JPWO2011152037A1 - 形状測定方法及び装置 - Google Patents
形状測定方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2011152037A1 JPWO2011152037A1 JP2011545575A JP2011545575A JPWO2011152037A1 JP WO2011152037 A1 JPWO2011152037 A1 JP WO2011152037A1 JP 2011545575 A JP2011545575 A JP 2011545575A JP 2011545575 A JP2011545575 A JP 2011545575A JP WO2011152037 A1 JPWO2011152037 A1 JP WO2011152037A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- lens
- wavefront
- incident
- shape measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 57
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 75
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 96
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N [Ga].[As].[In] Chemical compound [Ga].[As].[In] KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000000214 mouth Anatomy 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02058—Passive reduction of errors by particular optical compensation or alignment elements, e.g. dispersion compensation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
被測定物(105)に入射する光と参照ミラー(107)への光の光軸上において、それぞれに色消し条件とビーム径条件と色差減条件とをコリメータレンズの焦点距離及び/又はアッベ数を用いて最適化した組レンズ(202、203、204)を配し、この組レンズ(202、203、204)を用いて波面を補正することにより、波面収差の影響を軽減し、光干渉による形状測定において解像度を上げる。
Description
本発明は、解像度の高い光干渉による形状測定方法及び形状測定装置に関するものである。
光干渉による形状測定装置として、図6に示すものがある(例えば、特許文献1参照。)。光源601からレンズ602を介して照射された光は、分割手段603により、参照光606と信号光604とに分割される。参照光606は、可動参照ミラー607により反射される。信号光604は、被測定物605に入射する。可動参照ミラー607は、図6で示したように、1次元方向(図6の上下方向)に機械的に動く。可動参照ミラー607が動くことにより、信号光604の光軸方向における被測定物605内の測定位置を規定できる。
信号光604は、光走査光学系600を経て、被測定物605に入射し、被測定物605で反射される。光走査光学系600の具体例としては、対物レンズがある。光走査光学系600は、被測定物605に入射する信号光604を所定方向に走査する。可動参照ミラー607と被測定物605とからのそれぞれの反射光は、互いに干渉し合い干渉光を形成する。その干渉光をレンズ608を介して検出手段609によって検出することで、被測定物605に関する情報を測定する。
可動参照ミラー607による被測定物605への入射光の軸方向の走査により、分光器621とA/D変換器622とを介して、干渉光の強度データが、逐次取得される。そして、この干渉光の強度データを基にして、PC(パーソナルコンピュータ)で構成されるデータ演算処理装置623で、3次元画像を構築する。
被測定物605に入射する信号光604を、被測定物605の面内の一方向に走査することで、1次元データを連続的に取得できる。
このようにして、連続的に取得できる画像を用いて、2次元の画像をデータ演算処理装置623で取得できる。また、信号光604を2方向に走査することで、3次元画像をデータ演算処理装置623で得ることができる。
図6において、被測定物605の位置を1次元的に機械的に動かす代わりに、一定の波長の幅を用いる光源を用いることができる。
図7は、従来の形状測定装置による波面収差を示す図である。光源の波長λ=1200,1300,1400nmにおいて、測定深さ±3mmの結像特性を示す。従来の形状測定装置では、測定深さ中心における実際の収差特性が直径50μmであったとしても、測定深さ中心から+3mm又は−3mmの深さの変化においては、波面収差の悪化により、直径100μm近くまで特性が悪化していた。
しかしながら、図6に示すような従来の形状測定装置を使用して光干渉による形状測定を行った場合、解像度を上げると、波面がずれるといった問題があった。
本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、光干渉による形状測定において、波面がずれることなく、解像度を上げることができる形状測定方法及び形状測定装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
