JPWO2013054934A1 - 携帯機器用カバーガラスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、このカバーガラスには、通常、例えば社名や製品名のロゴ、操作ボタンのマークなどの文字や図形等のパターンを印刷法により形成している。
すなわち、本発明は以下の構成を有する。
板状ガラスから製品サイズのカバーガラス用ガラス基板の外形をレジストをマスクとするエッチング処理により分離するとともに、文字又は図形を利用者に認識させるための凹部を前記ガラス基板の少なくとも一方の主表面にレジストをマスクとするエッチング処理により形成する携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記板状ガラスの厚さ方向で重なり合うように前記板状ガラスの一方及び他方の主表面に配置され前記ガラス基板の外形を分離するための外形分離用レジストパターンと、前記板状ガラスの少なくとも一方の主表面に配置され前記凹部を形成するための凹部形成用レジストパターンとを有するレジストが一方及び他方の主表面に形成された前記板状ガラスをエッチング処理することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
同じ工程のエッチング処理で前記板状ガラスの外形分離と前記凹部の形成とを行うことを特徴とする構成1に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
前記板状ガラスに形成された前記レジストは、エッチング処理の時間経過に応じて膜厚が薄くなるようにエッチャントに溶解し、前記凹部形成用レジストパターンは、該レジストパターンの形成されていない部分の前記レジストの膜厚よりも薄いレジストによって形成され、エッチング処理では、前記板状ガラスにおける前記凹部が形成される部分の溶解開始時が、前記板状ガラスにおける外形分離部分の溶解開始時よりも遅れることを特徴とする構成2に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
前記凹部形成用レジストパターンを耐エッチャント膜で覆い、前記外形分離用レジストパターンで前記板状ガラスをエッチング処理して前記ガラス基板を前記板状ガラスから分離し、その後に、前記耐エッチャント膜を除去して、前記凹部形成用レジストパターンで前記ガラス基板をエッチング処理して前記凹部を形成することを特徴とする構成1に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
前記凹部形成用レジストパターンは、携帯機器の表示装置の画面上に表示されるボタン領域又はその輪郭と対応する形状の前記凹部を前記ガラス基板に形成するためのパターンであることを特徴とする構成1乃至4のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
(構成6)
前記板状ガラスを化学強化処理した後、前記外形分離用レジストパターンおよび前記凹部形成用レジストパターンでエッチング処理を行うことを特徴とする構成1乃至5のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
板状ガラスから製品サイズのカバーガラス用ガラス基板の外形をレジストをマスクとするブラスト加工により分離するとともに、文字又は図形を利用者に認識させるための凹部を前記ガラス基板の少なくとも一方の主表面にレジストをマスクとするブラスト加工により形成する携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、前記板状ガラスの厚さ方向で重なり合うように前記板状ガラスの一方及び他方の主表面に配置され前記ガラス基板の外形を分離するための外形分離用レジストパターンと、前記板状ガラスの少なくとも一方の主表面に配置され前記凹部を形成するための凹部形成用レジストパターンとを有するレジストが一方及び他方の主表面に形成された板状ガラスをブラスト加工することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法である。
(構成8)
前記外形分離用レジストパターンと凹部形成用レジストパターンとを同時に形成することを特徴とする構成1乃至7のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
(構成9)
前記凹部の深さは、携帯機器用カバーガラスの板厚の1/2以下であることを特徴とする構成1乃至8のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
(構成10)
前記カバーガラスにおける上記凹部の深さ(深さ方向の厚み)を除いた残りの板厚が、200μm以上であることを特徴とする構成1乃至9のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
図1は、本発明に関わる携帯機器の一例を示す全体斜視図である。
図1には、携帯機器の一例として、操作を主にタッチパネルにおいて行う携帯電話100の場合を示している。この携帯電話100は、筐体部101と表面側の表示画面102とを備えており、この表示画面102にはカバーガラスが組み込まれている。
より詳細には、表示画面を保護するようにカバーガラスが組み込まれており、携帯電話100の表面にカバーガラスが配置されている。
