JPWO2013179977A1 - 照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
照明装置(IU)は、第1の光源部(21a)と、第1の光源部と光の出射方向が異なる第2の光源部(21b)と、第1の光源部からの光と第2の光源部からの光の進行方向を揃えるように、光の少なくとも一部を偏向する偏向部(22)と、を備える。第1の光源部と第2の光源部は、各光源部から出射して偏向部を経由した光が入射する照明領域が所定方向に連続して並ぶように、所定方向において異なる位置に配置されている。
Description
本発明は、照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、2012年5月29日の米国仮出願61/652,719号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、2012年5月29日の米国仮出願61/652,719号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
近年、テレビなどの表示装置として、例えば液晶表示パネルなどのフラットパネルディスプレイが多用されている。フラットパネルディスプレイのような各種のデバイスの製造には、露光装置などの処理装置が利用される。例えば、液晶表示パネルは、露光装置によるリソグラフィ手法、エッチング技術などを利用して、ガラスプレート上に透明薄膜電極などの各種の膜パターンを形成することによって、製造される。リソグラフィ手法としては、ガラスプレートの替わりにロール状に巻き取られたシート状の基板に、マスクパターンの像を投影露光する手法が提案されている(例えば、下記の特許文献1参照)。
露光装置などの処理装置は、効率よくデバイスを製造可能にするなどの観点で処理範囲を広げることが期待されており、このような処理装置に用いられる照明装置には、被処理物の移動方向に垂直な方向の光の照射範囲を広げることが期待されている。
本発明に係る態様は、処理範囲を広げることを可能にする照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様に従えば、第1の光源部と、前記第1の光源部と光の出射方向が異なる第2の光源部と、前記第1の光源部からの光と前記第2の光源部からの光との進行方向を揃えるように、該光の少なくとも一部を偏向する偏向部と、を備え、前記第1の光源部と前記第2の光源部とは、各光源部から出射して前記偏向部を経由した光が入射する照明領域が所定方向に連続して並ぶように、前記所定方向において異なる位置に配置されている照明装置が提供される。
本発明の第2の態様に従えば、感応層を有する基板に、マスクパターンに形成されたパターンを転写する処理装置であって、前記マスクパターンを照明する第1の態様の照明装置と、前記マスクパターンと前記基板とを、前記所定方向に垂直な方向に相対移動させる移動装置と、を備える処理装置が提供される。
本発明の第3の態様に従えば、第2の態様の処理装置によって、前記マスクパターンと前記基板とを相対移動させながら前記基板に前記パターンを連続的に転写することと、前記パターンが転写された前記基板の感応層の変化を利用して後続の処理を実施することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明に係る態様によれば、処理範囲を広げることを可能にする照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法を提供することができる。
[第1実施形態]
図1は、デバイス製造システムSYS(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)の構成例を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルムなど)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,・・・Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。
図1は、デバイス製造システムSYS(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)の構成例を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルムなど)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,・・・Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。
図1において、XYZ直交座標系は、基板Pの表面(または裏面)がXZ面と垂直となるように設定され、基板Pの搬送方向(長尺方向)と直交する方向(幅方向)がY軸方向に設定されるものとする。Z軸方向は、例えば鉛直方向に設定され、X軸方向およびY軸方向は水平方向に設定される。なお、説明の便宜上、X軸方向(搬送方向の下流)から見た図を正面図、Y軸方向(回転中心軸の方向)から見た図を側面図、Z軸方向(鉛直方向の上方)から見た図を上面図ということがある。
供給ロールFR1に巻かれている基板Pは、ニップされた駆動ローラDR1によって引き出され、エッジポジションコントローラEPC1によってY方向に位置決めされつつ、処理装置U1に送られる。
処理装置U1は、印刷方式で基板Pの表面に感光性機能液(フォトレジスト、感光性カップリング材、UV硬化樹脂液など)を、基板Pの搬送方向(長尺方向)に関して連続的または選択的に塗布する塗布装置である。処理装置U1内には、基板Pが巻き付けられる圧胴ローラDR2、この圧胴ローラDR2上で、基板Pの表面に感光性機能液を一様に塗布するための塗布用ローラ、或いは感光性機能液を選択的に塗布する凸版又は凹版の版胴ローラなどを含む塗布機構Gp1、基板Pに塗布された感光性機能液に含まれる溶剤または水分を急速に除去するための乾燥機構Gp2などが設けられている。
処理装置U2は、処理装置U1から搬送されてきた基板Pを所定温度(例えば、数10から120℃程度)まで加熱して、表面に塗布された感光性機能層を安定に定着するための加熱装置である。処理装置U2内には、基板Pを折返し搬送するための複数のローラとエア・ターン・バー、冷却チャンバー部HA2、ニップされた駆動ローラDR3などが設けられている。
露光装置としての処理装置U3は、処理装置U2から搬送されてきた基板Pの感光性機能層に対して、ディスプレー用の回路パターンや配線パターンに対応した紫外線のパターニング光を照射する露光装置を含む。処理装置U3内には、基板PのY方向(幅方向)の中心を一定位置に制御するエッジポジションコントローラEPC2、ニップされた駆動ローラDR4、所定のテンションでX方向に搬送される基板Pの裏面をエアベアリングの層で平面又は円筒状の湾曲面で支持する基板ステージST(基板支持部材)、及び、基板Pに所定のたるみ(あそび)DLを与えるための2組の駆動ローラDR6、DR7などが設けられている。
さらに処理装置U3内には、外周面にシート状のマスク基板(以下、マスクパターンMという)が巻き付けられて、Y方向と平行な中心線の回りに回転する回転ドラム14、その回転ドラム14に巻き付けられたマスクパターンMにY方向に延びたスリット状の露光用照明光を照射してマスクパターンMのパターンを、基板ステージSTによって平面状に支持される基板Pの一部分に転写する照明装置IU、転写されるパターンと基板Pとを相対的に位置合せ(アライメント)するために、及び基板Pに予め形成されたアライメントマークなどを検出するアライメント顕微鏡AMが設けられている。
図1の処理装置U3は、いわゆるプロキシミティ方式の露光装置を含み、マスクパターンMが巻きつけられた回転ドラム14をマスク体とし、マスク体と基板Pとを所定の間隙(数十μm以内)で近接させ、マスク体上のパターンを基板Pに転写する。処理装置U3によるパターンの転写方式に限定はなく、投影光学系によってマスクパターンの像を投影する方式、あるいは、円筒状のマスク体の外周に基板Pを巻付けるコンタクト方式であってもよい。また、マスク体は、回転ドラム14とマスクパターンMとがリリース可能でもよいし、リリース不能でもよい。例えば、マスク体は、回転ドラム14の表面にマスクパターンMが形成されたものでもよい。
処理装置U4は、処理装置U3から搬送されてきた基板Pの感光性機能層に対して、湿式による現像処理、無電解メッキ処理などのような各種の湿式処理の少なくとも1つを行なうウェット処理装置である。
処理装置U5は、処理装置U4から搬送されてきた基板Pを暖めて、湿式プロセスで湿った基板Pの水分含有量を所定値に調整する加熱乾燥装置であるが、詳細は省略する。その後、幾つかの処理装置を経て、一連のプロセスの最後の処理装置Unを通った基板Pは、ニップされた駆動ローラDR9とエッジポジションコントローラEPC3を介して回収ロールFR2に巻き上げられる。
上位制御装置CONTは、製造ラインを構成する各処理装置U1からUnの運転を統括制御するものであり、各処理装置U1からUnにおける処理状況や処理状態の監視、処理装置間での基板Pの搬送状態のモニター、事前・事後の検査・計測の結果に基づくフィードバック補正やフィードフォワード補正なども行なう。
本実施形態で使用される基板Pは、例えば、樹脂フィルム、ステンレス鋼などの金属または合金からなる箔(フォイル)などである。樹脂フィルムの材質は、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂のうち1または2以上を含む。
