JPWO2014126229A1 - 含窒素複素環構造を有するヌクレオシド及びヌクレオチド - Google Patents

Abstract

本発明は、核酸医薬品を合成するための材料として利用可能な、新規のヌクレオシド又はヌクレオチドである、
式（Ｉ）：

（式中、
Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル等であり、
Ｂｘは核酸塩基部分であり、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基又は反応性リン基であり、
Ｒ^１〜Ｒ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル等であり、
ｎは０〜３の整数である）
で示される化合物、又はその塩を提供する。

Description

本発明は、新規な架橋型ヌクレオシド又はヌクレオチドに関する。より詳細には、含窒素複素環構造を含む架橋を有するヌクレオシド若しくはヌクレオチド、又は該ヌクレオシド若しくはヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチドに関する。

核酸医薬品による疾患の治療法として、アンチセンスオリゴヌクレオチド、ｓｉＲＮＡ、リボザイム、アンチジーン、アプタマー、デコイ核酸等を用いる方法がある。

アンチセンスオリゴヌクレオチドは、標的遺伝子のｍＲＮＡ、ｍＲＮＡ前駆体又はリボソームＲＮＡ、転移ＲＮＡ、ｍｉＲＮＡ等のｎｃＲＮＡ（ノンコーディングＲＮＡ）に対して相補的なオリゴヌクレオチドであり、約８〜３０塩基からなる１本鎖のＤＮＡ、ＲＮＡ及び／又はそれらの構造類似体である。該アンチセンスオリゴヌクレオチドが標的とするｍＲＮＡ、ｍＲＮＡ前駆体、又はｎｃＲＮＡと二本鎖を形成することによりｍＲＮＡ、ｍＲＮＡ前駆体又はｎｃＲＮＡの働きを抑制する。

ｓｉＲＮＡは、標的遺伝子と相同な約１９〜２５塩基対からなる低分子二本鎖ＲＮＡである。ＲＮＡ干渉と呼ばれる現象に関与しており、塩基配列特異的にｍＲＮＡを分解することによって、遺伝子の発現を抑制する。

リボザイムは、核酸を切断する酵素活性を持つＲＮＡである。標的遺伝子のｍＲＮＡと二重鎖を形成し、特異的に該ｍＲＮＡを切断する。
アンチジーンは、標的遺伝子の二重鎖ＤＮＡ部位に対応するオリゴヌクレオチドである。該ＤＮＡ部位とオリゴヌクレオチドで三重鎖を形成させることにより、ＤＮＡからｍＲＮＡへの転写を抑制する。
アプタマーは、特定の分子と特異的に結合するＤＮＡ、ＲＮＡ及び／又はそれらの構造類似体である。標的タンパク質と結合することにより該タンパク質の機能を阻害する。
デコイ核酸は、特定の転写調節因子の結合部位と同じ配列を含む短いＤＮＡである。該転写調節因子と遺伝子の結合を阻害し、該転写調節因子によって活性化される遺伝子群の発現を抑制する。

上記核酸医薬品を合成するための材料として利用するために、様々なヌクレオシド又はヌクレオチドが開発されている。例えば、ヌクレオチドのリン酸部分が修飾されているＳ−オリゴ（ホスホロチオエート）、ヌクレオシド又はヌクレオチドの糖部分が修飾されている２’，４’−ＢＮＡ（ｂｒｉｄｇｅｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ）／ＬＮＡ（ｌｏｃｋｅｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ）（特許文献１〜５及び非特許文献１〜６参照）等がある。

国際公開第９８／３９３５２号 国際公開第２００５／０２１５７０号 国際公開第２００３／０６８７９５号 国際公開第２０１１／０５２４３６号 国際公開第２０１１／１５６２０２号

Ｐｒｏｃ． Ｎａｔｌ． Ａｃａｄ． Ｓｃｉ． ＵＳＡ，２０００年，９７巻，１０号，５６３３−５６３８頁 Ｂｉｏｏｒｇ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ．，２００６年，１４巻，１０２９−１０３８頁 Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍｕｎ．，２００７年，３７６５−３７６７頁 Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．，２００８年，１３０巻，１４号，４８８６−４８９６頁 Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓ．，２００８年，３６巻，１３号，４２５７−４２６５頁 Ｂｉｏｏｒｇ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ．，２００１年，９巻，１００１−１０１１頁

本発明の目的は、アンチセンスオリゴヌクレオチド、ｓｉＲＮＡ、リボザイム、アンチジーン、アプタマー、デコイ核酸等の核酸医薬品を合成するための材料として利用可能な、新規のヌクレオシド又はヌクレオチドを提供することにある。

本発明者らは、鋭意研究の結果、優れた一本鎖ＲＮＡに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を有する新規な架橋型ヌクレオシド又はヌクレオチドの合成に成功した。該ヌクレオシド又はヌクレオチドは、一般的な合成方法で、副産物無く、安定してオリゴヌクレオチドを合成することができる。アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品（医薬組成物）を合成するための材料として非常に有用である。

すなわち、本発明は、以下に関する。
（１）式（Ｉ）：

（式中、
Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルであり、
Ｂｘは核酸塩基部分であり、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基又は反応性リン基であり、
Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
ｎは０〜３の整数である）
で示される化合物、又はその塩。
（２）式：

で示される基が、

で示される基である（１）記載の化合物、又はその塩。
（３）Ｂｘが置換若しくは非置換のプリン−９−イル又は置換若しくは非置換の２−オキソ−ピリミジン−１−イルである、（１）又は（２）記載の化合物、又はその塩。
（４）Ｚ^１が水素原子又は水酸基保護基である、（１）〜（３）いずれかに記載の化合物、又はその塩。
（５）該水酸基保護基がアセチル、ｔ−ブチル、ｔ−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、２−トリメチルシリルエチル、ｐ−クロロフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾイル、２，６−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、９−フェニルキサンチン−９−イル又は９−（ｐ−メトキシフェニル）キサンチン−９−イルである、（４）記載の化合物、又はその塩。
（６）Ｚ^２が水素原子又は反応性リン基である、（１）〜（５）いずれかに記載の化合物、又はその塩。
（７）該反応性リン基がジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト又はＨ−ホスホネートである、（６）記載の化合物、又はその塩。
（８）式（ＩＩ）：

（式中、
Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルであり、
Ｂｘは核酸塩基部分であり、
Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
ｎは０〜３の整数である）
で示されるヌクレオシド構造を１以上含有するオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩。

本発明のヌクレオチド又はヌクレオシドから調製されるオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖ＲＮＡに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、核酸医薬品への応用が期待される。

本発明のオリゴヌクレオチドのエキソヌクレアーゼ耐性能を示すグラフである。（実施例４）

本明細書において使用される用語は、特に言及する場合を除いて、当該分野で通常用いられる意味で用いられる。
以下に本明細書中で使用する各用語を説明する。なお、本明細書中、各用語は単独で使用されている場合も、又は他の用語と一緒になって使用されている場合も、特に記載の無い限り、同一の意義を有する。

「核酸塩基部分」とは、核酸塩基又はその類縁体を含む置換基を意味する。天然の核酸塩基としては、アデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、チミン（Ｔ）、シトシン（Ｃ）又はウラシル（Ｕ）が挙げられる。本発明の核酸塩基は、それらに限定されず、他の人工又は天然の核酸塩基も含まれる。例えば、５−メチルシトシン（５−ｍｅ−Ｃ）、５−ヒドロキシメチルシトシン、キサンチン、ヒポキサンチン、２−アミノアデニン、７−デアザ−アデニン、７−デアザグアノシン、２−アミノピリジン、２−ピリドン等が挙げられる。
つまり、本発明における「核酸塩基部分」とは、核酸（ＤＮＡ、ＲＮＡ）の塩基部分を構成する置換若しくは非置換の複素環式基又は置換若しくは非置換の炭素環式基である。
該複素環は、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択される同一又は異なるヘテロ原子を環内に１以上有する単環又は縮合環を含む。例えば、プリン、ピリミジン、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソキサゾール、ピリダジン、インドリジン、インドール、イソインドール、イソキノリン、キノリン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン等が挙げられる。好ましくはプリン又はピリミジンである。
該炭素環は、単環又は縮合環の炭化水素環を含む。例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インダン、インデン、テトラヒドロナフチレン、ビフェニレン等が挙げられる。好ましくは、ベンゼンまたはナフタレンである。
該複素環又は炭素環式基の置換基としては、置換基群αに含まれる置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が置換基群αから選択される１以上の置換基と結合していてもよい。
置換基群α：ハロゲン、ヒドロキシ、核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基、アルキル、アルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、アルケニル、アルキニル、メルカプト、核酸合成に用いられる保護基で保護されたメルカプト、アミノ、核酸合成に用いられる保護基で保護されたアミノ。

「核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基」の保護基とは、核酸合成の際に安定して水酸基を保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。例えば、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、ホルミル又は以下の保護基が挙げられる。
脂肪族アシル：アルキルカルボニル（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル、ヘナイコサノイル等）、カルボキシアルキルカルボニル（例えば、スクシノイル、グルタロイル、アジポイル等）、ハロアルキルカルボニル（例えば、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル等）、アルキルオキシアルキルカルボニル（例えば、メトキシアセチル等）、不飽和アルキルカルボニル（例えば、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイル等）等。
芳香族アシル：芳香族炭素環式基カルボニル（例えば、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイル等）、ハロゲンで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（例えば、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイル等）、アルキルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイル等）、アルキルオキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（例えば、４−アニソイル等）、カルボキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイル等）、ニトロで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイル等）アルキルオキシカルボニルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル（２−（メトキシカルボニル）ベンゾイル等）、芳香族炭素環式基で置換された芳香族炭素環式基カルボニル（４−フェニルベンゾイル等）等。
テトラヒドロピラニル：テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル等。
テトラヒドロチオピラニル：テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イル等。
テトラヒドロフラニル：テトラヒドロフラン−２−イル等。
テトラヒドロチオフラニル：テトラヒドロチオフラン−２−イル等。
シリル：トリアルキルシリル（トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル等）、１〜２個の芳香族炭素環式基で置換されたトリアルキルシリル（ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリル等）等。
アルキルオキシメチル：メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチル等。
アルキルオキシ化アルキルオキシメチル：２−メトキシエトキシメチル等。
ハロゲノアルキルオキシメチル：２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル等。
アルキルオキシ化エチル：１−エトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチル等。
ハロゲン化エチル：２，２，２−トリクロロエチル等。
１〜３個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル：ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチル等。
アルキル、アルキルオキシ、ハロゲン又はシアノで芳香族炭素環が置換された１〜３個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル：４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル等。
アルキルオキシカルボニル：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル等。
ハロゲン、アルキルオキシ又はニトロで置換された芳香族炭素環式基：４−クロロフェニル、２−フロロフェニル、４−メトキシフェニル、４−ニトロフェニル、２，４−ジニトロフェニル等。
ハロゲン又はトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル：２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル等。
アルケニルオキシカルボニル：ビニルオキシカルボニル、芳香族炭素環式基オキシカルボニル等。
１〜２個のアルキルオキシ又はニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル：ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル等。
好ましい保護基としては、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「１〜３個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル」、「ハロゲン、アルキルオキシ又はニトロで置換された芳香族炭素環式基」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル、ベンジル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−プロペニル等が挙げられる。