本発明の形状測定方法は、光源からの光を参照光と信号光とに分割し、被測定物に前記信号光を入射する光軸上に配置された第1波面補正光学系によって前記信号光の波面を補正した後、前記被測定物に前記信号光を入射し、参照ミラーに前記参照光を入射する光軸上に配置された第2波面補正光学系によって前記参照光の波面を補正した後、前記参照ミラーに前記参照光を入射し、前記参照光が前記参照ミラーに入射して反射した光と、前記信号光が前記被測定物に入射して反射した光との干渉光を検出して前記被測定物の形状を測定することを特徴とする。
本発明の形状測定装置は、光源と、前記光源からの光を参照光と信号光とに分割するビームスプリッターと、前記参照光が参照ミラーに入射して反射した光と前記信号光が被測定物に入射して反射した光との干渉光を検出して前記被測定物の形状を測定する処理装置と、前記被測定物に前記信号光を入射する光軸上に配置され、その光軸上の波面を補正する第1波面補正光学系と、前記参照ミラーに前記参照光を入射する光軸上に配置され、その光軸上の波面を補正する第2波面補正光学系と、を備えることを特徴とする。
本発明では、光干渉による形状測定において、被測定物用波面補正光学系と参照ミラー用波面補正光学系とにより、波面の収差の影響を軽減し、波面がずれることなく、解像度を上げることができる。
本発明のこれらと他の目的と特徴は、添付された図面についての実施形態に関連した次の記述から明らかになる。この図面においては、
図1は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置の構成を示す図であり、
図2は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置の構成の一部の拡大図であり、
図3は、本発明の第2実施形態にかかる形状測定装置の構成の一部の拡大図であり、
図4は、本発明の第3実施形態にかかる形状測定装置の構成の一部の拡大図であり、
図5は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置における波面収差を示す図であり、
図6は、従来の形状測定装置の構成を示す図であり、
図7は、従来の形状測定装置における波面収差を示す図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定方法を実施可能な形状測定装置の構成を示す図である。
図1は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定方法を実施可能な形状測定装置の構成を示す図である。
この形状測定装置は、光源101と、レンズ102と、ビームスプリッター103と、参照光収差補正レンズ111とレンズ(光学系)90と、可動参照ミラー107と、入射光収差補正レンズ110と、対物レンズ91と、集光レンズ108と、検出手段109と、分光器121と、A/D変換器122と、データ演算処理装置123で構成される。ビームスプリッター103は、分割手段又は分割部材の一例である。データ演算処理装置123は、例えば、処理装置の一例として機能するPC(パーソナルコンピュータ)で構成される。光源101としては、たとえば、波長λ=1200,1300,1400nmの幅を有するレーザ光源を用いる。
光源101から出射した光は、レンズ102を介してビームスプリッター103に照射される。ビームスプリッター103に照射された光は、ビームスプリッター103により、参照光106と信号光104とに分割される。参照光106は、参照光収差補正レンズ111を通った後、レンズ90により集光されて可動参照ミラー107に到達する。可動参照ミラー107に到達した参照光106は、可動参照ミラー107によりビームスプリッター103に向けて反射される。よって、可動参照ミラー107での反射光は、レンズ90と参照光収差補正レンズ111とを介して、ビームスプリッター103に戻る。
可動参照ミラー107は、可動参照ミラー駆動装置107Dにより、1次元方向に機械的に動かされる。可動参照ミラー107を動かすことにより、被測定物105に入射する信号光104の光軸方向における被測定物105内の測定位置を規定する。被測定物105の一例としては、レンズなどの光学部材や、内視鏡などによって観察される人体内部や口腔内などが挙げられる。参照光106は、ビームスプリッター103と可動参照ミラー107とで反射した後、ビームスプリッター103を介して検出手段109で検出される。可動参照ミラー駆動装置107Dは、例えば、正逆回転駆動されるモータと、モータの回転軸に固定されたネジ軸と、ネジ軸に螺合しかつ可動参照ミラー107に連結されたナット部と、可動参照ミラー107を光軸方向に直線的に進退移動するように案内するガイド部材とで大略構成することができる。
信号光104は、入射光収差補正レンズ110を通った後、対物レンズ91により集光されて被測定物105に入射し、被測定物105で反射される。被測定物105で反射した信号光104は、入射光収差補正レンズ110と対物レンズ91とを通過してビームスプリッター103で反射し、検出手段109で検出される。対物レンズ91は、被測定物105に入射する信号光104を所定方向に走査するものである。
可動参照ミラー107と被測定物105からのそれぞれの反射光はビームスプリッター103で互いに干渉し合い、その干渉光を集光レンズ108を介して検出手段109に集光する。集光された干渉光を検出手段109によって検出し、被測定物105に関する情報を測定する。検出手段109としては、波長λ=1200,1300,1400nmに感度を有するインジウムガリウムヒ素を用いたホトディテクタを用いた。
