JPWO2011093294A1 - セファロスポリン誘導体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
簡便な工程で、Ｚ体の含有率が高い目的するセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を工業的に有利な方法で提供する。下記一般式（１）で表される化合物の水溶液を、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１２００ｍｇ／ｇ以上であり、メチレンブルー吸着性能が２５０ｍｌ／ｇ以上である活性炭と接触させて、下記一般式（２）で表わされるＺ体の含有率が向上した下記一般式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を得る第１工程、次いで、前記第１工程で得られたＺ体の含有率が向上した式（１）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させる第２工程を含むことを特徴とする下記一般式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法。【化１】
Description
本発明は、Ｅ体に比してＺ体の含有率を向上させたセファロスポリン誘導体及びそのアルカリ金属塩の製造方法に関するものである。
下記一般式（７）で表される7-[2-メトキシイミノ-2-(2-アミノチアゾール-4-イル)アセトアミド]-3-[2-(4-メチルチアゾール-5-イル)ビニル]-3-セフェム-4-カルボン酸(シン異性体、シス異性体)はセフジトレン(Cefditoren)と言われる優れたセファロスポリン抗生物質であることが知られている。
従来、このセフジトレンの合成方法は、下記反応スキーム（１）に示すように下記一般式（Ａ）で表される化合物と、下記式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩との反応により製造する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
しかしながら、前記の反応スキーム（１）の方法では、目的とするセファロスポリン抗生物質を得るには式中のＲ１は保護されたアミノ基を用いる必要があり、このためアミノ保護基の除去工程が必然的に必要で、工程が複雑になり工業的に有利でない。
従来、このセフジトレンの合成方法は、下記反応スキーム（１）に示すように下記一般式（Ａ）で表される化合物と、下記式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩との反応により製造する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
しかしながら、前記の反応スキーム（１）の方法では、目的とするセファロスポリン抗生物質を得るには式中のＲ１は保護されたアミノ基を用いる必要があり、このためアミノ保護基の除去工程が必然的に必要で、工程が複雑になり工業的に有利でない。
７−アミノ−３−［２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩（化合物（２））は、セファロスポリン系抗生物質の製造中間体として有用な物質である。この化合物には、３位のアルケニル基の立体構造がＺ配置であるものとＥ配置であるものの２種類の異性体が存在する。これら２種類の異性体のうち、それを原料とするセファロスポリン系抗生物質が医薬抗菌剤として優れた抗菌作用を発現するものは、前述したセフジトレンを含めＺ体であることが知られている。
７−アミノ−３−［２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩からセファロスポリン系抗生物質を合成する場合には、反応系にＺ体のみを存在させ、Ｅ体を極力存在させないことが重要である。
この観点から、特許文献２においては、Ｚ体とＥ体とが混在した７−アミノ−３−［２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマーや活性炭を作用させて、Ｚ体の含有率を高めることが提案されている。この方法で用いられるハイポーラスポリマーとしては、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂が例示されている。一方、活性炭としては、塩化亜鉛炭や水蒸気炭といった一般的な活性炭が用いられている。
前記の特許文献２に記載の方法に従えば、Ｚ体の含有率が高まった７−アミノ−３−［２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩が得られ、また、該化合物を中間原料として用いることにより、Ｚ体含有率が高いセファロスポリン誘導体が得られるが、更に最終目的物のセファロスポリン誘導体において、Ｚ体の含有率が高いものが望まれている。
したがって本発明の目的は、前述した従来技術が有する種々の欠点を解消し得るセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法を提供することにある。
本発明は、下記式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の水溶液を、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１２００ｍｇ／ｇ以上であり、メチレンブルー吸着性能が２５０ｍｌ／ｇ以上である活性炭と接触させて、下記式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を得る第１工程。
次いで、前記第１工程で得られた一般式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させる第２工程を含むことを特徴とする下記一般式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法を提供することにより前記目的を達成したものである。
（式中、Ｒ１は、アルキル基を示す。Ｘは活性エステル基を示す。）
次いで、前記第１工程で得られた一般式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させる第２工程を含むことを特徴とする下記一般式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法を提供することにより前記目的を達成したものである。
（式中、Ｒ１は、アルキル基を示す。Ｘは活性エステル基を示す。）
本発明によれば、７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を用い、簡便な工程で、Ｚ体の含有率が高い目的するセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を工業的に有利な方法で提供することができる。
＜第１工程＞
本発明に係る第１工程では、Ｚ体とＥ体とが含まれる前記の式（１）で表される化合物又はそのアルカリ塩に、特定の活性炭を作用させて、該活性炭にＥ体を選択的に吸着させることで除去し、Ｚ体の含有率を高める点に特徴を有する。ここで言うアルカリ塩とは、薬理学上許容されるアルカリ塩を意味する。なお、以下の説明においては、式（１）で表される化合物と、そのアルカリ金属塩を総称して、「アルケニルセフェム化合物」という。
本発明に係る第１工程では、Ｚ体とＥ体とが含まれる前記の式（１）で表される化合物又はそのアルカリ塩に、特定の活性炭を作用させて、該活性炭にＥ体を選択的に吸着させることで除去し、Ｚ体の含有率を高める点に特徴を有する。ここで言うアルカリ塩とは、薬理学上許容されるアルカリ塩を意味する。なお、以下の説明においては、式（１）で表される化合物と、そのアルカリ金属塩を総称して、「アルケニルセフェム化合物」という。
本発明において使用されるアルケニルセフェム化合物は、Ｚ体とＥ体との混合物からなる。Ｚ体及びＥ体はいずれも公知化合物である。アルケニルセフェム化合物におけるＺ体とＥ体との存在割合に特に制限はなく、この存在割合はアルケニルセフェム化合物の製造条件等に依存する。本発明の目的にかんがみれば、Ｚ体の存在割合がＥ体の存在割合よりも十分に高いことが望ましいが、本発明の方法を用いることで、簡便にかつ高収率でＺ体を得ることが可能である。アルケニルセフェム化合物におけるＥ体の存在割合は、後述の実施例において用いたＥ体含有率の計算式に基づいて算出された含有率で表して活性炭による処理前の状態において一般に０．３〜２０％、特に２〜１２％である。
本発明においては、アルケニルセフェム化合物を、水溶液の状態で活性炭と接触させる。アルケニルセフェム化合物を水溶液とするには、例えばアルケニルセフェム化合物をアルカリで処理し、対応する塩（例えばアルカリ金属塩）の形とすればよい。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩等を用いることができる。これらのアルカリを含む水溶液と、アルケニルセフェム化合物とを混合することで、アルケニルセフェム化合物を水溶液とすることができる。