「核酸合成に用いられる保護基で保護されたメルカプト」の保護基としては、核酸合成の際に安定してメルカプトを保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。
例えば、上記水酸基の保護基として挙げられたものの他、以下も含まれる。
ジスルフィドを形成する基：アルキルチオ（メチルチオ、エチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ等）、芳香族炭素環式基チオ（ベンジルチオ等）等。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。

「核酸合成に用いられる保護基で保護されたアミノ」の保護基としては、核酸合成の際に安定してアミノを保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。
例えば、ホルミル、上記水酸基の保護基として挙げられた「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「アルキルオキシカルボニル」、「ハロゲン又はトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル」、「アルケニルオキシカルボニル」、「１〜２個のアルキルオキシ又はニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル」が挙げられる。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。

「核酸塩基部分」として、好ましくは、置換若しくは非置換のプリン−９−イル、又は、置換若しくは非置換の２−オキソ−ピリミジン−１−イル等が挙げられる。核酸塩基部分に含まれる環の置換基としては、上記置換基群αに含まれる置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が置換基群αから選択される１以上の置換基と結合していてもよい。さらに好ましくは、上記置換基群αから選択される１以上の置換基で置換された、プリン−９−イル又は２−オキソ−ピリミジン−１−イルである。特に好ましくは、上記置換基群αから選択される１又は２の置換基で置換された、プリン−９−イル又は２−オキソ−ピリミジン−１−イルである。
例えば、６−アミノプリン−９−イル（即ち、アデニニル）、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２，６−ジアミノプリン−９−イル、６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（即ち、グアニニル）、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、シトシニル）、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、ウラシニル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、５−メチルシトシニル）、又は、アミノが核酸合成に用いられる保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル等が挙げられる。

さらに具体的には、以下に記載の式：(Ｂ−１)〜(Ｂ−４)で示される基が挙げられる。
式（Ｂ−１）：

（式中、
Ｒ^ａは、水素原子又はアルキルであり、
Ｒ^ｂは、水素原子又はアルキルである。）
で示される基。
Ｒ^ａは、好ましくは、水素原子又はＣ１−Ｃ５アルキルである。さらに好ましくは水素原子又はメチルである。
Ｒ^ｂは、好ましくは、水素原子である。

式（Ｂ−２）：

（式中、
Ｒ^ｃは、水素原子、ハロゲン又はアルキルであり、
Ｒ^ｄは、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、ＮＨＣＯＲ^ｅ、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＲ^ｅ又はＮ＝ＮＲ^ｆであり、
Ｒ^ｅは、置換若しくは非置換のアルキル又は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Ｒ^ｆは、水素原子又はアルキルである）
で示される基。
Ｒ^ｃは、好ましくは、水素原子又はＣ１−Ｃ５アルキルである。さらに好ましくは水素原子又はメチルである。
Ｒ^ｄは、好ましくは、ＮＨＣＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_３、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_２Ｏ−（４−ｔＢｕ）Ｐｈである。

式（Ｂ−３）：

（式中、
Ｒ^ｇは、ハロゲン、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、ＮＨＣＯＲ^ｉ、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＲ^ｉ又はＮ＝ＮＲ^ｊであり、
Ｒ^ｈは、水素原子、ハロゲン、アミノ又はアルキルオキシであり、
Ｒ^ｉは、置換若しくは非置換のアルキル又は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Ｒ^ｊは、水素原子又はアルキルである）
で示される基。
Ｒ^ｇは、好ましくは、ＮＨＣＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_３、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_２Ｏ−（４−ｔＢｕ）Ｐｈである。
Ｒ^ｈは、好ましくは、水素原子である。

式（Ｂ−４）：

（式中、
Ｒ^ｋは、アミノ、ＮＨＣＯＲ^ｍ、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＲ^ｍ又はＮ＝ＮＲ^ｎであり、
Ｒ^ｍは、置換若しくは非置換のアルキル又は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Ｒ^ｎは、水素原子又はアルキルである）
で示される基。
Ｒ^ｋは、好ましくは、ＮＨＣＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_３、ＮＨＣＯＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＰｈ、ＮＨＣＯＣＨ_２Ｏ−（４−ｔＢｕ）Ｐｈである。

例えば、以下が挙げられる。

（式中、Ｒ’は、水素原子又は核酸合成に用いられるアミノの保護基である。例えば、イソブチル、アセチル、ベンゾイル、フェノキシアセチル等が挙げられる。）

Ｚ^１及びＺ^２の「水酸基保護基」としては、上記「核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基」の保護基として挙げた保護基が挙げられる。好ましくは、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。
さらに好ましくは、アセチル、ｔ−ブチル、ｔ−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、２−トリメチルシリルエチル、ｐ−クロロフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾイル、２，６−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリフェニルメチル（トリチル）、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル（ＤＭＴｒ）、トリメトキシトリチル、９−フェニルキサンチン−９−イル（Ｐｉｘｙｌ）又は９−（ｐ−メトキシフェニル）キサンチン−９−イル（ＭＯＸ）である。特に好ましくは、ベンジル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル等が挙げられる。

「反応性リン基」としては、ホスホジエステル及びホスホロチオエートヌクレオシド間結合が含まれるヌクレオシド間結合を形成するために有用なリン原子を含有する基を意味する。当該分野で公知の反応性リン基を用いることができ、例えば、ホスホロアミダイト、Ｈ−ホスホネート、リン酸ジエステル、リン酸トリエステル、リン含有キラル補助剤等が挙げられる。
具体的には、以下に記載の式：(Ｚ^２−１)〜（Ｚ^２−３)で示される基が挙げられる。
式（Ｚ^２−１）：−Ｐ（ＯＲ^Ｘ１）（ＮＲ^Ｘ２）（式中、Ｒ^Ｘ１は置換若しくは非置換のアルキルであり、Ｒ^Ｘ２は置換若しくは非置換のアルキルである。）で示される基。Ｒ^Ｘ１は好ましくは、アルキル又はシアノアルキルである。Ｒ^Ｘ２は好ましくは、アルキルである。
式（Ｚ^２−２）：−Ｐ（＝Ｒ^Ｘ３）（ＯＲ^Ｘ４）_２（式中、Ｒ^Ｘ３はＯ又はＳであり、Ｒ^Ｘ４は、それぞれ独立して、水素原子、核酸合成に用いられる保護基、置換若しくは非置換のアルキル、又は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。）で示される基。Ｒ^Ｘ３は好ましくは、Ｏであり、Ｒ^Ｘ４は好ましくは水素原子である。
式（Ｚ^２−３）：−Ｐ（＝Ｒ^Ｘ５）Ｈ（ＯＲ^Ｘ６）（式中、Ｒ^Ｘ５はＯ又はＳであり、Ｒ^Ｘ６は水素原子、核酸合成に用いられる保護基、又は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。）で示される基。Ｒ^Ｘ５は好ましくは、Ｏであり、Ｒ^Ｘ６は好ましくは水素原子である。

Ｒ^Ｘ４及びＲ^Ｘ６の「核酸合成に用いられる保護基」とは、上記「核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基」の保護基として挙げた保護基が挙げられる。好ましくは、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「１〜３個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル」、「ハロゲン、アルキルオキシ又はニトロで置換された芳香族炭素環式基」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル、ベンジル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−プロペニル等が挙げられる。

反応性リン基として、特に好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト（式：−Ｐ（ＯＣ_２Ｈ_４ＣＮ）（Ｎ（ｉ−Ｐｒ）_２）で示される基）又はＨ−ホスホネート（式：−Ｐ（＝Ｏ）Ｈ（ＯＨ）で示される基）等が挙げられる。

「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、及び塩素原子が好ましい。

「アルキル」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。

「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。

「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。

「芳香族炭素環式基」とは、単環又は２環以上の、環状芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。

「非芳香族炭素環式基」とは、単環又は２環以上の、環状飽和炭化水素基又は環状非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。２環以上の非芳香族炭素環式基は、単環又は２環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、又はスピロ環を形成する基も包含する。

単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。

「芳香族複素環式基」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択される同一又は異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環又は２環以上の、芳香族環式基を意味する。
２環以上の芳香族複素環式基は、単環又は２環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員又は６員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
２環の芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。

「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、Ｓ及びＮから任意に選択される同一又は異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環又は２環以上の、非芳香族環式基を意味する。
２環以上の非芳香族複素環式基は、単環又は２環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、及び／又は「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、又はスピロ環を形成する基も包含する。

単環の非芳香族複素環式基としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員又は６員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル等が挙げられる。

「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシが挙げられる。

「ハロアルキル」とは、１以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。

「アルキルアミノ」には、モノアルキルアミノとジアルキルアミノが含まれる。
「モノアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。
「ジアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−エチルアミノ等が挙げられる。好ましくは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノが挙げられる。

「アルキルカルボニルアミノ」とは、アルキルカルボニルがアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルキルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノが挙げられる。

「アルケニルカルボニルアミノ」とは、アルケニルカルボニルがアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルケニルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ビニルカルボニルアミノ、プロペニルカルボニルアミノ等が挙げられる。

「アルキニルカルボニルアミノ」とは、アルキニルカルボニルがアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルキニルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、エチニルカルボニルアミノ、プロピニルカルボニルアミノ等が挙げられる。

「アルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。

「アルケニルカルバモイル」とは、上記「アルケニル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルケニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ビニルカルバモイル、プロペニルカルバモイル等が挙げられる。