基板Pは、各種の処理工程において受ける熱による変形量が実質的に無視できるように、熱膨張係数が顕著に大きくないものを選定するのが望ましい。熱膨張係数は、例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合することによって、プロセス温度などに応じた閾値よりも小さく設定されていてもよい。無機フィラーは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などでもよい。また、基板Pは、フロート法などで製造された厚さ100μm程度の極薄ガラスの単層体であってもよいし、この極薄ガラスに上記の樹脂フィルム、箔などを貼り合わせた積層体であってもよい。また、基板Pは、予め所定の前処理によって、その表面を改質して活性化したもの、あるいは、表面に精密パターニングのための微細な隔壁構造(凹凸構造)を形成したものでもよい。
図1のデバイス製造システムSYSは、デバイス(ディスプレーパネルなど)製造のための各種の処理を、基板Pに対して繰り返し、あるいは連続して実行する。各種の処理が施された基板Pは、デバイスごとに分割(ダイシング)されて、複数個のデバイスになる。基板Pの寸法は、例えば、幅方向(短尺となるY軸方向)の寸法が10cmから2m程度であり、長さ方向(長尺となるX軸方向)の寸法が10m以上である。
次に、処理装置U3の構成について、より詳しく説明する。図2は、処理装置U3としての露光装置EXの側面図、図3はその露光装置EXの正面図である。
図2に示す露光装置EXは、いわゆる走査露光装置であり、基板P(感光シート)とマスクパターンMとを相対移動させ、マスクパターンMからの露光光で基板Pを走査することで、マスクパターンMに形成されている露光パターンを基板Pに転写する。基板ステージST上における基板Pの搬送方向は、マスクパターンMから出射した露光光が基板P上を走査する方向(走査方向)とほぼ同じである。
また、露光装置EXは、プロキシミティ方式の露光装置であり、基板PとマスクパターンMとを互いに接近させた状態で、照明装置IUからの照明光LでマスクパターンMを照明し、照明されているマスクパターンMから出射する露光光を基板Pに照射することによって、投影光学系を介することなく露光パターンを基板Pに転写する。
露光装置EXは、基板PとマスクパターンMとを相対移動させる移動装置10と、マスクパターンMを照明する照明装置IUと、転写される露光パターンと基板Pとを相対的に位置合せするためのアライメント顕微鏡AM(アライメント光学系)と、照明装置IUから基板Pに照射される照明光Lの照度(光強度)を検出する照度モニター装置11(計測装置)と、露光装置EXの各部を制御する制御装置12とを備える。
移動装置10は、基板Pを搬送する搬送部13と、マスクパターンMを保持して回転可能な回転ドラム14と、回転ドラム14を回転駆動する駆動部15とを備える。
搬送部13は、図1に示した駆動ローラDR4、駆動ローラDR6などを含み、基板ステージST上で基板Pを直線的に移動させる。搬送されている基板Pの位置は、位置検出センサー16によって検出される。制御装置12は、位置検出センサー16の検出結果に基づいて搬送部13を制御することにより、搬送部13によって搬送されている基板Pの位置を制御する。
回転ドラム14は、円筒面状の外周面(以下、円筒面14aともいう)を有し、透過型のマスクパターンMを円筒面14aに沿うように円筒面状に湾曲させて保持する。円筒面は、所定の中心線の回りに所定半径で湾曲した面のことであり、例えば、円柱又は円筒の外周面の少なくとも一部である。
回転ドラム14は、円筒面14aの接平面が基板ステージST上の基板Pとほぼ平行になるように、配置されている。回転ドラム14は、所定の回転中心軸AX1に周りで回転可能なように設けられている。回転ドラム14の回転中心軸AX1は、例えば、基板ステージST上を搬送される際の基板Pの移動方向とほぼ直交するように(基板Pの幅方向とほぼ平行になるように)設定される。
駆動部15は、回転中心軸AX1の周りで回転ドラム14を回転する。回転ドラム14の回転位置は、回転検出センサー17によって検出される。制御装置12は、回転検出センサー17の検出結果に基づいて駆動部15を制御することにより、駆動部15によって回転している回転ドラム14の回転位置を制御する。
移動装置10は、制御装置12によって制御されて、基板PとマスクパターンMとを同期駆動する。制御装置12は、基板Pの移動速度(搬送速度)と回転ドラム14に保持されているマスクパターンMの移動速度(周速度)とがほぼ同じになるように、搬送部13および駆動部15を制御する。なお、移動装置10は、Y軸方向およびZ軸方向の一方または双方において、基板ステージST上の基板Pと回転ドラム14との相対位置を調整することもできる。
照明装置IUは、回転ドラム14の内側に配置されており、回転ドラム14の内側から照明光LでマスクパターンMの一部(照明領域IR)を照明する。照明領域IRは、例えば基板ステージST上における基板Pの搬送方向に直交する方向を長手方向とする帯状の領域である。すなわち、照明装置IUは、回転ドラム14の回転中心軸AX1とほぼ平行な方向を長手とするスリット形状の照明光L(ライン光)を、マスクパターンMに照射する。
照明装置IUからの照明光Lの出射方向は、例えば回転ドラム14の径方向に設定される。この場合に、照明装置IUは、回転ドラム14に外周面に沿ったマスクパターンMに、マスクパターンMのほぼ法線方向から照明光Lを照射することになる。照明装置IUは、例えば、ほぼ平行光とみなせる照明光LをマスクパターンMに照射する。
露光装置EXにおいて、回転ドラム14(マスクパターンM)と基板ステージST(基板P)との間の光路には、絞り部材18が設けられている。絞り部材18は、いわゆる視野絞りであり、照明装置IUから出射してマスクパターンMを経由した光の通過範囲を規定することによって、基板P上の光の入射範囲を規定する。
図3に示すように、アライメント顕微鏡AMは、例えば、基板ステージSTの下方において、回転中心軸AX1の一方側(+Y側)と他方側(−Y側)とに設けられる。回転ドラム14(マスクパターンM)と基板ステージST(基板P)には、例えば、+Y側と−Y側とにアライメントマークが設けられている。アライメント顕微鏡AMは、これらアライメントマークを検出することによって、基板PのX軸方向の位置、Y軸方向の位置、Z軸周りの回転位置のうち少なくとも1つを検出する。
照度モニター装置11は、照明装置IUから出射した照明光Lが入射するように、例えば基板ステージSTの下方に配置される。照度モニター装置11は、照明領域IRにおける照度分布を計測できる。照度モニター装置11は、例えば、回転中心軸AX1と平行な方向に移動しながら、照明領域IRの一部の領域における照度を計測することで、回転中心軸AX1と平行な方向における照度分布を計測する。
照明装置IUは、複数の照明モジュール20を備え、照明モジュール20ごとの照明領域を基板Pの搬送方向と直交する所定方向(Y軸方向)に継ぎ合わせることで、所定方向を長手とする照明領域IRを照明する。以下の説明において、照明モジュール20ごとの照明領域を、適宜、部分照明領域IRaという。
複数の照明モジュール20は、基板Pの搬送方向(X軸方向)から見て所定方向(Y軸方向)に並ぶように、配置されている。照明モジュール20は、その部分照明領域IRaの端部が他の照明モジュール20の部分照明領域IRaの端部と重なるように、所定方向において互いに接近して配置されている。
図2に示すように、照明モジュール20は、照明光Lを射出する光源部21と、光源部21から射出された照明光Lを偏向する偏向部22とを備える。複数の光源部21(図3参照)は、偏向部22から出射した照明光Lのスポット(部分照明領域IRa)が所定方向において連続するように配列されている。
複数の光源部21は、部分照明領域IRaの一部が重なるように所定方向(Y軸方向)において互いに接近している。そのため、複数の光源部21は、図2に示すように、光源部21の少なくとも一部が他の光源部21と干渉(物理的な衝突)しないように、基板Pの搬送方向(Y軸方向)における位置をずらして配置されている。例えば、第1の照明モジュール20aが有する第1の光源部21aは、基板Pの搬送方向から見て第1の照明モジュール20aの隣に配置される第2の照明モジュール20bが有する第2の光源部21bに対して、基板Pの搬送方向の位置がずれている。
複数の光源部21の位置を基板Pの搬送方向(照明光Lによる基板Pの走査方向)をずらしつつ、部分照明領域IRaを継ぐことを可能にするために、複数の光源部21からの照明光Lの出射方向は、所定方向から見て互いに交差する複数の方向に設定されている。ここでは、説明の便宜上、複数の光源部21からの照明光Lの出射方向が2方向であるとし、この2方向のうち第1方向に向って照明光Lが出射する光源部21を第1の光源部21a、この2方向のうち第2方向に向って照明光Lが出射する光源部21を第2の光源部21bとする。
ここでは、第1の光源部21aと第2の光源部21bは、YZ面に関して対称的に配置されている。基板Pの搬送方向から見た照明モジュール20(図3参照)の配列において、一端から他端に向かう並び順が奇数番目である照明モジュール20の光源部21は、所定方向から見た場合に、例えば図2に示した第1の光源部21aの位置に配置される。また、この並び順が偶数番目である照明モジュール20の光源部21は、所定方向から見た場合に、例えば図2に示した第2の光源部21bの位置に配置される。
この並び順が偶数番目の照明モジュール20は、例えば、光源部21からの照明光L(ビーム)の主光線が、基板Pの法線方向に対して+θの角度をもつように配置される。また、この並び順が奇数番目の照明モジュール20は、例えば、光源部21からの照明光Lの主光線が、基板Pの法線方向に対して−θの角度をもつように配置される。
