連続的な変化を表現する為に必要な複数画像形成層４における「画像数」≧３
……（式４）
以上のような４つの式を満たす場合、万線バリア層３越しに、複数の画像７〜９が連続的に変化する効果を得ることが可能である。

なお、スペーサー層２の厚みを「万線バリア層３」の万線ピッチと同等以上にすると、僅かな視角によって複数画像７〜９が確認可能となるので、視認性が良い。
複数画像表示体を、用紙に漉き込むセキュリティー・フィルムとして具体化する場合、式３で求められるスペーサー層２の「厚み」は５０μｍ以下であることが必須であり、更に好ましくは２５μｍ以下であるのが良い。用紙漉き込みフィルムの厚みは、用紙製造時や後工程におけるオフセット印刷や凹版印刷時のシワの発生に関係し、品質の問題に繋がってくるので薄ければ薄いほど良いが、この場合、前述の４つの式を満たすためには、高精細な「万線バリア層３」と「複数画像７〜９」が必要となる。

例えば、スペーサー層２の「厚み」が２５μｍ、複数画像形成層４における「画像数」が３つである場合、即ち、ｍ＝３、かつｍｎ＝２５μｍの場合、ｎ＝８．３μｍである。よって、式１より、万線バリア層３の「電磁波吸収領域」の線幅は１６．６μｍであり、式２より、万線バリア層３の「電磁波透過領域」の線幅は ８．３μｍであり、また、複数画像形成層４における任意の一画像を形成する各線画の線幅は８．３μｍである。つまり、万線バリア層３および複数画像７〜９について、８．３μｍの解像度の高コントラストな線画が必要となる。

通常、オフセット印刷、グラビア印刷、凸版印刷、及びインクジェット印刷等では、インキ転移時のセルパターン形状の転移ムラ、インキ滲み、及びインキハネ等が発生するので、このような高精細で高コントラストな線画は印刷困難である。

そのため、本発明における「万線バリア層３」および「複数画像形成層４」では、画素１０μｍ以下の高精細なインプリントによって正確なパターンで凹凸構造（例えば凹凸構造１２及び１６）を複製した後、その凹凸構造の凹部に例えば「電磁波散乱性顔料」や「電磁波吸収性顔料」を埋め込む方式を採用している。

なお、万線バリア層３の「電磁波吸収領域（第二領域）」にアルミなどの金属反射層を設けた場合は、万線バリア層３による反射光によって、複数画像形成層４における画像の反射光が見難くなる。したがって、万線バリア層３は、電磁波吸収性の構造色または顔料等を利用した万線であることが必要である。
＜複数画像形成層４＞
複数画像形成層４では、前述したように、分割された複数の線画が統合されている。複数の画像７〜９は、電磁波散乱領域と透過領域との組み合わせ、電磁波吸収領域と透過領域との組み合わせ、または、電磁波散乱領域と電磁波吸収領域との組み合わせによるコントラストで表現される。
（実施の形態２）
図８は本発明に係る複数画像表示体の実施の形態２を示す断面図である。

複数画像表示体２０は、スペーサー層２と、このスペーサー層２の第１面に積層された万線バリア層３と、スペーサー層２の第２面に順次積層された複数画像形成層４及び電磁波吸収層２１とを含む。

万線バリア層３は、少なくとも一部の電磁波を透過する第一領域５と、少なくとも一部の電磁波を吸収する第二領域６とを備えている。第二領域６は、スペーサー層２に接する面においてほぼ同一の幅で図８の紙面に直交する方向に延びる長方形状を有し、スペーサー層２に接する第一領域５の面の少なくとも一部の領域を挟むように等間隔をもって配置されている。これにより、第二領域６は万線形状を成している。すなわち、第一領域５と第二領域６とは、スペーサー層２に接する面において交互に配置された万線形状を成している。

複数画像形成層４は、スペーサー層２の第２面との接合面に「複数の画像」を有している。複数の画像は、万線バリア層３の「第一領域５」越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能であり、具体的には第１画像２２、第２画像２３、及び第３画像２４の３画像が交互に繰り返されつつ、図８の紙面に直交する方向に延びる平面上で線画の集合として統合されている。

第１画像２２は光路Ｐ４での観察によって確認可能な画像であり、第２画像２３は光路Ｐ６での観察によって確認可能な画像であり、第３画像２４は光路Ｐ５での観察によって確認可能な画像である。

なお、実施の形態２における複数画像表示体２０の各構成層２、３、４の詳細については、既に実施の形態１で詳しく説明したので、ここではその重複する説明を省略する。
前記電磁波吸収層２１では、前述したような電磁波吸収性の凹凸構造、または電磁波吸収性粒子を使用することが好ましい。電磁波吸収層２１は、複数画像形成層４を透過した電磁波を吸収する特性を有している。

図９は図８の複数画像形成層４を示す正面図である。
複数画像形成層４では、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域２５と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第五領域２６との面積比によるコントラストによって画像が形成される。