「アルキニルカルバモイル」とは、上記「アルキニル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個又は２個と置き換わった基を意味する。２個の場合、それぞれのアルキニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、エチニルカルバモイル、プロピニルカルバモイル等が挙げられる。

「置換若しくは非置換のアルキル」、「置換若しくは非置換のアルケニル」、「置換若しくは非置換のアルキニル」「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイル」の置換基としては、次の置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基から選択される１以上の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、及び非芳香族複素環スルホニル。

「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」の「芳香族炭素環」の環上の置換基としては、次の置換基が挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基から選択される１以上の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキル、非芳香族炭素環アルキル、芳香族複素環アルキル、非芳香族複素環アルキル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、及び非芳香族複素環スルホニル。

以下に、本発明の式（Ｉ）で示される化合物の好ましい様態を説明する。

Ｙ^１はＣＲ^６又はＮである。
Ｙ^２はＣＲ^７又はＮである。
Ｙ^３はＣＲ^８又はＮである。
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルである。好ましくは、水素原子又は置換若しくは非置換のアルキルである。

詳しくは、式：

で示される基が、

で示される基である。
好ましくは、式：

で示される基が、

で示される基である。

Ｂｘは核酸塩基部分である。より好ましくは、置換若しくは非置換のプリン−９−イル又は置換若しくは非置換の２−オキソ−ピリミジン−１−イルである。

Ｚ^１はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基又は反応性リン基である。好ましくは、水素原子又は水酸基保護基である。より好ましくは、水素原子、アセチル、ｔ−ブチル、ｔ−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、２−トリメチルシリルエチル、ｐ−クロロフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾイル、２，６−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリフェニルメチル（トリチル）、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル（ＤＭＴｒ）、トリメトキシトリチル、９−フェニルキサンチン−９−イル（Ｐｉｘｙｌ）又は９−（ｐ−メトキシフェニル）キサンチン−９−イル（ＭＯＸ）である。特に好ましくは、水素原子、ベンジル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル等である。

Ｚ^２はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基又は反応性リン基である。好ましくは、水素原子又は反応性リン基である。より好ましくは、水素原子、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト又はＨ−ホスホネートである。

Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子又はアルキルである。

Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノ又はアルキルである。
Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノ又はアルキルである。

Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノ、又はアルキルである。

ｎは０〜３の整数である。好ましくは、０又は１である。

式（Ｉ）で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体又はそれらの混合物を含む。

式（Ｉ）で示される化合物の一つ以上の水素、炭素及び／又は他の原子は、それぞれ水素、炭素及び／又は他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ^２Ｈ、^３Ｈ、^１１Ｃ、^１３Ｃ、^１４Ｃ、^１５Ｎ、^１８Ｏ、^１７Ｏ、^３１Ｐ、^３２Ｐ、^３５Ｓ、^１８Ｆ、¹²³Ｉ及び^３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素及び塩素が包含される。式（Ｉ）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究及び／又は診断のツールとして有用である。

式（Ｉ）で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式（Ｉ）で示される化合物のトリチウム標識化合物は、例えば、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式（Ｉ）で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下又は非存在下で、式（Ｉ）で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Ｉｓｏｔｏｐｅｓ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃａｌ ａｎｄ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｐａｒｔ Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ ６ （１９８７年）を参照にできる。^１４Ｃ−標識化合物は、^１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。

本発明は、式（Ｉ）で示される化合物の生成可能な塩を含有する。該塩としては、例えば、アルカリ金属塩（ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等）、アルカリ土類金属塩（カルシウム塩、マグネシウム塩等）、金属塩（アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等）、アンモニウム塩、アミン塩（ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩等）、無機酸塩（フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩等のハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等）、アルカンスルホン酸塩（メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩等）、芳香族炭素環式基スルホン酸塩（ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等）、有機酸塩（酢酸塩、リンゴ酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等）、アミノ酸塩（グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等）等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。

本発明の式（Ｉ）で示される化合物又はその塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）及び／又は結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物及び結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式（Ｉ）で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。式（Ｉ）で示される化合物又はその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式（Ｉ）で示される化合物又はその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。

本発明に係る式（Ｉ）で示される化合物は、当該分野において公知の手法を参酌しながら合成することができる。例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。また、抽出、精製等は、通常の有機化学の実験で行う処理を行えばよい。

（上記反応式中、Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、水酸基保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル又はベンゾイルである。Ｚ^１は、水酸基保護基であり、好ましくは、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル又はトリメトキシトリチルである。Ｚ^２は、反応性リン基であり、好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト又はＨ−ホスホネートである。その他各記号は、式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。）

化合物（ａ）に必要に応じてＲ^６に置換基を導入し、化合物（ｂ）を得る。化合物（ｂ）と化合物（ｃ）を塩基及び触媒の存在下で反応させ、化合物（ｄ）を得る。２’位水酸基をトリフラート化して化合物（ｅ）へ変換した後、窒素原子の保護基を除去し化合物（ｆ）を得る。得られた化合物（ｆ）を塩基で処理することで化合物（ｇ）を得る。続いて、３’位及び５’位水酸基の保護基をはずし、必要に応じてＲ^５に置換基を導入し、化合物（ｈ）を得る。５’位水酸基に保護基（特に、メトキシ基で置換されていてもよいトリチル基）を導入し、化合物（ｉ）を得る。３’位水酸基に反応性リン基（特にジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト）を導入して化合物（Ｉ−ａ）を得る。

（上記反応式中、Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、水酸基保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル又はベンゾイルである。Ｐ^３は、窒素原子の保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、ピバロイル、メチルピバレイトである。Ｚ^１は、水酸基保護基であり、好ましくは、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル又はトリメトキシトリチルである。Ｚ^２は、反応性リン基であり、好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト又はＨ−ホスホネートである。その他各記号は、式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。）

化合物（ｊ）に必要に応じた置換基を有する複素環を導入し、化合物（ｋ）を得る。アセトナイドの脱保護をして化合物（ｌ）とした後、核酸塩基部分を導入して化合物（ｍ）を得る。アセチル基を除去した後、２’位水酸基の立体を反転させて化合物（ｏ）を得る。水酸基をトリフラート化して化合物（ｐ）へ変換した後、窒素原子の保護基を除去し、塩基で処理することで化合物（ｑ）を得る。続いて、３’位及び５’位水酸基の保護基をはずし、必要に応じてＲ^５に置換基を導入し、化合物（ｒ）を得る。５’位水酸基に保護基（特に、メトキシ基で置換されていてもよいトリチル基）を導入し、化合物（ｓ）を得る。３’位水酸基に反応性リン基（特にジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト）を導入して化合物（Ｉ−ｂ）を得る。

上記の工程において、以下の中間体は有用である。
式：

（式中、Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、水酸基保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル又はベンゾイルである。Ｐ^３は、窒素原子の保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、ピバロイル、メチルピバレイトである。その他各記号は、式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。）

本発明のヌクレオシドとは、式（Ｉ）で示される化合物のＺ^１及びＺ^２が水素である化合物を意味する。

本発明のヌクレオチドとは、式（Ｉ）で示される化合物のＺ^２が反応性リン基である化合物を意味する。

本発明には、式（Ｉ）で示される化合物から調製される以下のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩も含まれる。
式（ＩＩ）：

（式中、
Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルであり、
Ｂｘは核酸塩基部分であり、
Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
ｎは０〜３の整数である）
で示されるヌクレオシド構造を１以上含有するオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩。

式中の各記号は式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。

本発明のオリゴヌクレオチドは、式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造を任意の位置に少なくとも１つ含有する２〜５０塩基、好ましくは８〜３０塩基の長さのオリゴヌクレオチドである。その位置及び数は特に限定されず、目的に応じて適宜設計され得る。例えば式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造を、オリゴヌクレオチドの３’末端又は５’末端に含有してもよい。３’末端に含まれる場合、以下の形となる。

（式中、各記号は、式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。）
５’末端に含まれる場合、以下の形となる。

（式中、各記号は、式（Ｉ）で示される化合物における各記号と同意義である。）

本発明のオリゴヌクレオチドの３’末端及び／又は５’末端は修飾されていてもよい。オリゴヌクレオチドの追跡を可能にするため、オリゴヌクレオチドの薬物動態又は薬力学を改善するため、あるいはオリゴヌクレオチドの安定性又は結合親和性を向上させるために、当該分野で公知の修飾基を利用することができる。例えば、水酸基の保護基、レポーター分子、コレステロール、リン脂質、色素、蛍光分子等が挙げられる。
また、本発明のオリゴヌクレオチドの３’末端及び／又は５’末端はリン酸エステル部分を含んでいてもよい。「リン酸エステル部分」とは、リン酸エステル並びに修飾リン酸エステルが含まれる、末端リン酸基を意味する。リン酸エステル部分は、いずれの末端に位置してもよいが、５’−末端ヌクレオシドであることが好ましい。具体的には、式：−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）ＯＨで示される基又はその修飾基である。つまり、Ｏ及びＯＨの１以上が、Ｈ、Ｏ、ＯＲ^Ｘ、Ｓ、Ｎ（Ｒ^Ｘ）、又はアルキル（ここでＲ^Ｘは、Ｈ、アミノ保護基、又は置換若しくは非置換のアルキルである）で置換されていてもよい。５’及び／又は３’−末端基は、それぞれ独立して置換又は非置換の、１〜３のリン酸エステル部分を含んでいてもよい。

本発明のオリゴヌクレオチドは、式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造を少なくとも１つ含有していれば、他の部分が天然の核酸と同じであっても、当該分野で公知のヌクレオチドの修飾を有していてもよい。
本発明のオリゴヌクレオチドのリン酸部分としては、天然の核酸が有するリン酸ジエステル結合、Ｓ−オリゴ（ホスホロチオエート）、Ｍ−オリゴ（メチルフォスフォネート）、ボラノホスフェート等が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造以外の塩基部分は、上記「Ｂｘ」について定義した任意の核酸塩基であってよい。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造以外の糖部分としては、天然のリボース若しくはデオキシリボース、公知の修飾を有するリボース若しくはデオキシリボース等が挙げられる。公知の修飾としては、例えば、２’−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_３（２’ＭＯＥ）、４’−ＣＨ_２−Ｏ−２’（ＬＮＡ、Ｌｏｃｋｅｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ）、ＡｍＮＡ（アミドＢＮＡ）（Ｂｒｉｄｇｅｄ ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄ、ＷＯ２０１１／０５２４３６参照）等による修飾が挙げられる。