このような第1の光源部21aと第2の光源部21bは、所定方向から見た際に照明光Lがほぼ同じ領域に入射するように、照明光Lの出射方向が互いに交差するように設定されている。例えば、第1の光源部21aは、YZ面に関して−X側から+X側に向けて照明光Lを射出するように設けられ、第2の光源部21bは、YZ面に関して+X側から−X側に向けて照明光Lを射出するように設けられる。
偏向部22は、第1の光源部21aから出射した照明光Lの進行方向と第2の光源部21bから出射した照明光Lの進行方向とを揃えるように、照明光Lを偏向する。偏向部22は、所定方向(Y軸方向)から見たときに、第1の光源部21aからの照明光Lの進行方向と第2の光源部21bの照明光Lの進行方向との交差点の付近に配置されている。
次に、照明装置IU(照明モジュール20)について、より詳しく説明する。図2に示した第1の照明モジュール20aと第2の照明モジュール20bは、同様の構成であり、YZ面に関して対称的に配置されている。そのため、ここでは複数の照明モジュール20を代表して、第1の照明モジュール20aについて説明する。
図4Aは、第1の照明モジュール20aを回転中心軸AX1の方向(Y軸方向)から見た側面図、図4Bは、第1の照明モジュール20aを基板Pの搬送方向(X軸方向)から見た正面図である。
複数の照明モジュール20は、それぞれ、照明光Lを射出する光源部21と、光源部21から射出された照明光Lを偏向する偏向部材22aを備える。ここでは、偏向部材22aが所定方向(Y軸方向)に複数配列されており、偏向部22は、複数の偏向部材22aで構成されている。偏向部材22aは紫外域の光に対する透過率が高い石英等で作られる。
図4A及び4Bに示す光源部21は、偏向部材22aに入射する際の照明光Lのスポットが所定方向(Y軸方向)を長手とする形状となるように、構成されている。光源部21は、照明光Lを射出する光源23と、光源23から射出された照明光L(ビーム)を所定方向(Y軸方向)において広げるラインジェネレータ24(光学部材)と、ラインジェネレータ24によって広げられた照明光Lを平行化するコリメータ25(平行化部材)とを備える。
光源23は、例えばレーザーダイオード、発光ダイオード(LED)などの固体光源、エキシマレーザ光源、ランプ光源を含む。光源23から発せられる照明光Lは、例えば、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)などの遠紫外光(DUV光)、水銀ランプなど射出する紫外域の輝線(g線、h線、i線)でもよい。
なお、光源部21は、光源23からの光を、光ファイバなどの導光部材を介して、ラインジェネレータ24に導く構成でもよい。この場合に、光源23は、回転ドラム14の外側に配置されていてもよいし、内側に配置されていてもよい。また、光源部21は、光ファイバの出射端面からの光をコリメータなどで平行化した後に、ラインジェネレータ24に導く構成でもよい。
ラインジェネレータ24は、光源23からのビームを一方向(所定方向)に引き伸ばすものである。ラインジェネレータ24を通った照明光Lは、図4Bに示すように所定方向(Y軸方向)の広がり角(放射角)が大きくなるとともに、図4Aに示すように所定方向と直交する方向において広がり角がほとんど変化しない。
ラインジェネレータ24は、例えば、米国特許第4826299号、米国特許第5283694号などに記載されているようなパウエルレンズを含む。図4Bに示すように、パウエルレンズは、例えば光源23からの光束を所定方向において空間的に分割し、分割された光束のそれぞれを所定方向に広げる。また、パウエルレンズは、分割された光束のうち相対的に照度が低い部分が互いに重畳されるように、分割された光束のそれぞれを偏向する。例えば、光源23からの光の照度分布がガウス分布に従うとすると、パウエルレンズは、照度分布のピーク付近を境目として光束を分割し、ガウス分布の裾に相当する光束が重畳されるように、分割された光束を偏向する。そのため、パウエルレンズによって形成された照明光Lは、いわゆるトップハット型の照度分布になり、所定方向の照度分布が均一化される。
ラインジェネレータ24は、例えばシリンドリカルレンズによってビームを広げる構成でもよい。この場合に、光源部21は、ラインジェネレータ24から出射した照明光Lの照度分布を均一化するための光学部材を含んでいてもよい。また、ラインジェネレータ24は、回折光学素子を含んでいてもよく、回折によってビームを広げる構成でもよい。また、ラインジェネレータ24は、凸面鏡などの反射部材を含んでいていてもよく、反射によってビームを広げる構成でもよい。
コリメータ25は、所定方向(Y軸方向)に広がる光束を平行化する。ここでは、ラインジェネレータ24から出射した光束は、図4Bに示すようにY軸方向に広がり、かつ図4Aに示すようにY軸方向と直交する面内でほとんど広がらない。そのため、コリメータ25は、例えば所定方向(Y軸方向)を含む面内でパワーを有するとともに、この面と直交する面内でパワーを有していない光学部材、例えばシリンドリカルレンズなどで構成される。図4Bに示すコリメータ25は、XZ面にほぼ平行な対称面に関して対称な形状である。光源部21から出射するビーム(照明光L)の主光線は、対称面とほぼ平行に伝播する。
このようにして、光源23から出射した照明光Lは、ラインジェネレータ24によって所定方向に広げられた後、コリメータ25によって平行化されることで、偏向部材22aに入射する際のスポットが所定方向を長手とする帯状になる。
図4A及び4Bに示す偏向部材22aは、光学プリズムとして機能し、光源部21から照明光Lが入射してくる傾いた界面26aを有する。偏向部材22aは、この界面26aでの屈折によって光源部21からの照明光Lを偏向する。界面26aに入射した照明光Lは、偏向部材22aの内部を通過(透過)して偏向部材22aから出射し、照明領域IR(マスクパターンM)に入射する。偏向部材22aは、例えば、照明光LがマスクパターンM上の照明領域IRにほぼ法線方向から入射するように、照明光Lを偏向する。ここでは、照明光LがマスクパターンMに入射する際の進行方向(図2および図3参照)は、マスクパターンMから出射した照明光L(露光光)が基板P(露光領域)に入射する際の進行方向とほぼ同じであり、ほぼZ軸方向に平行である。
図4Aに示す照明モジュール20においては、光源部21がZ軸方向(基板Pの法線方向)から−X側に傾いており、このような光源部21からの照明光LをZ軸方向とほぼ平行な方向に進行させるために、偏向部材22aの界面26aは、その法線方向がZ軸方向から+X側に傾くように設定されている。
偏向部材22aは、図4Aに示すように、光源部21から出射した照明光Lの進行方向を所定方向(Y軸方向)に直交するXZ面内で折り曲げるとともに、図4Bに示すように、所定方向(Y軸方向)において照明光Lの進行方向をほぼ変化させないように、設けられている。
図5は、偏向部22を示す斜視図である。図5に示す偏向部22は、偏向部材22aが所定方向(Y軸方向)に配列された構造である。偏向部22において複数の偏向部材22aは、例えば、互いに接着されることで一体化されている。
偏向部22において照明光Lが入射する界面(界面26aおよび界面26b、第1面および第2面)は、第1の光源部21aと第2の光源部21bとで照明光Lの出射方向が異なることから、各界面26a、26bに入射する光が出射する光源部21の姿勢に応じて、異なる方向に傾いている。
詳しくは、偏向部22は、第1の光源部21aから照明光Lが入射する界面26aと、第2の光源部21bから照明光Lが入射する界面26bとを有する。ここでは、各照明モジュール20(図4A及び4B参照)において、偏向部材22aは、光源部21と1対1の対応で設けられており、界面26aは第1の光源部21aに対応する偏向部材22aの界面であり、界面26bは第2の光源部21bに対応する偏向部材22aの界面である。界面26aの法線方向は、Z軸方向(基板Pの法線方向)から+X側に傾いた方向であり、界面26bの法線方向は、Z軸方向(基板Pの法線方向)から−X側に傾いた方向である。
図5に示す偏向部22は、照明光LがマスクパターンMに向って出射する界面26cを有する。界面26cは、例えば、複数の偏向部材22aでほぼ同一の平面に(ほぼ面一に)配置されており、基板Pの法線方向に対してほぼ垂直に配置される。このように、偏向部22は、例えば、界面26cで照明光Lを偏向しないように構成されるが、界面26cで照明光Lを偏向してもよい。
図6は、偏向部22を示す上面図である。図6に示すように、界面26aおよび界面26bは、それぞれ台形状であり、所定方向(Y軸方向)に隣接して配置されている。界面26aと界面26bは、ほぼ同じ形状であるが、YZ面に関して互いに反転した関係になるように、配置されている。すなわち、界面26aの長辺は界面26bの短辺と並ぶように配置され、同様に、界面26bの長辺は界面26aの短辺と並ぶように配置されている。
このように偏向部22は、偏向部22からの照明光Lの出射方向(Z軸方向)から見ると、界面26aと界面26bとの境界27(台形の斜辺)が所定方向(Y軸方向)と非垂直に交差するように、構成されている。換言すると、界面26aにおいて境界27に隣接する偏光部材22aの部分27aは、界面26bにおいて境界27に隣接する偏光部材22aの部分27bとX軸方向から見て重なっており、所定方向(Y軸方向)の位置が部分27bとほぼ同じである。すなわち、境界27を挟んで互いに隣接する偏光部材22aの部分27a、部分27bは、XY面内では同じ頂角となっている。