この図2A〜図2Dはいずれもカバーガラスの外形形状が矩形状の例を示しており、図2Aは単純矩形のカバーガラス1A、図2B、図2Cはそれぞれ各コーナーに丸み(アール)を付けた矩形状のカバーガラス1B、1C、図2Dは各コーナーに丸み(アール)を付けるとともに一部を切り欠いた矩形状のカバーガラス1Dの例を示している。カバーガラスの外形形状は、それが組み込まれる携帯機器の形状、構造等に由来するものであり、図2に示す例はほんの一例に過ぎない。本発明のカバーガラスにおいても、図2A〜図2Dに示す例に限定する趣旨ではないことは勿論である。また、例えば、レシーバーホール等のガラスの表面に孔が形成されているものも本発明にかかるカバーカラスに含まれる。
図3では、カバーガラス1の裏面側(図3における裏面側)の主表面に、表側から見たときに例えば「ABC」の文字として認識しうる凹部が形成されている。文字に限らず、例えば図4Aのような四角形や、図4Bのような三角形などの図形も挙げられる。
図5に示す実施形態のカバーガラスにおいては、携帯機器の表側から見たときに文字または図形として認識しうる、或いは携帯機器の表側から触れたときに認識しうる凹部2が、カバーガラス1の対向する表裏の主表面11,12の両方の表面にそれぞれ形成されている。なお、云うまでもないが、主に携帯機器の表側から触れたときに認識しうることを目的とした凹部は、カバーガラス1の対向する主表面11,12のいずれか一方の面、換言すると、携帯機器に搭載された際の表側の表面に形成される。
要するに、携帯機器の表側のカバーガラス表面に形成された凹部は視覚または触覚で認識することができ、カバーガラスの上記と反対側の表面に形成された凹部は視覚で認識することができる。
[第1の実施形態]
図7A〜図7Dは、本発明の携帯機器用カバーガラスの製造方法の第1の実施形態に係る工程を順に示す断面図である。
本発明に係る携帯機器用カバーガラスは、シート状に成形された大板サイズの板状ガラスを所定の大きさ(製品サイズ)に切断(小片化)して作製される。
そして、残ったレジストパターンをガラス基板から剥離し、ガラス基板を洗浄する(図7D参照)。
得られたカバーガラスの凹部2及び外周端面13は、図7Dに示すように、いずれもそのエッジ部が丸みを帯びた形状に形成される。上記のように板状ガラスの主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、ガラス主表面とレジストとの間の密着力が弱くなり、エッチング時にエッジ部が丸みを帯びたと考えられる。
上述の第1の実施形態では、エッチング処理時間は、板状ガラスの外形分離に要する処理時間によって規制されるため、同時にエッチングされる凹部2の掘り込み深さは、必然的に板状ガラスの板厚の大凡1/2に相当する深さになる。本実施の形態では、ガラス基板主表面に形成する上記凹部2の深さを制御することができる。
図8A〜図8Dは、本発明の携帯機器用カバーガラスの製造方法の第2の実施形態に係る工程を順に示す断面図である。
その後に、上記耐エッチャント膜5を除去して、凹部形成用レジストパターン3aで分離されたガラス基板をエッチング処理して凹部2を形成する(図8C参照)。
そして、残ったレジストパターンを剥離し、ガラス基板を洗浄する(図8D参照)。
本実施形態では、板状ガラスの外形分離のエッチング処理と凹部形成のエッチング処理とは別の工程で行うため、凹部形成のエッチング処理時間は、板状ガラスの外形分離に要する処理時間によって規制されない。そのため、エッチング処理時間を適宜変更することによってガラス基板主表面に形成する上記凹部2の深さを任意に制御することができる。なお、図8A〜図8Dには、凹部2の深さを、板状ガラスの板厚の大凡1/2に相当する深さよりも浅い深さに制御した場合を示している。
本実施の形態においても、ガラス基板主表面に形成する上記凹部2の深さを制御することができる。
図9A〜図9Cは、本発明の携帯機器用カバーガラスの製造方法の第3の実施形態に係る工程を順に示す断面図である。
そして、残ったレジストパターンを剥離し、ガラス基板を洗浄する(図9C参照)。
本実施形態では、第1の実施形態と同様、外形分離用レジストパターンと凹部形成用レジストパターンを同時に(一度に)作り込み、このレジストをマスクとする同じ工程のエッチング処理により板状ガラスの外形分離と凹部形成を同時に(一度に)行っているが、エッチング処理では、凹部形成箇所では、凹部形成用レジストパターン3aがエッチング処理により溶解除去された後、ガラスのエッチングが開始されるため、板状ガラスにおける前記凹部が形成される部分の溶解開始時が、板状ガラスにおける外形分離部分の溶解開始時よりも遅れる。そのため、前記板状ガラスにおける外形分離の工程終了時に前記凹部が所定の深さ(例えば板状ガラスの板厚の大凡1/2に相当する深さよりも浅い深さ)となるように制御することができる。
また、本発明によれば、特に表示画面の高い強度を要求されるタッチパネル式の携帯機器に好適にカバーガラスを提供することができる。
化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏300度以上500度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。化学強化処理とは、溶融させた化学強化塩とガラス基板とを接触させることにより、化学強化塩中の相対的に大きな原子半径のアルカリ金属元素と、ガラス基板中の相対的に小さな原子半径のアルカリ金属元素とをイオン交換し、ガラス基板の表層に該イオン半径の大きなアルカリ金属元素を浸透させ、ガラス基板の表面に圧縮応力を生じさせる処理のことである。化学強化塩としては、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどのアルカリ金属の硝酸塩を好ましく用いることができる。化学強化処理されたカバーガラスは強度が向上し耐衝撃性に優れているので、衝撃、押圧が加わり高い強度が必要な携帯機器に用いられるカバーガラスには好適である。特に本発明では、カバーガラスの主表面に上記凹部が形成されていても、化学強化処理により得られる高い強度を担保することができるので、化学強化処理は有効である。