可動参照ミラー107による被測定物105への入射光の軸方向の走査により、分光器121で分光されて干渉光を取得する。そして、取得された干渉光の情報をA/D変換器122でA/D変換処理して、干渉光の強度データを逐次取得する。逐次取得された干渉光の強度データに基づいて、データ演算処理装置123で3次元画像を構築する。
被測定物105に入射する信号光104を被測定物105の面内の一方向に走査することで、1次元データを連続的に取得できる。一方向に走査するために、例えば、被測定物105を支持する支持部材(図示せず)を支持部材駆動装置105Dで被測定物105の光軸方向に移動させる。支持部材駆動装置105Dは、可動参照ミラー駆動装置107Dと同様な構造とする。
このようにして、連続的に取得できる画像を用いてデータ演算処理装置123で演算処理することにより、2次元の画像を取得できる。また、信号光104を2方向に走査して取得できる画像を用いてデータ演算処理装置123で演算処理することで、3次元画像を得ることができる。
図1において、支持部材駆動装置105Dを用いて被測定物105の位置を1次元に機械的に動かす代わりに、一定の波長の幅を用いる光源を用いることもできる。
図2は、図1の入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とのそれぞれの詳細である。入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とは同一構造であるため、図2および後述する図3、図4では、これらをまとめて説明している。入射光収差補正レンズ110は、第1波面補正光学系である被測定物用波面補正光学系の一例として機能する。参照光収差補正レンズ111は、第2波面補正光学系である参照ミラー用波面補正光学系の一例として機能する。波面を補正するレンズ(収差補正レンズ)は、図2に示すように、1枚のコリメータレンズ201と、複数枚の組レンズの一例としての3枚の組レンズ202、203、204と、結像レンズ205とで構成されている。波面を補正するレンズ(収差補正レンズ)は、それぞれ、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを構成する。3枚の組レンズ202、203、204は、凹レンズ202と、光源101からの光の入射側から出射側に向けて、凸レンズ203と、凹レンズ204とを、順に並べた組合せである。
図1を用いて、第1実施形態のより具体的な例としての実施例1を以下に説明する。
コリメータレンズ201のアッベ数は、Vdc=50.3である。3枚の組レンズ202、203、204のアッベ数は、順に、Vd1=35.3、Vd2=45.7、Vd3=35.3である。
コリメータレンズ201の屈折率は、nc=1.605である。3枚の組レンズ202、203、204の屈折率は、順に、n1=1.750、n2=1.744、n3=1.750である。
コリメータレンズ201の焦点距離は、fc=15.52である。3枚の組レンズ202、203、204の焦点距離は、順に、f1=−8.08、f2=4.35、f3=−8.08である。
この実施例1の構成での色消し条件X1は、次式の(式1)で表すことができる。ここでの色消し条件X1は、複数の凸レンズと凹レンズにより複数波長の焦点距離の収差を小さくするための条件である。
(数1)
X1=1/fc*Vdc+1/f1*Vd1+1/f2*Vd2+1/f3*Vd3
・・・(式1)
色消し条件X1の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。すなわち、
(X1=0) ・・・(式1A)
であるほど、波面収差は小さくなる。実施例1での、色消し条件X1の値は、−0.0006になる。色消し条件X1の値は、複数波長の焦点距離の収差を小さくするため、ゼロに近い値が望ましい。具体的には、色消し条件X1の値は、−0.05以上かつ+0.05以下であることが望ましい。
X1=1/fc*Vdc+1/f1*Vd1+1/f2*Vd2+1/f3*Vd3
・・・(式1)
色消し条件X1の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。すなわち、
(X1=0) ・・・(式1A)
であるほど、波面収差は小さくなる。実施例1での、色消し条件X1の値は、−0.0006になる。色消し条件X1の値は、複数波長の焦点距離の収差を小さくするため、ゼロに近い値が望ましい。具体的には、色消し条件X1の値は、−0.05以上かつ+0.05以下であることが望ましい。
この実施例1の構成でのビーム径条件X2は、次式の(式2)で表すことができる。ここでのビーム径条件X2とは、複数の凸レンズと凹レンズにより波面収差を小さくするための条件である。
(数2)
X2=1/f1+1/f2+1/f3 ・・・(式2)
ビーム径条件X2の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。すなわち、
(X2=0) ・・・(式2A)
であるほど、波面収差は小さくなる。実施例1での、ビーム径条件X2の値は、−0.018になる。ビーム径条件X2の値は、波面収差を小さくするため、ゼロに近い値が望ましい。具体的には、ビーム径条件X2の値は、−0.05以上かつ+0.05以下であることが望ましい。
X2=1/f1+1/f2+1/f3 ・・・(式2)
ビーム径条件X2の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。すなわち、
(X2=0) ・・・(式2A)
であるほど、波面収差は小さくなる。実施例1での、ビーム径条件X2の値は、−0.018になる。ビーム径条件X2の値は、波面収差を小さくするため、ゼロに近い値が望ましい。具体的には、ビーム径条件X2の値は、−0.05以上かつ+0.05以下であることが望ましい。