そのため、第1の光源部21aから界面26aの部分27aに入射した照明光Lは、第2の光源部21bから界面26bの部分27bに入射した照明光Lと、照明領域IRのうちY軸方向の位置がほぼ同じ領域に入射する。すなわち、この領域は、界面26aを経由した照明光Lによる部分照明領域IRa(図3参照)と、界面26bを経由した照明光Lによる部分照明領域IRaとが重複する領域(重複領域という)になる。この重複領域は、第1の光源部21aからの照明光Lの一部と第2の光源部21bからの照明光Lの一部とを混合した光で照明されることになり、その光量の混合比は、境界27が所定方向に対して斜めになっていることにより、連続的に変化する。結果として、仮に第1の光源部21aと第2の光源部21bとで照明光Lの明るさが異なる場合であっても、照明領域IRの照度分布が所定方向において不連続に変化することが抑制される。
ところで、照明装置IUは、照明モジュール20を基板Pの走査方向(X軸方向)にほぼ垂直な所定方向(Y軸方向)に複数並べることで、走査方向に垂直な所定方向の転写パターンの露光幅を広げることを可能としているが、走査方向に垂直な所定方向の照度分布に不均一性が生じる可能性がある。そこで、図2(図3)に示す照明装置IUは、偏向部22から出射する照明光Lによる照度分布を調整するためのフィルタ28によって、所定方向の照度分布の均一性を確保するように、構成されている。
図7は、照明領域IRにおける所定方向の照度分布およびフィルタ28の一例を示す図、図8は、照明領域IRにおける所定方向の照度分布およびフィルタ28の他の例を示す図である。図7および図8のそれぞれには、偏向部22を照明光Lの出射方向から見た平面図(図上段)と、フィルタ28を設けない構成において偏向部22から出射した照明光Lの照度分布をシミュレーションした結果を示すグラフ((図中段)と、フィルタ28の透過率を示すグラフ(図下段)とを関連付けて示した。照明光Lの照度分布は、照度の変化を強調して模式的に示した。
図7および図8において、横軸は、所定方向(Y軸方向)の位置を示す。また、符号30aは、第1の光源部21aからの照明光Lの照明領域IRでの照度分布を示し、符号30bは第2の光源部21bからの照明光Lの照明領域IRでの照度分布、符号30cは第1の光源部21aからの照明光Lと第2の光源部21bからの照明光Lによる照明領域IRでの照度分布、符号30dは、所定方向に対応する方向におけるフィルタ28の透過率分布を示す。
図7に示す例において、光源部21ごとの照明光Lによる照度分布(照度分布30aおよび照度分布30b)は、それぞれ、いわゆるトップハット型の分布になっている。複数の光源部21は、部分照明領域IRaの端部が隣の部分照明領域IRaの端部と重なるように配置されており、部分照明領域IRaは、隣り合う部分照明領域IRaの端部が互いに重なる重複領域IRbと、隣り合う部分照明領域IRaが互いに重ならない非重複領域IRcとを有する。
非重複領域IRcにおいて、照度分布30cは、第1の光源部21aまたは第2の光源部21bからの照明光Lによる照度分布30aまたは照度分布30bとほぼ同じになり、ここでは照度がほぼ均一である。
また、重複領域IRbにおいて、照度分布30cは、照度分布30aおよび照度分布30bを足し合わせたような分布になる。重複領域IRbにおける照度分布30cの照度は、部分照明領域IRaの所定方向(Y軸方向)のピッチPy(中心間距離)を広くするほど低くなり、このピッチPyを狭くするほど高くなる。部分照明領域IRaの所定方向(Y軸方向)のピッチPyは、例えば、光源部21の所定方向のピッチによって調整可能であり、光源部21の所定方向のピッチを狭くするほど部分照明領域IRaの所定方向のピッチPyも狭くなる。
このように、重複領域IRbにおける照度分布30cの照度は、部分照明領域IRaのピッチPyを調整することで、非重複領域IRcにおける照度分布30cの照度と同程度に調整することができるが、非重複領域IRcにおける照度に対して例えば数%程度の差が生じることがある。例えば、図7に示す例において、照度は、照明モジュール20の接ぎ部(重複領域IRb)で非重複領域IRcよりも減少しており、図8に示す例においては、重複領域IRbで非重複領域IRcよりも増加している。
このような照度の不均一性(ばらつき)は、例えば照明装置IUの用途に応じた許容範囲に収まる場合などには補正しなくてもよいが、ここでは露光精度を高めるなどの観点で補正するものとする。
上述のような所定方向の照度分布を均一化するフィルタ28としては、照明領域IRのうち照度が相対的に高い領域に入射する光の光路における透過率を相対的に低く設定し、照明領域IRのうち照度が相対的に低い領域に入射する光の光路における透過率を相対的に高くすればよい。
例えば、図7に示す例では、部分照明領域IRaのうち重複領域IRbの照度が非重複領域IRcの照度よりも低いので、フィルタ28の透過率分布30dは、重複領域IRbに入射する光が通る光路における透過率を、非重複領域IRcに入射する光が通る光路における透過率よりも高く設定する。
また、図8に示す例では、部分照明領域IRaのうち重複領域IRbの照度が非重複領域IRcの照度よりも高いので、フィルタ28の透過率分布30dは、重複領域IRbに入射する光が通る光路における透過率を、非重複領域IRcに入射する光が通る光路における透過率よりも低く設定する。
ところで、照度分布の不均一性が生じる原因としては、例えば、照明モジュール20(光源部21)ごとの光量のばらつき(第1の原因)、照明モジュール20(偏向部22)の接ぎ部で光量のばらつき(第2の原因)、各照明モジュール20内での照度のばらつき(第3の原因)などが挙げられる。照度分布の不均一性を緩和あるいは解消するには、これらの原因の種類ごとに対処することができる。また、照度分布を均一化する手法としては、フィルタ28を用いる他にも、部材の形状、配置などを調整する手法もある。以下、照度分布の不均一性に対する対処法について、照度分布の不均一性が生じる原因ごとに説明する。
第1の原因は、照明モジュール20の構成要素(例えば光源23)の製造公差などによって、各光源部21から出射する照明光Lの照度が複数の光源部21でばらつくことなどの要因を含む。図2および図3に示す照明装置IUは、光源23とラインジェネレータ24との間に配置された光量補正フィルタ28aをフィルタ28として備え、光量補正フィルタ28aによって光源23ごとの照明光Lのばらつきを低減している。
光量補正フィルタ28aは、例えば、複数の光源23のうち所定の電力に対する出力が相対的に高い光源23からの照明光Lが入射する部分において透過率が相対的に低く、複数の光源23のうち所定の電力に対する出力が相対的に低い光源23からの照明光Lが入射する部分において透過率が相対的に高い。
なお、光源23ごとの照明光Lの光量のばらつきは、光源23の駆動方法によって減らすこともできる。例えば、複数の光源23において、照明光Lの光量が揃うように、相対的に出力が高い光源23に供給する電力を相対的に低くし、相対的に出力が低い光源23に供給する電力を相対的に高くしてもよい。このような駆動方法は、駆動回路などに電気的なフィルタを設けることで実現してもよいし、光源23を駆動するためのプログラムなどで実現してもよい。
第2の原因による照度分布の不均一性は、偏向部材22aのプリズム形状を調整すること、部分照明領域IRaのピッチPy(照明モジュール20のピッチ)を調整すること、ラインジェネレータ24により広げる照明光Lの幅(スポットの所定方向の寸法)を増すことなどで緩和あるいは解消できる。しかしながら、光源部21ごとの照度分布30b、照度分布30cにおいて部分照明領域IRaの端部の傾斜が線形からずれている場合などには、照度分布の不均一性が残る可能性がある。図2および図3に示す照明装置IUは、光源部21と回転ドラム14の円筒面14a(マスクパターンM)との間に配置された接ぎ部補正フィルタ28bを備え、接ぎ部補正フィルタ28bによって非重複領域IRcと重複領域IRbの照度の差を減らすように補正している。
第3の原因は、例えば、照明モジュール20における収差が残ってしまうこと、ラインジェネレータ24で照明光Lを広げることにより照度分布のばらつきが所定方向に伸張されること等を含む。後者は、例えば照明領域IRの所定方向の寸法を維持しつつ照明モジュール20の数を減らす場合などに、ラインジェネレータ24により広げる照明光Lの幅を大きくするほど発生しやすくなる。換言すると、第3の原因による照度分布の不均一性は、照明モジュール20において収差を減らすように光学部材を増やすこと、照明モジュール20の数を増すことなどでラインジェネレータ24により広げる照明光Lの幅を小さくすることなどで緩和あるいは解消できる。
図2および図3に示す照明装置IUは、光源部21と回転ドラム14の円筒面14a(マスクパターンM)との間に配置された照度分布補正フィルタ28cを備え、照度分布補正フィルタ28cによって各照明モジュール20内での照度分布を均一化している。照度分布補正フィルタ28cは、例えば、照明モジュール20ごとに設けられる。このような照度分布補正フィルタ28cを用いると、例えば、照明モジュール20の数を維持しつつ照度分布の均一性を向上させることができ、また照明モジュール20の数を減らしつつ照度分布の均一性を維持することもできる。
上述のような各種のフィルタは、透過率が固定であってもよいし、可変であってもよい。透過率が可変のフィルタは、例えば、走査方向(X軸方向)に透過率が変化するフィルタを走査方向に移動可能に設けておくことで実現できる。照明装置IUは、透過率が可変のフィルタを移動させることで、例えば、照明領域IRの照度分布を調整可能になる。例えば、照明装置IUは、図2および図3に示した照度モニター装置11で計測した照度分布に基づいて、照度分布を均一化するように微調整することができる。また、このような照度分布の調整は、例えば、照明モジュール20の特性が経時変化した場合、照明モジュール20の少なくとも一部(例えば光源部21)を交換した場合などに行ってもよい。