前記の水溶液のｐＨは、アルケニルセフェム化合物の塩が結晶化して析出しない程度に高ｐＨ領域であればよく、一般的には７．１〜９．０、特に７．５〜８．５の弱アルカリ領域とすることが好ましい。また、前記の水溶液に含まれるアルケニルセフェム化合物の塩の濃度は、本発明において臨界的なものではなく、該塩の結晶が析出しない程度の低濃度であればよい。
アルケニルセフェム化合物を水溶液とするための別法として、該アルケニルセフェム化合物を、鉱酸で処理し、対応する鉱酸塩の形とする方法が挙げられる。鉱酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。これらの鉱酸と、アルケニルセフェム化合物とを混合することで、該化合物が鉱酸塩の状態となった水溶液を得ることができる。
前記の鉱酸塩を含む水溶液のｐＨは、該鉱酸塩が沈殿しない程度に低ｐＨ領域であればよく、一般的には０．５〜１．７、特に０．８〜１．４とすることが好ましい。また、前記の水溶液に含まれる鉱酸塩の濃度は、本発明において臨界的なものではなく、該鉱酸塩の結晶が沈殿しない程度であればよい。
前記のアルカリ金属塩と鉱酸塩とを比較すると、鉱酸塩を用いることが好ましい。この理由は、アルケニルセフェム化合物を合成する際に生じる副生成物であるフェニル酢酸又はその誘導体（これについては後ほど詳述する）の吸着除去を、Ｅ体の吸着除去と同時に行い得る点からである。鉱酸塩のうち、特に塩酸塩を用いると、Ｚ体の純度を一層高めることができるので好ましい。
なお、活性炭処理の際に、系内にフェニル酢酸又はその誘導体が存在すると、活性炭がＥ体よりもフェニル酢酸又はその誘導体を吸着しやすいため、活性炭と接触させる前に予め後述する（Ａ）の処理工程又は／及び（Ｂ）の処理工程を行い、系内のフェニル酢酸又はその誘導体を出来るだけ除去しておくことが、高価な活性炭の使用量を低減することができ、また、Ｚ体の純度を一層高めることができる観点から特に好ましい。
アルケニルセフェム化合物からＥ体を選択的に吸着除去するための活性炭について本発明者らが鋭意検討したところ、大きな細孔径のピークと小さな細孔径のピークを有する活性炭を用いることが有効であることが判明した。更に本発明者らが検討を推し進めたところ、このような細孔径分布を有する活性炭は、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能と、同じくＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたメチレンブルー吸着性能が特定の範囲内にあることが判明した。本発明においては、かかる特定のヨウ素吸着性能及びメチレンブルー吸着性能を有する活性炭を用いることで、アルケニルセフェム化合物からＥ体を選択的に吸着除去することが可能となった。
上述した特定のヨウ素吸着性能については、その値が１２００ｍｇ／ｇ以上であるものを用いる。なお、ヨウ素吸着性能が１７００ｍｇ／ｇ超であり、かつ以下に述べるメチレンブルー吸着性能を兼ね備えた活性炭を工業的に入手することは極めて困難なので、本発明において用いる活性炭のヨウ素吸着性能の上限は１７００ｍｇ／ｇとする。したがって、ヨウ素吸着性能の範囲は好ましくは１２００〜１７００ｍｇ／ｇであり、更に好ましくは１４００〜１７００ｍｇ／ｇである。尤も、ヨウ素吸着性能の値は高ければ高いほど好ましいので、１７００ｍｇ／ｇ超のヨウ素吸着性能を有する活性炭を用いることに何ら差し支えはない。
メチレンブルー吸着性能については、その値が２５０ｍｌ／ｇ以上であるものを用いる。なお、メチレンブルー吸着性能が５００ｍｌ／ｇ超であり、かつ上述したヨウ素吸着性能を兼ね備えた活性炭を工業的に入手することは極めて困難なので、本発明において用いる活性炭のメチレンブルー吸着性能の上限は５００ｍｌ／ｇとする。したがって、メチレンブルー吸着性能の範囲は好ましくは２５０〜５００ｍｌ／ｇであり、更に好ましくは２６０〜５００ｍｌ／ｇである。尤も、メチレンブルー吸着性能の値は高ければ高いほど好ましいので、５００ｍｌ／ｇ超のメチレンブルー吸着性能を有する活性炭を用いることに何ら差し支えはない。
通常、水処理等で用いられる活性炭の諸物性は、ヨウ素吸着性能が１２００ｍｇ／ｇ以下であり、メチレンブルー吸着性能が２００ｍｌ／ｇ以下である（「活性炭の応用技術」、監修 立本英樹、安部邦夫、発行所 株式会社テクノシステム、発行日 ２０００年７月２５日、第４０９頁、第５５５頁参照）ことから、本発明で使用する活性炭のこれらの物性値は、通常の活性炭の値よりも極めて高いものである。このことは、大きな細孔と小さな細孔とが分布していることに起因している。一般に、ヨウ素吸着性能は小さな細孔の分布の指標（つまり、分子量の小さい化合物の吸着性の指標）であり、メチレンブルー吸着性能は大きな細孔の分布の指標（つまり、分子量の大きな化合物の吸着性の指標）である。
上述のヨウ素吸着性能及びメチレンブルー吸着性能を満足する活性炭としては、例えばヤシ殻、石炭、木質材等を原料にした水蒸気賦活活性炭が挙げられる。この場合、賦活の条件を適切に制御することや、造粒の条件を適切に制御することで、上述の物性値が満たされるようになる。なお、活性炭の形状は、粉末、粒状又は繊維状でもよく、あるいは成形体であってもよい。上述の物性値を満足する活性炭として市販品を用いることも可能である。そのような市販品としては、例えばユニチカ株式会社から入手可能な活性炭であるユニチカ活性炭繊維 アドールＡ−２０（商品名）や味の素ファインテクノから入手可能な活性炭である液相用活性炭ＣＬ−ＫＰ（商品名）、ＣＬ−Ｋ（商品名）等が挙げられる。
上述の活性炭と、アルケニルセフェム化合物とを接触させる方法に特に制限はない。例えばアルケニルセフェム化合物の水溶液中に、上述の活性炭を添加する方法や、逆に上述の活性炭にアルケニルセフェム化合物の水溶液を添加する方法を採用することができる。あるいは、上述の活性炭をカラムに充填し、アルケニルセフェム化合物の水溶液をポンプ等でカラム送液し、カラム内を通過させ、更にカラム内を複数回循環させる方法や、フィルター等の成形体に活性炭を含有させたものに、アルケニルセフェム化合物の水溶液を接触させる方法を採用することもできる。活性炭の量とアルケニルセフェム化合物の量との比率に特に制限はないが、例えば、水溶液中に含まれるアルケニルセフェム化合物１００重量部に対して、活性炭を１０〜３００重量部、特に１０〜２００重量部接触させることが、Ｚ体のロス率を少なくでき、かつＥ体とフェニル酢酸を効率良く除去できる点から好ましい。
上述の活性炭と、アルケニルセフェム化合物とを接触させる条件にも特に制限はない。例えば接触時の温度は、０〜２０℃とすることができる。接触時の温度をこの範囲内にすることで、Ｚ体のロス率を少なくでき、かつＥ体とフェニル酢酸を効率よく除去できるので好ましい。接触時間は、接触時の温度が上述の範囲であることを条件として、０．５〜３時間、特に１〜２時間であることが好ましい。両者を接触させている間、反応系を攪拌状態にしておいてもよく、あるいは静置状態にしておいてもよい。
以上の方法は、１回のみ行ってよく、あるいはＺ体の純度を高める目的で２回以上の複数回繰り返して行ってもよい。
以上の操作によって、Ｚ体及びＥ体を含むアルケニルセフェム化合物から、Ｅ体が選択的に活性炭に吸着除去され、Ｚ体の含有率が高まる。その後は活性炭と処理液とを分離し、処理液に塩酸、硝酸、硫酸等の酸（アルカリで水溶性にした場合）、又は水酸化ナトリウム等のアルカリ（鉱酸で水溶性にした場合）を加えて液のｐＨを３．８〜４．８の弱酸性領域に調整して、式（２）で表される化合物の結晶を沈殿させる。得られた結晶を、濾別や遠心分離によって分離し、水及びメタノール等の有機溶媒によって洗浄する。処理液のｐＨを上述の範囲に調整し、その範囲のｐＨにおいて式（２）で表される化合物を析出させることによって、高純度でかつ高収率で目的物としてＺ体の含有率が向上した式（１）で表わされる化合物として回収することができる。
本発明において、出発物質として用いられるアルケニルセフェム化合物は、例えば下記式（６）で表される７−置換アシルアミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸の塩を酵素反応に付して７位アミド結合の脱保護反応を行うことで得られる。この塩は水溶性であればその種類に特に制限はない。水溶性の塩としては例えばアルカリ金属塩やアンモニウム塩が挙げられる。
（式中、Ｒ３はベンジル基、フェノキシメチル基を示す。Ｍは一価のカチオンを示す。）