この実施例1の構成での色差減条件X3は、次式の(式3)で表すことができる。ここでの色差減条件X3とは、複数の凸レンズと凹レンズにより複数波長の高次の色収差を小さくするための条件である。
(数3)
X3=|fc/f2| ・・・(式3)
色差減条件X3は、波面を補正するレンズ(入射光収差補正レンズ110又は参照光収差補正レンズ111)の曲率が大きくならないように、0以上かつ5以下であることが望ましい。実施例1での色差減条件X3は、3.56である。ここで、色差減条件X3が5以下が望ましいのは、色差減条件X3が5を超えると、波面収差が大きくなり、解像度を上げることができなくなるためである。
X3=|fc/f2| ・・・(式3)
色差減条件X3は、波面を補正するレンズ(入射光収差補正レンズ110又は参照光収差補正レンズ111)の曲率が大きくならないように、0以上かつ5以下であることが望ましい。実施例1での色差減条件X3は、3.56である。ここで、色差減条件X3が5以下が望ましいのは、色差減条件X3が5を超えると、波面収差が大きくなり、解像度を上げることができなくなるためである。
(X3≦5) ・・・(式3A)
図5は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置での波面収差を示す図である。図5は、光源101の波長λ=1200,1300,1400nmの範囲において、測定深さ±3mmの結像特性を示す。本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置では、測定深さ中心においては直径5μmの収差特性であり、かつ、測定深さ中心から+3mm又は−3mmの深さの変化における波面収差も直径50μmである。よって、図5に示す本発明の第1実施形態での形状測定での波面収差は、図7に示す従来の形状測定での波面収差に比べて、2倍も良好な特性を得ることができる。すなわち、図7に示す従来の形状測定では、測定深さ中心から+3mm又は−3mmの深さにおいては直径100μm近くまで収差特性が悪化していたが、本発明の第1実施形態では直径50μmまでの波面収差に留まり、2倍も良好な特性を得ることができる。なお、後述する第2実施形態,第3実施形態でも、図5のような結果となる。
図5は、本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置での波面収差を示す図である。図5は、光源101の波長λ=1200,1300,1400nmの範囲において、測定深さ±3mmの結像特性を示す。本発明の第1実施形態にかかる形状測定装置では、測定深さ中心においては直径5μmの収差特性であり、かつ、測定深さ中心から+3mm又は−3mmの深さの変化における波面収差も直径50μmである。よって、図5に示す本発明の第1実施形態での形状測定での波面収差は、図7に示す従来の形状測定での波面収差に比べて、2倍も良好な特性を得ることができる。すなわち、図7に示す従来の形状測定では、測定深さ中心から+3mm又は−3mmの深さにおいては直径100μm近くまで収差特性が悪化していたが、本発明の第1実施形態では直径50μmまでの波面収差に留まり、2倍も良好な特性を得ることができる。なお、後述する第2実施形態,第3実施形態でも、図5のような結果となる。
本第1実施形態では、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを使用することで、波面収差の影響の無い形状測定を実現することができる。ここで、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とは、1枚のコリメータレンズ201と、3枚の組レンズ202、203、204と、結像レンズ205とでそれぞれ構成されている。
言い換えれば、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とのそれぞれにおいて、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化した3枚の組レンズ202、203、204を備えて、この3枚の組レンズ202、203、204により構成された収差補正光学系(入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111と)により、波面収差の影響を軽減し、波面を補正することができて、波面がずれることなく解像度を上げることができる。
より具体的には、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化するために、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とが、(式1A)と、(式2A)と、(式3A)とのいずれかを満たす光学系であれば、波面収差の影響を軽減することができる。さらに、これら(式1A),(式2A),(式3A)を複数満たすことで、波面収差の影響をより確実に軽減した形状測定を実現することができる。
なお、形状測定装置を自動的に動作させる場合には、図1に示す制御装置100を備えれば良い。この制御装置100は、光源101とデータ演算処理装置123と可動参照ミラー駆動装置107Dと支持部材駆動装置105Dと検出手段109とを動作制御する。
(第2実施形態)
図3は、本発明の第2実施形態にかかる形状測定装置における入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111との構成を示す図である。本発明の第2実施形態にかかる形状測定装置は、図1において、それぞれ、前述の第1実施形態の図2に示す凸レンズ(1枚のコリメータレンズ201)と凹レンズ202と凸レンズ203と凹レンズ204とを組合せた組レンズの構成に代えて、図3に示す凸レンズと凸レンズと凹レンズと凸レンズとを組合せた組レンズの構成にした形状測定装置である。