上述のような本実施形態の照明装置IUは、複数の照明モジュール20を所定方向に配列し、照明モジュール20の部分照明領域IRaを所定方向に連続的に配列することで、照明領域IRの所定方向の寸法を所望の値に広げることができる。そのため、処理装置U3(露光装置EX)は、転写パターンの走査方向に垂直な方向の幅を広げることができ、例えば、大判の基板を効率よく処理することができる。結果として、デバイス製造システムは、大型のフラットパネルディスプレイなどのデバイスを効率よく製造すること、大判の多面取り用の基板を用いてデバイスを効率よく製造することなどができる。
また、照明装置IUは、走査方向の位置をずらした複数の光源部21を、所定方向から見た照明光Lの出射方向が交差するように配置し、複数の光源部21からの照明光Lの進行方向を揃えるように偏向部22によって照明光Lを偏向する。そのため、複数の光源部21の配置自由度が高くなり、例えば複数の光源部21の干渉(衝突)を避けることなどができる。
また、光源部21は、偏向部22において所定方向を長手とする形状のスポットの照明光Lを射出するので、照明モジュール20の数を維持しつつ照明領域IRを所定方向に広げること、照明領域IRの大きさを維持しつつ照明モジュール20の数を減らすことなどができる。
なお、照明装置IUは、照明光L(ビーム)を一方向へ引き伸ばす変形を行うことによって、照明光Lの広がり角が、基板Pの走査方向(X軸方向)と走査方向に垂直な所定方向(Y軸方向)とで異なる構成でもよい。この構成においては、転写されるパターンのマスクパターンM上での線幅が揃っていると、転写されるパターンの基板P上での線幅は、走査方向と所定方向とで異なることになる。転写されるパターンの基板P上での線幅を揃えるには、例えば、照明光Lの広がり角の異方性に応じたマスクパターンM上での線幅を考慮して、マスクパターンMを設計すればよい。また、照明装置IUは、基板Pの走査方向(X軸方向)と所定方向(Y軸方向)とで照明光Lの広がり角が等方的になるように、構成されていてもよい。
なお、照度モニター装置11は、照明装置IUの一部として設置してもよいし、照度モニター装置11とアライメント顕微鏡AMの一方または双方を、回転ドラム14の内側に配置してもよい。また、複数の照明モジュール20から構成される照明光学系の少なくとも一部は、回転ドラム14の外側に配置されていてもよい。
[第2実施形態]
次に、第2実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
次に、第2実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
図9は本実施形態による処理装置U3(露光装置EX)を示す側面図、図10は照明装置IUを示す斜視図、図11は照明装置を示す上面図である。図9に示す露光装置EXは、基板Pを支持する基板支持部材(回転ドラム35)の構成と、照明装置IUの構成が第1実施形態と異なる。
図9に示す露光装置EXは、図2に示した基板ステージSTの代わりに回転ドラム35を備え、回転ドラム35で基板Pを支持する。回転ドラム35は、回転中心軸AX2の周りで回転可能に設けられている。回転ドラム35の回転中心軸AX2は、回転ドラム14の回転中心軸AX1とほぼ平行に設定される。回転ドラム35は、図示略の駆動部によって回転駆動され、基板Pを支持して回転することで基板Pを搬送する。
照明装置IUは、図10などに示すような複数の照明モジュール20を備えるが、図9には1つの照明モジュール20が代表的に図示されている。照明装置IUの照明領域IRは、回転ドラム14のうち回転ドラム35に最も接近した部分の付近に設定されている。
露光装置EXは、例えば図2に示したような制御装置12によって、回転ドラム14と回転ドラム35とを同期して回転させながら、回転ドラム14に保持されたマスクパターンMを照明装置IUからの照明光Lで照明する。これによって、マスクパターンMに入射した照明光Lは、転写されるパターンに応じた光(露光光)になり、この露光光が回転ドラム35に搬送されている基板Pを走査する。露光光が基板Pに入射する領域(露光領域PR)は、回転ドラム35のうち回転ドラム14と最も接近した部分の付近に設定されている。露光光が基板Pを走査方向は、回転ドラム35の回転中心軸AX2(Y軸方向)にほぼ垂直であって、露光領域PRの接平面とほぼ平行な方向(X軸方向)である。
次に、照明装置IUについてより詳しく説明する。図10および図11に示す照明装置IUは、複数の照明モジュール20が所定方向(Y軸方向)に配列された構成である。複数の照明モジュール20は、いずれも同様の構成であるが、Y軸方向に並ぶ順にYZ面に関する姿勢が交互に反転するように配置されている。
図9に示す照明モジュール20は、第1の光源部21aと、光源部21と1対1の対応で設けられた偏向部材22aとを備える。光源部21は、照明光Lを射出する光源23と、光源23からの照明光Lが入射する光学ロッド部材36と、光学ロッド部材36を通った照明光Lが入射するリレーレンズ37およびリレーレンズ38と、を備える。
光源部21は、照明領域IRの法線方向(Z軸方向)に対して傾いた方向から照明光Lを射出する。例えば、図10に示すように、第1の照明モジュール20aの第1の光源部21aは、照明領域IRの法線方向(Z軸方向)から−X側に傾いた方向から照明光Lを射出する。また、露光光の走査方向(X軸方向)から見て第1の照明モジュール20aの隣に配置されている第2の照明モジュール20b(図11参照)の第2の光源部21bは、照明領域IRの法線方向から+X側に傾いた方向から照明光Lを射出する。
このように、第1の照明モジュール20aと第2の照明モジュール20bは、所定方向から見たときの光源部21からの光の出射方向が交差するように、配置されている。これにより、第1の照明モジュール20aの光源部21と第2の照明モジュール20bの光源部21は、互いに干渉しないように配置される。
例えば、図11に示すように、光源部21のうち所定方向の寸法が最も大きい部材は、リレーレンズ38であり、複数の光源部21は、X軸方向から見たときに隣り合う光源部21のリレーレンズ38の位置がずれていることによって、所定方向(Y軸方向)においてリレーレンズ38が他の光源部21のリレーレンズ38と干渉しないように、配置される。
次に、照明モジュール20についてより詳しく説明する。図12は光源23を示す上面図、図13A及び13Bは光学ロッド部材36を示す図、図14はリレーレンズ38を示す平面図、図15は偏向部材22aを示す側面図、図16は絞り部材42を示す平面図である。図13AにはZ軸方向から見た図、図13BにはY軸方向から見た図を示した。
図12に示す光源23は、複数の固体光源40と、固体光源40のそれぞれに設けられた導光部材41とを備える。固体光源40は、例えばレーザーダイオードである。導光部材41は、例えば光ファイバであり、固体光源40からの照明光Lを光学ロッド部材36(図11参照)に導く。複数の導光部材41は、バンドル状に束ねられており、1つの出射端面41aを有している。光ファイバ通った照明光Lは、その広がり角が光ファイバの径(φ)によって定まり、等方的に広がる光である。
図13A及び13Bに示す光学ロッド部材36は、例えば石英ガラスなどで形成され、光源23から照明光Lが入射する入射端面36aと、入射端面36aに入射した照明光Lが反射する内面36bと、内面36bで反射した照明光Lが出射する出射端面36cとを有する。光源23において、複数の導光部材41の出射端面41aには、導光部材41ごとに光源像が形成されており、照明光Lの照度分布は、出射端面41aにおいて不均一になっている。このような照明光Lは、光学ロッド部材36の内面36bで反射を繰り返すことで広がり角内の広がりが平均化され、出射端面36cでの照度分布が均一化される。光学ロッド部材36から出射する際の照明光Lは、光学ロッド部材36への入射前と広がり角がほとんど変化せず、等方的に広がる光である。
このように光学ロッド部材36の出射端面36cでは照度分布が均一になっていることから、照明モジュール20は、照明領域IRが光学ロッド部材36の出射端面36cと共役になるように構成される。そのため、光学ロッド部材36の出射端面36cは、例えば部分照明領域IRaと同様の形状に設定される。ここでは、出射端面36cは、所定方向に対応するY軸方向の寸法が走査方向に対応するZ軸方向の寸法よりも大きく設定されている。すなわち、光源部21は、部分照明領域IRaが所定方向において走査方向よりも長手になるように、構成されている。
図13A及び13Bにおいて、光学ロッド部材36の出射端面36cからの照明光Lが入射する位置に、絞り部材42が設けられている。絞り部材42は、いわゆる視野絞りであり、部分照明領域IRaの形状を規定する。絞り部材42は、照明光Lが通る開口42aを有している。開口42aの平面形状については、後述する。
図9に示したリレーレンズ37およびリレーレンズ38を含むリレー光学系は、光学ロッド部材36の出射端面36cの像を形成する。照明領域IRは、光学ロッド部材36の出射端面36cの像が形成される面の位置またはその近傍に設定される。リレーレンズ37およびリレーレンズ38を含むリレー光学系は、例えば、光源部21から出射する際の照明光Lの広がり角を調整するように、倍率が設定される。例えば、マスクパターンMに入射する際の照明光Lの広がり角は、パターンの線幅などに応じて設定され、このような広がり角になるようにリレーレンズ37およびリレーレンズ38を含むリレー光学系の倍率が設定される。
リレーレンズ38(図14参照)は、その光軸の方向から平面視すると、所定方向(Y軸方向)がその直交方向よりも長手の形状に形成されている。リレーレンズ38は、例えば、その光軸の周りで回転対称なレンズ形状38aから、照明光Lが通過しない部分38bを適宜省いた形状、すなわち部分照明領域IRaに応じた形状に設定される。これにより、リレーレンズ38と他の構成要素との干渉を避けることができる。