図１０Ａ〜図１０Ｃは複数画像形成層４に設けられている３画像２２〜２４の正面図である。第１画像２２、第２画像２３及び第３画像２４の各々は、互いに平行に延びるように配置された複数の線画によって形成されている。

図９の複数画像形成層４では、第１画像２２を形成する線画、第２画像２３を形成する線画、及び第３画像２４を形成する線画が交互に繰り返し配列され、それによって、これら３つの３画像が線画の集合として統合されている。これら３つの画像２２，２３，２４は図１０Ａ〜図１０Ｃに示すように分けることができる。第１画像２２、第２画像２３、及び第３画像２４のそれぞれは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域２５と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第五領域２６とを有しており、第三領域２５及び第五領域２６の面積比によるコントラストによって画像が形成されている。

図１１は前述する第三領域２５の一つの例を説明する第三領域２５ａの断面図である。
第三領域２５ａは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる機能が必要であるので、第三領域２５ａには凹凸構造２７が形成され、その凹凸構造２７の凹部に電磁波散乱性粒子２８が埋め込まれている。

電磁波散乱性粒子２８による電磁波の散乱は、サイズパラメーターによって、レイリー散乱、ミー散乱、及び回折散乱に分類される。所望の波長領域を所望の散乱とさせるサイズパラメーター分布を採用すればよい。

図１２は第三領域２５のさらに別の例を説明する第三領域２５ｂの断面図である。第三領域２５ｂは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる機能が必要であるので、例えば波状に形成された散乱性の凹凸構造２９と、その凹凸構造２９の表面に積層された電磁波反射層２９´とを備える。
（実施の形態３）
図１３は本発明に係る複数画像表示体の実施の形態３を示す断面図である。

複数画像表示体３０は、スペーサー層２と、このスペーサー層２の第１面に積層された万線バリア層３と、スペーサー層２の第２面に順次積層された複数画像形成層４及び電磁波散乱層３１とを含む。

万線バリア層３は、少なくとも一部の電磁波を透過する第一領域５と、少なくとも一部の電磁波を吸収する第二領域６とを備えている。第二領域６は、スペーサー層２に接する面においてほぼ同一の幅で図１３の紙面に直交する方向に延びる長方形状を有し、スペーサー層２に接する第一領域５の面の少なくとも一部の領域を挟むように等間隔をもって配置されている。これにより、第二領域６は万線形状を成している。すなわち、第一領域５と第二領域６とは、スペーサー層２に接する面において交互に配置された万線形状を成している。また、第二領域６のそれぞれの断面は、四角形状を成しているが、必ずしも四角形状に限定されない。

複数画像形成層４は、スペーサー層２の第２面との接合面に「複数の画像」を有している。複数の画像は、万線バリア層３の「第一領域５」越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能であり、具体的には第１画像３２、第２画像３３、及び第３画像３４の３画像が交互に繰り返されつつ、図１３の紙面に直交する方向に延びる平面上で線画の集合として統合されている。

第１画像３２は光路Ｐ７での観察によって確認可能な画像であり、第２画像３３は光路Ｐ９での観察によって確認可能な画像であり、第３画像３４は光路Ｐ８での観察によって確認可能な画像である。

なお、実施の形態３における複数画像表示体３０の各構成層２、３、４の詳細については、既に実施の形態１で詳しく説明してあるので、ここではその重複する説明を省略する。

前記電磁波散乱層３１では、前述したような電磁波散乱性の凹凸構造、または電磁波散乱性粒子を使用することが好ましい。電磁波散乱層３１は、複数画像形成層４を透過した電磁波を散乱させる特性を有している。

図１４は図１３の複数画像形成層４を示す正面図である。
複数画像形成層４では、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第六領域３５と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第七領域３６との面積比によるコントラストによって画像が形成される。

図１５Ａ〜図１５Ｃは複数画像形成層４に設けられている３画像３２〜３４の正面図である。第１画像３２、第２画像３３及び第３画像３４の各々は、互いに平行に延びるように配置された複数の線画によって形成されている。

図１４の複数画像形成層４では、第１画像３２を形成する線画、第２画像３３を形成する線画、及び第３画像３４を形成する線画が交互に繰り返し配列され、それによって、これら３つの３画像が線画の集合として統合されている。これら３つの画像３２，３３，３４は図１５Ａ〜図１５Ｃに示すように分けることができる。第１画像３２、第２画像３３、及び第３画像３４のそれぞれは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第六領域３５と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第七領域３６とを有しており、第六領域３５及び第七領域３６の面積比によるコントラストによって画像が形成されている。

図１６は前述する第六領域３５の一つの例を説明する第六領域３５ａの断面図である。
第六領域３５ａは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する機能が必要であるので、第六領域３５ａには凹凸構造３７が形成され、その凹凸構造３７の凹部に電磁波吸収性粒子３８が埋め込まれている。