また、本発明のオリゴヌクレオチドに含有されるヌクレオシド間の結合は、当該分野で公知の結合であれば、リン原子を有していない結合であってもよい。アルキル、非芳香族炭素環、ハロアルキル、ハロゲンで置換された非芳香族炭素環等を含むが、これらに限定されない。例えば、シロキサン、スルフィド、スルホキシド、スルホン、アセチル、ギ酸アセチル、チオギ酸アセチル、メチレンギ酸アセチル、チオギ酸アセチル、アルケニル、スルファマート、メチレンイミノ、メチレンヒドラジノ、スルホナート、スルホンアミド、アミドを含む。

本発明のオリゴヌクレオチドは、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体又はそれらの混合物を含む。

本発明のオリゴヌクレオチドの一つ以上の水素、炭素及び／又は他の原子は、それぞれ水素、炭素及び／又は他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ^２Ｈ、^３Ｈ、^１１Ｃ、^１３Ｃ、^１４Ｃ、^１５Ｎ、^１８Ｏ、^１７Ｏ、^３１Ｐ、^３２Ｐ、^３５Ｓ、^１８Ｆ、¹²³Ｉ及び^３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素及び塩素が包含される。本発明のオリゴヌクレオチドは、そのような同位体で置換されたオリゴヌクレオチドも包含する。該同位体で置換されたオリゴヌクレオチドは、医薬品としても有用であり、本発明のオリゴヌクレオチドのすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究及び／又は診断のツールとして有用である。

本発明のオリゴヌクレオチドの放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、トリチウムで標識した本発明のオリゴヌクレオチドは、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、本発明のオリゴヌクレオチドにトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下又は非存在下で、本発明のオリゴヌクレオチドが適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Ｉｓｏｔｏｐｅｓ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃａｌ ａｎｄ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｐａｒｔ Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ ６ （１９８７年）を参照にできる。^１４Ｃ−標識化合物は、^１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。

本発明は、本発明のオリゴヌクレオチドの製薬上許容される塩を含有する。該塩としては、例えば、アルカリ金属塩（ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等）、アルカリ土類金属塩（カルシウム塩、マグネシウム塩等）、金属塩（アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等）、アンモニウム塩、アミン塩（ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩等）、無機酸塩（フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等）、アルカンスルホン酸塩（メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩）、芳香族炭素環式基スルホン酸塩（ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等）、有機酸塩（酢酸塩、リンゴ酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等）、アミノ酸塩（グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等）等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。

本発明のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）及び／又は結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物及び結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、本発明のオリゴヌクレオチドに対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。本発明のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、本発明のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。

本発明のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明のオリゴヌクレオチドとなる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて本発明のオリゴヌクレオチドに変換される化合物、胃酸等により加水分解されて本発明のオリゴヌクレオチドに変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法及び製造する方法は、例えばＤｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｒｏｄｒｕｇｓ， Ｅｌｓｅｖｉｅｒ， Ａｍｓｔｅｒｄａｍ １９８５に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。

本発明のオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えば、ＣＨ_３ＣＯＯ−、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ−、ｔｅｒｔ−ＢｕＣＯＯ−、Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯ−、ＰｈＣＯＯ−、（ｍ−ＮａＯＯＣＰｈ）ＣＯＯ−、ＮａＯＯＣＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ−、ＣＨ_３ＣＨ（ＮＨ_２）ＣＯＯ−、ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）_２ＣＯＯ−、ＣＨ_３ＳＯ_３−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＳＯ_３−、ＣＦ_３ＳＯ_３−、ＣＨ_２ＦＳＯ_３−、ＣＦ_３ＣＨ_２ＳＯ_３−、ｐ−ＣＨ_３Ｏ−ＰｈＳＯ_３−、ＰｈＳＯ_３−、ｐ−ＣＨ_３ＰｈＳＯ_３−が挙げられる。

本発明のオリゴヌクレオチドは、式（Ｉ）で示される化合物を用いて、常法によって合成することができる。例えば、市販の核酸自動合成装置（例えば、ＡｐｐｌｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅｍｓ社製、（株）大日本精機製等）によって容易に合成することができる。合成法はホスホロアミダイトを用いた固相合成法、ハイドロジェンホスホネートを用いた固相合成法等がある。例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ ２２，１８５９−１８６２ （１９８１）、国際公開第２０１１／０５２４３６号等に開示されている。

式（ＩＩ）で示されるヌクレオシド構造中のＢｘは、置換基が保護基で保護されていないことが好ましい。例えば、以下で示される基が挙げられる。

よって、式（Ｉ）で示される化合物中のＢｘが、保護基で保護された置換基を有する場合、オリゴヌクレオチド合成の際に、脱保護を行う。

本発明のオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖ＲＮＡに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。従って、該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられる。よって、本発明の式（Ｉ）で示される化合物は、アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品（医薬組成物）を合成するための材料として非常に有用である。本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、無修飾の核酸医薬品と比較して、標的分子への親和性が高く、生体内で分解されにくくなり、より安定して効果を発揮する。

本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、局所的あるいは全身的な治療のいずれが望まれるのか、又は治療すべき領域に応じて、様々な方法により投与することができる。投与方法としては、例えば、局所的（点眼、膣内、直腸内、鼻腔内、経皮を含む）、経口的、又は、非経口的であってもよい。非経口的投与としては、静脈内注射若しくは点滴、皮下、腹腔内若しくは筋肉内注入、吸引若しくは吸入による肺投与、硬膜下腔内投与、脳室内投与等が挙げられる。

本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品を局所投与する場合、経皮パッチ、軟膏、ローション、クリーム、ゲル、滴下剤、坐剤、噴霧剤、液剤、散剤等の製剤を用いることができる。
経口投与用組成物としては、散剤、顆粒剤、水若しくは非水性媒体に溶解させた懸濁液又は溶液、カプセル、粉末剤、錠剤等が挙げられる。
非経口、硬膜下腔、又は、脳室内投与用組成物としては、バッファー、希釈剤及びその他の適当な添加剤を含む無菌水溶液等が挙げられる。

本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、核酸の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、湿潤剤、崩壊剤、滑沢剤、希釈剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合して得ることができる。注射剤の場合には適当な担体と共に滅菌処理を行なって製剤とすればよい。

賦形剤としては乳糖、白糖、ブドウ糖、デンプン、炭酸カルシウム又は結晶セルロース等が挙げられる。結合剤としてはメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン又はポリビニルピロリドン等が挙げられる。崩壊剤としてはカルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末又はラウリル硫酸ナトリウム等が挙げられる。滑沢剤としてはタルク、ステアリン酸マグネシウム又はマクロゴール等が挙げられる。坐剤の基剤としてはカカオ脂、マクロゴール又はメチルセルロース等を用いることができる。また、液剤又は乳濁性、懸濁性の注射剤として調製する場合には通常使用されている溶解補助剤、懸濁化剤、乳化剤、安定化剤、保存剤、等張剤等を適宜添加しても良い。経口投与の場合には嬌味剤、芳香剤等を加えても良い。

投与は、治療される病態の重度と反応度に依存し、治療コースは、数日から数ヶ月、あるいは、治癒が実現されるまで、又は、病状の減退が達成されるまで持続する。最適投与スケジュールは、生体における薬剤蓄積の測定から計算が可能である。当該分野の当業者であれば、最適用量、投与法、及び、繰り返し頻度を定めることができる。最適用量は、個々の核酸医薬品の相対的効力に応じて変動するが、一般に、インビトロ及びインビボの動物実験におけるＩＣ５０又はＥＣ５０に基づいて計算することが可能である。例えば、核酸の分子量（核酸配列及び化学構造から導かれる）と、例えば、ＩＣ５０のような効果的用量（実験的に導かれる）が与えられたならば、ｍｇ／ｋｇで表される用量が通例に従って計算される。

なお、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ａｃ：アセチル
Ｂｎ：ベンジル
ＢＯＭ：ベンジルオキシメチル
Ｂｚ：ベンゾイル
ＤＭＴｒ：ジメトキシトリチル
ｉ−Ｐｒ：イソプロピル
Ｍｅ:メチル
Ｐｈ：フェニル
Ｐｉｖ：ピバロイル
ＴＢＳ：ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリル
ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル

以下に本発明の実施例及び参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。

実施例で得られた化合物のＮＭＲ分析は１６２ＭＨｚ、３００ＭＨｚ、４００ＭＨｚで行い、ＣＤ_３ＯＤ、ＣＤＣｌ_３、ＤＭＳＯ−ｄ６を用いて測定した。

実施例１ 本発明のヌクレオチドの合成
（１−Ａ） 化合物Ｉ−１の合成

工程１ 化合物３の合成
窒素気流下、化合物１（合成法はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０００，４３，４５１６に記載の方法に準じる）（４３５ｍｇ，０．９４１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（８．７ｍＬ）に、室温下、化合物２（合成法はＣｈｅｍＭｅｄＣｈｅｍ ２０１１，６，８４０に記載の方法に準じる）（２７３ｍｇ，１．４１１ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１６４μＬ，０．９４１ｍｍｏｌ）とヨウ化銅（１７．９ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）を加えて７０℃下、１４時間撹拌した。反応液をセライトでろ過した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン： 酢酸エチル＝５０：５０→１５：８０）で精製し、化合物３（６１３ｍｇ，９９％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.73 (3H, s), 3.73 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.00 (1H, d, J = 10.8 Hz), 4.29-4.42 (4H, m), 4.47 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.56 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.63 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.68 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.40 (1H, d, J = 14.4 Hz), 5.44 (1H, d, J = 14.4 Hz), 6.25 (1H, d, J = 3.9 Hz), 6.39-6.44 (2H, m), 7.03-7.09 (3H, m), 7.24-7.26 (3H, m), 7.30-7.39 (5H, m), 7.47 (1H, s), 7.57 (1H, s), 8.32 (1H, s).

工程２ 化合物４の合成
窒素気流下、化合物３（５８９ｍｇ，０．８９９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（５．９ｍＬ）に、氷冷下、ピリジン（２３９μＬ，２．９７ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸無水物（２２８μＬ，１．３５ｍｍｏｌ）を加えて４０分間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物４の粗製物（７１４ｍｇ）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.68 (3H, s), 3.71 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.89 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.97 (1H, d, J = 10.8 Hz), 4.51-4.58 (3H, m), 4.66 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.84 (1H, d, J = 6.0 Hz), 5.40 (1H, d, J = 14.8 Hz), 5.46 (1H, d, J = 14.8 Hz), 5.58 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.44-6.47 (2H, m), 6.57 (1H, d, J = 6.0 Hz), 7.13-7.16 (3H, m), 7.26-7.36 (8H, m), 7.43 (1H, s), 7.46 (1H, s), 7.93 (1H, s).