図3は、本発明の第2実施形態にかかる形状測定装置における入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111との構成を示す図である。本発明の第2実施形態にかかる形状測定装置は、図1において、それぞれ、前述の第1実施形態の図2に示す凸レンズ(1枚のコリメータレンズ201)と凹レンズ202と凸レンズ203と凹レンズ204とを組合せた組レンズの構成に代えて、図3に示す凸レンズと凸レンズと凹レンズと凸レンズとを組合せた組レンズの構成にした形状測定装置である。
図3は、凸レンズであるコリメートレンズ301と、複数枚の組レンズの一例としての3枚のレンズ302、303、304とで構成されている。3枚の組レンズ302、303、304は、光源101からの光の入射側から出射側に向けて、凸レンズ302と、凹レンズ303と、凸レンズ304とを、順に並べた組合せである。
図3において、第2実施形態のより具体的な例としての実施例2を以下に説明する。
コリメータレンズ301のアッベ数は、Vdc=50.3である。3枚の組レンズ302、303、304のアッベ数は、順に、Vd1=35.3、Vd2=45.7、Vd3=35.3である。
コリメータレンズ301の屈折率は、nc=1.605である。3枚の組レンズ302、303、304の屈折率は、順に、n1=1.750、n2=1.744、n3=1.750である。
コリメータレンズ301の焦点距離は、fc=15.52である。3枚の組レンズ302、303、304の焦点距離は、順に、f1=8.08、f2=−3.97、f3=8.08である。
この実施例2の構成での色消し条件X1は、前述の(式1)で表すことができる。色消し条件X1の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。実施例2での、色消し条件X1の値は、−0.0031になる。
この実施例2の構成でのビーム径条件X2は、前述の(式2)で表すことができる。ビーム径条件X2の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。実施例2での、ビーム径条件X2の値は、−0.0045になる。
この実施例2の構成での色差減条件X3は、前述の(式3)で表すことができる。色差減条件X3は、波面を補正するレンズ(入射光収差補正レンズ110又は参照光収差補正レンズ111)の曲率が大きくならないように、5以下であることが望ましい。実施例2での色差減条件X3は、3.91である。
本第2実施形態によれば、前述した1枚のコリメータレンズ301と、3枚の組レンズ302、303、304と、結像レンズ305とでそれぞれ構成されている入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを使用している。本第2実施形態の構成を使用することで、波面収差の影響を軽減した形状測定を実現することができる。言い換えれば、本第二実施形態では、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とのそれぞれにおいて、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化した3枚の組レンズ302、303、304を使用している。この3枚の組レンズ302、303、304により構成された収差補正光学系(入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111と)により、波面収差の影響を軽減し、波面を補正することができて、波面がずれることなく解像度を上げることができる。
より具体的には、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化するために、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とが、(式1A)と、(式2A)と、(式3A)とのいずれかを満たす光学系であれば、波面収差の影響を軽減することができる。さらに、これら(式1A),(式2A),(式3A)を複数満たすことで、波面収差の影響をより確実に軽減することができる。
(第3実施形態)
図4は、本発明の第3実施形態にかかる形状測定装置における入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを示す図である。本発明の第3実施形態にかかる形状測定装置は、前述の第2実施形態の図3に示す凸レンズ301と凸レンズ302と凹レンズ303と凸レンズ304とを組合せた組レンズの構成に代えて、図4に示す凸レンズと凹レンズと凸レンズとを組合せた組レンズの構成にした形状測定装置である。
図4は、本発明の第3実施形態にかかる形状測定装置における入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを示す図である。本発明の第3実施形態にかかる形状測定装置は、前述の第2実施形態の図3に示す凸レンズ301と凸レンズ302と凹レンズ303と凸レンズ304とを組合せた組レンズの構成に代えて、図4に示す凸レンズと凹レンズと凸レンズとを組合せた組レンズの構成にした形状測定装置である。
図4は、凸レンズであるコリメートレンズ401と、複数枚の組レンズの一例としての2枚のレンズ402、403とで構成されている。2枚の組レンズは、光源101からの光の入射側から出射側に向けて、凹レンズ402と凸レンズ403とを、順に並べた組合せである。