電磁波吸収性粒子３８としては、電磁波の吸収のため、所望の波長領域を吸収する顔料や染料、金属粒子等を適宜選択すればよい。
図１７は前述する第六領域３５のさらに別の例を説明する第六領域３５ｂの断面図である。第六領域３５ｂは、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する機能が必要であるので、電磁波吸収性を有する凹凸構造３９、言い換えれば低反射性構造或いは無反射性構造と、その凹凸構造３９の表面に積層されせた電磁波反射層３９´とを備えている。

図１８Ａ〜図１８Ｄは本発明に係る複数画像表示体の観察形態を表す模式図である。
先ず、図１８Ａに示すように、複数画像表示体１，２０，３０を、観察者８１の水平な視線に対して直交する方向より多少観察側に倒した観察条件８２ａに設定する。この観察条件８２ａにて、観察者８１が万線バリア層３側から観察したとき、図示右側に示す第一の画像８３ａが観察される。

次に、図１８Ｂに示すように、複数画像表示体１，２０，３０を、観察者８１の水平な視線に対して直交する方向に設けた観察条件８２ｂに設定する。この観察条件８２ｂにて、同様に観察者８１が万線バリア層３側から観察したとき、図示右側に示すような第二の画像８３ｂが観察される。

さらに、図１８Ｃに示すように、複数画像表示体１，２０，３０を、観察者８１の水平な視線に対して直交する方向より多少観察側とは反対側に倒した観察条件８２ｃに設定する。この観察条件８２ｃにて、観察者８１が万線バリア層３側から観察したとき、図示右側に示すような第三の画像８３ｃが観察される。

さらに、図１８Ｄに示すように、複数画像表示体１，２０，３０を、観察者８１の水平な視線に対して直交する方向より観察側とは反対側に多少寝かすように倒した観察条件８２ｄに設定する。この観察条件８２ｄにて、観察者８１が万線バリア層３側から観察したとき、図示右側に示すような第一の画像８３ａが観察される。

すなわち、複数画像表示体１，２０，３０の観察角度を変化させることによって、画像が変化するので、連続的な動きのある画像変化を観察することが可能である。
（複数画像表示体１，２０，３０の層構造、使用材料、製法について）
＜電磁波散乱性粒子又は電磁波吸収性粒子を埋め込むための凹凸構造の製法の詳細＞
「熱エンボス法」、「キャスト法」、及び「フォトポリマー法」等は、粒子を埋め込むための凹凸構造１２，１６，２７，３７（以下、説明の便宜上，凹凸構造１２として説明する）となる凹凸パターンを有する樹脂成形物を連続的、かつ、大量に複製する代表的な手法である。

そのうち、「フォトポリマー法」（２Ｐ法、感光性樹脂法）は、放射線硬化性樹脂をレリーフ型（微細凹凸パターンの復製用型）と平担な基材（プラスチックフィルム等）との間に流し込み放射線で硬化させた後、この硬化膜を基板ごと、複製用型から剥離する方法である。これにより高精細な微細凹凸パターンを得ることが出来る。また、このような方法によって得られた光学素子は、熱可塑樹脂を使用する「プレス法」や「キャスト法」に比べ凹凸パターンの成形精度が良く、耐熱性や耐薬品性に優れている。また、更に新しい製造方法としては、常温で固体状若しくは高粘度状である光硬化性樹脂を使用して成形する方法や、離型材料を添加する方法もある。

凹凸構造１２の形成に使用される材料の例には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、及びビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加及び架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、及びフェノール系樹脂等の熱硬化樹脂の単独もしくはこれらを複合した材料が含まれる。また、前記以外の材料であっても、前記凹凸構造１２の形成に可能であれば適宜使用してよい。

フォトポリマー法に使用される凹凸構造１２の材料としては、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、及びポリマー等が挙げられる。モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、及びエポキシ変性アクリル樹脂が挙げられるがこの限りでない。

また、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、及びポリマー、オキセタン骨格含有化合物、並びにビニルエーテル類を使用することができる。また、上記の電離放射線硬化性樹脂を、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、又はその併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。

さらには、エチレン性不飽和結合又はエチレン製不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、及びポリマー等を混合して使用することや、これらに予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、及び有機アルミネート等で互いに架橋することや、これらに予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、及び有機アルミネート等で、その他の樹脂骨格と架橋することも可能である。このような方法であれば、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基をもつポリマーが常温では固形で存在し、タックが少ないので、成形性が良く原版汚れの少ないポリマーを得ることも可能である。

光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、及びメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、並びにミヒラーズケトン等を挙げることができる。

光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、及び混合配位子金属塩等を使用することができる。光ラジカル重合と光カチオン重合とを併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、及び芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。