工程３及び工程４ 化合物６の合成
室温下、化合物４の粗製物（７１４ｍｇ）のトリフルオロ酢酸溶液（１０ｍＬ）にアニソール（３４４μＬ，３．１５ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃下、２時間半撹拌した。氷冷下、反応液へメタノールを加えた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノールで２回、トルエンで２回共沸し、化合物５の粗製物（９８３ｍｇ）を得た。
室温下、化合物５の粗製物のアセトニトリル溶液（１１ｍＬ）に炭酸カリウム（３１１ｍｇ，２．２５ｍｍｏｌ）を加えて５時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０→２５：７５）で精製し、化合物６（３３９ｍｇ，７７％（工程２〜工程４の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.65 (3H, d, J = 1.2 Hz), 4.14 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.37 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.54 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.58 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.65-4.68 (2H, m), 4.71 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.27 (1H, s), 5.56 (1H, s), 7.10-7.12 (2H, m), 7.28-7.42 (8H, m), 7.56 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.63 (1H, s), 8.44 (1H, s).

工程５ 化合物７の合成
化合物６（１２２ｍｇ，０．２５１ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（４．９ｍＬ）にギ酸アンモニウム（７９０ｍｇ，１２．５３ｍｍｏｌ）と２０％水酸化パラジウム−炭素粉末（６０ｍｇ）を加え、８５℃下、５時間半撹拌した。反応液にギ酸アンモニウム（７９０ｍｇ，１２．５３ｍｍｏｌ）と２０％水酸化パラジウム−炭素粉末（６０ｍｇ）を加え、８５℃下、１時間半撹拌した。反応溶液をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：０→８５：１５）で精製し、化合物７（１８ｍｇ，２４％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (MeOD) δ: 1.93 (3H, s), 4.22 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.41 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.91 (1H, s), 5.22 (1H, s), 5.58 (1H, s), 7.75 (1H, s), 7.87 (1H, s).

工程６ 化合物８の合成
窒素気流下、化合物７（１７ｍｇ，０．０５５ｍｍｏｌ）のピリジン溶液（０．５ｍＬ）に、室温下、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（２８ｍｇ，０．０８３ｍｍｏｌ）を加えて４時間撹拌した。室温下、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（２８ｍｇ，０．０８３ｍｍｏｌ）を加えて３時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：０→９５：５）で精製し、化合物８（２２ｍｇ，６６％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.67 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.89 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.04 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.09 (1H, br s), 5.12 (1H, s), 5.23 (1H, s), 5.87 (1H, s), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 3.2 Hz), 7.32 (3H, t, J = 7.5 Hz), 7.38 (4H, dd, J = 8.8, 2.6 Hz), 7.49 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.56 (1H, s), 7.74 (1H, s), 9.27 (1H, s).

工程７ 化合物Ｉ−１の合成
窒素気流下、化合物８（５８ｍｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）の無水ジクロロメタン溶液（０．９ｍＬ）にジイソプロピルエチルアミン（６７μＬ，０．３８１ｍｍｏｌ）、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト（６４μＬ，０．２８６ｍｍｏｌ）を加え、４時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６６：３４→２５：７５）で精製し、化合物Ｉ−１（４７ｍｇ，６１％）を白色固体物質として得た。
³¹P-NMR (CDCl₃)δ_P: 150.6, 150.7.

（１−Ｂ） 化合物Ｉ−１の合成

工程１ 化合物９の合成
窒素気流下、化合物１（５．０ｇ，９．９２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２５ｍＬ）に−７８℃下、三塩化ホウ素（１ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液、４９．６ｍＬ，４９．６ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間撹拌した後、氷冷下、２時間撹拌した。−７８℃下、反応液にメタノール（５０ｍＬ）とピリジン（３０ｍＬ）を滴下して１０分撹拌した後、室温まで昇温した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にピリジン（２０ｍＬ）を加え、析出した固体をろ過により除去した。ろ液を濃縮して得られた残渣をピリジン（２５ｍＬ）に溶かし、室温下、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン（４．７６ｍＬ，１４．８９ｍｍｏｌ）を加え、一晩撹拌した。反応液へメタノール（１０ｍＬ）を加えた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルに溶かし、５％クエン酸水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０→５０：５０）で精製し、化合物９（４．６６ｇ，９０％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.07-1.13 (28H, m), 1.91 (3H, s), 2.63 (1H, s), 2.71 (1H, d, J = 4.4 Hz), 3.96 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.15 (1H, d, J = 13.2 Hz), 4.23 (1H, d, J = 8.8 Hz), 4.75-4.80 (1H, m), 6.16 (1H, d, J = 6.4 Hz), 7.43 (1H, s), 8.30 (1H, s).

工程２ 化合物１０の合成
窒素気流下、化合物９（５．０ｇ，９．５３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７５ｍＬ）に、室温下、化合物２（２．４０ｇ，１２．４ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１．６６ｍＬ，９．５３ｍｍｏｌ）とヨウ化銅（１８１ｍｇ，０．９５３ｍｍｏｌ）を加えて７０℃下、３時間撹拌した。反応液をセライトでろ過した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０→２０：８０）で精製し、化合物１０（６．５０ｇ，９５％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.85 (7H, s), 1.05-1.14 (21H, m), 1.92 (3H, s), 3.04 (1H, d, J = 4.8 Hz), 3.82 (3H, s), 3.83 (3H, s), 3.98 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.29 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.47 (1H, d, J = 8.8 Hz), 4.57-4.62 (1H, m), 5.44 (1H, d, J = 14.4 Hz), 5.48 (1H, d, J = 14.4 Hz), 6.08 (1H, d, J = 6.4 Hz), 6.47-6.49 (2H, m), 7.20 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.56 (1H, s), 7.61 (1H, s), 8.64 (1H, s).

工程３、工程４および工程５ 化合物１３の合成
窒素気流下、化合物１０（４．０ｇ，５．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（４０ｍＬ）に、氷冷下、ピリジン（１．９８ｍＬ，２４．５７ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸無水物（２．０８ｍＬ，１２．２９ｍｍｏｌ）を加えて５時間撹拌した。反応液へ１０％クエン酸水溶液（４０ｍＬ）を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物１１の粗製物（４．９８ｇ）を得た。
室温下、化合物１１の粗製物（４．９８ｇ）のアセトニトリル溶液（９０ｍＬ）に水（１０ｍＬ）と硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム（１０．１ｇ，１８．４５ｍｍｏｌ）を加えて、７時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水と酢酸エチルを加えた後、析出した固体をろ過により除去した。ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物１２の粗製物（４．３９ｇ）を得た。
室温下、化合物１２の粗製物のアセトニトリル溶液（８０ｍＬ）に炭酸カリウム（１．９３ｇ，１３．９８ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃下、７時間撹拌した。反応液へ水を加えてアセトニトリルを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０→２０：８０）で精製し、化合物１３（９２７ｍｇ，２９％（工程３〜工程５の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.84-1.02 (28H, m), 1.93 (3H, s), 4.24-4.27 (3H, m), 4.48 (1H, d, J = 12.0 Hz), 5.20 (1H, s), 5.28 (1H, s), 5.68 (1H, s), 7.63 (1H, s), 7.77 (1H, s), 9.19 (1H, br s).

工程６ 化合物７の合成
化合物１３（２０２ｍｇ，０．３５５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２．０ｍＬ）に、室温下、１ｍｍｏｌ／Ｌ フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム テトラヒドロフラン溶液を（４２６μＬ，０．４２６ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。溶媒を留去した後、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝１００：０→８５：１５）で精製し、化合物７（１０１ｍｇ，９２％）を白色固体物質として得た。

工程７および工程８ 化合物８の合成
窒素気流下、化合物１３（５８９ｍｇ，１．０３６ｍｍｏｌ）のピリジン溶液（１０ｍＬ）に、室温下、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（７０２ｍｇ，２．０７３ｍｍｏｌ）を加えて４５時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物１４の粗製物（１．３７ｇ）を得た。
室温下、化合物１４の粗製物（１．３７ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（１４ｍＬ）にトリエチルアミン（４３１μＬ，３．１１ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン三フッ化水素酸塩（１．０１ｍＬ，６．２２ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：０→９４：６）で精製し、化合物８（６２６ｍｇ，９９％）を白色固体物質として得た。

化合物Ｉ−１の合成
工程６で得られた化合物７から、（１−Ａ）の工程６及び工程７を用いて化合物Ｉ−１を得た。
工程８で得られた化合物８から、（１−Ａ）の工程７を用いて化合物Ｉ−１を得た。

（２） 化合物Ｉ−２の合成

工程１ 化合物１５の合成
窒素気流下、（１−Ａ）の工程６又は（１−Ｂ）工程８で得られた化合物８（７０ｍｇ，０．１１５ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（０．４９ｍＬ）に、室温下、イミダゾール（４７ｍｇ，０．６８９ｍｍｏｌ）とｔ−ブチルジメチルクロロシラン（６９ｍｇ，０．４５９ｍｍｏｌ）を加えて５日間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５→４５：５５）で精製し、化合物１５（７６ｍｇ，９１％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: -0.03 (3H, s), 0.02 (3H, s), 0.61 (9H, s), 1.68 (3H, s), 3.65 (1H, d, J = 11.2 Hz), 3.80 (6H, s), 4.05 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.06 (1H, s), 5.29 (1H, s), 5.57 (1H, s), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 4.4 Hz), 7.27-7.37 (7H, m), 7.46 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, s), 7.84 (1H, s), 8.25 (1H, s).