図4において、第3実施形態のより具体的な例としての実施例3を以下に説明する。
コリメータレンズ401のアッベ数は、Vdc=50.3である。2枚の組レンズ402、403のアッベ数は、順に、Vd1=18.9、Vd2=32.3である。
コリメータレンズ401の屈折率は、nc=1.605である。2枚の組レンズ402、403の屈折率は、順に、n1=1.923、n2=1.850である。コリメータレンズ401の焦点距離は、fc=15.52である。2枚の組レンズ402、403の焦点距離は、順に、f1=−8.77、f2=9.56である。
この実施例3の構成での色消し条件X1は、前述の(式1)で表すことができる。色消し条件X1の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。実施例3での、色消し条件X1の値は、−0.0015になる。
この実施例3の構成でのビーム径条件X2は、前述の(式2)で表すことができる。ビーム径条件X2の値は、ゼロに近いほど、波面収差は小さくなる。実施例3での、ビーム径条件X2の値は、−0.0094になる。
この実施例3の構成での色差減条件X3は、前述の(式3)で表すことができる。色差減条件X3は、波面を補正するレンズ(入射光収差補正レンズ110又は参照光収差補正レンズ111)の曲率が大きくならないように、5以下であることが望ましい。実施例3での色差減条件X3は、1.77である。
本第3実施形態では、前述した1枚のコリメータレンズ401と、2枚の組レンズ402、403と、結像レンズ405とでそれぞれ構成されている入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とを使用している。本第3実施形態の構成を使用することで、波面収差の影響を軽減した形状測定を実現することができる。言い換えれば、本第3実施形態では、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とのそれぞれにおいて、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化した2枚の組レンズ402、403を使用している。この2枚の組レンズ402、403により構成された収差補正光学系(入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111と)により、波面収差の影響を軽減し、波面を補正することができて、波面がずれることなく解像度を上げることができる。
より具体的には、色消し条件とビーム径条件と色差減条件とを最適化するために、入射光収差補正レンズ110と参照光収差補正レンズ111とが、(式1A)と、(式2A)と、(式3A)とのいずれかを満たす光学系であれば、波面収差の影響を軽減することができる。さらに、これら(式1A),(式2A),(式3A)を複数満たすことで、波面収差の影響をより確実に軽減することができる。
また、本第3実施形態では、前述の第1実施形態の形状測定装置、及び、第2実施形態の形状測定装置より少ないレンズ枚数で組レンズ402、403を構成している。よって、本第3実施形態の形状測定装置は、実施時の材料費用がより安価になり、かつ、その構成をより簡素なものとすることができる。
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形又は修正は明白である。そのような変形又は修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
本発明にかかる形状測定方法及び装置は、波面がずれることなく、解像度を上げることができ、かつ、解像度の高い光干渉による形状測定方法及び形状測定装置であり、産業上の工程品質管理、又は、各種の計測、又は、検査装置に利用することができる。また、本発明は、内視鏡などの生体の観察にも利用することができる。
Claims (10)
- 光源からの光を参照光と信号光とに分割し、
被測定物に前記信号光を入射する光軸上に配置された第1波面補正光学系によって前記信号光の波面を補正した後、前記被測定物に前記信号光を入射し、
参照ミラーに前記参照光を入射する光軸上に配置された第2波面補正光学系によって前記参照光の波面を補正した後、前記参照ミラーに前記参照光を入射し、
前記参照光が前記参照ミラーに入射して反射した光と、前記信号光が前記被測定物に入射して反射した光との干渉光を検出して前記被測定物の形状を測定する、
形状測定方法。 - 前記第1波面補正光学系又は前記第2波面補正光学系は、1枚のコリメータレンズと、複数枚の組レンズと、結像レンズとで構成されており、
前記被測定物に前記信号光を入射するとき、前記被測定物に前記信号光を入射する光軸上に配置された前記第1波面補正光学系の前記複数枚の組レンズにより波面を補正すると共に、
前記参照ミラーに前記参照光を入射するとき、前記参照ミラーに前記参照光を入射する光軸上に配置された前記第2波面補正光学系の前記複数枚の組レンズにより波面を補正する、
請求項1に記載の形状測定方法。 - 光源と、
前記光源からの光を参照光と信号光とに分割するビームスプリッターと、
前記参照光が参照ミラーに入射して反射した光と前記信号光が被測定物に入射して反射した光との干渉光を検出して前記被測定物の形状を測定する処理装置と、
前記被測定物に前記信号光を入射する光軸上に配置され、その光軸上の波面を補正する第1波面補正光学系と、
前記参照ミラーに前記参照光を入射する光軸上に配置され、その光軸上の波面を補正する第2波面補正光学系と、を備える、
形状測定装置。 - 前記第1波面補正光学系又は前記第2波面補正光学系は、1枚のコリメータレンズと、複数枚の組レンズと、結像レンズとで構成されている、