図9および図10に示すように、リレーレンズ37からリレーレンズ38に至る光路に絞り部材43が配置されている。絞り部材43は、いわゆる開口絞り(σ絞り)であり、照明光Lの広がり角(いわゆる、開口数NA)を制限する。絞り部材43は、照明光Lが通る開口を有し、リレーレンズ37およびリレーレンズ38を通った照明光Lの広がり角が所定値になるように、開口の径が設定される。
また、リレーレンズ37からリレーレンズ38に至る光路には、ミラー44が配置されている。ミラー44は、いわゆる折り曲げミラーであり、リレーレンズ37から出射した照明光Lを偏向する。図10に示すように、光源23から出射した照明光Lは、X軸方向とほぼ平行な方向に進行してミラー44で反射し、Z軸方向よりも−X側または+X側に傾いた方向に進行する。これにより、光源部21をコンパクトにすることができ、例えば光源部21を回転ドラム14の内側に配置しやすくなる。
上述のような複数の光源部21から出射した照明光Lは、図10に示すように、偏向部22に入射し、偏向部22で偏向することによって進行方向が揃えられる。偏向部22は、所定方向に配列された複数の偏向部材22aを含む。複数の偏向部材22aは、いずれも同様の形状であるが、Y軸方向に並ぶ順にYZ面に対する姿勢が交互に反転するように(図10および図11参照)配置されている。
偏向部材22a(図15参照)は、照明光Lが入射する界面26aと、照明光Lが出射する界面26cとを有する。ここでは、界面26aおよび界面26cは、それぞれ、照明領域IRの法線方向(Z軸方向)に対して傾いている。すなわち、偏向部材22aは、照明光Lが界面26aおよび界面26cでそれぞれ屈折することで、照明光Lを偏向する。
図10に示すように、偏向部材22a(照明モジュール20)から出射した照明光Lは、部分照明領域IRaに入射し、複数の部分照明領域IRaが所定方向に継がれることによって、照明装置IUは、所定方向を長手とする照明領域IRを照明する。
ところで、図7および図8を参照して説明したように、照明領域IRの所定方向における照度分布は、不均一になることがある。ここでは、偏向部22(図11参照)は、所定方向に隣り合う1対の偏向部材22aの境界27が所定方向に対して斜めに交差するように、設けられている。これにより、照明領域IRにおける所定方向の照度分布の不均一性が緩和あるいは解消される。
また、このような照度分布の不均一性は、図13A及び13Bに示した絞り部材42において照明光Lが通過する開口の形状を調整することで、緩和あるいは解消することもできる。図7に示した例では、重複領域IRbの照度が非重複領域IRcの照度よりも低いので、このような照度の不均一性を減らすためには、例えば、重複領域IRbに入射する照明光Lの光量を増加させること、非重複領域IRcに入射する照明光Lの光量を減少させることなどが有効である。このような光量調整のために、絞り部材42(図13A及び13B参照)は、照明光Lが通過する開口42aの形状が設定されている。
図16に示す絞り部材42の開口42aは、部分照明領域IRa(図7参照)のうち重複領域IRbに入射する光が通過する第1部分42bと、部分照明領域IRaのうち非重複領域IRcに入射する光が通過する第2部分42cとを有する。重複領域IRbと非重複領域IRcの位置が所定方向(Y軸方向)で異なっていることから、第1部分42bと第2部分42cは、所定方向に対応する方向(Y軸方向)で異なる位置に配置されている。第1部分42bと第2部分42cは、照明領域IRにおいて所定方向に垂直な方向に対応する絞り部材42上の方向(Z軸方向)の寸法が異なっていることで、それぞれのY軸方向の単位長さの領域を通る照明光Lの光量が異なっている。
図16に示す絞り部材42は、図7に示したように重複領域IRbにおいて相対的に照度が低い照度分布を想定したものである。Y軸方向に直交するZ軸方向において、第1部分42bの内寸h1、第2部分42cの内寸h2とすると、第1部分の内寸h1は第2部分の内寸h2よりも大きくなっている。そのため、第1部分42bは、Y軸方向の単位長さの領域を通る照明光Lの光量が第2部分42cよりも多くなり、結果として、照明領域IRにおける所定方向の照度分布が均一化される。例えば、重複領域IRbの照度が非重複領域IRcの照度に対して5%低下しているとする。この場合に、第1部分42bの内寸h1は、例えば、第2部分の内寸h2に対して102.5%に設定される。
ここでは、絞り部材42の開口42aは、第1部分42bと第2部分42cとの間でX軸方向の内寸が連続的に変化するように、形成されている。そのため、重複領域IRbと非重複領域IRcとで照度が不連続に変化することが抑制される。
次に、照明装置IUの諸元の一例を説明する。
図12に示した光源23は、複数の固体光源40として、波長が403nmの紫外域のレーザー光を射出するレーザーダイオードを、20個を用いることができる。また、導光部材41として、φが0.125mmの光ファイバを用いることでき、これを20本束ねてφが0.65mmのバンドルにすることができる。この場合に、導光部材41から出射する際の照明光Lの広がり角は、NA換算で0.2である。
図13A及び13Bに示した光学ロッド部材36は、例えば、X軸方向の寸法が100mm、Y軸方向の寸法が10mm、Z軸方向の寸法が1.4mmである。光学ロッド部材36から出射した照明光Lの広がり角は、導光部材41から出射した照明光Lの広がり角とほぼ同じであり、NA換算で0.2である。
図16に示した絞り部材42は、例えば、Z軸方向の外寸が光学ロッド部材36の出射端面36cと同じ(1.4mm)である。絞り部材42の開口42aの寸法は、例えば、Y軸方向の寸法が10mm、第1部分の内寸h1が1mm、第2部分の内寸h2が1.025mmである。
ここでは、マスクパターンMに入射する際に照明光Lの広がり角は、NA換算で0.04に設定されているとする。光学ロッド部材36から出射した照明光Lの広がり角は、0.2であり、リレーレンズ37およびリレーレンズ38は、光学ロッド部材36の出射端面36cの像を5倍に拡大して照明領域IRに投影する。そのため、照明領域IRに入射する際の照明光Lの広がり角をNAに換算した値は、光学ロッド部材36から出射した照明光Lの広がり角をNAに換算した値(0.2)の1/5倍になり、0.04になる。リレーレンズ37の焦点距離(f1)は、例えば20mmに設定され、リレーレンズ38の焦点距離(f2)は、例えば100mmに設定される。また、絞り部材43は、リレーレンズ37およびリレーレンズ38を通った照明光Lの広がり角がNA換算で0.04相当になるように、開口の径(φ)が8mmに設定される。
図15に示した偏向部材22aは、紫外域の光に対する透過率が高い石英等で作られ、例えば、頂角δ1が20.51°、底面角δ2が80°、底面角δ3が79.49°に設定される。ここで、リレーレンズ38の光軸とZ軸方向とのなす角度θは、例えば10°である。リレーレンズ38の光軸と偏向部材22aの交点から照明領域IR(マスクパターンM)までの距離S(図9参照)は、例えば、16mmである。
このような諸元の照明モジュール20による部分照明領域IRaは、X軸方向の寸法が約5mm、Y軸方向の寸法が約50mmである。照明装置IUは、このような照明モジュール20を5セット配列したものであり、照明領域IRは、X軸方向の寸法が約5mm、Y軸方向の寸法が約250mmである。ここで、光源23のレーザーダイオード1個あたりの光量パワーを0.5W、光ファイバの透過率を0.7、絞り部材42による光の利用効率を1/1.4、光学ロッド部材36から偏向部材22aまでの透過率を0.8とする。この場合に、照明モジュール20あたりの光量パワーは4Wになり、照明モジュール20の部分照明領域IRaの寸法が5mm×50mmとすると、照度は1600mW/cm2と見積もられる。
また、照明領域IR(マスクパターンM)に入射する際の照明光Lの広がり角は、例えば2.3°(NA換算で0.04)であり、照明領域IRにおいてZ軸から0.6mm程度の位置ずれを生じる。この位置ずれ量は、走査方向の照明領域IRの幅(5mm)に比べて十分に小さく、露光処理を行う上で無視できる。また、この条件で計算した場合、照明領域IRでの非点収差が0.84mmになる。よって、XZ面内の光束が結像するZ軸方向の位置に対して、フォーカス面が合致するように、照明装置IUを設計および製造しておくことができる。この非点収差によって、YZ面内の光束は、フォーカス位置では0.07mm程度の広がりを持つが、この程度であれば、露光処理を行う上で無視できる。ここで示した照明装置IUの諸元は、一例であり、適宜変更しうることは言うまでもない。
上述のような本実施形態の照明装置IUは、等方的に広がる照明光Lで照明領域IRを照明することができ、転写されるパターンの線幅と転写された潜像の線幅との比が等方的になるので、例えばマスクパターンMの設計コストを下げることができる。
[第3実施形態]
次に、第3実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
次に、第3実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
図17は本実施形態による処理装置U3(露光装置EX)を示す側面図、図18は露光装置EXを示す上面図である。図17及び図18に示す照明装置IUは、偏向部22の構成が第1実施形態と異なる。図17及び図18に示す偏向部22は、Y軸方向に並ぶ複数のミラー45(偏向部材)を含み、光源部21からの照明光Lがミラー45で反射することによって、照明光Lを偏向する。
ここで、照明領域IRの法線方向をZ軸方向とし、所定方向(Y軸方向)から見た光源部21からの照明光Lの出射方向とZ軸方向とのなす角度をαとすると、ミラー45は、Z軸方向からα/2の角度だけ傾けて配置される。図17に示す例では、αが90°であり、ミラー45の法線方向とZ軸方向とがなす角度が45°に設定される。