前記の酵素反応の溶媒としては、酵素活性を最大限に引き出す観点から水を用いることが好ましい。酵素反応のｐＨは、酵素の活性に影響を及ぼす要因となる。酵素の種類にもよるが、この観点からｐＨを７．５〜８．５に維持することが好ましい。ｐＨの維持には各種のアルカリ水溶液、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウムや炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等の水溶液を用いることができる。酵素反応の温度も、酵素の活性に影響を及ぼす要因となる。酵素の種類にもよるが、この観点から反応系の温度を２５〜３５℃に維持することが好ましい。反応時間は本発明において臨界的でない。一般に式（６）で表される化合物が反応系から消失するまで反応を行えばよい。前記のｐＨ及び温度の範囲であることを条件として、反応時間は一般に１〜３時間とすることができる。
使用する酵素としては従来公知のペニシリンＧアシラーゼを特に制限なく用いることができる。例えばベーリンガーマンハイム社製のペニシリンＧアミダーゼＰＧＡ−１５０、ＰＧＡ−３００、ＰＧＡ−４５０；ダラス・バイオテック・リミテッド社製のペニシリンＧアシラーゼ；ロシュ・モレキュラー・バイオケミカルズ社製のペニシリンＧアミダーゼ；湖南福来格生物技術有限公司のＩＰＡ−７５０；アトラス・バイオロジクス社製のＳｙｎｔｈａＣＬＥＣ−ＰＡ等を用いることができる。
酵素の使用量は、その種類にもよるが、式（６）で表される化合物１００重量部に対して３０〜１５０重量部、特に５０〜１００重量部であることが好ましい。
以上の酵素反応によって、アルケニルセフェム化合物の塩が得られる。この酵素反応においては、式（６）で表される化合物における７位のアミド保護基の脱保護によってフェニル酢酸又はその誘導体（以下、これらを総称して「フェニル酢酸類」という）が副生成物として生成する。このフェニル酢酸等は、本製造方法の目的物であるＺ体の含有率が高い７−アミノ−３−［２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸に対する不純物であることから、本発明において、第２工程に付す前にその存在を極力排除する必要がある。
第２工程に付す前にフェニル酢酸を除去する方法としては、アルケニルセフェム化合物と活性炭との接触前或いは接触後に、下記の何れかの工程を行うことにより実施することができる。
（Ａ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の前に、式（１）で表されるアルケニルセファム化合物の水溶液に対し、有機溶媒を用いて、前記フェニル酢酸類の抽出処理を行う工程。
（Ｂ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の前に、式（１）で表されるアルケニルセファム化合物の水溶液から、該アルケニルセフェム化合物を析出させる晶析処理を行う工程。
（Ｃ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の後、上述の析出操作によって式（２）で表される化合物を回収するに先立ち、有機溶媒を用いて、前記フェニル酢酸類の抽出処理を行う工程。
（Ａ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の前に、式（１）で表されるアルケニルセファム化合物の水溶液に対し、有機溶媒を用いて、前記フェニル酢酸類の抽出処理を行う工程。
（Ｂ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の前に、式（１）で表されるアルケニルセファム化合物の水溶液から、該アルケニルセフェム化合物を析出させる晶析処理を行う工程。
（Ｃ）式（１）で表わされるアルケニルセファム化合物と活性炭の接触の後、上述の析出操作によって式（２）で表される化合物を回収するに先立ち、有機溶媒を用いて、前記フェニル酢酸類の抽出処理を行う工程。
以下、前記（Ａ）の処理工程について、説明する。
フェニル酢酸類の抽出除去を確実に行う観点から、抽出処理に先立ち、鉱酸により、前記酵素反応によって得られた式（１）で表される化合物の塩の水溶液のｐＨを酸性域、具体的には２以下、特に１以下に調整して、水溶液中の式（１）で表される化合物の塩を、対応する鉱酸塩の形態とすることが好ましい。該鉱酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等が挙げられる。
フェニル酢酸類の抽出除去を確実に行う観点から、抽出処理に先立ち、鉱酸により、前記酵素反応によって得られた式（１）で表される化合物の塩の水溶液のｐＨを酸性域、具体的には２以下、特に１以下に調整して、水溶液中の式（１）で表される化合物の塩を、対応する鉱酸塩の形態とすることが好ましい。該鉱酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等が挙げられる。
抽出処理に使用する有機溶媒としては、（イ）低級カルボン酸の低級アルキルエステル類、（ロ）ケトン類、（ハ）エーテル類、（ニ）置換又は非置換の芳香族炭化水素類、（ホ）ハロゲン化炭化水素類、（ヘ）脂肪族炭化水素類、（ト）シクロアルカン類がある。これらの有機溶媒は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。（イ）の低級カルボン酸の低級アルキルエステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等が挙げられる。（ロ）のケトン類としては、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン等が挙げられる。（ハ）のエーテル類としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等が挙げられる。（ニ）の置換又は非置換の芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、アニソール等が挙げられる。（ホ）のハロゲン化炭化水素類としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素等が挙げられる。（ヘ）の脂肪族炭化水素類ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等が挙げられる。（ト）のシクロアルカン類としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
これらの有機溶媒の中でも、２０℃での水への溶解度が１重量％以下のもの、具体的には、トルエン、クロロホルム、クロロベンゼン等が好ましく、特にトルエンが好ましい。
極性が高く水への溶解度が高い有機溶媒を用いると、抽出処理するアルケニルセフェム化合物の水溶液中に有機溶媒が溶解してしまう。有機溶媒が溶解したアルケニルセフェム化合物の水溶液を、前述した活性炭による処理に供すると、活性炭が有機溶媒を吸着してしまうため、Ｅ体の吸着除去効率が低下し、Ｚ体の純度を向上させることが困難となる。そのため、水への溶解度が高い有機溶媒を用いた場合は、活性炭による処理を行う前に、抽出処理後の水溶液を濃縮して該水溶液から有機溶媒を除去する濃縮工程が必要となる。水への溶解度が２０℃で１重量％以下という溶解度の低い有機溶媒を用いると、濃縮工程が不要なため工業的に有利である。
これらの有機溶媒は、前記水溶液中のアルケニルセフェム化合物１ｋｇ当たり、好ましくは５〜５０リットル、更に好ましくは１０〜３０リットル使用する。また、抽出処理は０〜２０℃にて行うことが好ましい。この好ましい比率であれば、抽出処理において効率的にフェニル酢酸類の含有率を低減することができる。
本発明の製造方法においては、抽出処理後において、フェニル酢酸類を、後述の実施例において用いたフェニル酢酸含有率の計算式に基づいて算出された含有率で表して、８％以下にまで低減させることが好ましい。抽出処理を複数回繰り返すことで、フェニル酢酸類の含有率が次第に低下するので、１回の抽出処理でフェニル酢酸類の含有率が８％以下とならない場合は、溶媒抽出を複数回行うことが好ましい。
前記（Ａ）の処理工程後、有機溶媒による抽出処理を終えた水溶液を、そのまま活性炭と接触させることができる。
前記（Ａ）の処理工程後、有機溶媒による抽出処理を終えた水溶液を、そのまま活性炭と接触させることができる。
以下、前記（Ｂ）の処理工程について、説明する。
式（１）で表される化合物を析出させて収率よく回収する観点から、鉱酸により、前記酵素反応によって得られた式（１）で表される化合物の塩の水溶液のｐＨを弱酸性域、具体的には３．５〜４．８、特に３．５〜４．５に調整して、水溶液中の式（１）で表される化合物の塩を、フリーの形態として、析出しやすい状態にする。なお、ｐＨ調整は、塩酸、硝酸、硫酸などの鉱酸を該水溶液に添加することにより行うことができる。
次いで、該水溶液を好ましくは２０℃以下、さらに好ましくは１〜１０℃に保持することにより、水溶液中の式（１）で表される化合物を析出させることができる。なお、晶析処理は攪拌下に行っても、静置下に行ってもよい。析出物である式（１）で表される化合物は、常法により固液分離して、フェニル酢酸類を含む処理液より回収する。