放射線硬化樹脂と光重合開始剤との配合は、一般に０．１〜１５質量％配合することにより得られるが、材料によって適宜処方すればよい。樹脂組成物には、さらに、光重合開始剤と組み合わせて増感色素を併用してもよい。また、必要に応じて、染料、顔料、各種添加剤（重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物など）、及び架橋剤（例えば、エポキシ樹脂など）などを含んでいてもよく、また、成形性向上のために非反応性の樹脂（前述の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を含む）を添加しても良い。

また、適用する製造方法において、成型可能であって、ある程度の流動性を有すること、及び成型後の塗膜が所望する耐熱性や耐薬品性が得られることを考慮して材料を選択すれば良い。

凹凸構造１２を形成する層（以下、凹凸構造形成層と呼ぶ）を設ける際には、コーティング法を利用してもよく、その場合には支持基材上に「凹凸構造形成層」の材料をコーティングすればよい。特にウエットコーティングであれば低コストで塗工できる。また、塗工膜厚を調整するために溶媒で希釈したものを塗布乾燥しても良い。

上記支持基材としては、フィルム基材が好ましい。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、及びＰＰ（ポリプロピレン）などのプラスチックフィルムを用いることができる。微細凹凸パターンの成形時にかかる熱や圧、電磁波による変形や変質の少ない材料を用いることが望ましい。なお、必要によっては紙や合成紙、並びにプラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いても良い。

「凹凸構造形成層」の厚みは、凹凸構造１２の凹部の深さの１．５〜１０倍の厚みであることが好ましく、更に好ましくは２〜５倍の厚みである。製造方法に依るが、塗膜が厚すぎる場合には加工時の加圧による樹脂のはみ出しや、シワの原因となり、厚みが極端に薄い場合には流動性が乏しく、十分な成型が出来ない。

また、「凹凸構造１２の凹部の深さ」は所望する充填粒子の粒径によって選択すればよい。充填する粒子の最大粒子径よりも１〜１０倍の深さを有する凹部が好ましく、凹凸構造１２を形成する前の「凹凸構造形成層」の膜厚は「凹部の深さ」の１．５〜１０倍の厚みであることが好ましく、更に好ましくは２〜５倍の厚みである。

得られた「凹凸構造形成層」を、所望する凹凸構造のレリーフ形状が形成された「レリーフ原版」と接触させた後、必要であれば熱、圧、及び電磁波を利用して、微細凹凸構造形成層の片側にレリーフ原版の形状を転写させる。なお、「凹凸構造形成層」の表裏にレリーフ形状を形成しても良い。

また、レリーフ原版の作成方法については公知の方法を利用しても良く、ロール状の原版であれば連続成型が可能である。
＜凹凸構造１２に粒子を埋め込む製法の詳細＞
凹凸構造形成層の片側に、粒子を充填させる為の凹凸構造１２を作成した後、凹凸構造１２の全面に、充填させる微粒の希釈溶液をコーティングする。このとき、粒子を固定する必要性が有れば希釈溶液に溶解可能なバインダーを添加しても良い。使用するバインダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び電磁波硬化性樹脂の何れであっても良く、その混合でも良い。

その後、エアーナイフ、ドクター、及びスキージなどによるワイピングにより、凹凸構造１２の凹部にのみ粒子を充填させることが可能である。粒子の希釈溶液に使用した溶媒を揮発させたり、バインダーを硬化させる為に熱をかけたり電磁波を照射したりしてもよい。
＜電磁波散乱機能をもった凹凸構造１４の製法の詳細＞
電磁波散乱機能をもった凹凸構造１４は、電磁波を散乱させる特徴を有する。凹凸構造１４による電磁波の散乱は、その凹凸周期に依存する。凹凸周期が一定である凹凸構造は、回折散乱の場合に特定の方向に対する散乱強度が強くなる一方、特定の方向に対する散乱強度が著しく弱くなる指向性を有するので、本発明に係る複数画像表示体には適さない。

散乱させる電磁波の波長の１．０〜１０倍程度範囲のランダムな周期で、且つ平面上にランダムな方向性の周期を有する凹凸構造は、何れの入射角の電磁波（任意の波長範囲の電磁波）も平面に対する散乱が等方（入射点に対して略半球状に散乱）である特性を有するため、このような凹凸構造１４とすることが好ましい。

なお、電磁波散乱機能をもった凹凸構造１４の製法は、電磁波散乱性粒子又は電磁波吸収性粒子を埋め込むための凹凸構造１２の製法の詳細と同様である。すなわち、上記散乱特性を有する凹凸構造を有する原版を型押しする方法によって、電磁波散乱機能をもった凹凸構造１４を製造することが可能である。
＜電磁波吸収機能をもった凹凸構造（例えば凹凸構造１８）の製法の詳細＞
電磁波吸収機能をもった凹凸構造は、電磁波を吸収させる特徴を有する。一般に、吸収させたい電磁波波長よりも短い周期で作成された回折格子によって、電磁波吸収機能をもった凹凸構造が達成可能である。サブ波長格子として知られる構造は、電磁波を閉じ込める効果を有しているので、本発明の電磁波吸収性を有する凹凸構造として利用可能である。