ミラー45は、例えば外形が台形状の反射面を含み。図18に示すミラー45は、Y軸方向において隣り合う1対のミラー45の境界46が、照明光Lで基板Pを走査する走査方向(X軸方向)に対して斜めに交差するように、配置されている。これにより、照明領域IRの所定方向における照度分布を均一化することができる。また、照明装置IUは、偏向部22が反射により偏向する構成であるので、例えば光のロスを減らすことなどができる。
[第4実施形態]
次に、第4実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
次に、第4実施形態について説明する。本実施形態において上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略することがある。
図19は本実施形態による処理装置U3(露光装置EX)を示す側面図、図20は露光装置EXを示す上面図、図21は偏向部22を示す照明図である。
図19および図20に示す照明装置IUは、偏向部22の構成が第1実施形態と異なる。図19に示す偏向部22は、第1の光源部21aからの照明光Lが通過し、第2の光源部21bからの照明光Lが反射することによって、照明光Lの進行方向を揃えるように構成されている。ここでは、第1の光源部21aは、照明領域IRの法線方向(Z軸方向)に配置されており、第1の光源部21aからの照明光Lは、偏向部22で偏向されないで、照明領域IRに法線方向から入射する。また、第2の光源部21bは、所定方向(Y軸方向)から見たときに、Z軸方向と角度βをなすように配置されており、第2の光源部21bからの照明光Lは、偏向部22で偏向されて、照明領域IRに法線方向から入射する。図19では、角度βが90°に設定されているが、角度βは、その絶対値が0°より大きく180°よりも小さい角度であれば任意に設定できる。
図21に示す偏向部22は、第1の光源部21aからの照明光Lが通過する通過部46と、第2の光源部21bからの照明光Lが反射する反射部47とを備える。通過部46と反射部47は、所定方向(Y軸方向)に交互に繰り返し配置されている。ここでは、通過部46において光の透過率は、ほぼ均一(Y軸方向における透過率の勾配がほぼ0)になっており、反射部47において光の反射率は、ほぼ均一(Y軸方向における反射率の勾配がほぼ0)になっている。
通過部46と反射部47との間には、中間部48が配置されている。中間部48は、通過部46よりも照明光Lの反射率が高く、反射部47よりも照明光Lの反射率が低く設定されている。ここでは、中間部48における照明光Lの反射率は、通過部46側から反射部47側に向うにつれて、連続的または段階的に高くなるように設定されている。また、中間部48における照明光Lの透過率は、通過部46よりも低く、反射部47よりも高く設定されている。ここでは、中間部48における照明光Lの透過率は、通過部46側から反射部47側に向うにつれて、連続的または段階的に低くなるように設定されている。
第1の光源部21aからの照明光Lは、通過部46と、この通過部46に隣接する2つの中間部48に入射する。また、第2の光源部21bからの照明光Lは、反射部47と、この反射部47に隣接する2つの中間部48に入射する。そのため、中間部48には、第1の光源部21aと第2の光源部21bのそれぞれから照明光Lが入射することなる。すなわち、中間部48は、第1の光源部21aからの照明光Lと第2の光源部21bからの照明光Lを合成する機能を有する。
照明領域IRのうち中間部48から出射した照明光Lが入射する領域(図7の重複領域IRb)は、第1の光源部21aからの照明光Lの一部による照度と、第2の光源部21bからの照明光Lの一部の照度とを足し合わせた照度になる。そのため、図7に示した重複領域IRbの照度は、非重複領域IRcの照度と不連続になることが避けられる。
このような偏向部22(ビーム合成部)は、例えば、所定方向(Y軸方向)を長手方向とする1つの三角プリズム49(図19参照)で接合したものである。この三角プリズム49は、長手方向に直交する断面が直角三角形であり、互いに直交する2辺と45°の角をなす斜辺49aを有している。1対の三角プリズム49は、三角プリズム49の斜辺49aと長手方向を含む斜面が互いに接合されて角柱状のプリズムに形成されている。三角プリズム49の斜面には、例えばアルミニウムなどの反射材料が蒸着法などで成膜されることによって、反射膜が形成されている。通過部46、反射部47、および中間部48の反射率は、例えば反射膜の密度分布などによって調整される。
反射膜の密度は、例えば、単位面積の領域に占める反射膜の被覆面積の比率で表され、三角プリズムのうち反射膜の密度が相対的に高い領域を反射部47とし、反射部よりも反射膜の密度が低い領域を中間部48、中間部48よりも反射膜の密度が低い領域を通過部46としてもよい。
偏向部22の形成方法としては、例えば、三角プリズムの斜面に反射膜を成膜した後に反射膜をエッチングなどで部分的に除去し、反射膜が除去された部分を通過部46または中間部48、反射膜が除去されていない部分を反射部47とする方法が挙げられる。このような偏向部22に形成方法において、エッチング条件、例えばエッチング時間を通過部46と中間部48とで異ならせることによって、上述したような反射膜の密度分布を実現できる。
また、偏向部22の他の形成方法としては、例えば、三角プリズムの斜面に部分的に反射膜を成膜し、反射膜が成膜された部分を反射部47または中間部48、反射膜が成膜されていない部分を通過部46とする方法が挙げられる。このような偏向部22に形成方法において、反射膜の成膜条件、例えば成膜時間を反射部47と中間部48とで異ならせることによって、上述したような反射膜の密度分布を実現できる。
上述したような本実施形態の照明装置IUは、偏向部22において通過部46と反射部47の間に中間部48を設けることで部分照明領域IRaを継ぐようにしたので、照明領域IRの所定方向における照度分布を均一化することができる。
なお、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、上述の実施形態で説明した要素の1つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態で説明した要素は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態で引用した全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
なお、第1実施形態のおいては、基板Pを平面的に支持する基板ステージSTを基板支持部材としているが、このような基板支持部材は、他の実施形態においても適用できる。また、第2実施形態においては回転ドラム35を基板支持部材としたが、このような基板支持部材は、他の実施形態にも適用できる。
なお、上述の各実施形態において、円筒状のマスクパターンMを用いているが、例えば、いわゆる無端ベルト状のマスクパターンMを用いてもよいし、平面状のマスクパターンMを用いてもよく、マスク保持部材の形態はマスクパターンMの形態に応じて、適宜変更できる。
なお、第1実施形態において、照明装置IUの光源部21は、ラインジェネレータ24でビームを広げているが、このような光源部21は、他の実施形態にも適用できる。また、第2実施形態において、照明装置IUの光源部21は、光学ロッド部材36によって各照明モジュール20の照度分布を均一化しているが、このような光源部21は、他の実施形態にも適用できる。
なお、第3実施形態において、照明装置IUの偏向部22は、反射により照明光Lを偏向しているが、このような偏向部22は他の実施形態も適用できる。偏向部22が照明光Lを偏向する向きは、光源部21からの照明光Lの出射方向に応じて適宜変更できる。
なお、上述の実施形態においては、複数の光源部21からの照明光Lの出射方向が2方向に設定されているが、複数の光源部21からの照明光Lの出射方向は、3方向以上に設定されていてもよく、この場合に、偏向部22が照明光Lを偏向する向きは、適宜変更される。
なお、露光装置EXは、マルチレンズ方式、或いはマイクロレンズアレー方式の投影型露光装置であってもよく、この場合に複数の照明光学系のうち少なくとも1つに上述のような照明装置IUを適用できる。
また、平面状のマスクのパターンを円弧状の投影視野を有するオフナー型の反射投影光学系を介して平面状の感光基板上に投影しつつ、反射投影光学系に対してマスクと感光基板とを走査移動させるミラープロジェクション型走査露光装置に、本実施形態の照明装置IUを組み込むこともできる。その場合は、例えば、図5、図6、図10で示した複数の偏向部材22aを、Y方向に直線的に並べる(接合)代わりに、マスク上の照明領域IRが円弧状の投影視野に近似するように、湾曲させて並べれば良い。その為には、図6において、互いに隣接する偏向部材22aの境界27を形成する側端面の部分27a、27bのXY面内での頂角を異ならせれば良い。
また、上述の実施形態においては、照明装置IUを露光装置EXに適用しているが、照明装置IUは、例えばアニール装置などにも適用できる。
[デバイス製造方法]
次に、デバイス製造方法について説明する。図22は、本実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。
また、平面状のマスクのパターンを円弧状の投影視野を有するオフナー型の反射投影光学系を介して平面状の感光基板上に投影しつつ、反射投影光学系に対してマスクと感光基板とを走査移動させるミラープロジェクション型走査露光装置に、本実施形態の照明装置IUを組み込むこともできる。その場合は、例えば、図5、図6、図10で示した複数の偏向部材22aを、Y方向に直線的に並べる(接合)代わりに、マスク上の照明領域IRが円弧状の投影視野に近似するように、湾曲させて並べれば良い。その為には、図6において、互いに隣接する偏向部材22aの境界27を形成する側端面の部分27a、27bのXY面内での頂角を異ならせれば良い。