式（１）で表される化合物を析出させて収率よく回収する観点から、鉱酸により、前記酵素反応によって得られた式（１）で表される化合物の塩の水溶液のｐＨを弱酸性域、具体的には３．５〜４．８、特に３．５〜４．５に調整して、水溶液中の式（１）で表される化合物の塩を、フリーの形態として、析出しやすい状態にする。なお、ｐＨ調整は、塩酸、硝酸、硫酸などの鉱酸を該水溶液に添加することにより行うことができる。
次いで、該水溶液を好ましくは２０℃以下、さらに好ましくは１〜１０℃に保持することにより、水溶液中の式（１）で表される化合物を析出させることができる。なお、晶析処理は攪拌下に行っても、静置下に行ってもよい。析出物である式（１）で表される化合物は、常法により固液分離して、フェニル酢酸類を含む処理液より回収する。
本発明の製造方法においては、晶析処理後において、フェニル酢酸類を、後述の実施例において用いたフェニル酢酸含有率の計算式に基づいて算出された含有率で表して、８％以下にまで低減させることが好ましい。晶析処理は、前記（Ａ）の抽出処理に比べて、フェニル酢酸類の分離除去効率が高いため、前述のｐＨ４．８以下で２０℃以下の条件であれば、１回の晶析処理でフェニル酢酸類の含有率を２％以下にまで低減させることが可能である。なお、１回の晶析処理でフェニル酢酸類の含有率が８％以下、好ましくは２％以下とならない場合は、晶析処理を複数回行うことが好ましい。
前記（Ｂ）の処理工程後は、該処理工程により得られた析出物（式（１）で表される化合物）を水に溶解して水溶液とし、該水溶液を活性炭と接触させる。
前記（Ｂ）の処理工程後は、該処理工程により得られた析出物（式（１）で表される化合物）を水に溶解して水溶液とし、該水溶液を活性炭と接触させる。
以下、前記（Ｃ）の処理工程について、説明する。
上述の活性炭処理後の析出操作によって式（２）で表される化合物を析出させＺ体の含有率が向上した式（１）の化合物として回収するに先立ち、活性炭で処理された処理液中に含まれているフェニル酢酸類を有機溶媒により抽出する。具体的には、活性炭と処理液とを分離し、処理液に酸（アルカリで水溶性にした場合）又はアルカリ（鉱酸で水溶性にした場合）を加えて液のｐＨを好ましくは２以下、更に好ましくは１以下にし、有機溶媒を用いてこの水溶液からフェニル酢酸類を溶媒抽出する。溶媒抽出を複数回繰り返すことで、処理液中のフェニル酢酸類の濃度が次第に低下する。
上述の活性炭処理後の析出操作によって式（２）で表される化合物を析出させＺ体の含有率が向上した式（１）の化合物として回収するに先立ち、活性炭で処理された処理液中に含まれているフェニル酢酸類を有機溶媒により抽出する。具体的には、活性炭と処理液とを分離し、処理液に酸（アルカリで水溶性にした場合）又はアルカリ（鉱酸で水溶性にした場合）を加えて液のｐＨを好ましくは２以下、更に好ましくは１以下にし、有機溶媒を用いてこの水溶液からフェニル酢酸類を溶媒抽出する。溶媒抽出を複数回繰り返すことで、処理液中のフェニル酢酸類の濃度が次第に低下する。
溶媒抽出に用いられる有機溶媒としては、前記（Ａ）工程と同じ溶媒を用いることができる。具体的には（イ）低級カルボン酸の低級アルキルエステル類、（ロ）ケトン類、（ハ）エーテル類、（ニ）置換又は非置換の芳香族炭化水素類、（ホ）ハロゲン化炭化水素類、（ヘ）脂肪族炭化水素類、（ト）シクロアルカン類がある。これらの有機溶媒は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。（イ）の低級カルボン酸の低級アルキルエステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等が挙げられる。（ロ）のケトン類としては、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン等が挙げられる。（ハ）のエーテル類としては、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等が挙げられる。（ニ）の置換又は非置換の芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、アニソール等が挙げられる。（ホ）のハロゲン化炭化水素類としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素等が挙げられる。（ヘ）の脂肪族炭化水素類ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等が挙げられる。（ト）のシクロアルカン類としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
以上の溶媒抽出を複数回行うことで、フェニル酢酸類の濃度を、後述の実施例において用いたフェニル酢酸含有率の計算式に基づいて算出された含有率で表して好適には８％以下にまで低減させることが可能となる。溶媒抽出の後は、処理液に炭酸水素ナトリウム等のアルカリを加えて等電点沈殿を行い、結晶を析出させ、これを回収する。
前記（Ａ）の処理工程、（Ｂ）の処理工程及び（Ｃ）の処理工程は適宜組み合わせて行うことができる。また、（Ａ）の処理工程と（Ｂ）の処理工程を組み合わせて行う場合は、いずれの処理工程を先に行うかは特に制限されない。
また、上述の活性炭を、強酸性領域においてアルケニルセフェム化合物と接触させることで、該活性炭によってＥ体が吸着除去されるのと同時に、フェニル酢酸類も吸着されることから、活性炭処理に先だって、前記（Ａ）工程及び／前記（Ｂ）工程を行うことにより、使用する活性炭の使用量を低減することができるという利点を有する。この場合、活性炭の使用量は、例えば、水溶液中に含まれるアルケニルセフェム化合物１００重量部に対して、活性炭を１０〜２００重量部、特に２０〜１００重量部とすることが望ましい。
また、上述の活性炭を、強酸性領域においてアルケニルセフェム化合物と接触させることで、該活性炭によってＥ体が吸着除去されるのと同時に、フェニル酢酸類も吸着されることから、活性炭処理に先だって、前記（Ａ）工程及び／前記（Ｂ）工程を行うことにより、使用する活性炭の使用量を低減することができるという利点を有する。この場合、活性炭の使用量は、例えば、水溶液中に含まれるアルケニルセフェム化合物１００重量部に対して、活性炭を１０〜２００重量部、特に２０〜１００重量部とすることが望ましい。
また、従来の方法で得られるＺ体の含有率が向上した式（１）で表される化合物は着色を呈するが、活性炭処理に先だって前記（Ａ）の処理工程及び（Ｂ）の処理工程を行うことにより、着色成分も除去されるため、Ｚ体の含有率が向上した式（１）で表わされる化合物は着色を少なくすることができ、その結果、最終目的物の式（４ａ）又は（４ｂ）で表わされるセファロスポリン誘導体の着色も少ないという利点も有する。
このように、本発明においては、式（６）で表される化合物の塩を酵素反応に付して７位アミド結合の脱保護反応を行うことで生成した、該脱保護反応の副生成物であるフェニル酢酸又はその誘導体を含んだアルケニルセフェム化合物を原料として用いることが好適である。
式（６）で表される化合物は、公知の方法で合成することができる。例えば、下記式（８）で表される７−置換アシルアミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸化合物に、４位カルボン酸保護基の脱保護反応を行うことで、式（６）で表される化合物を得ることができる。脱保護反応としては、β−ラクタム化合物におけるカルボン酸保護基の脱保護反応として公知である種々の方法を採用することができる。例えば、特開平６１−２６３９８４号公報に記載されている、フェノール類中での脱保護反応を採用することができる。
（式中、Ｒ３は前記と同義。Ｒ４はカルボン酸保護基を示す。）
式（８）中、Ｒ４で表されるカルボン酸保護基としては、例えば電子供与性基で置換されていてもよいベンジル基や、電子供与性基で置換されていてもよいジフェニルメチル基等が挙げられる。電子供与性基としては、例えば炭素数１〜６のアルキル基；ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基等が挙げられる。
＜第２工程＞
第１工程終了後、前記第１工程で得られたＺ体の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩と、前記一般式（３）で表される化合物とを反応させ、目的とする（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を得る。以下、Ｚ体の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を総称して、「精製アルケニルセファム化合物」という。
第１工程終了後、前記第１工程で得られたＺ体の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩と、前記一般式（３）で表される化合物とを反応させ、目的とする（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を得る。以下、Ｚ体の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を総称して、「精製アルケニルセファム化合物」という。