工程２及び工程３ 化合物１７の合成
窒素気流下、化合物１５（７５ｍｇ，０．１０３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（０．７５ｍＬ）に、室温下、トリエチルアミン（５７μＬ，０．４１４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２．５ｍｇ，０．０２１ｍｍｏｌ）と２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロライド（４７ｍｇ，０．１５５ｍｍｏｌ）を加えて１６時間撹拌した。室温下、反応液へ２８％アンモニア水（０．７５ｍＬ）を加えて２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物１６の粗製物（１１３ｍｇ）を得た。
窒素気流下、化合物１６の粗製物のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（０．５２ｍＬ）に、室温下、無水安息香酸（３０ｍｇ，０．１３４ｍｍｏｌ）を加えて１８時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０→６０：４０）で精製し、化合物１７（５９ｍｇ，６９％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: -0.04 (3H, s), 0.02 (3H, s), 0.60 (9H, s), 1.87 (3H, s), 3.66 (1H, d, J = 11.2 Hz), 3.81 (6H, s), 4.08 (1H, d, J = 11.2 Hz), 5.08 (1H, s), 5.35 (1H, s), 5.63 (1H, s), 6.88 (4H, dd, J = 8.8, 5.6 Hz), 7.29-7.40 (7H, m), 7.44-7.57 (6H, m), 8.00 (1H, s), 8.33 (2H, d, J = 7.6 Hz), 13.44 (1H, s).

工程４ 化合物１８の合成
室温下、化合物１７（５８ｍｇ，０．０７０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．９ｍＬ）にトリエチルアミン（２９μＬ，０．２１１ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン三フッ化水素酸塩（６９μＬ，０．４２２ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１００：０→９５：５）で精製し、化合物１８（４７ｍｇ，９３％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.90 (3H, s), 3.35 (1H, br s), 3.81 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.90 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.10 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.08 (1H, s), 5.25 (1H, s), 5.71 (1H, s), 6.89 (4H, dd, J = 8.8, 4.8 Hz), 7.28-7.55 (12H, m), 7.59 (1H, s), 7.89 (1H, s), 8.32 (2H, d, J = 5.2 Hz), 13.30 (1H, s).

工程５ 化合物Ｉ−２の合成
窒素気流下、化合物１８（４５ｍｇ，０．０６３ｍｍｏｌ）の無水アセトニトリル−テトラヒドロフラン溶液（０．９ｍＬ，１：１）に２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（４０μＬ，０．１２７ｍｍｏｌ）と５−エチルチオ−１Ｈ−テトラゾール（１２ｍｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を加え、４時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６５：３５→４５：５５）で精製し、化合物Ｉ−２（５６ｍｇ，９７％）を白色固体物質として得た。
³¹P-NMR (CDCl₃)δ_P: 150.8.

（３） 化合物ＶＩＩ−１の合成

工程１ 化合物２０の合成
窒素気流下、化合物１９（合成法は国際公開第２０１１／０５２４３６号に記載の方法に準じる）（２７６ｍｇ，０．４７２ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（２．７ｍＬ）に、氷冷下、２，４，６−トリメチルピリジン（１８７μＬ，１．４１６ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１５９μＬ，０．９４４ｍｍｏｌ）を加えて１時間半撹拌した。氷冷下、反応液へアジ化ナトリウム（１２３ｍｇ，１．８８８ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１時間半撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を２ ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０→６０：４０）で精製し、化合物２０（１８２ｍｇ，６３％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.65 (3H, s), 4.26 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.55-4.57 (3H, m), 4.67 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.72-4.74 (4H, m), 5.24 (1H, s), 5.45 (1H, d, J = 9.6 Hz), 5.48 (1H, d, J = 9.6 Hz), 5.52 (1H, s), 7.06-7.08 (2H, m), 7.26-7.39 (13H, m), 7.52 (1H, s).

工程２ 化合物２１の合成
化合物２０（１８０ｍｇ，０．２９６ｍｍｏｌ）のメタノール懸濁液（７．５ｍＬ）に２０％水酸化パラジウム−炭素粉末（９０ｍｇ）を加え、水素気流下室温で１８時間撹拌した。反応溶液へピリジンを加えた後、ろ過した。溶媒を留去して得られた残渣をメタノール／ピリジン（１／１，５．０ｍＬ）に溶解させ、室温下、２８％アンモニア水（２．０ｍＬ）を加え、３０分間撹拌した。溶媒を留去して化合物２１（９８ｍｇ）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (DMSO-ｄ₆) δ: 1.86 (3H, d, J = 1.2 Hz), 4.17 (1H, dd, J = 13.2, 6.0 Hz), 4.42 (1H, dd, J = 13.2, 6.0 Hz), 4.96 (1H, d, J = 4.0 Hz), 5.34 (1H, s), 5.82 (1H, s), 5.91 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.75 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.80 (1H, d, J = 1.2 Hz), 11.58 (1H, s).

工程３ 化合物２２の合成
窒素気流下、化合物２１（７２ｍｇ，０．２３２ｍｍｏｌ）のピリジン溶液（１．０ｍＬ）に、室温下、４，４’‐ジメトキシトリチルクロリド（１３４ｍｇ，０．３９５ｍｍｏｌ）を加えて２０時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５５：４５→３０：７０）で精製し、化合物２２（９６ｍｇ，６８％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.58 (3H, s), 3.75 (3H, s), 3.76 (3H, s), 4.02 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.12 (1H, br s), 4.31 (1H, d, J = 12.0 Hz), 5.26 (1H, s), 5.31 (1H, s), 5.85 (1H, s), 6.84 (4H, dd, J = 8.4, 3.6 Hz), 7.20-7.31 (3H, m), 7.36 (4H, dd, J = 8.4, 4.8 Hz), 7.46 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.79 (1H, s), 9.48 (1H, br s).

工程４ 化合物ＶＩＩ−１の合成
窒素気流下、化合物２２（１７９ｍｇ，０．２９３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（２．７ｍＬ）に室温下、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（１４９μＬ，０．４９６ｍｍｏｌ）、５−エチルチオ−１Ｈ−テトラゾール（５０ｍｇ，０．３８１ｍｍｏｌ）を加え、１５時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０→２５：７５）で精製し、化合物ＶＩＩ−１（２１１ｍｇ，８９％）を白色固体物質として得た。
³¹P-NMR (CDCl₃)δ_P: 150.9, 151.5.

（４） 化合物ＩＶ−１の合成

工程１および工程２ 化合物２５の合成
化合物２３（合成法はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０００，４３．４５１６に記載の方法に準じる）（３９．８ｇ，１００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４００ｍＬ）に−７８℃下、０．９７Ｍメチルマグネシウムブロミド テトラヒドロフラン溶液（１５５ｍＬ，１５０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した後、１時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え１５分撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物２４の粗製物（４３ｇ）を得た。
窒素気流下、ジクロロメタン（１００ｍＬ）にオキサリルクロリド（１３．１ｍＬ，１５０ｍｍｏｌ）加えた後、−７８℃下、ジメチルスルホキシド（２１．３ｍＬ、３００ｍｍｏｌ）を滴下し、５分間撹拌した。続いて化合物２４の粗製物（４１．４ｇ）のジクロロメタン溶液（２０ｍＬ）を滴下し、トリエチルアミンを−７８℃下滴下した。緩やかに室温まで昇温させ、室温で２時間撹拌した。反応液に水を加えてクエンチし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５→６５：３５）で精製し、化合物２５（２８．５ｇ，６９．１％（工程１〜工程２の通算収率））を淡黄色泡状物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.39 (3H, s), 1.58 (3H, s), 2.39 (3H, s), 3.50 (1H, d, J = 10.1 Hz), 3.78 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.12 (1.0H, d, J = 5.3 Hz), 4.42-4.50 (3H, m), 4.72-4.75 (2H, m), 5.97 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.22-7.33 (10H, m).

工程３および工程４ 化合物２７の合成
化合物２５（２８．５ｇ，６９．１ｍｍｏｌ）の酢酸溶液（１３８ｍＬ）に室温下、濃硫酸（７４μＬ，１．３８２ｍｍｏｌ）、無水酢酸（５２．８ｍＬ，５５９ｍｍｏｌ）を加えて４時間撹拌した。反応液を飽和重曹水に注いだ後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物２６の粗製物（２９．１ｇ）を得た。
窒素気流下、化合物２６の粗製物（２９．１ｇ）のアセトニトリル溶液（１４６ｍＬ）に室温下、チミン（１０．５ｇ，８３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（５５．２ｍＬ，２２３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃下５分間撹拌した。室温下、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸（１１．５４ｍＬ，６３．７ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間加熱還流した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し化合物２７の粗製物（３３ｇ）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.55 (3H, s), 2.04 (3H, s), 2.30 (3H, s), 3.66 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.03 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.42 (1H, d, J = 10.9 Hz), 4.52 (1H, d, J = 10.9 Hz), 4.53 (1H, d, J = 5.3 Hz), 4.57 (1.2H, d, J = 11.4 Hz), 4.68 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.32 (1H, dd, J = 8.1, 5.3 Hz), 6.57 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.22-7.38 (10H, m), 7.52 (1H, s) 8.01 (1H, s).

工程５ 化合物２８の合成
化合物２７の粗製物（３３ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（３３０ｍＬ）に４０％メチルアミン水溶液（２７ｍＬ）を加えて、氷冷下１．５時間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０→５０：５０）で精製し、化合物２８（１４．１ｇ、４７％（工程３〜工程５の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.55 (3H, s), 2.29 (3H, s), 3.63 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.01 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.24 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.40 (1H, brs), 4.54 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.59 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.62 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.67 (1H, d, J = 11.4 Hz), 6.35 (1H, d, J = 7.8 Hz) 7.26-7.38 (10H, m), 7.49 (1H, s), 9.81 (1H, brs).

工程６ 化合物２９の合成
窒素気流下、化合物２８（１４ｇ）のジクロロメタン溶液（７０ｍＬ）に室温下、トリエチルアミン（１０．１ｍＬ，７２．８ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロライド（２．７２ｍＬ，３５．０ｍｍｏｌ）を加えて４５分間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物２９の粗製物（１６．３ｇ）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.56 (3H, s), 2.29 (3H, s), 2.98 (3H, s), 3.66 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.01 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.44 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.57 (2H, d, J = 11.2 Hz), 4.68 (1H, d, J = 11.2), 4.69 (1H, d, J = 11.2), 5.39 (1H, dd, J = 7.8, 5.0 Hz), 6.55 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.26-7.40 (10H, m), 7.49 (1H, s), 8.08 (1H, brs).

工程７ 化合物３０の合成
化合物２９の粗製物（１６．３ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（８１ｍＬ）に１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（８１ｍＬ）を加えて、室温下２時間撹拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３５ｍＬ）を加えた後、７０℃下１８時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチし、テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０→１０：９０）で精製し、化合物３０（１４．１ｇ）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.69 (3H, s), 2.25 (3H, s), 3.87 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.05 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.06 (1H, s), 4.43 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.55-4.58 (4H, m), 6.41 (1H, s), 7.17-7.35 (10H, m), 7.46 (1H, s).