また、ハイアスペクトな蝿の目状の無反射構造なども本発明の電磁波吸収性の凹凸構造として利用可能である。
なお、電磁波吸収機能をもった凹凸構造の製法は、電磁波散乱性粒子及び電磁波吸収性粒子を埋め込む為の凹凸構造の製法の詳細と同様である。すなわち、前述する電磁波吸収特性を有する凹凸構造の原版を型押しする方法によって、電磁波吸収機能をもった凹凸構造を製造することが可能である。
＜電磁波散乱性粒子１３について＞
粒子にバインダーを添加する場合や、特定の樹脂層中に粒子を含有させる場合、粒子の屈折率とバインダーの屈折率との間、または粒子の屈折率と該粒子を保持する樹脂層の屈折率との間に差があると、粒子とバインダー又は樹脂との界面での散乱特性が得られ、これにより電磁波の散乱が生じる。この場合の屈折率の差は０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、散乱が生じる。また、粒子は空気やガスでも良い。樹脂中に微小な気泡やガス泡が有る場合も樹脂との屈折率の差から散乱が生じる。

粒子による電磁波の散乱は、サイズパラメーターによって、レイリー散乱、ミー散乱、及び回折散乱に分類される。所望の波長領域を所望の散乱とさせるサイズパラメーター分布を採用すればよい。
＜電磁波反射層１５、１９、２９´、３９´について＞
電磁波散乱性凹凸構造１４、２９や電磁波吸収性凹凸構造１８，３９の凹凸表面に沿って設けられる反射層１５、１９、２９´、３９´は、電磁波を反射させる特徴を有する。光を反射させる場合は、凹凸構造を形成する樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を有する材料を使用すればよい。この場合、両層の屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、「凹凸構造形成層」と「反射層１５、１９、２９´、３９´」との界面で屈折および反射が起こる。

反射膜の材料としては、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、及びＡｇなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。
なお、反射層１５、１９、２９´、３９´は、微細凹凸形成層の平面に対して均一な表面密度で薄膜形成される必要が有るので、ドライコーティング法で形成されることが好ましい。例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、及びＣＶＤ法など公知の方法を適宜使用することができる。

また、透明な反射層１５、１９、２９´、３９´として使用できる材料の例としては、例えば以下の通りである。なお、以下に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスとしては、Ｓｂ_２Ｏ_３（３．０）、Ｆｅ_２Ｏ_３（２．７）、ＴｉＯ_２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ_２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ_２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ_２Ｏ_３（５）、ＷＯ_３（５）、ＳｉＯ（５）、Ｓｉ_２Ｏ_３（２．５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ_２Ｏ_３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ_２（５）、ＭｇＯ（１）、ＳｉＯ_２（１．４５）、Ｓｉ_２Ｏ_２（１０）、ＭｇＦ_２（４）、ＣｅＦ_３（１）、ＣａＦ_２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ_３（１）、Ａｌ_２Ｏ_３（１）、及びＧａＯ（２）などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、及びポリスチレン（１．６０）などが挙げられるがこの限りでない。

なお、反射層１５、１９、２９´、３９´には必要に応じて保護層（図示せず）が形成される。保護層は、反射膜を残す斜面において反射層を保護することが可能な連続膜である必要があり、更には、「反射膜を残す斜面」における保護層の厚みに対して、「反射膜を除去する面」における保護層が非常に薄いことが好ましい。

このような構造であれば、エッチング等の反射層を除去する工程において、傾斜された「反射膜」が作成可能である。
＜電磁波吸収性粒子１７について＞
セラミックスとしては、Ｓｂ_２Ｏ_３（３．０）、Ｆｅ_２Ｏ_３（２．７）、ＴｉＯ_２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ_２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ_２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ_２Ｏ_３（５）、ＷＯ_３（５）、ＳｉＯ（５）、Ｓｉ_２Ｏ_３（２．５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ_２Ｏ_３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ_２（５）、ＭｇＯ（１）、ＳｉＯ_２（１．４５）、Ｓｉ_２Ｏ_２（１０）、ＭｇＦ_２（４）、ＣｅＦ_３（１）、ＣａＦ_２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ_３（１）、Ａｌ_２Ｏ_３（１）、及びＧａＯ（２）などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、及びポリスチレン（１．６０）などが挙げられるがこの限りでない。

又、電磁波吸収性粒子１７は、酸化鉄及び酸化錫等の金属酸化物の他、プラズマ振動を生じる金属ナノ粒子であっても良い。また、一般的な色剤顔料や色剤染料も特定波長を吸収する特性がある。

さらには、上記の材料を混合組み合わせることや、任意の領域で異なる複数の粒子を使用することも可能である。
上記のように構成された複数画像表示体では、最表層である万線バリア層３がオイルや薬品等の液体で汚染された場合であっても、複数画像表示による所望の連続的な動きや奥行きのある表示が失われることが無い。また、万線バリア層３と複数画像形成層４との光量のコントラストが改善され、どの観察角度でも高いコントラストが得られる。よって、反射光のみの観察条件であっても高い視認性をもって画像認識できる。