第２工程に係る式（３）で表わされる化合物の式中、Ｒ１は、アルキル基を示す。前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６の低級アルキル基が挙げられる。
この中、式中のＲ１はメチル基がそのままセフジトレンに誘導できることから特に好ましい。
この中、式中のＲ１はメチル基がそのままセフジトレンに誘導できることから特に好ましい。
式（３）で表わされる化合物の式中、Ｘは活性エステル基を示す。該式中のＸに相当する活性エステル基は、例えば、下記一般式（９）で表わされる化合物と、式（９）の化合物に活性エステル基を導入する化合物との反応により生成する活性エステル基を導入する化合物の反応残基が挙げられる。
（式中のＲ１は前記と同義。）
前記式（９）の化合物に活性エステル基を導入する化合物としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス−〔ベンゾチアゾリル−（２）〕ジスルフィド、２−ヒドロキシ−ベンジチアゾール、２−ハロ−Ｎ−メチルピリジニウム塩、又はチオリン酸（例えば、ジエチルチオリン酸）等が挙げられ、特に好ましくは、式中のＸはビス−〔ベンゾチアゾリル−（２）〕ジスルフィドの反応残基である下記式（５）で表わされるベンゾチアゾリル−２−チオール基が、精製アルケニルセファム化合物との反応性に優れ、また、目的物が高収率で得られる観点から特に好ましい。
なお、前記一般式（９）で表わされる化合物と、式（９）の化合物に活性エステル基を導入する化合物との反応は、公知の反応である（例えば、特開昭５８−１５２４８８号公報及び特表２００６−５０７２９０号公報参照。）。
（式中のＲ１は前記と同義。）
前記式（９）の化合物に活性エステル基を導入する化合物としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス−〔ベンゾチアゾリル−（２）〕ジスルフィド、２−ヒドロキシ−ベンジチアゾール、２−ハロ−Ｎ−メチルピリジニウム塩、又はチオリン酸（例えば、ジエチルチオリン酸）等が挙げられ、特に好ましくは、式中のＸはビス−〔ベンゾチアゾリル−（２）〕ジスルフィドの反応残基である下記式（５）で表わされるベンゾチアゾリル−２−チオール基が、精製アルケニルセファム化合物との反応性に優れ、また、目的物が高収率で得られる観点から特に好ましい。
なお、前記一般式（９）で表わされる化合物と、式（９）の化合物に活性エステル基を導入する化合物との反応は、公知の反応である（例えば、特開昭５８−１５２４８８号公報及び特表２００６−５０７２９０号公報参照。）。
本発明において、式（３）で表わされる化合物は、特に式中のＲ１がメチル基であり、Ｘが式（５）で表わされるベンゾチアゾリル−２−チオール基である化合物が、目的物を高収率で得ることができ、また、該化合物自体も工業的に入手可能であることから特に好ましい。
式（３）で表わされる化合物の反応系への添加量は、精製アルケニルセファム化合物に対するモル比で１．０〜１．５、好ましくは１．１〜１．３で行うことが、目的物を高純度で、且つ高収率で得ることができる観点から好ましい。
第２工程に係る反応は、溶媒中で塩基の存在下に行われる。
使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、２,３−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルピロリドン等の有機塩基が好ましく用いられる。
塩基の添加量は、精製アルケニルセファム化合物に対するモル比で０．９〜１．５、好ましくは１．０〜１．２で行うことが、目的物を高純度で、且つ高収率で得ることができる観点から好ましい。
使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、２,３−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルピロリドン等の有機塩基が好ましく用いられる。
塩基の添加量は、精製アルケニルセファム化合物に対するモル比で０．９〜１．５、好ましくは１．０〜１．２で行うことが、目的物を高純度で、且つ高収率で得ることができる観点から好ましい。
使用できる溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール、水、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル等の溶媒が好ましく、また、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として用いられる。
反応温度は−１０〜４０℃、好ましくは０〜２０℃で、反応時間は２時間以上、好ましくは４〜１０時間である。
反応終了後、必要によりジクロロメタンやクロロホルム等の水と混合しない有機溶媒で洗浄後、鉱酸を用いて弱酸性側にｐＨ調整し、溶媒を更に減圧下に除去することで目的とする式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を得ることができる。なお、ここで式（４ａ）のアルカリ金属塩とは、薬理学上許容されるアルカリ塩を意味する。
＜第３工程＞
また、本発明で得られる式（４ａ）で表わされるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩は、ヨウ化ソーダの存在下にビバリン酸クロロメチルと反応させる第３工程を設けることにより、Ｚ体の含有率の高い下記一般式（４ｂ）
（式中、Ｒ１はアルキル基を示す。）で表されるセファロスポリン誘導体を製造することができ、特に式中のＲ１がメチル基である7-[2-メトキシイミノ-2-(2-アミノチアゾール-4-イル)アセトアミド]-3-[2-(4-メチルチアゾール-5-イル)ビニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（セフジトレンピボキシル）はセファロスポリン抗生物質として有用な物質であることが知られている。
また、本発明で得られる式（４ａ）で表わされるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩は、ヨウ化ソーダの存在下にビバリン酸クロロメチルと反応させる第３工程を設けることにより、Ｚ体の含有率の高い下記一般式（４ｂ）
（式中、Ｒ１はアルキル基を示す。）で表されるセファロスポリン誘導体を製造することができ、特に式中のＲ１がメチル基である7-[2-メトキシイミノ-2-(2-アミノチアゾール-4-イル)アセトアミド]-3-[2-(4-メチルチアゾール-5-イル)ビニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（セフジトレンピボキシル）はセファロスポリン抗生物質として有用な物質であることが知られている。
以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は前記実施形態に制限されず、当業者の通常の創作能力の範囲内での適宜の改変は、本発明の範囲に属するものである。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。
実施例及び比較例を説明するに先立ち、使用した分析方法について説明する。アルケニルセフェム化合物及び精製アルケニルセフェム化合物の分析には高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）を用いた。その詳細は以下のとおりである。
・カラム：Ｕｎｉｓｏｎ ＵＫ−Ｃ１８、３μｍ、２５０ｍｍ×４．６ｍｍ
・カラム温度：３０℃
・移動相（体積比）：アセトニトリル１３％、１０ｍＭへプタンスルホン酸ナトリウム水溶液８７％
・流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
・検出波長：２５４ｎｍ
・注入量：１０μｌ
・Ｚ体保持時間：２９．０〜３０．０分
・Ｅ体保持時間：３１．０〜３２．０分
・Ｅ体含有率（計算式）：〔Ｅ体面積値／（Ｚ体面積値＋Ｅ体面積値）〕×１００（％）
・カラム：Ｕｎｉｓｏｎ ＵＫ−Ｃ１８、３μｍ、２５０ｍｍ×４．６ｍｍ
・カラム温度：３０℃
・移動相（体積比）：アセトニトリル１３％、１０ｍＭへプタンスルホン酸ナトリウム水溶液８７％
・流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
・検出波長：２５４ｎｍ
・注入量：１０μｌ
・Ｚ体保持時間：２９．０〜３０．０分
・Ｅ体保持時間：３１．０〜３２．０分
・Ｅ体含有率（計算式）：〔Ｅ体面積値／（Ｚ体面積値＋Ｅ体面積値）〕×１００（％）
フェニル酢酸の含有率の分析方法は以下のとおりである。
・カラム：ＳＵＰＥＬＣＯ ＯＤＳ ＨＹＰＥＲＳＩＬ ５μｍ ２５０×４．６ｍｍ
・カラム温度：２５℃