請求項3に記載の形状測定装置。 - 前記複数枚の組レンズは、凹レンズと、凸レンズと、凹レンズとを順に並べた組合せである、
請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記複数枚の組レンズは、凸レンズと、凹レンズ、凸レンズと、を順に並べた組合せである、
請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記複数枚の組レンズは、凹レンズと、凸レンズとの組合せである、
請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記1枚のコリメータレンズのアッベ数をVdcとし、前記3枚の組レンズのアッベ数をVd1、Vd2、Vd3とし、前記1枚のコリメータレンズの焦点距離をfcとし、前記3枚の組レンズの焦点距離をf1、f2、f3とするとき、
色消し条件である(式1)の値X1が、−0.05以上かつ+0.05以下である、
(数1)
X1=1/fc*Vdc+1/f1*Vd1+1/f2*Vd2+1/f3*Vd3
・・・(式1)
請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記1枚のコリメータレンズの焦点距離をfcとし、前記3枚の組レンズの焦点距離をf1、f2、f3とするとき、
ビーム径条件である(式2)の値X2が、−0.05以上かつ+0.05以下である、
(数2)
X2=1/f1+1/f2+1/f3 ・・・(式2)
請求項4又は8に記載の形状測定装置。 - 前記1枚のコリメータレンズの焦点距離をfcとし、前記3枚の組レンズの焦点距離をf1、f2、f3とするとき、
色差減条件である(式3)の値X3が、0以上かつ5以下である、
(数3)
X3=|fc/f2| ・・・(式3)
請求項4又は8に記載の形状測定装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010128052 | 2010-06-03 | ||
JP2010128052 | 2010-06-03 | ||
PCT/JP2011/003044 WO2011152037A1 (ja) | 2010-06-03 | 2011-05-31 | 形状測定方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011152037A1 true JPWO2011152037A1 (ja) | 2013-07-25 |
Family
ID=45066428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011545575A Pending JPWO2011152037A1 (ja) | 2010-06-03 | 2011-05-31 | 形状測定方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120243000A1 (ja) |
JP (1) | JPWO2011152037A1 (ja) |
KR (1) | KR20130083820A (ja) |
CN (1) | CN102713508A (ja) |
WO (1) | WO2011152037A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104949631B (zh) * | 2014-03-27 | 2017-12-15 | 纽富来科技股份有限公司 | 曲率测定装置以及曲率测定方法 |
CN104034669B (zh) * | 2014-06-12 | 2016-05-18 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种光学微腔的光子等频图和能带结构一次成像装置 |
KR20160025425A (ko) | 2014-08-27 | 2016-03-08 | 삼성전기주식회사 | 패키지 모듈 측정장치 및 측정방법 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61167919A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Canon Inc | 変倍フアインダ− |
JPS634202A (ja) * | 1986-06-24 | 1988-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合レンズ |
JPH04105007A (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-07 | Toshiba Corp | 形状測定装置 |
JP2998289B2 (ja) * | 1991-03-27 | 2000-01-11 | 日本電気株式会社 | バーコード読み取り装置 |
US5745300A (en) * | 1993-02-17 | 1998-04-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Zoom lens of the inner focus type |
JP3351857B2 (ja) | 1993-06-01 | 2002-12-03 | 株式会社ミツトヨ | マイケルソン形干渉測定装置 |
JP2003177312A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-06-27 | Ricoh Co Ltd | 光ピックアップ用対物レンズおよび光ピックアップおよび光情報処理装置 |
JP3826819B2 (ja) * | 2002-03-14 | 2006-09-27 | 日本ビクター株式会社 | 光ピックアップ装置 |