工程８ 化合物３１の合成
窒素気流下、化合物３０（２．６８ｇ，５．５８ｍｍｏｌ）のＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２５ｍＬ）に、氷冷下、炭酸ナトリウム（３．０８ｇ，２２．３ｍｍｏｌ）、クロロメチルピバレート（１．８３ｍＬ，１２．３ｍｍｏｌ）を加えて５０℃下１０時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗製物のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｍＬ）に、炭酸ナトリウム（１．８６ｇ，１３．５ｍｍｏｌ）、クロロメチルピバレート（１．１１ｍＬ，７．４１ｍｍｏｌ）を加えて５０℃下１６時間撹拌した。反応液へ飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６５：３５→５０：５０）で精製し、化合物３１（２．８ｇ，７３％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.97 (9H, s), 1.18 (9H, s), 1.88 (3H, s), 2.30 (3H, s), 3.63 (1H, d, J = 9.6 Hz), 3.92 (1H, d, J = 9.6 Hz), 3.97 (1H, m), 4.45 (1H, d, J = 12.1 Hz), 4.54 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.62 (1H, d, J = 12.1 Hz), 4.73 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.43 (1H, d, J = 4.3 Hz), 5.94 (1H, t, J = 9.9 Hz), 6.59 (1H, d, J = 3.5 Hz), 7.23-7.37 (10H, m), 7.48 (1H, s).

工程９および工程１０ 化合物３３の合成
窒素気流下、化合物３１（８００ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（３１３μＬ，２．３６ｍｍｏｌ）に溶解し、１１０℃下１時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物３２の粗製物（８６５ｍｇ）を得た。
窒素気流下、化合物３２の粗製物（８６５ｍｇ）のエタノール溶液（８ｍＬ）に室温下、ヒドラジン一水和物（６８．８μＬ，１．４２ｍｍｏｌ）を加えて、８０℃下１時間撹拌した。反応液へ飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０→６５：３５）で精製し、化合物３３（８１５ｍｇ，９８％（工程９〜工程１０の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.06 (9H, s). 1.17 (9H, s), 1.67 (3H, s), 3.86 (1H, d, J = 10.7 Hz), 3.91 (1H, d, 10.7 Hz), 4.52 (1H, d, J = 13.1 Hz), 4.58 (1H, d, J = 13.1 Hz), 4.59 (1H, d, J = 13.1 Hz), 4.70 (1H, d, J = 13.1 Hz), 4.76 (1H, d, J = 6.6 Hz), 5.56 (1H, t, J = 6.6 Hz), 5.89 (1H, d, J = 9.3 Hz), 5.92 (1H, d, J = 9.3 Hz), 6.37 (1H, d, J = 1.8 Hz), 6.62 (1H, d, J = 6.6 Hz), 7.24-7.36 (10H, m), 7.51 (1H, s), 7.55 (1.1H, d, J = 1.8 Hz).

工程１１ 化合物３４の合成
化合物３３（４．１ｇ，５．８３ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（４１ｍＬ）に室温下、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ，２０ｍｍｏｌ）を加えて５０℃下１時間撹拌した。氷冷下、反応液へ飽和塩化アンモニウム水溶液を加え１０分撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０→１５：８５）で精製し、化合物３４（１．９ｇ，６５％）を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 1.55 (3H, s), 3.84 (1H, d, J = 10.6 Hz), 3.95 (1H, d, J = 10.6 Hz), 4.49 (1H, s), 4.53 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.56 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.78 (1H, d, J = 12.0 Hz), 6.26 (1H, s), 6.37 (1H, d, J = 3.5 Hz), 7.22-7.35 (11H, m), 7.48 (1H, s), 7.71 (1H, s).

工程１２および工程１３ 化合物３６の合成
窒素気流下、化合物３４（１．０ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（１０ｍＬ）に、氷冷下、ピリジン（０．８ｍＬ，９．９１ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．７３７ｍＬ，４．３６ｍｍｏｌ）を加えて１時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物３５の粗製物（１．４ｇ）を得た。
窒素気流下、化合物３５の組製物（１．４ｇ）のアセトニトリル溶液（１４ｍＬ）に室温下、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（７．０ｍｌ，７．０ｍｍｏｌ）を加えて、２時間撹拌した。反応液へ飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後、アセトニトリルを減圧留去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６５：３５→４０：６０）で精製し、化合物３６（４０３ｍｇ，４２％（工程１２〜工程１３の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.63 (3H, s) 4.17 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.35 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.53 (1H, s), 4.54 (1H, d, J = 12.8 Hz), 4.60 (1H, d, J = 12.8), 4.67 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.70 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.13 (1.H, s), 5.20 (1H, s), 6.21 (1H, s), 7.15-7.40 (11H, m), 7.55 (1H, s), 7.57 (1H, s), 8.08 (1H, brs).

工程１４ 化合物３７の合成
化合物３６（４４５ｍｇ，０．９１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）に室温下、２０％水酸化パラジウム−炭素粉末（２５０ｍｇ）を添加し、水素気流下、３時間撹拌した。セライト濾過後、温メタノールで洗浄した。溶媒を減圧留去し、化合物３７の粗製物（２９１ｍｇ）を得た。
¹H-NMR (MeOD) δ: 1.92 (3H, s), 4.21 (1H, d, J = 13.0 Hz), 4.39 (1H, d, J = 13.0 Hz), 4.78 (1H, s), 5.01 (1H, s), 5.15 (1H, s), 6.33 (1H, s), 7.54 (1H, s), 7.89 (1H, s).

工程１５ 化合物３８の合成
窒素気流下、化合物３７の粗製物（２９１ｍｇ）のピリジン溶液（３．０ｍＬ）に、室温下、４，４’‐ジメトキシトリチルクロリド（４６５ｍｇ，１．３７ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０→３５：６５）で精製し、化合物３８（２４２ｍｇ，４４％（工程１４〜工程１５の通算収率））を白色固体物質として得た。
¹H-NMR (CDCl3) δ: 1.67 (3H, s), 3.79 (6H, s), 3.83 (1H, d, J = 8.6 Hz), 4.02 (1H, d, J = 8.6 Hz), 4.96 (1H, s), 5.08 (1H, s), 5.34 (1H, s), 6.17 (1H, s), 7.50-6.75 (15H, m), 7.77 (1H, s), 8.68 (1H, brs).

工程１６ 化合物ＩＶ−１の合成
窒素気流下、化合物３８（２３０ｍｇ，０．３７８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２．８ｍＬ）に室温下、ジイソプロピルエチルアミン（１９８μＬ，１．１３ｍｍｏｌ）、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト（１０１μＬ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０→２５：７５）で精製し、化合物ＩＶ−１（２１４ｍｇ，７１％）を白色固体物質として得た。
³¹P-NMR (CDCl₃)δ_P: 149.6, 150.3.

同様に、以下のヌクレオチドも合成することができる。

（式中、Ｒ^ｐは、アセチル、ベンゾイル又はフェノキシアセチルであり、Ｒ^ｑは、イソブチリル、アセチル、ベンゾイル又はフェノキシアセチルである）

実施例２ 本発明のオリゴヌクレオチドの合成
（１）化合物Ｉ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例１の（１−Ａ）又は（１−Ｂ）で得られた化合物Ｉ−１から調製されるオリゴヌクレオチド（１）〜（５）（表６）を、ｎＳ−８（ジーンデザイン社製）により０．２μｍｏｌスケールで合成した。化合物Ｉ−１ (アミダイトユニット) は、アセトニトリルに溶解して用いた。なお、表６において、Ｘは化合物Ｉ−１のヌクレオシド構造（下記式ＩＩ−１）を意味する。アミダイトユニット （化合物Ｉ−１）と５’−末端の水酸基とのカップリング時間は３２秒 (標準) から１６分に延長した。５’−末端がＤＭＴｒ基により保護されかつ固相に指示されたオリゴヌクレオチドを、オリゴヌクレオチド（１）〜（４）については、室温下、２８％アンモニア水：４０％メチルアミン水溶液 (１：１)で、オリゴヌクレオチド（５）については、５５℃下、２８％アンモニア水 で処理し、溶媒を留去した。得られた粗製物をＳｅｐ−Ｐａｋ Ｃ１８ Ｐｌｕｓ Ｓｈｏｒｔ Ｃａｒｔｒｉｄｇｅ（Ｗａｔｅｒｓ社製）により粗精製した後、逆相ＨＰＬＣ（Ｇｉｌｓｏｎ ＰＬＣ２０２０、分取カラムとしてＷａｔｅｒｓＸＢｒｉｄｇｅ^ＴＭ Ｓｈｉｅｌｄ ＲＰ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ５．０ μｍ （１０ｍｍ ｘ ５０ｍｍ）及びＹＭＣ Ｈｙｄｒｏｓｐｈｅｒｅ Ｃ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ５．０ μｍ （１０ｍｍ ｘ １５０ｍｍ）) により精製した。
合成したオリゴヌクレオチドの純度は、逆相ＨＰＬＣ（ＷａｔｅｒｓＸＢｒｉｄｇｅ^ＴＭ Ｃ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ５．０μｍ（４．６ｍｍ ｘ ５０ｍｍ）及びＹＭＣ Ｈｙｄｒｏｓｐｈｅｒｅ Ｃ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ５．０μｍ （４．６ｍｍ ｘ １００ｍｍ)) により確認した （ＷａｔｅｒｓＸＢｒｉｄｇｅ^ＴＭ Ｃ１８ Ｃｏｌｕｍｎ条件：０．１Ｍトリエチルアンモニウム酢酸バッファー （ｐＨ ７．０）中、１ｍＬ／分で３０分の５ → ８％ （ｖ／ｖ） アセトニトリルのグラジエント、ＹＭＣ Ｈｙｄｒｏｓｐｈｅｒｅ Ｃ１８ Ｃｏｌｕｍｎ条件：０．０１ Ｍトリエチルアンモニウム酢酸バッファー (ｐＨ ７．０) 中、１ｍＬ／分で３０分の６ → １０％（ｖ／ｖ）アセトニトリルのグラジエント及び１ｍＬ／分で３０分の７．５ → １１．５％ （ｖ／ｖ） アセトニトリルのグラジエント) 。また、分子量は、ＥＳＩ−ＴＯＦ−ＭＡＳＳ測定により決定した。結果を表６に示す。