・移動相（体積比）：アセトニトリル２０％、５０ｍＭリン酸二水素カリウム水溶液８０％
・流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・検出波長：２２５ｎｍ
・注入量：１０μｌ
・Ｚ体＋Ｅ体保持時間：２．５〜３．５分
・フェニル酢酸保持時間：８．５〜９．５分
・フェニル酢酸含有率（計算式）：
〔フェニル酢酸面積値／（(Z+E)体面積値＋フェニル酢酸面積値）〕×100(%)
・カラム：ＳＵＰＥＬＣＯ ＯＤＳ ＨＹＰＥＲＳＩＬ ５μｍ ２５０×４．６ｍｍ
・カラム温度：２５℃
・移動相（体積比）：アセトニトリル２０％、５０ｍＭリン酸二水素カリウム水溶液８０％
・流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・検出波長：２２５ｎｍ
・注入量：１０μｌ
・Ｚ体＋Ｅ体保持時間：２．５〜３．５分
・フェニル酢酸保持時間：８．５〜９．５分
・フェニル酢酸含有率（計算式）：
〔フェニル酢酸面積値／（(Z+E)体面積値＋フェニル酢酸面積値）〕×100(%)
〔実施例１〕
（１）７位アミド結合の脱保護反応工程
下記式（１０）で表される化合物（Ｅ体の含有率３．５％）を１０．０ｇ四口フラスコにはかり取り、６重量％炭酸水素ナトリウム水溶液２４０ｇを加えてナトリウム塩の水溶液となした。この水溶液に、ペニシリン−Ｇアシラーゼ酵素（ＰＧＡ−４５０、Ｄａｌａｓ Ｂｉｏｔｅｃｈ Ｌｉｍｉｔｅｄ製）を７．０ｇ添加した。液温２５〜３５℃、５重量％炭酸ナトリウム水溶液を添加して、ｐＨを７．５〜８．５に制御しながら式（１０）で表される化合物のナトリウム塩の７位脱保護反応を２時間行った。反応終了後、水溶液中には、Ｅ体をＥ体含有率で３．５％含有する下記式（１１）で表される化合物のナトリウム塩が７．０ｇ含まれていた。また、フェニル酢酸がフェニル酢酸含有率で１６．６％含まれていた。
（１）７位アミド結合の脱保護反応工程
下記式（１０）で表される化合物（Ｅ体の含有率３．５％）を１０．０ｇ四口フラスコにはかり取り、６重量％炭酸水素ナトリウム水溶液２４０ｇを加えてナトリウム塩の水溶液となした。この水溶液に、ペニシリン−Ｇアシラーゼ酵素（ＰＧＡ−４５０、Ｄａｌａｓ Ｂｉｏｔｅｃｈ Ｌｉｍｉｔｅｄ製）を７．０ｇ添加した。液温２５〜３５℃、５重量％炭酸ナトリウム水溶液を添加して、ｐＨを７．５〜８．５に制御しながら式（１０）で表される化合物のナトリウム塩の７位脱保護反応を２時間行った。反応終了後、水溶液中には、Ｅ体をＥ体含有率で３．５％含有する下記式（１１）で表される化合物のナトリウム塩が７．０ｇ含まれていた。また、フェニル酢酸がフェニル酢酸含有率で１６．６％含まれていた。
（２）フェニル酢酸類除去工程（Ａ工程）
第１工程で得られた水溶液から酵素（ＰＧＡ−４５０）を濾別し、液温を０〜１０℃に保ちながら濃塩酸を添加して、水溶液のｐＨを０．９に調整し、水溶液に含まれていた式（１１）で表される化合物のナトリウム塩を、式（１１）で表される化合物の塩酸塩とした。ｐＨ調整が終了した水溶液を分液ロートに移し替え、液温を２０℃に保ちながら、ここに１５０ｍｌのトルエンを加えて副生成物及び不純物を抽出除去した。抽出処理後のフェニル酢酸含有率は６．１％であった。尚、抽出処理後の水溶液中のアルケニルセフェム化合物の濃度は２．２重量％であった。
第１工程で得られた水溶液から酵素（ＰＧＡ−４５０）を濾別し、液温を０〜１０℃に保ちながら濃塩酸を添加して、水溶液のｐＨを０．９に調整し、水溶液に含まれていた式（１１）で表される化合物のナトリウム塩を、式（１１）で表される化合物の塩酸塩とした。ｐＨ調整が終了した水溶液を分液ロートに移し替え、液温を２０℃に保ちながら、ここに１５０ｍｌのトルエンを加えて副生成物及び不純物を抽出除去した。抽出処理後のフェニル酢酸含有率は６．１％であった。尚、抽出処理後の水溶液中のアルケニルセフェム化合物の濃度は２．２重量％であった。
（３）第１工程
溶媒抽出後の水溶液に活性炭（味の素ファインテクノ社製、商品名ＣＬ−Ｋ）３．２ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した。この活性炭は、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１５５０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能が３１０ｍｌ／ｇであった。その後、活性炭を濾別し、水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．３に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（２）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。得られた結晶の分析結果は以下のとおりであった。尚、下記分析結果中のＺ体収率は、以下の計算式により算出した値である。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示す。
Ｚ体収率（％）＝Ａ×Ｂ／Ｃ
Ａ；第１工程後に得られた結晶の粗収率（％）
Ｂ；式（２）で表される化合物のＺ体としての純度（％）
Ｃ；フェニル酢酸類除去工程の式（１１）で表される化合物の鉱酸塩を基準にした式（１）で表される化合物のＺ体の理論収率（％）
（分析結果）
・Ｚ体収率：９２．０％
・Ｅ体含有率：０．２９％
・フェニル酢酸含有率：０．１％
・色調（目視）：白色
・1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ／ＤＣｌ） ｐｐｍ
２．５２(s、3H)、３．５６〜３．６０(d、1H、18.3Hz)、３．７５〜３．７８(d、1H、18.6Hz)、５．２５〜５．２６(d、1H、5.2Hz)、５．４４〜５．４５(d、1H、5.2Hz)、６．７８(s、2H)、９．７８(s、1H)
溶媒抽出後の水溶液に活性炭（味の素ファインテクノ社製、商品名ＣＬ−Ｋ）３．２ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した。この活性炭は、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１５５０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能が３１０ｍｌ／ｇであった。その後、活性炭を濾別し、水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．３に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（２）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。得られた結晶の分析結果は以下のとおりであった。尚、下記分析結果中のＺ体収率は、以下の計算式により算出した値である。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示す。
Ｚ体収率（％）＝Ａ×Ｂ／Ｃ
Ａ；第１工程後に得られた結晶の粗収率（％）
Ｂ；式（２）で表される化合物のＺ体としての純度（％）
Ｃ；フェニル酢酸類除去工程の式（１１）で表される化合物の鉱酸塩を基準にした式（１）で表される化合物のＺ体の理論収率（％）
（分析結果）
・Ｚ体収率：９２．０％
・Ｅ体含有率：０．２９％
・フェニル酢酸含有率：０．１％
・色調（目視）：白色
・1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ／ＤＣｌ） ｐｐｍ
２．５２(s、3H)、３．５６〜３．６０(d、1H、18.3Hz)、３．７５〜３．７８(d、1H、18.6Hz)、５．２５〜５．２６(d、1H、5.2Hz)、５．４４〜５．４５(d、1H、5.2Hz)、６．７８(s、2H)、９．７８(s、1H)
（４）第２工程
四口フラスコに上記第１工程で得られた式（１１）で表される化合物４．０ｇ、式（３）においてＸが式（５）及びＲ１がＣＨ３基である化合物（３ａ）５．３ｇ、水２５ｇ、テトラヒドロフラン２５ｇ、トリエチルアミン１．４ｇを加え、５〜１０℃で５時間撹拌した。その後、反応液に２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｇを添加してジクロロメタン８０ｇで２回洗浄した。さらに水層に１Ｎ塩酸を加えてｐＨ２．０に調整し、３０分熟成した。この熟成によって式（７）で表される化合物が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。得られた結晶の分析結果は以下のとおりであった。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示す。
・Ｚ体収率：７４．０％
・Ｅ体含有率：０．２３％
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ） ｐｐｍ