なお、この凹部の深さは、Z軸(深さ方向)測定機(例えば日商精密光学(株)製の非接触Z軸測定機「ミクロン深さ高さ測定機:KY−90−HL−TV」、または(株)ニコン製の測定顕微鏡「MM−400」など)を用いて測定可能である。また、主表面平坦部および凹部の圧縮応力値や圧縮応力層の深さ(厚み)は、応力計(例えば、(有)折原製作所製の精密歪計「BSP−3」など)によるバビネ法により測定することが好ましい。ただし、ガラス組成及び化学強化塩の種類によってバビネ法により測定困難な場合には、例えば(有)折原製作所製の表面応力計「FSM-6000」などによるウェーブガイド法により、圧縮応力値や圧縮応力層の深さを測定することもできる。
(実施例)
以下の(1)板状ガラス切断加工および凹部形成工程、(2)化学強化工程、を経て本実施例のカバーガラスを製造した。
まず、ダウンドロー法やフロート法で製造されたアルミノシリゲートガラスからなる厚さ0.5mmの板状ガラスを切断して所定の大きさ(10cm×5cm)のカバーガラス用ガラス基板を作製した。つまり、板状ガラスから製品サイズのカバーガラス用ガラス基板の外形を分離した。また、このガラス基板に凹部の形成を行った。このアルミノシリケートガラスとしては、SiO2:62.5〜64.5重量%、Al2O3:13〜15重量%、Li2O:5〜7重量%、Na2O:9.5〜11.5重量%、ZrO2:5〜7重量%を含有する化学強化用ガラスを使用した。
その後、残ったレジストをガラス基板から剥離し、ガラス基板を洗浄した。
次に、上記の板状ガラスから分離し、凹部形成を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合した化学強化液を用意し、この化学強化溶液を360℃に加熱し、上記カバーガラスを約3時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたカバーガラスを硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
得られたカバーガラスの凹部及び外周端面は、いずれもそのエッジ部が丸みを帯びた形状に形成された。上記のように板状ガラスの主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、ガラス主表面とレジストとの間の密着力が弱くなり、エッチング時にエッジ部が丸みを帯びたと考えられる。なお、凹部及び外周端面の形状は、その箇所を切断し、断面形状を顕微鏡観察によって確認した。
測定の結果、上記実施例のカバーガラスは破損ゼロであった。
測定の結果、上記実施例のカバーガラスは高さ800mmでは破壊ゼロ、高さ900mmで1枚破壊した。
次に、凹部の深さを変化させたときの強度の変化を調べた。具体的には、実施の形態2と上記実施例に基づいて、0.5mmの板厚のガラス基板を用いて、このガラス基板に深さがそれぞれ異なる凹部を形成したカバーガラスを作成した。このとき、板厚から凹部の深さを引いたときの厚さが、100μm〜400μmの間を50μmごとに変えたカバーガラスを作成した。そして、前記落下試験を行った。その結果、板厚から凹部の深さを引いたときの厚さが、200μm以上のものは、200μ未満のものに比べて破壊発生の割合が著しく少なかった。
また、本実施例では、板状ガラスの外形分離と凹部の形成をレジストをマスクとするエッチング処理により行ったが、これに限らず、同様のレジストをマスクとするサンドブラストで機械加工により行ってもよい。
Claims (10)
- 板状ガラスから製品サイズのカバーガラス用ガラス基板の外形をレジストをマスクとするエッチング処理により分離するとともに、文字又は図形を利用者に認識させるための凹部を前記ガラス基板の少なくとも一方の主表面にレジストをマスクとするエッチング処理により形成する携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記板状ガラスの厚さ方向で重なり合うように前記板状ガラスの一方及び他方の主表面に配置され前記ガラス基板の外形を分離するための外形分離用レジストパターンと、前記板状ガラスの少なくとも一方の主表面に配置され前記凹部を形成するための凹部形成用レジストパターンとを有するレジストが一方及び他方の主表面に形成された前記板状ガラスをエッチング処理することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。 - 同じ工程のエッチング処理で前記板状ガラスの外形分離と前記凹部の形成とを行うことを特徴とする請求項1に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 前記板状ガラスに形成された前記レジストは、エッチング処理の時間経過に応じて膜厚が薄くなるようにエッチャントに溶解し、
前記凹部形成用レジストパターンは、該レジストパターンの形成されていない部分の前記レジストの膜厚よりも薄いレジストによって形成され、