また、上述の実施形態においては、照明装置IUを露光装置EXに適用しているが、照明装置IUは、例えばアニール装置などにも適用できる。
[デバイス製造方法]
次に、デバイス製造方法について説明する。図22は、本実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。
図22に示すデバイス製造方法では、まず、例えば液晶表示パネル、有機EL表示パネルなどのデバイスの機能・性能設計を行う(ステップ201)。次いで、デバイスの設計に基づいて、マスクパターンMを製作する(ステップ202)。また、デバイスの基材である透明フィルムやシート、あるいは極薄の金属箔などの基板を、購入や製造などによって準備しておく(ステップ203)。
次いで、準備した基板をロール式、パッチ式の製造ラインに投入し、その基板上にデバイスを構成する電極や配線、絶縁膜、半導体膜などのTFTバックプレーン層や、画素部となる有機EL発光層を形成する(ステップ204)。ステップ204には、典型的には、基板上の膜の上にレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクにして上記膜をエッチングする工程とが含まれる。レジストパターンの形成には、レジスト膜を基板表面に一様に形成する工程、上記の各実施形態に従って、マスクパターンMを経由してパターン化された露光光で基板のレジスト膜を露光する工程、その露光によってマスクパターンの潜像が形成されたレジスト膜を現像する工程、が実施される。
印刷技術などを併用したフレキシブル・デバイス製造の場合は、基板表面に機能性感光層(感光性シランカップリング材など)を塗布式により形成する工程、上記の各実施形態に従って、マスクパターンMを経由してパターン化された露光光を機能性感光層に照射し、機能性感光層にパターン形状に応じて親水化した部分と撥水化した部分を形成する工程、機能性感光層の親水性の高い部分にメッキ下地液などを塗工し、無電解メッキにより金属性のパターンを析出形成する工程、などが実施される。
次いで、製造するデバイスに応じて、例えば、基板をダイシング、あるいはカットすることや、別工程で製造された他の基板、例えば封止機能を持ったシート状のカラーフィルターや薄いガラス基板などを貼り合せる工程が実施され、デバイスを組み立てる(ステップ205)。次いで、デバイスに検査などの後処理を行う(ステップ206)。以上のようにして、デバイスを製造することができる。
10・・・移動装置、21・・・光源部、21a・・・第1の光源部、21b・・・第2の光源部、22・・・偏向部、23・・・光源、24・・・ラインジェネレータ、25・・・コリメータ、28・・・フィルタ、35・・・回転ドラム、36・・・光学ロッド部材、37、38・・・リレーレンズ、42・・・絞り部材、45・・・ミラー、46・・・通過部、47・・・反射部、48・・・中間部、EX・・・露光装置、IU・・・照明装置、L・・・照明光、M・・・マスクパターン、P・・・基板、S・・・距離、U3・・・処理装置
Claims (27)
- 第1の光源部と、
前記第1の光源部と光の出射方向が異なる第2の光源部と、
前記第1の光源部からの光と前記第2の光源部からの光との進行方向を揃えるように、該光の少なくとも一部を偏向する偏向部と、を備え、
前記第1の光源部と前記第2の光源部とは、各光源部から出射して前記偏向部を経由した光が入射する照明領域が所定方向に連続して並ぶように、前記所定方向において異なる位置に配置されている照明装置。 - 前記第1の光源部および前記第2の光源部を含む複数の光源部を備え、
前記第1の光源部は、前記複数の光源部のうち、前記所定方向に垂直な方向から見て前記第2の光源部の隣に配置されている
請求項1記載の照明装置。 - 前記第1の光源部および前記第2の光源部は、前記照明領域の前記所定方向における端部が互いに重なるように配置されている
請求項1または2記載の照明装置。 - 前記第1の光源部と前記第2の光源部とは、前記所定方向から見て異なる位置に配置されている
請求項1〜3のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記第1の光源部と前記第2の光源部とは、前記所定方向に平行な面に関して、対称的に設けられている
請求項1〜4のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記平行な面は、前記偏向部からの光の出射方向と平行である
請求項5記載の照明装置。 - 前記偏向部は、
前記第1の光源部から光が入射する第1面と、
前記第1面と異なる方向を向いており、前記第2の光源部から光が入射する第2面と、を有する
請求項1〜6のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記偏向部からの光の出射方向から見て、前記第1面と前記第2面との境界は、前記所定方向と非垂直に交差する
請求項7記載の照明装置。 - 前記偏向部は、前記第1面と前記第2面の一方または双方での屈折によって前記光源部からの光を偏向する
請求項7または8記載の照明装置。 - 前記偏向部は、前記第1面と前記第2面の一方または双方での反射によって前記光源部からの光を偏向する
請求項7または8記載の照明装置。 - 前記偏向部は、前記第1面と前記第2面のうち一方の面で前記光源部からの光を通過させ、他方の面で前記光源部からの光を反射させて偏向する
請求項7または8記載の照明装置。 - 前記偏向部は、
前記一方の面の一部を含み、前記第1の光源部からの光が通過する通過部と、
前記他方の面の一部を含み、前記第2の光源部からの光が反射する反射部と、
前記通過部と前記反射部との間に配置され、前記通過部よりも反射率が高く、前記反射部よりも反射率が低い中間部と、を備える
請求項11記載の照明装置。 - 前記偏向部は、前記偏向部からの光が前記照明領域に法線方向から入射するように、光を偏向する
請求項1〜12のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記光源部から出射する光のスポットは、前記所定方向を長手とする形状に設定されている
請求項1〜13のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記光源部は、
光源と、
前記光源から出射した光を前記所定方向に広げる光学部材と、
前記光学部材によって広げられた前記光を平行化する平行化部材と、を備える
請求項14記載の照明装置。 - 前記光源部は、
光源と、
前記光源から光が入射する入射端面、及び前記入射端面に入射した光が出射し、前記所定方向に対応する方向が長手の出射端面を有する光学ロッド部材と、
前記出射端面と共役な面を形成するリレーレンズと、を備える
請求項1〜14のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記照明領域の前記所定方向の照度分布を均一化するように、前記光学ロッド部材から出射した光の通過範囲を、前記所定方向に垂直な方向において規定する絞り部材を備える
請求項16記載の照明装置。 - 前記照明領域の照度分布を調整するためのフィルタを備える
請求項1〜17のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記フィルタは、前記第1の光源部および前記第2の光源部を含む複数の光源部で光量を揃えるための第1フィルタを含む
請求項18記載の照明装置。 - 前記第1の光源部に対応する前記照明領域は、前記第2の光源部に対応する前記照明領域に、重なる重複領域と、重ならない非重複領域と、を含み、
前記フィルタは、前記重複領域と前記非重複領域とで照度を揃えるための第2フィルタを含む
請求項18または19記載の照明装置。 - 前記第1の光源部に対応する前記照明領域は、前記第2の光源部に対応する前記照明領域に、重なる重複領域と、重ならない非重複領域と、を含み、
前記フィルタは、前記非重複領域の照度分布が均一化するように照度を揃えるための第3フィルタを含む
請求項18〜20のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記フィルタの少なくとも1つは、光の透過率が可変である
請求項17〜21のいずれか一項記載の照明装置。 - 前記フィルタの少なくとも1つは、光の透過率が空間的に変化しており、前記照明領域に入射する光の光路に対して移動可能に設けられている
請求項22記載の照明装置。 - 前記照明領域の前記所定方向の照度分布を計測する計測装置をさらに備える
請求項1〜23のいずれか一項記載の照明装置。 - 感応層を有する基板に、マスクパターンに形成されたパターンを転写する処理装置であって、
前記マスクパターンを照明する請求項1〜24のいずれか一項記載の照明装置と、
前記マスクパターンと前記基板とを、前記所定方向に垂直な方向に相対移動させる移動装置と、を備える処理装置。 - 前記移動装置は、前記マスクパターンを保持して前記所定方向に平行な中心線の周りに回転可能なマスク保持部材を備える
請求項25記載の処理装置。 - 請求項25または26記載の処理装置によって、前記マスクパターンと前記基板とを相対移動させながら前記基板に前記パターンを連続的に転写することと、
前記パターンが転写された前記基板の感応層の変化を利用して後続の処理を実施することと、を含むデバイス製造方法。
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