２．２７(s、3H)、３．２３〜３．２６(d、1H、18.3Hz)、３．４９〜３．５３(d、1H、18.3Hz)、３．８８(s、3H)、５．２６〜５．２７(d、1H、4.6Hz)、 ５．７３〜５．７４(d、1H、4.6Hz)、６．１９〜６．２１(d、1H、11.9Hz)、 ６．５５〜６．５７(d、1H、11.5Hz)、６．９２(s、1H)、８．６７(s、1H)
四口フラスコに上記第１工程で得られた式（１１）で表される化合物４．０ｇ、式（３）においてＸが式（５）及びＲ１がＣＨ３基である化合物（３ａ）５．３ｇ、水２５ｇ、テトラヒドロフラン２５ｇ、トリエチルアミン１．４ｇを加え、５〜１０℃で５時間撹拌した。その後、反応液に２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｇを添加してジクロロメタン８０ｇで２回洗浄した。さらに水層に１Ｎ塩酸を加えてｐＨ２．０に調整し、３０分熟成した。この熟成によって式（７）で表される化合物が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。得られた結晶の分析結果は以下のとおりであった。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示す。
・Ｚ体収率：７４．０％
・Ｅ体含有率：０．２３％
1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2Ｏ） ｐｐｍ
２．２７(s、3H)、３．２３〜３．２６(d、1H、18.3Hz)、３．４９〜３．５３(d、1H、18.3Hz)、３．８８(s、3H)、５．２６〜５．２７(d、1H、4.6Hz)、 ５．７３〜５．７４(d、1H、4.6Hz)、６．１９〜６．２１(d、1H、11.9Hz)、 ６．５５〜６．５７(d、1H、11.5Hz)、６．９２(s、1H)、８．６７(s、1H)
〔実施例２〕
実施例１の第１工程において、活性炭として、味の素ファインテクノ製のＣＬ−ＫＰ（商品名）２．８ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、式（１１）で表される化合物の結晶を得た。この活性炭のヨウ素吸着性能は１６２０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能は２８０ｍｌ／ｇであった。
次いで、実施例１の第２工程と同様に反応後、２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｇを添加してジクロロメタン８０ｇで２回洗浄し、水層を濃縮した。濃縮により式（７）で表される化合物のナトリウム塩が析出した。さらにアセトン５０ｇを加えて０〜５℃で３０分熟成し、析出した結晶を濾集、水及びアセトンで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
・Ｚ体収率：６７．０％
・Ｅ体含有率：０．１０％
実施例１の第１工程において、活性炭として、味の素ファインテクノ製のＣＬ−ＫＰ（商品名）２．８ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして、式（１１）で表される化合物の結晶を得た。この活性炭のヨウ素吸着性能は１６２０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能は２８０ｍｌ／ｇであった。
次いで、実施例１の第２工程と同様に反応後、２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｇを添加してジクロロメタン８０ｇで２回洗浄し、水層を濃縮した。濃縮により式（７）で表される化合物のナトリウム塩が析出した。さらにアセトン５０ｇを加えて０〜５℃で３０分熟成し、析出した結晶を濾集、水及びアセトンで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
・Ｚ体収率：６７．０％
・Ｅ体含有率：０．１０％
〔実施例３〕
（１）７位アミド結合の脱保護反応工程
実施例１と同様の操作及び条件で酵素反応を行った。反応終了後、水溶液中には、Ｅ体をＥ体含有率で３．５％含有する式（１１）で表される化合物のナトリウム塩が７．０ｇ含まれていた。また、フェニル酢酸がフェニル酢酸含有率で１６．６％含まれていた。
（２）フェニル酢酸除去工程（Ｂ工程）
第１工程で得られた水溶液から酵素（ＰＧＡ−４５０）を濾別し、液温を１０℃に保ちながら濃塩酸でｐＨ４．２に調整し、そのまま１時間熟成した。この熟成により式（１）で表される化合物が析出し、次いで濾過して、析出物を回収した。なお、得られた析出物のフェニル酢酸含有率は０．５％であった。
（３）第１工程
３４０ｇの水に第２工程で得られた析出物７．０ｇ（Ｚ体６．５ｇ含有）を分散させ、２０℃に保ちながら濃硫酸でｐＨ１．０に調整し、該析出物を溶解した。この水溶液に、活性炭として味の素ファインテクノ製のＣＬ−ＫＰ（商品名、ヨウ素吸着性能１６２０ｍｇ／ｇ、メチレンブルー吸着性能２８０ｍｌ／ｇ）１．５ｇを一括で添加し、３℃で１時間撹拌した。その後、活性炭を濾別し、水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．２に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（１１）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示した。
（４）第２工程
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
（１）７位アミド結合の脱保護反応工程
実施例１と同様の操作及び条件で酵素反応を行った。反応終了後、水溶液中には、Ｅ体をＥ体含有率で３．５％含有する式（１１）で表される化合物のナトリウム塩が７．０ｇ含まれていた。また、フェニル酢酸がフェニル酢酸含有率で１６．６％含まれていた。
（２）フェニル酢酸除去工程（Ｂ工程）
第１工程で得られた水溶液から酵素（ＰＧＡ−４５０）を濾別し、液温を１０℃に保ちながら濃塩酸でｐＨ４．２に調整し、そのまま１時間熟成した。この熟成により式（１）で表される化合物が析出し、次いで濾過して、析出物を回収した。なお、得られた析出物のフェニル酢酸含有率は０．５％であった。
（３）第１工程
３４０ｇの水に第２工程で得られた析出物７．０ｇ（Ｚ体６．５ｇ含有）を分散させ、２０℃に保ちながら濃硫酸でｐＨ１．０に調整し、該析出物を溶解した。この水溶液に、活性炭として味の素ファインテクノ製のＣＬ−ＫＰ（商品名、ヨウ素吸着性能１６２０ｍｇ／ｇ、メチレンブルー吸着性能２８０ｍｌ／ｇ）１．５ｇを一括で添加し、３℃で１時間撹拌した。その後、活性炭を濾別し、水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．２に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（１１）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示した。
（４）第２工程
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
〔比較例１〕
実施例１の７位アミド結合の脱保護反応工程と同様にして酵素反応を行い、得られた式（１１）で表される化合物のナトリウム塩を含有する水溶液から酵素を濾別した。濾液の全量を、液温２０℃に保ちながら濃塩酸でｐＨ０．９に調整した。これによって式（１１）で表される化合物の塩酸塩の水溶液を得た。次いで、この水溶液に実施例１の第１工程で用いた活性炭に代えてＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１０８０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能が１８０ｍｌ／ｇである活性炭（味の素ファインテクノ社製、商品名ＳＤ−２）５．６ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した。活性炭処理後のフェニル酢酸含有率は１．１％であった。その後、活性炭を濾別し、得られた全量の濾液に対し、実施例１の第２工程と同様にして溶媒抽出を行った。溶媒抽出後の水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．３に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（１１）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示した。
（第２工程）
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