（２）化合物ＩＶ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例１の（４）で得られた化合物ＩＶ−１を用いて、（１）と同様の方法にて、オリゴヌクレオチド（８）〜（１２）を合成した。ＥＳＩ−ＴＯＦ−ＭＡＳＳ測定により決定した分子量を表７に示す。なお、表７において、Ｘｐは化合物ＩＶ−１のヌクレオシド構造（下記式ＩＩ−２）を意味する。

（３）化合物ＶＩＩ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例１の（３）で得られた化合物ＶＩＩ−１を用いて、（１）と同様の方法にて、オリゴヌクレオチド（１３）〜（１７）を合成した。ＥＳＩ−ＴＯＦ−ＭＡＳＳ測定により決定した分子量を表８に示す。なお、表８において、Ｘｑは化合物ＶＩＩ−１のヌクレオシド構造（下記式ＩＩ−３）を意味する。

比較例１ アミド架橋型オリゴヌクレオチド合成
ＷＯ２０１１／０５２４３６を参考にアミド架橋型アミダイト体を合成した。実施例２（１）のオリゴヌクレオチド（１）と同様にアミド架橋型オリゴヌクレオチド（６）を合成した。分子量はＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＡＳＳ測定により決定した。結果を表９に示す。

オリゴヌクレオチド（６）の合成の結果、アミド架橋では１２％程度の架橋部の開環（オリゴヌクレオチド（７））が確認された。一方、実施例２のオリゴヌクレオチド（１）〜（５）、（８）〜（１２）（ヘテロ環架橋）では架橋部の開環は全く確認されなかった。このことから、本発明のヌクレオチド（アミダイト）を用いることにより、一般的な合成方法で、副産物無く、安定してオリゴヌクレオチドを合成することができることが明らかである。よって、本発明のヌクレオチドは、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。

実施例３ 本発明のオリゴヌクレオチドの融解温度（Ｔｍ）の測定
（１）化合物Ｉ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例２の（１）で合成したオリゴヌクレオチド（１）〜（４）(アンチセンス鎖) とセンス鎖 （３’−ＣＧＣ ＡＡＡ ＡＡＡ ＣＧＡ−５’）とをアニーリング処理した後、Ｔｍ値を測定することにより、オリゴヌクレオチド（１）〜（４）のハイブリッド形成能を調べた。オリゴヌクレオチドのヌクレオシド部分が非修飾であるヌクレオチド（０）をコントロールとして利用した。
塩化ナトリウム１００ｍＭ、リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．２）１０ｍＭ、オリゴヌクレオチド（アンチセンス鎖）４．０μＭ、及びセンス鎖４．０μＭを含むサンプル溶液（１５０μＭ)をヒートブロック(９５℃)で５分間、加熱した後、１２時間かけて室温まで冷却した。分光高度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ ＵＶ−１８００）のセル室内に結露防止のために窒素気流を通し、サンプル溶液を５℃まで徐々に冷却し、さらに１５分間５℃に保った後、測定を開始した。温度は９０℃まで毎分０．５℃ずつ上昇させ、０．５℃間隔で２６０ｎｍにおける紫外部吸収を測定した。なお、温度上昇による濃度変化を防止するため、セルは蓋付きのものを用いた。結果を表１０に示す。

（２）化合物ＩＶ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例２の（２）で合成したオリゴヌクレオチド（８）〜（１１）について、センス鎖（３’−ＣＧＣ ＡＡＡ ＡＡＡ ＣＧＡ−５’）とアニーリング処理した後、Ｔｍ値を測定した。Ｔｍ値の測定方法は、（１）と同様である。結果を表１１に示す。

（３）化合物ＶＩＩ−１のヌクレオシド構造を含有するオリゴヌクレオチド
実施例２の（３）で合成したオリゴヌクレオチド（１３）〜（１６）について、センス鎖（３’−ＣＧＣ ＡＡＡ ＡＡＡ ＣＧＡ−５’）と混合した後、Ｔｍ値を測定した。Ｔｍ値の測定方法は、（１）と同様である。結果を表１２に示す。

表１０〜１２から明らかなように、本発明のオリゴヌクレオチドは、ＲＮＡ相補鎖に対して、天然オリゴヌクレオチドと比較してＴｍ値を上昇させた。一方で、ＤＮＡ相補鎖に対しては、天然オリゴヌクレオチドと比較してＴｍ値を低下させた。また、本発明のヌクレオシド構造（ＩＩ−１〜ＩＩ−３）の割合が高いほどＴｍ値の上昇する傾向が見られた。従って、本発明のヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチドは、一本鎖ＲＮＡに対する親和性が高いので、ｍＲＮＡに作用しやすい。また、一本鎖ＤＮＡに対する親和性が低いのでＤＮＡ複製への影響は小さく、毒性の懸念が低いと考えられるため、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。

実施例４ 本発明のオリゴヌクレオチドのヌクレアーゼ耐性の評価
実施例２で合成したオリゴヌクレオチド（５）（Ｔｒｉａｚｏｌｅ ＢＮＡ）、オリゴヌクレオチド（１２）（Ｐｙｒａｚｏｌｅ ＢＮＡ）及びオリゴヌクレオチド（１７）（Ｔｅｔｒａｚｏｌｅ ＢＮＡ）について、オリゴヌクレオチドを３’側から分解するエキソヌクレアーゼに対する耐性を検討した。オリゴヌクレオチド（５）のＸ部分が非修飾であるヌクレオチド（ｎａｔｕｒｅ）、オリゴヌクレオチド（５）のＸ部分が下記２’，４’‐ＢＮＡ／ＬＮＡであるヌクレオチド（ＬＮＡ）をコントロールとして利用した。

７５０ｐｍｏｌのオリゴヌクレオチドを含むバッファー溶液（８０μＬ）を３７℃で５分間保持した後、０．２μｇのホスホジエステラーゼＩ（Ｗｏｒｔｈｉｎｇｔｏｎ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社）を含むバッファー溶液（２０μＬ）を混合した。オリゴヌクレオチドの分解を逆相ＨＰＬＣ（ＷａｔｅｒｓＸＢｒｉｄｇｅ^ＴＭ Ｓｈｉｅｌｄ ＲＰ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ２．５μｍ（３．０ｍｍ ｘ ５０ｍｍ））によって経時的に測定した。用いたバッファーの組成（終濃度）はＴｒｉｓ ＨＣｌ（ｐＨ ８．０）５０ ｍＭ、ＭｇＣｌ_２ １０ｍＭであり、測定前に十分に脱気した。ＨＰＬＣによる定量条件は以下に示すとおりである。

（ＨＰＬＣ定量条件）
移動相 Ａ液： ０．１Ｍトリエチルアンモニウム酢酸バッファー（ｐＨ７．０）
Ｂ液： ０．１Ｍトリエチルアンモニウム酢酸バッファー：アセトニトリル ＝１：１（ｖ／ｖ）（ｐＨ７．０）
グラジエント Ｂ液濃度 １５％−２１％（１６ｍｉｎ）
カラム ＷａｔｅｒｓＸＢｒｉｄｇｅ^ＴＭ Ｓｈｉｅｌｄ ＲＰ１８ Ｃｏｌｕｍｎ ２．５μｍ（３．０ｍｍ ｘ ５０ｍｍ）
流速 ０．８ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度 ５０℃
検出 ＵＶ（２５４ ｎｍ）

結果を図１に示す。図１中、「残存オリゴヌクレオチド（％）」とは、０時点における未分解オリゴヌクレオチド（１０ｍｅｒ）に対する、測定時点における未分解オリゴヌクレオチド（１０ｍｅｒ）の残存率を示す。
この結果、ヌクレオチド（ｎａｔｕｒｅ）及びヌクレオチド（ＬＮＡ）は４０分後にはすべて分解している。ヌクレオチド（１２）（Ｐｙｒａｚｏｌｅ ＢＮＡ）は４０分後の残存率は５５％であり、ヌクレオチド（５）（Ｔｒｉａｚｏｌｅ ＢＮＡ）は４０分後の残存率は８０％であった。オリゴヌクレオチド（１７）（Ｔｅｔｒａｚｏｌｅ ＢＮＡ）は４０分後において、残存率がほぼ１００％であった。よって、本発明のオリゴヌクレオチドは、非修飾のオリゴヌクレオチドや公知の人工ヌクレオチドから調整されるオリゴヌクレオチド（ＬＮＡ）を大きく上回る酵素耐性を有することが分かった。従って、本発明のオリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。

以上の実施例から明らかなように、本発明のヌクレオチド又はヌクレオシドから調製されるオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖ＲＮＡに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。従って、該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、本発明のヌクレオシド又はヌクレオチドは、アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品を合成するための材料として非常に有用である。

Claims (8)

1. 式（Ｉ）：
   

   

   
   （式中、
   Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
   Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
   Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
   Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルであり、
   Ｂｘは核酸塩基部分であり、
   Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基又は反応性リン基であり、
   Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   ｎは０〜３の整数である）
   で示される化合物、又はその塩。
2. 式：
   

   

   
   で示される基が、
   

   

   
   で示される基である請求項１記載の化合物、又はその塩。
3. Ｂｘが置換若しくは非置換のプリン−９−イル又は置換若しくは非置換の２−オキソ−ピリミジン−１−イルである、請求項１又は２記載の化合物、又はその塩。
4. Ｚ^１が水素原子又は水酸基保護基である、請求項１〜３いずれかに記載の化合物、又はその塩。
5. 該水酸基保護基がアセチル、ｔ−ブチル、ｔ−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、２−トリメチルシリルエチル、ｐ−クロロフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾイル、２，６−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、９−フェニルキサンチン−９−イル又は９−（ｐ−メトキシフェニル）キサンチン−９−イルである、請求項４記載の化合物、又はその塩。
6. Ｚ^２が水素原子又は反応性リン基である、請求項１〜５いずれかに記載の化合物、又はその塩。
7. 該反応性リン基がジイソプロピルシアノエトキシホロアミダイト又はＨ−ホスホネートである、請求項６記載の化合物、又はその塩。
8. 式（ＩＩ）：
   

   

   
   （式中、
   Ｙ^１はＣＲ^６又はＮであり、
   Ｙ^２はＣＲ^７又はＮであり、
   Ｙ^３はＣＲ^８又はＮであり、
   Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル、置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル又は置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイルであり、
   Ｂｘは核酸塩基部分であり、
   Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   Ｒ^５は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル又は置換若しくは非置換のアルキニルであり、
   ｎは０〜３の整数である）
   で示されるヌクレオシド構造を１以上含有するオリゴヌクレオチド又はその製薬上許容される塩。

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