以下、本発明に係る複数画像表示体の実施例について説明する。
＜実施例１＞
本発明に係る複数画像表示体の万線バリア層３の凹凸構造をフォトポリマー法にて製造するために、以下に記載するような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

厚み２３μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持基材上に、「微細凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、且つプレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

そして、成形と同時に、ＰＥＴフィルム製の支持基材越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。成形後の微細凹凸構造形成層における「凹凸構造」の構造は、凸部巾が１０μｍ、凹部巾が５μｍ、凹部の深さが２μｍであった。

このようにして、万線バリア層３を作成するための凹凸構造を得た。
次に、万線バリア層３を作成するための凹凸構造が形成された面とは反対側の支持基材の表面に複数画像形成層４を形成するために、次のような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意し、乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

上述したように、「凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、図１９の凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、且つプレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

但し、図１９の凹凸構造において、線画の画素巾：５μｍ、白色部：散乱性凹凸構造（深さ０．２μｍ、ランダム周期）、黒色部：吸収性凹凸構造（深さ０．３μｍ、周期０．２μｍ格子）とした。

さらに、成形加工と同時に、ＰＥＴフィルム製の支持基材越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。

その後、アルミ蒸着により、平坦部のアルミ膜厚が０．０５μｍ（５００Å）となる様に蒸着して電磁波反射層を設けた。
その後、平均粒径１μｍのカーボンブラック顔料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散し、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を固形重量比で５％添加した「電磁波吸収粒子の溶液」を、万線バリア層３を形成するための凹凸構造の全面に塗布した後に、ドクターブレードによって凹部分に電磁波吸収粒子を充填させた後、１２０℃オーブンで３０秒乾燥させて「万線バリア層３」を得た。

これにより総厚３３μｍの複数画像表示体を作製した。
＜実施例２＞
本発明に係る複数画像表示体の万線バリア層３の凹凸構造をフォトポリマー法にて製造するために、以下に記載するような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

厚み２３μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持基材上に、「微細凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、且つプレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

成形と同時に、ＰＥＴフィルム製の支持基材越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。成形後の微細凹凸構造形成層における「凹凸構造」の構造は、凸部巾が１０μｍ、凹部巾が５μｍ、及び凹部の深さが２μｍであった。

このようにして、万線バリア層３を作成するための凹凸構造を得た。
次に、万線バリア層３を作成するための凹凸構造が形成された面とは反対側の支持基材の表面に複数画像形成層４を形成するために、次のような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意し、乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

上述したように、「凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、図１９の凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、プレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

但し、図１９の凹凸構造において、線画の画素巾：５μｍ、白色部：散乱性凹凸構造（深さ０．１μｍ、ランダム周期）、黒色部：反射層除去凹凸構造（深さ０．３μｍ、周期０．３μｍ直交格子）とした。

成形と同時に、ＰＥＴフィルム製の支持基材越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。

その後、アルミ蒸着により、平坦部膜厚が０．０５μｍ（５００Å）となる様に蒸着して反射層を設け、更に、フッ化マグネシウムを平坦部膜厚が０．０３μｍ（３００Å）となる様に蒸着して蒸着マスク層を設けた（この場合、ハイアスペクトな黒色部分の表面積は、白色部分の表面積よりも大きいので、アルミ膜厚は薄く、且つフッ化マグネシウムによる蒸着マスク層も薄い。したがって、アルカリ浸積によって、図の黒色部分のみを除去することが可能である）。

その後、水酸化ナトリウム０．２％、５０℃のエッチング液に３０秒浸積して、図１９の黒色部分の反射層を除去して透明化した後に複数画像形成層４を覆うように墨インキを塗布することによって電磁波吸収層を得た。

その後、平均粒径１μｍのカーボンブラック顔料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散し、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を固形重量比で５％添加した「電磁波吸収粒子の溶液」を、万線バリア層３を作成するための凹凸構造の全面に塗布した後に、ドクターブレードによって凹部分に電磁波吸収粒子を充填させた後、１２０℃オーブンで３０秒乾燥させて「万線バリア層３」を得た。

これによって総厚３３μｍの複数画像表示体を作製した。
＜実施例３＞
本発明に係る複数画像表示体の万線バリア層３の凹凸構造をフォトポリマー法にて製造するために、次に示すような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
微細凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

厚み２３μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持基材上に、「微細凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、プレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

成形と同時に、ＰＥＴフィルム製の支持基材越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「微細凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。成形後の微細凹凸構造形成層における「凹凸構造」の構造は、凸部巾が１０μｍ、凹部巾が５μｍ、凹部の深さが２μｍであった。