エッチング処理では、前記板状ガラスにおける前記凹部が形成される部分の溶解開始時が、前記板状ガラスにおける外形分離部分の溶解開始時よりも遅れることを特徴とする請求項2に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。 - 前記凹部形成用レジストパターンを耐エッチャント膜で覆い、前記外形分離用レジストパターンで前記板状ガラスをエッチング処理して前記ガラス基板を前記板状ガラスから分離し、その後に、前記耐エッチャント膜を除去して、前記凹部形成用レジストパターンで前記ガラス基板をエッチング処理して前記凹部を形成することを特徴とする請求項1に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 前記凹部形成用レジストパターンは、携帯機器の表示装置の画面上に表示されるボタン領域又はその輪郭と対応する形状の前記凹部を前記ガラス基板に形成するためのパターンであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 前記板状ガラスを化学強化処理した後、前記外形分離用レジストパターンおよび前記凹部形成用レジストパターンでエッチング処理を行うことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 板状ガラスから製品サイズのカバーガラス用ガラス基板の外形をレジストをマスクとするブラスト加工により分離するとともに、文字又は図形を利用者に認識させるための凹部を前記ガラス基板の少なくとも一方の主表面にレジストをマスクとするブラスト加工により形成する携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記板状ガラスの厚さ方向で重なり合うように前記板状ガラスの一方及び他方の主表面に配置され前記ガラス基板の外形を分離するための外形分離用レジストパターンと、前記板状ガラスの少なくとも一方の主表面に配置され前記凹部を形成するための凹部形成用レジストパターンとを有するレジストが一方及び他方の主表面に形成された板状ガラスをブラスト加工することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。 - 前記外形分離用レジストパターンと凹部形成用レジストパターンとを同時に形成することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 前記凹部の深さは、携帯機器用カバーガラスの板厚の1/2以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
- 前記カバーガラスにおける上記凹部の深さ(深さ方向の厚み)を除いた残りの板厚が、200μm以上であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
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Citations (6)
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---|---|---|---|---|
JPS5468822A (en) * | 1977-11-12 | 1979-06-02 | Hideo Shimamoto | Ink for etching mask and application thereof |
JPS63315539A (ja) * | 1987-06-16 | 1988-12-23 | サンコ−マ−ク工業株式会社 | ガラス表面への文字、図形処理方法 |
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WO2009078406A1 (ja) * | 2007-12-18 | 2009-06-25 | Hoya Corporation | 携帯端末用カバーガラス及びその製造方法、並びに携帯端末装置 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5468822A (en) * | 1977-11-12 | 1979-06-02 | Hideo Shimamoto | Ink for etching mask and application thereof |
JPS63315539A (ja) * | 1987-06-16 | 1988-12-23 | サンコ−マ−ク工業株式会社 | ガラス表面への文字、図形処理方法 |
JP2005281093A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Biarubero Kk | 段差を有する透明板ガラス及びその製造方法 |
JP2006027023A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Seiko Epson Corp | 装飾品、時計、電子機器および装飾品の製造方法 |
WO2009078406A1 (ja) * | 2007-12-18 | 2009-06-25 | Hoya Corporation | 携帯端末用カバーガラス及びその製造方法、並びに携帯端末装置 |
JP2009167086A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-30 | Hoya Corp | 携帯端末用カバーガラス及びその製造方法、並びに携帯端末装置 |
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