KR101054786B1 (ko) * | 2005-05-19 | 2011-08-05 | 지고 코포레이션 | 박막 구조체에 관한 정보를 위해 저 코히어런스 간섭 측정 신호를 분석하기 위한 방법 및 시스템 |
-
2011
- 2011-05-31 JP JP2011545575A patent/JPWO2011152037A1/ja active Pending
- 2011-05-31 WO PCT/JP2011/003044 patent/WO2011152037A1/ja active Application Filing
- 2011-05-31 CN CN2011800033599A patent/CN102713508A/zh active Pending
- 2011-05-31 US US13/512,974 patent/US20120243000A1/en not_active Abandoned
- 2011-05-31 KR KR1020127003165A patent/KR20130083820A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130083820A (ko) | 2013-07-23 |
US20120243000A1 (en) | 2012-09-27 |
CN102713508A (zh) | 2012-10-03 |
WO2011152037A1 (ja) | 2011-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10302569B2 (en) | Microscope device and image acquisition method | |
US7477401B2 (en) | Trench measurement system employing a chromatic confocal height sensor and a microscope | |
US8585587B2 (en) | Determining phase variation of light in an endoscope | |
US20200217642A1 (en) | Apparatus and methods for mirror tunnel imaging device and for providing pseudobessel beams in a miniaturized optical system for imaging | |
WO2009101829A1 (ja) | 観察装置 | |
US9436158B2 (en) | Volume holographic imaging system (VHIS) endoscope | |
US10182721B2 (en) | Fundus imaging apparatus | |
US20140347660A1 (en) | Metrological apparatus | |
JP6651032B2 (ja) | ファイバ−光学システムの作動方法及びファイバ−光学システム | |
US20170205627A1 (en) | Image-forming optical system, illumination apparatus, and observation apparatus | |
US20190353585A1 (en) | Apparatus for implementing confocal image using chromatic aberration lens | |
KR101233941B1 (ko) | 형상 측정 장치 및 방법 | |
Ruprecht et al. | Confocal micro-optical distance sensor: principle and design | |
US10222198B2 (en) | Optical coherence tomographic apparatus, and optical coherence tomographic system | |
JPWO2011152037A1 (ja) | 形状測定方法及び装置 | |
JP2006301541A (ja) | 走査型蛍光観察装置 | |
US20210396981A1 (en) | Method and apparatus for confocal microscopes | |
JP2010025864A (ja) | 干渉測定装置 | |
EP3853651B1 (en) | Confocal laser scanning microscope configured for generating line foci | |
WO2017057652A1 (en) | Optical coherence tomographic apparatus, and optical coherence tomographic system | |
EP3139126A1 (en) | Optical system of confocal sensor with visual inspection | |
JP5233643B2 (ja) | 形状測定装置 | |
Kamal et al. | Design of spectrometer for high-speed line field optical coherence tomography | |
KR20170137515A (ko) | 색수차 보상 장치 및 이를 포함한 현미경 시스템 | |
JP5596511B2 (ja) | フィゾーレンズ |