このようにして、万線バリア層３を作成するための凹凸構造を得た。
次に、万線バリア層３を形成するための凹凸構造が形成された面とは反対側の支持基材の表面に「複数画像形成層」を形成するために、下記のような「凹凸構造形成層」のインキ組成物を用意し、乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した。

「凹凸構造形成層インキ組成物」（紫外線硬化型樹脂）
ウレタン（メタ）アクリレート（多官能、分子量６，０００） ５０．０重量部
メチルエチルケトン ３０．０重量部
酢酸エチル ２０．０重量部
光開始剤（チバスペシャリティー製イルガキュア１８４） １．５重量部
凹凸構造形成層に対して、凹凸構造を形成する方法としては、ロールフォトポリマー法を利用した。

上述したように、「微細凹凸構造形成層のインキ組成物」を乾燥膜厚５μｍとなるようにグラビア印刷法によって塗工した後、その塗工面に対して、図１９の凹凸構造を有する円筒状の原版を、プレス圧力２Ｋｇｆ／ｃｍ^２、プレス温度８０℃、プレススピード１０ｍ／ｍｉｎにて押し当てて成形加工を実施した。

但し、図１９の凹凸構造において、線画の画素巾：５μｍ、白色部：粒子充填用凹凸構造（深さ０．１μｍ、ランダム周期）、黒色部：平滑部とした。
成形と同時に、ＰＥＴフィルム越しから、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線露光を行った。これにより、原版の凹凸形状を「凹凸構造形成層」に転写させると同時にこれを硬化させた。

成形後の微細凹凸構造形成層における「粒子充填用凹凸構造（白色部）」の構造は、凹部巾が５μｍ、凹部の深さが２μｍであった。
その後、平均粒径１μｍのカーボンブラック顔料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散し、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を固形重量比で５％添加した「電磁波吸収粒子の溶液」を、複数画像形成層を作成するための凹凸構造の全面に塗布した後に、ドクターブレードによって凹部に電磁波吸収粒子を充填させた後、１２０℃オーブンで３０秒乾燥させて「複数画像形成層」を得た。さらに、複数画像形成層を覆うように紙を貼り合わせることによって電磁波散乱層とした。

その後、平均粒径１μｍのカーボンブラック顔料をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に分散し、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を固形重量比で５％添加した「電磁波吸収粒子の溶液」を、万線バリア層３を作成するための凹凸構造の全面に塗布した後に、ドクターブレードによって凹部に電磁波吸収粒子を充填させた後、１２０℃オーブンで３０秒乾燥させて「万線バリア層」を得た。

これにより、総厚３３μｍの複数画像表示体を製作した。
＜比較例１＞
実施例２と同様の製造方法であるが、複数画像形成層の画素が、平滑アルミ領域とアルミの無い透過領域とのコントラストによって表現されている積層体を作成し、総厚３３μｍの複数画像表示体を製作した。
＜比較例２＞
デンマーク紙幣（１００クローネ）に漉き込まれている、レンズを利用した画像表示体（セキュリティー・スレッド）を比較対象とした。
＜実施例、及び比較例にて作製した偽造防止構造体の評価方法＞
＊ 常態での複数画像の視認性評価
実施例１、２、３で作製した画像表示体と比較例１とを準備した後、観察角度を変更させた際に複数画像が読み取れた場合を「ＯＫ」とし、確認出来なかった場合は「ＮＧ」とした。
＊ サラダオイル滴下による複数画像の視認性評価
実施例１、２、３で作製した複数画像表示体と比較例１とを準備した後、積層体表面（実施例であれば万線バリア層表面、比較例であればレンズアレイ表面）に対して、サラダオイルを１０ｇ滴下し、３０秒放置した後、観察角度を変更させた際に複数画像が読み取れた場合を「ＯＫ」とし、確認出来なかった場合は「ＮＧ」とした。
＊ セキュリティー用紙への漉き込み評価
一般に、５０μｍ以下の膜厚のフィルムであれば、セキュリティー用紙への漉き込みが可能であり、且つ漉き込んだ用紙への印刷加工が可能である。したがって、実施例については、画像表示体の総厚が５０μｍ以下である場合に用紙への漉き込みが可能であると判断して「ＯＫ」とし、総厚が５０μｍを超える場合に「ＮＧ」とした。なお、比較例１は既に紙に漉き込まれている為、「ＯＫ」とした。

以上のような評価方法を用いて、各実施例及び比較例を評価し、結果を表１にまとめた。

この表１から、実施例１〜３では、比較例１に比べて、常態での視認性に優位性がある。これは散乱構造を利用した表示体であるが故に、光源に対して正反射以外の観察環境であっても画像コントラストを維持することが可能であり、実施例が優れる結果となったためである。

また、実施例１〜３においては、「サラダオイル滴下による複数画像の視認性評価」がＯＫであるが、比較例２では視認性が不十分であった。その結果実施例は比較例よりも優れている。

