JPWO2013122109A1 - インプリント装置およびインプリント方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2 被成形物
6 流体噴射手段
7 光照射手段
32 ステージ
33 カバー
34 空間用密閉手段
35 第2減圧手段
40 減圧室
43 枠体
44 減圧室用密閉手段
45 第1減圧手段
46 第2移動手段
Claims (13)
- 型の成型パターンを被成形物に転写するためのインプリント装置であって、
前記型と前記被成形物を加圧するためのステージ及びカバーと、
前記ステージを挿入可能な穴を有し、前記ステージの外周を囲む枠体と、
前記ステージと前記カバーを接離方向に相対的に移動可能な第1移動手段と、
前記カバーと前記枠体を接離方向に相対的に移動可能な第2移動手段と、
前記カバー、前記型又は前記被成形物のいずれかと、前記ステージと、前記枠体と、で構成される減圧室を減圧し、前記型と前記被成形物の間の流体を除去する第1減圧手段と、
前記カバーと前記型又は前記被成形物との間に形成される空間の流体を除去する第2減圧手段と、
を具備することを特徴とするインプリント装置。 - 前記枠体は、前記型と前記被成形物の間に流体を噴射する流体噴射手段を具備することを特徴とする請求項1記載のインプリント装置。
- 前記第1減圧手段と前記第2減圧手段は、前記空間と前記減圧室とを連通する連通流路を有することを特徴とする請求項1又は2記載のインプリント装置。
- 前記空間を密閉するための空間用密閉手段を具備することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のインプリント装置。
- 前記減圧室を密閉するための減圧室用密閉手段を具備することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のインプリント装置。
- 前記枠体は、前記被成形物を挟んで対向する位置に前記流体噴射手段を有することを特徴とする請求項3記載のインプリント装置。
- 前記被成形物の温度を調節する温調手段を具備することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のインプリント装置。
- 前記被成形物に光を照射する光照射手段を具備することを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載のインプリント装置。
- 前記被成形物を供給するための送りロールと、前記成型パターンの転写された被成形物を回収するための回収ロールと、を有する搬送手段を具備することを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載のインプリント装置。
- ステージとカバーの間で前記型と前記被成形物を加圧し、前記型の成型パターンを前記被成形物に転写するためのインプリント方法であって、
前記ステージ又は前記カバー上に前記型及び前記被成形物を配置する配置工程と、
前記ステージを挿入可能な穴を有し前記ステージの外周を囲む枠体と、前記カバーとで、前記型又は前記被成形物のうちカバー側にあるものを挾持する挾持工程と、
前記ステージと前記カバーを相対的に離間する離間工程と、
前記カバーと前記型又は前記被成形物との間に形成される空間の流体を除去する第1除去工程と、
前記型と前記被成形物との間の流体を除去する第2除去工程と、
前記型と前記被成形物を密着させる密着工程と、
前記型の成型パターンを前記被成形物に転写する転写工程と、
を有することを特徴とするインプリント方法。 - 前記ステージと前記枠体を相対的に移動して前記型と前記被成形物との間に隙間を形成し、前記枠体に設けられた流体噴射手段から前記隙間に流体を噴射する離型工程を有することを特徴とする請求項10記載のインプリント方法。
- 前記転写工程は、前記被成形物をガラス転移温度以上に加熱した後、前記被成形物を加圧することを特徴とする請求項11又は12記載のインプリント方法。
- 前記転写工程は、前記型と前記被成形物を加圧した後、前記被成形物に光を照射することを特徴とする請求項11又は12記載のインプリント方法。
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