実施例１の７位アミド結合の脱保護反応工程と同様にして酵素反応を行い、得られた式（１１）で表される化合物のナトリウム塩を含有する水溶液から酵素を濾別した。濾液の全量を、液温２０℃に保ちながら濃塩酸でｐＨ０．９に調整した。これによって式（１１）で表される化合物の塩酸塩の水溶液を得た。次いで、この水溶液に実施例１の第１工程で用いた活性炭に代えてＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１０８０ｍｇ／ｇであり、メチレンブルー吸着性能が１８０ｍｌ／ｇである活性炭（味の素ファインテクノ社製、商品名ＳＤ−２）５．６ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した。活性炭処理後のフェニル酢酸含有率は１．１％であった。その後、活性炭を濾別し、得られた全量の濾液に対し、実施例１の第２工程と同様にして溶媒抽出を行った。溶媒抽出後の水溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ４．３に調整し、１時間熟成した。この熟成によって式（１１）で表される化合物の結晶が析出した。析出した結晶を濾集し、水及びメタノールで結晶を洗浄、乾燥した。また、第１工程終了後に得られた式（１１）の化合物の諸物性を表１に示した。
（第２工程）
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
〔比較例２〕
比較例１の第１工程で用いたものと同じ活性炭（ＳＤ−２）３．２ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した以外は、（１）７位アミド結合の脱保護反応工程、（２）フェニル酢酸除去工程を実施し、式（１１）で表される化合物の結晶を得た。また、第１工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表１に示した。
（第２工程）
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
比較例１の第１工程で用いたものと同じ活性炭（ＳＤ−２）３．２ｇを一括で添加し、３℃で１時間攪拌した以外は、（１）７位アミド結合の脱保護反応工程、（２）フェニル酢酸除去工程を実施し、式（１１）で表される化合物の結晶を得た。また、第１工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表１に示した。
（第２工程）
実施例２と同様な操作を実施し、式（７）で表される化合物のナトリウム塩を得た。また、第２工程終了後に得られたセファロスポリン誘導体の諸物性を表２に示した。
＊活性炭処理の後で抽出処理；活性炭処理後のフェニル酢酸含有率は１．１％
表２の結果より、本発明の実施例１〜３により得られるセファロスポリン誘導体は比較例１〜２のものに比べ、Ｚ体の含有率が高く、更に着色もないことが分かる。
〔実施例４〕
（１）第３工程
実施例２で得られた式（７）で表される化合物のナトリウム塩４．５ｇをジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２５ｇに溶解し、ピバリン酸クロロメチル（１．３９ｇ）とヨウ化ソーダ（１．３９ｇ）を用いて調製したピバリン酸ヨードメチルのＤＭＦ溶液２５ｍｌを０〜５℃で添加し、その温度で１時間撹拌した。その後、反応液に酢酸エチル２００ｇを加え、１００ｇの水で３回洗浄した。続いて結晶が析出し始めるまで濃縮し、n-ヘキサン１００ｇを加えて０〜５℃で１時間熟成した。熟成終了後、結晶を濾集、n-ヘキサンで洗浄し、乾燥し7-[2-メトキシイミノ-2-(2-アミノチアゾール-4-イル)アセトアミド]-3-[2-(4-メチルチアゾール-5-イル)ビニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（セフジトレンピボキシル）の淡黄白色結晶を得た。
ＨＰＬＣ純度97.8%(分析方法は「第十五改正日本薬局方（第一追補）」、平成１９年９月２８日、厚生労働省 告示３１６号、セフジトレン ピポキシルの項参照。)
（１）第３工程
実施例２で得られた式（７）で表される化合物のナトリウム塩４．５ｇをジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２５ｇに溶解し、ピバリン酸クロロメチル（１．３９ｇ）とヨウ化ソーダ（１．３９ｇ）を用いて調製したピバリン酸ヨードメチルのＤＭＦ溶液２５ｍｌを０〜５℃で添加し、その温度で１時間撹拌した。その後、反応液に酢酸エチル２００ｇを加え、１００ｇの水で３回洗浄した。続いて結晶が析出し始めるまで濃縮し、n-ヘキサン１００ｇを加えて０〜５℃で１時間熟成した。熟成終了後、結晶を濾集、n-ヘキサンで洗浄し、乾燥し7-[2-メトキシイミノ-2-(2-アミノチアゾール-4-イル)アセトアミド]-3-[2-(4-メチルチアゾール-5-イル)ビニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（セフジトレンピボキシル）の淡黄白色結晶を得た。
ＨＰＬＣ純度97.8%(分析方法は「第十五改正日本薬局方（第一追補）」、平成１９年９月２８日、厚生労働省 告示３１６号、セフジトレン ピポキシルの項参照。)
本発明によれば、７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を用い、簡便な工程で、Ｚ体の含有率が高い目的するセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を工業的に有利な方法で提供することができる。
Claims (7)
- 下記式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の水溶液を、ＪＩＳ Ｋ−１４７４に従い測定されたヨウ素吸着性能が１２００ｍｇ／ｇ以上であり、メチレンブルー吸着性能が２５０ｍｌ／ｇ以上である活性炭と接触させて、下記式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩を得る第１工程、
次いで、前記第１工程で得られた一般式（２）で表される７−アミノ−３−［（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させる第２工程を含むことを特徴とする下記一般式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法。
（式中、Ｒ１は、アルキル基を示す。Ｘは活性エステル基を示す。） - 前記活性エステル基が下記一般式（５）で表されるベンゾチアゾリル−２−チオール基である請求項１記載の製造方法。
- 前記式（１）で表される化合物を、鉱酸で処理して鉱酸塩となし、該鉱酸塩を含む低ｐＨ領域の前記水溶液を前記活性炭と接触させる請求項１又は２記載の製造方法。
- 前記鉱酸が塩酸である請求項３記載の製造方法。
- 前記活性炭で処理した後の処理液のｐＨを３．８〜４．８に調整して、式（２）で表される化合物の結晶を沈殿させる請求項１乃至４のいずれかに記載の製造方法。
- 前記式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はそのアルカリ金属塩の水溶液が、下記一般式（６）で表される７−置換アシルアミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸の塩を酵素反応に付して７位アミド結合の脱保護反応を行い、該脱保護反応の副生成物であるフェニル酢酸又はその誘導体を含んだ前記一般式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はその塩の水溶液を得た後、下記（Ａ）又は（Ｂ）の何れかの処理工程を行ったものである請求項１乃至５記載の製造方法。
（Ａ）得られる前記式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はその塩の水溶液に対し、有機溶媒を用いて、前記フェニル酢酸又はその誘導体の抽出処理を行う工程。
（Ｂ）得られる前記式（１）で表される７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はその塩の水溶液から該７−アミノ−３−［（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボン酸又はその塩を析出させる晶析処理を行う工程。
（式中、Ｒ３はベンジル基、フェノキシメチル基を示す。Ｍは一価のカチオンを示す。） - 更に、請求項１乃至６の何れか１項に記載の方法で得られた前記一般式（４ａ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩を、ヨウ化ソーダの存在下にビバリン酸クロロメチルと反応させる第３工程を有することを特徴とする下記一般式（４ｂ）で表されるセファロスポリン誘導体又はそのアルカリ金属塩の製造方法。
（式中、Ｒ１は前記と同義。）
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