本発明に係る複数画像表示体によると、最表層上がオイルや薬品等の液体によって汚染された場合であっても、複数画像の表示による、所望の連続的な動きや奥行きのある表示が失われることが無い。また、正反射光源下であっても光量のコントラストが改善され、どの観察角度でも高コントラストである。したがって、反射光のみの観察条件であっても視認性が高く、特殊な光学効果があるので、例えばＩＤカードやパスポート、紙幣などに用いて十分なる偽造防止を発揮する画像表示体として利用することが可能である。

なお、前記実施の形態及び実施例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。前記実施の形態及び実施例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施の形態や実施例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１…複数画像表示体、２…スペーサー層、３…万線バリア層、４…複数画像形成層、５…第一領域、６…第二領域、７…第１画像、８…第２画像、９…第３画像、１０，１０ａ，１０ｂ…第三領域、１１，１１ａ，１１ｂ…第四領域、１２…凹凸構造、１３…電磁波散乱性粒子、１４…電磁波散乱性凹凸構造、１５…電磁波反射層、１６…凹凸構造、１７…電磁波吸収性粒子、１８…電磁波吸収性凹凸構造、１９…電磁波反射層、２０…複数画像表示体、２１…電磁波吸収層、２２…第１画像、２３…第２画像、２４…第３画像、２５，２５ａ，２５ｂ…第三領域、２６…第五領域、２７…凹凸構造、２８…電磁波散乱性粒子、２９…電磁波散乱性凹凸構造、２９´…電磁波反射層、３０…複数画像表示体、３１…電磁波散乱層、３２…第１画像、３３…第２画像、３４…第３画像、３５…第六領域、３６…第七領域、３７…凹凸構造、３８…電磁波散乱性粒子、３９…電磁波吸収性凹凸構造、３９´…電磁波反射層、８２ａ〜８２ｄ…観察条件、８３ａ〜８３ｃ…観察画像（観察パターン）。

Claims (10)

1. 第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、
   前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層であって、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している、万線バリア層と、
   前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層であって、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第四領域とを含み、前記第三領域と前記第四領域との面積比によるコントラストによって前記画像が形成される、複数画像形成層と、
   を備える、複数画像表示体。
2. 第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、
   前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層であって、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している、万線バリア層と、
   前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層であって、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる第三領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第五領域とを含み、前記第三領域と前記第五領域との面積比によるコントラストによって画像が形成される、複数画像形成層と、
   前記スペーサー層とは反対側の前記複数画像形成層の面に積層され、前記万線バリア層、前記スペーサー層、及び前記第五領域の順に透過した電磁波を吸収する電磁波吸収層と、
   を備える、複数画像表示体。
3. 第１面及び同第１面とは反対側の第２面を有する薄膜状のスペーサー層と、
   前記スペーサー層の前記第１面に積層された万線バリア層であって、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過する複数の第一領域と、少なくとも一部の電磁波を吸収する複数の第二領域とを有し、前記複数の第二領域が前記スペーサー層に接する面においてほぼ同一の幅及び形状を有するとともに少なくとも前記第一領域の一部を挟むように等間隔をもって配置されて万線形状を成している、万線バリア層と、
   前記スペーサー層の前記第２面に積層された複数画像形成層であって、前記万線バリア層の第一領域越しの複数の特定角度からの観察によってそれぞれ視認可能な複数の画像を有し、それぞれの前記画像は、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する第六領域と、少なくとも一部の波長領域の電磁波を透過させる第七領域とを含み、前記第六領域と前記第七領域との面積比によるコントラストによって画像が形成される、複数画像形成層と、
   前記スペーサー層とは反対側の前記複数画像形成層の面に設けられ、前記万線バリア層、前記スペーサー層、及び前記第七領域の順に透過した電磁波を散乱させる電磁波散乱層と、
   を備える、複数画像表示体。
4. 前記第三領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を散乱させる電磁波散乱性粒子が充填されている、請求項１又は２に記載の複数画像表示体。
5. 前記第四領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する電磁波吸収性粒子が充填されている、請求項１に記載の複数画像表示体。
6. 前記第六領域は凹凸構造を有し、該凹凸構造の凹部には、少なくとも一部の波長領域の電磁波を吸収する電磁波吸収性粒子が充填されている、請求項３に記載の複数画像表示体。
7. 前記凹部に充填される粒子は、顔料、染料、及び金属ナノ粒子の少なくとも１つである、請求項５又は６に記載の複数画像表示体。
8. 前記凹部に充填される粒子は、微細な顔料のコアと、熱可塑性又は熱硬化性樹脂のシェルとを有するコアシェル粒子である、請求項５又は６に記載の複数画像表示体。
9. 前記第三領域は、波状を成す散乱性を有する凹凸構造と、該凹凸構造の表面に設けられた電磁波反射層とを備える、請求項１又は２に記載の複数画像表示体。
10. 前記第四領域は、波状を成す吸収性を有する凹凸構造と、該凹凸構造の表面に設けられた電磁波反射層とを備える、請求項１に記載の複数画像表示体。

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